TW475075B - Iris diaphragm - Google Patents

Description

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本务明係關於一種光圈調整片 印刷過程中之曝光鏡，如 j別疋用在半導體平版 詳細限定之種類。 明 j乾圍第1項的前言所更 在以往的光圈調整片中，勺 、 中，曝光鏡用的光圈調整匕^半導體平版印刷過程 振盪移動來完成。&此；形中？改！：徑之直徑的改變藉 未完成，該等扇片各以一山—士文、又直徑是藉多重的扇片 另一端分別地安裝在凹样=女衣在所δ胃光圈底座，及以其 振盪驅動裝置依旋轉的^ %中。扇片像鐮刀狀被彎曲，及 妙地安裝在光圈口押向向’引導該等扇片，而以弦桿巧 斷。 内之方式，結果通過之光束將被切 連同其產生的負载 移動-其將移動非微/ 高速循環使用時，例 鏡0 ，在光圈調整片之使用壽命上之振盪 、的團塊-具有不利的效果。特別是者 如關於半導體平版印刷過程中之曝二 因此本發明 型之光圈調整 作，且甚至在 損。 的目的，旨在 片，其之使用 扇片的開啟及 發明一種文章開 哥命長，尤其， 關閉南速循環下 始時所提及類 可精確地操 ’其有低耗 此目的依據本發 成0 明藉 申睛專利範圍第1項之特點予以完 為取代一振盪移動 定結構中具有有效區 構，並經由永久封閉 ，線性或連續的旋轉移動可藉由在指 曲線與回行曲線之凹槽環的發明結曰 的周圍軌道之幫助來完成。藉由&振

W326\2d-\90-06\90107960.ptd 五、發明說明（2) 盪移動比較，連續的 予較少的負載。、疋轉移動實質上在參與移動之部份施 在發明之一項結構 項式。藉使用多項式，Γ提供回行區至少設計為接近多 間之作用，而非常伊^可能建立一高度免除在旋轉移動期 的成為可能。順暢的J =開關動作，a此使調整扇片之目 將藉發明之多項式予=f，及如此無跳動之平滑的力量， 在發明之另外的結^ =成。 經由此軸承，扇片^別&，可提供各設有一軸承之扇片， 承當作抗磨擦軸承之中，周圍執道被導向，而在使用軸 技術之解決方法中右# μ兀成免除高度的磨擦，故在先前 在非常有利的、4ΐ些：t直t的：… 別具有兩個抗磨捧轴^ j *可提供以平行導向方式，分 因為扇片通常二承；扇片、： 險，而本發明的軸承能傳目：=對疲乏負載而言具有風 較長。 b傳运向標準的可靠性，故使用壽命 發明之有利的發展，係 方向’及有效區曲線與回行曲動裝置的旋轉驅動 開啟，在回行曲線之軌道區内Λ ^，以致當光圈口徑 發明之此方向力’與先前技術之移動=在扇i上。 關閉時牵引力是作用在扇片上。^動^向相纟’當光圈 曲線為在振盪移動期間以此方^ =而言，所謂之平行的 片連接到凹槽環與光圈而更易^ ^到，因此其可經由扇 力。 ;I作用於扇片與鉚釘之

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4/DU 五、發明說明（3) __ 雖然本發明在有效區曲綠 絲 .^ 線之解决方法，現在必須承擔却 ,ΐ因為能更有效率地承受扇片，例“: 抗磨擦㈣’及連續的旋轉移動，故不可能有困難。：助 方面，較佳的力道在θ Α 合士 力— 仃曲線中’稭此移動的路線而 成。 ％ 為組裝之緣故’可有免I &验女4 ^ . 彳也將有效區曲線或回行曲線在w 才曰壞中設計成為連續的狹縫。 凹 【較佳具體例之說明】 光圈調整片基本上是P知沾Μ 零件，故於以下將詳：=的…因其僅為發明之必須 光圈調整片，具有一凹槽環丨， 圈基座2。一端在凹槽環丨 在其下方汉置之光 承3導向，及以另一端疏羽，分別地經由抗磨擦軸 2。 柒經由抗磨擦輛承5安裝在光圈基座 凹槽％ 1提供周圍的軌道6，盆 彎曲軌道，及其被分開為交替使=土用來調士扇片4之 曲線6b，而藉此產生一 用的有效區曲線6a與回行 擦軸承3在周圍軌道6内韓，、二圍執道（參見圖2 )。抗磨 式被導向。回行區6b， 法羽片4藉此以適當的循環方 式。 各情況中至少得設計近乎為多項 為穩定的緣故，及為 、、眷 各自以用於各扇 之、、、—文進^向，兩對抗磨擦軸承3及5 大的抗磨擦輪承7 向方式設立。 關光圈基座2之H疑轉時，其目的用以導向有 __ “1。抗磨擦轴承7係連接到軸承4

