TW202406742A - 附有相位差層之偏光板 - Google Patents

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柳沼寛教
中西貞裕
東慎太郎
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北川貴裕
藤井靖芳
伊藤正泰
小峯拓也
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明之課題在於提供一種附有相位差層之偏光板，其具備具有逆分散特性之相位差層，且能夠抑制高溫高濕環境下之外觀不良之發生。 本發明之實施方式之附有相位差層之偏光板依序具備：偏光元件、及含有纖維素系樹脂與酯系樹脂之相位差層。相位差層之Re(450)/Re(550)為0～1，相位差層之Re(550)為100 nm～200 nm，偏光元件之吸收軸方向與相位差層之慢軸方向所成之角度為40°～50°或130°～140°。在相位差層中形成有奈米相分離結構。

Description

附有相位差層之偏光板
本發明係關於一種附有相位差層之偏光板。
圖像顯示裝置通常使用將偏光元件與光學補償膜組合而成之各種光學積層體，以補償適合於用途之光學特性。作為此種光學積層體，例如提出了一種附有相位差層之偏光板，其依序具備偏光元件與作為λ/4板之由改性聚酯碳酸酯樹脂形成之相位差層(例如參照專利文獻1)。近年來，圖像顯示裝置之使用環境多樣化，有時要求高溫高濕環境下之耐久性。關於此種高溫高濕環境下之耐久性，專利文獻1所記載之附有相位差層之偏光板留有改善之餘地，專利文獻1所記載之附有相位差層之偏光板特別是在高溫高濕環境下有可發生相位差層之龜裂、剝離等外觀不良之虞。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2022-013705號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述先前之問題而完成者，其主要目的在於提供一種附有相位差層之偏光板，其具備具有逆分散特性之相位差層，且能夠抑制高溫高濕環境下之外觀不良之發生。 [解決問題之技術手段]
[1]本發明之實施方式之附有相位差層之偏光板依序具備：偏光元件、及含有纖維素系樹脂與酯系樹脂之相位差層。該相位差層之Re(450)/Re(550)為0～1，該相位差層之Re(550)為100 nm～200 nm。該偏光元件之吸收軸方向與該相位差層之慢軸方向所成之角度為40°～50°或130°～140°，在上述相位差層中形成有奈米相分離結構。 [2]一個實施方式係如上述項目[1]所記載之附有相位差層之偏光板，其中上述纖維素系樹脂具有下述式(1)所表示之結構單元。 [化1] (式(1)中，R 1～R 3分別表示氫原子或碳數為1～12之取代基)。 [3]一個實施方式係如上述項目[1]或[2]所記載之附有相位差層之偏光板，其中上述酯系樹脂具有下述式(2)所表示之結構單元與下述式(3)所表示之結構單元。 [化2] (式(2)中，R 4表示氫原子或碳數為1～12之烷基；R 5a表示選自碳數為1～12之烷基、硝基、溴基、碘基、氰基、氯基、磺酸基、羧酸基、氟基或硫醇基之一種；R 5b表示氫原子或碳數為1～12之烷基；R 6表示選自氫原子、硝基、溴基、碘基、氰基、氯基、磺酸基、羧酸基、氟基、苯基、硫醇基、醯胺基、胺基、羥基、碳數為1～12之烷氧基或碳數為1～12之烷基之種。) [化3] (式(3)中，R 7表示含有一個以上氮原子或氧原子作為雜原子之5員環雜環殘基或6員環雜環殘基(上述5員環雜環殘基及上述6員環雜環殘基可與其他環狀結構形成稠環結構)。) [4]一個實施方式係如上述項目[3]所記載之附有相位差層之偏光板，其中上述酯系樹脂進而具有下述式(4)所表示之結構單元。 [化4] (式(4)中，R 8及R 9分別表示選自氫原子、碳數為1～12之直鏈狀烷基、碳數為3～12之支鏈狀烷基或碳數為3～6之環狀烷基之一種。) [5]一個實施方式係如上述項目[1]至[4]中任一項所記載之附有相位差層之偏光板，其中在將上述纖維素系樹脂及上述酯系樹脂之總和設為100質量%時，上述纖維素系樹脂之含有比率超過50質量%。 [6]一個實施方式係如上述項目[1]至[5]中任一項所記載之附有相位差層之偏光板，其中上述相位差層係將含有纖維素系樹脂與酯系樹脂之樹脂膜延伸而成之延伸膜，該延伸膜之與延伸方向正交之方向上之MIT次數為300次以上。 [發明之效果]
根據本發明之實施方式，能夠實現具備具有逆分散特性之相位差層、且抑制高溫高濕環境下之外觀不良之發生的附有相位差層之偏光板。
以下，對本發明之代表性之實施方式進行說明，但是本發明不限於該等實施方式。
(術語及符號之定義) 本說明書中之術語及符號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內之折射率達到最大之方向(即，慢軸方向)之折射率，「ny」係在面內與慢軸正交之方向(即，快軸方向)之折射率，「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係在23℃下用波長λ nm之光測得之面內相位差。例如，「Re(550)」係在23℃下用波長550 nm之光測得之面內相位差。將層(膜)之厚度設為d(nm)時，Re(λ)係由式：Re(λ)＝(nx－ny)×d來求出。 (3)角度 當在本說明書中提到角度時，除非另有說明，否則該角度包括順時針與逆時針兩個方向之角度。 (4)面內雙折射(Δn) 「Δn(λ)」係在23℃下用波長λ nm之光測得之面內雙折射。例如，「Δn(550)」係在23℃下用波長550 nm之光測得之面內雙折射。面內雙折射(Δn)係由式：Δn＝nx－ny來求出。 (5)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係在23℃下用波長λ nm之光測得之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係在23℃下用波長550 nm之光測得之厚度方向之相位差。將層(膜)之厚度設為d(nm)時，Rth(λ)係由式：Rth(λ)＝(nx－nz)×d來求出。 (6)Nz係數 Nz係數係由Nz＝Rth/Re來求出。
A.附有相位差層之偏光板之整體構成 圖1係本發明之一個實施方式之附有相位差層之偏光板之概略剖視圖。圖示例之附有相位差層之偏光板100依序具備：包含偏光元件11之偏光板10；及含有纖維素系樹脂與酯系樹脂之相位差層20。相位差層20之Re(450)/Re(550)為0～1，又，例如為0.60～0.99，又，例如為0.70～0.95，又，例如為0.70～0.90。相位差層20之Re(550)為100 nm～200 nm，又，例如為120 nm～160 nm，又，例如為130 nm～150 nm。相位差層20代表性地發揮λ/4板之作用。偏光元件11之吸收軸方向與相位差層20之慢軸方向所成之角度為40°～50°，較佳為42°～48°，更佳為44°～46°，進而較佳為約45°；或者為130°～140°，較佳為132°～138°，更佳為134°～136°，進而較佳為約135°。在相位差層20中，形成了奈米相分離結構。纖維素系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)相對較低，酯系樹脂之Tg相對較高，詳情將於後文敍述。 根據本發明之一個實施方式，具有Re(450)/Re(550)在上述範圍內之逆分散特性(相位差值根據測定光之波長而變大之逆分散之波長相依性)之相位差層20包含Tg相對較低之纖維素系樹脂及Tg相對較高之酯系樹脂。因此，能夠對相位差層20均衡地賦予由纖維素系樹脂帶來之殘存應力降低效果與由酯系樹脂帶來之收縮量降低效果。由於在此種相位差層20中形成有奈米相分離結構，因此在高溫高濕環境(例如110℃且85%RH(相對濕度))下，能夠抑制相位差層20急劇收縮，能夠抑制在相位差層20產生裂紋及/或抑制相位差層20從偏光板11剝離。藉此，能夠抑制高溫高濕環境下之附有相位差層之偏光板100之外觀不良之發生。又，若在相位差層20中形成奈米相分離結構，則能夠穩定地確保作為逆分散相位差層之功能。
在本說明書中，「奈米相分離結構」係指電子密度不同之2種成分以奈米級(代表性地為數十nm水平)之結構域尺寸發生了相分離之結構。纖維素系樹脂與酯系樹脂可為海島結構，亦可為共連續結構。作為奈米相分離結構之確認方式，例如可例舉出穿透電子顯微鏡(TEM)、掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)及X射線小角散射(SAXS)，較佳可例舉出相位差層20之截面之TEM觀察。關於TEM觀察，在實施例中進行詳述。在相位差層20中形成了奈米相分離結構之情形時，在相位差層20之截面之TEM觀察中，能夠確認到電子密度不同之2種結構域，能夠確認到所有結構域之尺寸(最大長度)均未達100 nm。
