TW202223458A - 偏光薄膜用接著劑組成物、偏光薄膜、光學薄膜、及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明涉及一種偏光薄膜用接著劑組成物，其含有陽離子捕捉劑，該陽離子捕捉劑具備可以2牙以上對金屬成分進行配位之配位部位與反應性基；尤其涉及一種偏光薄膜，其具備偏光件與接著劑層，該接著劑層係與偏光件或偏光件以外之光學薄膜鄰接者；並且，接著劑層為該偏光薄膜用接著劑組成物的硬化物層。宜為偏光件含有可在水中成為2價金屬陽離子的金屬成分。

Description

偏光薄膜用接著劑組成物、偏光薄膜、光學薄膜、及影像顯示裝置
本發明涉及一種偏光薄膜用接著劑組成物，進而涉及一種偏光薄膜，其具備偏光件與接著劑層，該接著劑層係與偏光件或偏光件以外之光學薄膜鄰接者。該偏光薄膜可以單獨或以積層有該偏光薄膜之光學薄膜之形式形成手機、汽車導航裝置、電腦用監視器、電視等影像顯示裝置。
液晶顯示裝置在手機、汽車導航裝置、電腦用監視器、電視等中急劇地拓展市場。液晶顯示裝置係使利用液晶之開關的偏光狀態視覺化之裝置，基於其顯示原理，會使用偏光件。特別是在TV等用途中，越來越要求高亮度、高對比、廣闊的視角，對於偏光薄膜也越來越要求高透射率、高偏光度、高度色彩再現性等。
作為偏光件，由具有高透射率、高偏光度來看，通常最廣泛使用的例如是碘系偏光件，其係使碘吸附於聚乙烯醇(以下，亦簡稱為「PVA」)並經延伸之結構者。一般來說，偏光薄膜係使用於偏光件兩面利用聚乙烯醇系材料溶於水而成之所謂水性接著劑而貼合有透明保護薄膜者(下述專利文獻1)。作為透明保護薄膜，使用透濕度高之三醋酸纖維素等。在使用了前述水性接著劑時(所謂濕式層合)，在將偏光件及透明保護薄膜貼合後，需要乾燥步驟。
另一方面，提出了活性能量線硬化性接著劑來代替前述水性接著劑。使用活性能量線硬化性接著劑製造偏光薄膜時，由於不需要乾燥步驟，因此可提高偏光薄膜之生產率。例如，提出了一種自由基聚合型活性能量線硬化性接著劑，其係使用N-取代醯胺系單體作為硬化性成分者(下述專利文獻2)。使用專利文獻2中記載之活性能量線硬化性接著劑而形成的接著劑層可充分通過耐水性試驗，該試驗例如係對在60℃溫水中浸漬6小時後有無脫色、剝落進行評估。但近年來，偏光薄膜不僅用於手機等可攜式用途，用於車載用途之影像顯示裝置上之情況也很多，與可攜式用途相比，在車載用途中需要滿足更高溫高濕條件下之耐久性試驗。 現有技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2001-296427號公報 專利文獻2：日本專利特開2012-052000號公報
發明欲解決之課題 作為對用於車載用途之偏光薄膜要求的耐久性試驗，例如有在65℃-95%濕度之環境下暴露1000小時之加濕耐久性試驗。在此，本發明人對該加濕耐久性試驗後之偏光薄膜的外觀狀態詳細地進行檢討後發現，特別是在偏光薄膜端部會發生白色霧狀之來自異物的亮點，在外觀特性方面來說便為產品不良。所述現象係在高溫且高濕度環境下之耐久性試驗後首次被觀察到，為了解決所述新問題，必須深入檢討。
本發明是鑒於上述實際情況而開發，目的在於提供一種偏光薄膜用接著劑組成物，該組成物係成為偏光薄膜之原料者，且該偏光薄膜即使在加濕耐久性試驗後仍能抑制來自異物之亮點之發生、且外觀特性優異。
並且，本發明目的在於提供一種偏光薄膜，其即使在加濕耐久性試驗後仍能抑制來自異物之亮點之發生、且外觀特性優異。
用以解決課題之手段 上述課題可藉由下述構成來解決。即，本發明涉及一種偏光薄膜用接著劑組成物，其含有陽離子捕捉劑，該陽離子捕捉劑具備可以2牙以上對金屬成分進行配位之配位部位與反應性基。
上述偏光薄膜用接著劑組成物中，宜前述反應性基為選自於由以下所構成群組中之至少1種反應性基：乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、巰基及烷氧基。
上述偏光薄膜用接著劑組成物中，宜前述陽離子捕捉劑具備之配位部位具有至少2個以上氮原子，或者前述陽離子捕捉劑具備之配位部位具有至少2個以上氧原子，進而前述陽離子捕捉劑具備之配位部位具有至少1個以上氮原子及至少1個以上氧原子。
上述偏光薄膜用接著劑組成物中，前述陽離子捕捉劑宜為選自於由以下所構成群組中之至少1種：胺基烷基丙烯醯胺、丙烯酸胺基烷基酯、以及含有乙醯乙醯基或含有乙醯乙醯氧基之化合物與一級胺化合物的反應物。
上述偏光薄膜用接著劑組成物宜更含有活性能量線硬化性成分。
上述偏光薄膜用接著劑組成物中，令偏光薄膜用接著劑組成物之總量為100重量%時，前述陽離子捕捉劑之含量宜為0.5~15重量%。
又，本發明涉及一種偏光薄膜，其具備偏光件與接著劑層，該接著劑層係與前述偏光件或前述偏光件以外之光學薄膜鄰接者；並且，前述接著劑層為前述任一項記載之偏光薄膜用接著劑組成物的硬化物層。
上述偏光薄膜中，前述偏光件宜含有可在水中成為2價金屬陽離子的金屬成分。
上述偏光薄膜中，前述金屬成分宜為鋅。
上述偏光薄膜中，前述偏光薄膜宜具備：偏光件；光學薄膜，其係透過水性接著劑層積層於前述偏光件之至少一面；及前述接著劑層，其係設置於前述光學薄膜之與水性接著劑層為相反側之面。
並且，本發明涉及一種光學薄膜，其係至少積層有1片前述任一項記載之偏光薄膜；且涉及一種影像顯示裝置，其係使用有前述任一項記載之偏光薄膜、及/或前述記載之光學薄膜。
發明的效果 對於用於車載用途等之偏光薄膜要求例如即使在65℃-95%濕度之環境下暴露1000小時之加濕耐久性試驗後，外觀特性仍優異。以本發明偏光薄膜用接著劑組成物為原料而形成有接著劑層之偏光薄膜而言，偏光薄膜用接著劑組成物含有陽離子捕捉劑，且該陽離子捕捉劑具備可以2牙以上對金屬成分進行配位之配位部位與反應性基。因此，在所述加濕耐久性試驗後，可顯著地抑制在偏光薄膜中發生來自異物之亮點。結果偏光薄膜之外觀特性優異。
特別是以本發明偏光薄膜用接著劑組成物為原料而形成有接著劑層之偏光薄膜，其即使在具備含有可在水中成為2價金屬陽離子的金屬成分之偏光件時、特別是在具備含有鋅之偏光件時，偏光薄膜之外觀特性仍優異。可獲得該效果之理由尚不明確，但例如可以推定以下理由。
以具備偏光件及與偏光件或偏光件以外之光學薄膜鄰接的接著劑層之偏光薄膜而言，在加濕耐久性試驗時，偏光件含有之可在水中成為2價金屬陽離子的金屬成分、特別是鋅，在偏光薄膜端部會經由蒸氣、結露而移動到接著劑層中。在此，在接著劑層中，成為原料之接著劑組成物中所含之成分以外的成分、例如草酸係以經離子化之狀態存在，但只要不與金屬成分鍵結而形成草酸鹽，草酸就不會在接著劑層中以異物之形式被檢測出來。然而，在加濕耐久性試驗時，若偏光件所含有之特定金屬成分從端部混入接著劑層中，離子化後之草酸便會與金屬成分鍵結，藉此特別是在接著劑層中之端部會產生草酸鹽，而其會成為白色亮點而以異物之形式被檢測出來。結果偏光薄膜之外觀特性便差。
以本發明偏光薄膜用接著劑組成物為原料而形成有接著劑層之偏光薄膜而言，即使在偏光件所含有之特定金屬成分從端部混入接著劑層中之情況下，陽離子捕捉劑也可補捉金屬成分。特別是在本發明中，陽離子捕捉劑具備可以至少2牙以上對金屬成分進行配位之配位部位，因此陽離子捕捉劑可在草酸與金屬成分鍵結合之前便捕捉金屬成分。此外，該陽離子捕捉劑除配位部位外還具備反應性基，故會在藉由偏光薄膜用接著劑組成物硬化而成為接著劑層之階段中被組入構成接著劑之聚合物中。因此，被捕捉之金屬成分亦會被組入構成接著劑層之聚合物中，故能抑制離子化後之草酸與金屬成分鍵結、進而抑制草酸鹽從偏光薄膜端部移動至內部。結果即使在加濕耐久性試驗後，仍能特別提高偏光薄膜之外觀特性。
本發明偏光薄膜即使在加濕耐久性試驗後，外觀特性也優異。即使在本發明偏光薄膜具備之偏光件含有可在水中成為2價金屬陽離子的金屬成分的情況下、特別是金屬成分為鋅的情況下，由於成為接著劑層之原料的偏光薄膜用接著劑組成物含有特定之陽離子捕捉劑，因此能抑制離子化後之草酸與金屬成分之鍵結、進而抑制草酸鹽從偏光薄膜端部移動至內部。結果即使在加濕耐久性試驗後，仍能特別提高偏光薄膜之外觀特性。
圖1中係顯示本發明一實施形態之偏光薄膜的截面示意圖之一例。該實施形態中之偏光薄膜10具備偏光件1與接著劑層5，該接著劑層5係與偏光件1以外之第1光學薄膜4鄰接者。更具體而言，該偏光薄膜10具備：偏光件1；第1光學薄膜(相位差薄膜)4，其係透過水性接著劑層2積層於偏光件1之至少一面；及接著劑層5，其係設置於第1光學薄膜(相位差薄膜)4之與水性接著劑層2為相反側之面。尤其該實施形態之偏光薄膜10係在偏光件1之一面透過水性接著劑層2積層有第2光學薄膜(透明保護薄膜)3，在偏光件1之另一面透過水性接著劑層2積層有第1光學薄膜(相位差薄膜)4，且在第1光學薄膜(相位差薄膜)4上積層有接著劑層5，在接著劑層5上積層有第3光學薄膜(相位差薄膜)6。偏光薄膜10進一步在第3光學薄膜6上積層有黏著劑層7，且透過黏著劑層7積層於影像顯示單元等。
