TW202332787A - 熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板及其製造方法,表面處理鋼板及其製造方法及塗裝鋼板及其製造方法 - Google Patents
熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板及其製造方法,表面處理鋼板及其製造方法及塗裝鋼板及其製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TW202332787A TW202332787A TW112100399A TW112100399A TW202332787A TW 202332787 A TW202332787 A TW 202332787A TW 112100399 A TW112100399 A TW 112100399A TW 112100399 A TW112100399 A TW 112100399A TW 202332787 A TW202332787 A TW 202332787A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- film
- mass
- resin
- compounds
- steel plate
- Prior art date
Links
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 242
- 239000010959 steel Substances 0.000 title claims abstract description 242
- 229910007981 Si-Mg Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 71
- 229910008316 Si—Mg Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 71
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 54
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 82
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 80
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 48
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 278
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 187
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 161
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 96
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 96
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 80
- -1 phosphoric acid compound Chemical class 0.000 claims description 42
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 claims description 41
- 229910019018 Mg 2 Si Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 36
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 36
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 claims description 34
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 33
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 33
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims description 31
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 29
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical group C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 claims description 20
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 claims description 18
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 16
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 16
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 14
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 12
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims description 12
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 10
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 9
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 claims description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 167
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 167
- 229910019752 Mg2Si Inorganic materials 0.000 abstract 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 111
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 56
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 49
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 43
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 36
- 239000002585 base Substances 0.000 description 33
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 31
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 30
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 27
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 25
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical class [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 241001163841 Albugo ipomoeae-panduratae Species 0.000 description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 19
- 229910018137 Al-Zn Inorganic materials 0.000 description 18
- 229910018573 Al—Zn Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 17
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 17
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 17
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 16
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 15
- 239000010936 titanium Chemical class 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 11
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 10
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 9
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 9
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 7
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 7
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 6
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 6
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 6
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 6
- 238000000504 luminescence detection Methods 0.000 description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 6
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 6
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 6
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 6
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 5