相位差層20之面內雙折射Δn(550)例如為0.0020以上，較佳為0.0030以上，更佳為0.0040以上，例如為0.0070以下，較佳為0.0060以下，更佳為0.0055以下。 相位差層20之Nz係數例如為0.9以上3以下，較佳為1.0以上1.5以下。
在一個實施方式中，在將纖維素系樹脂及酯系樹脂之總和設為100質量%時，纖維素系樹脂之含有比率代表性地超過50質量%，較佳為60質量%以上，更佳為70質量%以上。若纖維素系樹脂之含有比率為上述下限以上，則纖維素系樹脂及酯系樹脂能夠穩定地形成奈米相分離結構。再者，纖維素系樹脂之含有比率之上限代表性地為90質量%以下。
在一個實施方式中，相位差層20係將含有纖維素系樹脂及酯系樹脂之樹脂膜延伸而成之延伸膜。後文將進行詳細敍述，延伸膜(相位差膜)代表性地係藉由將含有纖維素系樹脂及酯系樹脂之樹脂膜沿規定方向進行單軸延伸而製備。此種相位差膜中如上所述地形成有奈米相分離結構。單獨之相位差膜及具備相位差膜(相位差層)之附有相位差層之偏光板在延伸方向及與延伸方向正交之方向上具有優異之彎曲性。 特別是，具有奈米相分離結構之相位差膜與不具有奈米相分離結構之相位差膜(例如樹脂延伸膜、液晶聚合物膜)相比，與延伸方向正交之方向之彎曲性明顯優異，具備具有奈米相分離結構之相位差膜(相位差層)之附有相位差層之偏光板亦顯示出同樣之傾向。
延伸方向上之相位差膜之MIT次數例如為800次以上，較佳為1000次以上，更佳為1500次以上，例如為2500次以下。再者，MIT次數可按照JIS P 8115來測定(以下相同)。 與延伸方向正交之方向上之相位差膜之MIT次數例如為400次以上，較佳為500次以上，更佳為600次以上，進而較佳為1000次以上，特佳為1300次以上，例如為2000次以下。 延伸方向上之附有相位差層之偏光板100之MIT次數例如為300次以上，較佳為500次以上，更佳為600次以上，例如為1000次以下。 與延伸方向正交之方向上之附有相位差層之偏光板100之MIT次數例如為300次以上，較佳為400次以上，更佳為450次以上，進而較佳為500次以上，特佳為550次以上，例如為900次以下。
在一個實施方式中，相位差層20係經由接著層30貼附於偏光板10。在圖示例中，相位差層20係經由接著層30貼附於偏光元件11。再者，接著層30可直接形成於偏光元件11上，當偏光板10在偏光元件11之與視認側相反一側之面具備保護層之情形時，接著層30亦可形成在保護層上。接著層30可為黏著劑層，亦可為接著劑層。接著層30較佳為黏著劑層。在接著層30為黏著劑層之情形時，作為構成黏著劑層之黏著劑，例如可例舉出(甲基)丙烯酸系之黏著劑。再者，「(甲基)丙烯酸系」係指丙烯酸系及/或甲基丙烯酸系。黏著劑層之厚度例如為3.5 μm以上35 μm以下。 在接著層30為接著劑層之情形時，作為構成接著劑層之接著劑，例如可例舉出熱硬化型接著劑、紫外線硬化型接著劑，更佳為例舉(甲基)丙烯酸系之紫外線硬化型接著劑。再者，「(甲基)丙烯酸系」係指丙烯酸系及/或甲基丙烯酸系。接著劑層之厚度例如為0.4 μm以上3.0 μm以下。
在一個實施方式中，附有相位差層之偏光板100進而具備設置在相位差層20之與偏光元件11相反一側之黏著劑層40。藉此，附有相位差層之偏光板100能夠貼附在後述之圖像顯示單元。作為構成黏著劑層40之黏著劑，例如可例舉出(甲基)丙烯酸系黏著劑。黏著劑層40之厚度例如為3.5 μm以上35 μm以下。 進而，較佳為在黏著劑層40之表面暫時黏附剝離襯墊50，直至附有相位差層之偏光板100被供於使用前。藉由暫時黏附剝離襯墊，能夠保護黏著劑層，並且形成捲筒。
附有相位差層之偏光板可為單片狀，亦可為長條狀。本說明書中，「長條狀」係指長度相對於寬度足夠長之細長形狀，包括例如長度相對於寬度為10倍以上、較佳為20倍以上之細長形狀。長條狀之附有相位差層之偏光板能夠捲繞成捲筒狀。
以下，對構成附有相位差層之偏光板100之各構件進行說明。
B.偏光板 B-1.偏光元件 作為偏光元件11，可採用任意適當之偏光元件。例如，形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為兩層以上之積層體。
作為由單層之樹脂膜構成之偏光元件之具體例，可例舉出：對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜，實施利用碘或二色性染料等二色性物質之染色處理與延伸處理而得到者；PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異之方面而言，較佳為使用利用碘將PVA系膜染色並進行單軸延伸而得到之偏光元件。
上述利用碘實施之染色例如可藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中來進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3倍以上7倍以下。延伸可在染色處理後進行，亦可一邊染色一邊進行。又，亦可在延伸後進行染色。根據需要，對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由在染色之前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗，不僅能夠將PVA系膜表面之污漬或抗黏連劑洗淨，而且能夠使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。
作為使用積層體而得到之偏光元件之具體例，可例舉出使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而得到的偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而得到之偏光元件例如可藉由如下方式來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而得到樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；及將該積層體延伸並染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。在本發明之一個實施方式中，較佳為在樹脂基材之單側形成包含鹵化物及聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。延伸代表性地包括使積層體浸漬於硼酸水溶液中而進行延伸。進而，延伸根據需要可於在硼酸水溶液中延伸之前，進而包括將積層體於高溫(例如95℃以上)下在空中延伸。而且，在本發明之一個實施方式中，較佳為將積層體供於藉由一邊沿長度方向搬送，一邊進行加熱，從而使寬度方向收縮2%以上的乾燥收縮處理。代表性地，本實施方式之製造方法包括對積層體依序實施空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理、及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即使在熱塑性樹脂上塗佈PVA之情形時，亦能提高PVA之結晶性，能達成較高之光學特性。又，藉由同時事先提高PVA之配向性，在後續之染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，能防止PVA之配向性下降或溶解等問題，能達成較高之光學特性。進而，在將PVA系樹脂層浸漬於液體中之情形時，與PVA系樹脂層不含鹵化物之情形相比，能夠抑制聚乙烯醇分子之配向混亂及配向性下降。藉此，能夠提高經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行之處理步驟而得到之偏光元件之光學特性。進而，藉由利用乾燥收縮處理使積層體沿寬度方向收縮，能夠提高光學特性。所得到之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可從樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材，並在該剝離面根據目的積層任意適當之保護層來使用。此種偏光元件之製造方法之詳細情況例如記載於日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號中。該等公報之所有記載係以參考之形式被引用至本說明書中。