圖2係顯示本發明一實施形態之偏光薄膜的截面示意圖之另一例。該實施形態中之偏光薄膜10具備偏光件1與接著劑層5，該接著劑層5係與偏光件1鄰接者。更具體而言，該實施形態之偏光薄膜10在偏光件1之一面透過水性接著劑層2積層有第2光學薄膜(透明保護薄膜)3，在偏光件1之另一面透過接著劑層5積層有第1光學薄膜(相位差薄膜)4。偏光薄膜10進一步在光學薄膜4上積層有黏著劑層7，且透過黏著劑層7積層於影像顯示單元等。
在圖1及圖2所示之偏光薄膜中，水性接著劑層2可適宜使用異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系膠乳系、水性聚酯等水性接著劑的水溶液(例如固體成分濃度0.5~60重量%)。水性接著層2之厚度沒有特別限制，通常以乾燥後之厚度計為0.01μm~0.5μm左右。
以圖1及圖2所示之偏光薄膜10而言，在加濕耐久性試驗時，偏光件1含有之可在水中成為2價金屬陽離子的金屬成分、特別是鋅，在偏光薄膜10端部會經由蒸氣、結露而移動到接著劑層5中。在此，在接著劑層5中，成為原料之接著劑組成物中所含之成分以外的成分、例如草酸係以經離子化之狀態存在，但只要不與金屬成分鍵結而形成草酸鹽，草酸就不會在接著劑層中以異物之形式被檢測出來。在此，若在加濕耐久性試驗時，偏光件10含有之特定的金屬成分混入接著劑層5中，離子化後之草酸與金屬成分便會鍵結而產生草酸鹽，成為白色亮點，而以異物之形式被檢測出來，但是圖1及圖2所示之偏光薄膜10可顯著地抑制在接著劑層中發生來自異物之亮點。
在本發明中，偏光薄膜具備偏光件與接著劑層，該接著劑層係與偏光件或偏光件以外之光學薄膜鄰接者。在圖1所示之偏光薄膜10中，係具備與偏光件1以外之光學薄膜(相位差薄膜)4的接著劑層5。又，在圖2所示之偏光薄膜10中，係具備與偏光件1鄰接之接著劑層5。以下，對成為該接著劑層之原料的本發明偏光薄膜用接著劑組成物進行說明。
＜接著劑層＞ 接著劑層係由本發明偏光薄膜用接著劑組成物的硬化物層形成者。本發明偏光薄膜用接著劑組成物尤宜為電子束硬化性、紫外線硬化性、可見光線硬化性等活性能量線硬化性接著劑組成物。由兼顧偏光薄膜之外觀特性的提高及接著力之觀點來看，乾燥後之接著劑層之厚度宜為0.1μm~5.0μm，較宜為0.5μm~3.0μm。活性能量線硬化性接著劑組成物係含有活性能量線硬化性成分者，可示例出含有自由基聚合性接著劑組成物與陽離子聚合性化合物之陽離子聚合性接著劑組成物，前述自由基聚合性接著劑組成物含有自由基聚合性化合物作為活性能量線硬化性成分。在本發明中，將波長範圍10nm至小於380nm之活性能量線記為紫外線，將波長範圍380nm~800nm之活性能量線記為可見光線。
本發明偏光薄膜用接著劑組成物含有陽離子捕捉劑，該陽離子捕捉劑具備可以2牙以上對金屬成分進行配位之配位部位與反應性基。
陽離子捕捉劑具備之反應性基是為了與自由基聚合性化合物或陽離子聚合性化合物進行反應、以使陽離子捕捉劑被組入構成接著劑層的聚合物中所需。所述反應性基宜為選自於由以下所構成群組中之至少1種反應性基：乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基及巰基。
陽離子捕捉劑具備之配位部位為可以2牙以上對金屬成分進行配位之結構，可列舉例如：具有至少2個以上氮原子之結構(i)、或具有至少2個以上氧原子之結構(ii)、進而具有至少1個以上氮原子及至少1個以上氧原子之結構(iii)等。
作為具備前述結構(i)之陽離子捕捉劑，可舉在分子中具有2個以上氮原子且具有丙烯醯基等反應性基之化合物，例如：二甲基胺基丙基丙烯醯胺等胺基烷基丙烯醯胺、甲基丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙酯與乙二胺之反應物等、含有乙醯乙醯基或乙醯乙醯氧基之化合物與一級胺化合物之反應物等。
作為具備前述結構(ii)之陽離子捕捉劑，可舉在分子中具有2個以上氧原子且具有烷氧基等反應性基之化合物，例如3-三甲氧基矽基丙基琥珀酸酐等。
作為具備前述結構(iii)之陽離子捕捉劑，可舉在分子中具有1個以上氮原子及1個以上氧原子、且具有丙烯醯基等反應性基之化合物，例如丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯等丙烯酸胺基烷基酯等。
由偏光薄膜之外觀性提高之觀點來看，令偏光薄膜用接著劑組成物之總量為100重量%時，陽離子捕捉劑之含量宜為0.5~15重量%，較宜為1~10重量%。
作為構成自由基聚合性接著劑組成物之單體成分，可舉自由基聚合性化合物。自由基聚合性化合物可舉具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基之化合物。該等單體成分可使用單官能自由基聚合性化合物或具有2個以上聚合性官能基之多官能自由基聚合性化合物中之任一種。又，該等自由基聚合性化合物可單獨使用1種，或組合2種以上來使用。作為該等自由基聚合性化合物，宜為例如具有(甲基)丙烯醯基之化合物。此外，在本發明中，(甲基)丙烯醯基是指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基，「(甲基)」在以下為相同含義。
作為單官能自由基聚合性化合物，可舉例如具有(甲基)丙烯醯胺基之(甲基)丙烯醯胺衍生物。(甲基)丙烯醯胺衍生物不僅能確保與偏光件或各種透明保護薄膜之接著性，並且聚合速度快且生產性優異，在這方面來看很理想。作為(甲基)丙烯醯胺衍生物的具體例，可列舉例如：N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺等含N-烷基(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺等含N-羥烷基(甲基)丙烯醯胺衍生物；胺基甲基(甲基)丙烯醯胺、胺基乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-胺基烷基(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺等含N-烷氧基(甲基)丙烯醯胺衍生物；巰基甲基(甲基)丙烯醯胺、巰基乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-巰基烷基(甲基)丙烯醯胺衍生物等等。又，作為(甲基)丙烯醯胺基之氮原子形成了雜環之含雜環(甲基)丙烯醯胺衍生物，可列舉例如：N-丙烯醯基嗎福林、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡咯啶等。
在前述(甲基)丙烯醯胺衍生物中，由與偏光件或各種透明保護薄膜之接著性方面來看，宜為含N-羥烷基(甲基)丙烯醯胺衍生物，又，作為單官能自由基聚合性化合物，可舉例如具有(甲基)丙烯醯氧基之各種(甲基)丙烯酸衍生物。具體上可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸三級戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2,2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸4-甲基-2-丙基戊酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯等(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類。
又，作為前述(甲基)丙烯酸衍生物，可列舉例如：(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸酯環戊酯等(甲基)丙烯酸環烷基酯；(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳烷基酯；(甲基)丙烯酸2-異莰酯、(甲基)丙烯酸2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降莰烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯等多環式(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸乙基卡必醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸烷基苯氧基聚乙二醇酯等含烷氧基或苯氧基(甲基)丙烯酸酯等等。
