TW209192B - Method and apparatus for the exposing of light-sensitive material to be exposed - Google Patents

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C 091^2 A6 〜 B6 經濟部中央標準局8工消費合作社印？，«. 五、發明説明（1 ) 1 ·本發明之領姨^ 本發明有關在一密閉於光之盒內由照相敏感的曝光材 質曝光的方法和裝e ° 2.包栝翌知抟藝之本發明之背景之簡述 此一盒需至少有一入口及/或出口孔隙，使待曝光之 條形材質可經同一孔隙被插入及再取出，如東德專利文件 DD—0 — 1 5 4 — 8 5 2中敎導者，或是根據歐洲專利 EP— 0，126，469B1，經由在光密閉盒之一側 內之滾筒對形成的一入口，及用來使條形材質曝光的一圓 简件形狀裝置之另一側上類似形成之一出口。 原.則上，待曝光之長形或條形材質被以距中央軸或一 中線準確地均勻距離置於圓弧形平面上。操作此方式之已 知方法爲一鐳射產生一鐳射光束，其中鐳射光束被一鍤射 調制器偏入一準直儀內。當離開準IS儀時，鐳射光束被導 向一轉動鏡，而鏡子是與中央軸呈一角度設置，鍤射光束 由此而以點狀的訊號形態提供時曝光材質上之曝光光點。 原理上，此方法可行，因一圖盡或原文之髙析像可在 一相當短的時間內被置於待曝光材質上。已知的設備適於 根據裝置技術以處理待曝光材質爲軌形，使條之插入緊接 著已曝光之條，而能以高度的自動操作達成。但此方法之 內容有缺點，其待轉移之曝光點會增加，而當爲需記憶一 貯存-增强像或織物材質時之照亮或曝光需要一般時間， 這可能遭受照亮及曝光設備之使用者的批評。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -丨裝· 訂. 、線. 冬紙張尺度通用中國國家標準（CNS)甲4规格（2H) X 297公货） A6 B6 209192 五、發明説明（2 ) 本發明之概沭 _1〜本發明之冃篇 本發明之一目標爲提供訊號之較快轉移以達到一像之 增進解析，即當在高像素數目時能獲得高的記錄速度。 本發明之另一目檩爲增加曝光之數目而不薔增加裝置 〇 本發明之另一目檩爲提供待曝光的材質一曝光裝置可 提供增快的處理速度。 本發明之這些及其他優點由下面的敘述將很明顯。 2 ·本發明之簡沭 根據本發明，提供一照相敏感的曝光材質曝光的方法 。照相敏感的曝光材質被置入一內園弧形圓筒中且密閉於 外光源之光進入。曝光材質設於圓弧形圓筒中且與弧形圓 筒之中央縱軸有均匀的距離。鐳射光束是由一鐳射產生器 產生的。鐳射光束是在一鐳射調制器內作調制。調制後之 鐳射光束被偏入一準直儀內。準直之鐳射光束與中央縱軸 平行排列，被導至一有兩鏡面之可旋轉鏡上。兩鏡面與中 央縱軸呈一角度設置。偏至一鏡面上之鐳射光束以一光學 系統聚焦。聚焦後之鐳射光束被導至一聚焦表面上，而被 反射且聚焦後鐳射光束之焦距點則旋轉的轉動在曝光材質 之表面上。曝光材質是以來自可旋轉鏡及光學系統之鐳射 光束，經由訊號而提供點形之曝光點在曝光材質上的。 由準直儀而來之平行排列光束，可被導至兩鏡面之一 (請先閲讀背面之注意事項再項寫本頁) 丨裝‘ 訂- 經濟部中央標準局員工消費合作社印髮 本紙張&度通用中國國家標準（CNS)甲4規格（21U X 297公笼） 經濟部中央標準局員工消f·合作社印3衣 A6 __B6____ 五、發明説明（3 ) 上。兩鏡面可與中央軸呈4 5度之角度設®。其中一鏡面 可與另一鏡面呈9 0度之關係。 由兩鏡面之第一鏡面而來之第一曝光光束，可沿一第 一部份園周涵蓋1 8 0度之角度使弧段形曝光材質曝光。 由第二鏡面而來之第二曝光光束，可沿一第二園周涵蓋 1 8 0度之角度使弧區間形曝光材質曝光。故在第一部份 圓周上弧區間形曝光材質可以與在第一部份圓周上弧區間 形曝光材質作固定間距之交錯曝光。 或者與中央縱軸排列平行之準直鐳射光束可導至一轉 動光束散射，偏向及聚焦結構以使一第一散射，反射及聚 焦之鍤射光束導至一聚焦平面上。第一散射，反射及聚焦 之鐳射先束之焦點旋轉的轉動在曝光材質之表面上，且被 用來導引第一散射，反射及聚焦之鐳射光束至聚焦表面上 。第二散射，反射及聚焦之鐳射光束之焦點轉動在曝光材 質之表面上。具有點形曝光點之訊號的曝光材質是以第一 散射，反射及聚焦之鐳射光束及第二散射，反射及聚焦之 鍾射光束曝光的。 轉動光束散射，偏同及聚焦結構可由兩可轉動鏡面提 供。各鏡面可與中央縱軸呈一角度設置。準直之鐳射光束 可被反射爲一第一反射鐳射光束及一第二反射鐳射光束。 第一反射鍤射光束可由一第一光學系統聚焦。第二反射鍤 射光束可由一第二光學系統聚焦。 