偏光元件之厚度例如為1 μm以上80 μm以下，較佳為1 μm以上15 μm以下，更佳為1 μm以上12 μm以下，進而較佳為3 μm以上12 μm以下，特佳為3 μm以上8 μm以下。若偏光元件之厚度在此種範圍內，則能夠良好地抑制加熱時之捲曲，並得到良好之加熱時之外觀耐久性。
偏光元件較佳為在波長380 nm～780 nm之任一波長下顯示出吸收二色性。偏光元件之單體透過率例如為41.5%以上6.0%以下，較佳為43.0%以上46.0%以下，更佳為44.5%以上46.0%以下。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
B-2.保護層 偏光板10亦可進而具備保護層。保護層設置在偏光元件之至少一個面。在圖示例中，偏光板10具備設置在偏光元件11之視認側之面之保護層12。
保護層係由能用作偏光元件之保護層之任意適當之膜形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例，可例舉出：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂。又，亦可例舉出(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。除此之外，亦可例舉出例如矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物膜。
在偏光板10具備位於後述之圖像顯示裝置之最表面之保護層之情形時，根據需要可對該保護層實施硬塗處理、防反射處理、防黏連處理、防眩處理等表面處理。
保護層之厚度代表性地為5 mm以下，較佳為1 mm以下，更佳為1 μm以上500 μm以下，進而較佳為5 μm以上150 μm以下。再者，在實施了表面處理之情形時，保護層之厚度係包含表面處理層之厚度在內之厚度。
C.相位差層 相位差層20代表性地顯示出nx＞ny≧nz之折射率特性。「ny＝nz」不僅包含ny與nz完全相等之情況，而且包含ny與nz實質上相等之情況。折射率特性為nx＞ny＝nz之相位差層20有時被稱為「正A板」等。折射率特性為nx＞ny＞nz之相位差層20有時被稱為「負B板」等。 相位差層20之厚度例如為10 μm以上，較佳為20 μm以上，例如為80 μm以下，較佳為60 μm以下。相位差層20之厚度可根據附有相位差層之偏光板之用途而任意且適當地調整，並不限於上述範圍。相位差層20之厚度例如可為50 μm以下，較佳為40 μm以下，更佳為30 μm以下，進而較佳為20 μm以下。若相位差層之厚度為上述上限以下，則能夠實現附有相位差層之偏光板之彎曲性之進一步提高，能夠實現附有相位差層之偏光板之MIT次數之提高。在該情形時，相位差層之厚度之下限代表性地為5 μm以上。
如上所述，相位差層20含有纖維素系樹脂及酯系樹脂。纖維素系樹脂顯示正雙折射。酯系樹脂顯示負雙折射。在此，「顯示正雙折射」係指在藉由延伸等使聚合物配向之情形時，與其延伸方向正交之方向之折射率相對變小。換言之，係指延伸方向之折射率變大。「顯示負雙折射」係指在藉由延伸等使聚合物配向之情形時，其延伸方向之折射率相對變小。換言之，係指與延伸方向正交之方向之折射率變大。
C-1.纖維素系樹脂 纖維素系樹脂代表性地為β-葡萄糖單元呈直鏈狀聚合而成之高分子，具有下述式(1)所示之結構單元。 [化5] (式(1)中，R 1～R 3分別表示氫原子或碳數為1～12之取代基)。
作為上述式(1)中由R 1～R 3表示之碳數為1～12之取代基，例如可例舉出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、癸基、十二烷基、異丁基、第三丁基等烷基；環己基等環烷基；苯基、萘基等芳基；苄基等芳烷基；乙醯基、丙醯基等醯基；氰基乙基等氰基烷基；胺基乙基等胺基烷基；2-羥基乙基、3-羥基丙基等羥基烷基。 在上述式(1)中，R 1～R 3可相互相同，亦可相互不同。 作為上述式(1)之R 1～R 3之各者，較佳為例舉氫原子及碳數為1～12之烷基，更佳為例舉氫原子及碳數為1～4之烷基，進而較佳為例舉氫原子及乙基。
纖維素系樹脂之取代度(以下稱為DS)代表性地為1.5以上2.95以下，較佳為1.8以上2.8以下。DS係指在纖維素系樹脂中羥基被取代之比率，在100%取代之情形時DS為3。DS可如日本藥典第十七修訂版中所記載，由氣相層析之峰面積算出。
纖維素系樹脂之標準聚苯乙烯換算之數量平均分子量(Mn)例如為1×10 3以上1×10 6以下，較佳為5×10 3以上2×10 5以下。纖維素系樹脂之Mn可根據利用凝膠滲透層析(GPC)測定之溶出曲線來計算。若纖維素系樹脂之Mn在上述範圍內，則能夠實現相位差層之機械特性及/或成形加工性之提高。
纖維素系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)例如為140℃以下，較佳為135℃以下，例如為120℃以上，較佳為125℃以上。纖維素系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)可利用DSC(示差掃描量熱法；Differential Scanning Calorimetry)等熱分析裝置來測定。
作為纖維素系樹脂之具體例，可例舉出甲基纖維素、乙基纖維素、丙基纖維素等烷基纖維素；羥乙基纖維素、羥丙基纖維素等羥烷基纖維素；苄基纖維素等芳烷基纖維素；氰基乙基纖維素等氰基烷基纖維素；羧甲基纖維素、羧乙基纖維素等羧烷基纖維素；羧甲基甲基纖維素、羧甲基乙基纖維素等羧烷基烷基纖維素；胺基乙基纖維素等胺基烷基纖維素。纖維素系樹脂可單獨使用或組合使用。 在纖維素系樹脂之中，較佳為例舉烷基纖維素，更佳為例舉乙基纖維素。
C-2.酯系樹脂 酯系樹脂代表性地具有下述式(2)所表示之結構單元與下述式(3)所表示之結構單元。 [化6] (式(2)中，R 4表示氫原子或碳數為1～12之烷基；R 5a表示選自碳數為1～12之烷基、硝基、溴基、碘基、氰基、氯基、磺酸基、羧酸基、氟基或硫醇基之一種；R 5b表示氫原子或碳數為1～12烷基；R 6表示選自氫原子、硝基、溴基、碘基、氰基、氯基、磺酸基、羧酸基、氟基、苯基、硫醇基、醯胺基、胺基、羥基、碳數為1～12之烷氧基或碳數為1～12之烷基之種。) [化7] (式(3)中，R 7表示含有一個以上之氮原子或氧原子作為雜原子之5員環雜環殘基或6員環雜環殘基(上述5員環雜環殘基及上述6員環雜環殘基可與其他環狀結構形成稠環結構)。)
上述式(2)所表示之結構單元係桂皮酸酯殘基單元。作為上述式(2)中R 4所表示之碳數為1～12之烷基，例如可例舉出甲基、乙基、異丙基、正丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、異丁基、乙基己基。上述式(2)之R 4之中，較佳為例舉碳數為1～4之烷基，更佳為例舉乙基、異丁基。 上述式(2)之R 5a之中，較佳為例舉碳數為1～12之烷基、氰基，更佳為例舉碳數為1～4之烷基、氰基，進而較佳為例舉氰基。 上述式(2)之R 5b之中，較佳為例舉氫原子、碳數為1～4之烷基。 上述式(2)之R 6可僅一個與苯環結合，亦可兩個以上與苯環結合。上述式(2)之R 6之中，較佳為例舉羧酸基、羥基。
作為上述式(2)所表示之結構單元(桂皮酸酯殘基單元)之具體例，可例舉出α-氰基-4-羥基桂皮酸甲酯殘基單元、α-氰基-2-羥基桂皮酸乙酯殘基單元、α-氰基-3-羥基桂皮酸乙酯殘基單元、α-氰基-4-羥基桂皮酸乙酯殘基單元、α-氰基-4-羥基桂皮酸正丙酯殘基單元、α-氰基-4-羥基桂皮酸異丙酯殘基單元、α-氰基-4-羥基桂皮酸正丁酯殘基單元、α-氰基-4-羥基桂皮酸異丁酯殘基單元、α-氰基-4-羥基桂皮酸第二丁酯殘基單元、α-氰基-2,4-二羥基桂皮酸甲酯殘基單元等α-氰基-羥基桂皮酸乙酯殘基單元；α-氰基-4-羧基桂皮酸甲酯殘基單元、α-氰基-4-羧基桂皮酸乙酯殘基單元、α-氰基-2,3-二羧基桂皮酸甲酯殘基單元、α-氰基-2,3-二羧基桂皮酸乙酯殘基單元等α-氰基-羧基桂皮酸酯殘基單元；α-氰基-2-羧基-3-羥基桂皮酸甲酯殘基單元、α-氰基-2-羧基-3-羥基桂皮酸乙酯殘基單元等α-氰基-羧基-羥基桂皮酸酯殘基單元；3-甲基-3-(羥基苯基)-丙-2-烯酸甲酯殘基單元、3-乙基-3-(羥基苯基)-丙-2-烯酸乙酯殘基單元等3-烷基-3-(羥基苯基)-丙-2-烯酸酯殘基單元；3-甲基-3-(羧基苯基)-丙-2-烯酸甲酯殘基單元、3-乙基-3-(羧基苯基)-丙-2-烯酸乙酯殘基單元等3-烷基-3-(羧基苯基)-丙-2-烯酸酯殘基單元；2-氰基-3-甲基-3-(羥基苯基)-丙-2-烯酸甲酯殘基單元、2-氰基-3-乙基-3-(羥基苯基)-丙-2-烯酸乙酯殘基單元等2-氰基-3-烷基-3-(羥基苯基)-丙-2-烯酸酯殘基單元；2-氰基-3-甲基-3-(羧基苯基)-丙-2-烯酸甲酯殘基單元、2-氰基-3-乙基-3-(羧基苯基)-丙-2-烯酸乙酯殘基單元等2-氰基-3-烷基-3-(羧基苯基)-丙-2-烯酸酯殘基單元。
