TW202409740A - 串流線性度圖像最佳化 - Google Patents

Abstract

一種用於獲得一工件圖案化裝置之線寬補償資料之方法包括運用可在一掃掠方向上掃掠之一曝光光束印刷(S2)一校準圖案。該校準圖案具有在該掃掠方向上延伸之具有不同線寬及距相鄰線之不同距離之大量曝光及未曝光線。量測(S4)線寬。計算(S6)該等經量測線寬之偏差。基於該等經計算偏差，運算(S8)旨在用於在印刷之前調適圖案印刷資料之線寬以補償該等經計算偏差之線寬補償資料。該線寬補償資料與至少一預期線寬及關於該線是否為一曝光或未曝光線之資訊相關聯。亦揭示一種用於校準印刷資料之方法及一種用於基於該印刷資料印刷一圖案之方法以及其系統。

Description

串流線性度圖像最佳化

本技術係關於圖案印刷及其裝置，且特定言之係關於一種用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案之方法，一種用於校準印刷資料之方法，一種用於印刷一圖案之方法及其裝置。

在現今之半導體工業中，由基於雷射之遮罩寫入器產生之遮罩通常用於製造不同種類之進階晶片及圖像裝置。用於例如電子封裝之直接寫入器亦為現今之標準。在近幾年期間，更大且更準確之顯示器之生產亦已大幅地增加。因此，對例如微型微影印刷製程提出更快、更準確且更便宜之要求。

在微型微影印刷製程之領域中，遮罩寫入器或直接寫入器可基於提供一個或數個精密雷射束之一印刷頭。藉由移動印刷頭抑或旨在對其執行寫入之一基板或兩者，印刷頭及基板可相對於彼此移動。藉由與相對運動協調地改變雷射束之功率，可將一曝光圖案寫入至基板上。

印刷件之精度係至關重要的。與預期圖案之偏差(例如，臨界尺寸(CD)、臨界尺寸線性度(CDL)或定位誤差)即使在幾奈米至幾百奈米之範圍內仍可為有害的或使最終結果降級。此等印刷誤差通常因印刷頭之機械及/或光學性質中之缺陷引起。

在公開美國專利US 7,919,218 B2中，揭示一種用於多曝光光束微影工具之方法。描述一種用於藉由同時使用複數個曝光光束圖案化覆蓋有對電磁輻射敏感之一層之一工件之方法。判定任何光束是否相對於一參考光束具有不同於其預期位置之一實際位置。若一錯誤定位之光束被印刷在一特徵之一邊緣處，則執行對該光束之曝光劑量之一調整。

此等校正經設計以校正光束位置誤差，但與預期圖案之偏差亦可取決於無法藉由此一曝光調整補償之許多其他原因。

在公開國際專利申請案WO 2021/254726 A1中，揭示一種用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案之方法。根據具有大量邊緣之校準圖案印刷資料，運用可在一第二方向上掃掠之複數個同時操作之曝光光束印刷一校準圖案。量測邊緣之位置。計算經量測位置相對於校準圖案之偏差。各偏差與一所使用曝光光束、一掃掠位置及一柵格片段位置相關聯。運算用於在印刷之前調適圖案印刷資料之邊緣表示以補償經計算偏差之邊緣補償資料。邊緣補償資料取決於所使用曝光光束、掃掠位置及柵格片段位置。

此等校正經設計以校正CD誤差，但仍可存在CDL偏差。

本技術之一般目標係改良臨界尺寸線性度。

上述目標係藉由根據獨立技術方案之方法及裝置來達成。在附屬技術方案中定義較佳實施例。

一般言之，在一第一態樣中，一種用於獲得一工件圖案化裝置之線寬補償資料之方法包括運用可在一掃掠方向上掃掠之一曝光光束印刷一校準圖案。該印刷係根據校準圖案印刷資料執行。該校準圖案具有在該掃掠方向上延伸之具有不同線寬及距相鄰線之不同距離之大量曝光及未曝光線。在該經印刷校準圖案中在垂直於該掃掠方向之一掃描方向上量測該等線之線寬。根據該校準圖案印刷資料計算該等線之該等經量測線寬相對於該等線之預期線寬之偏差。基於該等經計算偏差，運算線寬補償資料。該線寬補償資料旨在用於在印刷之前調適圖案印刷資料之線寬以補償該等經計算偏差。該線寬補償資料與至少一預期線寬及關於該線是否為一曝光或未曝光線之資訊相關聯。

在一第二態樣中，一種用於獲得一經線寬補償之印刷資料之方法包括獲得一待印刷圖案之印刷資料。識別該待印刷圖案中在一掃掠方向上之線。判定該等線之線性質。該等線性質包括至少一線寬及關於該等線是否為未曝光或曝光線之資訊。針對各經識別線自線寬補償資料推導一線寬調整值。藉由根據第一態樣之方法基於該經判定線寬及關於該線是否為一未曝光或曝光線之資訊獲得該線寬補償資料。根據該線寬調整值將定義該等經識別線之該印刷資料調適為經線寬補償之印刷資料。

在一第三態樣中，一種用於印刷一圖案之方法包括獲得經線寬補償之印刷資料。該經線寬補償之印刷資料係藉由根據第二態樣之方法與該待印刷圖案相關地獲得。基於經線寬校正之印刷資料控制至少部分覆蓋有對電磁或電子輻射敏感之一層之一工件之一印刷製程。

