TW202413578A - 黏著劑層、其製造方法、黏著片、附黏著劑層之光學膜及圖像顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明之黏著劑層係具有第1面並於上述第1面之相反側具有第2面之黏著劑層，上述黏著劑層藉由含有基礎聚合物之黏著劑組合物形成有黏著劑層整體之基片，上述第1面具有基於上述黏著劑組合物之第1折射率，另一方面，上述第2面之第2折射率低於上述第1面之第1折射率。本發明之黏著劑層即便於應用於抗反射膜、光擴散膜、稜鏡膜、導光膜、透鏡膜、菲涅耳透鏡或雙凸透鏡或微透鏡膜等折射率較低之光學構件之情形時，亦能夠有效地抑制內部反射，且密接性良好。
Description
本發明係關於一種黏著劑層及其製造方法。又，本發明係關於一種具有上述黏著劑層之黏著片及附黏著劑層之光學膜。進而，本發明係關於一種使用其等之圖像顯示裝置。
例如如液晶顯示裝置或有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置之顯示裝置係使用黏著劑組合物以將偏光膜、相位差膜、覆蓋玻璃等透明罩蓋構件、及其他各種光學膜與另外之光學膜接合。如此，藉由將黏著劑層配置於兩個光學膜之間，而形成具有該兩個光學膜之光學膜積層體。此種構成之光學膜積層體於顯示裝置中例如以光學膜之側成為視認側之方式配置。於該構成中，存在於外界光自視認側之光學膜入射時，入射光於黏著劑層與非視認側之光學膜之界面反射而返回視認側之問題。該問題於外界光之入射角較小時，變得尤為顯著。
另一方面，對於圖像顯示裝置之背光單元，業界提出使用例如以(甲基)丙烯酸系聚合物為基礎聚合物且包含光擴散性微粒子之光擴散黏著劑組合物(專利文獻1)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2014-224964號公報
[發明所欲解決之問題]
考慮如上述之問題係由於黏著劑層與被黏著體之折射率差而產生。例如，於黏著劑層與使用氟系樹脂、聚矽氧烷、低折射無機粒子、多孔質材料、中空材料等低折射率材料之光學構件(例如，抗反射膜、光擴散膜、導光膜、稜鏡膜、透鏡膜、菲涅耳透鏡或雙凸透鏡或微透鏡膜)之間，由於界面之入射光之內部反射之影響視認性會產生問題。考慮該問題係起因於與黏著劑層相比光學膜之折射率較低，因此考慮藉由使用折射率較低之黏著劑層來消除上述問題。例如，作為藉由丙烯酸系黏著劑形成折射率較低之黏著劑層之方法，考慮於作為基礎聚合物之通常之丙烯酸系聚合物(折射率通常為1.47～1.52)中使用丙烯酸氟烷基酯(折射率1.38左右)作為單體單元。然而，使用含有上述丙烯酸氟烷基酯作為單體單元之基礎聚合物之折射率較低之黏著劑層表面張力較高而難以確保密接性。如此，極難一面確保黏著劑層之密接性，一面製作低折射率(例如折射率1.40以下)之黏著劑層。
另一方面，由專利文獻1之光擴散黏著劑組合物形成之黏著劑層雖然具有光擴散功能，但於黏著劑層之整體範圍內分散有光擴散性微粒子，因此難以充分地確保與光學膜等之密接性。
本發明之目的在於提供一種即便於應用於抗反射膜、光擴散膜、透鏡膜、菲涅耳透鏡或雙凸透鏡或微透鏡膜等折射率較低之光學構件之情形時，亦能夠有效地抑制內部反射，且密接性良好之黏著劑層及其製造方法。
又，本發明之目的在於提供一種具有上述黏著劑層之黏著片，進而提供一種具有該黏著劑層之附黏著劑層之光學膜，進而本發明之目的在於提供一種具有上述黏著劑層或附黏著劑層之光學膜之圖像顯示裝置。
[解決問題之技術手段]
本發明者等人為解決上述課題而不斷銳意研究，結果發現了下述所示之黏著劑層等，從而完成了本發明。
即，本發明係關於一種黏著劑層，其特徵在於：其係具有第1面並於上述第1面之相反側具有第2面者，且
上述黏著劑層藉由含有基礎聚合物之黏著劑組合物形成有黏著劑層整體之基片，
上述第1面具有基於上述黏著劑組合物之第1折射率，另一方面，上述第2面之第2折射率低於上述第1面之第1折射率。
於上述黏著劑層中，上述第1面之第1折射率與第2面之第2折射率之差較佳為0.02～0.45。
於上述黏著劑層中，上述第2面之第2折射率較佳為1.45以下。
作為上述黏著劑層，可採用於上述第2面側分散有具有低於上述基礎聚合物之折射率的折射率之低折射率材料之態樣。
於上述黏著劑層中，分散有上述低折射率材料之區域之厚度較佳為自上述黏著劑層之第2面側於厚度方向上為600 nm以下。
於上述黏著劑層中，上述基礎聚合物之折射率較佳為1.40～1.55，上述低折射率材料之折射率較佳為1.10～1.45。又，上述基礎聚合物之折射率與上述低折射率材料之折射率之差較佳為0.07～0.45。
作為上述低折射率材料，可列舉平均粒徑為10 nm～150 nm之粒子。
作為上述低折射率材料，可列舉選自由MgF
2、CaF
2及Na
3AlF
6所組成之群中之至少一種無機粒子、以及選自由多孔質氧化矽粒子、中空奈米氧化矽粒子、及中空聚合物粒子所組成之群中之至少一種粒子。
上述黏著劑層之全光線透過率較佳為85%以上。
上述黏著劑層之上述第2面之反射率較佳為0.5～3.5%。
上述黏著劑層之上述第1面與第2面之反射率之差較佳為0.1～3.5%。
上述黏著劑層之凝膠分率較佳為30～95重量%。
上述黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'較佳為0.05～0.50 MPa。
上述黏著劑層於1 Hz下之動態黏彈性測定時之tanδ峰值較佳為-5～-50℃。
又，本發明係關於一種黏著劑層之製造方法，其特徵在於：其係上述黏著劑層之製造方法，且包括：
步驟(1)，其係利用含有基礎聚合物之黏著劑組合物於支持體上形成基礎黏著劑層；
步驟(2)，其係準備使具有低於上述基礎聚合物之折射率的折射率之低折射率材料分散而成之分散液；
步驟(3)，其係將上述分散液塗佈於上述基礎黏著劑層之支持體側之第1面相反側之第2面，使該分散液所包含之上述低折射率材料自上述基礎黏著劑層之上述第2面向厚度方向浸透；及
步驟(4)，其係將上述低折射率材料浸透後之黏著劑層加以乾燥。
又，本發明係關於一種黏著片，其特徵在於：其具有上述黏著劑層並於該黏著劑層之單面或兩面具有支持體。
又，本發明係關於一種附黏著劑層之光學膜，其特徵在於：其係具有光學膜及設於該光學膜之單面或兩面之黏著劑層者，且
上述單面或兩面之黏著劑層為上述黏著劑層，該黏著劑層之第1面側設於上述光學膜。
於上述附黏著劑層之光學膜中，作為光學膜，可較佳地使用偏光膜。
又，本發明係關於一種光學積層體，其特徵在於：其具有上述附黏著劑層之光學膜及貼合於該附黏著劑層之光學膜之黏著劑層之低折射率光學構件。
又，本發明係關於一種圖像顯示裝置，其特徵在於：其具有上述黏著劑層、上述附黏著劑層之光學膜或上述光學積層體。
[發明之效果]
本發明之黏著劑層與黏著劑層中均勻地擴散有微粒子之擴散黏著劑層不同，於具有第1面及第2面之一層黏著劑層之兩面具有不同之折射率，於第1面之側具有基於形成黏著劑層整體之基片之黏著劑組合物的第1折射率，於相反側之第2面之側具有低於上述第1面之第1折射率的第2折射率。如此，本發明之黏著劑層具有較基於黏著劑層之折射率更被控制為低折射率之黏著面，因此可調整與低折射率之材料所形成之光學構件(例如，抗反射膜、光擴散膜、導光膜、稜鏡膜、透鏡膜、菲涅耳透鏡或雙凸透鏡或微透鏡膜等)之間之折射率差，藉此可抑制黏著劑層與該光學構件之間之界面之反射，並且有助於光提取效率之提昇。於將本發明之黏著劑層之第2面應用於微透鏡等表面凹凸形狀部之情形時，藉由利用該黏著劑層填充上述表面凹凸形狀部，可保護上述表面凹凸形狀，與於上述表面凹凸形狀部設置空隙層之情形相比，可不損害光提取效率而填充空隙，可抑止使用或運輸時之振動等所導致之損傷、形狀之破損。又，本發明之黏著劑層之第2面雖然具有調整為低折射率之折射率調整區域，但全光線透過率較高，且可不提高霧度值而形成低折射率之區域。又，本發明之黏著劑層之第1面維持了黏著劑層原本具有之黏著力，因此與通常之光學膜(例如偏光膜等)之密接性亦良好，另一方面，於控制為低折射率之黏著劑層之第2面，黏著劑組合物形成基片，因此亦可確保與低折射率材料所形成之光學膜之密接性。
以下，一面參照圖式一面說明本發明之黏著劑層等。
＜黏著劑層＞
如圖1所示，本發明之黏著劑層1具有第1面f1並於上述第1面f1之相反側具有第2面f2。又，上述黏著劑層1藉由含有基礎聚合物之黏著劑組合物形成有黏著劑層1整體之基片(基質)1a。上述第1面f1具有第1折射率n1，上述第2面f2之第2折射率n2設計為低於上述第1折射率n1。圖1中，例示了於上述基片1a中，於上述第2面f2之側分散(偏集存在)有具有低於上述基礎聚合物之折射率的折射率之低折射率材料2之情形。
