TW497119B

TW497119B - A liquid vortex apparatus, a self cleaning chamber mechanism, an effluent abatement system, a reaction chamber cleaning apparatus, and a method for cleaning an effluent gas

Info

Publication number: TW497119B
Application number: TW090100602A
Authority: TW
Inventors: David M Inori
Original assignee: Adbanced Technology Materials
Priority date: 2000-03-14
Filing date: 2001-01-11
Publication date: 2002-08-01
Also published as: WO2001069131A2; US6775876B2; WO2001069131A3; KR20020086483A; EP1268039A2; KR100808740B1; AU2001243650A1; US6544482B1; US20030070247A1; JP2003527749A

Description

497119 五、發明說明（1) 【發明背景】本發明係關於清除反應室之一種裝置盥方法。化學氣相沈積（CVD) t程，諸如有機金屬積（OMCVD或-MOCVD )製程，常庫用在子乳相洗 …塗覆基質。某些化學=尤；。電製造取向附生式半導體裝置有關連的，往往產^ ^广大量氣體排放物，例如二氯化物、三氯化物、磷化’：高的氫與氫氮之衍生物等，均在組建反應裝置内產^。^化芝性的氣體排放物經常包含微粒狀物質的成分例如二^些秦微粒，須於氣體再處理前移除，而在最後排出到^化砂之前應予以稀釋與/或中和。 W墦境含有微粒狀物質的氣體排放物，基本上經由入口清洗反應室。微粒狀物質的特性為黏的，並易於附^弓丨％室的内面。各種反應室清除機構（RCCMs )之裝置旨反應止或至少能減緩微粒狀物質在清洗反應室内面之增I拎目前有效率的清除反應室，普遍地使用喷霧式^ ^。應室底部内喷灑。此喷霧式有雙重用途，即可以抑制^ $ 月豆W動也可執行用水清洗的功能。此清洗器的主要缺= 霧水將造成侵钱與增長。故RCCM需要一種技術，是可提= 有效率的清洗機構，且不必在反應室内依靠喷水來冷卻。此一RCCM應可避免目前現用的清除反應室有關聯之侵蝕與增長的問題。 RCCMs通常使用葉片組合方式，從清除反應室内面擦淨微粒狀物質。目、前現用的RCCMs之RCCM葉片組合經常缺乏

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攸疋切的早内部表件沿才區置上連明亦提固定在央開口，依與因而在，固定中緩衝常與外緩衝板一同心此可往延伸元置。式單元中央開此向下頂板的位置而面形成下面，内面、口成同外殼的成於緩件’及延伸元件沿樞軸在周淨該室運動元圍的位本發括一頂面外殼，與一申體入口外殼，緩衝板伸，其開口通室，被 (VI ) 間。面，其中軸連到一到葉片裝供一渴動底面與一頂板並從，通常與外殼相關外殼的内在頂板的板包括一殼中央開的外面、開口，構，其包括口；（ Π 延伸，其中央開口安置，可一層流狀通常是從一夕卜面、心地對準内面與頂衝板的底 (1 ) 一頂板，包 )一通常為錐形的中外殼包括一内面對準，· （ m) 一液切向地引進液體到的液體；（IV ) 一此垂直地向下g 一底邊，與—中央 •’ ( V ) -同心板的底面圍繞；及邊與外殼的内面之反應室清除裝置與渦動式單元適宜於組成單一組八為單一的製造品。 0 ’作其中一個態樣是安置渦動式單元的緩衝板以提供抑士動，以致當自行清除室機構運作時，同心室便完全充滿Μ _ 體。水式渦動單元亦包括一凸緣，能容納反應室清/姑液的附屬物。、置其中一個態樣是液體入口與水源連接順暢。另一個態樣中，申請專利範圍之反應室清除裝置亦勺一濕軋排出控制系統，藉此安置使乾空氣經由室通匕括 J下一