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及因此可與光圈基座2 3 ’比轴承凸緣連接到光圈基座2 扭轉。 抗磨 驅動馬 上。驅 輪13連 此意指 周圍軌 相反的 驅動 致當光 施加在 為了 縫。此 線6b在 中回行 圖〇 Π:7的另一側緊繫在光圈調整片的外殼9上。-旋轉驅動裝置η ’緊繫在外殼9之凸緣板1〇 丨ί設有一與齒輪13嚙合之驅動小齒輪12。齒 # κι ^承凸緣8，及藉此驅動後者連同光圈基座2。 、酋β &土、座2旋轉時，其中扇片4以其抗磨擦軸承3在 ^摆被導向，此時凹槽環1被固定。當然亦可想到 其中凹槽環丨旋轉時，而光圈基座被固定。 _ 之旋轉驅動方向，在此情況中予以選擇，以 圈/口徑開啟時，即當扇片4向外運動時，φ引力將 回行曲線6 b中之扇片4。 組哀之原因，周圍軌道6局部地設計為一連續的狹 為相1地在有效區曲線6&之區域的例子，而回行曲 凹槽環1之頂側中僅設計作為截止區。目此，在圖3 曲線6b僅以虛線表示，因為圖3係說明由下傾斜之 因為現在循環運㈣代光圈基座2的振s移動，為了經 常得到準確較位與對應的控制，位移測量系統現在應被 連接。為此目@，例士口 ’可能安置一個開目凸輪14 (未詳 細地以圖式說明）在齒輪13上，其藉由感應器掃描，例 如，免觸式感應器1 5 (在圖1中以虛線說明）。此目的所需 之位移測量系統及裝置通常為眾所周知的，故以下並未 細地說明。

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Claims (1)

1. 1. -種光圈調整片’尤其用在半導體平版印 ，光鏡，纟具有可彼此相對地旋轉之一 ：J :，並具有多重的扇片’係各自安裝在光 :曲：ϊίΓΐίΓ徑…，藉安裝在凹槽環G 二曲軌遏V向，及具有一驅動裴置，係用於 之光圈基座與凹槽環，苴中織ώ4丄 得攸此相對 當作周圍軌道⑷，Μ曲/^道在凹槽環⑴中設計 線Ua)與回行曲線（6b)^V皇開中成^交替使用的有效區曲 (1)，能以預先選定的旋轉骚動Λ ⑴或凹槽環 轉動，而扇片⑷，以】 = 向’藉由驅動裝置(⑴ 向。 循衣的方式在周圍軌道（6 )中被導 2 ·如申請專利範圍第丨 ⑽至少設計近乎成為多項式先圈调整片 3 ·如申請專利範圍 各自設有軸承（3、5、 光圈調整片，其中扇片⑷， 圍軌道（6)被導向， 且經由此軸承，扇片可分別地在周 4如由士主蜜^ 及安裝在光圈基座。 為抗磨擦軸承（3、5)第3項之光圈調整片，其中軸承設計 5 ·如申請專利範 擦軸承（3、5 )，& 第項之光圈調整片，其中兩個抗磨 各扇片（4)。 各情況中’以平行導向的方式’提供給 6 ·如申請專利笳 (π)之旋轉驅動方=弟1項之光圈調整片，其中驅動裝置 之路線被選擇，、ϋ ’及有效區曲線（6 a)與回行曲線（6 b) 以致當光圈口徑開啟時，在回行曲線（6b)

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