上述第1面f1之第1折射率n1相當於在本發明之黏著劑層1中，自形成基片1a之黏著劑組合物所獲得之黏著劑層之折射率。因此，上述第1折射率n1由形成基片1a之黏著劑組合物決定。再者，基礎聚合物之折射率與黏著劑層1整體之基片1a之折射率實質上相同，因此上述第1面f1之第1折射率n1大致由基礎聚合物之折射率決定。形成黏著劑層之黏著劑組合物於下文進行說明，例如，藉由代表性之丙烯酸系黏著劑所形成之黏著劑層之折射率通常為1.47～1.52左右。藉由矽酮系黏著劑所形成之黏著劑層之折射率通常為1.40左右。
另一方面，上述第2面f2之第2折射率n2於與上述第1面f1之第1折射率n1之關係中，只要滿足n1＞n2則無特別限制，可考慮成為被黏著體之低折射率光學膜之折射率等而適當地決定。但是，亦考慮若上述第1折射率n1與第2折射率n2之差(n1－n2)過大，則會產生黏著劑層1內之內部反射，因此前差(n1－n2)較佳為調整至0.02～0.45。上述差(n1－n2)進而較佳為0.03～0.35，進而較佳為0.03～0.25。
就可有效地抑制內部反射之方面而言，上述第2面f2之第2折射率n2例如較佳為1.45以下，進而較佳為1.4以下，進而較佳為1.35以下，進而較佳為1.3以下。若上述第2折射率n2為1.4以下，則本發明之黏著劑層1之第2面側亦可作為空氣層之代替用途使用。另一方面，就維持接著力之觀點而言，上述第2折射率n2較佳為1.25以上，進而較佳為1.28以上。上述第2折射率n2之範圍為相比藉由代表性之丙烯酸系黏著劑所形成之黏著劑層之折射率(通常為1.47～1.52左右)之下限值更低之範圍。
又，於在上述黏著劑層1中，如圖1所示般，於上述第2面f2側分散有低折射率材料2之情形時，形成基片1a之黏著劑組合物中之基礎聚合物之折射率為1.40～1.55，於上述基片1a中，分散於上述第2面f2之側之低折射率材料2之折射率較佳為1.10～1.45。上述基礎聚合物之折射率與上述低折射率材料2之折射率之差較佳為0.07～0.45。上述基礎聚合物之折射率進而較佳為1.40～1.52，進而較佳為1.40～1.50。上述低折射率材料2之折射率進而較佳為1.14～1.42，進而較佳為1.18～1.40。上述基礎聚合物之折射率與上述低折射率材料2之折射率之差進而較佳為0.07～0.35，進而較佳為0.10～0.30。雖然上述低折射率材料2之折射率較低者可以低添加量降低折射率，但另一方面，存在基礎聚合物(黏著劑層1a)之折射率與上述低折射率材料2之折射率之差變大而容易產生散射(霧度)之傾向，因此上述折射率差較佳為調整為不過大。上述折射率於將材料製成單層膜之情形時，可表示為藉由分光式橢圓偏光儀法於23℃之環境下測定之D線之折射率值。
作為上述低折射率材料2，可使用平均粒徑10 nm～150 nm之粒子。上述範圍之平均粒徑之粒子於分散於黏著劑層1之第2面f2側之情形時，亦適於抑制黏著劑層1之霧度，維持較高之全光線透過率。上述平均粒徑較佳為20 nm～100 nm，進而較佳為20 nm～90 nm。上述粒子之平均粒徑係藉由利用動態光散射法之粒度分佈直徑測定裝置所測定之值。
作為上述低折射率材料2，例如可列舉MgF
2(折射率1.38)、CaF
2(折射率1.43：螢石)、Na
3AlF
6(折射率1.34：六氟鋁酸鈉(冰晶石))等。該等材料(例如粒子)可單獨使用一種，亦可組合兩種以上使用。
又，作為上述低折射率材料2，例如可使用中空粒子。中空粒子可為無機粒子、聚合物粒子之任一者。中空粒子於粒子內具有折射率較低之空隙空間，因此中空粒子之折射率低於形成中空粒子之成分之折射率。例如，氧化矽之折射率為1.46，但可使用中空奈米氧化矽粒子(折射率1.24，商品名：Thrulya5320，粒徑75 nm，JGC Catalysts and Chemicals股份有限公司製造)、多孔質氧化矽粒子作為低折射率材料。此外，可例示中空聚合物微粒子(折射率1.32，商品名：Techpolymer NH，型號XX-255AA，粒徑80 nm，中空率39%，Sekisui Plastics股份有限公司製造)。再者，於將中空粒子設於低折射之表面處理層之情形時，因係中空材料，故於強度、耐擦傷性上存在問題，但本發明中之中空粒子(低折射率材料2)因係添加(含浸)於黏著劑層1中之形態，故可不考慮強度、耐擦傷性之問題而應用。
又，作為上述低折射率材料2，可使用含有氟烷基之低聚物、聚矽氧烷樹脂之低聚物等。
上述黏著劑層1之厚度並無特別限定，通常為5 μm～500 μm，較佳為10 μm～400 μm，進而較佳為10 μm～350 μm。又，於圖1中，上述黏著劑層1中分散有上述低折射率材料2之區域自上述第2面f2側以厚度T表示。上述厚度T係根據黏著劑層之厚度適當地設計，通常較佳為600 nm以下，進而較佳為300 nm以下，進而較佳為200 nm以下。再者，為了有效地抑制應用於折射率較低之光學膜之情形時之內部反射，上述厚度T較佳為10 nm以上，進而較佳為15 nm以上，進而較佳為20 nm以上。
上述黏著劑層1中厚度T之分散有低折射率材料2之區域於與基片(基質)1a之關係中，成為不規則之凹凸形狀，於本發明中，厚度T藉由計算凹凸形狀之深度之測定值之平均數而決定。
低折射率材料2以單個分散之狀態、或一部分凝聚之狀態，分佈於上述第2面f2之側。分散有低折射率材料2之區域與未分散有低折射率材料2之基片1a之交界如參照圖1所說明般，成為不規則之凹凸形狀，於測定厚度T時，將於各測定位置，低折射率材料2之90%所存在之深度之範圍作為該測定位置之厚度T之測定值，計算複數個測定位置之測定值之平均數。
圖2係表示黏著劑層1之第2面f2之狀態之俯視圖。如圖2所示，係於基片1a島狀地分散有低折射率材料2之海島構成，存在基片1a之部分及低折射率材料2之部分。第2面f2中之低折射率材料2之面積比較佳為設為30～99%之範圍。面積比係於一邊為10 μm～200 μm之方形區域中，低折射率材料2所占之面積相對於該方形區域之整體面積之比率，對複數個方形區域進行測定，藉由計算其測定值之平均數而求出面積比。
再者，關於上述黏著劑層1中之低折射率材料2之比率，只要上述第1面f1之第1折射率n1與上述第2面f2之第2折射率n2滿足n1＞n2之關係則無特別限制。
本發明之黏著劑層1整體之全光線透過率較佳為85%以上，進而較佳為88%以上，進而較佳為90%以上。黏著劑層1之全光線透過率越高越佳。又，霧度值較佳為1.5%以下，更佳為1%以下，進而較佳為0.8%以下。黏著劑層1之霧度值越低越佳。上述黏著劑層1整體之全光線透過率、霧度值係依據JIS K7361測定之值。
又，本發明之黏著劑層1之第2面之反射率較佳為0.5～3.5%。本發明之黏著劑層1之第2面之反射率低於第1面之反射率，於與低折射率材料之關係中亦可將內表面反射控制為較小，上述第2面之反射率較佳為0.5～3.0%，進而較佳為0.5～2.5%。又，本發明之黏著劑層1之上述第1面與第2面之反射率之差較佳為0.1～3.5%。
再者，雖然本發明之黏著劑層1於上述中以上述第2面f2之第2折射率n2設計為低於上述第1折射率n1為前提而記載，但本發明之黏著劑層1可理解為具有以下特徵之發明：除了可以兩面之折射率之關係特定出以外，上述第2面f2之反射率還低於上述第1面f1之反射率。
又，本發明之黏著劑層1之凝膠分率較佳為30～95重量%。上述凝膠分率較佳為30～90重量%，更佳為35～90重量%，進而較佳為40～90重量%。若上述黏著劑層1之凝膠分率處於上述範圍內，則成為適於具有應力緩和性、確保對凹凸之追隨性之態樣。再者，上述凝膠分率與黏著劑層1中之基片1a有關，不包含低折射率材料2。
＜黏著劑層之凝膠分率之測定＞
將自黏著劑層(低折射率材料之浸透前)刮取約0.2 g而得者作為樣品1。將上述樣品1以具有0.2 μm直徑之鐵氟龍(註冊商標)膜(商品名「NTF1122」，日東電工股份有限公司製造)包裹後，用風箏線捆紮，將之作為樣品2。測定供於下述試驗前之樣品2之重量，將之設為重量A。再者，上述重量A係樣品1(黏著劑層)、鐵氟龍(註冊商標)膜、及風箏線之總重量。又，將上述鐵氟龍(註冊商標)膜與風箏線之總重量設為重量B。其次，將上述樣品2放入裝滿乙酸乙酯之50 ml容器，於23℃靜置1週。其後，自容器取出樣品2，於130℃在乾燥機中乾燥2小時去除乙酸乙酯後，測定樣品2之重量。測定供於上述試驗後之樣品2之重量，將之設為重量C。然後，自下式算出凝膠分率(重量%)。
凝膠分率(重量%)＝(C－B)/(A－B)×100
又，本發明之黏著劑層1於25℃下之儲存彈性模數G'較佳為0.05～0.50 MPa。上述儲存彈性模數G'較佳為0.06～0.45 MPa，更佳為0.07～0.40 MPa，進而較佳為0.08～0.35 MPa。若上述黏著劑層1之儲存彈性模數G'處於上述範圍內，則成為適於薄型化推進之圖像顯示裝置(LCD、OLED終端等)之保護、確保切斷加工時之尺寸穩定性之態樣。
又，本發明之黏著劑層1於1 Hz下之動態黏彈性測定時之tanδ峰值(玻璃轉移溫度)較佳為-5～-50℃。上述tanδ峰值較佳為-7～-50℃，更佳為-9～-45℃，進而較佳為-10～-40℃。若上述黏著劑層1之tanδ峰值處於上述範圍內，則成為適於確保圖像顯示裝置(移動端末等)之抗跌落衝擊性之態樣。