轉動光束之散射，偏向及聚焦結構可由一具有拋物線 表面之第一可轉動鏡及一具有拋物線表面之第二可轉動鏡 (請先閱讀背面之注意事項再埙寫本頁) •丨裝. 訂. 本紙張尺度通用中國國家標準（CNS)甲4规格（21U X 297公辁） A6 2091^^ 五、發明説明（4 ) 提供。第一鏡面可設成使準直之鐳射光束之第一部份被反 射爲第一反射鍤射光束。第二拋物線鏡面可設成使準直之 鍤射光束之第二部份被反射爲第二反射鍤射光束。第一反 射鍤射光束可根據在曝光材質上之拋物線表面而聚焦。第 二反射鐳射光束可根據曝光材質上之拋物線表面而聚焦。 可轉動光束之散射，偏向及聚焦結構可由一可轉動半 滲透鏡提供。半滲透鏡之一面可設成與中央縱軸呈一角度 。準直之鐳射光束可由半滲透鏡反射爲第一反射鐳射光束 。通過半滲透鏡之鐳射光束可由一平面鏡反射回半滲透鏡 。半滲透鏡可反射此回反射之鐳射光束大部份至相反於第 一反射鐳射光束之方向而形成一第二反射鍤射光束。第一 反射鍤射光束可由一第一光學系統聚焦。第二反射鐳射光 束可由一第二光學系統聚焦。 本發明之方法是以一光組合裝置實施的。一盒具有一 內空間設定一園简之環形弧及圓筒之中央縱軸，使一照相 敏感之曝光材質可定位於一待以鐳射光束曝光之該內空間 中。該盒可密封於外界光。一滑動器可在中央縱軸之方向 滑動。一鐳射產生器由圓筒支撑。鐳射產生器之光軸與中 央縱軸重叠。一鍤射調制器設在由鐳射產生器所產生之鐳 射光束之路徑中，以調制所產生之鍤射光束。一準直儀被 設在調制後鐳射光束之路徑中，以準直鐳射光束爲一平行 光束。一有兩鏡面之可轉動鏡被設在準直後鍤射光束之路 徑中，以形成第一反射鐳射光束及第二反射鍤射光束。一 第一聚焦光學系統與第一反射鐳射光束之反射方向平行排 本纸張又度適用中國國家標準（CNS)甲4规格（210 X 297公釐） _ 6 · (請先閱讀背面之注意事項再塡寫本頁) —裝· 訂- 線 經濟部中央標準局員工消费合作钍印製 209^^ 209^^ 經濟部中央標準局員工消费合作社印紫 A6 B6 五、發明説明（5 ) 列，被設在與中央縱軸之一預定照射距離而可在曝光材質 之表面調整一聚焦點，以形成一第一照射曝光光束，可以 點形訊號被導引且聚焦在曝光材質上，以在曝光材質上產 生曝光點。一第一聚焦光學系統與第二反射鐳射光束之反 射光方向平行排列，被設在與中央縱軸之一預定照射距離 而可在曝光材質之表面調整一聚焦點，以形成一第二照射 曝光光束，可以點形訊號被導引且聚焦在曝光材質上，以 在曝光材質上產生曝光點。 兩鏡面都可與中央縱軸形成4 5度之角度。兩鏡面是 以1 8 0度之角度交錯在周園。 可轉動鏡有兩鏡面，可由一支撑連接。此支撑可形成 外環以容納在兩光方向之第一聚焦光學系統及第二聚焦光 學系統。第二聚焦光學系統及第二聚焦光學系統可被設在 與中央縱軸相等的距離處。 較好的支撑外環及第一聚焦光學系統與第二聚焦光學 系統可互相滑動及調整，以不在平行於中央縱軸之方向中 之測微計中閃動。 或者一轉動光束散射，反射及聚焦工具被提供，以形 成一第一照射曝光光束以點形訊號的形態被導引且聚焦在 曝光材質上，以在曝光材質上產生曝光點，並形成一第二 照射曝光光束以點形訊號的形態被導引且聚焦在曝光材質 上，以在曝光材寅上產生曝光點。 轉動光束散射，反射及聚焦工具可由設在準直後鍤射 光束之路徑中之_具有兩鏡面之可轉動鏡提供，以形成一 本纸張尺度通用中國國家標準（CNS>甲4规格（210 X 297公坌） (請先閲尊面之注意事項再場寫本頁) —裝· 訂. 2091S2 A6 B6 經濟部中央標準局員工消费合作社印5衣 五、發明説明（6 ) 第—反射鐳射光束及一第二反射鐳射光束。一第一聚焦光 學系統與第一反射鐳射光束之一反射方向平行排列，可被 設:在與中央縱軸之一預定照射距離處而可在曝光材質之表 面調整一聚焦點。一第二聚焦光學系統與第二反射鍤射光 束之反射方向平行排列，可被設在與中央縱軸之一預定照 射距離處而可在曝光材質之表面調整一聚焦點。 或者轉動光束散射，反射及聚焦工具可由一可轉動鏠 提供，其具有兩鏡面均爲拋物線表面且設在準直後鐳射光 束之路徑中，以形成一第一反射及聚焦鐳射光束以及一第 二反射及聚焦鍤射光束，並可個別調整兩鏡面以在曝光材 質之表面上之聚焦點。 甚至，轉動光束散射，反射及聚焦工具可由設在準直 後鍤射光束之路徑中之一可轉動半滲透鏡提供，以形一第 一反射鐳射光束及形成一傅導錆射光束。一平面鏡可反射 由可轉動半滲透鏡反射出之傳導鍤射光束，而在其相反的 方向形成一第二反射鐳射光束。一第一聚焦光學系統與第 一反射鐳射光束之反射方向平行排列，可被設在與中央縱 軸之一預定照射距離處而可在曝光材質之表面調整至一聚 焦點。一第二聚焦光學系統與第二反射鐳射系統之反射方 向平行排列，可被設在與中央縱軸一預定照射距離處而可 在曝光材質之表面調整至一聚焦點。 