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 5
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 5
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 5
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 5
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910017706 MgZn Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N disodium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [Na+].[Na+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 3
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 3
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 3
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 3
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 3
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 3
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 3
- LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N vanadate(3-) Chemical compound [O-][V]([O-])([O-])=O LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylsulfamoyl)-2-methylfuran-3-carboxylic acid Chemical compound CN(C)S(=O)(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C)O1 DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021364 Al-Si alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- 229910021542 Vanadium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QUEDYRXQWSDKKG-UHFFFAOYSA-M [O-2].[O-2].[V+5].[OH-] Chemical compound [O-2].[O-2].[V+5].[OH-] QUEDYRXQWSDKKG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- PPQREHKVAOVYBT-UHFFFAOYSA-H dialuminum;tricarbonate Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O PPQREHKVAOVYBT-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBFZBNKJVDQAMA-UHFFFAOYSA-D dipotassium;zirconium(4+);pentacarbonate Chemical compound [K+].[K+].[Zr+4].[Zr+4].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O WBFZBNKJVDQAMA-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 2
- 150000004673 fluoride salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- XDBSEZHMWGHVIL-UHFFFAOYSA-M hydroxy(dioxo)vanadium Chemical compound O[V](=O)=O XDBSEZHMWGHVIL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 2
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 2
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- PNKHPQMATQQYFZ-UHFFFAOYSA-N propan-2-one;vanadium Chemical compound [V].CC(C)=O PNKHPQMATQQYFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N sodium metavanadate Chemical compound [Na+].[O-][V](=O)=O CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-I triphosphate(5-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N vanadium dioxide Chemical compound O=[V]=O GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 2
- OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N zirconium nitrate Chemical compound [Zr+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J zirconium(4+);disulfate Chemical compound [Zr+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N (Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one titanium Chemical compound [Ti].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXSZYEYDDYBUSU-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)hexanoic acid Chemical compound CCCCC(CO)(CO)C(O)=O TXSZYEYDDYBUSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZJFUNZDCRKXPZ-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydro-1h-tetrazole Chemical class C1NNN=N1 PZJFUNZDCRKXPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INJAHHABQHQOMY-UHFFFAOYSA-N 2-(dihydroxymethyl)butanoic acid Chemical compound CCC(C(O)O)C(O)=O INJAHHABQHQOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZNQFKKXSKIITN-UHFFFAOYSA-N 2-(dihydroxymethyl)heptanoic acid Chemical compound CCCCCC(C(O)O)C(O)=O JZNQFKKXSKIITN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCC(CC)(CO)CO DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisobutyric acid Chemical compound CC(C)(O)C(O)=O BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYPJRFIBDHNQLY-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O LYPJRFIBDHNQLY-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)CO QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical class O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- SZHQPBJEOCHCKM-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonobutane-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CCC(P(O)(O)=O)(C(O)=O)CC(O)=O SZHQPBJEOCHCKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonoethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCP(O)(O)=O XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHYOEGZUFPLXIS-UHFFFAOYSA-N 3,3-diethylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(CC)(CC)CCO IHYOEGZUFPLXIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULMZOZMSDIOZAF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propanoic acid Chemical compound OCC(CO)C(O)=O ULMZOZMSDIOZAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWVFNWVZBAWOOY-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CCC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1 YWVFNWVZBAWOOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- WRAGBEWQGHCDDU-UHFFFAOYSA-M C([O-])([O-])=O.[NH4+].