在一第四態樣中，一種用於獲得一工件圖案化裝置之線寬補償資料之系統包括一印刷裝置、一量測裝置及一處理裝置。該印刷裝置經組態以運用可在一掃掠方向上掃掠之一曝光光束產生一校準圖案。該印刷裝置經組態以根據校準圖案印刷資料執行印刷。該校準圖案具有在該掃掠方向上延伸之具有不同線寬及距相鄰線之不同距離之大量曝光及未曝光線。該量測裝置經配置用於在經印刷校準圖案中在垂直於該掃掠方向之一掃描方向上量測該等線之線寬。該處理裝置經組態用於根據該校準圖案印刷資料計算該等線之該等經量測線寬相對於該等線之預期線寬之偏差。該處理裝置進一步經組態用於基於該等經計算偏差運算用於在印刷之前調適圖案印刷資料之線寬以補償該等經計算偏差之線寬補償資料。該線寬補償資料與至少一預期線寬及關於該線是否為一曝光或未曝光線之資訊相關聯。

在一第五態樣中，一種用於處理定義一待印刷圖案之印刷資料之裝置包括一處理電路及一記憶體。該記憶體包括可由該處理電路執行之指令。藉此，該處理電路可操作以獲得該待印刷圖案之印刷資料。該處理電路進一步可操作以識別該待印刷圖案中在一掃掠方向上之線。該處理電路進一步可操作以判定該等線之線性質。該等線性質包括至少一線寬及關於該等線是否為未曝光或曝光線之資訊。該處理電路進一步可操作以針對各經識別線基於經判定線寬及關於該線是否為一未曝光或曝光線之資訊自藉由根據第一態樣之一方法獲得的線寬補償資料推導一線寬調整值。該處理電路進一步可操作以根據該線寬調整值將定義該等經識別線之該印刷資料調適為經線寬補償之印刷資料。

在一第六態樣中，一種印刷裝置包括用於處理經線寬補償之印刷資料之一裝置、一印刷頭及一控制單元。該經線寬補償之印刷資料藉由根據第五態樣之用於處理印刷資料之一裝置獲得。該印刷裝置係第四態樣之用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案之系統之印刷裝置。該印刷頭具有可在一掃掠方向上掃掠之一曝光光束。該控制單元經配置以基於該經線寬補償之印刷資料控制該印刷頭之一操作及相對運動。

所提出技術之一個優點係資料之補償變得非常可重複且可藉由線性度量測進行校準。因此，其可根據全部條件及系統類型進行調整。可藉由新量測執行再校準。

遍及各圖式，相同元件符號係用於類似或對應元件。

為更佳理解所提出技術，以具有微掃掠功能性之一印刷系統之一簡要概述開始可為有用的。

圖1示意性地繪示一印刷裝置1，其包括一工作台10，一工件支撐件12係配置於工作台10上。工件支撐件12可相對於工作台10在一方向Y上移動。在工件支撐件12上，一工件20經牢固地附接。工件20之表面具備對電磁或粒子輻射敏感之一層。

印刷裝置1進一步包括一工件圖案化裝置2。工件圖案化裝置2包括支撐一印刷頭32之一支架30。印刷頭32可沿著支架30在方向X上移動。印刷頭32經配置用於提供一曝光光束34用於運用電磁或粒子輻射進行曝光，該曝光光束34經引導朝向工件20。

工件支撐件12與印刷頭32之運動之組合運動且(如下文將進一步描述)藉由曝光光束34之一微掃掠，使得可到達工件20上應該曝露於輻射之全部區域。在圖中，繪示一曝光區域24及一未曝光區域22。

如熟習此項技術者認知，在其他實施例中，亦可以其他方式達成相對機械運動，例如，印刷頭32可在兩個維度上移動及/或工件支撐件12可在兩個維度上移動。

在本發明類型之印刷裝置中，利用曝光光束之微掃掠。圖2以一示意性方式繪示此。藉由容許光束在垂直於印刷頭之主運動方向之一方向上掃掠一小距離，經印刷條帶之寬度增加，此亦增加總體印刷速度。展示工件20之一部分。在所繪示時刻，一曝光區域24係由影線繪示且一未曝光區域22未使用影線繪示。此處，將理解，實際曝光程度亦取決於各位置處之曝光光束之強度。然而，在此圖中，「曝光區域」24係曝光光束34已經過或原本應該經過(若在該例項中已施加一強度)之區域。

自此，應理解，圖案分別在X及Y方向上之精度性質係部分由不同設備性質控管。在Y方向上之精度高度取決於例如在一微掃掠期間之強度變動控制之準確度或微掃掠速度之均勻性。在X方向上之精度代替性地取決於印刷頭運動之準確度及微掃掠條件之可重複性。

一圖案印刷系統之最重要特徵之一者係X及Y上之CD線性度。CD線性度被定義為依據圖案線寬而變化之經量測線寬偏差。現今之一典型遮罩印刷機或直接印刷機系統之特性係X線性度在Y線性度之前下降。此設定用於生產之寫入器系統之實際有用解析度。

圖3係繪示一先前技術圖案印刷機在X及Y方向上之CD線性度之一圖。連接至曲線101之方形表示Y方向上之CD且連接至曲線102之星形表示X方向上之CD。此處可見，當線寬變成小於約500 nm時，X曲線102顯著下降，而Y曲線101或多或少不受影響。然而，歸因於X方向上之行為改變，Y方向之穩定性質係無用的。

