TW469475B - Structure of high contrast planar plasma display and method for making the same - Google Patents

Description

469475 -案藏88114929 午 月 日 條正___： 五、發明說明（1) 本發明是有關於一種顯示器及其製造方法.，且特別是 有關於一種咼對比電漿顯平面顯示器結構及其製造方法。 電漿平面顯不器（PDP)是使用氣體電弧（Arc)所放射的 紫外線輻射來激發紅色（K)、綠色（G)、藍色（B)的磷光物 質，進而得到可見光。請參考第1A及18圖，此即電漿平面 顯示益的電極結構及其表面放電狀態。如圖中所示，電極 會分別排列在兩片玻璃基板1、2上垂直及水平鑲條所構成 的矩陣上。一叙電極是用來寫入顯示資料的定址電極（ Address el ectrode)3，另一組電極則是用來放電及實際 顯示的顯示電極4(Display electr〇(ie)。定址電極是由條 狀栅攔5所分隔’紅色、綠色、藍色的磷光物質則是鍍在 玻璃基板上並覆蓋定址電極。兩片玻璃基板1、2是彼此結 合’玻璃基板間的隙縫則是充滿氖和氙的混合氣體以構成 顯示板。每個定址電極3與顯示電極4的交會處是一個圖素 ’資料寫入定址及顯示電極對所放出的電荷則是轉移到顯 示板上並在顯示電極間放電。顯示電極間放電的強度是用 來控制放射光的強度’進而能夠顯示全彩的符號、圖形、 影像。 在電敷平面顯示器中，亮度（Brightness)及對比（ Contrast)均是極重要的特性。對比的定義走亮準位及暗 準位的比值，如第2圖所示。由於操作方式的關係，電漿 平面顯示器即使在全黑狀態下亦會有一點點背景輻射。因 此，暗室（Dark-room)對比的定義就是顯示光強度（Ld)及 背景輻射（Lb)的比值：

0535-4730-Tff修l.ptt 469475 __—·卿14929___兔 月 日 修' 五'發明說明（2) ·— 暗室對比= Ld/Lb 暗室對$可透過增加顯示光強度或減少背景輻射來改 善。但是，若增加顯示光強度卻不同時減少背景輻射，則 較亮的黑準位將會使晝面像是透過毛玻璃來看一樣。 另外，在具有周遭光線（如室内照明）的環境下，來自 磷光物質及玻璃表面的反射光（Lref)同時會使顯示光強度 Ld及背景輻射Lb增加。因此，若入射的環境光強度為Lij^ 且玻璃基板的表面反射係數為α，則亮室（Light_r〇〇m), 比的定義可修正為： 亮室對比= (Ld + Lref)/(Lb + Lref ；)

Lref = aLin 由上述可知，在增加暗室及亮室對比的過程中，降低 背景輻射均是不可或缺的要素。 — 因此，有部分作法便是將不透明黑色罩幕（BM)導入電 漿平面顯示器的前板中，使其覆蓋在電漿平面顯示器的不 發光區域上，藉以減低反射光強度並改善亮室對比β 請參考第3Α〜3G圖，此即將黑色罩幕（ΒΜ)導入電漿平 面顯示器的前板中，藉以改善暗室及亮室對比的一個例子 〇 在這個例子中’首先提供一個玻璃基板1〇，如第3Α圖 所示。然後，在玻璃基板1 〇表面的電極形成區域形成透明 電極12，如第3Β圖所示。透明電極12通常是由銦錫氧化物 (Indium Tin oxide)所構成。然後，在透明電極12表面形 成匯流排電極14(Bus electrode)，如第3C圖所示。匯流

0535-4730-TW修lfptc 笫5頁 469475 -塞寬 88114929_年月日_修正 五、發明說明（3)