酯系樹脂可僅含有1種上述式(2)所表示之結構單元，亦可含有2種以上上述式(2)所表示之結構單元。上述式(2)所表示之結構單元中，較佳為例舉α-氰基-羥基桂皮酸酯殘基單元、α-氰基-羧基桂皮酸酯殘基單元、3-烷基-3-(羥基苯基)-丙-2-烯酸酯殘基單元、3-烷基-3-(羧基苯基)-丙-2-烯酸酯殘基單元。
酯系樹脂中之上述式(2)之結構單元之含有比率例如為21莫耳%以上，例如為70莫耳%以下，較佳為60莫耳%以下，更佳為49莫耳%以下。酯系樹脂中之各結構單元之含有比率例如可藉由 1H-NMR來測定。
作為上述式(3)中R 7所表示之環結構之具體例，可例舉出1-乙烯基吡咯殘基單元、2-乙烯基吡咯殘基單元、1-乙烯基吲哚殘基單元、9-乙烯基咔唑殘基單元、2-乙烯基喹啉殘基單元、4-乙烯基喹啉殘基單元、N-乙烯基鄰苯二甲醯亞胺殘基單元、N-乙烯基琥珀醯亞胺殘基單元、2-乙烯基呋喃殘基單元、2-乙烯基苯并呋喃殘基單元，較佳為例舉9-乙烯基咔唑殘基單元、N-乙烯基鄰苯二甲醯亞胺殘基單元。
酯系樹脂可僅含有1種上述式(3)所表示之結構單元，亦可含有2種以上上述式(3)所表示之結構單元。 酯系樹脂中之上述式(3)之結構單元之含有比率例如為21莫耳%以上，較佳為35莫耳%以上，例如為70莫耳%以下，較佳為60莫耳%以下。
酯系樹脂較佳為除了具有上述(2)及(3)所表示之結構單元之外，進而具有下述式(4)所表示之結構單元。 [化8] (式(4)中，R 8及R 9分別表示選自氫原子、碳數為1～12之直鏈狀烷基、碳數為3～12之支鏈狀烷基或碳數為3～6之環狀烷基之一種)。 上述式(4)中，作為R 8及R 9所表示之碳數為1～12之直鏈狀烷基，例如可例舉出甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基等。 上述式(4)中，作為R 8及R 9所表示之碳數為3～12之支鏈狀烷基，例如可例舉出異丙基、異丁基、第二丁基、第三丁基等。 上述式(4)中，作為R 8及R 9所表示之碳數為3～6之環狀烷基，例如可例舉出環丙基、環丁基、環己基等。 上述式(4)中，R 8及R 9可相互相同，亦可相互不同。 上述式(4)中之R 8之中，較佳為例舉氫原子、碳數為1～12之直鏈狀烷基，更佳為例舉氫原子、甲基。 上述式(4)中之R 9之中，較佳為例舉碳數為3～12之支鏈狀烷基，更佳為例舉碳數為3～8之支鏈狀烷基。
上述式(4)所表示之結構單元代表性地為丙烯酸系樹脂殘基單元。作為上述式(4)所表示之結構單元之具體例，可例舉出丙烯酸殘基單元、甲基丙烯酸殘基單元、2-乙基丙烯酸殘基單元、2-丙基丙烯酸殘基單元、2-異丙基丙烯酸殘基單元、2-戊基丙烯酸殘基單元、2-己基丙烯酸殘基單元、丙烯酸甲酯殘基單元、丙烯酸乙酯殘基單元、丙烯酸正丙酯殘基單元、丙烯酸異丙酯殘基單元、丙烯酸正丁酯殘基單元、丙烯酸異丁酯殘基單元、丙烯酸第二丁酯殘基單元、丙烯酸正戊酯殘基單元、丙烯酸異戊酯殘基單元、丙烯酸第二戊酯殘基單元、丙烯酸3-戊酯殘基單元、丙烯酸新戊酯殘基單元、丙烯酸正己酯殘基單元、丙烯酸異己酯殘基單元、丙烯酸新己酯殘基單元、甲基丙烯酸甲酯殘基單元、甲基丙烯酸乙酯殘基單元、甲基丙烯酸正丙酯殘基單元、甲基丙烯酸異丙酯殘基單元、甲基丙烯酸正丁酯殘基單元、甲基丙烯酸異丁酯殘基單元、甲基丙烯酸第二丁酯殘基單元、甲基丙烯酸正戊酯殘基單元、甲基丙烯酸異戊酯殘基單元、甲基丙烯酸第二戊酯殘基單元、甲基丙烯酸3-戊酯殘基單元、甲基丙烯酸新戊酯殘基單元、甲基丙烯酸正己酯殘基單元、甲基丙烯酸異己酯殘基單元、甲基丙烯酸新己酯殘基單元、2-乙基丙烯酸甲酯殘基單元、2-乙基丙烯酸乙酯殘基單元、2-乙基丙烯酸正丙酯殘基單元、2-乙基丙烯酸異丙酯殘基單元、2-乙基丙烯酸正丁酯殘基單元、2-乙基丙烯酸異丁酯殘基單元、2-乙基丙烯酸第二丁酯殘基單元等，較佳為例舉丙烯酸異丁酯殘基單元。
酯系樹脂可僅含有1種上述式(4)所表示之結構單元，亦可含有2種以上上述式(4)所表示之結構單元。 酯系樹脂中之上述式(4)之結構單元之含有比率例如為0莫耳%以上，較佳為1莫耳%以上，例如為30莫耳%以下。
酯系樹脂亦可含有上述式(2)至(4)以外之單體殘基單元。作為此種單體殘基單元，例如可例舉出苯乙烯殘基、α-甲基苯乙烯殘基等苯乙烯類殘基；乙烯基萘殘基；乙酸乙烯酯殘基、丙酸乙烯酯殘基等乙烯基酯類殘基；甲基乙烯基醚殘基、乙基乙烯基醚殘基、丁基乙烯基醚殘基等乙烯基醚殘基；N-甲基馬來醯亞胺殘基、N-環己基馬來醯亞胺殘基、N-苯基馬來醯亞胺殘基等N-取代馬來醯亞胺殘基；丙烯腈殘基；甲基丙烯腈殘基；富馬酸酯殘基；富馬酸殘基；乙烯殘基、丙烯殘基等烯烴類殘基。
酯系樹脂之標準聚苯乙烯換算之數量平均分子量(Mn)例如為1×10 3以上5×10 6以下，較佳為5×10 3以上3×10 5以下。酯系樹脂之Mn可根據利用凝膠滲透層析(GPC)測定之溶出曲線來計算。若酯系樹脂之Mn在上述範圍內，則能夠實現相位差層之機械特性及/或成形加工性之提高。
酯系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)例如為220℃以下，較佳為210℃以下，例如為180℃以上，較佳為190℃以上。酯系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)可利用DSC(示差掃描量熱法；Differential Scanning Calorimetry)等熱分析裝置來測定。
作為此種酯系樹脂之具體例，可例舉出α-氰基-2-羥基桂皮酸酯-苯乙烯-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-2-羥基桂皮酸酯-2-乙烯基萘-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-2-羥基桂皮酸酯-1-乙烯基吲哚-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-2-羥基桂皮酸酯-9-乙烯基咔唑-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-3-羥基桂皮酸酯-苯乙烯-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-3-羥基桂皮酸酯-2-乙烯基萘-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-3-羥基桂皮酸酯-1-乙烯基吲哚-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-3-羥基桂皮酸酯-9-乙烯基咔唑-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-4-羥基桂皮酸酯-苯乙烯-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-4-羥基桂皮酸酯-2-乙烯基萘-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-4-羥基桂皮酸酯-1-乙烯基吲哚-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-4-羥基桂皮酸酯-9-乙烯基咔唑-丙烯酸酯共聚物、α-氰基-2-羥基桂皮酸酯-苯乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物、α-氰基-2-羥基桂皮酸酯-2-乙烯基萘-甲基丙烯酸酯共聚物、α-氰基-2-羥基桂皮酸酯-1-乙烯基吲哚-甲基丙烯酸酯、α-氰基-2-羥基桂皮酸酯-9-乙烯基咔唑-甲基丙烯酸酯共聚物、α-氰基-3-羥基桂皮酸酯-苯乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物、α-氰基-3-羥基桂皮酸酯-2-乙烯基萘-甲基丙烯酸酯共聚物、α-氰基-3-羥基桂皮酸酯-1-乙烯基吲哚-甲基丙烯酸酯共聚物、α-氰基-3-羥基桂皮酸酯-9-乙烯基咔唑-甲基丙烯酸酯共聚物、α-氰基-4-羥基桂皮酸酯-苯乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物、α-氰基-4-羥基桂皮酸酯-2-乙烯基萘-甲基丙烯酸酯共聚物、α-氰基-4-羥基桂皮酸酯-1-乙烯基吲哚-甲基丙烯酸酯共聚物、α-氰基-4-羥基桂皮酸酯-9-乙烯基咔唑-甲基丙烯酸酯共聚物。