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個清洗塔。反應室清除裝置可合併組成一流出物減弱系該裝置同流出物來源諸如化與名士 ☆接喷如化學规相沈積裝置或半裝置在下游流體流動管道。 X千¥ m & 在本發明之一態樣中，& 的。此外，該葉片具有較佳有運動的幅度，而擇定寬度個旋轉的路徑，其與另一葉寬較佳地約從0 · 6 5到〇 . 7 5。寸旋轉幅度約是90度。應室清除裝置之葉片是雙刃式的寬度’及往復運動的元件具與運動的幅度旨在供各葉片一片的旋轉路徑重疊。該葉片的，更較佳的約為〇 · 7 〇吋寬，及

另一個態樣中，反應室清除裝置之可往復運動的元件是汽缸的活塞。該汽缸較佳地裝置一機構可指示缸是否充分地伸長與/或收縮，而確保該裝置正適當地清除該室。例如，該機構包括一個或多個妥善安置的磁性簧片開關。可指示缸是否充分地伸長與收縮，而使該機構較佳地被安裝以提供一輸出，諸如一電子信號，以表明缸是否充分地伸長與/或收縮。電子信號可傳送到CPU，以進一步處理與/ 或啟動一警報’诸如聽覺警報表示缸未能充分地伸長與/ 或收縮。本發明亦提供方法，可使用本發明之裝置以減弱流出物。該方法通常包括液體流進入口之步驟，俾便液體能充滿同心室且在外殼的内面構成一層流式液體，而使流出物可減緩地流進室内。本發明之其他態樣、特點與具體例，則於後續的揭示與

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五、發明說明（5) 隨附之申請專利範圍當可更趨明白。【發明之詳細說明】種新穎且改進的合於組成為一個置之擴大圖，其單元通常、緩衝板本發明提供一種新穎且改進的RCCM與_ ，式渦動。本發明之RCCM與渦動之態樣適單元。圖1顯示本發明組成的RCCM/渦動袈包括水式渦動單元1〇〇與RCCM單元2 0 0。【水式渦動單元】。水式渦動錐形，與_ 圖2顯示水式渦動單元丨〇〇之放大圖包括一頂板101、一外殼1〇5通常為圓 112。頂板101包括一頂面102、一底面1〇3與一外殼105包括一外面106、一内面1〇7、_邊幵〇1〇4。，1〇9與-中央開口11G其通常與頂板m ’ -底外殼m之中央開口 110的直徑隨著距頂二伸。而變窄，如此使得外殼105成為類 3増加 :藉已知㈣之任何工具而固定在頂板二狀包括r 二釘、螺杈或者其他機械式的緊固定的工具。頂板盥外M甘i併/、/或其他固單-的物件。…又亦了以其他的辦法如用模子鑄造為外殼105包括一液聽人Γ?ιιι >> 安置以致液體切向地被引夂:二體入口111依外殼105而 107形成一芦流狀的二進/奴105，而於外殼105之内面广成層抓狀的液體（未顯示）。液體體來源（未顯示）連接暢通。較佳的流體是水。層流狀;;

497119 五、發明說明（6) 水可環繞且完全地覆蓋外殼的内面1 〇 7。水式渦動單元100亦包括一緩衝板112，固定在頂板101 且通常垂直地由此向下延伸。緩衝板11 2具有一内面11 3、一外面114、一頂邊115、一底邊116與一中央開口 117。固定緩衝板1 1 2俾便其中央開口 11 7通常地與外殼1 0 5的中央開口 11 0及頂板1 0 1的中央開口 1 〇 4同心的對準。緩衝板π 2 固定於頂板101，是在頂板1〇1之中央開口 1〇4的直徑内，如圖2中特別所示。此外，頂板1 〇 1的中央開口與緩衝板 1 1 2有共同的空間，基本上在穿過頂板丨〇 i與緩衝板構成一單一的中央開口。一同心室11 8由緩衝板1 1 2的外面11 4、外殼1 0 5的内面 I 〇 7與頂板1 0 1的底面1 0 3圍繞。同心室在緩衝板11 2的底邊 II 6與外殼1 0 5的内面1 〇 7之間具有一同心開口 11 9。安置緩衝板11 2旨在提供一流動限制以確保同心室11 8實質上且完全地充滿液體。此項安置可防止侵蝕性的氣體進入同心室11 8，並防止水花濺起而有助於使水有層次的流動。水式渦動單元1 0 0較佳地包括一凸緣1 2 0能為rcCM容納軸襯 2 0 5 0 【RCCM單元】圖1顯示本發明之RCCM/渦動裝置的分解圖，包括RCCM單元200之分解圖。