＜黏著劑層之儲存彈性模數G'及tanδ峰值之測定＞
對複數個黏著劑層進行積層，製作厚度約2 mm之試驗樣品。將該試驗樣品沖切為直徑7.9 mm之圓盤狀，夾入平行板，使用Rheometric Scientific公司製造之「Advanced Rheometric Expansion System(ARES，高級流變擴展系統)」，按照以下條件，進行動態黏彈性測定，自測定結果讀取25℃下之黏著劑層之儲存彈性模數G'及tanδ峰值。
(測定條件)
頻率：1 Hz
變形模式：彎扭
測定溫度：-70℃～150℃
升溫速度：5℃/分鐘
繼而，一面參照圖3一面對本發明之黏著劑層之製造方法進行說明。
首先，作為步驟(1)，藉由含有基礎聚合物之黏著劑組合物於支持體S上形成基礎黏著劑層1'。基礎黏著劑層1'形成所得之黏著劑層1中之基片1a。上述基礎黏著劑層1'中之支持體一側為第1面f1'，其相反側為第2面f2'。作為基礎黏著劑層1'之形成方法，並無特別限定，可藉由本領域通常使用之方法形成。具體而言，可將上述黏著劑組合物塗佈於支持體S之單面，將由該黏著劑組合物形成之塗佈膜加以乾燥而形成，或照射紫外線等活性能量線而形成。
作為上述支持體S，並無特別限定，例如可使用脫模膜、透明樹脂膜基材等各種基材。
作為上述脫模膜之構成材料，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等樹脂膜；紙、布、不織布等多孔質材料；網狀物、發泡片材、金屬箔、及其等之層壓體等適當之薄片體等；就表面平滑性優異之方面而言，可較佳地使用樹脂膜。亦可視需要對上述脫模膜進行脫模及防污處理或抗靜電處理。
另一方面，作為步驟(2)，準備分散液10，該分散液係使具有與用於上述黏著劑組合物之基礎聚合物之折射率相比更低之折射率之低折射率材料2分散而成(未圖示)。作為用於分散液之分散介質，可使用能夠使低折射率材料2分散，且，能夠浸透於基礎黏著劑層1'者，可根據低折射率材料之種類、形成基礎黏著劑層之黏著劑組合物之種類適當地選擇。分散介質中之低折射率材料之濃度例如較佳為調整至0.1～10重量%。
作為上述分散介質，例如可列舉：甲醇、乙醇、異丙醇、1-丙醇、正丁醇、2-丁醇、環己醇、第三丁醇、甘油、乙二醇、2-甲基-2,4-戊二醇、酚、對氯酚等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、環戊酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮等酮類；二乙醚、四氫呋喃、二㗁烷、苯甲醚等醚類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸甲酯等酯類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類；正己烷、環己烷等脂肪族烴類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等醯胺類；甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、乙酸甲基溶纖劑等溶纖劑類。該等分散介質可單獨使用，或混合兩種以上使用。再者，上述分散介質僅係例示，本發明所使用之分散介質不受其等限定。
其次，作為步驟(3)，將上述分散液10塗佈於上述基礎黏著劑層1'之第2面f2'，使該分散液10所含之上述低折射率材料2自上述基礎黏著劑層1'之上述第2面f2'向厚度方向浸透。圖3之(3)-1表示剛將分散液10塗佈於基礎黏著劑層1'後之狀態，(3)-2表示低折射率材料2已浸透於基礎黏著劑層1'之狀態。基礎黏著劑層1'之上述第2面f2'之側被分散液10之分散介質膨潤，該過程中分散液10內之低折射率材料2浸透入基礎黏著劑層1'內。
其次，作為步驟(4)，對上述低折射率材料2浸透後之基礎黏著劑層1'加以乾燥。藉由乾燥步驟可使浸透於基礎黏著劑層1'之分散液10之分散介質蒸發，獲得圖1所示之黏著劑層1。將該狀態示於圖3之(4)。乾燥步驟之條件可根據分散介質之種類決定。
上述黏著劑層1中分散有上述低折射率材料2之區域(厚度T)以形成基礎黏著劑層1'之黏著劑組合物與分散液10之分散介質之關係決定。可以上述浸透深度成為上述值之方式適當地選定分散介質。又，可以成為所期望之厚度T之方式適當地設定分散液之塗佈量。
上述分散液之塗佈方法例如可使用輥塗、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥刷、噴塗、浸漬輥塗佈、棒式塗佈、刮塗、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、唇模塗佈、模嘴塗佈機等適當之方法。可藉由分散液之塗佈方法、分散液之濃度、塗佈量等控制上述厚度T。
＜黏著劑組合物＞
對含有形成本發明之黏著劑層1之基片(基質)1a之基礎聚合物之黏著劑組合物進行說明。
上述黏著劑組合物可較佳地使用具有能夠用於光學用途之黏著性之透明材料。作為上述黏著劑組合物，例如可自丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、矽酮系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、環氧系黏著劑、及聚醚系黏著劑適當選擇使用。就透明性、加工性及耐久性等之觀點而言，較佳為使用丙烯酸系黏著劑。可使用對應於上述黏著劑組合物之種類之基礎聚合物。於本發明中，較佳為含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物之丙烯酸系黏著劑。
上述丙烯酸系黏著劑可包含例如含有(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分之部分聚合物及/或自上述單體成分所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物。丙烯酸系黏著劑之基礎聚合物中包含含有(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分之部分聚合物及/或自上述單體成分所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物。
作為上述(甲基)丙烯酸烷基酯，可列舉直鏈狀或支鏈狀之碳數1～24之(甲基)丙烯酸烷基酯，其等之中，較佳為碳數1～9之(甲基)丙烯酸烷基酯，可較佳地例示碳數4～9之具有支鏈之(甲基)丙烯酸烷基酯。就容易取得黏著特性之平衡之方面而言，該(甲基)丙烯酸烷基酯較為合適。作為碳數4～9之具有支鏈之(甲基)丙烯酸烷基酯，具體而言，可列舉(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸異庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯等，其等可單獨使用一種或組合兩種以上使用。
於本發明中，上述碳數1～24之於酯末端具有烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為40重量%以上，更佳為50重量%以上，進而較佳為60重量%以上。
上述單體成分中可含有上述(甲基)丙烯酸烷基酯以外之共聚單體作為單官能性單體成分。共聚單體可作為單體成分中之上述(甲基)丙烯酸烷酯之殘基使用。
作為共聚單體，例如可包含含環狀氮單體。作為上述含環狀氮單體，可無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具備不飽和雙鍵之聚合性官能基，且具有環狀氮結構者。環狀氮結構較佳為於環狀結構內具有氮原子者。作為含環狀氮單體，例如可列舉：N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯吡咯啶酮等內醯胺系乙烯基單體；乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌𠯤、乙烯基吡𠯤、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基𠰌啉等具有含氮雜環之乙烯基系單體等。又，可列舉含有𠰌啉環、哌啶環、吡咯啶環、哌𠯤環等雜環之(甲基)丙烯酸單體。具體而言，可列舉N-丙烯醯𠰌啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯哌啶、N-丙烯醯基吡咯啶等。上述含環狀氮單體之中，較佳為內醯胺系乙烯基單體。
於本發明中，含環狀氮單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為0.5～50重量%，更佳為0.5～40重量%，進而較佳為0.5～30重量%。
