TW476700B - Apparatus and method for transferring microstructures from a tool onto a substrate to be structured - Google Patents

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TW476700B TW089106973A TW89106973A TW476700B TW 476700 B TW476700 B TW 476700B TW 089106973 A TW089106973 A TW 089106973A TW 89106973 A TW89106973 A TW 89106973A TW 476700 B TW476700 B TW 476700B
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Lutz Mueller
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Description

斗/6700 A7 __ B7___ 五、發明說明（/ ) Y本發明係有關一種將微結構從一工具轉印（轉製）到 一要做結構化的基質上之方法及裝置，工具與基質各承載 於可在一方向上互相調整之支座上，工具與基質間之距離 可被改變。 此種裝置例如見於德專利DE 196 48 844 C1。 要轉製一微結構，習知技術係將一模製工具（最好在 真空下）在高於可變形材料軟化溫度的溫度壓入一可變形 材料，例如一熱塑層，如此而得到結構高度在數毫微米至 數百微米範圍內的三度空間結構。 根據德專利DE 196 48 844 C1的一種適當之裝置可以 補償模製工具及所使用可變形材料之厚度波動，同時確保 高尺寸精度及不词的成形深度。 此裝置包括一室，其具一固定在機架上的室部分及一 可調整的室部分，室中壓力及溫度關係的調整與一作用於 固定之室部分之力量的預設定値互相配合。 此種裝置的缺點在於，無法求出該結構要轉製到可變 形材料中的位置。 本發明之目的因此在於，使工具與可變形材料可互相 調整對準。 依據本發明，此目的利用一種將微結構從〜工具轉製 到一個要結構造的基質上之裝置而達成，其使χ具與基^ 各承載於可在一方向上互相調整之支座上，工具與^質間 之距離可被改變，達成此目的之道，係設一可移入支座^ 的測量系統，以在至少一垂直於支座調整方向的「測量平 3 本紙張尺度適用Τ®國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐） '一""-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
476700 A7 ____B7 ____ 五、發明說明（义） •面」測量的選擇的位置，該測量系統在「測量位置」與工 具有固定的空間關係，且基質可平行於「測量平面」相對 於工具移動，以作對準。 工具支座設在一可封閉的室的第一室部份中’基質的 支座則設在第二室部份中，微結構在此室中利用模製而轉 製。 有利的方式是，將該室設計作真空室方式或可用保護 性氣體充滿。 測量系統包括不同的分叉光路，各具不同大小的像場 ，其中第一光分叉路放大可使所要選擇的位置順利找到， 第二個光分叉路放大則可使所選擇的位置能測精確測量。 爲了要移入「測量系統」中，故設有一輸送裝置，其 有不同的驅動器，以便到達各個先後所要移至的位置，其 中第一驅動器將測量系統從室外的第一位置輸送至開啓之 室內的第二位置，第二驅動器則將測量裝置輸送至一對準 工具的位置。故可進行測量作業而不會妨礙模製成形作業 Ο 求得的資料被用來控制一設在室第二部份中的裝置， 該裝置用於將基質相對於工具移動。該裝置包括兩個上下 重疊的滑板，其平行於基質之「調整平面」，且可互相移 動，其中上滑板爲室的封閉件。 有利的方式是，使上滑板可與下滑板夾緊。 此外，上滑板尙可帶有一加熱及冷卻單元之第_部份 ，一基質的支架固定在該部分上。 4 本紙張尺度剌中關家標準（CNS)A4規格（210 X 297公~ -- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
