TW424166B - The manufacturing equipment of apodized gratings - Google Patents

Description

4 24166 ^ 五、發明說明（1) 本發明係有關於一種切趾光柵的製造設備。 切趾光柵（Apod i zed Gratings >在通訊應用上扮演極 重要的角色（如高密度波長_多工、«'等），因其能有 效抑制光栅之反射光譜中的旁波瓣（S i de 1 obe )產生。j . Mar t i η等人提出一種製造切趾光柵的方法（請參閱 ELECTRONICS LETTERS, 12th May 1 994, V〇1.30, No. 10, PP_ 811-812)，如第1圖所示’將光纖11及相位光罩12以可 移動方式安裝在一平移基台13上’其中光纖11被擺在相位 光罩1 2的後面，然後令紫外線1 4經相位光罩1 2而將光柵寫 在光纖11上。此法的缺點是當基台13平移時，如果光纖η 無法確實平行於紫外線1 4，則光纖上的平均折射率將產生 變化’結果所得到的光柵往往會產生濟啾f號r Ch丨r p。 為解決此一問題’ W. H. Loh等人乃提出一種光纖/掃描 光線同時移動的方法（請參閱OPTICS LETTERS，October· 15’ 1 995’ Vol.20， No.20， ρρ·20 5 卜 2053)，如第 2 圖所 示’將光纖21安裝在一由電腦控制的基台23上，此基台23 可相對於相位光罩22緩慢移動，令紫外線24經一移動鏡子 2 5的反射而通過相位光罩2 2然後將光柵寫在光纖2 1上。利 用紫外線移動的方式’可以使紫外線對於光柵在長度方向 上的影響幾乎完全相同，藉以避免光纖的平均折射率產生 變化。然而，此法須同時控制基台2 3及鏡子2 5的移動，系 統過於複雜。 本發明之目的係為了解決以上問題而提供一種切趾光 柵製造設備’其包括一狹縫產生器、一相位光罩、以及一

五、發明說明（2) 光線產生器。其中相位光罩及光線產生器皆靜止不動，狹 縫產生器係用於產生一寬度可變化的狹缝，光線產生器則 用於產生一光線、經過上述狹縫及相位光罩、然後聚焦在

I I靜止不動的光纖上，使光纖多次曝光而得所需的切趾光 j I柵。 J 因為本發明的紫外線產生器以及光纖皆沒有移動，所 以控制上較習用技術更為簡單，而且因為紫外線產生器相 對於光纖沒有移動，所以也不會有啁啾訊號產生的問題。 為使本發明之上述目的、特徵、和優點能更明顯易 懂，下文特舉較佳實施例並配合所附圖式做詳細說明。 圖式之簡單說明： 第1圖係習用第一種切趾光柵製造設備的示意圖； 第2圖係習用第二種切趾光柵製造設備的示意圖； 第3圖係本發明之切趾光柵製造設備的示意圖； 第4 A圖顯示本發明第一例之光纖的曝光時間； 第4B圖顯示本發明第二例之光纖的曝光時間。 標號說明： 11光纖 12相位光罩 13基台 14紫外線 21光纖 2 2相位光罩 23 基台 24 紫外線 2 5鏡子 31光纖 3 2相位光罩 3 3 狹縫 34 紫外線 35狹縫產生器

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丨修正 丨和Γ TZ

日 案號881〇m% 妙年 > 月/ρ曰 五、發明說明（3) 3 6紫外線產生器 37聚焦鏡 茲配合圖式說明本發明之較佳實施例。 請參閱第3圖’本發明之切趾光柵製造設備包括有一 相位光罩32、一狹縫產生器35、—聚焦鏡37以及紫外線產 生器36。其中狹縫產生器35所產生狹縫33的寬度W為可調 整的。在製造時，紫外線產生器36發出紫外線34、經過狹 縫33及相位光罩32 '然後聚焦在光纖31上，亦即將光栅寫 在光纖3 1上。在本發明中’紫外線產生器3 6、聚焦鏡3 7相 位光罩32及光纖31保持靜止不動’而只有狹缝33的寬度w 改變。改變的方式有以下二種： (1)請參閱第4 A圖，假設操作的起始時間τ = t。，首先 令紫外線34經狹縫寬度W]照射在光纖3丨上，照射的時間為 t。s τ s t, ’換言之光纖曝光時間△ t = 1。。然後狹縫寬度 由％改變為W2，紫外線34經狹縫寬度W2照射在光纖31上的 間為t! S T S t：2 ’其中曝光時間仍為△ t。然後狹縫寬度 由改變為Ws ’紫外線34經狹縫寬度W3照射在光纖31上的 時間為％ S T S t3 ’其中曝光時間仍為△ 依此類推，最 後狹縫覓度由Wn—i改變為Wn，而紫外線34經狹縫宽度w B3射 在光_上的時間為tn』，tn，其中曝光時間寬仍又為二^ 在此例中’每次曝光時間相同（為△〇,而狹縫寬度不同 (2 )請參閱第4B圖，假設操作的起始時間T = t。，首先 令紫外線34經狹縫寬度W照射在光纖31上的時間^t。^ t〖，其中曝光時間為△ tiOh-t。）。然後令狹縫寬度由w改

第6頁 2000. 02. 10. 006 五、發明說明（4)

變為W+ Δ W ’紫外線34經狹縫寬度W+ △ W照射在光纖31上的 時間為S T ^ t2 ’其中曝光時間為△ t2且△ t2 # △ t,。然 後令狹縫寬度由W+ AW改變為W + 2 AW，紫外線34經狹缝寬 度W + 2 AW照射在光纖31上的時間為t2 ST St3，其中曝光時 間為△ t3且△ t3关A t2。依此類推，最後狹縫寬度由 W+(n-l) 改變為W + n AW，而紫外線34經狹縫寬度w + n AW 照射在光纖3 1上的時間為S T S tn ’其中曝光時間為△ tn且Δ tn乒△。在此例中’每次狹縫寬度的變化均相同 (為△ W )，但每次曝光的時間不同（△ t!竽A t?关…关△ t , ^ uπ~1 ..^ 本發明藉改_i一暗.間^以及狹縫寬H，即可在光纖上 產生 >色反數-學--函伽的切趾先麵。另外，因為紫外線產 生器以及光纖皆沒有移動’所以控制上較習用技術更為簡 單’而且因為紫外線彥生器相對於光纖沒有移動，所以也 不會有啁啾訊號產生的問題° 雖然本發明已以較值g施例揭露如上，然其並非用以 限定本發明，任何熟習此項技藝者，在不脫離本發明之精 神和範圍内，仍可作座許的更動與潤飾’因此本發明之保 護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (1)

1. 4 2 4 1 6 6 J ^ 六、申請專利範圍 1. 一種切趾光柵製造設備，用於在靜止不動的光纖上 產生切趾光柵，包括： 一狹缝產生器，用於產生一寬度可變化的狹縫； 一靜止不動的相位光罩； 一靜止不動的光線產生器，用於產生一光線、經過該 狹縫及相位光罩、然後聚焦在該光纖上，使該光纖曝光複 數次。 2. 如申請專利範圍第1項所述之切趾光柵製造設備， 其中，該光線產生器為一紫外線產生器。 3. 如申請專利範圍第1項所述之切趾光柵製造設備， 其中，該光纖每次曝光的時間相同，而每次曝光的狹縫寬 度皆不同。 4. 如申請專利範圍第1項所述之切趾光栅製造設備， 其中，該光纖每次曝光的狹縫寬度的變化皆相同，而每次 曝光的時間皆不同。

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