本發明中所使用之單體成分中可包含含羥基單體作為單官能性單體成分。作為含羥基單體，可無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具備不飽和雙鍵之聚合性官能基，且具有羥基者。作為含羥基單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯；(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基環烷基酯。除此以外，可列舉羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、烯丙醇、2-羥基乙基乙烯醚、4-羥基丁基乙烯醚、二乙二醇單乙烯醚等。其等可單獨或組合使用。其等之中，較佳為(甲基)丙烯酸羥基烷基酯。
於本發明中，就提高接著力、凝聚力之方面而言，上述含羥基單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為1重量%以上，更佳為2重量%以上，進而較佳為3重量%以上。另一方面，若上述含羥基單體過多，則存在黏著劑層變硬，接著力降低之情形，又，存在黏著劑組合物之黏度變得過高，或凝膠化之情形，因此上述含羥基單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為30重量%以下，更佳為27重量%以下，進而較佳為25重量%以下。
又，形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中可含有其他含官能基單體作為單官能性單體，例如可列舉含羧基單體、具有環狀醚基之單體。
作為含羧基單體，可無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具備不飽和雙鍵之聚合性官能基，且具有羧基者。作為含羧基單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、馬來酸、富馬酸、丁烯酸、異丁烯酸等，其等可單獨或組合使用。伊康酸、馬來酸可使用其等之酐。其等之中，較佳為丙烯酸、甲基丙烯酸，尤佳為丙烯酸。再者，本發明之用於(甲基)丙烯酸系聚合物之製造之單體成分中可任意地使用含羧基單體，另一方面，亦可不使用含羧基單體。
作為具有環狀醚基之單體，可無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具備不飽和雙鍵之聚合性官能基，且具有環氧基或氧雜環丁烷基等環狀醚基者。作為含環氧基單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯縮水甘油醚等。作為含氧雜環丁烷基單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸3-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-乙基-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-丁基-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-己基-氧雜環丁烷基甲酯等。其等可單獨或組合使用。
於本發明中，上述含羧基單體、具有環狀醚基之單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為30重量%以下，更佳為27重量%以下，進而較佳為25重量%以下。
形成本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，作為共聚單體，例如可列舉以CH
2=C(R
1)COOR
2(上述R
1表示氫或甲基，R
2表示碳數1～3之經取代之烷基、環狀之環烷基)表示之(甲基)丙烯酸烷基酯。
此處，作為R
2即碳數1～3之經取代之烷基之取代基，較佳為碳數3～8個之芳基或碳數3～8個之芳氧基。作為芳基，並無限定，較佳為苯基。
作為以此種CH
2=C(R
1)COOR
2表示之單體之例，可列舉(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸3,3,5-三甲基環己酯、(甲基)丙烯酸異𦯉基酯等。其等可單獨或組合使用。
於本發明中，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，可使用50重量%以下之上述以CH
2=C(R
1)COOR
2表示之(甲基)丙烯酸，較佳為45重量%以下，更佳為40重量%以下，進而較佳為35重量%以下。
作為其他共聚單體，亦可使用：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、氟(甲基)丙烯酸酯、矽酮(甲基)丙烯酸酯或丙烯酸2-甲氧基乙酯等丙烯酸酯系單體；以及含醯胺基單體、含胺基單體、含醯亞胺基單體、N-丙烯醯𠰌啉、乙烯醚單體等。又，作為共聚單體，可使用(甲基)丙烯酸萜烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯等具有環狀結構之單體。
進而，可列舉含有矽原子之矽烷系單體等。作為矽烷系單體，例如可列舉3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷等。
形成本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，除上述例示之單官能性單體之外，為了調整黏著劑組合物之凝聚力，亦可視需要含有多官能性單體。
多官能性單體係具有至少2個(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具備不飽和雙鍵之聚合性官能基之單體，例如可列舉：(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2-乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,12-十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯等多元醇與(甲基)丙烯酸之酯化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯苯、環氧丙烯酸酯、丙烯酸聚酯、丙烯酸胺基甲酸酯、二(甲基)丙烯酸丁烯酯、二(甲基)丙烯酸己烯酯等。其等之中，可較佳地使用三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。多官能性單體可單獨使用一種或組合兩種以上使用。
多官能性單體之使用量因其分子量或官能基數等而異，相對於單官能性單體之合計100重量份，較佳為使用3重量份以下，更佳為2重量份以下，進而較佳為1重量份以下。又，作為下限值並無特別限定，較佳為0重量份以上，更佳為0.001重量份以上。藉由多官能性單體之使用量處於上述範圍內，可提昇接著力。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適當選擇溶液聚合、紫外線(UV)聚合等輻射聚合，塊狀聚合、乳化聚合等各種自由基聚合等公知之製造方法。又，所得之(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等之任一者。
又，於本發明中，亦可較佳地使用上述單體成分之部分聚合物。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適當選擇溶液聚合、紫外線(UV)聚合等輻射聚合，塊狀聚合、乳化聚合等各種自由基聚合等公知之製造方法。又，所得之(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等之任一者。
於藉由自由基聚合製造上述(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時，可於上述單體成分中適當添加用於自由基聚合之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等，從而進行聚合。上述用於自由基聚合之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限制，可適當選擇使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件來控制，可根據其等之種類適當調整其使用量。