此外，已發現，CD線性度輪廓亦取決於線是否為一曝光線或一「未曝光線」，即，其中不存在曝光之一線。

亦已發現，曲線可取決於提供線之密集程度而改變。因此，相較於與其他線相鄰之一線，一孤立線可具有一不同CD線性度輪廓。

據信，此等非線性度之一個貢獻原因與曝光光束之強度分佈有關。為使基板處之一光點表現為被曝光，光強度必須超過一特定臨限值。然而，一曝光光束之邊緣並非清晰的，而是光空間分佈在光束上連續變化。預期在下一生產步驟中蝕除基板處曝露於低於臨限值之強度之光點。然而，若高度相鄰光點被照明，則總「雜散」強度可超出臨限值且光點將表現為被曝光。因此，在非常窄之結構處，相鄰光點之曝光圖案可給出其中被視為已發生一「曝光」之區域之不可預測的改變。此將引起將隨線寬以及隨著線特性(即，一曝光線或一未曝光線)而變化之一CD線性度輪廓。

在許多圖案印刷機中，同時使用多個光束。藉由使用具有多個光束用於同時曝光之一印刷頭，可增加總體速度。圖4示意性地繪示一印刷裝置1，其中印刷頭32經配置用於提供多個曝光光束34。曝光光束34通常彼此同步地進行微掃掠，如由雙箭頭繪示。

圖5以一示意性方式繪示此。展示工件20之一部分。在所繪示時刻，一曝光區域24係由影線繪示且一未曝光區域22未使用影線繪示。

在圖中，繪示五個曝光光束34A至34E。如熟習此項技術者理解，可取決於例如所請求之印刷速度、可用曝光光束大小、總體複雜度等來選擇曝光光束之數目。然而，在此例示性繪示中，僅已選擇五個曝光光束34A至34E以使印刷原理之繪示易於認知。

在此繪示中，印刷頭(未展示)可在繪示中在X方向上逐步向下移動。印刷頭以繪示為曝光光束步進50之規則距離移動。在各位置處，曝光光束運用一所謂的微掃掠在圖中沿著Y方向向上掃掠，以涵蓋一掃掠寬度52。在所繪示例項中，微掃掠幾乎執行整個微掃掠之一半。在微掃掠完成之後，印刷頭在X方向上移動另一曝光光束步進50且進行一新微掃掠。如在圖中可見，當全部曝光光束已經過某一X位置時，工件之整個表面被(或可能已被)曝光。因此，規劃不同曝光光束以填充彼此之間之空間以建立整個表面之一曝光。曝光光束寬度56對應於在一微掃掠期間曝光之微條帶之寬度，且為涵蓋整個表面，曝光光束寬度56乘以曝光光束之數目等於曝光光束步進50。然而，可見，曝光光束間隔54不同於曝光光束步進50。

在其他實施例中，印刷頭係連續地移動。接著，當印刷頭進入正確位置用於一微掃掠起始時，啟動微掃掠。連續移動導致載物台與印刷頭之間之相對位置在微掃掠期間改變。此通常可以不同方式進行補償，例如，以相對於移動方向之法線之一小角度(通常被表示為方位角)執行微掃掠，以產生相對於載物台之一最終垂直掃掠。因而，例如由成角度掃掠光學器件實施之此等配置在先前技術中係熟知的。

規劃印刷頭之運動以使不同曝光光束涵蓋工件20之整個表面。

已發現，上文識別之CD線性度性質基本上與是否使用一單一曝光光束或是否使用多個曝光光束用於印刷線無關。

預期CD線性度受許多不同措施影響。例如，此可包括改良雷射光點、雷射及光學對準，最小化雜散光，使用最佳可用光阻及微影製程。然而，由於近幾年期間已改良大多數此等因素，故進一步改良將需要關於例如對準等之極端措施，此係昂貴的且通常需要頻繁的再校準程序。

因此，在本發明中提出，作為此等CD線性度改良措施之一替代或一進一步改良，可使用像素域中之圖案資料之一修改以改良X方向上之線性度。藉此，可在規格內運用線性度解析更窄線。此對於使用者而言具有一高價值。

圖6係用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案之一方法的一實施例之步驟之一流程圖。在步驟S2中，運用可在一掃掠方向上掃掠之一曝光光束印刷一校準圖案。印刷係根據校準圖案印刷資料執行。校準圖案具有在掃掠方向上延伸且具有不同線寬及距相鄰線之不同距離之大量曝光及未曝光線。線寬較佳地係在從可由待使用印刷機獲得之最小可能線寬直至足夠寬以使邊緣被視為彼此不相關之線寬之範圍內。例如，在用於獲得圖3之曲線之系統中，可關注補償在200 nm與600 nm之間之線寬，且在此一情況中，校準圖案之線寬應至少涵蓋此範圍。

在步驟S4中，在經印刷校準圖案中在垂直於掃掠方向之一掃描方向上量測線之線寬。在步驟S6中，根據校準圖案印刷資料計算線之經量測線寬相對於邊緣之預期線寬之偏差。在步驟S8中，基於經計算偏差，運算線寬補償資料。線寬補償資料旨在用於在印刷之前調適圖案印刷資料之線寬以補償經計算偏差。線寬補償資料與至少一預期線寬及線是否為一曝光或未曝光線相關聯。

圖7A至圖7B繪示不同選項。圖7A繪示一曝光線110。曝光線110係在X方向上由未曝光區域112包圍，且與一特定寬度114相關聯。圖7B類似地繪示一未曝光線116。未曝光線116係在X方向上由曝光區域118包圍，且亦與一特定寬度114相關聯。