根據本發明獲得的儍點，包括特別達成光束數目之加 倍及曝光點之移動，可減半曝光時間或在同時間內以兩倍 的解析處理照片，照像或文字材質。 (請先閏讀背面之注意事項再塡寫本頁) —装. 訂- 線. 本紙張尺度迺用中國國家標準（CNS>甲4規格（210 X 297公釐〉 2031^2 A6 B6 烴濟部中央標準局員工消费合作社印¾ 五、發明説明（7 ) 導引準直儀之平行光束至鏡面上可得到特別高的移轉 準確性，鏡面是與中央縱軸呈4 5度之角度設置而進入光 束與射出光束互相形成9 0度之角度。 用來作第一鏡面曝光之第一照射光束被射在一弧區間 形曝光材質之部份周圍上約1 8 0度，而用來作第二鏡面 曝光之第二照射光束也被射在弧面間形曝光材質之部份周 圍上，移轉了 1 8 0度，用來曝光之第二照射光束使曝光 材質在以第一照射光束曝光之位置的一固定軌跡距離作交 錯曝光。如此達到好優點爲可使一弧形曝光材質作一完全 的兩次1 8 0度照明及曝光，而入口寬度或出口宽度經常 必須由曝光筒之3 6 0度作減除，使以前的3 6 0度圃周 不能爲180度的兩倍。 - 本發明裝置爲一照射組成裝置，一照相敏感的曝光材 質可在照相組成之弧形光密封內空間內以一鐳射光束照明 。此裝置包括一滑動器其可逐步或連績地在中央縱軸之方 向中被滑動，而可支撑一鍤射。鐳射之光學軸與中央縱軸 重S。產生的鐳射光束在一鐳射調制器中被調制，經由一 準直儀而被偏向使光束延伸，以一對應光束分佈在一可轉 動鏡上。一光線聚焦投射曝光光束被導引至曝光材質上， 以點形訊號由鏡發出作爲曝光點而產生激發的像素。 此設施被更發展爲使一至少有兩鏡面之可轉動鏡被設 在準直儀後之光束之路徑中。一聚焦光學系統被提供在各 鏡面之反射軸上而被設在中央縱軸之光線距離處。準直儀 之聚焦點可各調整在曝光材質之表面上。故可產生連續的 (請先聞讀背面之注意事項再項寫本頁> 丨裝· 訂. 線. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4规格（2ΐυ X 297公璉） 2031^)2 A6 B6 經濟部中央標準局S工消費合作社印製 五、發明説明（8 ) 光線。光線可在曝光材質之1 8 0度弧上曝光，或在曝光 材質之3 6 0度弧上，即筒之內部。但也可在小於1 8 0 度之較小弧區間曝光。 此兩照明及曝光光束之配合特別可因可轉動鏡之兩鏡 面與中央縱軸各呈4 5度之角度而獲得加强。兩鏡面是以 1 8 0度之角度交錯在周園。 調節兩曝光光束之其他優點可由提供具有數鏡面之可 轉動鏡及連接至一支撑而得到。支撑形成外環以容納聚焦 光學系統。聚焦光學系統互相間有相同的照射距離。 本發明之一特別優點爲具有支撑之外環，故聚焦光學 系統可建成可滑動或可調整，而不會在互相於軸方向在中 央縱軸之平行方向之測微計區域中測量時閃動。故在曝光 材質上作爲一軌跡之兩照明光線之距離只能靠支撑鐳射光 束產生器之滑動器之前進。 作爲特徵的本發明之新奇特性述於附錄之申請專利範 圍內。但本發明及其結構與其操作方法，連同其他目標及 優點，在下面特殊實施例之敘述連同附圖後將可更了解。 圖面之簡述 本發明之其他特徵及儍點述於下面的敘述及附圖中， 其中： 圖1爲盒之一內部透視圖； 圖2爲一環狀弧形盒有一插入之曝光材質之一軸向縱 區間圖； ^紙張尺度適用中國國家標芈（CNS)甲4规格（210 X 297公穿） -10 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ·-裝. 訂· 線. 2091X2 A6 B6 經濟部中央標準局員工消费合作社印" 五、發明説明（9 ) 圖3爲在一滑動器上之—透視圖，一鐳射光束之路徑 由一鐳射產生器開始，通過一鐳射調制器，一準直儀，及 —雙鏡： 圖4爲通過一插入曝光材質之環形弧形盒之一軸向縱 區域圖，採用一半滲透板以分散不同於圖2實施例之另一 實施例中之鐳射光束； 圖5爲類似於圖2通過一插入曝光材質之環形弧形盒 之一軸向縱E域圖，但採用兩拋物線鏡同時作爲光束分散 及準直之用。 眚施例及本發明之敘述 根據本發明，提供在與外界光源密封於光進入之一盒 2中一照相敏感曝光材質1之曝光方法。曝光材質1被設 在與一中央縱軸4有一均句空間之一環狀弧形圓筒3中。 一鐳射產生器5產生一鐳射光束6。鐳射光束6經由一鐳 射調制器7被調制且偏向進入一準直儀8中，且在離開準 直儀8後被導引至一可轉動鏡9上。可轉動鏡9與中央縱 軸4呈一角度設置。由可轉動鏡而來之鐳射光束6曝出訊 號而提供點形曝光點在曝光材質1上。光束10由準直儀 8排出而與中央縱軸4平行排列，被偏向與中央縱軸4呈 一角度1 1之至少兩鏡面1 2 a，1 2 b上。平行光束 1 0被反射至鏡面1 2 a，1 2 b上，被反射之光束2 0 再聚焦於一相關之光學系統13中且被導引至聚焦平面 1 4上，反射平行光束之焦距點可在曝光材質之表面1 a (請先閲讀背面之注意Ϋ項再填寫本頁) .