排電極14通常是*Cr/Cu/Cr結構或Cr/A1/Cr結構所構成。 然後’在整個玻璃基板1 〇 (包括匯流排電極〗4)表面再沈積 一介電層16、並將介電層16予以平坦化，如第3d圖所示。 然後’在介電層16表面對應於電漿平面顯示器的不發光區 域定義黑色罩幕1 8，如第3E圖所示。黑色罩幕通常亦是由 黑色低融點玻璃物質所構成。然後，在介電層1 6表面對應 於電漿平面顯示器的顯示區域四周形成玻璃膠2〇，如第3F 圖所示。然後，在介電層16露出的表面再形成Mg〇層22， 如第3G圖所示。 請參考第4A“F圖’此即將黑色罩幕（BM)導入電漿平 面顯示器的前板中，藉以改善亮室對比的另一個例子。 在這個例子中，首先提供一玻璃基板3〇，如第4A圖所 示。然後，在玻璃基板30表面的電極形成區域形成透明電 極32，如第4B圖所示。透明電極32通常是由銦錫氧化物（ Indium Tin oxide)所構成。然後，同時在透明電極32表 面形成匯流排電極34(Bus electrode)，及在電漿平面顯 示器的不發光區域形成黑色罩幕36，如第4C圖所示。然 後，在整個玻璃基板3 0 (包括透明電極32、匯流排電極34 、黑色罩幕36)表面再形成一介電層38，並將介電層38予 以平坦化’如第4 D圖所示。然後’在介電層h表面對應於 電漿平面顯示器的顯示區域四周形成玻璃膠4〇，如第4E圖 所示。然後’在介電層38表面再形成層42 ,如第41?圖 所示。 請參考第5A~5H圊’此即將黑色罩幕（bjj)導入電漿平

3535-4730-ΊΙί 修 l.ptc 第6頁 469475 、 __案號88114929_年月日 修正__ 五、發明說明（4) 面顯示器的前板中，藉以改善亮室對比的再一個例子。 在這個例子中，首先提供一玻璃基板50，如第5A圖所 示。然後，在玻璃基板50表面的電極形成區域形成透明電 極52，如第5B圖所示。透明電極52通常是由銦錫氧化物 (Indium Tin oxide)所構成。然後，在透明電極52表面形 成匯流排電極5 4( Bus electrode)，如第5C圖所示。匯流 排電極54通常是由Cr/Cu/Cr結構或Cr/Al/Cr結構所構成。 然後，在整個玻璃基板50(包括匯流排電極54)表面再形成 一介電層56、並將介電層56予以平坦化，如第5D圖所示。 然後，在介電層56表面對應於電漿平面顯示器的不發光區 域再形成黑色罩幕58，如第5E圖所示。通常亦是由黑色低 融點玻璃物質所構成。然後，在介電層5 6 (包括黑色罩幕 58)表面再形成另一介電層60、並將介電層60予以平坦 化’如第5F圖所示。然後’在介電層6〇表面對應於電漿平 面顯示器的顯示區域四周形成玻璃膠62，如第5G圖所示。 然後，在介電層60表面再形成Mg〇層64，如第5Η圖所示。 在上述三個例子中，黑色罩幕（18、36、58)若是直接 由Cr/Cu/Cr結構或Cr/Al/Cr結構所構成，可能會有高達 60%的表面反射係數。有鑑於此，本發明的一個目的就是 提供一種高對比電漿平面顯示器結構及其製造方法，可降 低黑色罩幕的表面反射係數’進而降低反射光強度並改善 亮室對比。 本發明的另一個目的就是提供一種高對比電漿平面顯 不器結構及其製造方法，在匯流排電極下方亦形成有黑色

0535-4730-TWifl.ptc 第7頁 4 6 9 4 7 5 __案號88114929_年月日 修正 、’ 五、發明說明（5) 罩幕，相較於傳統結構’可增加黑色罩幕覆蓋面積，可進 一步降低電漿平面顯示器的反射光強度。 本發明的又一個目的就是提供一種高對比電漿平面顯 示器結構及其製造方法’可在不增加製程步驟及成本的前 提下，達到降低反射光強度及改善亮室對比的效果。 為達上述及其他目的，本發明乃提供一種高對比電漿 平面顯示器結構，其主要是由玻璃基板、黑色罩幕、透明 電極 '匯流排電極、介電層、MgO層所構成。黑色罩幕形 成在玻璃基板表面的電極形成區域及不發光區域。透明電 極形成在電極形成區域的黑色罩幕表面。匯流排電極形成 在透明電極的表面。介電層及保護層（如MgO)則依序沈積 在整個玻璃基板的上方。 本發明亦提供一種高對比電漿平面顯示器結構的製造 方法。根據這種製造方法，首先要提供一個玻璃基板、並 在玻璃基板的不發光區域及電極形成區域定義黑色罩幕。 然後’在玻璃基板的電極形成區域上形成透明電極，藉以 包覆電極形成區域表面的黑色罩幕。然後，在透明導電電 極表面形成匯流排電極，並在整個玻璃基板上依序沈積介 電層及Mg〇層。如此，得到的電漿平面顯示器便會在不發 光區域及電極形成區域下方同時覆蓋有黑色〜罩幕，相較於 傳統結構，可增加黑色罩幕覆蓋面積，進而降低反射光強 度及改善亮室對比。 在上述高對比電漿平面顯示器結構及其製造方法中， 黑色罩幕通常是由Cr/Cr2 03結構或Fe/Fe203結構或是黑色低