[Zr+] Chemical compound C([O-])([O-])=O.[NH4+].[Zr+] WRAGBEWQGHCDDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TUYRAIOYNUOFNH-UHFFFAOYSA-N CP(=O)(O)OP(=O)O Chemical compound CP(=O)(O)OP(=O)O TUYRAIOYNUOFNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020639 Co-Al Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020675 Co—Al Inorganic materials 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015372 FeAl Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- QORUGOXNWQUALA-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.N=C=O.C1=CC=C(C(C2=CC=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.N=C=O.C1=CC=C(C(C2=CC=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=C1 QORUGOXNWQUALA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L Phosphate ion(2-) Chemical compound OP([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L Zinc carbonate Chemical compound [Zn+2].[O-]C([O-])=O FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910007570 Zn-Al Inorganic materials 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPLPNZFTIJOEIN-UHFFFAOYSA-I [V+5].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O Chemical compound [V+5].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O CPLPNZFTIJOEIN-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N acetic anhydride Substances CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003916 acid precipitation Methods 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229940118662 aluminum carbonate Drugs 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- ZRIUUUJAJJNDSS-UHFFFAOYSA-N ammonium phosphates Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]P([O-])([O-])=O ZRIUUUJAJJNDSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000002528 anti-freeze Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910021446 cobalt carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZOTKGJBKKKVBJZ-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);carbonate Chemical compound [Co+2].[O-]C([O-])=O ZOTKGJBKKKVBJZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZDAUORPMAWHLY-UHFFFAOYSA-N cyclohex-4-ene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC=CC(C(O)=O)C1 BZDAUORPMAWHLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC(C(O)=O)C1 XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEIOBOXBGYWJIT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;methanol Chemical compound OC.OC.C1CCCCC1 VEIOBOXBGYWJIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004980 cyclopropylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M dihydrogenphosphate Chemical compound OP(O)([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 230000009422 growth inhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- FZGIHSNZYGFUGM-UHFFFAOYSA-L iron(ii) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Fe+2] FZGIHSNZYGFUGM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SHXXPRJOPFJRHA-UHFFFAOYSA-K iron(iii) fluoride Chemical compound F[Fe](F)F SHXXPRJOPFJRHA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- MODMKKOKHKJFHJ-UHFFFAOYSA-N magnesium;dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Mg+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O MODMKKOKHKJFHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940100573 methylpropanediol Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000008 nickel(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) carbonate Chemical compound [Ni+2].[O-]C([O-])=O ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- UMRZSTCPUPJPOJ-UHFFFAOYSA-N norbornane Chemical compound C1CC2CCC1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGNLDVYVSFANHW-UHFFFAOYSA-N pentane-2,4-dione;zirconium Chemical compound [Zr].CC(=O)CC(C)=O SGNLDVYVSFANHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006389 polyphenyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002215 polytrimethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 229940048084 pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000012508 resin bead Substances 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- AKLJIUURIIIOLU-UHFFFAOYSA-N silane 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound [SiH4].CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C AKLJIUURIIIOLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011684 sodium molybdate Substances 0.000 description 1
- 235000015393 sodium molybdate Nutrition 0.000 description 1
- TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N sodium molybdate (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- GQJPVGNFTLBCIQ-UHFFFAOYSA-L sodium;zirconium(4+);carbonate Chemical compound [Na+].[Zr+4].[O-]C([O-])=O GQJPVGNFTLBCIQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N triphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- WQEVDHBJGNOKKO-UHFFFAOYSA-K vanadic acid Chemical class O[V](O)(O)=O WQEVDHBJGNOKKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VLOPEOIIELCUML-UHFFFAOYSA-L vanadium(2+);sulfate Chemical compound [V+2].[O-]S([O-])(=O)=O VLOPEOIIELCUML-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011667 zinc carbonate Substances 0.000 description 1