又，作為前述(甲基)丙烯酸衍生物，可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯等(甲基)丙烯酸羥烷基酯、或丙烯酸[4-(羥甲基)環己基]甲酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯等含羥基(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸環氧丙酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸酯環氧丙基醚等含環氧基(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥丙酯等含鹵素(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯；(甲基)丙烯酸3-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-乙基氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-丁基氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-己基氧雜環丁烷基甲酯等含氧雜環丁烷基(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、丁內酯(甲基)丙烯酸酯等具有雜環之(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇(甲基)丙烯酸加成物、對苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯等。
又，作為單官能自由基聚合性化合物，可列舉：(甲基)丙烯酸、丙烯酸羧乙酯、丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸、異巴豆酸等含羧基單體。
又，作為單官能自由基聚合性化合物，可列舉例如：N-乙烯吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯吡咯啶酮等內醯胺系乙烯基單體；乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌𠯤、乙烯基吡𠯤、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基嗎福林等具有含氮雜環之乙烯基系單體等。
又，作為單官能自由基聚合性化合物，可以使用具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物係一末端或分子中具有(甲基)丙烯醯基等活性雙鍵基、且具有活性亞甲基之化合物。作為活性亞甲基，可列舉例如：乙醯乙醯基、烷氧基丙二醯基、或氰基乙醯基等。前述活性亞甲基宜為乙醯乙醯基。作為具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物的具體例，可列舉例如：(甲基)丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙醯乙醯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-乙醯乙醯氧基-1-甲基乙酯等(甲基)丙烯酸乙醯乙醯氧基烷基酯；(甲基)丙烯酸2-乙氧基丙二醯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-氰基乙醯氧基乙酯、N-(2-氰基乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧基甲基苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基胺基乙基)丙烯醯胺等。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物宜為(甲基)丙烯酸乙醯乙醯氧基烷基酯。
又，作為具有2個以上聚合性官能基之多官能自由基聚合性化合物，可列舉例如：三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、2-乙基-2-丁基丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A氧化乙烯加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A氧化丙烯加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、環狀三羥甲丙烷甲縮醛(甲基)丙烯酸酯、二㗁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改質二甘油四(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物、9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]芴。作為具體例，可列舉ARONIX M-220(東亞合成公司製)、LIGHT ACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學公司製)、LIGHT ACRYLATE DGE-4A(共榮社化學公司製)、LIGHT ACRYLATE DCP-A(共榮社化學公司製)、SR-531(Sartomer公司製)、CD-536(Sartomer公司製)等。又，因應需要，可列舉各種環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等。
本發明偏光薄膜用接著劑組成物中，除自由基聚合性化合物外，還可含有使(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物。藉由在接著劑組成物中含有丙烯酸系寡聚物，可降低對該組成物照射活性能量線並使其硬化時之硬化收縮，且可減少接著劑層與偏光件及光學薄膜等被黏著物之界面應力。結果可抑制接著劑層與被黏著物之接著性降低。
在考慮塗敷時之作業性或均勻性時，偏光薄膜用接著劑組成物宜為低黏度，因此使(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物亦宜為低黏度。作為可防止接著劑層硬化收縮之低黏度的丙烯酸系寡聚物，其重量平均分子量(Mw)宜為15000以下，較宜為10000以下，尤宜為5000以下。另一方面，為了充分抑制硬化物層(接著劑層)之硬化收縮，丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量(Mw)宜為500以上，較宜為1000以上，尤宜為1500以上。作為構成丙烯酸系寡聚物之(甲基)丙烯酸類單體，具體上可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸三級戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2,2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸4-甲基-2-丙基戊酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯等(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類、並且可列舉例如：(甲基)丙烯酸環烷基酯(例如(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸酯環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷基酯(例如(甲基)丙烯酸苄酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如(甲基)丙烯酸2-異莰酯、(甲基)丙烯酸-2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降莰烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-2-降莰基甲酯等)、含羥基(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2,3-二羥丙基甲基-丁酯等)、含烷氧基或苯氧基(甲基)丙烯酸酯類((甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸乙基卡必醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等)、含環氧基(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸環氧丙酯等)、含鹵素(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等)、(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯(例如(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯等)等。該等(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或併用2種以上。作為丙烯酸系寡聚物(E)的具體例，可舉東亞合成公司製「ARUFON」、綜研化學公司製「ACTFLOW」、BASF Japan Ltd.製「JONCRYL」等。