1 6 9 4 7 5 五 '發明說明（6) 融點破螭物質所構成。透明電極通常是由銦錫氧化物或氧 化錫所構成。匯流排電極通常是*Cr/Cu/Cr結構、Cr/A1 /Cr結構或Ag結構所構成。介電層則通常是由氧化物鉛或 乳化s夕等物質所構成。 為讓本發明之上述和其他目的、特徵、和優點能更明 顯易懂’下文特舉一較佳實施例，並配合所附圖式，作詳 細說明如下： 圖式說明 第1A圖是習知電漿平面顯示器的三電極結構圖； 第1B圖是第1A圖電漿平面顯示器的表面放電狀態圖； 第2圖是說明電漿平面顯示器之對比的示意圖； 第3A〜3G圖是一種將黑色罩幕導入電漿平面顯示器的 前板以改善亮室對比的製造流程圖； 第4A-4F圖是另一種將黑色罩幕導入電漿平面顯示器 的前板以改善亮室對比的製造流程圖； 第5A〜5H圖是再一種將黑色罩幕導入電漿平面顯示器 的前板以改善亮室對比-的製造流程圖；以及 第6 A~6F圖是本發明電漿平爭顯示器結構的製造流程 圖。 '' 第6D’ ~6F’圖是本發明電漿平面顯示器結構的第二實 施例製造流程圖。 第6p’ ’〜6F’ ’圖是本發明電漿平面顯示器結構的第三 實施例製造流程圖。 實施例

469475 案號 88114929 年月日 修正__ 五、發明說明（7) 由於黑色罩幕的表面反射係數會直接影響到亮室對比 (Light-room contrast)的好壞。相較於直接以cr/Cu/Cr 結構或Cr/A 1/Cr結構所構成的傳統黑色罩幕，本發明利用 Cr/Cr203結構或Fe/Fe203結構所構成的黑色罩幕，其表面反 射係率可以維持在2 0 %以下。 第6 A〜6F圖即是本發明電漿平面顯示器結構第一實施 例的製造流程圖。 首先’如第6A圖所示’提供一玻璃基板70，並在玻璃 基板7 0的表面形成的黑色罩幕層7 2。在這個實施例中，黑 色罩幕層72可以在玻璃基板70表面依次錢鍵（Sputter) 1K〜2K埃的Cr/Cr2 03結構或Fe/Fe203結構。 接著，如第6B圖所示’在的黑色罩幕層72表面定義一 層光阻74，並藉由半導體製程之光罩（Mask)對預定形成遮 光罩幕73之區域A及預定形成黑色罩幕75之區域B進行曝 光’藉以硬化相對應於A、B區域的光阻層7 4，然後再利用 顯影步驟去除A、B區域以外的光阻。接著，如第μ圖所 不’利用光阻層74為罩幕及Cr-7為蝕刻反應液體（Etchant )’钱刻未被殘餘光阻74保護之罩幕層72，使玻璃基板70 表面的罩幕層72同時只剩下區域A之遮光罩幕73及區域B之 黑色罩幕75 ’且該遮光罩幕73具有遮光罩幕讀面77。此處 所揭露者為最佳實施例，因此遮光罩幕γ 3與黑色罩幕γ 5係 同時形成。事實上’本步驟亦可先只形成遮光罩幕73 ;而 補後再以額外之光罩與微影步驟來加以定義形成累色罩幕 75。 …