- 235000004416 zinc carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000010 zinc carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940043825 zinc carbonate Drugs 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229960001939 zinc chloride Drugs 0.000 description 1
- UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L zinc hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Zn+2] UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940007718 zinc hydroxide Drugs 0.000 description 1
- 229910021511 zinc hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001296 zinc oxide Drugs 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
- XAEWLETZEZXLHR-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Zn+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O XAEWLETZEZXLHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XJUNLJFOHNHSAR-UHFFFAOYSA-J zirconium(4+);dicarbonate Chemical compound [Zr+4].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O XJUNLJFOHNHSAR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C18/00—Alloys based on zinc
- C22C18/04—Alloys based on zinc with aluminium as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
- C22C21/10—Alloys based on aluminium with zinc as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C30/00—Alloys containing less than 50% by weight of each constituent
- C22C30/06—Alloys containing less than 50% by weight of each constituent containing zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/04—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the coating material
- C23C2/12—Aluminium or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
Abstract
本發明提供一種具有安定優異的耐蝕性之熱浸(hot-dip)鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板。
為了達成上述目的,本發明係具備鍍敷皮膜之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其特徵為:前述鍍敷皮膜具有下述組成:含有Al:45~65質量%、Si:1.0~4.0質量%及Mg:1.0~10.0質量%,且剩餘部分由Zn及不可避免雜質所成,相對於前述鍍敷皮膜之總質量,前述不可避免雜質中的Co含量為0.080質量%以下,前述鍍敷皮膜中的Si及Mg
2Si之藉由X射線繞射法的繞射強度滿足以下關係(1)。
Si(111):Si的(111)面(面間隔d=0.3135nm)之繞射強度、
Mg
2Si(111):Mg
2Si的(111)面(面間隔d=0.3668nm)之繞射強度
Description
本發明關於一種具有安定優異的耐蝕性之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板及其製造方法、表面處理鋼板及其製造方法,以及塗裝鋼板及其製造方法。
以55%Al-Zn系為代表之熱浸鍍Al-Zn系鋼板,由於可兼具Zn的犧牲防蝕性及Al的高耐蝕性,故已知於熱浸鍍鋅鋼板中顯示高的耐蝕性。因此,熱浸鍍Al-Zn鋼板,由於其優異之耐蝕性,主要使用於長期暴露於戶外之屋頂或牆壁等之建材領域、護欄、配線配管、隔音牆等之土木建築領域。特別是對於因空氣污染所致之酸雨、或積雪地帶之散佈道路防凍用融雪劑、於海岸地區開發等之在更惡劣使用環境下之耐蝕性優異之材料或對無需維護材料之需求係升高,因此近年來對熱浸鍍Al-Zn系鋼板之需求係增加。
熱浸鍍Al-Zn系鋼板之鍍敷皮膜之特徵係由過飽和含有Zn之Al凝固成枝晶狀之部分(α-Al相)與存在於枝晶間隙(inter-dendrite)之Zn-Al共晶組織所構成,具有α-Al相在鍍敷皮膜之厚度方向積層複數之構造。因此種特徵之皮膜構造,使自表面之腐蝕行進路徑變得複雜,故腐蝕變得不容易進行,熱浸鍍Al-Zn系鋼板亦已知可實現比鍍敷皮膜厚相同之熱浸鍍鋅鋼板更優異之耐蝕性。
對於此種熱浸鍍Al-Zn系鋼板,已嘗試謀求進一步長壽命化,添加有Mg之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板係已被實用化。
作為此種熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,例如專利文獻1中揭示一種熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其係於鍍敷皮膜中包含含有Mg的Al-Zn-Si合金,該Al-Zn-Si合金係含有45~60重量%的元素鋁、37~46重量%的元素鋅及1.2~2.3重量%的Si之合金,該Mg之濃度為1~5重量%。
又,專利文獻2中揭示一種熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其目的係藉由於鍍敷皮膜中含有2~10%的Mg、0.01~10%的Ca之1種以上而謀求耐蝕性提升,同時提高基底鋼板露出後之保護作用。
再者,專利文獻3中揭示一種熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其係形成以質量%計含有Mg:1~15%、Si:2~15%、Zn:11~25%,剩餘部分由Al及不可避免雜質所成之被覆層,藉由使鍍敷皮膜中存在之Mg
2Si相或MgZn
2相等之金屬間化合物的大小成為10μm以下,而謀求平板及端面的耐蝕性之改善。
上述熱浸鍍Al-Zn系鋼板,由於具有白色金屬光澤之亮晶晶花樣之美麗外觀,故亦多以未實施塗裝之狀態使用,實際狀況係對其外觀之要求仍強。因此,亦開發出改善熱浸鍍Al-Zn系鋼板外觀之技術。
例如,專利文獻4中揭示藉由於鍍敷皮膜中含有0.01~10%的Sr,而抑制了皺紋狀的凹凸缺陷之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板。
又,專利文獻5中亦揭示藉由於鍍敷皮膜中含有500~3000ppm的Sr,而抑制了斑點缺陷之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板。
再者,關於上述熱浸鍍Al-Zn系鋼板,於嚴苛腐蝕環境中使用時,有伴隨鍍敷皮膜腐蝕而發生白鏽之問題。該白鏽由於導致鋼板外觀性降低,故進行謀求耐白鏽性改善的鍍敷鋼板之開發。
例如,專利文獻6中,以改善加工部的耐白鏽性為目的,揭示一種熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其係將Si-Mg相中的Mg相對於鍍敷層中的Mg總量之質量比率恰當化。
又,專利文獻7中揭示藉由於熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之鍍敷皮膜上形成含有胺基甲酸酯樹脂之化成皮膜,而謀求耐變黑性及耐白鏽性改善之技術。
又,於熱浸鍍Al-Zn系鋼板之表面形成有化成皮膜、底漆塗膜、上塗塗膜等之塗裝鋼板,係藉由加壓成形、輥成形或壓花成形,施予如90度彎曲或180度彎曲之各種加工,進而要求長期之塗膜耐久性能。為了符合該等要求,熱浸鍍Al-Zn系鋼板已知有形成含有鉻酸鹽之化成皮膜,於底漆塗膜中亦含有鉻酸鹽系防鏽顏料,於其上形成熱硬化型聚酯系樹脂塗膜或氟系樹脂塗膜等之耐候性優異之上塗塗膜之塗裝鋼板。
然而,對於近來這些塗裝鋼板,使用對環境負荷物質的鉻酸鹽係被視為問題,而強烈希望開發出即使無鉻酸鹽也能改善耐蝕性或表面外觀之塗裝鋼板。
作為對應該等要求之技術,例如專利文獻8中揭示一種表面處理熱浸鍍敷鋼材,其係於鋼材之表面上鍍敷含有Al、Zn、Si及Mg且針對該等元素之含量謀求調整之鋁・鋅合金鍍敷層(α),更作為其上層,形成以選自鈦化合物及鋯化合物之至少1種化合物(A)作為造膜成分之皮膜(β),將鋁・鋅合金鍍敷層(α)中的Si-Mg相相對於鍍敷層中的Mg總量之質量比率調整至3%以上。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本發明專利第5020228號公報
專利文獻2:日本發明專利第5000039號公報
專利文獻3:日本特開2002-12959號公報
專利文獻4:日本發明專利第3983932號公報
專利文獻5:日本特表2011-514934號公報
專利文獻6:日本發明專利第5751093號公報
專利文獻7:日本特開2019-155872號公報
專利文獻8:日本特開2005-169765號公報
發明所欲解決的課題
然而,如專利文獻1~3所揭示之使鍍敷皮膜中含有Mg之技術,未必能顯著提高耐蝕性。
專利文獻1~3所揭示之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,雖然僅藉由於鍍敷成分中含有Mg而謀求耐蝕性提升,但針對上述4元素(Al、Zn、Si、Mg)以外之成分所致之影響及構成鍍敷皮膜之金屬相・金屬間化合物相之特徵並未考慮,不能一概而論耐蝕性之優劣。因此,即使為使用上述4元素成分之含量相同之鍍敷浴組成製造熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之情況,若實施腐蝕促進試驗則其在耐蝕性有差異,相對於未添加Mg之Al-Zn系鍍敷鋼板亦未必佔優勢,而存在問題。
同樣地,於鍍敷外觀性之改善中,僅於鍍敷皮膜中加入Sr時,未必能消除皺紋狀的凹凸缺陷,關於專利文獻4及5中揭示之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,亦有無法兼顧耐蝕性與外觀之情況。此外,由於Mg為容易氧化之元素,故鍍敷浴中含有的Mg係於浴面附近產生氧化物(浮渣),或於熱浸鍍敷時,隨著時間的經過於鍍敷浴中或底部偏向存在的含有鐵的FeAl系化合物(底渣)會發生,該等渣滓會附著於鍍敷皮膜之表面,引起凸形狀缺陷,亦有損害鍍敷皮膜表面外觀之虞。