C-3.其他添加劑 相位差層20除了上述之樹脂成分以外，亦可以任意適當之比率含有添加劑。作為添加劑，例如可例舉出受阻酚系抗氧化劑、磷系抗氧化劑、硫系抗氧化劑、內酯系抗氧化劑、胺系抗氧化劑、羥胺系抗氧化劑、維生素E系抗氧化劑、其他抗氧化劑等抗氧化劑；受阻胺光穩定劑；苯并三唑、二苯甲酮、三𠯤、苯甲酸酯等紫外線吸收劑；界面活性劑；高分子電解質；導電性錯合物；顏料；染料；抗靜電劑；抗黏連劑；潤滑劑。
C-4.相位差層之製造方法 繼而，對相位差層之製造方法之一個實施方式進行說明。 在一個實施方式中，相位差層之製造方法包括下述之步驟：將上述纖維素系樹脂及上述酯系樹脂溶解於溶劑中來製備樹脂溶液之步驟；將該樹脂溶液塗佈在基材上步驟；加熱基材上之塗膜而製備樹脂膜之步驟；延伸樹脂膜之步驟；及使樹脂膜沿延伸方向熱收縮之步驟。
首先，將上述纖維素系樹脂及上述酯系樹脂按照成為A項中說明之纖維素系樹脂之含有比率之方式溶解於溶劑中。 作為溶劑，例如可例舉出氯仿、二氯甲烷、四氯化碳、二氯乙烷、四氯乙烷、三氯乙烯、四氯乙烯、氯苯、二氯苯等鹵代烴類；苯酚、氯酚等酚類；苯、甲苯、二甲苯、甲氧基苯、均三甲苯、二甲氧基苯等芳香族烴類；丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮(MIBK)、環己酮、環戊酮(CPN)、2-吡咯啶酮、N-甲基-2-吡咯啶酮等酮系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶劑；丁醇、第三丁醇、甘油、乙二醇、三乙二醇、乙二醇單甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇、二丙二醇、2-甲基-2,4-戊二醇等醇系溶劑；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等醯胺系溶劑；乙腈、丁腈等腈系溶劑；1,3-二氧戊環、環戊基甲基醚(CPME)、丙二醇甲醚乙酸酯(PGMEA)、二乙醚、二丁醚、四氫呋喃等醚系溶劑；二硫化碳、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑及該等之混合溶劑。
在溶劑之中，較佳為例舉混合溶劑。作為混合溶劑之組合，可例舉出酯系溶劑/芳香族烴類、醚系溶劑/芳香族烴類、酯系溶劑/醚系溶劑、酯系溶劑/醇系溶劑、酯系溶劑/酮系溶劑、2種醚系溶劑、2種酯系溶劑。
纖維素系樹脂與溶劑之漢森溶解度參數距離(以下有時稱為HSP距離 * 纖維素系)例如為12.00以下，較佳為11.30以下，更佳為11.20以下。若HSP距離 * 纖維素系為上述上限以下，則能夠實現相位差層之延伸配向性之提高。HSP距離 * 纖維素系例如可藉由下述式(I)來算出。再者，HSP距離 * 纖維素系之下限代表性地為6.0以上。 式(I)： HSP距離 * 纖維素系＝[4(δ d2－δ d1) 2＋(δ p2－δ p1) 2＋(δ h2－δ h1) 2] 0.5(式(I)中，δ d1表示溶劑之分子間之分散力能；δ d2表示纖維素系樹脂之分子間之分散力能；δ p1表示溶劑之分子間之偶極相互作用能；δ p2表示纖維素系樹脂之分子間之偶極相互作用能；δ h1表示溶劑之分子間之氫鍵能；δ h2表示纖維素系樹脂之分子間之氫鍵能。)
酯系樹脂與溶劑之HSP距離(以下有時稱為HSP距離 * 酯系)例如為6.5以下，較佳為6.0以下，例如為2.0以上。HSP距離 * 酯系例如可藉由下述式(II)來計算。 式(II)： HSP距離 * 酯系＝[4(δ d3－δ d1) 2＋(δ p3－δ p1) 2＋(δ h3－δ h1) 2] 0.5(式(II)中，δ d3表示酯系樹脂之分子間之分散力能；δ p3表示酯系樹脂之分子間之偶極相互作用能；δ h3表示酯系樹脂之分子間之氫鍵能；δ d1、δ p1及δ h1分別表示與上述式(I)同樣之溶劑之分子間之能量。)
(HSP距離 * 纖維素系－HSP距離 * 酯系) 2例如為60以下、較佳為55以下、更佳為50以下、進而較佳為45以下、特佳為30以下。(HSP距離 * 纖維素系－HSP距離 * 酯系) 2若為上述上限以下，則能夠穩定地確保相位差層之逆分散性。(HSP距離 * 纖維素系－HSP距離 * 酯系) 2之下限例如為10以上。
作為混合溶劑，更佳為例舉酯系溶劑/芳香族烴類，進而較佳為例舉乙酸乙酯/甲苯，特佳為例舉乙酸乙酯60質量%/甲苯40質量%。若溶劑為此種混合溶劑，則在相位差層中，纖維素系樹脂與酯系樹脂能夠更穩定地形成奈米相分離結構。
樹脂溶液中之固形物成分濃度例如為1質量%以上，較佳為5質量%以上，例如為30質量%以下，較佳為20質量%以下。
樹脂溶液較佳為在被攪拌規定時間後，被靜置消泡。 作為攪拌時間，例如為5分鐘以上，較佳為10分鐘以上，例如為3小時以下，較佳為1小時以下。作為消泡時間(靜置時間)，例如為30分鐘以上、較佳為1小時以上，例如為5小時以下、較佳為3小時以下。
繼而，將樹脂溶液塗佈在基材(代表性地為樹脂膜)上。作為塗佈方法，可採用任意適當之方式。作為塗佈方法，例如可例舉出塗佈器。藉此，在基材上形成樹脂溶液之塗膜。
繼而，加熱基材上之塗膜而製備樹脂膜。加熱溫度例如為35℃以上165℃以下，加熱時間為1分鐘以上30分鐘以下。更詳細而言，此種加熱步驟包括在165℃以下加熱之一次加熱步驟(乾燥步驟)與在110℃以上加熱之二次加熱步驟(退火步驟)。
乾燥步驟可以1個階段實施，亦可以多個階段實施。乾燥步驟較佳為以多個階段實施。於乾燥步驟以多個階段實施之情形時，將第一階段之乾燥步驟之加熱溫度設定為例如35℃以上65℃以下，較佳為設定為45℃以上65℃以下，將第一階段之乾燥步驟之加熱時間設定為例如1分鐘以上30分鐘以下，較佳為設定為1分鐘以上8分鐘以下。然後，每當乾燥步驟之階段數增加時，使加熱溫度例如上升10℃～130℃，較佳為上升10℃～40℃。第2階段以後之各階段之加熱時間代表性地比第一階段之乾燥步驟之加熱時間短，較佳為20秒以上20分鐘以下，更佳為30秒以上5分鐘以下。乾燥步驟之階段數較佳為2階段以上4階段以下，更佳為3階段以下。乾燥步驟中之最高溫度例如為165℃以下，較佳為未達130℃，更佳為未達120℃，進而較佳為115℃以下。
之後，根據需要，將乾燥步驟中加熱之塗膜冷卻到例如30℃以下，較佳為冷卻到室溫(23℃)。若將乾燥後之塗膜暫時冷卻，則能夠將藉由上述乾燥步驟形成之奈米相分離結構固定化，在下一個退火步驟中能夠保持奈米相分離結構而不改變。繼而，在退火步驟中，加熱塗膜。退火步驟之加熱溫度代表性地高於乾燥步驟之最高溫度。退火步驟之加熱溫度例如為110℃以上，較佳為120℃以上，更佳為130℃以上，例如為180℃以下，較佳為165℃以下，更佳為150℃以下，進而較佳為140℃以下。退火步驟之加熱時間例如為1分鐘以上，較佳為5分鐘以上，進而較佳為15分鐘以上，例如為60分鐘以下，較佳為45分鐘以下。
藉此，在基材上形成樹脂膜。樹脂膜之厚度例如為70 μm以上200 μm以下。繼而，從基材剝離樹脂膜。
繼而，延伸樹脂膜。在一個實施方式中，一邊沿長度方向搬送樹脂膜，一邊沿與搬送方向正交之寬度方向進行延伸(固定端橫向延伸)。樹脂膜可以一個階段或兩個階段以上被延伸，特佳為以兩個階段被延伸。由兩個階段延伸進行之相位差層之製造方法可例舉出包括下述步驟之製造方法：將樹脂膜沿寬度方向延伸之第一延伸步驟；及將第一延伸步驟後之樹脂膜沿與第一延伸步驟相同之方向延伸之第二延伸步驟。 樹脂膜較佳為在延伸之前被預熱。預熱溫度與樹脂膜中所包含之材料之Tg相關聯地變動，著眼於具有最低Tg之材料之Tg：(Tg1)設定。(Tg1)例如係纖維素系樹脂之Tg。預熱溫度例如為(Tg1)－20℃以上，較佳為(Tg1)－10℃以上，例如為(Tg1)＋50℃以下，較佳為(Tg1)＋40℃以下。 延伸溫度亦與預熱溫度同樣例如為(Tg1)－20℃以上，較佳為(Tg1)－10℃以上，例如為(Tg1)＋50℃以下，較佳為(Tg1)＋40℃以下。 延伸速度例如為1 mm/秒以上，較佳為2 mm/秒以上，例如為200 mm/秒以下，較佳為100 mm/秒以下。延伸倍率(當樹脂膜以兩個階段被延伸之情形時，第一延伸步驟之延伸倍率與第二延伸步驟之延伸倍率之積)例如為2.0倍以上，較佳為2.5倍以上，例如為8.0倍以下，較佳為7.5倍以下。