476700 A7 ____ B7______ 五、發明說明（）） 室可設有對外密封的側壁部件，以改變室的高度，這 些部件本身可在室部件調整方向互相進行調整。 有利的做法是，使工具周面被一固定在室第一部份中 一板體上的圓筒狀工具支架包圍。 板體可與加熱與冷卻單元的第二部份連接。 爲了使已成形的材料脫離工具，可使工具支架的函殼 面被一脫模工具包圍，該脫模工具在微結構轉製後，可相 對於工具支架沿支座互相調整的方向移動，以將基質從工 具拿掉。 爲了確保裝置各系統有很高的時間穩定性，故測量系 統、移動裝置及室第一部份可設有可調溫液體的通道。 爲在測量系統與工具間建立固定的空間關係，故把掛 鉤固定在測量系統上部，以將測量系統懸吊在室第一部份 的配合設計的掛鉤上。 此外，使基質由一載體層及一施在其上的可變形材料 構成，亦甚有利。 載體層上亦可設一工具，以將結構轉製到可變形的材 料中。 此外，本發明之標的尙包括—種將微結構從一工具轉 製到一個要結構化的基質上之方法，工具與基質各承載於 可在一方向上互相調整之支座上，使得工具與基質間之距 離可被改變。要把所要做結構化的基質相對於工具在 面（支座的調整方向垂直於此平面）作所需之定位（這_ 定位係要將微結構轉製到準確位置所需者），其方法爲： 5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 476700 A7 ___^__ 五、發明說明（Φ ) .從一第一結構化之基質上所轉製的微結構之所測的結構位 置得到校正値，以供至少另一個要結構化的基質做定位時 校正，此定位作業係由微結構距該基質上一記號的距離而 決定者。 爲進一步提局定位精確度’尙可另外在轉製微結構之 前及之後在第一基質上求出該記號的位置，以便得到定位 的校正値。 如果還要再進一步提高定位精確度，可在基質放置到 基質支架上之前，測定基質支架上的記號的位置，作爲校 正値。 · 最後，如果每一基質成形後，把所成形之微結構及記 號的所求出的位置作爲後續欲結構化的基質定位用的校正 値，則亦甚有利。 本發明捨棄習知之將工具可變形材料以預設之不可變 空間配置之結構的技術方案，而係藉著將位置關係之求出 及處理以保證其可以高精確度互相對準。 以下將依據附圖進一步說明本發明。圖式中 第一圖係微結構成形裝置之一原理圖； 第二圖係在一平面上測定所選出的微結構位置之測量 系統立體圖； 第三圖係將測量系統送入及送離成形範圍之運送裝置 第四圖係使一要成形的基質相對於工具移動之裝置， 此移動裝置係成形裝置的室下部的一整合構件； 6 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） " (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
476700 A7 B7 五、發明說明（Γ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 第五圖係第四圖裝置之俯視圖； 第六圖係基質支架與所承載之基質 第七圖係成形裝置之室上部。 〔圖號說明〕 (1) 負載框體 (2) 固定在機架上的部件 (3) 可調整部件 (4) 上凸緣 (5) 下凸緣 (6) · 上室部分(室上部） (7) 下室部分(室下部） (8) 測量系統 (9) (可移行的)機架 (10) 下墊 (11) 掛鈞 (12) (13) 接觸面 (14) 掛鈞 (15) 對準元件 (16) 定位元件 (17) 底板 (18) 蓋板 (19) 十字枱 (20) 枱板 (21) (22) 移動方向 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 476700 A7 _^ 五、發明說明（) (23) 測量顯微鏡 (24) 物鏡 (25)(26) CCD攝影機 (27) 缺口 (28)(29) 驅動器 (30) 停放位置 (31) 中間位置 (32) 懸吊位置 (33) 移動裝置 (34) ^ 基質 (35)(36) 滑板 (37) 止擋件 (38) 氣動缸 (39) 驅動單元 (40) 下部 (41) 基質支架 (42) 載體層 (43) 可變形材料 (44) 彈簧元件 (45) 氣動缸 (46) 工具 (47) 工具支架 (48) 基板 (49) (加熱及冷却單元的)上部 8 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 476700 A7 _ B7 五、發明說明（1 ) (50) 脫模裝置 (51) 環形脫模工具 (52) 環形溝槽 (53) 凸起 (54) 密封件 (55)(56) 壁部件 (57) 冷却通道 (58) 調溫塊體 (59) 孔 (60) · 微結構 (61)(62) 記號 在第一圖所示成形裝置中，一負載框體1承載一固定 在機架上的部件2及一可調整的部件3，其上固定著一上 凸緣4及一下凸緣5。