又,以在熱浸Al-Zn-Si浴中添加有Mg之浴對鋼板施予鍍敷時,已知於鍍敷皮膜中除了析出α-Al相之外,亦析出Mg
2Si相、MgZn
2相、Si相。然而,各相之析出量或存在比率對耐蝕性造成之影響亦尚不明瞭。
再者,關於耐白鏽性,任一個技術都無法謀求充分的改善。關於專利文獻6之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,雖然敘述加工部及加熱後之平板部之耐白鏽性獲得改善,但針對未加熱之平板部的耐白鏽性並未考慮,安定的耐白鏽性之實現依然是課題。又,關於專利文獻7之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,亦不僅希望獲得安定優異的耐蝕性及耐白鏽性,而且希望進一步的改善。
另外,關於塗裝鋼板,如上述,在藉由加壓成形、輥成形、壓花成形等,施予如90度彎曲或180度彎曲之各種加工之狀態下,被要求長期塗膜耐久性能,但於專利文獻8之技術中,未必可安定地獲得加工後之耐蝕性及表面外觀性。
塗裝鋼板之耐蝕性,不用說會對成為基底之鍍敷鋼板的耐蝕性造成影響,關於表面外觀,由於皺紋狀缺陷之凹凸高低差亦達到數十μm,故即使藉由塗膜使表面平滑化,亦無法完全消除凹凸,被認為不能期望改善作為塗裝鋼板之外觀。此外,由於塗膜在凸部變薄,故亦有耐蝕性局部降低之顧慮。因此,為了獲得耐蝕性及表面外觀優異之塗裝鋼板,重要的是改善基底的鍍敷鋼板之耐蝕性與表面外觀。
鑒於上述情事,本發明之目的在於提供一種具有安定優異的耐蝕性之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板及其製造方法。
又,本發明之目的在於提供一種具有安定優異的耐蝕性及耐白鏽性之表面處理鋼板及其製造方法。
再者,本發明之目的在於提供一種具有安定優異的耐蝕性及加工部耐蝕性之塗裝鋼板及其製造方法。
解決課題的手段
本發明者們為了解決上述課題而進行檢討,結果著眼於:熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板的鍍敷皮膜之組成,重要的是不僅控制Al、Zn、Si及Mg之濃度,而且亦控制作為雜質含有的元素之濃度,發現:藉由對其中Co之含量進行恰當的控制,可有效地抑制耐蝕性之變差。
又,查明了於熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之鍍敷皮膜中形成之Mg
2Si相及Si相,取決於鍍敷皮膜中各成分之平衡或鍍敷皮膜之形成條件,而析出量增減,其存在比率發生變化,取決於組成之平衡,有任一相不析出之情況,熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之耐蝕性係隨著該等相之存在比率而變化,特別地相較於Mg
2Si相或Si相,Si相少時耐蝕性係安定地提升。惟,關於該等Mg
2Si相及Si相,已知即使活用一般方法,例如掃描型電子顯微鏡,從表面或剖面對鍍敷皮膜實施二次電子影像或反射電子影像等之觀察,也非常難以辨別相之差異,使用透射型電子顯微鏡進行觀察雖然可獲得微觀資訊,但無法掌握到左右耐蝕性或外觀之宏觀資訊的Mg
2Si及Si相之存在比率。
因此,本發明者們進一步重複心致力的研究,結果發現藉由著眼於X射線繞射法,利用Mg
2Si相與Si相的特定繞射峰之強度比,可定量地規定相的存在比率,再者,若鍍敷皮膜中Mg
2Si相與Si相滿足特定的存在比率,則可實現安定優異的耐蝕性。
此外,本發明者們亦得知在控制上述鍍敷皮膜中的Co含量或Mg
2Si相與Si相之存在比率後,藉由控制鍍敷浴中的Sr濃度,而確實抑制皺紋狀的凹凸缺陷之發生,可獲得表面外觀性優異之鍍敷鋼板。
又,本發明者們亦針對在前述鍍敷皮膜上形成的化成皮膜進行檢討,亦發現藉由特定樹脂與特定金屬化合物來構成化成皮膜,而可提高化成皮膜與鍍敷皮膜之親和性及防鏽效果等,且提高耐白鏽性之安定的改善。
再者,本發明者們亦針對在前述鍍敷皮膜上形成之化成皮膜及底漆塗膜進行檢討,亦發現藉由特定樹脂與特定無機化合物來構成化成皮膜,同時藉由特定聚酯樹脂及無機化合物來構成底漆塗膜,而可提高塗膜之阻隔性及密著性,且即使無鉻酸鹽也可實現優異之加工後耐蝕性。
本發明係基於上述知識見解而完成者,其要旨如下。
1.一種熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其係具備鍍敷皮膜的熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其特徵為:
前述鍍敷皮膜具有下述組成:含有Al:45~65質量%、Si:1.0~4.0質量%及Mg:1.0~10.0質量%,且剩餘部分由Zn及不可避免雜質所成,
相對於前述鍍敷皮膜之總質量,前述不可避免雜質中的Co含量為0.080質量%以下,
前述鍍敷皮膜中的Si及Mg
2Si之藉由X射線繞射法的繞射強度滿足以下關係(1),
Si(111):Si的(111)面(面間隔d=0.3135nm)之繞射強度,
Mg
2Si(111):Mg
2Si的(111)面(面間隔d=0.3668nm)之繞射強度。
2.如前述1記載之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其中前述鍍敷皮膜中的Si之藉由X射線繞射法的繞射強度滿足以下關係(2),
Si(111):Si的(111)面(面間隔d=0.3135nm)之繞射強度。
3.如前述1或2記載之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其中前述鍍敷皮膜進一步含有Sr:0.01~1.0質量%。
4.如前述1~3中任一項記載之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其中前述鍍敷皮膜中的Al之含量為50~60質量%。
5.如前述1~4中任一項記載之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其中前述鍍敷皮膜中的Si之含量為1.0~3.0質量%。
6.如前述1~5中任一項記載之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其中前述鍍敷皮膜中的Mg之含量為1.0~5.0質量%。
7.一種熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法,其係具備鍍敷皮膜的熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法,其特徵為:
前述鍍敷皮膜之形成係具有使基底鋼板浸漬於鍍敷浴中之熱浸鍍敷處理步驟,該鍍敷浴具有下述組成:含有Al:45~65質量%、Si:1.0~4.0質量%及Mg:1.0~10.0質量%,且剩餘部分由Zn及不可避免雜質所成,
相對於前述鍍敷浴之總質量,將前述鍍敷浴之不可避免雜質中的Co含量控制在0.080質量%以下。
8.如前述7記載之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法,其中前述鍍敷浴進一步含有Sr:0.01~1.0質量%。
9.一種表面處理鋼板,其係具備如前述1~6中任一項記載之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之鍍敷皮膜與形成在該鍍敷皮膜上之化成皮膜的表面處理鋼板,其特徵為:
前述化成皮膜含有由環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、丙烯酸矽樹脂、醇酸樹脂、聚酯樹脂、聚伸烷基樹脂、胺基樹脂及氟樹脂中選出的至少一種樹脂,與由P化合物、Si化合物、Co化合物、Ni化合物、Zn化合物、Al化合物、Mg化合物、V化合物、Mo化合物、Zr化合物、Ti化合物及Ca化合物中選出的至少一種金屬化合物。
10.一種表面處理鋼板之製造方法,其係具備藉由如前述7或8記載之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法所形成之鍍敷皮膜與形成在該鍍敷皮膜上之化成皮膜的表面處理鋼板之製造方法,其特徵為:
前述化成皮膜含有由環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、丙烯酸矽樹脂、醇酸樹脂、聚酯樹脂、聚伸烷基樹脂、胺基樹脂及氟樹脂中選出的至少一種樹脂,與由P化合物、Si化合物、Co化合物、Ni化合物、Zn化合物、Al化合物、Mg化合物、V化合物、Mo化合物、Zr化合物、Ti化合物及Ca化合物中選出的至少一種金屬化合物。
15.一種塗裝鋼板,其係在如前述1~6中任一項記載之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之鍍敷皮膜上,直接或隔著化成皮膜形成有塗膜之塗裝鋼板,其特徵為:
前述化成皮膜含有樹脂成分與無機化合物,該樹脂成分含有合計30~50質量%的(a):具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂及(b):具有雙酚骨架的環氧樹脂,該(a)與該(b)之含有比率((a):(b))以質量比計為3:97~60:40之範圍,該無機化合物包含2~10質量%的釩化合物、40~60質量%的鋯化合物及0.5~5質量%的氟化合物,
前述塗膜至少具有底漆塗膜,該底漆塗膜含有具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂與包含釩化合物、磷酸化合物及氧化鎂之無機化合物。
16.一種塗裝鋼板之製造方法,其係於藉由如前述7或8記載之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法所形成之鍍敷皮膜上,直接或隔著化成皮膜形成有塗膜的塗裝鋼板之製造方法,其特徵為:
前述化成皮膜含有樹脂成分與無機化合物,該樹脂成分含有合計30~50質量%的(a):具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂及(b):具有雙酚骨架的環氧樹脂,該(a)與該(b)之含有比率((a):(b))以質量比計為3:97~60:40之範圍,該無機化合物包含2~10質量%的釩化合物、40~60質量%的鋯化合物及0.5~5質量%的氟化合物,
前述塗膜至少具有底漆塗膜,該底漆塗膜含有具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂與包含釩化合物、磷酸化合物及氧化鎂之無機化合物。
發明的效果
依據本發明,可提供一種具有安定優異的耐蝕性之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板。
又,依據本發明,可提供一種具有安定優異的耐蝕性及耐白鏽性之表面處理鋼板及其製造方法。
再者,依據本發明,可提供一種具有安定優異的耐蝕性及加工部耐蝕性之塗裝鋼板及其製造方法。
(熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板)
本發明之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板係在鋼板表面具備鍍敷皮膜。而且,該鍍敷皮膜具有下述組成:含有Al:45~65質量%、Si:1.0~4.0質量%及Mg:1.0~10.0質量%,且剩餘部分由Zn及不可避免雜質所成。