繼而，使經延伸之樹脂膜沿延伸方向熱收縮。熱收縮溫度亦與預熱、延伸溫度同樣地與(Tg1)關聯地設定，例如為(Tg1)－20℃以上，較佳為(Tg1)－15℃以上，例如為(Tg1)＋45℃以下，較佳為(Tg1)＋35℃以下。熱收縮溫度更佳為延伸溫度以下。收縮率代表性地為1%以上5%以下。 藉由以上操作，製造相位差層20。
D.圖像顯示裝置 上述A項～C項中所記載之附有相位差層之偏光板可應用於圖像顯示裝置。因此，本發明之一個實施方式亦包括使用此種附有相位差層之偏光板之圖像顯示裝置。作為圖像顯示裝置之代表例，可例舉出液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置。本發明之實施方式之圖像顯示裝置具備圖像顯示單元與上述A項至C項中所記載之附有相位差層之偏光板。代表性地，圖像顯示裝置具備：包含圖像顯示單元之圖像顯示面板；及配置於其視認側之上述附有相位差層之偏光板。再者，有時將圖像顯示裝置稱為光學顯示裝置，有時將圖像顯示面板稱為光學顯示面板，有時將圖像顯示單元稱為光學顯示單元。 [實施例]
以下，藉由實施例來具體地說明本發明，但本發明不限於該等實施例。各特性之測定方法如下所述。
(1)相位差值之測定 對於實施例與比較例中使用之相位差層之相位差值，使用Axoscan(Axometrics公司製造)進行了自動測量。測定波長為450 nm或550 nm，測量溫度為23℃。
(2)奈米相分離結構之觀察 對實施例與比較例中使用之相位差膜之厚度方向之中央附近(具體而言，將相位差膜之厚度設為100%時，為距離相位差膜之厚度方向之中央±20%之區域)進行採樣，藉由包含重金屬染色之超薄切片法，利用TEM(HT7820、日立公司製造)來觀察相位差膜之截面(截面TEM觀察)。 從被分析之照片藉由目視按照下述標準進行評價。 ○：所有結構域之尺寸(最大長度)均未達100 nm。 △：未達100 nm之結構域與超過100 nm之結構域混合存在。 ×：所有結構域之尺寸(最大長度)均為100 nm以上。
(3)HAST(High Accelerated Stress Test，高加速應力試驗)試驗 利用黏著劑層將實施例與比較例中得到之附有相位差層之偏光板貼附在玻璃板，準備樣品。繼而，將樣品投入到加壓式加濕烘箱中，在110℃/85%RH之條件下保持36小時後，藉由目視按下述標準評價外觀。 ○：無裂紋及/或剝落。 ×：有裂紋及/或剝落。
(4)MIT試驗 對實施例與比較例中使用之相位差膜、以及實施例與比較例中得到之附有相位差層之偏光板分別實施MIT試驗。MIT試驗係按照JIS P 8115來進行。具體而言，以延伸方向為寬度方向(TD方向)、與延伸方向正交之方向為長度方向(MD方向)之方式，分別將相位差膜與附有相位差層之偏光板切成長15 cm與寬1.5 cm，作為測定試樣。將測定試樣安裝在MIT耐折疲勞試驗機BE-202型(TESTER SANGYO公司製造)(負荷1.0 kgf，夾具之R：0.38 mm)，分別在寬度方向(TD方向)與長度方向(MD方向)上，以試驗速度90 cpm與彎折角度90°反覆進行彎折，將測定試樣斷裂時之彎折次數作為試驗值。按照下述標準對試驗值進行評價。 ○：在附有相位差層之偏光板中，TD方向之試驗值為500次以上，MD方向之試驗值為300次以上。 ×：在附有相位差層之偏光板中，TD方向之試驗值未達500次、及/或MD方向之試驗值未達300次。
＜＜製造例1：顯示負雙折射性之酯系樹脂A(9-乙烯基咔唑/α-氰基-4-羥基桂皮酸異丁酯/丙烯酸異丁酯)之合成＞＞ 在容量50 mL之玻璃安瓿中添加9-乙烯基咔唑12.20 g、α-氰基-4-羥基桂皮酸異丁酯7.74 g、丙烯酸異丁酯4.05 g、聚合起始劑2,5-二甲基-2,5-二(2-乙基己醯基過氧基)己烷0.453 g及甲乙酮36.00 g，反覆進行氮氣置換與減壓後，在減壓狀態下進行熱封。藉由將該安瓿放入54℃之恆溫槽中並保持24小時來進行自由基聚合。聚合反應結束後，從安瓿中取出聚合物，添加四氫呋喃100 g，將該聚合物溶液滴加到800 g之甲醇/水混合溶劑(質量比80/20)中而析出，過濾後，將過濾物用110 g甲醇/水混合溶劑(質量比90/10)洗淨5次，進行過濾。藉由將得到之樹脂在80℃下真空乾燥10小時，得到了顯示負雙折射性之桂皮酸酯共聚物22.3 g。得到之聚合物之數量平均分子量為50,000，殘基單元之比率為9-乙烯基咔唑殘基單元50莫耳%、α-氰基-4-羥基桂皮酸異丁酯殘基單元25莫耳%、丙烯酸異丁酯殘基單元25莫耳%。
＜＜製造例2：酯系樹脂B(α-氰基-4-羥基桂皮酸乙酯/9-乙烯基咔唑共聚物)之合成＞＞ 在容量50 mL之玻璃安瓿中添加α-氰基-4-羥基桂皮酸乙酯5.0 g、9-乙烯基咔唑4.4 g、聚合起始劑2,5-二甲基-2,5-二(2-乙基己醯基過氧基)己烷0.17 g及四氫呋喃8.5 g，反覆進行氮氣置換與減壓後在減壓狀態下進行熱封。藉由將該安瓿放入62℃之恆溫槽中並保持48小時來進行自由基聚合。聚合反應結束後，從安瓿中取出聚合物，在四氫呋喃25 g中溶解。將該聚合物溶液滴加到500 mL之甲醇中而析出，然後在60℃下真空乾燥10小時，藉此得到了顯示負雙折射性之桂皮酸酯共聚物(酯系樹脂B)7.7 g(收率：82%)。得到之桂皮酸酯共聚物之數量平均分子量為22,000，結構單元之比率為9-乙烯基咔唑殘基單元58莫耳%、α-氰基-4-羥基桂皮酸酯殘基單元42莫耳%。
＜＜製造例3：偏光板之製作＞＞ 使用長條狀且Tg為約75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度：100 μm)作為熱塑性樹脂基材，對樹脂基材之單面實施電暈處理。 向聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)與乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業公司製造之商品名「GOHSEFIMER」)以9：1混合而成之PVA系樹脂100質量份中，添加13質量份之碘化鉀，將所得者溶於水中而製備PVA水溶液(塗佈液)。 在樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液，於60℃下進行乾燥，藉此形成厚度13 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。 將所得到之積層體於130℃之烘箱內沿縱向(長度方向)單軸延伸至2.4倍(空中輔助延伸處理)。 繼而，將積層體於液溫40℃之不溶化浴(相對於100質量份之水，調配4質量份之硼酸而得到之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 繼而，於液溫30℃之染色浴(相對於100質量份之水，以1：7之重量比調配碘與碘化鉀而得到之碘水溶液)中，一邊按照最終得到之偏光元件之單體透過率(Ts)成為所期望之值之方式調整濃度，一邊浸漬60秒(染色處理)。 繼而，於液溫40℃之交聯浴(相對於100質量份之水，調配3質量份之碘化鉀，並調配5質量份之硼酸而得到之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 然後，將積層體一邊浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4重量%，碘化鉀濃度5重量%)中，一邊於周速不同之輥間沿縱向(長度方向)按照總延伸倍率成為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸處理)。 然後，將積層體浸漬於液溫20℃之洗淨浴(相對於100質量份之水，調配4質量份之碘化鉀而得到之水溶液)中(洗淨處理)。 然後，一邊於保持在約90℃之烘箱中進行乾燥，一邊與表面溫度保持在約75℃之SUS製之加熱輥接觸(乾燥收縮處理)。 如上所述地在樹脂基材上形成厚度約5 μm之偏光元件，得到具有樹脂基材/偏光元件之構成之積層體。 在所得到之積層體之偏光元件表面(與樹脂基材相反之側之面)，貼合HC-TAC膜(厚度20 μm)作為保護層。然後，剝離樹脂基材，得到具有保護層/偏光元件之構成之偏光板。