相對於接著劑組成物中之單體成分之總量100重量份，丙烯酸系寡聚物之摻混量通常宜為15重量份以下。組成物中之丙烯酸系寡聚物之含量若過多，有對該組成物照射活性能量線時之反應速度急劇降低、而造成硬化不良之情況。另一方面，為了充分抑制接著劑層之硬化收縮，宜在組成物中含有3重量份以上之丙烯酸系寡聚物。
使用自由基聚合性化合物時之光聚合引發劑可根據活性能量線而適當選擇。在藉由紫外線或可見光線硬化時，可使用紫外線或可見光線開裂之光聚合引發劑。作為前述光聚合引發劑，可列舉例如：二苯基乙二酮(benzil)、二苯基酮、苯甲醯苯甲酸、3,3′-二甲基-4-甲氧基二苯基酮等二苯基酮系化合物；4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮、α-羥基-α,α′-二甲基苯乙酮、2-甲基-2-羥基苯丙酮、α-羥基環己基苯基酮等芳香族酮化合物；甲氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎福林基丙-1-酮等苯乙酮系化合物；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻丁基醚、大茴香偶姻甲基醚等苯偶姻醚系化合物；苄基二甲縮酮等芳香族縮酮系化合物；2-萘磺醯氯等芳香族磺醯氯系化合物；1-苯酮-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟等光活性肟系化合物；9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
、2-氯9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
、2-甲基9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
、2,4-二甲基9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
、異丙基9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
、2,4-二氯9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
、2,4-二乙基9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
、2,4-二異丙基9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
、十二烷基9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
等9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
系化合物；樟腦醌；鹵化酮；醯基氧化膦；醯基膦酸酯等。
令活性能量線硬化型接著劑組成物之總量為100重量%時，前述光聚合引發劑之摻混量為20重量%以下。光聚合引發劑之摻混量宜為0.01~20重量%，較宜為0.05~10重量%，更宜為0.1~5重量%。
又，在以含有自由基聚合性化合物作為硬化性成分之可見光線硬化型使用本發明偏光薄膜用硬化型接著劑時，尤宜使用對380nm以上之光具高靈敏度之光聚合引發劑。關於對380nm以上之光具高靈敏度之光聚合引發劑，容於後述。
作為前述光聚合引發劑，宜單獨使用下述通式(1)所示化合物、或者併用通式(1)所示化合物與後述對380nm以上之光具高靈敏度之光聚合引發劑；
[化學式1]
Figure 02_image001
(式中，R 1及R 2表示-H、-CH 2CH 3、-iPr或Cl，R 1及R 2可相同或不同)。使用通式(1)所示化合物時，與單獨使用對380nm以上之光具高靈敏度之光聚合引發劑之情況相比，接著性優異。通式(1)所示化合物中，尤宜R 1及R 2為-CH 2CH 3之二乙基9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
。相對於硬化性成分之總量100重量份，接著劑組成物中通式(1)所示化合物之組成比率宜為0.1~5重量份，較宜為0.5~4重量份，更宜為0.9~3重量份。
又，宜因應需要添加聚合引發助劑。作為聚合引發助劑，可列舉：三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲基胺基苯甲酸、4-二甲基胺基苯甲酸甲酯、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸異戊酯等，尤宜為4-二甲基胺基苯甲酸乙酯。使用聚合引發助劑時，其添加量相對於硬化性成分之總量100重量份通常為0~5重量份，宜為0~4重量份，最宜為0~3重量份。
又，因應需要，可併用公知之光聚合引發劑。具有UV吸收能之透明保護薄膜不透射380nm以下之光，因此作為光聚合引發劑宜使用對380nm以上之光具高靈敏度之光聚合引發劑。具體上可列舉：2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎福林丙-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎福林基苯基)-1-丁酮、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福林基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)苯基)鈦等。
尤其作為光聚合引發劑，除通式(1)之光聚合引發劑外，宜進一步使用下述通式(2)所示化合物；
[化學式2]
Figure 02_image003
(式中，R 3、R 4及R 5表示H、-CH 3、-CH 2CH 3、-iPr或Cl，R 3、R 4及R 5可相同或不同)。作為通式(2)所示化合物，可適宜使用作為市售品之2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎福林丙-1-酮(商品名：Omnirad 907 製造商：IGM Resins)。此外，2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎福林基苯基)-1-丁酮(商品名：Omnirad 369 製造商：IGM Resins)、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福林基)苯基]-1-丁酮(商品名：Omnirad 379 製造商：IGM Resins)由於靈敏度高，因而理想。
本發明中，在上述光聚合引發劑中，宜使用含羥基光聚合引發劑。在活性能量線硬化型接著劑組成物含有含羥基光聚合引發劑作為聚合引發劑時，對偏光件側之A成分之濃度高的接著劑層的溶解性會提高，且接著劑層之硬化性會提高。作為具有羥基之光聚合引發劑，可列舉例如：2-甲基-2-羥基苯丙酮(商品名「DAROCUR1173」，BASF公司製)、1-羥基環己基苯基酮(商品名：Omnirad 184 製造商：IGM Resins)、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙-1-酮(商品名：Omnirad 2959 製造商：IGM Resins)、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙-1-酮(商品名：Omnirad 127 製造商：IGM Resins)等。尤其是1-羥基環己基苯基酮，由於對A成分之濃度高的接著劑層的溶解性特別優異而較佳。