例如，於溶液聚合等中，作為聚合溶劑，例如可使用乙酸乙酯、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，可於氮等惰性氣體氣流下，加入聚合起始劑，通常於50～70℃左右、5～30小時左右之反應條件下進行反應。
又，於藉由輻射聚合製造上述(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時，可藉由向上述單體成分照射電子束、紫外線(UV)等放射線而聚合製造。於進行紫外線聚合時，就可縮短聚合時間之優點等而言，較佳為使單體成分含有光聚合起始劑。
(矽烷偶合劑)
進而，本發明之黏著劑組合物中可含有矽烷偶合劑。矽烷偶合劑之調配量相對於基礎聚合物(例如，上述(甲基)丙烯酸系聚合物)100重量份，較佳為1重量份以下，更佳為0.01～1重量份，進而較佳為0.02～0.6重量份。
(交聯劑)
本發明之黏著劑組合物可含有交聯劑。作為交聯劑，包括異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、矽酮系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、矽烷系交聯劑、烷基醚化三聚氰胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、過氧化物等交聯劑。交聯劑可單獨使用一種或組合兩種以上使用。其等之中，可較佳地使用異氰酸酯系交聯劑。
上述交聯劑可單獨使用一種，亦可混合兩種以上使用，作為整體之含量，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分100重量份，較佳為5重量份以下，更佳為0.01～5重量份，進而較佳為0.01～4重量份，尤佳為0.02～3重量份。
(其他添加劑)
本發明之黏著劑組合物中，除上述成分之外，視用途亦可包含適當之添加劑。例如可列舉黏度調整劑、剝離調整劑、黏著賦予劑(例如，包含松脂衍生物樹脂、聚萜烯樹脂、石油樹脂、油溶性酚樹脂等之常溫下為固體、半固體或液狀者)、塑化劑、軟化劑
、顏料、著色劑(顏料、染料等)、pH調整劑(酸或鹼)、防銹劑、防老化劑、抗氧化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑等。
本發明之黏著片具有上述黏著劑層1並於該黏著劑層1之單面或兩面具有支持體。圖4係於上述黏著劑層1之第1面f1具有支持體3a、於第2面f2具有支持體3b之情形。支持體3a、3b可使用與圖3所示之黏著劑層1中所使用之支持體S同樣者。又，支持體3a可直接使用於圖3所示之黏著劑層1之製造方法中所使用之支持體S。支持體3b可於藉由圖3所示之製造方法製造黏著劑層1後，適當地設於該黏著劑層1之第2面f2。
本發明之附黏著劑層之光學膜A具有光學膜4及設於該光學膜4之單面或兩面之黏著劑層1。上述黏著劑層1可設於光學膜4之單面或兩面之任一者。關於黏著劑層1，該黏著劑層1之第1面f1側可設於上述光學膜4。於將黏著劑層1設於光學膜4之單面之情形時，於其他單面亦可設置通常之黏著劑層。圖5中，為僅於光學膜4之單面設有黏著劑層1之情形。圖5係於黏著劑層1之第2面f2具有支持體3b之情形。
＜光學膜＞
作為光學膜，例如可使用用於液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之形成者，其種類並無特別限制。例如，作為光學膜，可列舉偏光膜。偏光膜通常使用於偏光元件之單面或兩面具有透明保護膜者。
＜偏光膜＞
上述偏光膜可列舉於偏光元件之至少一面具有透明保護膜者。
偏光元件並無特別限定，可使用各種偏光元件。作為偏光元件，例如可列舉：使碘或二色性染料之二色性物質吸附於聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜並進行單軸延伸而成者；聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。其等之中，較佳為包含聚乙烯醇系膜與碘等二色性物質之偏光元件。該等偏光元件之厚度並無特別限制，通常為5～80 μm左右。
將聚乙烯醇系膜以碘染色並進行單軸延伸而成之偏光元件例如可藉由將聚乙烯醇系膜藉由浸漬於碘之水溶液而染色，並延伸至原長度之3～7倍而製作。亦可視需要於可包含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等之水溶液中浸漬。進而亦可視需要於染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中並進行水洗。藉由對聚乙烯醇系膜進行水洗可洗淨聚乙烯醇系膜表面之污垢或抗結塊劑，除此以外，藉由使聚乙烯醇系膜膨潤亦可起到防止染色不均等不均勻之效果。可於以碘染色後進行延伸，可一面染色一面延伸，亦可延伸後再以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液或水浴中進行延伸。
又，於本發明中，亦可使用厚度10 μm以下之薄型偏光元件。就薄型化之觀點而言，該厚度較佳為1～7 μm。此種薄型之偏光元件厚度不均較少，視認性優異，尺寸變化亦較少，因此耐久性優異，進而就可實現薄型化之方面而言，作為偏光膜之厚度亦較佳。
作為薄型之偏光元件，代表性而言，可列舉日本專利特開昭51-069644號公報或日本專利特開2000-338329號公報、或國際公開第2010/100917號說明書、或日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包括將聚乙烯醇系樹脂(以下，亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材於積層體之狀態下延伸之步驟及進行染色之步驟之製造方法來獲得。若藉由該製造方法，則即便PVA系樹脂層較薄，由於被延伸用樹脂基材所支持，亦可不發生延伸所引起之斷裂等異常而進行延伸。
作為上述薄型偏光膜，就可高倍率地延伸並可提昇偏光性能之方面而言，於包括於積層體之狀態下延伸之步驟及進行染色之步驟之製造方法中，較佳為藉由如國際公開第2010/100917號說明書、或日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中所記載之包括於硼酸水溶液中延伸之步驟之製造方法而獲得者，尤佳為藉由日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中所記載之包括在於硼酸水溶液中延伸前輔助性地進行空中延伸之步驟之製造方法而獲得者。
作為構成透明保護膜之材料，例如可使用透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、各向同性等優異之熱塑性樹脂。作為此種熱塑性樹脂之具體例，可列舉三乙酸纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降𦯉烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、及其等之混合物。再者，於偏光元件之單側，藉由接著劑層而貼合透明保護膜，於另一側，可使用(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂作為透明保護膜。透明保護膜中可包含一種以上任意之適當之添加劑。作為添加劑，例如可列舉紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、著色防止劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量較佳為50～100重量%，更佳為50～99重量%，進而較佳為60～98重量%，尤佳為70～97重量%。於透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量為50重量%以下之情形時，有熱塑性樹脂無法充分地表現本來具有之高透明性等之虞。
透明保護膜之厚度可適當地決定，就強度及操作性等作業性、薄膜性等方面而言，通常為1～500 μm左右。
於上述透明保護膜之未與偏光元件接著之面，可形成硬塗層或抗反射層、抗黏層等功能層，又，亦可為實施以擴散及防眩為目的之處理而成者。
用於上述偏光元件與透明保護膜之貼合之接著劑只要光學上透明，則無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔系、自由基硬化型、陽離子硬化型之各種形態者，較佳為水系接著劑或自由基硬化型接著劑。
又，作為光學膜，例如可列舉反射板或反透射板、相位差膜(包含1/2或1/4等波長板)、視覺補償膜、亮度提高膜等作為用於液晶顯示裝置等之形成之光學層者。其等可單獨作為光學膜使用，除此以外，亦可於實際應用時積層於上述偏光膜而使用1層或2層以上。亦可使用相位差膜作為上述透明保護膜。相位差膜可視目的適當使用使高分子膜延伸、收縮而得者或使液晶材料定向、固定化而成者。