RCCM早元200被RCCM外套300 (如圖1所示）圍住。RCCM 單元包括一葉片組合201。葉片組合201包括一片或多片，

90100602.ptd 第11頁叶7 /丄五、發明說明（7) ^^9地為2到6片，更較佳地為3、4或5片，最佳地為4片葉在 s ’由焊接或其他已知技術之附屬工具，至少得固定於μ = = 3與下％ 2 0 4。葉片2 0 2較佳地為雙刃式葉片。本 1 、衣置提供葉片組合較大強度。目前現用的葉片组人拉故障模式皆因扭力不強。而本發明之葉片組合之扭力二错增加葉片數來加強。片組合201可適當地安置在轴襯2〇5之樞軸上，其被固 :壓較佳地設計葉片組合201 ’使其剛承。。式動早凡並適當地由一彈簧負載的止推軸栖?:凡6固持4主。流、經液體式渦動1 〇〇之液體可以冷卻軸 1 ^ 但不需使水進入RCCM的外套3 0 0 (圖1中所示）。早汽負載的止推軸承可容納製造公差之增長。 1推軸承單兀2〇6較佳地具有最大的垂直運動幅度約為 0(^〇.〇5 =，更較佳的約為〇· 02到0. 04吋，最佳的约為 .. '以况明公差之增長與阻止產生的氣體進入RCCM的外套3 0 0。一見在依據圖3，止推軸承單元2 〇 6包括一止推軸承2 〇 7與頂板208。止推軸承207座落在圓形槽2〇9内並切進頂板。頂板208亦適當地包括銷21〇，其與止推軸承2〇7上的子u相配以阻止其旋轉。製造與安置止推軸承2〇7上的孔 ’使其接文頂板208的鎖21〇。止推軸承2〇7則被限制為動以防止彈簧212之们員’因其被安置在頂板2〇8與 a承m之間的推力迫使止推軸承朝向rccm葉片組合 201的下環204的頂面’而使止推軸承2〇7與“]葉片組合

第12頁 497119 五、發明說明（8) 201的下環204的頂面204A造成接觸。，在依據圖5中，RCCM單元較佳地包含於一外套3〇〇内。套較佳地由鋁製造，因而製造容易、重量極輕、保易與熱傳導。外套亦較佳地包括一入口3〇8與一出口3〇:: =止流體成分進入外套3 0 0内部。入口與出口適當地用在進清潔的乾燥空氣（CDA )而抑制濕氣排出。出口的配 3 0 7則於圖1中呈現。cda的引進亦有助於冷卻傳動組構以及加倍空氣淨化以阻止製造的氣體進入RCCM傳動機本發明的RCCM裝置適當地包括一傳動機構4〇〇 (參見楚），其包括一汽缸401 (參見圖4A )。傳動機構不^ :、齒輪或推桿組合即可操作。此進步超過現存之構，乃因能直接地連接空氣促動器到葉片組合。、現在依據圖4A中，汽缸401能以80磅/平方英寸（· =力源至少能夠較佳地產生40。磅的力。汽缸4〇二) 衣有一機構可指示缸是否做到完全的衝程。此二地包括磁性的簧片開關4 〇 2。 k虽地 =在依據圖6中’汽缸4〇1包括一活塞桿4〇3連到頭404。附屬工具可以是已知技術中任何的工具.—缸接的工具正使活塞桿403旋進缸接頭4〇4。缸頭二適當軸銷4 0 6較佳地固定在一旋轉連桿4 〇5。旋轉連的里由樞經由樞軸銷40 6較佳地固定在葉片組合2〇1的 I η另—端像目前現用的RCCMs，本發明的裝置可避 1 4。不需要使卿緊固件。在接靡上的拖= 動與=