裝. 訂. 線 本紙張尺度通用中國國家標準（CNS)甲4規格（210 X 297公货） -11 - 經濟部中央標準局8工消費合作社印製 ς〇ΰχ^>^ Α6 _Β6_ 五、發明説明（10 ) 上轉動。 準直儀8之平行排列光束1 0可被導引至鏡面1 2 a ，1 2 b上。該鏡面可被安排成與中央縱軸4呈4 5度之 角度1 1。鏡面1 2a，1 2b，可互相形成9 0度之角 度。 第一鏡面1 2 a之一第一照射曝光光束1 5可沿一涵 蓋1 8 0度之角度之一第一部份周園使弧區間形曝光材質 曝光。第二鏡面1 2 b之一第二照射曝光光束1 6也可沿 一涵蓋1 8 0度之角度之一第二周園使弧區間形曝光材質 曝光。故在第一部份周園上弧區間形曝光材質之曝光可以 一固定軌跡距離被交錯以在第二部份周圍上之弧區間形曝 光材質- 本發明之方法可由一照相組成裝置實行。照相組成裝 置之一內空間形狀像一環狀弧且密封於光。一照相敏感曝 光材質1在該內空間中以一鐳射光束6曝光。一滑動器 1 7可在中央縱軸4之方向滑動，可支撑一鐳射產生器5 。鐳射產生器5之光學軸18與中央縱軸4重叠。產生之 鐳射光束6是以一鐳射調制器7調制。鐳射光束6通過一 準直儀8而至一可轉動鏡9上。一光線曝光光束被導引聚 焦在曝光材質1上，由可轉動鏡9以點形訊號之形態作爲 曝光點而發出。一具有至少兩鏡面1 2 a，1 2 b之可轉 動鏡9設在準直儀8後之光束路徑19中。一聚焦光學系 統1 3與相關鏡面1 2 a，1 2 b之反射光束2 0之反射 方向平行排列，被設在與中央縱軸4之一預定照射距離 本紙張尺度適用中國國家標毕·（CNS)甲4规格（210 X 297公釐） -12 - (請先閲讀背面之注意事項再項寫本頁) f 丨裝· 訂- A6 B6 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 五、發明説明（11 ) 2 1處。在各情形中之聚焦點2 2可在曝光材質之表面高 度1 a作調整。 各鏡面1 2a，1 2b可與中央縱軸4呈4 5度之角 度1 1。兩鏡面1 2 a，1 2 b可沿周園以1 8 0度之角 度交錯。 可轉動鏡9有數個鏡面1 2 a，1 2 b，可由一支撑 2 3連接。支撑2 3可形成外環2 4，2 5以容納照射聚 焦光學系統1 3。聚焦光學系統可被設在與中央縱軸4相 同距離處。 較好的支撑2 3之外環2 4 ，2 5及聚焦光學系統 1 3可互相作滑動及調整，使在與中央縱軸4平行之方向 中之測微計區不會閃動。 本發明提供一照相敏感曝光材質1之曝光方法，可由 軌道，板，條，片或類似者組成，而曝光是在一密封於外 界光源進入之盒2中發生的。曝光材質1 ，例如一膠卷條 是停留在一環狀弧形平面3中，與一中央縱軸或中間軸4 有準確均勻的保持距離。均匀保持距離因無空氣泡，中空 之空間或類似者而可確保，是在曝光材質1之下方朝向內 圓筒壁，而採用之曝光材質爲一可扭曲材質。 在過程中，一鍾射產生器5產生一鍾射光束6 ，而鍾 射光束6經由一鐳射調制器7而被調制，當鐳射調制器7 調制鐳射光束6時，即使鐳射光成爲有所需之波形。然後 鐳射光以一反射系統偏入一準直儀8中而在離開準直儀8 時被導引至一轉動鏡9上。可轉動銳9是設成與中央縱軸 本紙張尺度通用中國囷家標準（CNS)甲4规格（210 X 297公货） -13 - (請先閱讀背面之注意Ϋ項再塡寫本頁) --裝. 訂. 、線. 五、發明説明（12 ) 4呈一角度。一鍤射光束1 〇俥送訊號，使曝光材質以點 形訊號作爲曝光點之形態曝光，其直徑爲數微米。 根據本發明，由準直儀8之軸平行發出之鐳射光束 1 〇是偏至設在與中央縱軸4呈一角度1 1之如圖2中所 示之兩鏡面1 2 a，1 2 b上。然後平行鐳射光束1 0聚 焦於一光學收集系統1 3中並在兩鏡面1 2 a及1 2 b轉 動時被射至曝光材質1 a之一聚焦平面1 4上。準直儀8 之平行光束1 0在此情形是是在鏡面1 2 a及1 2 b上。 鏡面1 2 a及1 2 b各與中央縱軸4呈4 5度之角度1 1 設置，且鏡面1 2 a及1 2 b互相形成9 0度之角度，即 鏡面1 2 a及1 2 b所設置之平面爲互相垂直的。 本方法現在可實行，使一第一曝光鐳射光束1 5被一 第一鏡面1 2 a反射而射在一弧區間形曝光材質1之部份 周園涵蓋1 8 0度圓筒上並使其曝光，而其中第二鏡面 1 2 b之一照射第二曝光鐳射光束1 6也射在弧區間形曝 光材質1之相同部份周圍涵蓋1 8 0圓筒上並使其曝光。 第二曝光錆射光束可在被第一曝光鐳射光束曝光位置之一 固定軌跡距離處使弧區間形材質作交錯位e之曝光。 本方法現在可實行，使一第一曝光鐳射光束15被一 第一鏡面1 2 a反射而射在一弧區間形曝光材質1之部份 周圍涵蓋1 8 0度圓筒上並使其曝光，而其中第二鏡面 1 6 b之一照射第二曝光鐳射光束1 6也射在弧區間形曝 光材質1之另一部份周圍涵蓋1 8 0度圆筒上並使其曝光 。第二曝光鐳射光束可在被第一曝光鐳射光束曝光位置之 本紙張又度適用中國國家標準（CNS)甲4規格（210 X 297公釐〉 -Η - (請先閲讀背面之注意事項再堉寫本頁)