將上述光學層積層於偏光膜而成之光學膜雖然亦可以於液晶顯示裝置等之製造過程中依序單獨積層之方式形成，但預先積層而製成光學膜者，有品質之穩定性及組裝作業等優異並可改善液晶顯示裝置等之製造步驟之優點。於積層中可使用黏著層等適當之接著構件。於進行上述偏光膜與其他光學層之接著時，其等之光學軸可根據目標相位差特性等設為適當之配置角度。
本發明之光學積層體B具有附黏著劑層之光學膜A及貼合於該附黏著劑層之光學膜A之黏著劑層1之低折射率光學構件5。光學構件5設於黏著劑層1之第2面f2側。圖6所記載之光學積層體B例示了自圖5所記載之附黏著劑層之光學膜A剝離支持體3b(例如脫模膜)後，將光學構件5貼合於黏著劑層1之情形。作為上述光學構件5，例如可例示抗反射膜、光擴散膜、稜鏡膜、導光膜、透鏡膜、菲涅耳透鏡或雙凸透鏡或微透鏡膜等。
本發明之附黏著劑層之光學膜或光學積層體可較佳地用於液晶顯示裝置等各種圖像顯示裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可依照先前進行。即，液晶顯示裝置通常可藉由將液晶單元等之顯示面板與附黏著劑層之光學膜、或光學積層體及符合需要之照明系統等構成零件適當地組裝並組裝驅動電路等而形成，於本發明中除使用利用本發明所得之附黏著劑層之光學膜或光學積層體之外，並無特別限定，可依照先前。對於液晶單元，亦可使用例如TN(Twisted Nematic，扭轉向列)型或STN(Super Twisted Nematic，超扭轉向列)型、π型、VA(Vertical Alignment，垂直配向)型、IPS(In-Plane Switching，共平面切換)型等任意類型。
可形成於液晶單元等之顯示面板之單側或兩側配置有附黏著劑層之光學膜或光學積層體之液晶顯示裝置，或於照明系統中使用背光或反射板者等適當之液晶顯示裝置。於此情形時，利用本發明所得之附黏著劑層之光學膜或光學積層體可設置於液晶單元等之顯示面板之單側或兩側。於將光學膜設於兩側之情形時，其等可相同，亦可不同。進而，於形成液晶顯示裝置時，例如可將擴散層、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列板、光擴散片、背光等適當之零件於適當之位置配置1層或2層以上。
[實施例]
以下，藉由實施例具體地說明本發明，但本發明並不受該等實施例限定。再者，各例中之份及%均為重量基準。以下無特別規定之室溫放置條件全部為23℃ 65%RH。
(脫模膜)
使用單面用矽酮進行剝離處理後之厚度38 μm之聚酯膜(商品名：DIAFOIL MRF，三菱樹脂(股)製造)。
比較例1
(黏著劑組合物(A)之製備)
將丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)41重量份、丙烯酸十八烷基酯(ISTA)41重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)14重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)4重量份、兩種光聚合起始劑(商品名：Irgacure184，BASF製造)0.035重量份、及光聚合起始劑(商品名：Irgacure651，BASF製造)0.035重量份投入四口燒瓶製備單體混合物。其次，將該單體混合物於氮氣氛圍下暴露於紫外線而進行部分性光聚合，藉此獲得聚合率約10重量%之部分聚合物(丙烯酸系聚合物漿液)。向如此所得之丙烯酸系聚合物漿液之100重量份添加三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)0.025重量份、矽烷偶合劑(商品名：KBM-403，信越化學工業(股)製造)0.3份後，將其等均勻地混合而製備黏著劑組合物(A)。
(黏著劑層(A)之製造)
將上述黏著劑組合物(A)以黏著劑層形成後之厚度成為100 μm之方式塗佈於脫模膜之剝離處理面上而形成塗佈層。其次，將另一脫模膜以剝離處理面成為塗佈層側之方式被覆於上述塗佈層之表面。其後，於照度：6.5 mW/cm
2、光量：2000 mJ/cm
2、峰波長：350 nm之條件下進行紫外線照射，使上述塗佈層光硬化而形成黏著劑層(A)，製作於黏著劑層(A)之兩面設有脫模膜之黏著片(無基材型，黏著劑層之厚度：100 μm)。黏著劑層(A)之藉由阿貝折射計於23℃之環境下測定之D線之折射率(n
D)為1.48，凝膠分率為67%。
比較例2
(黏著劑組合物(B)之製備)
於包含丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)76重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)18重量份、及丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)16重量份之單體混合物中，調配作為光聚合起始劑之1-羥基環己基苯基酮(商品名：Irgacure184，於波長200～370 nm具有吸收帶，BASF公司製造)0.050重量份、2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名：Irgacure651，於波長200～380 nm具有吸收帶，BASF公司製造)0.050重量份後，照射紫外線至黏度(測量條件：BH黏度計No.5轉子，10 rpm，測定溫度30℃)成為約20 Pa・s為止，獲得上述單體成分之一部分聚合之預聚物組合物(聚合率：9%)。其次，向該預聚物組合物添加己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.060重量份、矽烷偶合劑(商品名：KBM-403，信越化學工業(股)製造)0.3重量份並進行混合，獲得黏著劑組合物(b)。
(黏著劑組合物(B)之製備)
對上述所得之黏著劑組合物(b)(以形成丙烯酸系聚合物之單體成分為100重量份)，添加以固形物成分成為15%之方式溶解於丙烯酸丁酯而成之2,4-雙-[{4-(4-乙基己氧基)-4-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三𠯤(商品名：Tinosorb S，吸收光譜之極大吸收波長：346 nm，BASF JAPAN公司製造)0.8重量份(固形物成分重量)、及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物(商品名：Irgacure819，於波長200～450 nm具有吸收帶，BASF JAPAN公司製造)0.3重量份並進行攪拌，藉此獲得黏著劑組合物(B)。
(黏著劑層(B)之製造)
將上述黏著劑組合物(B)以黏著劑層形成後之厚度成為150 μm之方式塗佈於脫模膜之剝離處理面上而形成塗佈層。其次，將另一脫模膜以剝離處理面成為塗佈層側之方式被覆於上述塗佈層之表面。其後，於照度：6.5 mW/cm
2、光量：2000 mJ/cm
2、峰波長：350 nm之條件下進行紫外線照射，使上述塗佈層光硬化，形成黏著劑層(B)，製作於黏著劑層(B)之兩面設有脫模膜之黏著片(無基材型，黏著劑層之厚度：150 μm)。黏著劑層(B)之藉由阿貝折射計於23℃之環境下測定之D線之折射率(n
D)為1.49，凝膠分率為88%。
比較例3
(黏著劑組合物(C)之製備)
向具備溫度計、攪拌機、回流冷卻管及氮氣導入管之可分離式燒瓶，投入丙烯酸丁酯(BA)95重量份、丙烯酸(AA)5重量份、作為聚合起始劑之偶氮二異丁腈0.2重量份、及乙酸乙酯233重量份後，通入氮氣，一面攪拌一面進行約1小時之氮氣置換。其後，將燒瓶加熱至60℃，反應7小時，獲得重量平均分子量(Mw)110萬之丙烯酸系聚合物。向上述丙烯酸系聚合物溶液(以固形物成分為100重量份)，加入作為異氰酸酯系交聯劑之三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯(商品名：Coronate L，Nippon Polyurethane Industry(股)製造)0.8重量份、矽烷偶合劑(商品名：KBM-403，信越化學工業(股)製造)0.1重量份而製備黏著劑組合物(C：溶液)。
(黏著劑層(C)之製造)
將上述黏著劑組合物(C：溶液)以乾燥後之厚度成為23 μm之方式塗佈於脫模膜之剝離處理面上後，於100℃乾燥3分鐘而去除溶劑，獲得黏著劑層(C)。其後，於50℃加熱48小時而進行交聯處理。將另一脫模膜以剝離處理面成為上述露出面側之方式被覆於所得之黏著劑層(C)之露出面，製作於黏著劑層(C)之兩面設有脫模膜之黏著片(無基材型，黏著劑層之厚度：23 μm)。黏著劑層(C)之藉由阿貝折射計於23℃之環境下測定之D線之折射率(n
D)為1.47，凝膠分率為82%。