\\326\2d-\90-03\90100602.p t d 第13頁 497119 五、發明說明（9) 4 0 7適當地接住。在葉片組合2 〇 1上的柩軸銷4 〇 6則與一扣板適當地接住而易於實地的拆裝。汽缸4〇1被旋進圖5所示之RCCM的外套3〇〇内（止推軸襯與其頂部為顯示清楚而除去）。圖5亦顯示一導板3〇4，其固定在託“的外套3〇(^導板可藉已知技術之工具固定在外套，例如，導板3〇4由兩個機械式的緊固件305適當地固定住（參見圖1與圖6)。缸 ΪΞ4古地設計成沿導板304滑動，當汽缸401伸長以二1"而安晋此，導板3°4因應RCCM的外套3°°與缸接 ^導板^ ’以致缸接頭4G4#汽缸4G1抗高負載而伸長二1 :動。當汽紅401抗高負载而收縮時，缸接

04，计成沿葉片組合2〇1的下環2 J 動。汽缸活塞桿403因此免：之夕卜而h 的導軸襯（未顯示）亦免受過声二〜曲、艾形’心401内 205較佳地設計成可移又的磨知。導板304與軸襯件，以致如果磨損過产μ 〇/，而非其他構件的組成零【聽裝置3Ϊ】由其他不同材料代替。 RCCM/堝動的葉片組合2〇1依 (或反之亦然）而順時針盘的活塞4〇3之伸縮針與逆時針的方向，較佳镳十疋轉。茶片202在順時度與轉動幅度在倒落的動作面平滑。葉片的寬例如，在較佳的態樣中、二應：擇可提供部分重疊。 0.75吋，更較佳地為〇 7〇^办見較佳地為約從0.65到而在俐落的動作中可提佯j :J轉動幅度約是90度，因 _ 且虽一汽缸衝程開動俐落的 90100602.ptd 第14頁 497119 五、發明說明（10) 動作日：；衝程合理的約為6吋長。汽缸401經由旋接到茱片組合201。圖8A顯示RCCM/渦動之平面圖，苴:連為收細的位置。圖8B顯示本發明之RCCM/渦動裝置，、/飞知1 其汽缸401正伸長。圖8C係顯示“⑽/渦 7 完全伸長的位置。 α 1401在在較佳具體例中，缸4〇1約費時2 —3秒（在暢通無阻曰士其電磁節流閥組應完全打開）可完全伸長與收縮。嗖^ ~ 時迴路應用壓力以伸縮汽缸4()1，而有充裕的時間使γ 組合20 1在改變方向前克服阻礙。因此，例如，定時迴較佳地設定在應用壓力以伸長汽缸401時約需10秒，收汽缸401時約需10秒，因而為…⑶葉片組合2〇1提供充袼百時間在改，方向前能克服阻礙。伸縮汽缸4〇1之壓力持續、期間，可藉修改定時迴路程式而易於改變以容納不同領^ 的條件。 ^ 本發明之RCCM葉片組合在順時針與逆時針的方向皆是平滑，因而較目前現用的裝置更有效率的移出反應室的物。、流過流體式渦動之流體將冷卻葉片組合2(Π旋轉上的主軸襯2 05。從濕氣排出控制系統來的空氣，在進到上層次級清洗塔之前’將較佳地繞行Μ CM的外套3 〇〇 —趟。此將提供RCCM構件額外的冷卻及當作“⑽的外套3〇〇之清洗。位於汽缸401之磁性簧片開關402將表示缸4〇1是否充分地伸縮，因而提供該裝置之功能上的測量，因為汽缸4〇1 確實地連接到葉片組合201。