T % 經濟部中央標準局8工消费合作社印*''取 A6 B6 經濟部中夾標準局員工消費合作社印S-Λ 五、發明説明（13 ) —固定軌跡距離處使弧區間材質作交錯位置之曝光。 根據困3，一滑動器5被形成作爲鐳射產生器5之一 支撑。鐳射產生器5之光學軸18與中央縱軸4重叠。產 生之鍤射光束6是鐳射調制器7中被調制並經由準直儀8 被偏至可轉動第一鏡面1 2 a及可轉動第二鏡面1 2 b上 。在各情形中，由受激訊號形成的聚焦曝光光束1 5或 1 6，具有點一點爲約6至1 5微米直徑之曝光點，被曝 光在曝光材質1上，其中聚焦曝光光束1 5，1 6是來自 鏡面 12a，12b° 具兩鏡面1 2 a及1 2 b之轉動鏡9設在準直儀8後 之光束路徑19中。兩聚焦光學系統13平行於反射方向 2 3 ，與中央縱軸4以相同的照射距離2 1被設置，而事 實上各聚焦光學系統1 3之焦距點2 2是設在曝光材質1 之表面1 a上。根據各鏡面1 2 a及1 2 b與中央縱軸4 呈4 5度之角度1 1之結構且兩鏡面1 2 a及1 2 b與中 央縱軸4以1 8 0度之角度交錯之幾何形狀，可在曝光材 質上分別曝光並解析數微米之軌跡。 根據帶有一灰色過濾器1 7 c，一第一偏向鏡1 7 b ，一第二偏向鏡1 7 c，及一第三反射鏡1 7 d之滑動器 1 7之前進，曝光材質1上可逐列地實行非常準確的曝光 ，而鏡面1 2 a，1 2 b由一馬達1 7 e驅動繞著中央縱 軸4之轉動速度保持不變。 採用一具有鏡面1 2 a及1 2 b之可轉動鏡9被連接 至一支撑2 3之結構，可達成改正或所需之調整以及所需 (請先Η讀背面之注意事項再«寫本頁) -装- 訂. 線- 本紙張尺度通用中國國家標準（CNS)甲4规格UlO X 297公璉） 15 - A6 B6 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明（14 ) 之孔隙距離，其可被重叠在馬達1 7 e之前進速度上。支 撑2 3形成外環2 4及2 5以容納照射均匀空間兩聚焦光 學系統1 3 ，如圖2中所示，即兩聚焦系統1 3與中央縱 軸4有相等的距離。支撑2 3之外環2 4及2 5支撑兩聚 焦光學系統13且可互相滑動，而在一數微米之長度敏感 度區域中之軸方向及平行於中央縱軸4中不會閃動，且如 所繪著爲固定，適合且相同的位置，使根據圖2只有滑動 器1 7之前進速度會影響焦距點2 2的位置。馬達1 7 e 之轉動速度可爲1 〇，0 〇 0 r pm或更高。 圖3之實施例中兩鏡面1 2 a，1 2 b之位置必須完 全在中央縱軸上垂直設置之兩鏡面之交叉線上。 圇4提供另一實施例，相較於圖2之實施例，採用一 半滲透鏡4 1可在一第一曝光點2 2之方向中反射一部份 光，而非圖2之兩鏡面1 2 a及1 2 b。鐳射光之其餘部 份通過半滲透鏡4 1並射在反射鏡4 7上。反射鏡4 7通 常爲一平面鏡，設成與中央縱軸4垂直以反射光束1 0成 爲完全相反於平行光束1 〇之一方向。由反射鏡4 7反射 之光再回到半滲透鏡41且被由半滲透鏡41反射至一第 二曝光點1 2 2之方向。 半滲透鏡4 1不需準確地排列在中央軸4上，因在圖 2出現之在第一鏡面與第二鏡面之間的一細分中央線在不 同的光學結構中是不需要的。又有一調整機構4 9被提供 ，可容許半滲透鏡4 1繞軸轉動。這可調整鏡至一位置， 而曝光點2 2及1 2 2可排列使其可在曝光材質上提供所 (請先閲讀背面之注意事項再項寫本頁> -裝· 訂· / 線_ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4规格（210 X 297公釐） 16 A6 B6 2 Ο - 五、發明説明（15 ) 需軌跡之軌跡距離。 圊3顯示被設在準直儀8之前的一鐳射光束調制器7 ，它可有利的提供鍤射調制器4 3及4 5，其裝設在轉動 鏡組件上且調節各光束如圖4中所示。此安排可分別地控 制在轉動鏡兩撕上之曝光。如調制器4 3及4 5被提供， 則鐳射光束調制器7可以省掉。 鐳射調制器4 3，4 5較好的爲電光調制器。光之電 光調制器所涉之考慮敘述於例如 Amnon Yariv之Quant-ιι m E 1 e c t r ο n i c s , 出 版者爲 J 〇 h n W i 1 e y a n d S ο n s , I n c .