作為在陽離子聚合性接著劑組成物中使用之陽離子聚合性化合物，可分類為分子內具有1個陽離子聚合性官能基之單官能陽離子聚合性化合物與分子內具有2個以上陽離子聚合性官能基之多官能陽離子聚合性化合物。由於單官能陽離子聚合性化合物之液體黏度較低，因此藉由使樹脂組成物中含有其，可降低樹脂組成物之液體黏度。又，單官能陽離子聚合性化合物多數情況下具有展現各種功能之官能基，藉由使陽離子聚合性接著劑組成物中含有其，可使陽離子聚合性接著劑組成物及/或陽離子聚合性接著劑組成物的硬化物展現各種功能。多官能陽離子聚合性化合物由於可使陽離子聚合性接著劑組成物的硬化物3維交聯，因而宜使陽離子聚合性接著劑組成物的硬化物中含有其。以單官能陽離子聚合性化合物與多官能陽離子聚合性化合物之比而言，相對於單官能陽離子聚合性化合物100重量份，宜將多官能陽離子聚合性化合物在10重量份至1000重量份之範圍內混合。作為陽離子聚合性官能基，可列舉環氧基或氧雜環丁烷基、乙烯基醚基。作為具有環氧基之的化合物，可列舉脂肪族環氧化合物、脂環式環氧化合物、芳香族環氧化合物，尤宜含有脂環式環氧化合物作為本發明陽離子聚合性接著劑組成物，因其硬化性、接著性優異。作為脂環式環氧化合物，可列舉3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己烷羧酸酯、3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己烷羧酸酯的己內酯改質物或三甲基己內酯改質物或戊內酯改質物等，具體上可列舉CELLOXIDE 2021、CELLOXIDE 2021A、CELLOXIDE 2021P、CELLOXIDE 2081、CELLOXIDE 2083、CELLOXIDE 2085(以上為大賽璐化學工業(股製)、Cyracure UVR-6105、Cyracure UVR-6107、Cyracure 30、R-6110(以上為Dow Chemical Japan Ltd.製)等。宜含有具有氧雜環丁烷基之化合物，因其具有改善陽離子聚合硬化性接著劑組成物之硬化性、或降低該組成物之液體黏度的效果。作為具有氧雜環丁烷基之化合物，可列舉3-乙基-3-羥基甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲氧基甲基]苯、3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、二[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲基]醚、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧雜環丁烷、苯酚酚醛清漆氧雜環丁烷等，市售有ARON OXETANE OXT-101、ARON OXETANE OXT-121、ARON OXETANE OXT-211、ARON OXETANE OXT-221、ARON OXETANE OXT-212(以上為東亞合成公司製)等。宜含有具有乙烯基醚基之化合物，因其具有改善陽離子聚合性接著劑組成物之硬化性、或降低該組成物之液體黏度的效果。作為具有乙烯基醚基之化合物，可列舉2-羥乙基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚、4-羥丁基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚、三乙二醇二乙烯基醚、環己烷二甲醇二乙烯基醚、環己烷二甲醇單乙烯基醚、三環癸烷乙烯基醚、環己基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙基乙烯基醚、新戊四醇型四乙烯基醚等。
陽離子聚合性接著劑組成物含有選自以上所說明之具有環氧基之化合物、具有氧雜環丁烷基之化合物、具有乙烯基醚基之化合物中之至少1種化合物作為硬化性成分且該等皆係藉由陽離子聚合而硬化者，因此會摻混光陽離子聚合引發劑。該光陽離子聚合引發劑藉由可見光線、紫外線、X射線、電子束等活性能量線之照射會產生陽離子種或路易士酸，從而引發環氧基或氧雜環丁烷基之聚合反應。作為光陽離子聚合引發劑，可適宜使用後述光酸引發劑。又，在使用陽離子聚合性接著劑組成物作為可見光線硬化性時，尤宜使用對380nm以上之光具高靈敏度之光陽離子聚合引發劑，但光陽離子聚合引發劑為通常在300nm附近或較其更短之波長區域顯示極大吸收之化合物，因此藉由摻混在教其更長之波長區域、具體而言較380nm更長波長之光下顯示極大吸收之光敏劑，可感應其附近之波長的光，促進來自光陽離子聚合引發劑之陽離子種或酸之產生。作為光敏劑，可列舉例如：蒽化合物、芘化合物、羰基化合物、有機硫化合物、過硫化物、氧化還原係化合物、偶氮及重氮化合物、鹵素化合物、光還原性色素等，該等亦可混合2種以上來使用。特別是蒽化合物的光敏效果優異，因而理想，具體上可列舉Anthracure UVS-1331、Anthracure UVS-1221(川崎化成公司製)。光敏劑之含量宜為0.1重量%~5重量%，較宜為0.5重量%~3重量%。
以下，針對本發明偏光薄膜之各構成進行說明。本發明中，偏光薄膜具備偏光件與接著劑層，該接著劑層係與偏光件或偏光件以外之光學薄膜相鄰者。
＜偏光件＞ 作為應用於偏光件之聚乙烯醇系薄膜之材料，可使用聚乙烯醇或其衍生物。作為聚乙烯醇之衍生物，可舉聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮乙醛等，此外，還可列舉以乙烯、丙烯等烯烴、丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不飽和羧酸及其烷基酯、丙烯醯胺等改質之聚乙烯醇之衍生物。聚乙烯醇通常使用聚合度為1000~10000左右、皂化度為80~100莫耳%左右者。
聚乙烯醇系薄膜亦可含有塑化劑等添加劑。作為塑化劑，可舉多元醇及其縮合物等，可列舉例如：甘油、二甘油、三甘油、乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等。塑化劑之使用量沒有特別限制，在聚乙烯醇系薄膜中宜為20重量%以下。
製造偏光件時，係實施利用碘將上述聚乙烯醇系薄膜染色之染色步驟、及將聚乙烯醇系薄膜往至少一方向延伸之延伸步驟。一般而言，可採用將上述聚乙烯醇系薄膜供於包含膨潤、染色、交聯、延伸、水洗及乾燥步驟之一連串步驟之方式。
膨潤步驟可藉由例如將聚乙烯醇系薄膜浸漬於膨潤浴(水浴)中而進行。藉由該處理，可在洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之污垢或抗黏結劑之同時使聚乙烯醇系薄膜膨潤，由此可防止染色不均等不均一性。亦可在膨潤浴中適當添加甘油或碘化鉀等。膨潤浴之溫度通常為20~60℃左右，浸漬於膨潤浴中之浸漬時間通常為0.1~10分鐘左右。
染色步驟例如可藉由將聚乙烯醇系薄膜浸漬於碘溶液中而進行。碘溶液通常為碘水溶液，含有碘及作為溶解助劑之碘化鉀。碘濃度通常為0.01~1重量%左右，宜為0.02~0.5重量%。碘化鉀濃度通常為0.01~10重量%左右，宜為0.02~8重量%。
在碘染色步驟中，碘溶液之溫度通常為20~50℃左右，宜為25~40℃。浸漬時間通常為10~300秒鐘左右，宜為20~240秒鐘之範圍。碘染色處理時，宜調整碘溶液之濃度、聚乙烯醇系薄膜在碘溶液中之浸漬溫度及浸漬時間等條件，以使聚乙烯醇系薄膜中之碘含量及鉀含量達到前述範圍。
交聯步驟例如可藉由將經碘染色之聚乙烯醇系薄膜浸漬於含交聯劑之處理浴中而進行。作為交聯劑，可採用任意適當之交聯劑。作為交聯劑的具體例，可列舉硼酸、硼砂等硼化合物、乙二醛、戊二醛等。該等交聯劑可單獨或組合來使用。作為用於交聯浴之溶液的溶劑，通常為水，但亦可適量添加與水具有相溶性之有機溶劑。相對於溶劑100重量份，交聯劑通常以1~10重量份之比率作使用。交聯浴之溶液宜進一步含有碘化物等助劑。助劑之濃度宜為0.05~15重量%，更宜為0.5~8重量%。交聯浴之溫度通常為20~70℃左右，宜為40~60℃。在交聯浴中之浸漬時間通常為1秒鐘~15分鐘左右，宜為5秒鐘~10分鐘。
延伸步驟是將聚乙烯醇系薄膜往至少一方向延伸之步驟。一般而言，係將聚乙烯醇系薄膜往輸送方向(長邊方向)進行單向延伸。延伸方法沒有特別限制，可採用濕式延伸法及乾式延伸法中之任一者。在採用濕式延伸法時，係將聚乙烯醇系薄膜在處理浴中延伸至預定倍率。作為延伸浴之溶液，可適宜使用在水或有機溶劑(例如乙醇)等溶劑中添加各種處理所需之化合物等而得之溶液。作為乾式延伸法，可列舉例如輥間延伸方法、加熱輥延伸方法、壓縮延伸方法等。在製造偏光件時，延伸步驟可在任一階段中進行。具體而言，可與膨潤、染色、交聯同時進行，亦可在該等各步驟之前後之任一時間進行。又，延伸還可以多階段進行。聚乙烯醇系薄膜之累積延伸倍率通常為5倍以上，宜為5~7倍左右。