存在不同類型之光阻劑。若使用在被輻射之情況下將在蝕刻之後保留之一光阻劑，則一曝光區域將導致一「暗場」。如此，一未曝光區域將導致一「清晰場」。若未明確地不同陳述，則此係在本發明中用作一例示性選擇之光阻劑之類型。然而，若使用在被輻射之情況下將被蝕除之一光阻劑，則一曝光區域將導致一「清晰場」。如此，一未曝光區域將代替性地導致一「暗場」。本理念適用於兩個替代例。

針對各量測線寬，獲得至少兩個不同CD線性度曲線，一個用於曝光線且一個用於未曝光線。

若具有一特定預期線寬之一線最終始終係以另一線寬印刷，則可補償此等非線性度。若經印刷線寬被量測為小於預期線寬，則可藉由請求一稍微更寬線寬來預補償原始印刷資料。類似地，若經印刷線寬被量測為大於預期線寬，則可藉由請求一稍微更窄線寬來預補償原始印刷資料。在此情況中，最終印刷線可呈現原始預期線寬。可判定補償資料。圖8繪示一曝光線之一非線性度補償曲線120。相較於經量測CD線性度，此曲線表現為一相反方式。藉由此曲線，一預期線寬122與一經補償線寬124相關聯。因此，曲線120係線寬補償資料之一實例。線寬補償資料亦可以其他方式提供，例如，作為一查找表，其中一預期線寬被用作一入口值。

圖9係用於校準印刷資料之一方法之一實施例的步驟之流程圖。在步驟S10中，獲得待印刷圖案之印刷資料。在步驟S12中，識別待印刷圖案中在一掃掠方向上之線。在步驟S14中，判定線之線性質。線性質包括至少一線寬及線是否為未曝光或曝光線。在步驟S16中，針對各經識別線自藉由根據上文之描述之一方法獲得的線寬補償資料推導一線寬調整值。推導係基於經判定線寬及線是否為一未曝光或曝光線。在步驟S18中，根據線寬調整值調適定義經識別線之印刷資料。此調適導致經線寬補償之印刷資料。

當印刷一圖案時，通常在一向量域中提供印刷資料。此通常被轉換為一位元圖域，其中像素之一光柵被定義為與個別強度相關聯。當執行曝光時，根據像素移動曝光光束且控制各像素處之曝光之一強度以對應於相關聯強度值。

可在位元圖域中執行印刷資料之調適。圖10示意性地繪示一位元圖印刷資料之一部分，其中不同像素90係由虛線界定。在圖之左側部分中繪示原始位元圖印刷資料。具有一預期線寬114之一未曝光線116係由曝光區域118包圍。未曝光線116之預期邊緣84不與像素邊界完全一致，且為達成自像素邊界稍微偏移之一曝光，調整未曝光線邊緣84周圍之像素中之相關聯強度以引起位置之一位移，其中曝光達到位置被視為曝光之位準。從右側之第三像素行被給予一低強度，此係因為預期邊緣84係恰好位於右像素邊界內部。因而，為使圖案邊緣自像素邊界移位小於一像素之一寬度的距離之強度變動之此一使用係熟習此項技術者熟知的，且將不再進一步論述或說明。

根據上文進一步呈現之線寬調整理念，經調整線寬可為有用的。在所繪示實施例中，此一經調整線寬係由經調整線邊緣85界定。藉此，請求將線之邊緣分別調整達量Δ1及Δ2。Δ1及Δ2之總和對應於經推導線寬調整值之量。換言之，調整在一待調整線之各邊緣處或緊鄰該邊緣之個別位元之強度以達成等於經推導線寬調整值之量之各自線邊緣位置調整之一總和。

在圖10之右側部分中繪示經調整之經線寬補償印刷資料。此處，相關聯強度經調適以對應於給出一經調整線寬86之經調整線邊緣85。

邊緣調整總計為總的經推導線寬調整值。較佳地，在各邊緣處調整經推導線寬調整值之一半。然而，在其他實施例中，可應用另一分割。分割亦可取決於例如一各自邊緣鄰域中之曝光強度之一不平衡。

當量測線寬之非線性度時，使用線寬之若干離散值。自線寬之此等離散值之量測，得出線寬補償資料。例如，此可為一組離散線寬值或一連續線寬補償曲線之經指派線寬補償值。例如，若使用一查找表，則一組離散線寬補償值可為一優點。

圖11展示其中判定一組離散線寬補償值121之一圖。此等值對於一曝光線或一未曝光線有效，且亦可針對一特定近接性指示符有效，如下文將進一步描述。對於完全對應於此等離散線寬補償值121之預期線寬，選擇係明顯的。若預期線寬落在離散值之間，則可使用不同方法。一個替代例係判定針對其存在一經判定離散線寬補償值121之一最接近線寬且使用該值。此係由短折線126繪示。

另一替代例係使用內插。因此，在一項實施例中，推導一線寬調整值包括：使用來自對應於一最接近較大線寬及一最接近較小線寬之線寬補償資料之線寬調整值進行內插。此係由虛線123繪示。內插可為線性的或根據熟習此項技術者所熟悉之任何其他內插技術。

當經線寬補償之印刷資料可用時，一印刷製程可起始。圖12係用於印刷一圖案之一方法之一實施例的步驟之一流程圖。在步驟S20中，獲得待印刷圖案之經線寬補償之印刷資料。根據本發明中所描述之方法獲得此經線寬補償之印刷資料。在步驟S22中，基於經線寬校正之印刷資料控制至少部分覆蓋有對電磁或電子輻射敏感之一層之一工件之一印刷製程。