凸緣4,5用於支撐一可移動的室的相 對立的上下室部分6, 7，該室在本實施例中設計成一真空 室。但要做成形目的’亦可不用真空室，而用例如可充以 有保護氣體的室。 藉一整合到框體1中的驅動器，該可調整的部件3可 在圖中未示的裝置（例如一力測量裝置、一估算及控制單 元及一路徑測量裝置）的共同作用下相對於該固定在機架 的部件2被移動，如此可使室開啓及關閉。估算及控制單 元控制該固定部件2對可調整部件3的定位，且與該力測 量裝置共同用於在固定在該機架上的部件2與可調整部件 9 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) — III—"——^OJI I n I ϋ ϋ n .1 I · 476700 A7 ___B7________ 五、發明說明（l ) • 3間維持一定的力。 專業人員可立即看出，固定在機架上的上的部件2與 可調整部件3之設置方式可互相交換。 有一測量系統8(它在第二圖的說明中還要更詳細說 明）以可取下的方式放置在可移行的機架9上’其下墊1〇 固定在室下部7上。測量系統8可移動’以便可在室開啓 時進入室上下部6, 7間的成形範圍’及再由該處移出來。 設在測量系統8上部的掛鉤11末端具有接觸面12，其配 合上凸緣4上所設之掛鉤14的半球形接觸面13而構成三 點式支承，在懸吊狀態時，測量系統8與上凸緣4間產生 一定的位置關係。測量系統8下部設有半球形對準元件15 ，其在移出及移入程序時呈三點式支撐在定位元件16上， 使測量裝置8對準機架9及下墊10。 測量系統8本身由一具底板17及蓋板18的殼體構成 。該殻體可單側或多側被圖中一未示出的襯板遮蔽，以防 止外界影響。 底板17上安裝有一電動十字抬19，其可將一抬板(20) 平行於底板17而沿兩互相垂直的移動方向21，22調整。 枱板20承載一「測量顯微鏡」23，其物鏡24具一垂 直於底板17的光軸〇-〇。一第二圖中未示出的底板17開 孔可使得測量所需的光通過。十字枱19中間部份亦具有一 個爲此種目的所設的開孔。開孔的大小可確保物鏡24在移 動方向21，22的整個移動範圍皆可無阻地移動。十字枱19 的一定之定位作用係藉助一裝置之軟體達成。 10 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
476700 A7 _____B7______ 五、發明說明（7 ) 由於光束路徑係在像的那一面（非在物的那一面）朝 向物鏡(24)沿水平方向延伸，因此，測量顯微鏡23可具扁 平結構。光軸〇-〇偏轉至平行於枱板的方向後，光束路徑 分成兩個分開的光分叉路，其各有一 CCD攝影機25, 26， 該攝影機之位置以虛線表示。光分叉路各進行不同的放大 處理，使得在第一個CCD攝影機25的像場內可輕鬆找到 一觀察物之微結構。第二個分叉路的放大作用則使得在第 二個CCD攝影機26的像場內可精確測得物體上結構的位 置關係。 測量顯微鏡23搭配一照明系統，其係亮場打光照明。 光藉一未示出的第一光纜由一適當的第一光源產生。物鏡 24上尙可加設一圖中未示出的環形光，該環形光藉一圖中 未示出的第二光纜而由一適當的第二光源供應。如此亦可 使用暗場打光照明。 由第二圖可淸楚看出，設在掛鉤11的接觸面12具有 缺口 27，互相偏離約120度。設在底板17相對兩側的半 球形對準元件15中有一個固定在一側，有兩個則固定在另 —側。 第三圖示意圖所示輸送裝置由固定在下室部7上用於 承載機架9之下墊1〇及氣動驅動器28, 29構成。第一驅 動器28的作用在於使下墊10上的可移行的機架9由一個 在成形範圍外的停放位置30移至一已在成形範圍內的中間 位置31。 第二驅動器29則將其由中間位置31移至一懸吊位置 11 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1^1·. 476700 A7 广 ____B7_ i、發明說明（θ ) 32，測量系統可在該位置利用其掛鉤11掛在上凸緣4的掛 夠14上。 成形裝置有一部分的裝置係在下室部7中，係一移動 裝置33，如圖4及5所示，利用該移動裝置可使要成形的 基質34在垂直於室移動方向的平面上相對於第七圖中圖號 爲46的工具進行調整。 有兩個上下重疊且平行於基質調整平面的可動滑板 35, 36，其中，上滑板36有相關的止擋件37以將之止擋 住，其各藉一氣動缸38而頂靠在滑板35上充作定位器的 驅動單元39上。圖中未示出的適當測量工具則控制該利用 驅動單元39所調整的位置。上滑板36承載一個成形所需 的加熱及冷卻單元下部40，其上設有一基質41。