比較例4
(黏著劑組合物(D)之製備)
向具備溫度計、攪拌機、回流冷卻管及氮氣導入管之可分離式燒瓶，以固形物成分成為30重量%之方式投入作為單體成分之丙烯酸丁酯(BA)99重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)1重量份、作為聚合起始劑之偶氮二異丁腈0.2重量份及作為聚合溶劑之乙酸乙酯後，通入氮氣，一面攪拌一面進行約1小時之氮氣置換。其後，將燒瓶加熱至60℃，反應7小時獲得重量平均分子量(Mw)110萬之丙烯酸系聚合物。向該丙烯酸系聚合物之溶液(固形物成分100份)，加入作為異氰酸酯系交聯劑之三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯(三井化學(股)製造之「Takeneto D110N」)0.11份、矽烷偶合劑(信越化學(股)製造之「KBM-403」)0.1份而製備黏著劑組合物(D：溶液)。
(黏著劑層(D)之製造)
將上述黏著劑組合物(D：溶液)以乾燥後之厚度成為20 μm之方式塗佈於脫模膜之剝離處理面上後，於120℃乾燥3分鐘而去除溶劑，獲得黏著劑層(D)。其後，於50℃加熱48小時而進行交聯處理。將另一脫模膜以剝離處理面成為上述露出面側之方式被覆於所得之黏著劑層(D)之露出面，製作於黏著劑層(D)之兩面設有脫模膜之黏著片(無基材型，黏著劑層之厚度：23 μm)。黏著劑層(D)之藉由阿貝折射計於23℃之環境下測定之D線之折射率(n
D)為1.47，凝膠分率為75%。
實施例1
(含有低折射率粒子之分散液之製備)
將中空奈米氧化矽粒子(中空粒子，折射率：1.24，平均一次粒徑：75 nm，商品名：Thrulya5320，JGC Catalysts and Chemicals股份有限公司製造)用分散介質(甲基乙基酮/甲基異丁基酮＝9/1：容量比)稀釋，製備粒子濃度為1.5重量%之分散液作為含有低折射率粒子之分散液。
(折射率經調整之黏著劑層之製造)
將比較例1中所得之黏著片之一側之脫模膜剝離。將上述分散液以折射率調整區域之厚度成為約20 nm～150 nm左右之方式用棒式塗佈機RDS No.3塗佈於所露出之黏著劑層(A)之表面，於110℃之乾燥箱中乾燥180秒。其次，於分散有中空奈米氧化矽粒子之黏著劑層(A)之表面新貼合第2脫模膜，獲得黏著片。再者，相對於第2脫模膜，將相反側之脫模膜設為第1脫模膜。
實施例2～8
於實施例1中，將黏著劑層之種類、分散液之種類(低折射率粒子之種類、其平均粒徑、分散介質之種類、粒子濃度)如表1所示般進行改變，除此以外，以與實施例1同樣之方式，製作具有折射率經調整之黏著劑層之黏著片。
再者，於乾燥後之折射率調整區域之目標厚度為150以上～300 nm左右之情形時，使用棒式塗佈機RDS No.5，於乾燥後之折射率調整區域之目標厚度為20～150 nm左右之情形時，使用棒式塗佈機RDS No.3。
(評價)
將對實施例及比較例中所得之黏著劑層(黏著片)進行下述評價而得之結果示於表1。
＜平均表面折射率之測定＞
對於實施例中所得之黏著劑層(折射率調整區域側：第2面)之平均表面折射率，使用光譜式橢圓儀(EC-400，JA. Woolam製造)測定鈉D線(589 nm)上之折射率。於自實施例及比較例中所得之黏著片剝離兩面之脫模膜，將黑板貼合於未塗佈分散液之面(第1面)之狀態下，測定塗佈了分散液之面(第2面)之平均折射率。對於比較例之黏著片，於剝離兩側之脫模膜，將黑板貼合於一面之狀態下，測定黏著劑層表面之平均折射率。比較例之黏著片之黏著劑層兩面之折射率相同。
＜折射率調整區域之厚度之測定＞
製備黏著劑層之深度方向之剖面，進行TEM(Transmission Electron Microscopy，透射電子顯微法)觀察。根據所得之TEM圖像(直接倍率3000～30000倍)測量折射率調整區域之厚度。折射率調整區域之厚度設為黏著劑層中分散有粒子之區域與未分散之區域之界面之凹凸之平均值，於難以判別上述界面之情形時，設為將表面TEM圖像用圖像處理軟體(ImageJ)進行二值化圖像處理，粒子之90%(面積)所存在之區域之深度之厚度。
＜全光線透過率、霧度＞
自實施例中所得之黏著片剝離第2脫模膜(黏著劑層之第2面側)，貼合於載玻片(商品名：白研磨No.1，厚度：0.8～1.0 mm，全光線透過率：92%，霧度：0.2%，Matsunami Glass Ind(股)製造)。進而剝離另一側之第1脫模膜，製作具有黏著劑層(折射率調整區域為載玻片側)/載玻片之層構成之試驗片。另一方面，對於比較例之黏著劑層，剝離一側之脫模膜，貼合於與上述同樣之載玻片，進而剝離另一側之脫模膜，製作具有黏著劑層/載玻片之層構成之試驗片。使用霧度計(裝置名：HM-150，村上色彩研究所(股)製作)測定上述試驗片之可見光區域中之全光線透過率、霧度值。
＜接著性＞
自實施例及比較例中所得之黏著片切取長度100 mm、寬度20 mm之片材段。其次，自得自實施例之黏著片之片材段剝離第1脫模膜(黏著劑層未塗佈分散液之側)後，將PET(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)膜(商品名：Lumirror S-10，厚度：25 μm，東麗(股)製造)貼附(襯底)於該黏著劑層面。然後，剝離第2脫模膜，作為試驗板於2 kg輥、1往返之壓接條件下壓接於玻璃板(商品名：鈉鈣玻璃♯0050，Matsunami Glass Ind(股)製造)，製作包含試驗板/黏著劑層(第1面為PET側)/PET膜之樣品。另一方面，對於得自比較例之黏著片之片材段，剝離一側之脫模膜後，將與上述同樣之PET膜貼附於該黏著劑層面後，剝離另一側之脫模膜，使用與上述同樣之試驗板製作樣品。對所得之樣品進行高壓釜處理(50℃，0.5 MPa，15分鐘)，其後，於23℃、50% R.H.之氛圍下放冷30分鐘。放冷後，使用拉力試驗機(裝置名：Autograph AG-IS，島津製作所(股)製造)，依照JIS Z0237，於23℃、50% R.H.之氛圍下，於拉伸速度300 mm/分鐘、剝離角度180°之條件下，自試驗板剝離黏著片(黏著劑層/PET膜)，測定180°剝離接著力(N/20 mm)。
＜表面反射率之測定＞
將實施例中所得之黏著劑層之塗佈有分散液之側之面(第2面)設為反射率測定面。自實施例中所得之黏著片剝離第1脫模膜(黏著劑層未塗佈分散液之側)，貼合黑色丙烯酸系樹脂板(商品名「CLAREX」，Nitto Jushi Kogyo製造)後，剝離第2脫模膜(黏著劑層塗佈有分散液之側)，以該剝離面作為表面反射率測定用之試樣。另一方面，對於比較例中所得之黏著劑層，自黏著片剝離一側之脫模膜後，貼合於與上述同樣之黑色丙烯酸系樹脂板後，剝離另一側之脫模膜，以該剝離面作為表面反射率測定用之試樣。表面反射率(Y值)係藉由反射型分光光度計(U4100，日立高新技術公司(股)製造)進行測定。
＜內部反射抑制率(透過率之提昇效果)之測定＞
自實施例中所得之黏著片剝離第2脫模膜(黏著劑層塗佈有分散液之側)後，於該黏著劑層面，貼合三乙醯纖維素膜上形成有折射率1.36之低折射率層之積層膜之低折射率層側，將黏著劑層之低折射率調整區域以與上述積層膜上之低折射率層相接之方式進行積層。其次，剝離第1脫模膜，將載玻片(商品名：研磨No.1，厚度：0.8～1.0 mm，全光線透過率：92%，霧度：0.2%，Matsunami Glass Ind(股)製造)貼合於該黏著劑層面。如此，製作具有三乙醯纖維素膜/低折射率層/黏著劑層(第2面為低折射率層側)/載玻片之層構成之試驗片。另一方面，對於比較例中所得之黏著劑層，自黏著片剝離一側之脫模膜後，以與上述同樣之方式，製作具有三乙醯纖維素膜/低折射率層/黏著劑層/載玻片之層構成之試驗片。
內部反射抑制率(透過率之提昇效果)係測定上述所製作之試驗片之透過率並基於下式算出。再者，所謂下式中之「無粒子之情形時之透過率(%)」，係比較例之試驗片之反射率。即，內部反射抑制效果(透過率提昇效果)係表示藉由具有折射率調整層而能夠降低多少程度之內部反射率之指標。
內部反射抑制率(%)＝「透過率(%)」－「無粒子之情形時之透過率(%)」
[表1]
| 黏著劑層 | 分散液 | 評價 | |||||||||||||||
| 黏著劑層之基片 (基質) | 厚度 (μm) | 低折射率材料之分散區域 | 分散液 | 粒子濃度 [%] | 透過特性 | 180度剝離接著力 [N/20 mm] | 膠黏劑面反射特性 | 內部反射抑制效果(透過率之提昇效果) | |||||||||
| 種類 | 第1面： 第1折射率 (n1) | 低折射率粒子 | 第2面： 第2折射率 (n2)：表面平均 | 粒子之深度 尺寸T [nm] | 全光線透過率 [%] | 霧度值 | Y(D65) | 第1面與第2面之反射率差 | 透過率Y (%) | 內部反射抑制率 (%) | |||||||