本發明中，偏光件宜含有可在水中成為2價金屬陽離子的金屬成分，較宜含有鎂、鈣、銅或鋅，尤宜含有鋅。藉由使偏光件含有鋅，有可抑制加熱試驗後之偏光薄膜之透射率降低及色相劣化之傾向。偏光件含有鋅時，偏光件中之鋅之含量宜為0.002~2重量%，較宜為0.01~1重量%。
在本發明中，偏光件宜含有硫酸根離子。藉由使偏光件含有硫酸根離子，有可抑制加熱試驗後之偏光薄膜之透射率降低之傾向。偏光件含有硫酸根離子時，偏光件中之硫酸根離子之含量宜為0.02~0.45重量%，較宜為0.05~0.35重量%，更宜為0.1~0.25重量%。此外，偏光件中之硫酸根離子之含量可由硫原子含量算出。
為了使偏光件中含有鋅，宜在偏光件之製造步驟中進行含浸鋅處理。又，為了使偏光件中含有硫酸根離子，宜在偏光件之製造步驟中進行硫酸根離子處理。
含浸鋅處理例如可藉由將聚乙烯醇系薄膜浸漬於鋅鹽溶液中而進行。作為鋅鹽，宜為氯化鋅、碘化鋅等鹵化鋅、硫酸鋅、乙酸鋅等之水溶液的無機氯化合物。又，在含浸鋅處理中，亦可使用各種鋅錯合化合物。又，鋅鹽溶液使用利用碘化鉀等而含有鉀離子及碘離子之水溶液時，容易使含浸鋅離子，因而理想。鋅鹽溶液中之碘化鉀濃度宜設為0.5~10重量%左右，更宜設為1~8重量%。
硫酸根離子處理例如可藉由將聚乙烯醇系薄膜浸漬於包含硫酸金屬鹽之水溶液中而進行。作為硫酸金屬鹽，宜為下述者：在處理液中容易分離成硫酸根離子與金屬離子，且容易將該硫酸金屬鹽以離子之狀態導入聚乙烯醇系薄膜中。例如，作為形成硫酸金屬鹽之金屬的種類，可列舉鈉、鉀等鹼金屬；鎂、鈣等鹼土族金屬；鈷、鎳、鋅、鉻、鋁、銅、錳、鐵等過渡金屬。
在製造偏光件時，前述含浸鋅處理及硫酸根離子處理可在任一階段進行。即，含浸鋅處理及硫酸根離子處理可在染色步驟前進行，亦可在染色步驟後進行。含浸鋅處理及硫酸根離子處理亦可同時進行。在本發明中，宜藉由使用硫酸鋅作為前述鋅鹽及前述硫酸金屬鹽，並將聚乙烯醇系薄膜浸漬於含有硫酸鋅之處理浴中，同時進行含浸鋅處理及硫酸離子處理。又，亦可預先在染色溶液中使前述鋅鹽、前述硫酸金屬鹽共存，並將含浸鋅處理及/或硫酸根離子處理與染色步驟同時進行。含浸鋅處理及硫酸根離子處理亦可與延伸同時進行。
在含浸鋅處理及硫酸離子處理中，係藉由調整鋅鹽溶液及硫酸金屬鹽溶液之濃度、聚乙烯醇系薄膜浸漬於處理浴中之浸漬溫度及浸漬時間等條件，來調整偏光件中之鋅含量及硫酸離子含量。在含浸鋅處理及硫酸根離子處理中，鋅鹽溶液及硫酸金屬鹽溶液之溫度通常為15~85℃左右，宜為25~70℃。浸漬時間通常為1~120秒左右，宜為3~90秒之範圍。鋅鹽溶液及硫酸金屬鹽溶液之濃度會根據鋅鹽、硫酸金屬鹽之種類而不同，通常為0.5~20重量%左右，宜為1~10重量%，較宜為2~7重量%。藉由將鋅鹽濃度及硫酸金屬鹽濃度設為該範圍，可使偏光件中之鋅含量及硫酸根離子含量落在前述理想範圍內。
按照通常方法將實施上述各處理後之聚乙烯醇系薄膜(延伸薄膜)供於水洗淨步驟、乾燥步驟。
水洗步驟通常可藉由將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水洗浴中而進行。水洗浴可為純水，亦可為碘化物(例如碘化鉀、碘化鈉等)之水溶液。碘化物水溶液之濃度宜為0.1~10重量%。亦可在碘化物水溶液中添加有硫酸鋅、氯化鋅等助劑。
水洗溫度通常為5~50℃，宜為10~45℃，更宜為15~40℃之範圍。浸漬時間通常為10~300秒左右，宜為20~240秒。水洗步驟可以僅實施1次，亦可因應需要而實施複數次。在實施複數次水洗步驟時，可適當調整用於各處理之水洗浴中所含之添加劑的種類或濃度。
聚乙烯醇系薄膜之乾燥步驟可藉由任意適當之方法(例如自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥)進行。乾燥步驟後之偏光件之厚度宜為3~20μm。
在本發明中，亦可進行所得偏光件之表面改質處理。作為表面改質處理，可舉電暈處理、電漿處理、ITRO處理等處理，尤宜為電暈處理。藉由進行電暈處理，在偏光件表面生成羰基或胺基等反應性官能基，從而提高與耐久性提升層之密著性。又，可藉由灰化效果去除表面之雜質、或減輕表面之凹凸，從而製成外觀特性優異之偏光薄膜。
＜光學薄膜＞ 在本發明中，作為偏光薄膜具備之光學薄膜，可舉例如透明保護薄膜或相位差薄膜。此外，可不僅對偏光件進行表面改質處理，亦可對光學薄膜進行表面改質處理。作為表面改質處理，可舉電暈處理、電漿處理、ITRO處理等處理，尤宜為電暈處理。
作為透明保護薄膜之材料，例如可使用透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、各向同性等優異之熱塑性樹脂。作為所述熱塑性樹脂的具體例，可列舉三醋酸纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及該等之混合物。透明保護薄膜中亦可包含有1種以上任意適當之添加劑。作為添加劑，可列舉例如：紫外線吸收劑、抗氧劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱塑性樹脂之含量宜為50~100重量%，較宜為50~99重量%，更宜為60~98重量%，尤宜為70~97重量%。透明保護薄膜中之上述熱塑性樹脂之含量為50重量%以下時，有不能充分展現熱塑性樹脂本來具有之高透明性等之虞。
又，作為形成透明保護薄膜之材料，宜為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、各向同性等優異之材料，特別是透濕度較宜為150g/m 2/24h以下，尤宜為140g/m 2/24h以下，更宜為120g/m 2/24h以下。
可於透明保護薄膜之未接著偏光件之面設置硬塗層、抗反射層、抗黏層、擴散層或防眩層等功能層。此外，上述硬塗層、抗反射層、抗黏層、擴散層或防眩層等功能層除了可設置為保護透明保護薄膜本身外，亦可另外設置成與透明保護薄膜不同之層。
透明保護薄膜之厚度可適當決定，一般來說，由強度或處理性等操作性、薄層性等方面出發，為1~500μm左右，宜為1~300μm，較宜為5~200μm。更宜為10~200μm，宜為20~80μm。
作為前述透明保護薄膜，可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差薄膜。通常將正面相位差控制為40~200nm之範圍，且通常將厚度方向相位差控制為80~300nm之範圍。使用相位差薄膜作為透明保護薄膜時，該相位差薄膜亦會作為透明保護薄膜發揮作用，因此可謀求薄型化。
作為相位差薄膜，可列舉：對高分子素材進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、經以薄膜支持液晶聚合物之定向層之相位差薄膜。相位差薄膜之厚度亦沒有特別限制，一般為20~150μm左右。
作為相位差薄膜，可使用滿足下述式(1)至(3)之逆波長色散型相位差薄膜： 0.70＜Re[450]/Re[550]＜0.97・・・(1) 1.5×10 -3＜Δn＜6×10 -3・・・(2) 1.13＜NZ＜1.50・・・(3) (式中，Re[450]及Re[550]分別為在23℃下以波長450nm及550nm之光測定之相位差薄膜之面內的相位差值；Δn為令相位差薄膜之慢軸方向、快軸方向的折射率分別為nx、ny時之nx-ny，即面內雙折射；NZ為令nz為相位差薄膜之厚度方向的折射率時之nx-nz與nx-ny的比，其中nx-nz為厚度方向雙折射，nx-ny為面內雙折射)。
本發明偏光薄膜例如可藉由下述製造方法來製造。 一種偏光薄膜之製造方法，該偏光薄膜具備偏光件與接著劑層，該接著劑層係與前述偏光件以外之第1光學薄膜相鄰者；前述接著劑層是本發明偏光薄膜用接著劑組成物的硬化物層；該方法具備以下步驟：第1接著步驟，其係透過水性接著劑層使前述偏光件與前述第1光學薄膜接著；及第2接著步驟，其係透過前述接著劑層使前述第1光學薄膜及第2光學薄膜接著。前述偏光件宜含有可在水中成為2價金屬陽離子的金屬成分、特別是鋅。又，前述接著劑層宜為藉由活性能量線硬化性接著劑組成物的硬化物層形成者。
又，本發明偏光薄膜例如亦可藉由下述製造方法來製造。 一種偏光薄膜之製造方法，該偏光薄膜具備偏光件與接著劑層，該接著劑層係與前述偏光件相鄰者；該方法具備第1接著步驟，其係透過前述接著劑層使前述偏光件與第1光學薄膜接著。前述偏光件宜含有可在水中成為2價金屬陽離子的金屬成分、特別是鋅。又，前述接著劑層宜為藉由活性能量線硬化性接著劑組成物的硬化物層形成者。