New York 1967，第 19 章，310 至 327 頁。此 資料顯示光束之電光調制中採用之各種原理。通常電光調 制可包括一輸入極化器，一調制m池，及一輸出極化器。 如鐳射光束已被極化，當然圖4之調制器中結構內的輸入 極化器可以省掉。但如裝置在轉動而鐳射光束正沿中央軸 進入時，進入之鐳射光束之極化性會隨鏡組件之轉動而改 變。故通常電光調制器4 3及4 5將需要一輸入極化器。 調制之大小視所用之調制材質及電壓而定。調制可由電光 調制之橫模式，電光相調制，或採用二次電光效應而產生 。較好的提供此調制之材質包括以碱性鈮酸鹽及碱性鉅酸 鹽及其混合結晶爲基礎的電光調制器。 圖5提供相較於圖2之實施例之另一實施例並採用拋 物線形鏡設置成使一焦距點位於曝光材質1上。此結構聯 合鏡表面1 2 a，1 2 b及兩聚焦光學系統1 3之光學能 力，成爲一單拋物線形鏡件1 1 2a，1 1 2b可實行在 (請先閲讀背面之注意事項再場寫本頁) 丨裝· 訂 線. 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 本紙張尺度通用中國國家標準（CNS)甲4规格（21ϋ X 297公坌） 17 - A6 B6 209192 五 '發明説明（16 ) 圖2中採用之件的相同功能。此結構可只使拋物線鏡面 1 1 2 a，1 1 2 b必須定位及排列，而沒有一雙件系統 包含一鏡及一準直透銳。又可避免在準直系統中損失任何 反射及散射。 可了解上述之各件，或兩或多件在一起，在與上述種 類不同的照相敏感材質之其他方法及處理設施中也可作有 效的應用。 本發明已由照相敏感曝光材質之曝光方法及裝置之實 施例中說明及敘述，但不限於所顯示的細節，因在不脫離 本發明之精神下可作各種改良及結構之改變。 不需更多的分析，前面已完全顯示本發明之要點，採 用目前的知識，他人可容易的用於各種應用而不漏掉特點 ，由習知技藝之觀點，可完全組成本發明所靥的或特殊點 之重要特徴。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂.

經濟部中央標準局員工消费合作社印S-R 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4規格（210 X 297公釐） -18 -

Claims (1)

1. 經濟部中央標準局8工消费合作社印製 A7 B7 C7 D7 六、申請專利範圍 1 ·—種照相敏感曝光材質之曝光方法包含： 放置照相敏感曝光材質於設定一內環狀弧形圆简且密 封於外界光源進入之光的一盒中，其中曝光材質是設在環 狀弧形圓筒中且與弧形_筒之一中央縱軸有一均勻的空間 I 以一鍤射產生器產生一鐳射光束； 在一鐳射調制器中調制鍤射光束： 使調制之鐳射光束偏入一準直儀中： 導引準直後之鐳射光束與中央縱軸平行排列而至一具 有兩鏡面之一可轉動鏡上，其中各鏡面與中央縱軸呈一角 度設置； 以一光學系統使一反射在'一鏡面上之鐳射光束聚焦； 導引聚焦之鐳射光束射在一聚焦表面上，被反射友聚 焦鐳射光束之焦距點在曝光材質之表面上轉動； 以訊號使曝光材質曝光，以由可轉動鏡及光學系統而 來的鐳射光束·而在曝光材質上提供點形曝光。 2 ·如申請專利範圍第1項之方法，更包含導引由準 直儀而來的平行排列光束至兩鏡面之一上，其中兩鏡面與 中央縱軸呈4 5度之角度設置，而其中兩鏡面之一與兩鏡 面之另一形成9 0度之角度。 3 ·如申請專利範圍第1項之方法，其中由兩鏡面之 一第一鏡面而來之一第一照射曝光光束，使弧區間形曝光 材質沿一第一部份周圍涵蓋一 1 8 0度之角度曝光，而其 中由兩鏡面之一第二鏡面而來之一第二照射曝光光束，使 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) .裝· 訂. •線. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4規格（210 X 297公釐) '' A7 烴濟部中夹標準局貝工消費合作社印製 B7 C7 D7 六、申請專利範圍 弧區間形曝光材質沿一第二周園涵盖一1 8 0度之角度曝 光，使在第一部份周圍上曝光之弧區間形曝光材質是以一 固定軌跡距離交錯於在第二部份周圍上之弧區間形曝光材 質。 4 ·使照相敏感曝光材質曝光之一種方法包含： 放置照相敏感曝光材質於設定一內環狀弧形圓筒且密 封於外界光源進入之光的一盒中，其中曝光材質是設在環 狀弧形_筒中且與弧形圓筒之一中央縱軸有一均匀的空間 以一鍤射產生器產生一鐳射光朿； 在一鐳射調制器中調制鐳射光束： 使_調制之鐳射光束偏入一準直儀中； 導引準直後之鐳射光束與中央縱軸平行排列而至一轉 動光束散射，偏向及聚焦結構以導引一第一散射，反射及 聚焦鐳射光束射至一聚焦表面，其中第一散射，仮射及聚 焦鐳射光束之一焦距點在曝光材質之表面上轉動，以導引 一第二散射，反射及聚焦鐳射光朿射至聚焦表面上，其中 第二散射，反射及聚焦鐳射光束，之一焦距點在曝光材質之 表面上轉動； 以訊號使曝光材質曝光，以第一散射，反射及聚焦鐳 射光束及第二散射，反射及聚焦鐳射光束而在曝光材質上 提供點形曝光。 