[實施例1與2] ＜＜相位差膜之製作＞＞ 將乙基纖維素(Dow Chemical公司製造、ETHOCEL standard 100、數量平均分子量Mn＝58,000、重量平均分子量Mw＝180,000、Mw/Mn＝3.2、總取代度DS＝2.51)、及製造例1中得到之酯系樹脂A按照成為表1所示之質量比率之方式溶解於乙酸乙酯/甲苯＝60/40(質量比)之混合溶劑中，得到固形物成分濃度為16質量%之樹脂溶液。 繼而，藉由分散混合器攪拌樹脂溶液30分鐘後，靜置2小時進行消泡。藉由塗佈器將消泡後之樹脂溶液按照濕厚度成為約810 μm之方式塗佈於聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(東洋紡公司製造、COSMOSHINE A4610)上。 繼而，將塗膜在烘箱中於65℃/6分鐘、85℃/1分鐘、110℃/2分鐘之條件下進行3個階段乾燥後，在室溫(23℃)下靜置60分鐘。然後將乾燥後之塗膜再次在烘箱中進行130℃/60分鐘之退火。藉此，在PET膜上形成了樹脂膜。 然後，從PET膜剝離樹脂膜。將剝離後之樹脂膜在165℃/1分鐘之條件下預熱後，在延伸溫度為155℃、延伸速度為2 mm/秒之條件下，進行固定端橫向延伸至2.4倍。然後，使經延伸之樹脂膜在收縮溫度155℃下橫向收縮2%，得到厚度為46 μm 之相位差膜。相位差膜之折射率特性顯示為nx＞ny＞nz。 將相位差膜供至上述之相位差值之測定與奈米相分離結構之觀察。將其結果示於表1。 ＜＜附有相位差層之偏光板之製作＞＞ 繼而，在製造例3中得到之偏光板之偏光元件利用(甲基)丙烯酸系之黏著劑貼附相位差膜。黏著劑層之厚度為5 μm。貼合係按照偏光元件之吸收軸方向與相位差膜之慢軸方向所成之角度成為表1之值之方式來進行。 然後，在相位差膜上塗佈(甲基)丙烯酸系黏著劑，形成黏著劑層。黏著劑層之厚度為15 μm。 藉由以上操作，得到了附有相位差層之偏光板。將附有相位差層之偏光板供至上述之HAST試驗。將其結果示於表1。
[實施例3] 除了將製造例1之酯系樹脂A變更為製造例2之酯系樹脂B以外，以與實施例1同樣之方式得到了附有相位差層之偏光板。又，將相位差膜供於上述之相位差值之測定與奈米相分離結構之觀察，將附有相位差層之偏光板供於上述之HAST試驗。將其結果示於表1。
[實施例4] 除了將預熱溫度變更為162℃、將延伸溫度變更為162℃、將延伸倍率變更為3.0倍以外，以與實施例1同樣之方式得到了附有相位差層之偏光板。又，相位差膜之厚度為36 μm。又，將相位差膜供於上述之相位差值之測定、奈米相分離結構之觀察及MIT試驗，將附有相位差層之偏光板供於上述之HAST試驗及MIT試驗。將其結果示於表2。
[實施例5] 除了將樹脂溶液之濕膜厚變更為1050 μm以外，以與實施例3同樣之方式製備樹脂膜(延伸前)。繼而，將樹脂膜在162℃/1分鐘之條件下預熱後，在延伸溫度為162℃、延伸速度為2 mm/秒之條件下進行固定端橫向延伸至3.4倍，然後，在167℃/1分鐘之條件下預熱，在延伸溫度為167℃、延伸速度為2 mm/秒之條件下進行固定端橫向延伸至2.1倍。 然後，使經延伸之樹脂膜在收縮溫度155℃下沿寬度方向收縮2%，得到厚度20 μm之相位差膜。將得到之相位差膜供於上述之相位差值之測定、奈米相分離結構之觀察及MIT試驗。 然後，以與實施例3同樣之方式製備了附有相位差層之偏光板。將得到之附有相位差層之偏光板供於上述之HAST試驗與MIT試驗。將其結果示於表2。
[比較例1] 除了將相位差膜變更為如下所述地製作之相位差膜以外，以與實施例1同樣之方式得到了附有相位差層之偏光板。又，將相位差膜供於上述之相位差值之測定、奈米相分離結構之觀察及MIT試驗，將附有相位差層之偏光板供於上述之HAST試驗與MIT試驗。將其結果示於表1與表2。 ＜＜相位差膜之製作＞＞ 在包含2台具備攪拌槳與被控制為100℃之回流冷卻器之立式反應器的批次式聚合裝置中，添加雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60質量份(0.046莫耳)、異山梨糖醇(ISB)29.21質量份(0.200莫耳)、螺二醇(SPG)42.28質量份(0.139莫耳)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298莫耳)、及作為觸媒之乙酸鈣一水合物1.19×10 -2質量份(6.78×10 -5莫耳)。將反應器內進行減壓氮氣置換後，用熱介質進行加溫，當內溫達到100℃之時點開始攪拌。升溫開始40分鐘後使內溫達到220℃，按照保持該溫度之方式進行控制之同時開始減壓，達到220℃後用90分鐘變成13.3 kPa。將與聚合反應一起副產之苯酚蒸氣導入至100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中含有之若干量之單體成分返回至反應器，未冷凝之苯酚蒸氣導入至45℃之冷凝器進行回收。向第一反應器中導入氮氣，暫時復壓至大氣壓後，將第一反應器內之低聚物化之反應液移到第二反應器中。繼而，開始第二反應器內之升溫與減壓，用50分鐘使內溫為240℃、壓力為0.2 kPa。然後，進行聚合直至達到規定之攪拌動力。在達到規定動力之時點，向反應器中導入氮氣而進行復壓，將生成之聚酯碳酸酯系樹脂擠出到水中，切割線料，得到粒料。 將得到之聚酯碳酸酯系樹脂(粒料)在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單螺桿擠出機(東芝機械公司製造，料筒設定溫度：250℃)、T形模頭(寬度200 mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120～130℃)及捲取機之製膜裝置，製作了厚度為130 μm之長條狀之樹脂膜。將得到之長條狀樹脂膜在140℃下進行自由端縱向延伸至1.4倍，得到厚度為110 μm之相位差膜。
[比較例2] 不使用製造例1之酯系樹脂A，而僅使用乙基纖維素作為樹脂材料來製作了相位差膜，除此之外，以與實施例1同樣之方式得到了附有相位差層之偏光板。又，將相位差膜供於上述之相位差值之測定與奈米相分離結構之觀察，將附有相位差層之偏光板供於上述之HAST試驗。將其結果示於表1。
[比較例3] 不使用乙基纖維素，而僅使用製造例2之酯系樹脂B作為樹脂材料來製作了相位差膜，除此之外，以與實施例3同樣之方式得到了附有相位差層之偏光板。又，將相位差膜供於上述之相位差值之測定與奈米相分離結構之觀察，將附有相位差層之偏光板供於上述之HAST試驗。將其結果示於表1。
[比較例4] 在以6：4調配乙酸乙酯/甲苯所得之混合溶劑中，將乙基纖維素與製造例1中得到之酯系樹脂A以成為80：20之質量比率之方式溶解，得到固形物成分濃度為16質量%之樹脂溶液。 繼而，藉由分散混合器攪拌樹脂溶液30分鐘後，靜置2小時進行消泡。藉由塗佈器將消泡後之樹脂溶液按照濕厚度成為約810 μm之方式塗佈於聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(東洋紡公司製造、COSMOSHINE A4610)上。 繼而，將塗膜在烘箱中於40℃/4分鐘、85℃/4分鐘、135℃/4分鐘、155℃/6分鐘之條件下進行4個階段乾燥，在PET膜上形成了厚度為110 μm之樹脂膜。 然後，從PET膜剝離樹脂膜。將剝離後之樹脂膜在165℃/1分鐘之條件下預熱後，在延伸溫度為155℃、延伸速度為2 mm/秒之條件下，進行固定端橫向延伸至2.4倍。然後，使經延伸之樹脂膜在與延伸溫度相同之溫度(收縮溫度155℃)下橫向收縮2%，得到厚度為46 μm之相位差膜。將該相位差膜供於上述之相位差值之測定與奈米相分離結構之觀察。將其結果示於表1。在比較例4中，在觀察上述奈米相分離結構時得到之TEM剖視圖像中，相分離之各結構域之尺寸為100 nm以上之較大者，可知未得到充分之相分離狀態。 ＜＜附有相位差層之偏光板之製作＞＞ 繼而，在製造例3中得到之偏光板之偏光元件利用(甲基)丙烯酸系之黏著劑貼附相位差膜。黏著劑層之厚度為5 μm。貼合係按照偏光元件之吸收軸方向與相位差膜之慢軸方向所成之角度成為表1之值之方式來進行。 然後，在相位差膜塗佈(甲基)丙烯酸系黏著劑，形成黏著劑層。黏著劑層之厚度為15 μm。 藉由以上操作，得到了附有相位差層之偏光板。將附有相位差層之偏光板供給至上述之HAST試驗。將其結果示於表1。比較例4之附有相位差層之偏光板在HAST試驗後產生了裂紋。