497119 五、發明說明（11) 本發明較佳地合併一流體式渦動單元100與一RCCM單元 2 0 0在單一的清除裝置内。此裝置較佳地與反應室之外的低喷霧器聯結使用，因此可防止低反應室之侵蝕與因水中礦物質引起的滋長。上述說明的具體例僅為本發明許多特出具體例的一部份例證，其他的安排按照本揭示之技術中普通一項的技術，在不離本發明範圍下，將清楚地明白。【元件編號之說明】 100 水式 /1¾ 動單元 101 頂板 102 頂面 103 底面 104 中央開〇 105 外殼 106 外面 107 内面 108 頂邊 109 底邊 110 中央開口 111 液體入 V 112 缓衝板 113 内面 114 外面 115 頂邊 _

90100602.ptd 第16頁 497119 五、發明說明（12) 116 底邊 117 中央開口 118 同心室 119 同心開口 120 凸緣 200 RCCM單元 201 葉片組合 202 4片葉片組合 203 上環 204 下環 205 軸襯 206 止推軸承單元 207 止推軸承 208 頂板 209 圓形槽 210 銷 211 止推軸承的孔 212 彈簧 217 下環204的直徑 300 RCCM的外套 304 導板 305 緊固件 307 出口的配件 308 入口

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90100602.ptd 第18頁 497119 圖式簡單說明圖1係顯示本發明rccm/渴動的具體例之分解圖。圖2係顯示本發明渦動式之具體例的放大視圖。圖3係顯示本發明止推軸承圖_示本發明汽缸構件早之Y體例』圖4B係顯不本發明裝置之驅動組合的具體例與分解剖圖5係顯不本發明RCCM/渦動裝置之俯視橫剖面圖。圖β係顯不圖5中本發明驅動機構之態樣的放大圖7係顯示在止推軸承單元之頂板中的止推軸承之切@開時圖8Α係顯不RCCM/渴動中汽虹在收縮的位置之平面圖圖8 Β係顯示本發明之R C C Μ /渴動裝置，當汽缸正伸長圖8 C係顯示R C C Μ /渦動中’其汽紅完全伸長的位置

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Claims

497119 案號 90100602 Λ_Ά 曰 4· - 2 修if一修正本

六、申請專利範圍 1. 一種液體式渦動裝置，包括： (a ) —頂板，包括一頂面、一底面與一中央開口； (b ) —通常為圓錐形的外殼，固定在頂板並由此向下延伸，該外殼包括一内面與一中央開口通常與頂板的中央開口對準；及 (c ) 一緩衝板，固定在頂板且通常由頂板垂直地向下延伸，該緩衝板包括一内面、一底邊與一中央開口通常與外殼的中央開口同心地對準； (d ) —同心室，由緩衝板的外面、外殼的内面與頂板的底面環繞； (e ) —同心開口，在緩衝板的底邊與外殼的内面之間構成，及 (f ) 一液體入口，依外殼而安置以便切向地引進液體到同心室，因而當該液體經由同心開口離開同心室時在外殼的内面形成一層流狀的液體。 2. 如申請專利範圍第1項之液體式渦動裝置衝板固定在頂板之開口的内徑。 3. 如申請專利範圍第1項之液體式渦動裝置衝板之安置因可限制引進同心室之液體流動滿動裝置操作時，同心室將完全地充滿液體。 4. 如申請專利範圍第1項之液體式渦動裝置，其中，水式渦動單元包括一凸緣，能容納反應室清除裝置的附屬物。 5. 如申請專利範圍第1項之液體式渦動裝置，其中，液其中緩其中，緩故當液體式