從耐蝕性與操作面之均衡來看,前述鍍敷皮膜中的Al含量為45~65質量%,較佳為50~60質量%。此係因為若前述鍍敷皮膜中的Al含量為至少45質量%,則發生Al的枝晶狀凝固,可得到以α-Al相之枝晶狀凝固組織為主體之鍍敷皮膜構造。藉由採取該枝晶狀凝固組織於鍍敷皮膜之膜厚方向積層之構造,腐蝕行進路徑變得複雜,而鍍敷皮膜本身之耐蝕性提升。又,該α-Al相之枝晶狀部分積層愈多,腐蝕行進路徑愈複雜,腐蝕愈不容易到達基底鋼板,故為了提高耐蝕性,較佳將Al之含量設為50質量%以上。另一方面,前述鍍敷皮膜中之Al含量超過65質量%時,Zn幾乎變化成固溶於α-Al中之組織,無法抑制α-Al相之溶解反應,Al-Zn-Si-Mg系鍍敷之耐蝕性變差。因此,前述鍍敷皮膜中的Al含量必須為65質量%以下,較佳為60質量%以下。
前述鍍敷皮膜中的Si主要添加目的為抑制在與基底鋼板之界面生成之Fe-Al系及/或Fe-Al-Si系的界面合金層之成長,不使鍍敷皮膜與鋼板之密著性變差。實際上,若將鋼板浸漬於含有Si的Al-Zn系鍍敷浴中,則鋼板表面的Fe與浴中的Al或Si進行合金化反應,於基底鋼板/鍍敷皮膜界面生成Fe-Al系及/或Fe-Al-Si系的金屬間化合物層,此時Fe-Al-Si系合金由於成長速度比Fe-Al系合金慢,故Fe-Al-Si系合金之比率愈高,愈能抑制界面合金層全體之成長。因此,前述鍍敷皮膜中的Si含量必須為1.0質量%以上。另一方面,前述鍍敷皮膜中的Si含量超過4.0質量%時,不僅前述界面合金層之成長抑制效果飽和,而且由於鍍敷皮膜中存在過剩的Si相而促進腐蝕,故Si含量係設為4.0質量%以下。再者,前述鍍敷皮膜中的Si含量,從抑制過剩的Si相存在之觀點來看,較佳設為3.0質量%以下。尚且,於與後述Mg含量之關係上,從容易滿足後述(1)的關係式之觀點來看,亦較佳前述Si之含量設為1.0~3.0質量%。
前述鍍敷皮膜含有1.0~10.0質量%的Mg。藉由在前述鍍敷皮膜中含有Mg,上述Si可以Mg
2Si相的金屬間化合物之形式存在,可抑制腐蝕之促進。
又,前述鍍敷皮膜中含有Mg時,於鍍敷皮膜中亦形成金屬間化合物的MgZn
2相,可得到使耐蝕性更提升之效果。前述鍍敷皮膜中的Mg含量未達1.0質量%時,亦因前述金屬間化合物(Mg
2Si、MgZn
2)之生成,對主要相的α-Al相的固溶使用到Mg,故無法確保充分的耐蝕性。另一方面,前述鍍敷皮膜中的Mg含量變多時,除了耐蝕性的提升效果飽和之外,亦由於伴隨α-Al相之脆弱化而加工性降低,故含量係設為10.0質量%以下。再者,前述鍍敷皮膜中的Mg含量,從抑制鍍敷形成時之渣滓發生,使鍍敷浴管理成為容易之觀點來看,較佳設為5.0質量%以下。尚且,於與前述Si含量之關係上,從容易滿足後述(1)的關係式之觀點來看,較佳將前述Mg之含量設為3.0質量%,考慮到與渣滓抑制之兼備性時,更佳將前述Mg之含量設為3.0~5.0質量%。
又,前述鍍敷皮膜含有Zn及不可避免雜質。其中,前述不可避免雜質含有Fe。該Fe係因鋼板或浴中設備溶出於鍍敷浴中而不可避免含有者,及於形成界面合金層時,因自基底鋼板之擴散而供給的結果,而不可避免地含於前述鍍敷皮膜中。前述鍍敷皮膜中的Fe含量通常為0.3~2.0質量%左右。
作為其他不可避免雜質,可舉出Cr、Ni、Cu、Co、W等。該等成分係因基底鋼板或不鏽鋼製的浴中設備或施予浴中設備的W-C系或Co-Cr-W系熔射皮膜溶出於鍍敷浴中,於成為鍍敷浴原料之金屬塊中作為雜質而含有,更且於刻意添加有該等成分的鍍敷鋼板之製造所使用之槽或使用浴中設備而製造,而不可避免地含於前述鍍敷皮膜中。
而且,本發明之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之特徵在於前述不可避免雜質中的Co含量,係相對於前述鍍敷皮膜之總質量而言為0.080質量%以下。前述鍍敷皮膜中含有的Co,由於有使熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板的耐蝕性變差之情況,故在適當地控制上述鍍敷皮膜中的Al、Zn、Si及Mg含量後,更抑制作為不可避免雜質的Co含量,而可抑制耐蝕性之變差。基於同樣的觀點,前述不可避免雜質中的Co含量,相對於前述鍍敷皮膜之總質量,較佳設為0.020質量%以下,更佳設為0.001質量%以下,最佳設為0質量%。
尚且,前述鍍敷皮膜中含有的Co主要係作為在α-Al中的固溶元素存在。以超過固溶極限的濃度包含Co時,亦有在基底鐵-鍍敷界面所形成的合金層中,作為Fe-Co-Al系化合物或Fe-Co-Al-Si系化合物析出之情況。
又,關於因含有作為雜質的Co而耐蝕性變差機構,雖然未確定,但推斷為:因Co固溶了的α-Al相之阻隔性降低而腐蝕速度增加之機構,或含有Co的化合物在腐蝕環境下發揮陰極之功能,形成存在於周圍的凝固組織與局部電池,而腐蝕速度增加之機構。
再者,關於前述鍍敷皮膜中的不可避免雜質之總含量,並無特別的限定,但過剩地含有時,有對鍍敷鋼板的各種特性造成影響之可能性,故較佳將合計設為5.0質量%以下。
而且,於本發明之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板中,前述鍍敷皮膜中的Si及Mg
2Si之藉由X射線繞射法的繞射強度必須滿足以下之關係(1)。
Si(111):Si的(111)面(面間隔d=0.3135nm)之繞射強度,
Mg
2Si(111):Mg
2Si的(111)面(面間隔d=0.3668nm)之繞射強度
如上述,於本發明之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板中,重要的是藉由含有前述Mg與Si而將鍍敷皮膜中生成的Mg
2Si相與Si相之存在比率控制於特定比例。該等對於耐蝕性之影響目前仍在持續調查中且不瞭解處亦多,但推斷為如下的機制。
熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板暴露於腐蝕環境時,上述金屬間化合物係比α-Al相更優先地溶解,結果所形成的腐蝕生成物附近係成為Mg豐富之環境。推斷於如此的Mg豐富之環境下,所形成的腐蝕生成物不易分解,結果鍍敷皮膜之保護作用效果提高。又,該鍍敷皮膜之保護作用提高效果,係在鍍敷皮膜中的Si不是Si相而是作為Mg
2Si相存在時更確實地展現,因此認為降低相對於Mg
2Si相而言Si相之存在比率者係有效。
前述鍍敷皮膜中的Si與Mg
2Si之存在比率,係使用藉由X射線繞射法所得之繞射峰強度,需要滿足關係(1):Si(111)/Mg
2Si(111)≦0.8,前述鍍敷皮膜中的Si與Mg
2Si之存在比率不滿足關係(1),亦即Si(111)/Mg
2Si(111)>0.8時,由於前述鍍敷皮膜中存在的Si相變多,故在腐蝕生成物附近無法得到前述Mg豐富之環境,變難以得到前述鍍敷皮膜之保護作用提高效果。基於同樣之觀點,Si相對於Mg
2Si之存在比率(Si(111)/Mg
2Si(111))較佳為0.5以下,更佳為0.3以下,特佳為0.2以下。
此處,前述關係(1)中,Si(111)為Si的(111)面(面間隔d=0.3135nm)之繞射強度,Mg
2Si(111)為Mg
2Si的(111)面(面間隔d=0.3668nm)之繞射強度。
作為藉由前述X射線繞射測定Si(111)及Mg
2Si(111)之方法,可藉由機械削出前述鍍敷皮膜之一部分,以粉末狀態進行X射線繞射(粉末X射線繞射測定法)而算出。關於繞射強度之測定,測定相當於面間隔d=0.3135nm之Si的繞射峰強度、相當於面間隔d=0.3668nm之Mg
2Si的繞射峰強度,藉由算出該等比率,可得到Si(111)/Mg
2Si(111)。
尚且,實施粉末X射線繞射測定時所需要的鍍敷皮膜之量(削出鍍敷皮膜之量),從精度良好地測定Si(111)與Mg
2Si(111)之觀點來看,只要是0.1g以上即可,較佳為0.3g以上。又,削出前述鍍敷皮膜時,亦有在粉末中包含鍍敷皮膜以外的鋼板成分之情況,但該等金屬間化合物相係僅含於鍍敷皮膜中者,且不會影響前述波峰強度。再者,使前述鍍敷皮膜成為粉末而進行X射線繞射者,係因為若對鍍敷鋼板上形成的鍍敷皮膜進行X射線繞射,則受到鍍敷皮膜凝固組織之面方位的影響,而難以進行正確的相比率計算。
又,於本發明之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板中,在控制上述Al、Zn、Si、Mg及作為不可避免雜質的Co之濃度後,從可使耐蝕性更安定地提升之點來看,前述鍍敷皮膜中的Si之藉由X射線繞射法的繞射強度較佳為滿足以下關係(2)。
Si(111):Si的(111)面(面間隔d=0.3135nm)之繞射強度
一般而言,於Al合金在水溶液中的溶解反應中,已知Si相作為陰極位點(site)存在,而促進周邊α-Al相之溶解,因此減少Si相者係在抑制α-Al相溶解之觀點上亦有效,其中如關係(2)成為Si相不存在的皮膜(前述Si(111)之繞射峰強度為零),係對於耐蝕性的安定化最優者。
再者,藉由X射線繞射之Si的(111)面的繞射峰強度之測定方法係如上述。
此處,關於滿足上述關係(1)及關係(2)之方法,並無特別的限定。例如,為了滿足關係(1)或關係(2),藉由調整前述鍍敷皮膜中的Si之含量、Mg之含量及Al之含量的平衡,可控制Si與Mg
2Si之存在比率(Si(111)與Mg
2Si(111)之繞射強度)。前述鍍敷皮膜中的Si之含量、Mg之含量及Al之含量的平衡,並未必只要設定在一定的含有比例就滿足關係(1)或關係(2),例如需要根據Si的含量(質量%)來改變Mg及Al之含有比例。
又,除了調整前述鍍敷皮膜中的Si之含量、Mg之含量及Al之含量的平衡之外,亦藉由調整鍍敷皮膜形成時之條件(例如,鍍敷後的冷卻條件),以滿足關係(1)或關係(2)之方式,可控制Si(111)與Mg
2Si(111)之繞射強度。
又,本發明之熱浸Al-Zn-Si-Mg系鋼板中,前述鍍敷皮膜較佳含有0.01~1.0質量%的Sr。由於前述鍍敷皮膜含有Sr,可更確實地抑制皺紋狀凹凸缺陷等之表面缺陷發生,可實現良好的表面外觀性。
再者,前述皺紋狀缺陷係於前述鍍敷皮膜表面所形成之皺紋狀凹凸之缺陷,於前述鍍敷皮膜表面觀察到白色條紋。如此的皺紋狀缺陷係於前述鍍敷皮膜中添加多的Mg時容易發生。因此,於前述熱浸鍍敷鋼板中,藉由在前述鍍敷皮膜中含有Sr,而使前述鍍敷皮膜表層中的Sr比Mg更優先地被氧化,抑制Mg之氧化反應,可抑制前述皺紋狀缺陷之發生。
又,前述鍍敷皮膜,從與上述Mg同樣地提高腐蝕生成物之安定性,達成延遲腐蝕進行的效果之觀點來看,較佳進一步含有合計0.01~10質量%的由Cr、Mn、V、Mo、Ti、Ca、Sb及B中選出的一種或兩種以上。將上述成分之合計含量設為0.01~10質量%者,係因為可得到充分的腐蝕延遲效果,同時效果亦不會飽和。
尚且,前述鍍敷皮膜之附著量,從滿足各種特性之觀點來看,較佳每一面為45~120g/m
2。此係因為當前述鍍敷皮膜之附著量為45g/m
2以上時,對於建材等之需要長期耐蝕性之用途亦能得到充分之耐蝕性,又當前述鍍敷皮膜之附著量為120g/m
2以下時,可抑制加工時的鍍敷裂痕等之發生,同時可實現優異的耐蝕性。基於同樣的觀點,前述鍍敷皮膜之附著量更佳為45~100g/m
2。
關於前述鍍敷皮膜之附著量,可藉由例如JIS H 0401:2013年所示之以鹽酸與六亞甲基四胺之混合液溶解剝離特定面積的鍍敷皮膜,由剝離前後之鋼板重量差來算出之方法而導出。以該方法求出每一面之鍍敷附著量,可藉由以非對象面之鍍敷表面不露出之方式,以膠帶密封後實施前述溶解而求出。
又,前述鍍敷皮膜之成分組成,係與上述Co之含量相同,可藉由將鍍敷皮膜浸漬於鹽酸等中而使其溶解,以ICP發光分光分析或原子吸光分析等確認該溶液。該方法終究是一例,只要是可正確地定量鍍敷皮膜之成分組成之方法,則可為任何方法,並無特別的限定。