基質支架 41可借助彈簧元件44而固定在基質支架41上。如第六圖 所示，基質由一載體層42及一可變形的材料43構成。另 外可設置側邊的止擋件(圖未示）。載體層42通常由結構化 的材料製成，例如具光刻蝕結構化的陶瓷板或結構化的電 路板。 若欲使材料43兩面皆變形時，可以用另一工具取代載 體層42。 上滑板36的另一作用爲，構成室的下側封閉件。如果 該室在真空條件下工作，因大氣壓力之故，故作用於上滑 板36上的力量沒有反作用力存在。爲避免該室有不想要的 變形情事及確保兩滑板35，36的一定的相對位置，上滑板 36可與下滑版3 5用氣動方式夾緊。其所需之力由四個固 12 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -ϋ ϋ ϋ ϋ I n^*OJ· n n I n n n «I I · 476700 A7 _ _B7__ 五、發明說明（U ) 定在下滑板35上的氣動缸45產生。 氣動缸45的推桿上可用的的力經四個夾板46傳輸至 上滑板36。 上室部分6，如第七圖所示，包括成形所需的工具46 ，其周壁被一以密封方式固定在基板48的圓筒形工具支架 47包圍。基板48與一固定在上凸緣4上之加熱-及冷卻單 元的上部49連接。在所示實施例中，上室部分6中尙有一 脫模裝置50，該脫模裝置(50)的一可平行於室上下部6, 7 調整方向移動的環形脫模工具51包圍著工具支架47。脫 模工具51與加工到基板48中的一個環形溝槽52及工具支 架47的函殼面構成一壓力室，一壓縮空氣的供應通道通至 此壓力室。脫模工具51前端側設有一凸起53，該凸起具 有一環繞的密封件54,脫模工具51以密封方式頂靠在工 具支架47函殼面上及溝槽52的外圓柱面，如此確保脫模 工具51可如一氣動缸活塞般工作。移動範圍在一方向上被 基板48限制而在另一方向則被一圖中未示出的止擋件限制 。圖中未示出的復位彈簧使脫模工具51在壓縮空氣供應結 束後，又回到其靜止位置。 脫模裝置50作用在於使基質34在成形程序後脫離工 具46，其方法爲：用脫模工具51將基質34壓向基質支架 41，在此時將室開啓。另外，並可將壓縮空氣輸入基質34 與工具46間的空間，以幫助脫離。該形成之空間對外密封 〇 具半球形接觸面13的掛鉤14彼此偏離120度固定在 13 本紙張尺度適用中國ϋ標準(CNS)A4規格（21〇 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
476700 A7 ___B7 _ 五、發明說明（（V ) .上凸緣4上，因此其中只有一個掛釣可完全看見。室對外 密封的一個側壁分成壁部件55，56，其中壁部件55設在凸 緣4上，壁部件56而放到室下部7 —密封的外區域，以將 室封閉。兩壁部件55，56可沿室上下部6，7調整方向互相 S周整，而改變室筒度。 將工具46上的結構成形到可變形材料43中時，需在 室中進行加熱及冷卻。爲達到成形之必要精確度，在本實 施例中使測量系統8、移動裝置33及室上部6之重要部份 皆設有可調溫之液體的通道，該液體最好是水。 故室上部6之凸緣4有冷卻通道57通過。掛鉤14亦 被設計作冷卻塊體方式，並具有相關的通道。 測量系統8的底板17及蓋板18上設有調溫塊體58。 滑板35, 36具適當的孔59，以便調溫。 除了已述的功能外，估算及控制單元尙具有許多其他 的目的，如十字抬19及測量系統之控制、十字抬19兩移 動方向21，22位置之控制、以適當影像處理演算法估算出 第一及第二CCD攝影機25, ％之資訊的作業、全部氣動單 元之控制、驅動單元39之控制及其位置控制。第一及第二 CCD攝影機25, 26資訊之估算方式，舉例而言，可使得定 位及成形過程之處理能以全自動方式進行。估算及控制單 元尙可做到能在CCD攝影機26的影像內自動找到結構 〇 以下的工作方式用於將工具46上的結構成形到可變形 材料43上的可以準確預定的位置。 14 尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐) ' " (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