90100602.ptc 第20頁入口與水源連接順暢。 6 · 一種自行清除室機構，包括：道，(V :圓柱形的室’包括圓柱形的室壁包括-内通及由-内面環繞，與一入口可引進氣態物質到内通、; 弓丨進室央開口對齊，因而使氣態物， 7.如申請專^ =過頂板的中央開口流進渦動裝置。 ^ % 祀圍第6項之自行清除室機構，其中，哕出物源是化學氣相：Γ 裝置清除室機構’其中，流出=Πί:;=7置項之自行清除室機構， 10. Τ種反應室清除裝置，包括： (a) 一圓柱形的室，句一 6 (b) -葉片裝置包括：至壁包括-内面； ^ I )至少一個環狀的裝置 (Π )至少三片刮，固定住且依從外圍由環狀的裝置元件 (c) 一往復運動單ί於至的縱轴安排；及該刮削葉片以擦淨該室可前後地圍繞該室的内面旋轉可往復運動的元件沿樞軸ϋ面，該往復運動單元包括- 樞軸在周邊位晉μ 4 ^接在延伸元件，該延伸元件知 1上連接到葉片裝置。 497119 案號 90100602_ 六、申請專利範圍其中其中其中其中其中寬度與旋 11 ·如申請專利範圍第1 〇項之反應室清除裂置係具有四片刮削葉片。 ~ 1 2 ·如申請專利範圍第丨〇項之反應室清除褒置係具有五片刮削葉片。 1 3·如申請專利範圍第丨〇項之反應室清除裝置係具有六片刮削葉片。 1 4·如申請專利範圍第丨〇項之反應室清中的葉片為雙刃式的。 μ ϋ ★ 1 5·如申請專利範圍第丨〇項之反應室清除裝置 2片有寬度而往復運動的元件則有運動的幅度，轉運動的幅度依照葉片的數目而擇定以，二^2 路徑’其與鄰近的葉片之旋轉路徑能有3 = “疋轉的如申請專利範圍第15項之反應室清除裝置，其中，吋、^ :片葉片，其中各葉片的寬度約從〇. 65吋到〇 75 寸’方疋轉運動幅度約是90度。 · 其中其中以確定可U·禮如重申勒請專利範圍第10項之反應室清除裝置’ 動的元件是一汽缸的一活塞。汽以;範圍第17項之反：室清除裝置，葉片有刮二々:貞測裔：顯不缸是否充分地伸縮，以確定内面。、徑，在貫質上涵蓋反應室之圓柱形方式的 19 士由至少裝配二專利範圍第18項之反應室清除裝置，其中，以確定苹::債測器以提供輸出指示缸是否充分地伸縮，片有刮削的路徑，在實質上涵蓋反應室之圓柱形

90100602.ptc 第22頁年月 B -^ 9QinnRn〇^ 六、申請專利範圍方式的内面。 2 〇 ·如申请專利範圍第丨8項之反應室清除裝 =測器包括安置一個或多個磁性其中，充分地伸縮，以確定葉片有：二可上/函盒反應室之圓㈣方式的㈣。路t在實質活2:二請專利範圍第17項之反應室清除裝置，复φ 活基的衝程約為6吋。具中， 22· —種反應室清除裝置，包括： ((:; 室，包括一圓柱形室壁包括-内面. 少三片刮削荦//外/少包括一個環狀的安裂元件i至卜认^ 業片攸外圍用環狀的安裝元件固定住，*至仃於至的縱轴而安置；及並依平兮往復運動單元，可前後地圍繞該室的内面# 2刮削葉片以擦淨該室的内面，該可以往復運動的％轉復運動的元件，沿樞軸連接到一延早元包 '牛在外圍的位置沿枢軸連接到葉片裝置； 4延液體式渦一動液裝體置式^括動裝置，與其内部通道連接順暢，該底面與一中央開面 )一頂板，包括 / π \ α 7、 I Γ汗J 口；一、吊為圓錐形的外殼，固定在頂板並由此向下k伸 A外殼包括一内面與一中央開口通常與頂板的中央開口對準；及 )A農衝板’固定在頂板之開口的直徑之内且通系由頂板垂直地向下延伸，該缓衝板包括一内