尚且,由本發明所得之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之鍍敷皮膜全體係與鍍敷浴之組成大致相同。因此,藉由控制鍍敷浴之組成,可精度良好地進行前述鍍敷皮膜組成之控制。
又,關於構成本發明之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之基底鋼板,並無特別的限定,可按照所要求的性能或規格,適宜使用冷軋鋼板或熱軋鋼板等。
再者,關於得到前述基底鋼板之方法,並無特別的限定。例如,於前述熱軋鋼板之情況,可使用經過熱軋步驟、酸洗步驟者,於前述冷軋鋼板之情況,可進一步施加冷軋步驟而製造。再者,於為了得到鋼板的特性之熱浸鍍敷步驟之前,亦可經過再結晶退火步驟等。
(熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法)
本發明之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法係具備鍍敷皮膜的熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法,前述鍍敷皮膜之形成係具有使基底鋼板浸漬於鍍敷浴中之熱浸鍍敷處理步驟,該鍍敷浴具有下述組成:含有Al:45~65質量%、Si:1.0~4.0質量%及Mg:1.0~10.0質量%,且剩餘部分由Zn及不可避免雜質所成。
尚且,關於前述熱浸鍍敷處理步驟,除了後述鍍敷浴條件之外,並無特別的限定。例如,可藉由連續式熱浸鍍敷設備,將前述基底鋼板予以洗淨、加熱、浸漬鍍敷浴而製造。於鋼板之加熱步驟中,為了前述基底鋼板本身之組織控制而實施再結晶退火等,同時為了防止鋼板氧化且將存在於表面的微量氧化膜還原,於氮-氫環境等之還原環境下之加熱是有效。
又,關於前述熱浸鍍敷處理步驟所用之鍍敷浴,如上所述,由於前述鍍敷皮膜之組成全體係與鍍敷浴的組成大致相等,故可使用具有含有Al:45~65質量%、Si:1.0~4.0質量%及Mg:1.0~10.0質量%,且剩餘部分由Zn及不可避免雜質所成之組成者。
而且,於本發明之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法中,特徵為將前述鍍敷浴之不可避免雜質中的Co含量,相對於前述鍍敷浴之總質量,控制在0.080質量%以下。如上述,由於前述鍍敷皮膜中含有的Co係有使熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板的耐蝕性變差之情況,故在將鍍敷浴中之Al、Zn、Si及Mg之含量適當地控制後,藉由進一步抑制作為不可避免雜質的Co含量,可抑制耐蝕性之變差。
又,前述鍍敷浴中作為不可避免雜質的Co之含量,相對於前述鍍敷浴之總質量,需要控制在0.080質量%以下,較佳設為0.020質量%以下,更佳設為0.001質量%以下。若前述鍍敷浴中的Co含量為0.080質量%以下,則所製造的熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板可具有充分優異的耐蝕性。又,若前述鍍敷浴中的Co含量為0.020質量%以下,則可具有更優異的耐蝕性,若為0.001質量%以下,則可具有特別優異的耐蝕性。
如此地,前述鍍敷浴中的Co含量愈少,熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板的耐蝕性愈優異,因此關於Co之含量,下限值沒有特別的限定,前述鍍敷浴中的Co含量最佳為0%。
此處,減低前述鍍敷浴中的Co之含量的手段係沒有特別的限定。
例如,從有效於抑制施予浴中設備的Co-Cr-W系熔射皮膜向前述鍍敷浴中之溶出來看,較佳為採用不含Co的熔射皮膜。
又,作為減低前述鍍敷浴中的Co之含量的其他手段,較佳為使用雜質中的Co之含量少的金屬塊作為鍍敷浴之原料。
再者,在熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造中不使用刻意添加Co之鍍敷鋼板製造中使用之槽或浴中設備亦為有效。此係因為可抑制附著於前述槽或前述浴中設備之含有Co的金屬塊溶解而混入鍍敷浴中。
再者,前述鍍敷浴之浴溫係沒有特別的限定,但較佳設為(熔點+20℃)~650℃之溫度範圍。
將前述浴溫之下限設為熔點+20℃者,係因為為了進行熱浸鍍敷處理,必須將前述浴溫設為凝固點以上,藉由設為熔點+20℃,可防止前述鍍敷浴的局部浴溫降低所致之凝固。另一方面,將前述浴溫之上限設為650℃者,係因為若超過650℃,則前述鍍敷皮膜變難以急速冷卻,有在鍍敷皮膜與鋼板之間形成的界面合金層變厚之虞。
又,關於浸入鍍敷浴中的基底鋼板之溫度(浸入板溫),並無特別的限定,但從確保前述連續式熱浸鍍敷操作中的鍍敷特性及防止浴溫度變化之觀點來看,較佳為相對於前述鍍敷浴之溫度,控制在±20℃以內。
另外,關於前述基底鋼板在前述鍍敷浴中之浸漬時間,較佳為0.5秒以上。此係因為若未達0.5秒,則有在前述基底鋼板表面上無法形成充分的鍍敷皮膜之虞。浸漬時間之上限係沒有特別的限定,但若增長浸漬時間,則在鍍敷皮膜與鋼板之間形成的界面合金層有變厚之虞,故更佳設為8秒以內。
尚且,熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板亦可按照所要求的性能,在前述鍍敷皮膜上,直接或隔著中間層,形成塗膜。
再者,關於形成前述塗膜之方法,並無特別的限定,可按照所要求的性能而適宜選擇。例如可舉出輥塗機塗裝、簾流塗裝、噴霧塗裝等之形成方法。塗裝含有有機樹脂之塗料後,可藉由熱風乾燥、紅外線加熱、感應加熱等之手段加熱乾燥而形成塗膜。
又,關於前述中間層,亦只要是在熱浸鍍敷鋼板的鍍敷皮膜與前述塗膜之間所形成的層,則沒有特別的限定。
(表面處理鋼板)
本發明之表面處理鋼板具備在鋼板表面上鍍敷皮膜與形成於該鍍敷皮膜上的化成皮膜。
其中,前述鍍敷皮膜之構成係與上述本發明之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之鍍敷皮膜同樣。
本發明之表面處理鋼板係於前述皮膜上形成化成皮膜。
尚且,前述化成皮膜只要形成於表面處理鋼板之至少一面即可,亦可按照用途或所要求的性能,形成於表面處理鋼板之兩面。
而且,於本發明之表面處理鋼板中,前述化成皮膜之特徵為含有由環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、丙烯酸矽樹脂、醇酸樹脂、聚酯樹脂、聚伸烷基樹脂、胺基樹脂及氟樹脂中選出的至少一種樹脂,與由P化合物、Si化合物、Co化合物、Ni化合物、Zn化合物、Al化合物、Mg化合物、V化合物、Mo化合物、Zr化合物、Ti化合物及Ca化合物中選出的至少一種金屬化合物。
藉由在鍍敷皮膜上形成上述化成皮膜,除了可提高與鍍敷皮膜之親和性,可於前述鍍敷皮膜上均勻地形成化成皮膜之外,還可提高化成皮膜之防鏽效果及阻隔效果。結果,可實現本發明之表面處理鋼板之安定的耐蝕性及耐白鏽性。
此處,關於構成前述化成皮膜之樹脂,從耐蝕性提升之觀點來看,使用由環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、丙烯酸矽樹脂、醇酸樹脂、聚酯樹脂、聚伸烷基樹脂、胺基樹脂及氟樹脂中選出的至少一種。基於同樣的觀點,前述樹脂較佳為含有胺基甲酸酯樹脂及丙烯酸樹脂中的至少一種。尚且,構成前述化成皮膜之樹脂亦包含上述樹脂之加成聚合物。
關於前述環氧樹脂,例如可使用將雙酚A型、雙酚F型、酚醛清漆型等之環氧樹脂縮水甘油醚化者、對雙酚A型的環氧樹脂加成環氧丙烷、環氧乙烷或聚烷二醇而縮水甘油醚化者、脂肪族環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、聚醚系環氧樹脂等。
關於前述胺基甲酸酯樹脂,例如可使用油改質聚胺基甲酸酯樹脂、醇酸系聚胺基甲酸酯樹脂、聚酯系聚胺基甲酸酯樹脂、聚醚系聚胺基甲酸酯樹脂、聚碳酸酯系聚胺基甲酸酯樹脂等。
關於前述丙烯酸樹脂,例如可舉出聚丙烯酸及其共聚物、聚丙烯酸酯及其共聚物、聚甲基丙烯酸及其共聚物、聚甲基丙烯酸酯及其共聚物、胺基甲酸酯-丙烯酸共聚物(或胺基甲酸酯改質丙烯酸樹脂)、苯乙烯-丙烯酸共聚物等,再者可使用將該等樹脂以其他醇酸樹脂、環氧樹脂、酚樹脂等改質者。
作為前述丙烯酸矽樹脂,例如可舉出於作為主劑的丙烯酸系共聚物之側鏈或末端具有水解性烷氧基矽烷基之樹脂中添加有硬化劑者等。又,使用丙烯酸矽樹脂時,除了耐蝕性之外,還可期待優異的耐候性。
關於前述醇酸樹脂,例如可舉出油改質醇酸樹脂、松香改質醇酸樹脂、酚改質醇酸樹脂、苯乙烯化醇酸樹脂、矽改質醇酸樹脂、丙烯酸改質醇酸樹脂、無油的醇酸樹脂、高分子量無油的醇酸樹脂等。
前述聚酯樹脂係藉由使多元羧酸與多元醇脫水縮合而形成酯鍵所合成之聚縮合物,作為多元羧酸,例如使用對苯二甲酸、2,6-萘二甲酸等,作為多元醇,例如可舉出乙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,4-環己烷二甲醇等。具體而言,前述聚酯可舉出聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯等。又,亦可使用該等聚酯樹脂經丙烯酸改質者。
關於前述聚伸烷基樹脂,例如可舉出乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-甲基丙烯酸共聚物、羧基改質聚烯烴樹脂等之乙烯系共聚物、乙烯-不飽和羧酸共聚物、乙烯系離子聚合物等,再者可使用將該等樹脂以其他醇酸樹脂、環氧樹脂、酚樹脂等改質者。
前述胺基樹脂係藉由胺或醯胺化合物與醛之反應而生成的熱硬化性樹脂,可舉出三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、硫脲樹脂等,從耐蝕性或耐候性、密著性等之觀點來看,較佳為使用三聚氰胺樹脂。作為三聚氰胺樹脂,並無特別的限定,但例如可舉出丁基化三聚氰胺樹脂、甲基化三聚氰胺樹脂、水性三聚氰胺樹脂等。
關於前述氟樹脂,可舉出氟烯烴系聚合物、或氟烯烴與烷基乙烯醚、環烷基乙烯醚、羧酸改質乙烯酯、羥烷基烯丙基醚、四氟丙基乙烯醚等之共聚物。使用該等氟樹脂時,不僅耐蝕性,而且亦可期待優異的耐候性與優異的疏水性。
再者,構成前述化成皮膜之樹脂,為了提高耐蝕性及加工性,特佳為使用硬化劑。作為硬化劑,可適宜使用脲樹脂(丁基化脲樹脂等)、三聚氰胺樹脂(丁基化三聚氰胺樹脂、丁基醚化三聚氰胺樹脂等)、丁基化脲・三聚氰胺樹脂、苯并胍胺樹脂等之胺基樹脂、封端異氰酸酯、㗁唑啉化合物、酚樹脂等。
又,關於構成前述化成皮膜之金屬化合物,可使用由P化合物、Si化合物、Co化合物、Ni化合物、Zn化合物、Al化合物、Mg化合物、V化合物、Mo化合物、Zr化合物、Ti化合物及Ca化合物中選出的至少一種。基於同樣的觀點,前述金屬化合物較佳為含有P化合物、Si化合物及V化合物中的至少一種。
此處,藉由於前述化成皮膜中含有前述P化合物,可提高耐蝕性及耐汗性。前述P化合物係含有P之化合物,例如可含有由無機磷酸、有機磷酸及此等之鹽中選出的1或2種以上。
作為前述無機磷酸、有機磷酸及此等之鹽,可無特別限定地使用任意的化合物。例如作為前述無機磷酸,較佳為使用由磷酸、磷酸二氫鹽、磷酸氫鹽、磷酸鹽、焦磷酸、焦磷酸鹽、三聚磷酸、三聚磷酸鹽、亞磷酸、亞磷酸鹽、次磷酸、次磷酸鹽中選出的一種以上。又,作為前述有機磷酸,較佳為使用膦酸(膦酸化合物)。再者,作為前述膦酸,較佳為使用由氮基三亞甲基膦酸、膦醯丁烷三羧酸、甲基二膦酸、亞甲基膦酸及亞乙基二膦酸中選出的1種以上。
尚且,前述P化合物為鹽時,該鹽較佳為週期表中第1族~第13族元素之鹽,更佳為金屬鹽,較佳為由鹼金屬鹽及鹼土金屬鹽中選出的一種以上。
將含有上述P化合物之化成處理液塗佈於鍍敷鋼板時,藉由該P化合物之作用而鍍敷皮膜表面被蝕刻,於化成皮膜之前述鍍敷皮膜側形成攝入有鍍敷皮膜的構成元素之Al、Zn、Si及Mg之濃化層。藉由形成前述濃化層,化成皮膜與鍍敷皮膜表面之結合變強固,化成皮膜之密著性係提升。