476700 A7 ^_____B7 ____ 五、發明說明（G ) 把基質34放入並將它藉助彈簧元件44固定於基質支 架41上後，將室上下部6，7苴相調移，使室關閉，接著 抽成真空。 將可調整的部件一直移動3，直至工具46與可變形材 料43接觸爲止。藉著將二壁部件55, 56互相調整，使室 高度配合可變形材料43的厚度。接著藉助加熱-及冷卻單 元的上下部40，49加熱工具46及可變形材料43。把由於 可調整元件3所造成的力作用繼續調整，並配合估算及控 制單元與力測量裝置，在基質34與工具46間產生一定的 壓緊力，達成所要之結構轉製作用。轉製結束後進行冷卻 ，接著使室通氣。藉助脫模裝置50使可變形材料43脫離 工具46。 爲檢查成形結果，將調整室上下部6, 7至一距離，在 該距離時，測量裝置8可藉助一輸送裝置由停放位置30被 移至適合測量的懸吊位置32,旦基質34可被放入及取出 〇 測量系統8〔它和可移行的機架(9)一齊位在停放位置 (30)〕因第一氣動驅動器28起動而進入室上下部6, 7間的 中間位置31。接著把室上部6向下室部7調移，使得輸送 裝置與測量裝置8被一起移動。固定在測量系統8上的三 個掛鉤11於是伸入室下部7，直至有缺口的接觸面U高 過該固定在三個掛鉤14上的接觸面I3爲止。中間位置31 選設成使掛鉤11及14彼此不碰撞。 藉助第二氣動驅動器29使可移行的機架9與測量裝置 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
476700 A7 _B7___ 五、發明說明（外） > 8 —齊移至懸吊位置32，在該位置時，接觸面12，13沿垂 直方向上下直接重合。藉降低室上部6而將懸吊程序結束 〇 此時，該測量系統(8)[它對工具46在所有六條自由度 直線作對準，且從可移行之機架9解脫於是佔住測量位置 〇 若測量系統8在測量後需再從室上下部6，7間之範圍 移出來，則首先使可移行的機架9進入懸吊位置32。上室 部6與可動架9 一齊向室上部7移行，直至對準元件15與 定位元件16接觸爲止。接觸面12，13分離，而在垂直方 向上彼此上下重合。第二氣動驅動器29負責輸送至中間位 置31，而第一氣動驅動器28則將可移行的機架9與測量 系統8送至停放位置30。移出至停放位置30時，所要輸 送的元件需位於足夠大的自由空間中。 由於在成形過程時無法直接測得工具46與基質34間 的位置關係，故需在正式成形之前事先進行一道試驗樣品 成形，以求出成形微結構60在可變形材料上的位置座標及 /或在成形之前或之後在載體層42上已存在的記號61之位 置座標。如此，各基質34就可藉求得的位置座標而放到相 對於工具46的正確位置，使得成形作業能正確定位。工具 46上的結構於是可轉製在可變形材料43上的可準確預定 位置。 要測量微結構60上、記號61或基層支架41上的既 有記號62時，首先使測量顯微鏡24進入測量位置，接著 16 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
476700 A7 _____B7____ _ 五、發明說明（ .藉助十字枱19沿移動方向21，22在載體層42上方移動， 直至檢測到所要測量的測微結構60、記號61或62爲止。 藉升高或降低室下部7可調整淸晰度。藉CCD攝影機25, 26顯微成像得到的影像資料被送至估算及控制單元，以做 進一步處理，尤其是要做使得利用移動裝置33將基質(34) 做位置準確的成形所需的定位作業。 要做定位過程時，把由四個氣動缸45及夾板46所造 成之上下滑板35，36間的夾緊作用鬆開。如果設定載體層 42上的記號61與工具46之轉製到可變形材料43中之微 結構60之词的位置關係，則甚有利。估算及控制單元於是 可以利用在試驗樣品成形時求得的微結構60及記號61， (必要時，還包括記號62)的位置座標而計算出固定於基 質支架41上之基質34的所要調整的位置，並控制驅動單 元39。驅動單元39利用其調整作用而定出一位置〔此位 置係上滑板36的止擋件37要受氣動缸38之力作用而進入 的位置〕，故基質支架41與基質34相對於工具46在一個 平行於滑板35, 36表面的平面上之平移座標及角度位置就 被定位而固定。氣動缸38關掉後，在上下滑板35, 36再 度被夾緊而使上滑板36的位置移穩定之前，上滑板36最 初係因本身的重量而維持在其位置不變。 以已述方法重新測定載體層42上記號61的座標，可 檢查所調整的位置。必要時需要利用移動裝置33再次調整 位置。 本發明可使一載體上的結構或物體以極高精確度轉製 17 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ^ "" (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