497119 案號 90100602_车月 J_iLi：--- 六、申請專利範圍面、一底邊與一中央開口通常與外殼的中央開口同心地對準； (IV ) —同心室，由緩衝板的外面、外殼的内面與頂板的底面環繞； (V ) —同心開口，在緩衝板的底邊與外殼的内面之間構成；及 (VI) —液體入口，依外殼而安置以便切向地引進液體到同心室，因而當該液體經由同心開口離開同心室時在外殼的内面形成一層流狀的液體。 2 3 ·如申請專利範圍第2 1項之反應室清除裝置，其中，缓衝板固定在頂板之開口的内徑。 2 4 ·如申請專利範圍第2 2項之反應室清除裝置，其中，缓衝板之安置可提供流動限制，故當自行清除室機構操時，同心室將完全地充滿液體。 25·如申請專利範圍第22項之反應室清除裝置，其中，水式渦動單元包括一凸緣，能容納一沖洗室的附屬物。 2 6 ·如申請專利範圍第2 2項之反應室清除裝置，其中，外殼與頂板鏵造成單一物件。 2 7·如申請專利範圍第22項之反應室清除裝置，其外殼與緩衝板鑄造成單一物件。 “ ’ 2 8 ·如申請專利範圍第2 2項之反應室清除裝置，1 外殼與頂板鑄造成單一物件。 T 2 9·如申請專利範圍第22項之反應室清除裝置，复液體入口與水源連接順暢。一，

90100602.ptc 第24頁 497119 _____案號 9Qin〇Rf^_年月日___修正 _ 六、申請專利範圍 30·如申請專利範圍第22項之反應室清除裝置，其中，另包括安置一濕氣排出控制系統，可將乾的空氣通過反應室到次級的清洗塔。 3 1 ·如申請專利範圍第22項之反應室清除裝置，其中，該裝置係設置在一種流出物減弱系統之流出物來源的下游。 3 2 ·如申凊專利範圍第3 1項之反應室清除裝置，其中，流出物源是化學氣相沈積裝置。

3 3 ·如申明專利範圍第3 1項之反應室清除梦詈直中流出物源是半導體製造裝置。旧置其中 34· 士申”月專利範圍第22項之反應室清除裝置，其中，葉片為雙刃式的。 35·如申請專利範圍第34項之反應室清除裝置，1中，葉片有寬度而往復運動的元件則有運動的幅度，而選擇寬度與運動的幅度，以提供各葉片旋轉的路徑，其與鄰近的葉片之旋轉路控能有部分重疊。 36·如^申請專利範圍第34項之反應室清除裝置，其中，葉片的寬度約從〇· 65吋到〇· 75吋，旋轉幅度約是90度。

3 7 ·如申請專利範圍第2 2項之反應室清除裝置，其中，可往復運動的元件是一汽缸的一活塞。 38·如申請專利範圍第37項之反應室清除裝置，其中，汽缸裝有磁性菁片開關，可顯示缸是否充分地伸縮。 …39·如|申請專利範圍第22項之反應室清除裝置，其中，汽缸至少裝有一谓測器可顯示缸是否充分地伸縮，以確定

第25頁修正六月曰丄 -^^^90100602 申請專利範圍葉片有刮削的枚^一 ' 内面。仏在貫質上涵蓋反應室之圓杈形方、的 4 0 .如申蟢宙至少f配利範圍第39項之反應室清除裝置，王/表配一個偵測其中，以確定、ι、σ 提供輪出指示缸疋否充分i也 ’疋業片有刮削的路和，所奶伸縮，方式的内面。在貝貝上涵盍反應室之圓桎形至少一W專利範11第39項之反應室清除裝置，j： φ 主夕一個偵測器句括炎且其中，示缸是否充分地;ΐ 個或多個磁性簧片開關，可_ 函盍反應室之圓柱形方式的内面。在汽質上活^如/請專㈣圍第37項之反應室清除裝置，活塞的衝程長度約從5.5吋到6·5吋。其中， 4 3 ·種清除流出物氣體的方法，包括·· (a)提供一反應室清除裝置包括： (l) 至，包括一流出物入口與一出口，及一皆包括一内面；至壁 (Π) —葉片裝置，至少包括一個環狀的安裝元件，至少4片刮削葉片從外圍用環狀的安裝元件固定’並安置平行於室的縱軸； (m) —往復運動單元，可前後地圍繞該室的内面旋轉該刮削葉片以擦淨該室的内面，該可以往復運動的單元包括一可往復運動的元件，沿樞軸連接到一延伸元件，該延伸元件在外圍的位置由此沿樞軸連接到葉片裝置；