0535~473MW 修 i.ptc 第10頁 2001.03.19.010 4 6 9 47 S 88114929_年月 曰 4务,τ__ 五、發明說明（8) 接著，如第6D圖所示’在電漿平面顯示器表面電極形 成區域Α上的遮光罩幕層73表面形成一層透明電極76，該 透明電極7 6具有一側向延伸區7 9，該側向延伸區7 9係覆蓋 於該遮光罩幕頂面7 7上。在這個實施例中，透明電極7 6可 以先在定義圖案後的黑色罩幕75及遮光罩幕73上濺鍍一層 厚約1 5 0 0埃的銦錫氧化物（IT 0 )，·然後再利用微影步驟（曝 光、顯影、蝕刻）定義這層銦錫氧化物（可使用FeCl3+HCl 為蝕刻反應液體進行蝕刻以得到），進而去除黑色罩幕7 5 表面的銦錫氧化物。 接著，如第6 E圖所示，在該透明電極側向延伸區7 9 上，形成匯流排電極（Bus electrode)78，如此使該匯流 排電極底面81 到該遮光罩幕73遮蔽而減少反光。在這個 實施例中’匯流排電極78可以依次在透明電極76對應於遮 光罩幕73的上方濺渡厚約1K〜2K埃的Cr層78a、厚約2〜3 的Cu(Al)層78b、厚約1K〜2K埃的Cr層78c ;然後再以微影 步驟蝕刻定義這三層金屬78a〜78c，藉以在透明電極76表 面形成所要的匯流排電極7 8。 接著’如第6F圖所示，在黑色罩幕75、透明導電電極 74 '遮光罩幕73、電極78上覆蓋一層厚約30 μιπ的介電層 80(如氧化鉛及氧化矽）’並在介電層8〇表面沈積一層厚約 5000〜10000埃的保護層82(如氧化鎂層），藉以完成整個電 漿顯示器結構。 本發明電漿平面顯示器結構第二實施例的製造流程 圖，其製程前三步驟係相同於第一實施例第6Α〜6C圖，但

0535-4730-ΤΪ修l.pt 第11頁 4 6 9 4·7 5衮號881ί邱29__牟月 日修正 ^ 五、發明說明（9) 第6D~6F圖修正為第6D’〜6F，圖。 如第6D’圖所示，在玻璃基板70表面上的遮光罩幕73 具有遮光罩幕側壁85與遮光罩幕頂面87。此時，在該玻璃 基板70上形成一透明電極76，該透明電極76具有透明電極 側壁91，該透明電極侧壁91係與該遮光罩幕侧壁85相鄰接 ，且該透明電極側壁9 1之高度大於該遮光罩幕側壁8 5之高 度，如此使該透明電極側壁具有外露部份9 3 ;本步驟透明 電極76之製程與條件與第一實施例6D相似。 接著，如第6E’圖所示，在該遮光罩幕頂面87形成一 匯流排電極78，且該匯流排電極78係與該透明電極側壁外 露部分93相導通，如此使該匯流排電極底面81受到該遮光 覃幕7 3遮蔽而減少反光；本步驟匯流排電極7 8之製程與條 件與第一實施例6E相似。 接著’如第6F’圖所示*在透明導電電極76、遮光罩 幕73、黑色罩幕75、匯流排電極78上覆蓋介電層80，並在 介電層80表面沈積保護層82 ;本步驟之製程與條件與第一 實施例6 F相似。 本發明電漿平.面顯示器結構第三實施例的製造流程圖 ’其製程前三步驟係相同於第一實施例第6A~6C圖，但第 6D〜6F圖修正為第6D’’〜6F’ ’圖。 一 如第6D’，圖所示，在玻璃基板70表面上的遮光罩幕73 具有遮光罩幕侧壁85與遮光罩幕頂面87。此時，在該玻璃 基板70上形成一透明電極76，該透明電極7 6具有透明電極 側壁91與透明電極頂面95，該透明電極側壁91係與該遮光