5 ·如申請專利範圍第4項之方法，其中 轉動光束散射，偏向及聚焦結構是由兩可轉動鏡面提 本紙張尺度適用中國國家標準（CN’S)甲4规格（210 X 297公釐） ZU (价先閲讀背面之注意事喟再塡寫本頁) i裝· 訂· Λ-線. % 〇9i⑸ A7 B7 C7 D7 經濟部中央標準局S工消费合作杜印製 六、申請專利範園 供，其中兩鏡面各與中央縱軸呈一角度設置，而其中準直 ^之鐳射光束被反射爲一第一反射鐳射光束及一第二反射 鐳射光束，而其中第一反射鐳射光束是以一第一光學系統 聚焦，而其中第二反射鐳射光束是以一第二光學系統聚焦 〇 6·如申請專利範圍第4項之方法，其中 轉動光束散射，偏向及聚焦結構是由一具有抛物線表 面之一第一可轉動鏡面及一具有拋物線表面之一第二可轉 動鏡面所提供，其中第一鏡面是設成使準直後之鐳射光束 之一第一部份被反射爲一第一反射鐳射光束，而其中第二 拋物線鏡面是設成’使準直後之鐳射光束之一第二部份被反 射爲一第二反射鐳射光束，而_其中第一反射鐳射光束是根 據在曝光材質上之拋物線表面而聚焦，而其中第二反射鐳 射光束是根據在曝光材質上之拋物線表面而聚焦。 7 ·如申請專利範圍第4項之方法，其中 轉動光束散射，偏向及聚焦結構是由一可轉動半滲透 鏡所提供，其中滲透鏡之一面是與中央縱軸呈一角度設置 ，而其中準直後之鐳射光束被半滲透鏡反射爲一第一反射 鐳射光束，其中通過半滲透鏡之一鐳射光束被一平面鏡反 射回至半滲透鏡，而半滲透鏡'反射一部份此回反射之鍤射 光束爲相反於第一反射鐳射光束之方向而形成一第二反射 鐳射光束，而其中第一反射鐳射光束是以一第一光學系統 聚焦，而其中第二反射鐳射光束是以一第二光學系統聚焦 (諱先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) -β τ k 衣纸張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4规格（21〇 X 297公釐) -21 - 烴濟部中兴標準局员工消費合作社印製 B7 * C7 __- _ D7____ 六、申請專利範圍 8 ·使照相敏感曝光材質（i )在一密封於外界光源 之進入之一盒（2 )中曝光之一方法，其中曝光材質（1 )是設在與中央縱軸（4 )有一均勻空間的一環狀弧形圃 筒（3 )中，其中一鍤射產生器（5 )產生一鐳射光束（ 6 )，其中鍤射光束（6 )經由鐳射調制器（7 )被調制 並偏入一準直儀（8 )中，且在離開準直儀（8 )後被導 引至一可轉動鏡（9 )上，其中可轉動鏡（9 )與中央縱 軸（4 )呈一角度設®，而其中來自可轉動鏡之鐳射光束 (6 )使訊號曝光而在曝光材質（1 )上提供點形曝光， v其中由準直儀（8 )離開與中央縱軸（4 )平行排列之光 束（1 〇 )被偏向與中央縱軸（4 )呈一角度（1 1 )設 置之至少兩鏡面（1 2 a，Γ2 b )上，其中反射至鏡面 (1 2 a，1 2 b )上之平行光束（1 〇 )被再聚焦於一 相關之光學系統（1 3 )中並被導引至聚焦平面（1 4 ) 上，而反射平行光束之焦距點在曝光*質（1 )之表面（ 1 a )上轉動。 9 ·如申請專利範圍第8項之方法，其中 準直儀（8 )之平行排列光束（1 Q )被導引至鏡面 (1 2a，1 2b)上，其與中央縱軸（4)呈4 5度之 角度（11)設置，而其中鏡面（12a，12b)互相 形成9 0度之角度。 1 〇 ··如申請專利範圍第8項之方法，其中 第一鏡面（1 2 a )之一第一照射曝光光束（1 5 ) 使弧區間形曝光材質（1 )沿一第一部份周圍涵蓋1 8 0 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4規格（210 X 297公货） -22 - {請先Μ讀背面之注意事項再項寫本頁) —裝. 訂· .線. 娌濟部中央楳準局S工消費合作社印W 六、申請專利範圍 度之角度曝光，而其中第二鏡面（12 b )之一第二照射 曝光光束（1 6 )也使弧區間形曝光材質（1 )沿一第二 周園涵蓋1 8 0度之角度曝光，而使在第一部份周園上之 弧區間形曝光材質（1 )以一固定軌跡距離交錯曝光於第 二部份周圍上之弧區間形曝光材質。 11·一光組成裝e包含 一盒具有一內空間設定一圓筒之一環狀弧及圃筒之一 中央縱軸，使照相敏感曝光材質可位於待以一鍤射光束曝 光之該內空間中，而其中盒爲密封於外界光； 一滑動器可在中央縱軸之方向滑動； 一鐳射產生器以圓筒支撑，其中鐳射產生器之光學軸 與中央縱軸重#; ' 一鐳射調制器設在由鐳射產生器產生之一鐳射光束之 一路徑中，以調制產生之鐳射光束； 一準直儀設在調制後鐳射光束之一路徑中，以準直鐳. 射光束束爲平行光束； 一具有兩鏡面之可轉動鏡設在準直後鐳射光束之一路 徑中，以形成一第一反射鐳射光束及形成一第二反射鐳射 光束； 一第一聚焦光學系統平行排列於第一反射鐳射光束之 一反射方向並設在與中央縱軸一預定照射距離處，且可在 曝光材質之表面調整一焦距點以形成一第一照射曝光光束 而以點形訊號之形態被導引且聚焦在曝光材質上，以在曝 光材質上產生曝光點； <外先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 裝. .1T 各紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4规格（210 X 297公釐） ~ ~ 烴濟部中央標準局貝工消费合作社印製 六、申請專利範圍 一第二聚焦光學系統平行排列於第二反射鍤射光束之 一反射方向並設在與中央縱軸一預定照射距離處，且可在 曝光材質之表面調整一焦距點以形成一第二照射曝光光束 而以點形訊號之形態被導引且聚焦在曝光材質上，以在曝 光材質上產生曝光點。 yl" 2 ·如申請專利範園第1 1項之裝置，其中 兩鏡面各與中央縱軸形成4 5度之角度，而其中兩鏡 面繞著周圔以1 8 0度之角度交錯。 