第26頁 497119 修正 _____ 案號9010060j------年月曰六、申請專利範圍 (IV ) —渦動單元，被固定與反應室的出口流通川員暢，該渦動單元包括，一頂板包括一頂面、— 底面與一中央開口，該渦動單元另包括一通常為圓錐形的外殼，固定在頂板並由此向下延伸，δ亥外咸包括一内面與一中央開口通常與頂板的中央開口對準，及該渦動單元另包括一緩衝板’固定於頂板且通常由此垂直向下延伸，呑亥緩衝板包括一内面、一外面，一底邊與一中央開口通常與外殼的中央開口同心地對準； (V ) —同心室’由緩衝板的外面、外殼的内面與頂板的底面環繞；及 (VI) —液體入口，被安置以便切向地引進液體到同心室’因而液體充滿同心室並在外殼的内面形成一層流狀的液體； (VII) —同心開口，在緩衝板的底邊與外殼的内面之間構成； (b )液體流進入口俾便液體充滿同心室並於外殼的内面形成一層流狀的液體； (c )為減弱使流出物流進反應室内。 44·如申請專利範圍第43項之方法，其中，緩衝板固定於頂板之開口的内徑。 4 5·如申請專利範圍第43項之方法，其中，安置緩衝板可提供流動限制，以致當自行清除室機構操作時，同心室能完全地充滿液體。

90100602.ptc 第27頁 497119 _案號 90100602_年月日__ 六、申請專利範圍 4 6.如申請專利範圍第4 3項之方法，其中，水式渦動單元的頂板包括一凸緣，能容納室的附屬物。 4 7.如申請專利範圍第4 3項之方法，其中，液體入口與水源能順暢的連接。 4 8.如申請專利範圍第43項之方法，其中，反應室清除機構另包括安置一濕氣排出控制系統，可使乾的空氣通過反應室到次級的清洗塔。 4 9.如申請專利範圍第43項之方法，其中，流出物由化學氣相沈積裝置引進。 5 0.如申請專利範圍第43項之方法，其中，流出物由半導體製造裝置引進。 5 1.如申請專利範圍第43項之方法，其中，流出物由其中為雙刃的葉片引進。 52.如申請專利範圍第51項之方法，其中，葉片具有寬度而往復運動元件則具有一運動幅度，而選擇寬度與運動幅度以提供各葉片有旋轉的路徑，其與另一葉片的旋轉路徑可部分重疊。 5 3.如申請專利範圍第52項之方法，其中，葉片的寬度約從0. 65吋到0. 75吋，旋轉幅度約是90度。 54.如申請專利範圍第43項之方法，其中，可往復運動的元件是一汽缸的一活塞。 5 5.如申請專利範圍第43項之方法，其中，汽缸至少裝有一偵測器，可顯示缸是否具有一刮削路徑，在實質上涵蓋反應室之圓柱形方式的内面。

90100602.ptc 第28頁 497119 _案號90100602_年月曰修正_ 六、申請專利範圍 5 6.如申請專利範圍第5 5項之方法，其中，至少裝配一偵測器以提供一輸出具有一刮削路徑，可實質上涵蓋反應 7 室的圓柱形方式之内面。 ' 5 7.如申請專利範圍第5 5項之方法，其中，至少一個偵測器包括一個或多個磁性簧片開關具有一刮削路徑，可實質上涵蓋反應室之圓柱形方式的内面。 5 8.如申請專利範圍第5 6項之方法，其中，另包括當輸出指示缸沒有充分地伸縮時，制止流出物流過反應室之步驟。 5 9.如申請專利範圍第5 6項之方法，其中，制止步驟是 ft 自動的。

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