在上述接著步驟中，係將各種接著劑組成物塗敷於偏光件或光學薄膜等被黏著物，將偏光件或光學薄膜等被黏著物貼合，並使接著劑組成物硬化。作為塗敷接著劑組成物之方法，可根據接著劑組成物之黏度或目標厚度來適當選擇，可列舉例如：逆向塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆向或膠版)、棒式逆向塗佈機、輥塗機、模塗機、棒塗機、桿塗機等。偏光件或光學薄膜等被黏著附物之貼合可藉由輥壓層合機等來進行。
前述接著劑層係藉由本發明偏光薄膜用接著劑組成物的硬化物層形成者。尤宜為由電子束硬化性、紫外線硬化性、可見光線硬化性等活性能量線硬化性接著劑組成物的硬化物層形成者，該活性能量線硬化性接著劑組成物含有陽離子捕捉劑，該陽離子捕捉劑具備可以2牙以上對金屬成分進行配位之配位部位與反應性基。在接著步驟中，照射活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)，使接著劑組成物硬化而形成接著劑層。活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)之照射方向可從任意適當之方向照射。在以連續生產線製造本發明偏光薄膜時，生產線速度會因接著劑組成物之硬化時間而異，宜為5~100m/分鐘，較宜為10~50m/分鐘，更宜為20~30m/分鐘。生產線速度過小時，生產性會不足，或者對透明保護薄膜之損傷會過大，而無法製作可耐受耐久性試驗等之偏光薄膜。生產線速度過大時，有硬化性樹脂組成物之硬化變得不充分，而無法獲得目標之接著性之情形。
本發明偏光薄膜在實際使用時可以與其它光學層積層而成之光學薄膜來使用。對該光學層沒有特殊限定，例如可使用1層或2層以上反射板或半透射板、相位差板(包括1/2或1/4等波長板)、視角補償薄膜等有時在形成液晶顯示裝置等使用之光學層。尤宜為於本發明偏光薄膜上進一步積層反射板或半透射反射板而成之反射型偏光薄膜或半透射型偏光薄膜、於偏光薄膜上進一步積層相位差板而成之橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、於偏光薄膜上進一步積層視角補償薄膜而成之廣視角偏光薄膜、或者於偏光薄膜上進一步積層增亮薄膜而成之偏光薄膜。
於偏光薄膜上積層有上述光學層之光學薄膜亦可藉由在液晶顯示裝置等之製造過程中依序一個個積層之方式來形成，但預先積層而製成光學薄膜者具有品質穩定性或組裝操作等優異從而可提高液晶顯示裝置等之製造步驟的優點。積層十可使用黏著層等適當之接著手段。在進行上述偏光薄膜或其它光學薄膜之接著時，該等光學軸可因應目標相位差特性等來形成適當配置角度。
亦可於前述偏光薄膜或至少積層有1層偏光薄膜之光學薄膜設置用以與液晶單元等其它構件接著之黏著層。形成黏著層之黏著劑沒有特殊限制，可適當選擇例如將丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基底聚合物者來使用。尤其可適宜使用丙烯酸系黏著劑這類光學透明性優異、且展現適度潤濕性、凝集性及接著性等黏著特性、並且耐候性、耐熱性等優異者。
黏著層亦可以不同組成或種類等者之疊合層之形式設置於偏光薄膜或光學薄膜之單面或兩面上。又，設置於兩面時，亦可於偏光薄膜或光學薄膜之表面或背面形成不同組成、種類或厚度等之黏著層。黏著層之厚度可根據使用目的或接著力等來適當決定，通常為1~100μm，宜為5~30μm，尤宜為10~20μm。
對於黏著層之露出面，係在直到供於實際使用為止之期間，為了防止其污染而暫時黏著分離件並覆蓋。藉此，可防止在通常之處理狀態下與黏著層接觸。作為分離件可使用依循以往之適當者，即除前述厚度條件外，因應需要以聚矽氧系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當剝離劑，對例如塑膠薄膜、橡膠片、紙、布、不織布、網、發泡片或金屬箔、該等之層合體等適當之單片體進行塗佈處理而成者等。
本發明偏光薄膜或光學薄膜可適宜用於液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可依循以往來進行。即，液晶顯示裝置通常系藉由將液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜、及因應需要使用之照明系統等構成零件適當組裝並組入驅動電路等來形成，在本發明中，除了使用本發明偏光薄膜或光學薄膜這點外，沒有特別限定，可依循以往來進行。關於液晶單元，可使用例如TN型、STN型、π型等任意類型者。
可形成於液晶單元之單側或兩側配置有偏光薄膜或光學薄膜之液晶顯示裝置、或是於照明系統中使用有背光件或反射板者等適當之液晶顯示裝置。此時，本發明偏光薄膜或光學薄膜可設置於液晶單元之單側或兩側。於兩側設置偏光薄膜或光學薄膜時，該等可相同，亦可不同。並且，於形成液晶顯示裝置時，可於適當之位置配置1層或2層以上例如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、棱鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光件等適當之零件。
實施例 以下記載本發明之實施例，但本發明實施形態不受該等所限。
＜偏光件之製造＞ 將平均聚合度2700、厚度45μm之聚乙烯醇薄膜在周速比不同之輥間邊染色邊進行延伸輸送。首先，在30℃之水浴中浸漬1分鐘使聚乙烯醇薄膜膨潤，同時往輸送方向延伸成1.2倍後(第1延伸)，於碘化鉀(0.03重量%)及碘(0.3重量%)之水溶液(液溫30℃)中浸漬1分鐘，藉此邊染色邊往輸送方向延伸成3倍(以未延伸薄膜為基準)(第2延伸)。接下來，一邊將該延伸薄膜浸漬於硼酸(4重量%)、碘化鉀(5重量%)及硫酸鋅(3.5重量%)之水溶液(浴液)中30秒鐘，一邊往輸送方向延伸成6倍(以未延伸薄膜為基準)(第3延伸)。藉由將該延伸薄膜乾燥，而獲得偏光件1。乾燥後之偏光件1之厚度為18μm。
＜活性能量線＞ 作為活性能量線，係使用可見光線(充有鎵之金屬鹵化物燈)照射裝置：Fusion UV Systems，Inc.製Light HAMMER10、燈泡：V燈泡、峰值照度：1600mW/cm 2、累積照射量1000/mJ/cm 2(波長380~440nm)。此外，係使用Solatell公司製Sola-Check系统來測定可見光線之照度。
＜面板點燈試驗＞ 拆解MAXWIN公司製之車載用途儀錶板型監測器(on-dash monitor，TKH703)，取出液晶面板。剝除貼附於該液晶面板之視辨側之偏光薄膜，作為代替，將所製造之各實施例及比較例之偏光薄膜裁切成與先前從液晶面板剝除之偏光薄膜相同之尺寸，並透過黏著劑層(厚度20μm)以使透射軸與先前剝除之偏光薄膜一致之方式進行貼合，而獲得液晶面板。
將上述所得液晶面板投入65℃95%之環境下1000h，在常溫常濕環境中放置了24h。然後，再次安裝於將液晶面板拆解而得之監測器框體中，顯示黑影像並以肉眼進行確認。結果，將僅顯示黑畫面之情況評估為○，將於畫面之一部分發生白色霧狀之顯示不良之情況評估為×。
＜第3光學薄膜＞ 下述偏光薄膜構成中使用之第3光學薄膜(相位差薄膜)係藉由下述製造方法來製造。
於具備攪拌機、冷卻管、氮氣導入管及溫度計之高壓釜中加入羥丙基甲基纖維素(信越化學製，商品名Metolose 60SH-50)48重量份、蒸餾水15601重量份、延胡索酸二異丙酯8161重量份、丙烯酸3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲酯240重量份及作為聚合引發劑之過氧化三甲基乙酸三級丁酯45重量份，進行1小時氮氣起泡後，邊攪拌邊在49℃下保持24小時，藉此進行了自由基懸浮聚合。接著冷卻至室溫，對索生成之包含聚合物粒子之懸浮液進行離心分離。用蒸餾水對所得聚合物清洗2次及用甲醇清洗2次後，進行減壓乾燥。
將所得延胡索酸酯系樹脂(具有負雙折射之聚合物)溶解於甲苯．甲基乙基酮混合溶液(甲苯/甲基乙基酮50重量%/50重量%)，製成20%溶液。並且對延胡索酸酯系樹脂100重量份添加作為塑化劑之偏苯三甲酸三丁酯5重量份，調製出膠塗料(dope)。
作為支持體薄膜，係使用聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯/間苯二甲酸乙二酯共聚物)之雙軸延伸薄膜(厚75μm、寬1350mm)。支持體在140℃下之拉伸彈性模數(MD)為800MPa。
將支持體薄膜之捲繞體設置於製膜裝置之送出部，一邊送出支持體薄膜往並下游側輸送，一邊在加熱爐中進行加熱處理。藉由使加熱爐內之氣體環境溫度變化來調整加熱處理之溫度。藉由變更支持體之輸送速度來調整加熱時間。以使乾燥後之膜厚達到6.3μm之方式，於加熱處理後之支持體上塗佈合成例A中調製之膠塗料，並在140℃下進行了乾燥。將乾燥後之塗膜與支持體一起捲取成積層體。