13 ·如申請專利範圍第11項之裝置，更包含一支 撑，其中可轉動鏡設有兩鏡面且連接於支撑，而其中支撑 形成外環以容納第一聚焦光學系統及第二聚焦光學系統， 各ik —照射方向聚焦，而其中_第一聚焦光學系統及第二聚 焦光學系統是設在與中央縱軸相等的距離。 14 ·如申請專利範圍第13項之裝置，其中 支撑之外環，及第一聚焦光學系統與第二聚焦光學系 統可分別作互相滑動及調整，而不在平行於中央縱軸之一 方向中之一測微計區域中閃動。 15 ·—光組成裝朦包含 一盒具有一內空間設定一圓筒之一環狀弧及圓筒之一 中央縱軸，使照相敏感曝光材質可位於待以一鐳射光束曝 光之該內空間中，而其中盒是密封於外界光； 一滑動器可在中央縱軸之方向滑動； 一鐳射產生器以園筒支撑，其中鐳射產生器之光學軸 與中央縱軸重叠； (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) Μ .裝. 、*1. .線. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4規格（210 X 297公货） ®濟部中央標準局R工消費合作社印製 C7 _D7_ 六、申請專利範園 一鐳射調制器設在由鐳射產生器產生之一鐳射光束之 —路徑中，以調制產生之鐳射光束： 一準直儀設在調制後鐳射光束之一路'徑中，以準直鍤 射光束爲平行光束； 一轉動光束散射，反射及聚焦工具以形成'一第一照明 曝光光束以點形訊號之形態被導引並聚焦在曝光材質上而 在曝光材質上產生曝光點，且形成一第二照射曝光光束以 點形訊號之形態被導引並聚焦在曝光材質上而在曝光材質 上產生曝光點。 16 ·如申請專利範圍第15項之裝置，其中 轉動光束散射，反射及聚焦工具設有 一具有兩鏡面之可轉動鏡_設在準直後鐳射光束之一路 徑中，以形成一第一反射鐳射光束及形成一第二反射鐳射 光束；一第一聚焦光學系統與第一反射鐳射光束之一反射 方向平行排列並設在與中央縱軸一預定照射距離處，可在 曝光材質之一表面調整一聚焦點；及 一第二聚焦光學系統與第二反射鐳射光束之一反射方 向平行排列並設在與中央縱軸一預定照射距離處，可在曝 光材質之一表面調整一聚焦點。 17·如申請專利範圍第15項之裝置，其中 轉動光束散射，反射及聚焦工具設有 一具有兩鏡面之一可轉動鏡，各有一拋物線表面且各 設在準直後鐳射光束之一路徑中，以形成一第一反射及聚 焦鐳射光束並形成一第二反射及聚焦鐳射光束，以分別調 本紙張尺度適用中國固家標準（CNS)甲4規格（210 X 297公货) '' (請先閱讀背面之注意事噌再塡寫本頁) .裝. 訂_ 線· A7

   六、申請專利範園 整兩鏡面至曝光材質之一表面上之一相關焦距點。 烴濟部中央標準局WC工消費合作社印製 18·如申請專利範圍第15項之裝®，其中 轉動光束散射，反射及聚焦工具設有 v —可轉動半滲透鏡設在準直後鐳射光束之一路徑中， 以形成一第一反射鐳射光束及形成一傳導鐳射光束： —平面鏡以相反於在可轉動半滲透鏡被反射之傳導鍾 射光束之方向反射傳導鐳射光束，而形成一第二反射鐳射 光束； —第一聚焦光學系統與第一反射鐳射'光束之一反射方 向平行排列並設在與中央縱軸一預定照射距離處，可在曝 光材質之一表面調整一聚焦點：及 —第一聚焦光學系統與第—·反射鍾射光束之一反射方 向平行排列並設在與中央縱軸一預定照射距離處，可在曝 光材質之一表面調整一聚焦點。 19.一光組成裝置，包括—光組成裝置之一環狀弧 形且密封於光之一內表面，而其中一照相敏感曝光材質（ 1 )以一鐳射光束（6 )在該內空間中曝光，其中一滑動 器（7)可在中央縱軸（4)之方向滑動，支撑一鐳射產 生器（5)，其中鐳射產生器（5)之光學軸（18)與 中央縱軸（4 )重叠，其中產生之鐳射光束（6 )在一鐳 射調制器（7 )中調制，而其中鐳射光束（6 )通過一準 直儀（8 )而至一可轉動鏡（9 )上，其中一照射曝光光 束被導引且聚焦在曝光材質（丨）上，以點形訊號之形態 由可轉動鏡（9 )射出以作曝光點， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)甲4規格（2U) X 297公货) --~~26 - (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) --裝. 訂. .線. A7 B7 C7 D7 經濟部十兴標準居8工消費合作社印製 六、申請專利範圍 其中一具有至少兩鏡面（1 2 a，1 2 b )之可轉動 鏡設在/準直儀（8 )後之光束路徑（1 9 )中，其中一聚 焦光學系統（13)與相關鏡面（12a，12b)之反 射光束（2 0 )之反射方向平行排列而設在與中央縱軸（ 4 ) 一預定照射距離（2 1 )處，而其中各情形之聚焦點 (22)可在曝光材質（1)之表面高度（la)作調整 〇 2 0 ·如申請專利範圍第1 9項之裝置，其中 各鏡面（12a，12b)與中央縱軸（4)形成 45度之角度（11)，而其中兩鏡面（12a，12b )沿周圍以1 8 0度之角度交錯。 2‘ 1 ·如申請專利範圍第· 1 9項之裝置，其中 可轉動鏡（9)設有數鏡面（12a，12b)，被 連接至一支撑（2 3 )，其中支撑（2 3 )形成外環（ 2 4 ，2 5 )以容納照射聚焦光學系統（1 3 )，而其中 聚焦光學系統與中央縱軸（4 )以相等距離設置。 2 2 .如申請專利範圍第2 1項之裝置，其中 支撑（23)之外環（24，25)及聚焦光學系統 可分別互相滑動及調整，而在與中央縱軸平行之方向中之 一測微計區域中不會閃動。 (請先閱讀背面之注意事項再場寫本頁) 裝- 訂_ 本紙張又度適用中國國家標準（CNS)甲4規格（210 X 297公货）