[比較例5] 在以6：4調配乙酸乙酯/甲苯所得之混合溶劑中，將乙基纖維素與製造例1中得到之酯系樹脂A以成為80：20之質量比率之方式溶解，得到固形物成分濃度為16質量%之樹脂溶液。 繼而，藉由分散混合器攪拌樹脂溶液30分鐘後，靜置2小時進行消泡。藉由塗佈器將消泡後之樹脂溶液按照濕厚度成為約810 μm之方式塗佈於聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(東洋紡公司製造、COSMOSHINE A4610)上。 繼而，將塗膜在烘箱中於40℃/10分鐘、85℃/4分鐘、135℃/4分鐘、155℃/10分鐘之條件下進行4個階段乾燥，在PET膜上形成了厚度為110 μm之樹脂膜。 然後，從PET膜剝離樹脂膜。將剝離後之樹脂膜在165℃/1分鐘之條件下預熱後，在延伸溫度為155℃、延伸速度為2 mm/秒之條件下，進行固定端橫向延伸至2.4倍。然後，使經延伸之樹脂膜在與延伸溫度相同之溫度(收縮溫度155℃)下橫向收縮2%，得到厚度為46 μm 之相位差膜。將該相位差膜供於上述之相位差值之測定與奈米相分離結構之觀察。將其結果示於表1。在比較例5中，不能確保作為λ/4板之足夠之特性。在觀察上述奈米相分離結構時得到之TEM剖視圖像中，相分離之各結構域為100 nm左右，未達100 nm之結構域與超過100 nm之結構域混合存在。因此可知，未形成良好之奈米相分離結構。 ＜＜附有相位差層之偏光板之製作＞＞ 繼而，在製造例3中得到之偏光板之偏光元件利用(甲基)丙烯酸系之黏著劑貼附相位差膜。黏著劑層之厚度為5 μm。貼合係按照偏光元件之吸收軸方向與相位差膜之慢軸方向所成之角度成為表1之值之方式來進行。 然後，在相位差膜塗佈(甲基)丙烯酸系黏著劑，形成黏著劑層。黏著劑層之厚度為15 μm。 藉由以上操作，得到了附有相位差層之偏光板。比較例5之附有相位差層之偏光板由於未得到作為圓偏光板足夠之特性，故而通常不實施HAST試驗，但為了慎重起見，供於上述之HAST試驗。將其結果示於表1。比較例5之附有相位差層之偏光板在HAST試驗後之外觀無問題。
[比較例6] 除了延伸後之膜厚不同以外，以與比較例1同樣之方式得到了附有相位差層之偏光板。又，相位差膜之厚度為37 μm。又，將相位差膜供於上述之相位差值之測定、奈米相分離結構之觀察及MIT試驗，將附有相位差層之偏光板供於上述之HAST試驗與MIT試驗。將其結果示於表2。
[比較例7] ＜＜相位差膜之製作＞＞ 將顯示向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造：商品名「Paliocolor LC242」，由下述式表示)10 g、及針對該聚合性液晶化合物之光聚合起始劑(BASF公司製造：商品名「Irgacure 907」)3 g溶解於甲苯40 g中，製備液晶組合物(塗佈液) [化9] 使用摩擦布摩擦聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度38 μm)表面，實施配向處理。配向處理之方向係在貼合於偏光板時，從視認側看相對於偏光元件之吸收軸之方向為15°之方向。利用棒塗機在該配向處理表面塗佈上述液晶塗佈液，在90℃下加熱乾燥2分鐘，藉此使液晶化合物配向。使用金屬鹵化物燈對如上所述地形成之液晶層照射1 mJ/cm 2之光，使該液晶層硬化，藉此在PET膜上形成了液晶配向固化層。液晶配向固化層具有nx＞ny＝nz之折射率特性。液晶配向固化層之厚度為1 μm，面內相位差Re(550)為140 nm。將液晶配向固化層作為相位差膜，將該相位差膜供於相位差值之測定、奈米相分離結構之觀察及MIT試驗。將其結果示於表2。 ＜＜附有相位差層之偏光板之製作＞＞ 繼而，在製造例3中得到之偏光板之偏光元件利用(甲基)丙烯酸系之黏著劑貼附相位差膜。黏著劑層之厚度為5 μm。貼合係按照使偏光元件之吸收軸方向與相位差膜之慢軸方向所成之角度成為45°之方式來進行。 然後，在相位差膜塗佈(甲基)丙烯酸系黏著劑，形成黏著劑層。黏著劑層之厚度為15 μm。 藉由以上操作，得到了附有相位差層之偏光板。將附有相位差層之偏光板供於上述之HAST試驗與MIT試驗。將其結果示於表2。
表1
No. 樹脂材料 奈米相分離結構 *TEM截面 相位差Re (550) Re(450) /Re(550) 貼合角度 HAST
樹脂種類 比率 樹脂種類 比率
[質量%] [質量%] [-] [nm] [-] [°] [-]
實施例1 乙基纖維素 80 酯系樹脂A 20 〇 143 0.86 45 〇
實施例2 70 30 〇 143 0.78 45 〇
實施例3 80 酯系樹脂B 20 〇 143 0.91 45 〇
比較例1 改性聚酯碳酸酯 100 - 0 × 143 0.86 45 ×
比較例2 乙基纖維素 100 - 0 × 150 1.02 45 ×
比較例3 酯系樹脂B 100 - 0 × 94 1.06 45 ×
比較例4 乙基纖維素 80 酯系樹脂A 20 × 143 0.86 45 ×
比較例5 乙基纖維素 80 酯系樹脂A 20 △ 80 0.80 45 〇
表2
No. 樹脂材料 奈米相分離結構 *TEM 截面 ∆n (550) Re(450)/Re(550) Nz係數 HAST 彎曲性 MIT (相位差膜單體) MIT (附有相位差層之偏光板)
樹脂種類 比率 樹脂種類 比率 (TD方向) (MD方向) (TD方向) (MD方向)
[質量%] [質量%] [-] [-] [-] [-] [-] [-] [次]
實施例4 乙基纖維素 80 酯系樹脂A 20 〇 0.0049 0.86 1.3 〇 〇 1173 716 559 471
實施例5 80 酯系樹脂B 20 〇 0.0051 0.78 1.2 〇 〇 2142 1316 921 565
比較例1 改性聚酯碳酸酯 100 - 0 × 0.0031 0.86 1.3 × × 1310 218 710 202
比較例6 改性聚酯碳酸酯 100 - 0 × 0.0040 0.86 1.2 × × 2306 358 982 290
比較例7 液晶聚合物 100 - 0 × 0.115 1.02 1.2 × × 1 1 270 358
[評價] 由表1與表2可知，若相位差層含有纖維素系樹脂與酯系樹脂，並且該等構成了合適之奈米相分離結構，則能夠實現不僅能夠維持相位差層之逆分散特性，而且抑制了高溫高濕環境下之外觀不良之發生的附有相位差層之偏光板。進而可知，若在相位差層(相位差膜)中形成有奈米相分離結構，則在相位差膜與附有相位差層之偏光板中，能夠提高延伸方向(MD方向)及與延伸方向正交之方向(TD方向)上之彎曲性。
[產業上之可利用性] 本發明之實施方式之附有相位差層之偏光板能夠良好地應用於圖像顯示裝置(代表性地有液晶顯示裝置與有機EL顯示裝置)。
10:偏光板 11:偏光元件 12:保護層 20:相位差層 30:接著層 40:黏著劑層 50:剝離襯墊 100:附有相位差層之偏光板
圖1係本發明之一個實施方式之附有相位差層之偏光板之概略剖視圖。
10:偏光板
11:偏光元件
12:保護層
20:相位差層
30:接著層
40:黏著劑層
50:剝離襯墊
100:附有相位差層之偏光板

Claims (6)

  1. 一種附有相位差層之偏光板，其依序具備：偏光元件、及 含有纖維素系樹脂與酯系樹脂之相位差層， 上述相位差層之Re(450)/Re(550)為0～1， 上述相位差層之Re(550)為100 nm～200 nm， 上述偏光元件之吸收軸方向與上述相位差層之慢軸方向所成之角度為40°～50°或130°～140°， 在上述相位差層中形成有奈米相分離結構。
  2. 如請求項1之附有相位差層之偏光板，其中上述纖維素系樹脂具有下述式(1)所表示之結構單元： [化1] (式(1)中，R 1～R 3分別表示氫原子或碳數為1～12之取代基)。
  3. 如請求項1或2之附有相位差層之偏光板，其中上述酯系樹脂具有下述式(2)所表示之結構單元與下述式(3)所表示之結構單元： [化2] (式(2)中，R 4表示氫原子或碳數為1～12之烷基；R 5a表示選自碳數為1～12之烷基、硝基、溴基、碘基、氰基、氯基、磺酸基、羧酸基、氟基或硫醇基之一種；R 5b表示氫原子或碳數為1～12之烷基；R 6表示選自氫原子、硝基、溴基、碘基、氰基、氯基、磺酸基、羧酸基、氟基、苯基、硫醇基、醯胺基、胺基、羥基、碳數為1～12之烷氧基或碳數為1～12之烷基之種) [化3] (式(3)中，R 7表示含有一個以上氮原子或氧原子作為雜原子之5員環雜環殘基或6員環雜環殘基(上述5員環雜環殘基及上述6員環雜環殘基可與其他環狀結構形成稠環結構))。
  4. 如請求項3之附有相位差層之偏光板，其中上述酯系樹脂進而具有下述式(4)所表示之結構單元： [化4] (式(4)中，R 8及R 9分別表示選自氫原子、碳數為1～12之直鏈狀烷基、碳數為3～12之支鏈狀烷基或碳數為3～6之環狀烷基之一種)。
  5. 如請求項1或2之附有相位差層之偏光板，其中在將上述纖維素系樹脂及上述酯系樹脂之總和設為100質量%時，上述纖維素系樹脂之含有比率超過50質量%。
  6. 如請求項1或2之附有相位差層之偏光板，其中上述相位差層係將含有纖維素系樹脂與酯系樹脂之樹脂膜延伸而成之延伸膜， 上述延伸膜之與延伸方向正交之方向上之MIT次數為300次以上。
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