將上述積層體設置於延伸裝置之送出部，一邊送出積層體並往下游側輸送，一邊在溫度140℃之延伸爐內進行自由端單軸延伸。將支持體從延伸後之積層體剝離，而獲得厚度6μm之相位差薄膜。以使支持體剝離後之相位差薄膜的面內遲滯成為35nm之方式調整延伸倍率。
實施例1 作為接著劑，係使用以重量比3:1含有具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇樹脂(平均聚合度1200、皂化度98.5莫耳%、乙醯乙醯化度5莫耳%)與羥甲基三聚氰胺之水溶液。使用該接著劑並利用輥貼合機在30℃之溫度條件下，於偏光件1之一面(視辨側之面)貼合第2光學薄膜(附硬塗層之三醋酸纖維素薄膜(FUJIFILM公司製，商品名「TG40UL」，薄膜厚度40μm))，並於偏光件1之一面(影像顯示單元側表面)貼合第1光學薄膜(附有相位差之環烯烴薄膜(日本ZEON公司製，商品名「ZT12」，薄膜厚度17μm))後(各水性接著劑層之厚度皆為0.1μm)，接著在烘箱內使其加熱乾燥，而製出於偏光件兩面積層有光學薄膜之積層薄膜。
接下來，使用MCD塗佈機(富士機械公司製)(凹槽形狀：蜂巢，凹版輥線數：1000條/吋，旋轉速度140%/對線速度)，於前述所得積層薄膜之附有相位差之環烯烴薄膜側塗敷調整成表1中記載之摻混量之接著劑組成物，並使其厚度達到1μm，利用輥機貼合於前述第3光學薄膜(薄膜厚度6μm)。然後，屆由活性能量線照射裝置從第3光學薄膜側照射上述可見光線，使接著劑組成物硬化後，在70℃下熱風乾燥3分鐘，而獲得偏光薄膜。乾燥後之接著劑層之厚度為1μm。貼合之線速度係在25m/分鐘下進行。
透過黏著劑層(厚度20μm)將所製造之實施例1之偏光薄膜(500μm×500μm)貼合於厚度0.7mm之無鹼玻璃之一面，藉此準備了加濕耐久性試驗評估用試樣。將該試樣投入65℃-95%濕度之環境下後，實施暴露500小時或1000小時之加濕耐久性試驗。對於耐久性試驗後之加濕耐久性試驗評估用試樣，於貼合有實施例1之偏光薄膜的無鹼玻璃之未貼合偏光薄膜之另一面，透過黏著劑層(厚度20μm)以各偏光薄膜相互之透射軸呈垂直之方式貼合正交偏光用偏光薄膜後，置於背光件上(實施例1之偏光薄膜為上表面)，以肉眼觀察實施例1之偏光薄膜，在500μm×500μm之範圍內調查來自異物之亮點之個數。
實施例2~11及比較例1~10 除了將接著劑組成物之摻混及乾燥後之接著劑層厚度變更成表1中記載之條件外，藉由與實施例1相同方法調查了來自異物之亮點之個數。
表1中記載之各成分之詳細內容如下。 ・「FA1DDM」(不飽和脂肪酸羥烷基酯改質ε-己內酯)；商品名「PLACCEL FA1DDM」，大賽璐公司製 ・「ACMO」(丙烯醯基嗎福林)；商品名「ACMO」，KJ化學公司製 ・「9EG-A」(PEG400#二丙烯酸酯)；商品名「LIGHT ACRYLATE 9EG-A」，共榮社化學公司製 ・「UP-1190」(使(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物)；商品名「ARUFON UP-1190」，東亞合成公司製 ・「AAEM」(甲基丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙酯)(藉由與乙二胺併用而構成陽離子捕捉劑)；商品名「AAEM」，三菱化學公司製 ・「Ethylene diamine」(乙二胺)(藉由與AAEM併用而構成陽離子捕捉劑)；商品名「Ethylene diamine」，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation製 ・「DMAPAA」(二甲基胺基丙基丙烯醯胺)(陽離子捕捉劑)；商品名「DMAPAA」，KJ化學公司製 ・「DMAEA」(丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯)(陽離子捕捉劑)；商品名「DMAEA」，KJ化學公司製 ・「X-12-967C」(3-三甲氧基矽基丙基琥珀酸酐)(陽離子捕捉劑)；商品名「X-12-967C」，信越化學工業公司製 ・「Acrylic acid」(丙烯酸系)(添加劑)；商品名「Acrylic acid」，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation製 ・「HOA-MS」(琥珀酸2-丙烯醯氧基乙酯)(添加劑)；商品名「HOA-MS」，共榮社化學公司製 ・「HOA-HH」(六氫酞酸2-丙烯醯氧基乙酯)(添加劑)；商品名「HOA-HH」，共榮社化學公司製 ・「M-5300」(ω-羧基-聚己內酯(n≒2)單丙烯酸酯)(添加劑)；商品名「ARONIX M-5300」，東亞合成公司製 ・「DMAA」(二甲基丙烯醯胺)(添加劑)；商品名「DMAA」，KJ化學公司製 ・「QM-HA05」(具有乙烯性不飽和鍵之四級銨鹽型離子液體)(添加劑)；商品名「QM-HA05」，KJ化學公司製 ・「QM-KA05」(具有乙烯性不飽和鍵之四級銨鹽型離子液體)(添加劑)；商品名「QM-KA05」，KJ化學公司製 ・「Omn.907」(2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎福林丙-1-酮)(添加劑)；商品名「Omnirad 907」，IGM Resins公司製 ・「DETX-S」(2,4-二甲基9-氧硫𠮿
Figure 110142427-0000-3
)(添加劑)；商品名「KAYACURE DETX-S」，日本化藥公司製
[表1]
Figure 02_image005
根據表1的結果可知，具備以實施例1~11之偏光薄膜用接著劑組成物為原料而形成之接著劑層的偏光薄膜即使在投入65℃95%之環境下1000h之後，亮點個數仍少，從而偏光薄膜之外觀特性優異。另一方面，可知具備以比較例2~10之接著劑組成物為原料而形成之接著劑層的偏光薄膜在投入65℃95%之環境下500h投入後，亮點個數多，從而偏光薄膜之外觀特性差，其中比較例2~10之接著劑組成物係摻混有不具有可以2牙以上對金屬成分進行配位之配位部位的添加劑。
10:偏光薄膜 1:偏光件 2:水性接著劑 3,4,6:光學薄膜 5:接著劑層 7:黏著劑層
圖1是本發明一實施形態之偏光薄膜的截面示意圖之一例。 圖2是本發明一實施形態之偏光薄膜的截面示意圖之另一例。
10:偏光薄膜
1:偏光件
2:水性接著劑
3,4,6:光學薄膜
5:接著劑層
7:黏著劑層

Claims (14)

  1. 一種偏光薄膜用接著劑組成物，含有陽離子捕捉劑，該陽離子捕捉劑具備可以2牙以上對金屬成分進行配位之配位部位與反應性基。
  2. 如請求項1之偏光薄膜用接著劑組成物，其中前述反應性基為選自於由以下所構成之群組中之至少1種反應性基：乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、巰基及烷氧基。
  3. 如請求項1或2之偏光薄膜用接著劑組成物，其中前述陽離子捕捉劑具備之配位部位具有至少2個以上氮原子。
  4. 如請求項1或2之偏光薄膜用接著劑組成物，其中前述陽離子捕捉劑具備之配位部位具有至少2個以上氧原子。
  5. 如請求項1或2之偏光薄膜用接著劑組成物，其中前述陽離子捕捉劑具備之配位部位具有至少1個以上氮原子及至少1個以上氧原子。
  6. 如請求項1或2之偏光薄膜用接著劑組成物，其中前述陽離子捕捉劑為選自於由以下所構成群組中之至少1種：胺基烷基丙烯醯胺、丙烯酸胺基烷基酯、以及含有乙醯乙醯基或乙醯乙醯氧基之化合物與一級胺化合物的反應物。
  7. 如請求項1或2之偏光薄膜用接著劑組成物，其更含有活性能量線硬化性成分。
  8. 如請求項1或2之偏光薄膜用接著劑組成物，其中令偏光薄膜用接著劑組成物之總量為100重量%時，前述陽離子捕捉劑之含量為0.5~15重量%。
  9. 一種偏光薄膜，具備偏光件與接著劑層，該接著劑層係與前述偏光件或前述偏光件以外之光學薄膜鄰接者； 並且，前述接著劑層為如請求項1或2之偏光薄膜用接著劑組成物的硬化物層。
  10. 如請求項9之偏光薄膜，其中前述偏光件含有可在水中成為2價金屬陽離子的金屬成分。
  11. 如請求項10之偏光薄膜，其中前述金屬成分為鋅。
  12. 如請求項9之偏光薄膜，其中前述偏光薄膜具備：偏光件；光學薄膜，其係透過水性接著劑層積層於前述偏光件之至少一面；及前述接著劑層，其係設置於前述光學薄膜之與前述水性接著劑層為相反側之面。
  13. 一種光學薄膜，係至少積層有1片如請求項9之偏光薄膜。
  14. 一種影像顯示裝置，係使用有如請求項9之偏光薄膜。
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