| 種類 | 折射率 | 平均粒徑 [nm] | |||||||||||||||
| 實施例1 | A | 1.48 | 100 | (X1)中空粒子 | 1.24 | 75 | 1.35 | 140 | MEK/MIBK | 1.5 | 91.5 | 0.8 | 10.8 | 2.0 | 2.0 | 90.8 | 0.8 |
| 實施例2 | A | 1.48 | 100 | (X1)中空粒子 | 1.24 | 75 | 1.36 | 100 | 乙醇/MIBK | 1.4 | 91.2 | 0.6 | 12.2 | 1.6 | 2.4 | 91.0 | 1.0 |
| 實施例3 | A | 1.48 | 100 | (X2)中空粒子 | 1.32 | 80 | 1.37 | 100 | IPA | 1.5 | 91.7 | 0.8 | 9.2 | 2.4 | 1.6 | 90.5 | 0.5 |
| 實施例4 | A | 1.48 | 100 | (X3)中空粒子 | 1.33 | 60 | 1.38 | 150 | IPA | 2.0 | 91.8 | 0.6 | 11.8 | 2.4 | 1.6 | 90.5 | 0.5 |
| 實施例5 | A | 1.48 | 100 | (Y1) MgF 2 | 1.38 | 40 | 1.45 | 80 | 乙醇 | 1.8 | 92.2 | 0.3 | 13.5 | 3.4 | 0.6 | 90.5 | 0.2 |
| 實施例6 | C | 1.47 | 23 | (Y1)MgF 2 | 1.38 | 40 | 1.44 | 200 | 乙醇 | 2.0 | 92.2 | 0.5 | 8.8 | 3.3 | 0.7 | 90.5 | 0.2 |
| 實施例7 | B | 1.49 | 150 | (Y2)冰晶石 | 1.34 | 50 | 1.41 | 150 | 乙醇 | 2.0 | 92.1 | 0.5 | 12.5 | 3.0 | 1.0 | 90.4 | 0.4 |
| 實施例8 | D | 1.47 | 20 | (Y2)冰晶石 | 1.34 | 50 | 1.42 | 200 | 乙醇 | 2.0 | 92.2 | 0.4 | 2.3 | 3.2 | 0.8 | 90.3 | 0.3 |
| 比較例1 | A | 1.48 | 100 | - | - | - | 1.48 | - | - | - | 92.2 | 0.3 | 18.5 | 4.0 | 0.0 | 90.0 | - |
| 比較例2 | B | 1.49 | 150 | - | - | - | 1.49 | - | - | - | 92.3 | 0.4 | 18.0 | 4.0 | 0.0 | 90.0 | - |
| 比較例3 | C | 1.47 | 23 | - | - | - | 1.47 | - | - | - | 92.3 | 0.3 | 9.5 | 4.0 | 0.0 | 90.0 | - |
| 比較例4 | D | 1.47 | 20 | - | - | - | 1.47 | - | - | - | 92.4 | 0.3 | 4.2 | 4.0 | 0.0 | 90.0 | - |
表1中示出內容如下：
(X1)中空奈米氧化矽粒子：折射率1.24(商品名：Thrulya5320，粒徑75 nm，JGC Catalysts and Chemicals股份有限公司製造)；
(X2)中空聚合物微粒子：折射率1.32(商品名：TechpolymerNH，型號XX-255AA，粒徑80 nm，Sekisui Plastics股份有限公司製造)；
(X3)中空聚合物微粒子：折射率1.33(商品名：TechpolymerNH，型號XX-260AA，粒徑60 nm，Sekisui Plastics股份有限公司製造)；
(Y1)MgF
2：1.38，平均一次粒徑：40 nm，CIK NanoTek(股)製造；
(Y2)Na
3AlF
6：1.34，平均一次粒徑：50 nm，CIK NanoTek(股)製造；
MEK/MIBK：甲基乙基酮/甲基異丁基酮＝9/1(容量比)；
乙醇/MIBK：乙醇/甲基異丁基酮＝9/1(容量比)；
IPA：異丙醇。
1:黏著劑層
1':基礎黏著劑層
1a:黏著劑層整體之基片(基質)
2:低折射率材料
3a:支持體
3b:支持體
4:光學膜
5:低折射之光學構件
10:分散液
A:附黏著劑層之光學膜
B:光學積層體
f1:黏著劑層之第1面
f1':基礎黏著劑層之第1面
f2:黏著劑層之第2面
f2':基礎黏著劑層之第2面
T:折射率調整區域之厚度
S:支持體
圖1係表示本發明之黏著劑層之一實施形態之剖視圖。
圖2係表示本發明之黏著劑層之第2面之狀態之俯視圖。
圖3係表示用於製作本發明之黏著劑層之步驟之概略圖。
圖4係表示本發明之黏著片之一實施形態之剖視圖。
圖5係表示本發明之附黏著劑層之光學膜之一實施形態之剖視圖。
圖6係表示本發明之光學積層體之一實施形態之剖視圖。
1:黏著劑層
1a:黏著劑層整體之基片(基質)
2:低折射率材料
f1:黏著劑層之第1面
f2:黏著劑層之第2面
T:折射率調整區域之厚度
Claims (18)
- 一種黏著劑層，其特徵在於：其係具有第1面及於上述第1面之相反側具有第2面之一層黏著劑層，且 上述黏著劑層藉由含有基礎聚合物之黏著劑組合物形成有黏著劑層整體之基片， 上述第1面具有基於上述黏著劑組合物之第1折射率，另一方面，上述第2面之第2折射率低於上述第1面之第1折射率， 於上述黏著劑層中，於上述第2面側分散有具有低於上述基礎聚合物之折射率的折射率之低折射率材料， 分散有上述低折射率材料之區域之厚度自上述黏著劑層之第2面側於厚度方向上為600 nm以下。
- 如請求項1之黏著劑層，其中上述第1面之第1折射率與第2面之第2折射率之差為0.02～0.45。
- 如請求項1之黏著劑層，其中上述第2面之第2折射率為1.45以下。
- 如請求項1之黏著劑層，其中上述基礎聚合物之折射率為1.40～1.55，上述低折射率材料之折射率為1.10～1.45。
- 如請求項1之黏著劑層，其中上述低折射率材料為平均粒徑10 nm～150 nm之粒子。
- 如請求項1之黏著劑層，其中上述低折射率材料為選自由MgF 2、CaF 2及Na 3AlF 6所組成之群中之至少一種無機粒子、以及選自由多孔質氧化矽粒子、中空奈米氧化矽粒子、及中空聚合物粒子所組成之群中之至少一種粒子。
- 如請求項1之黏著劑層，其全光線透過率為85%以上。
- 如請求項1之黏著劑層，其中上述第2面之反射率為0.5～3.5%。
- 如請求項1之黏著劑層，其中上述第1面與第2面之反射率之差為0.1～3.5%。
- 如請求項1之黏著劑層，其凝膠分率為30～95重量%。
- 如請求項1之黏著劑層，其於25℃之儲存彈性模數G'為0.05～0.50 MPa。
- 如請求項1至11中任一項之黏著劑層，其於1 Hz下之動態黏彈性測定時之tanδ峰值為-5～-50℃。
- 一種黏著劑層之製造方法，其特徵在於：其係如請求項1至12中任一項之黏著劑層之製造方法，且包括： 步驟(1)，其係利用含有基礎聚合物之黏著劑組合物於支持體上形成基礎黏著劑層； 步驟(2)，其係準備使具有低於上述基礎聚合物之折射率的折射率之低折射率材料分散而成之分散液； 步驟(3)，其係將上述分散液塗佈於上述基礎黏著劑層之支持體側之第1面相反側之第2面，使該分散液所包含之上述低折射率材料自上述基礎黏著劑層之上述第2面向厚度方向浸透；及 步驟(4)，其係將上述低折射率材料浸透後之黏著劑層加以乾燥。
- 一種黏著片，其特徵在於：其具有如請求項1至12中任一項之黏著劑層及於該黏著劑層之單面或兩面具有支持體。
- 一種附黏著劑層之光學膜，其特徵在於：其係具有光學膜及設於該光學膜之單面或兩面之黏著劑層者，且 上述單面或兩面之黏著劑層為如請求項1至12中任一項之黏著劑層，該黏著劑層之第1面側設於上述光學膜。
- 如請求項15之附黏著劑層之光學膜，其中上述光學膜為偏光膜。
- 一種光學積層體，其特徵在於：其具有如請求項15或16之附黏著劑層之光學膜及貼合於該附黏著劑層之光學膜之黏著劑層之低折射率光學構件。
- 一種圖像顯示裝置，其特徵在於：其具有如請求項1至12中任一項之黏著劑層、如請求項15或16之附黏著劑層之光學膜、或如請求項17之光學積層體。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018-092443 | 2018-05-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202413578A true TW202413578A (zh) | 2024-04-01 |
Family
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