0535-4730-W 修 1.9; 第12頁 469475 __案號88丄〗4929__年月日 铬疋__ 五、發明說明（10) 罩幕側壁85相鄰接；本步驟透明電極76之製程與條件與第 一實施例6 D相似。 接著’如第6E’’圖所示，在該遮光罩幕頂面87及透明 電極頂面9 5之一部份形成一匯流排電極7 8，且該匯流排電 極78係與該透明電極頂面95之一部份相導通，如此使該匯 流排電極底面81大部分受到該遮光罩幕73遮蔽.而減少反光 ;本步驟匯流排電極78之製程與條件與第一實施例6E相似 〇 接著’如第6F’ ’圖所示，在透明導電電極74、遮光罩 幕73、黑色罩幕75、匯流排電極78上覆蓋介電層80，並在 介電層80表面沈積保護層82 ;本步驟之製程與條件與第一 實施例6 F相似。 綜上所述’本發明係提供一種高對比電漿平面顯示器 結構及其製造方法，其可降低黑色罩幕的表面反射係數， 進而降低反射光強度並改善亮室對比。 另外’本發明係提供一種高對比電漿平面顯示器結構 及其製造方法5其同時在不發光區域及匯流排電極下方形 成有黑色罩幕’相較於傳統結構，可增加黑色罩幕覆蓋面 積’可進一步降低電漿平面顯示器的反射光強度。 再者，本發明係提供一種高對比電漿平面顯示器結構 及其製造方法，其可以在不增加製程步驟及成本的前提下 ’達到降低反射光強度及改善亮室對比的效果。 雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上’然其並非兩 以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精

0535-4730-TW修i.ptc

修 1 .PU 第14頁

Claims (1)

1. 469475 ___88114929_± g _ 日 修正___ " 六、申請專利範圍 1. 一種電漿平面顯示器結構的製造方法，其步驟包 括： (a) 提供一玻璃基板； (b) 在該玻璃基板上形成一遮光罩幕，該遮光罩幕具 有'一遮光罩幕頂面， (c) 在該玻璃基板上緊鄰該遮光罩幕處形成一透明電 極，該透明電極具有一側向延伸區，該側向延伸區係覆苗 於該遮光罩幕頂面上； 1 (d )在該透明電極側向延伸區上，形成一匯流排電 極，如此使該匯流排電極底面受到該遮光罩幕遮蔽而減少 反光。 2. 如申請專利範圍第1項所述電漿平面顯示器結構的 製造方法’其中在步驟（b)中’同時在該玻璃基板上形成 一黑色罩幕，該黑色罩幕可用以隔離該玻璃基板上不同 影像像素。 3. 如申請專利範圍第1項所述電漿平面顯示器結構的 製造方法，其中在步驟（d)之後，更包括步驟（6)形成一介 電層以覆蓋在該玻璃基板，該遮光罩幕，該透明電極， 匯流排電極之上。 ,4，如申清專利範圍第3項所述電漿平面顯示器結構的 製，方法，其中在步驟（e)之後，更包括步驟（丨）在該介雷 層表面形成一保護層。 一 .5.種電漿平面顯示器結構的製造方法’其步驟包

   案號 88114929 i6947g

   六、申請專利範圍 (e)提供一玻璃基板； (Ο在該玻璃基板上形成— 有一遮光罩幕側壁與一遮光光罩幕，該遮光罩幕具 / 、 &尤草幕頂面； (g)在該玻璃基板上形忐_ 有-透明電極侧壁，該透明曾1透明電極，該透明電極具 相鄰接，且該透明電極側壁之^侧壁係與該遮光罩幕側壁 高度，如此使該透明電極ί # f大於該遮光罩幕侧壁之 ⑴在該遮光罩幕頂面V成有「一 Λ露部份； 排電極係與該透明電極側壁邻4目導電甬極，△該匯流 流排電極底面受到該遮光單相導通，如此使該匯 6.如申請專利範圍=5項幕二蔽而減少反光。 製造方法，其中在步驟(b)中，同:：：J ::結構的 一黑色罩幕，該黑色罩幕可以* · 5Λ據）板上形成 影像像素。 用以隔離該玻璃基板上不同的 截Λΐ申t專利範圍第5項所述電装平面顯示器結構的 中在步驟(d)之後，更包括步驟(e)形成-介 在該玻璃基板’肖遮光罩幕，該透明電極，該 匯k排電極之上α 如申請專利範圍第？項所述電漿平面鳄示器結構的 孩’方法’其中在步驟（e)之後’更包括步驟U)在該介電 層表面形成一保護層。 .9.種電漿平面顯示器結構的製造方法，其步驟包 括： (a)提供一玻璃基板；