如上文指示，使用多個曝光光束係常見的。因此，在一項實施例中，控制S22印刷製程之步驟包括：同時控制操作曝光光束以在一掃掠方向上提供微掃掠，而在垂直於該掃掠方向之一掃描方向上進行掃描。藉此，產生掃描條帶。

在另一實施例中，控制S22印刷製程之步驟進一步包括：產生在第二方向上位移之多個此等掃描條帶。

印刷製程可為一微型微影印刷製程。在不同實施例中，印刷製程可為一遮罩寫入製程或一直接寫入製程。

引起線寬之非線性度之一個因素係旨在用於鄰近或至少緊密定位的像素之輻射曝光之影響。此「非預期」輻射促成一背景輻射位準，而影響經印刷線之邊緣之位置。此係曝光線之線補償相較於未曝光線不同之一個重要原因。然而，亦可有利地考量一般背景輻射位準。在一較佳實施例中，應用一近接性因素之額外使用。

在圖7A中，繪示一曝光線110。由於此曝光線110係由一大的未曝光區域112包圍，故曝光線110可被視為一孤立曝光線110。在圖13A中，繪示一曝光線110B，其具有一線寬114，但其中周圍未曝光區域112受限制。因此，在距曝光線110B不太遠之距離119內存在其他曝光區域111。此一曝光線110B可被視為一密集曝光線。來自相鄰曝光區域111之背景輻射位準可影響曝光線110B之實際經印刷線寬。

圖13B類似地繪示緊密未曝光線116B，其具有一線寬114，具有在一相對緊密距離119內之其他未曝光區域117。相反地，圖7B繪示一孤立未曝光線116。

在一項實施例中，使用一近接性指示符用於判定線寬之調整。如圖6中所指示，用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案之方法可包括一額外步驟S7。在步驟S7中，針對校準圖案中之線之各者判定一近接性指示符。近接性指示符係表示校準圖案中之線之一周圍環境中的曝光或未曝光區域之間之一關係之一參數。藉此，線寬補償資料進一步與近接性指示符相關聯。

在用於校準印刷資料之方法中，近接性指示符可用於進一步細化線寬調整。因此，在一項實施例中，線性質進一步包括一近接性指示符。近接性指示符係表示線之一周圍環境中的曝光或未曝光區域之一平均分率之一參數。線寬補償資料進一步與近接性指示符相關聯。

在一項實施例中，近接性指示符係具有至少兩個類別之一線密度分類。例如，此等類別可為密集線及孤立線。接著，針對密集曝光線、孤立曝光線、密集未曝光線及孤立未曝光線達成一各別線寬補償。

在一項實施例中，近接性指示符係一線密度度量。此一線密度度量可為距一最接近鄰近線之距離119與一線寬114之間之一比率。此比率可在兩側上或在一個側上進行評估，且接著可各別地應用於各側上或作為兩側上之一平均值。

如此，在一些實施例中，可在推導一線寬調整值時將此線密度度量劃分為兩個或更多個範圍以用於分類目的。在其他實施例中，推導一線寬調整值可包括：使用來自對應於一最接近較大線密度度量及一最接近較小線密度度量之線寬補償資料之寬度調整值進行內插。

在一項實施例中，若比率大於或等於5，則可認為存在「完全孤立線」之一範圍。範圍＞2但＜5可被表示為「略微密集」，範圍＞1但≤2可被表示為「中等密集」，且範圍≤1可被表示為「非常密集」。

作為距離對線寬之一比率之此近接性指示符係一近似表示。假定線寬影響始終僅來自各側上之最接近鄰域。然而，此係一有用的且典型的近似表示。最典型情況係其中在特定區域內，線寬及距鄰域之距離針對在所評估方向上之相當多的重複保持恆定之情況。

吾人可以說，如上文之近接性指示符對應於表示周圍環境中之曝光或未曝光區域之一平均分率之一參數。密集比率係表達此之一個常見方式，然而，亦應理解，僅垂直地考量此平均值。

以上述方式定義之近接性指示符非常適配用於量測及評估CD線性度之典型方式。添加兩個二維查找表。對於所量測之各線，資料表示中之線寬及資料表示中之距最接近鄰域之距離給出一密集比率，通常為一小數(decimal)值。

在一項實施例中，曝光線選擇一第一查找表且未曝光線選擇另一查找表。針對離散數目個線寬，存在經量測密集比率之離散數目個校正值。在此等維度兩者中，應用線性內插(即，雙極線性內插)。換言之，在最接近線寬之間進行線性內插且亦在密集比率之最接近值之間進行線性內插。

如上文提及，可單側或雙側評估密集比率。補償亦可在兩側上相同，即，在各側上應用一半，或在各側上作為經計算以最佳補償該側相鄰光影響之值。

在上文所揭示理念之一個實施方案中，採用用於X方向上之最窄線寬之一新的基於表之線寬補償。實施方案係基於圖案資料中之一維邊緣偵測而無光近接效應，具有像素資料之一滑動窗，被建議為資料之大約7個至10個微掃掠。

此可在其他類型之補償(例如，CD補償或隅角增強)之前或之後進行。此外，使用類似基本技術。即使必要更改係獨特的，其等仍容易實施，僅需要容易執行之調適，此限制實施成本。