476700 A7 -------------- ---- 一 五、發明說明（A ) 到一可塑性變形材料的可預定的位置上。其達成之道，係 測®所轉製的結構或物體或在轉製區域既有的結構的位置 座標’接者依測得的位置座標使欲轉製結構化的範圍相對 於載體做定位。 轉製區的範圍中進行測量作業的位置需確保沿一方向 (此方向垂直於該結構或物體轉製的方向）的一切有影響 的移動（這種移動對於轉製的構造或物體的位置座標有影 響）能被檢出。 在本實施例中，爲達此目的，而採用下述方法做定位 成形的過程： 基本方法爲，先將一第一基質34成形（粗成形），然 後測量所成形之微結構60在可變形材料43上的位置。測 量過載體層上的記號61後，利用移動裝置使其他基質34 進入轉製位置，在該轉製位置時，工具46上的結構在隨後 的成形作業時’以一種與記號61隔一定距離的關係被複製 到可變形材料43上。複製到可變形材料43中之工具46之 結構60的座標由已試驗樣品成形作業得知。 定位成形作業的第一次改善，係在以第一基質34進行 試驗樣品成形之前及之後，測量載體層42上的記號61的 位置，並測量可變形材料43中成形之結構60的位置，並 使用此測量結果將其他所要加工的基質34作對準。此處亦 首先測定記號61之位置座標，作爲以移動裝置33做所需 之定位作業的基礎。如果在成形後對後續每次成形皆測量 在載體層42及可變形材料中的結構位置，亦甚有利。利用 18 本紙張尺度適用中關家標準（CNS)A4規格（21G X 297公愛）" "~" (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
476700 A7 _______ _B7__ 五、發明說明（Π ) ‘此定位成形的第一次改善，可在成形程序時使基質34因加 熱、冷卻及成形而造成之相對基質支架41之位置偏移不致 造成失誤。 成形程序再一次作改善時，連基質支架41上的記號位 置也一齊列入考慮。放入第一基質34前已先測量記號62 的位置。然後測量成形之前及之後載體層42上的記號位置 ，並測量可變形材料43中成形之結構60的位置。. 其他要處理的基質34則在該基質34放入前，測量基 質支架41上的記號62的位置，並測量該放入之基質34的 載體層的記號位置。接著作定位及成形。在成形後，對隨將 載體層42中及可變形材料中記號位置檢出。利用此成形程 序的再次改善，可使室上部6與測量時固定在室上部的測 量系統8之間，以及與室下部(7)與固定在室下部的定位系 統(33)之間的漂移不定的現象不致造成誤差。 19 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -ϋ n n n ϋ n n^eJ· n ϋ I ·1 n n I I #

Claims (1)

  1. 476700 A8 B8 C8 __ D8 六、申請專利範圍 \/ 1·—種把微結構從一工具轉製到一個要結構化的基質_ ^ 〆一— -------------------—一— —-… ——.— 上之笔霊^上該裝置具有可沿一方向互相調移的支座，以各 承載該工具與該基質，使得工具與基質間互相之距離可被 改變，其特徵在於：設有一個可移入該二支座間的測量系 統(8)，以測量位在至少一垂直於該二支座調整方向的測量 平面中的所選擇之位置，該測量系統在一測量位置時與工 具(46)有固定的空間關係，且基質(34)可相對於該工具(46) 平行於測量平面移動，以作對準。 2. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中，工具的 支座設在一個可封閉的室的第一部份(6)中，基質(34)支座 則設在該室第二部份(7)中，微結構的轉製作業在該室中藉 模製成形而達成。 3. 如申請專利範圍第2項所述之裝置，其中，該室設 計成真空室方式。 4. 如申請專利範圍第2項所述之裝置，其中該室可用 保護氣體塡充。 y/ 5.如申請專利範圍第2項所述之裝置，其中， 測量系統包括不同的光分叉路，該分叉路各具不同大小的 像場，其中第一光分叉路的放大作用可使人輕易找到所要 選擇的位置，而第二個光分叉路的放大作用則可使人在測 量平面中精確測量所選擇的位置。 6.如申請專利範圍第5項所述之裝置，其中，設有一 輸送裝置以將測量系統(8)移入，其具有不同的驅動器(28， 29)以達到要先後移到的位置，該第一驅動器(28)將測量系 1 一本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 χ 297公爱1" (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 476700 C8 D8 ______ 六、申請專利範圍 統從室外部的第一位置（3〇)輸送至開啓室內的第二位置 (31)，第二驅動器（29)則將測量系統（8)輸送至一與工具 (46)對準的位置(32)。 