   0535-4130-·^修 1. 第16 I 469475 _—案號 88114929 —— 羊月日 修正 六、申請專利範圍 (b) 在該玻璃基板上形成一遮光罩幕，該遮光罩幕具 有一遮光罩幕側壁與一遮光罩幕頂面； (c) 在該玻璃基板上形成一透明電極，該透明電極具 有一透明電極側壁與一透明電極頂面，該透明電極側壁係 與該遮光罩幕側壁相鄰接； (d) 在該遮光罩幕頂面與該透明電極頂面之—部份形 成一匯流排電極’且該匯流排電極係與該透明電極頂面之 一部分相導通’如此使該匯流排電極底面受到該遮光罩幕 遮蔽而減少反光。 1 0.如申請專利範圍第9項所述電漿平面顯示器結構的 製造方法，其中在步驟（b)中，同時在該玻璃基板上形成 一黑色罩幕，該黑色罩幕可用以隔離該玻璃基板上不同的 影像像素》 11. 如申請專利範圍第9項所述電漿平面顯示器結構的 製造方法，其中在步驟（d)之後，更包括步驟（e)形成一介 電層以覆蓋在該玻璃基板、該遮光罩幕、該透明電極、該 匯流排電極之上。 12, 如申請專利範圍第11項所述電漿平面顯示器結構 的製造方法，其中在步縣（e)之後’更包括步轉（f)在該介 電層表面形成一保護層。 13· —種電漿顯示器結構’該電係漿顯示、器結構包括 一玻璃基板，一透明電極，與—匯流排電極，該透明電極 形成在該玻璃基板上，且該匯流排電極與該透明電極導 通，其特徵在於該匯流排電極及該玻璃基板之間形成有一

   0535-4730-11^^114 第17頁 4 6 9 47 5 _索號88 Η 4929__年月 日 修£_____^- 六、申請專利範圍 遮光罩幕，如此使該匯流排電極底面受到該遮光罩幕遮蔽 而減少反光。 14.如申請專利範圍第13項所述的電漿平面顯示器錄 構，其中，該遮光罩幕具有一遮光罩幕頂面，該透明電極 具有一側向延#區，該側向延伸區係覆蓋於該遮光罩幕谓 面上，該匯流排電極係位在該透明電極側向延伸區上。 1 5·如申請專利範圍第1 3項所述的電漿平面顯示器結 構，其中，該遮光罩幕具有一遮光罩幕側壁與一遮光罩幕 頂面，該透明電極具有一透明電極侧壁，該透明電極侧壁 係與該遮光罩幕側壁相鄰接，且該透明電極側壁之高度大 於該遮光罩幕侧壁之高度，該匯流排電極形成在該遮光罩 幕頂面上，如此使該透明電極侧壁具有一外露部份，而該 匯流排電極係與該透明電極侧壁外露部分相導通。 1 6·如申請專利範圍第丨3項所述的電漿平面顯示器結 構’其中’該遮光罩幕具有一遮光罩幕側壁與一遮光罩幕 頂面’該透明電極具有一透明電極側壁與一透明電極頂 面，該透明電極侧壁係與該遮光罩幕側壁相鄰接，而該匯 流排電極形成在該遮光罩幕頂面與該透明電極頂面之一部 份上’該匯流排電極係與該透明電極頂面之一部分相導 通。 1 7 ·如申請專利範圍第1 3項所述的電漿平面顯示器結 構，其中，該等遮光罩幕是Cr/Cr2〇3結構。 1 8 ·如申請專利範圍第1 3項所述的電漿平面顯示器結 構，其中’該等遮光罩幕是Fe/Fe2〇3結構。

   0535-4730-TW修l_ptc 第18頁 4 69 47 5 _案號88114929_年月日__ 六、申請專利範圍 1 9.如申請專利範圍第1 3項所述的電漿平面顯示器結 構，其中，該等遮光罩幕是由黑色低融點玻璃物質所構成 20.如申請專利範圍第1 3項所述電漿平面顯示器結 構，其中，該等匯流排電極是Ag結構。 2 i.如申請專利範圍第1 3項所述電漿平面顯示器結 構，其中更包括一覆蓋在該玻璃基板、該遮光罩幕、該透 明電極、該匯流排電極上之介電層。 2 2.如申請專利範圍第2 1項所述的電漿平面顯示器結 構，其中，該介電層是由氧化鉛及氧化矽等物質所構成。 23. 如申請專利範圍第21項所述的電漿平面顯示器結 構，其中更包括一保護層形成在該介電層表面。 24. 如申請專利範圍第23項所述的電漿平面顯示器結 構，其中該保護層係為MgO。

   0535-4730-TW 修 l.pu 第19頁