藉由使用大小為7之一滑動窗，可補償至多五個像素之窄線，即，滑動窗大小減去二。各邊緣可被補償正或負一個像素。對於其中像素大小係170 nm之一系統，此意謂可補償在X上窄於850 nm之線，下至單像素線，此通常遠低於實際解析度。在附錄A中繪示一滑動窗常式之一個實例。

如上文提及，可在清晰場線(在未曝光背景上曝光)或暗場線(在一曝光背景上之未曝光線)兩者上針對在被輻射時可蝕刻之光阻劑進行補償。可使用基於模擬及線性度量測之線性度模型資料之一組合來產生此補償表。

圖14示意性地繪示用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案的一系統70之一實施例。用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案之系統70包括經組態用於運用可在一掃掠方向上掃掠之一曝光光束產生一校準圖案之一印刷裝置1。在圖1及圖4中亦展示此一印刷裝置1之實例。印刷裝置1經組態以根據校準圖案印刷資料執行一印刷。此校準圖案具有在掃掠方向上延伸之具有不同線寬及距相鄰線之不同距離之大量曝光及未曝光線。

用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案之系統70進一步包括經配置用於在經印刷校準圖案中在垂直於掃掠方向之一掃描方向上量測線之線寬之一量測裝置4。在繪示中，量測裝置4被繪示為配置於印刷裝置1之一支架30上之一單獨單元。然而，量測裝置4亦可被提供為一完全分開之單元，或作為印刷頭32之一整合式部分。因而，量測裝置4在先前技術中係熟知的且可以許多不同組態使用。然而，只要量測裝置提供在一掃描方向上之線之線寬或可自其推導此等邊緣位置之資料，量測裝置4之細節便為非必要的，且因此將不再進一步描述。

用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案之系統70進一步包括一處理裝置6。處理裝置6係連接至印刷裝置1以及量測裝置4。處理裝置6經組態用於根據校準圖案印刷資料計算線之經量測線寬相對於邊緣之預期線寬之偏差。

處理裝置6進一步經組態用於基於經計算偏差運算用於在印刷之前調適圖案印刷資料之線寬以補償經計算偏差之線寬補償資料。線寬補償資料與至少一預期線寬及線是否為一曝光或未曝光線相關聯。

在一項實施例中，處理裝置進一步經組態用於判定校準圖案中之線之各者之一近接性指示符。近接性指示符係表示校準圖案中之線之一周圍環境中的曝光或未曝光區域之一平均分率之一參數。線寬補償資料進一步與近接性指示符相關聯。

在一項實施例中，近接性指示符係具有至少兩個類別之一線密度分類。

在另一實施例中，近接性指示符係一線密度度量。

圖15A示意性地繪示用於處理定義一待印刷圖案之印刷資料的一裝置80之一實施例。用於處理定義一待印刷圖案之印刷資料之裝置80包括一處理電路8及一記憶體7。記憶體7包括指令，該等指令可由處理電路8執行，藉此處理電路8可操作以獲得用於待印刷圖案之印刷資料及識別待印刷圖案中在一掃掠方向上之線。指令在由處理電路8執行時使處理電路8可操作以進一步判定線之線性質，及自線寬補償資料推導各經識別線之一線寬調整值。線性質包括至少一線寬及線是否為未曝光或曝光線。線寬補償資料係藉由根據上文描述之一方法獲得且係基於經判定線寬及線是否為一未曝光或曝光線。指令在由處理電路8執行時使處理電路8可操作以進一步根據線寬調整值將定義經識別線之印刷資料調適為經線寬補償之印刷資料。線寬補償資料係由例如根據圖14之實施例之用於獲得一補償圖案的一系統70獲得。

在一項實施例中，處理電路8可操作以在一位元圖域中調適印刷資料。調整在一待調整線之各邊緣處或緊鄰該邊緣之個別位元之強度以達成等於該經推導線寬調整值之量之各自線邊緣位置調整之一總和。

在一項實施例中，處理電路8可操作以藉由使用來自對應於一最接近較大線寬及一最接近較小線寬之線寬補償資料之線寬調整值進行內插來推導一線寬調整值。

在一項實施例中，線性質進一步包括一近接性指示符。近接性指示符係表示線之一周圍環境中的曝光或未曝光區域之一平均分率之一參數。線寬補償資料進一步與近接指示符相關聯。

在另一實施例中，近接性指示符係具有至少兩個類別之一線密度分類。

在又一實施例中，近接性指示符係一線密度度量，其中處理電路可操作以藉由使用來自對應於一最接近較大線密度度量及一最接近較小線密度度量之線寬補償資料之寬度調整值進行內插來推導一線寬調整值。

在圖15A中，將用於處理定義一待印刷圖案之印刷資料之裝置80繪示為與用於獲得一補償圖案之系統70通信之一單獨單元。然而，如圖15B中示意性地繪示，用於處理定義一待印刷圖案之印刷資料之裝置80亦可被提供為用於獲得一補償圖案之系統70之一部分及/或整合於系統70中。較佳地，處理電路8構成處理裝置6之一部分。

圖16示意性地繪示一印刷裝置1之一實施例。印刷裝置1包括用於處理由用於根據上文呈現之理念處理印刷資料之一裝置80獲得的經線寬補償之印刷資料之一裝置9。印刷裝置1係用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案的系統70之印刷裝置。印刷裝置1包括具有可在一掃掠方向上掃掠之至少一個曝光光束之一印刷頭32。印刷裝置1進一步包括一控制單元5。控制單元5經配置以基於經線寬補償之印刷資料控制印刷頭之一操作及相對運動。