7. 如申請專利範圍第6項所述之裝置，其中，在室第 二部份（7)中設有將基質（34)相對於工具（46)移動的裝置 (33)，該裝置(33)包括兩上下重疊的滑板(35)(36)，該滑板 可平行於該基質的調整平面互相移動，其中上滑板（36)用 於做將室封閉的元件。 8. 如申請專利範圍第7項所述之裝置，其中，上滑板 (36)可與下滑板(35)夾緊。 9. 如申請專利範圍第8項所述之裝置，其中，上滑板 (36)承載一加熱-及冷卻單元之第一部份(40)，一基質(34) 支架固定到其上。 10. 如申請專利範圍第9項所述之裝置，其中，該室設 有對外密封的側壁部件以改變室高度，這些側壁部件本身 可沿成形室部件(6, 7)的調整方向互相進行調整。 11·如申請專利範圍第10項所述之裝置，其中，工具 (46)周面被一固定在室第一部份(6)中一板形體上的圓筒狀 工具支架(47)包圍。 12.如申請專利範圍第11項所述之裝置，其中，板形 體與加熱-及冷卻單元的第二部份(49)連接。 13·如申請專利範圍第12項所述之裝置’其中，工具 支架(47)函殼面被一脫模工具（51)包圍，該脫模工具可沿 該支座互相調整的方向相對於工具支架(47)移動，以便在 2 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -n n n n n 1 1 )aJ· I · 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規袼（210 X 297公釐） 476700 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 申請專利範圍 微結構轉製後，使基質(34)脫離工具(46)。 14_如申請專利範圍第13項所述之裝置，宜 統⑻、移動裝置(33)及室第—部份⑹設有崎液體的^道 15.如申請專利範圍第14項所述之裝置，其 量系統⑻上部固定著掛夠（11)，以將測量系統懸吊到=第 一部份(6)的配合設計的掛鉤（14)上。 t 16·如申請專利範圍第14項所述之裝置，其中，基質 (34)由一載體層(42)及一設在其上的可變形材料(43)構成了 17·如申請專利範圍第14項所述之裝置，其中，載體 ，層(42)上設一工具，以將結構轉製到可變形材料(43)中。 V7 1 二 ill結榛化的碁質 丄甚利用可在一方向上互相調整之支座以分別承~ 載該工具與基質，工具與基質互相的距離可沿該方向被改 變，其特徵在於：要將該要結構化的基質（34)相對於工具 (46)在一個和載體調整方向垂直的平面中做必需的定位[這 種定位係要將微結構(60)作位置準確的轉製所需者]，其方 法係由在一第一結構化的基質（34)上之所轉製的微結構 (60)之所測的結構位置得到校正値，以校正在至少另一個 要做結構化的基質(34)的定位作業，此另一基質的定位作 業，係利用微結構(60)距基質（34)上一個記號的距離測定 者。 19.如申請專利範圍第18項所述之方法，其中’在第 一基質（34)上另外求出在轉製微結構(6〇)之前及之後記號 -------—-tr--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) k紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 x 297公爱） 476700 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 ‘ （61)的位置，以得到定位的校正値。 2〇_如申請專利範圍第18項所述之方法，其中在將基 質(34)放置到基質支架(41)前，測定基質支架(41)上的記號 (62)的位置，作爲校正値。 21·如申請專利範圍第19或20項所述之方法，其中 每一基質(34)成形後皆測定所成形之微結構(60)及記號(61) 的位置，作爲將隨後欲結構化基質(34)定位的校正値。 --------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印製 4 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格^扣乂四了公爱）
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