在圖14中，將控制單元5及用於處理經邊緣補償之印刷資料之裝置9繪示為單獨單元。然而，其等亦可整合至一共同單元中。再者，用於處理印刷資料之裝置80之處理電路可整合於與控制單元5及/或用於處理經邊緣補償之印刷資料之裝置9相同之單元中。再者，處理裝置6可為一共同單元之一部分。

上文描述之實施例應被理解為本發明之幾個闡釋性實例。熟習此項技術者將理解，可對實施例作出各種修改、組合及改變而不脫離本發明之範疇。特定言之，在技術上可行之情況下，不同實施例中之不同部分解決方案可以其他組態組合。然而，本發明之範疇係由隨附發明申請專利範圍定義。

附錄A - 一滑動窗常式 具有7個微掃掠ST資料之滑動窗串流緩衝器(五個左側+中心+右側) 從右至左逐掃描條帶地掃描ST資料(精度/SLX)。 L5 L4 L3 L2 L1 C R1：當前微掃掠(左側五個像素、中心、右側像素) UL5 UL4 UL3 UL2 UL1 UC UR1：未修改微掃掠複本(記住邊緣補償)

1:印刷裝置 2:工件圖案化裝置 4:量測裝置 5:控制單元 6:處理裝置 7:記憶體 8:處理電路 9:裝置 10:工作台 12:工件支撐件 20:工件 22:未曝光區域 24:曝光區域 30:支架 32:印刷頭 34:曝光光束 34A至34E:曝光光束 50:曝光光束步進 52:掃掠寬度 54:曝光光束間隔 56:曝光光束寬度 70:系統 80:裝置 84:邊緣 85:經調整線邊緣 86:經調整線寬 90:像素/位元 101:曲線 102:曲線 110:曝光線 110B:曝光線 111:曝光區域 112:未曝光區域 114:寬度/線寬 116:未曝光線 116B:未曝光線 117:未曝光區域 118:曝光區域 119:距離 120:非線性度補償曲線 121:離散線寬補償值 122:預期線寬 123:虛線/線寬補償資料 124:經補償線寬 126:短折線/線寬補償資料 S2:印刷/步驟 S4:量測/步驟 S6:計算/步驟 S7:步驟/判定 S8:運算/步驟 S10:步驟/獲得 S12:步驟/識別 S14:步驟/判定 S16:步驟/推導 S18:步驟/調適 S20:步驟/獲得 S22:步驟/控制 X:方向/掃描方向 Y:方向/掃掠方向

藉由參考結合隨附圖式進行之以下描述，可最佳理解本發明以及其進一步目標及優點，其中： 圖1示意性地繪示一印刷裝置； 圖2繪示利用一微掃掠曝光光束之一印刷； 圖3係繪示臨界尺寸線性度量測之一圖； 圖4示意性地繪示具有多個曝光光束之一印刷裝置； 圖5繪示利用多個曝光光束及微掃掠之一印刷； 圖6係用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案的一方法之一實施例之步驟之一流程圖； 圖7A至圖7B分別示意性地繪示曝光線及未曝光線； 圖8係繪示預期線寬與經補償線寬之間之關係之一圖； 圖9係用於校準印刷資料之一方法之一實施例的步驟之一流程圖； 圖10繪示一位元圖域中之強度之調整； 圖11係繪示預期線寬與線寬補償之間之關係之一圖； 圖12係用於印刷一圖案之一方法之一實施例的步驟之一流程圖； 圖13A至圖13B分別示意性地繪示密集的曝光線及密集的未曝光線； 圖14係用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案的一系統之一實施例之一示意圖； 圖15A至圖15B係用於處理定義一待印刷圖案之印刷資料的一裝置之一實施例之示意圖；及 圖16係一印刷裝置之一實施例之一示意圖。

S2:印刷/步驟

S4:量測/步驟

S6:計算/步驟

S7:步驟/判定

S8:運算/步驟

Claims (15)

1. 一種用於獲得一工件圖案化裝置之線寬補償資料之方法，其包括以下步驟： 運用可在一掃掠方向(Y)上掃掠之一曝光光束(32)印刷(S2)一校準圖案； 該印刷(S2)係根據校準圖案印刷資料執行； 該校準圖案具有在該掃掠方向(Y)上延伸之具有不同線寬及距相鄰線之不同距離之大量曝光及未曝光線； 在該經印刷校準圖案中在垂直於該掃掠方向(Y)之一掃描方向(X)上量測(S4)該等線之線寬； 根據該校準圖案印刷資料計算(S6)該等線之該等經量測線寬相對於該等線之預期線寬之偏差； 基於該等經計算偏差運算(S8)用於在印刷之前調適圖案印刷資料之線寬以補償該等經計算偏差之線寬補償資料(123、126)； 該線寬補償資料(123、126)與至少一預期線寬及關於該線是否為一曝光或未曝光線之資訊相關聯。
2. 如請求項1之方法，其中進一步包括以下步驟： 針對該校準圖案中之該等線之各者判定(S7)一近接性指示符； 該近接性指示符係表示距一最接近鄰近線之一距離(119)與一線寬(114)之間的一比率之一參數；及 其中該線寬補償資料進一步與該近接性指示符相關聯。
3. 一種用於獲得經線寬補償之印刷資料之方法，其包括以下步驟： 獲得(S10)一待印刷圖案之印刷資料； 識別(S12)該待印刷圖案中在一掃掠方向(Y)上之線； 判定(S14)該等線之線性質，該等線性質包括至少一線寬及關於該等線是否為未曝光(116、116B)或曝光(110、110B)線之資訊； 針對各經識別線基於該經判定線寬及關於該線是否為一未曝光(116、116B)或曝光線(110、110B)之資訊自藉由如請求項1之方法獲得的線寬補償資料(123、126)推導(S16)一線寬調整值；及 根據該線寬調整值將定義該等經識別線之該印刷資料調適(S18)為經線寬補償之印刷資料。
4. 如請求項3之方法，其中 在一位元圖域中執行該印刷資料之該調適(S18)； 其中調整在一待調整線之各邊緣(84)處或緊鄰該邊緣(84)之個別位元(90)之強度以達成等於該經推導線寬調整值之量之各自線邊緣位置調整之一總和。
5. 如請求項3或4之方法，其中 該推導(S16)一線寬調整值包括：使用來自對應於一最接近較大線寬及一最接近較小線寬之該線寬補償資料之線寬調整值進行內插。
6. 如請求項3或4之方法，其中 該等線性質進一步包括一近接性指示符； 該近接性指示符係表示距一最接近鄰近線之一距離(119)與一線寬(114)之間之一比率之一參數；及 其中該線寬補償資料進一步與該近接性指示符相關聯。
7. 一種用於印刷一圖案之方法，其包括以下步驟： 獲得(S20)該待印刷圖案之藉由如請求項3之方法獲得的經線寬補償之印刷資料；及 基於該經線寬校正之印刷資料控制(S22)至少部分覆蓋有對電磁或電子輻射敏感之一層之一工件(20)之一印刷製程。
8. 如請求項7之方法，其中控制(S22)該印刷製程之該步驟包括：同時控制操作曝光光束(34)以在一掃掠方向(Y)上提供微掃掠，而在垂直於該掃掠方向(Y)之一掃描方向(X)上進行掃描，藉此產生掃描條帶。
9. 如請求項8之方法，其中控制(S22)該印刷製程之該步驟進一步包括：產生在該掃掠方向上位移之多個該等掃描條帶。
10. 一種用於獲得一工件圖案化裝置之線寬補償資料之系統(70)，其包括： 一印刷裝置(1)，其經組態用於運用可在一掃掠方向(Y)上掃掠之一曝光光束(34)產生一校準圖案； 該印刷裝置(1)經組態以根據校準圖案印刷資料執行該印刷； 該校準圖案具有在該掃掠方向(Y)上延伸之具有不同線寬及距相鄰線之不同距離之大量曝光(110、110B)及未曝光(116、116B)線； 一量測裝置(4)，其經配置用於在該經印刷校準圖案中在垂直於該掃掠方向(Y)之一掃描方向(X)上量測該等線之線寬；及 一處理裝置(6)，其組態用於根據該校準圖案印刷資料計算該等線之該等經量測線寬相對於該等線之預期線寬之偏差； 該處理裝置(6)進一步經組態用於基於該等經計算偏差運算用於在印刷之前調適圖案印刷資料之線寬以補償該等經計算偏差之線寬補償資料； 該線寬補償資料與至少一預期線寬及關於該線是否為一曝光(110、110B)或未曝光(116、116B)線之資訊相關聯。
11. 如請求項10之系統，其中 該處理裝置(6)進一步經組態用於判定該校準圖案中之該等線之各者之一近接性指示符； 該近接性指示符係表示該校準圖案中之該等線之一周圍環境中的曝光(118)或未曝光(112)區域之一平均分率之一參數；及 其中該線寬補償資料進一步與該近接性指示符相關聯。
12. 一種用於處理定義一待印刷圖案之印刷資料之裝置(80)，其包括： 處理電路(8)；及 一記憶體(7)； 該記憶體(7)包括指令，該等指令可由該處理電路(8)執行，藉此該處理電路(8)可操作以： 獲得該待印刷圖案之印刷資料； 識別該待印刷圖案中在一掃掠方向上之線(110、110B；116、116B)； 判定該等線(110、110B；116、116B)之線性質，該等線性質包括至少一線寬及關於該等線是否為未曝光(116、116B)或曝光(110、110B)線之資訊； 針對各經識別線基於該經判定線寬及關於該線是否為一未曝光(116、116B)或曝光(110、110B)線之資訊自藉由如請求項1之方法獲得的線寬補償資料推導一線寬調整值；及 根據該線寬調整值將定義該等經識別線之該印刷資料調適為經線寬補償之印刷資料。
13. 如請求項12之裝置，其中 該處理電路(8)可操作以在一位元圖域中調適該印刷資料，其中調整在一待調整線之各邊緣(84)處或緊鄰該邊緣(84)之個別位元(90)之強度以達成等於該經推導線寬調整值之量之各自線邊緣位置調整之一總和。
14. 如請求項12或13之裝置，其中 該處理電路(8)可操作以藉由使用來自對應於一最接近較大線寬及一最接近較小線寬之該線寬補償資料之線寬調整值進行內插來推導一線寬調整值。
15. 一種印刷裝置(1)，其包括： 一裝置，其用於處理(6)藉由如請求項12之用於處理印刷資料之一裝置獲得的經線寬補償之印刷資料； 藉此該印刷裝置(1)係如請求項10之用於獲得一工件圖案化裝置之一補償圖案的系統(70)之該印刷裝置(1)； 一印刷頭(32)，其具有可在一掃掠方向(Y)上掃掠之一曝光光束(34)；及 一控制單元(5)； 該控制單元(5)經配置以基於該經線寬補償之印刷資料控制該印刷頭(32)之一操作及相對運動。