前述化成處理液中的P化合物之濃度係沒有特別的限定,但可設為0.25質量%~5質量%。前述P化合物之濃度未達0.25質量%時,蝕刻效果不足,與鍍敷界面的密著力降低,不僅平面部耐蝕性降低,而且有缺陷部、切斷端面部、因加工等發生的鍍敷皮膜之損壞部的耐蝕性、耐汗性亦降低之虞。基於同樣的觀點,P化合物之濃度較佳為0.35質量%以上,更佳為0.50質量%以上。另一方面,前述P化合物之濃度超過5質量%時,不僅化成處理液之壽命變短,而且形成皮膜時的外觀亦容易變不均勻,且來自化成皮膜的P之溶出量變多,亦有耐變黑性降低之虞。基於同樣的觀點,P化合物之濃度較佳為3.5質量%以下,更佳為2.5質量%以下。關於前述化成皮膜中的P化合物之含量,例如可藉由將P化合物之濃度為0.25質量%~5質量%的化成處理液進行塗佈、乾燥,而使乾燥後的化成皮膜中的P之附著量成為5~100mg/m
2。
前述Si化合物係與前述樹脂一起形成化成皮膜的骨架之成分,可提高與前述鍍敷皮膜之親和性,可均勻地形成化成皮膜。前述Si化合物係含有Si之化合物,例如較佳為由二氧化矽、三烷氧基矽烷、四烷氧基矽烷及矽烷偶合劑中選出的1種以上。
作為前述二氧化矽,可無特別限定地使用任意者。作為前述二氧化矽,例如可使用濕式二氧化矽及乾式二氧化矽中的至少一種。作為前述濕式二氧化矽之一種的膠體二氧化矽,可適當使用例如日產化學(股)製之Snowtex O、C、N、S、20、OS、OXS、NS等。又,作為前述乾式二氧化矽,可適當使用例如日本Aerosil(股)製之AEROSIL50、130、200、300、380等。
作為前述三烷氧基矽烷,可無特別限定地使用任意者。例如,較佳為使用以通式:R
1Si(OR
2)
3(式中,R
1為氫或碳數1~5的烷基,R
2為相同或不同之碳數1~5的烷基)表示的三烷氧基矽烷。作為如此的三烷氧基矽烷,例如可舉出三甲氧矽烷、三乙氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷等。
作為前述四烷氧基矽烷,可無特別限定地使用任意者。例如,較佳為使用以通式:Si(OR)
4(式中,R為相同或不同之碳數1~5的烷基)表示的四烷氧基矽烷。作為如此的四烷氧基矽烷,例如可舉出四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丙氧基矽烷等。
作為前述矽烷偶合劑,可無特別限定地使用任意者。例如,可舉出γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷及γ-巰基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、γ-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷等。
尚且,藉由在化成皮膜中含有前述Si化合物,使該Si化合物脫水縮合,形成具有遮蔽腐蝕因子的阻隔效果高之矽氧烷鍵的非晶質化成皮膜。又,藉由與上述樹脂結合,形成具有更高阻隔性之化成皮膜。此外,於腐蝕環境下,於缺陷部或因加工等發生的鍍敷皮膜之損壞部形成緻密且安定之腐蝕生成物,藉由與前述鍍敷皮膜之複合效果亦有抑制基底鋼板腐蝕之效果。從形成安定的腐蝕生成物之效果高之觀點來看,作為前述Si化合物,較佳使用膠體二氧化矽及乾式二氧化矽中的至少一種。
用於形成前述化成皮膜之化成處理液中的前述Si化合物濃度為0.2質量%~9.5質量%。若前述化成處理液中的Si化合物濃度為0.2質量%以上,則可得到矽氧烷鍵所致之阻隔效果,結果,除了平面部耐蝕性之外,缺陷部、切斷部及因加工等發生的損傷部之耐蝕性以及耐汗性提升。又,若前述Si化合物之濃度為9.5質量%以下,則可延長化成處理液之壽命。藉由將Si化合物之濃度為0.2質量%~9.5質量%之化成處理液進行塗佈、乾燥,可使乾燥後的化成皮膜中之Si附著量成為2~95mg/m
2。
藉由在前述化成皮膜中含有前述Co化合物及前述Ni化合物,可提高耐變黑性。茲認為此係因為Co及Ni具有於腐蝕環境下使水溶性成分自皮膜溶出變慢之效果。又,相較於Al、Zn、Si及Mg等,前述Co及前述Ni係不易被氧化之元素。因此,藉由使前述Co化合物及前述Ni化合物中的至少一者在前述化成皮膜與前述鍍敷皮膜之界面濃化(形成濃化層),而使濃化層成為對於腐蝕的障壁,結果可改善耐變黑性。
藉由使用含有前述Co化合物之化成處理液,可於前述化成皮膜中含有Co,可被攝入前述濃化層中。作為前述Co化合物,較佳為使用鈷鹽。作為前述鈷鹽,更佳為使用由硫酸鈷、碳酸鈷及氯化鈷中選出的1或2種以上。
又,藉由使用含有前述Ni化合物之化成處理液,可於前述化成皮膜中含有Ni,可被攝入前述濃化層中。作為前述Ni化合物,較佳為使用鎳鹽。作為前述鎳鹽,更佳為使用由硫酸鎳、碳酸鎳及氯化鎳中選出的1或2種以上。
前述化成處理液中的Co化合物及/或Ni化合物之濃度係沒有特別的限定,但合計可設為0.25質量%~5質量%。前述Co化合物及/或Ni化合物之濃度未達0.25質量%時,界面濃化層變得不均勻,不僅平面部的耐蝕性降低,而且有缺陷部、切斷端面部、因加工等造成的鍍敷皮膜損傷部之耐蝕性亦降低之虞。基於同樣的觀點,較佳為0.5質量%以上,更佳為0.75質量%以上。另一方面,前述Co化合物及/或Ni化合物之濃度超過5質量%時,形成皮膜時之外觀容易變不均勻,有耐蝕性降低之虞。基於同樣的觀點,較佳為4.0質量%以下,更佳為3.0質量%以下。藉由將前述Co化合物及/或Ni化合物之濃度合計為0.25質量%~5質量%之化成處理液進行塗佈、乾燥,可使乾燥後之化成皮膜中之Co及Ni的合計附著量成為5~100mg/m
2。
關於前述Al化合物、前述Zn化合物及前述Mg化合物,藉由含於化成處理液中,可在前述化成皮膜之鍍敷皮膜側,形成含有由Al、Zn及Mg中選出的至少一種之濃化層。所形成之濃化層可使耐蝕性提升。
尚且,前述Al化合物、前述Zn化合物及前述Mg化合物,只要是分別含有Al、Zn及Mg之化合物,則沒有特別的限定,但較佳為無機化合物,較佳為鹽、氯化物、氧化物或氫氧化物。
作為前述Al化合物,例如可舉出由硫酸鋁、碳酸鋁、氯化鋁、氧化鋁及氫氧化鋁中選出的一種以上。
作為前述Zn化合物,例如可舉出由硫酸鋅、碳酸鋅、氯化鋅、氧化鋅及氫氧化鋅中選出的一種以上。
作為前述Mg化合物,例如可舉出由硫酸鎂、碳酸鎂、氯化鎂、氧化鎂及氫氧化鎂中選出的一種以上。
用於形成前述化成皮膜之化成處理液中的Al化合物、Zn化合物及/或Mg化合物之濃度合計較佳為0.25質量%~5質量%。若前述合計濃度為0.25質量%以上,則可更有效地形成前述濃化層,結果可進一步提高耐蝕性。另一方面,若前述合劑濃度為5質量%以下,則化成皮膜的外觀變更均勻,平面部或缺陷部、因加工等發生的鍍敷皮膜之損壞部的耐蝕性進一步提升。
藉由於前述化成皮膜中含有前述V化合物,在腐蝕環境下V可適度溶出,與同樣於腐蝕環境下溶出之鍍敷成分的鋅離子等結合,形成緻密的保護皮膜。藉由所形成的保護皮膜,不僅對鋼板之平面部,而且對於缺陷部、因加工發生的鍍敷皮膜之損傷部、從切斷端面進行到平面部的腐蝕等,可進一步提高耐蝕性。
前述V化合物係含有V之化合物,例如可舉出由偏釩酸鈉、硫酸釩及乙醯丙酮釩中選出的1種以上。
用於形成前述化成皮膜之化成處理液中之V化合物較佳為0.05質量%~4質量%。若前述V化合物之濃度為0.05質量%以上,則於腐蝕環境下溶出而容易形成保護皮膜,缺陷部、切斷端面部、因加工發生的鍍敷皮膜損傷部之耐蝕性提升。另一方面,若前述V化合物之濃度超過4質量%,則形成化成皮膜時之外觀容易變不均勻,耐變黑性亦降低。
藉由於前述化成皮膜中含有前述Mo化合物,可提高表面處理鋼板之耐變黑性。前述Mo化合物係含有Mo的化合物,可藉由於化成處理液中添加鉬酸及鉬酸鹽之一者或兩者而獲得。
再者,作為前述鉬酸鹽,例如可舉出由鉬酸鈉、鉬酸鉀、鉬酸鎂及鉬酸鋅中選出的1種以上。
用於形成前述化成皮膜之化成處理液中的Mo化合物之濃度較佳為0.01質量%~3質量%。若前述Mo化合物之濃度若為0.01質量%以上,則進一步抑制氧缺乏型氧化鋅之生成,可更提高耐變黑性。另一方面,若前述Mo化合物之濃度為3質量%以下,則除了化成處理液之壽命進一步延長之外,還可更提高耐蝕性。
藉由於前述化成皮膜中含有前述Zr化合物及前述Ti化合物,可防止化成皮膜成為多孔,可使皮膜緻密化。結果,腐蝕因子不易穿透前述化成皮膜,可提高耐蝕性。
前述Zr化合物係含有Zr之化合物,例如可使用由乙酸鋯、硫酸鋯、碳酸鋯鉀、碳酸鋯鈉及碳酸鋯銨中選出的一種以上。於該等之中,有機鈦螯合化合物由於在將化成處理液乾燥而形成皮膜時,使皮膜緻密化,可得到更優異的耐蝕性,因此較宜。
前述Ti化合物係含有Ti之化合物,例如可使用由硫酸鈦、氯化鈦、氫氧化鈦、乙醯丙酮鈦、辛二醇鈦及乙基乙醯丙酮鈦中選出的一種以上。
用於形成前述化成皮膜之化成處理液中的Zr化合物及/或Ti化合物之濃度,合計較佳為0.2質量%~20質量%。若前述Zr化合物及/或Ti化合物之合計濃度為0.2質量%以上,則抑制腐蝕因子穿透的效果提高,不僅平面部耐蝕性,而且可更提高缺陷部、切斷端面部、因加工造成的鍍敷皮膜損傷部之耐蝕性。另一方面,若前述Zr化合物及/或Ti化合物之合計濃度為20質量%以下,則可更延長前述化成處理液之壽命。
藉由在前述化成皮膜中含有前述Ca化合物,可展現使腐蝕速度降低之效果。
前述Ca化合物係含有Ca之化合物,例如可舉出Ca之氧化物、Ca之硝酸鹽、Ca之硫酸鹽、含有Ca之金屬間化合物等。更具體而言,作為前述Ca化合物,可舉出CaO、CaCO
3、Ca(OH)
2、Ca(NO
3)
2・4H
2O、CaSO
4・2H
2O等。前述化成皮膜中的前述Ca化合物之含量係沒有特別的限定。
又,前述化成皮膜係視需要可含有塗料領域所通常使用之眾所周知的各種成分。例如,可舉出調平劑、消泡劑等之各種表面調整劑、分散劑、抗沉降劑、紫外線吸收劑、光安定劑、矽烷偶合劑、鈦酸鹽偶合劑等之各種添加劑、著色顏料、體質顏料、光亮材等之各種顏料、硬化觸媒、有機溶劑、潤滑劑等。
再者,於本發明之表面處理鋼板中,前述化成皮膜較佳為不含6價鉻、3價鉻、氟等之有害成分。在用於形成前述化成皮膜之化成處理液中,由於不含該等有害成分,故安全性高或對環境負荷小。
又,前述化成皮膜之附著量係沒有特別的限定。例如,從更確實地確保耐蝕性,同時防止化成皮膜的剝離等之觀點來看,較佳為將前述化成皮膜之附著量設為0.1~3.0g/m
2,更佳設為0.5~2.5g/m
2。藉由將前述化成皮膜之附著量設為0.1g/m
2以上,可更確實地確保耐蝕性,藉由將前述化成皮膜之附著量設為3.0g/m
2以下,可防止化成皮膜之破裂或剝離。
前述化成皮膜之附著量,只要藉由如以螢光X射線分析皮膜而預先測定皮膜中之含量已知的元素之存在量之方法,從既有方法中適當地選擇之方法求出即可。
尚且,用於形成前述化成皮膜之方法係沒有特別的限定,可按照所要求的性能或製造設備等而適宜選擇。例如,可於前述鍍敷皮膜上,藉由輥塗機等連續地塗佈化成處理液,其後,使用熱風或感應加熱等,以60~200℃左右之到達板溫(峰值金屬溫度,Peak Metal Temperature:PMT)使其乾燥而形成。於前述化成處理液之塗佈中,除了輥塗機以外,還可適宜採用無空氣噴霧、靜電噴霧、簾流塗佈器等之眾所周知的手法。再者,若前述化成皮膜為包含前述樹脂及前述金屬化合物者,則可為單層膜或多層膜之任一者,並沒有特別的限定。
又,本發明之表面處理鋼板係視需要亦可在前述化成皮膜上形成塗膜。
(表面處理鋼板之製造方法)
本發明之表面處理鋼板之製造方法係具備鍍敷皮膜與形成在該鍍敷皮膜上之化成皮膜的表面處理鋼板之製造方法。
而且,於本發明之製造方法中,前述化成皮膜含有由環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、丙烯酸矽樹脂、醇酸樹脂、聚酯樹脂、聚伸烷基樹脂、胺基樹脂及氟樹脂中選出的至少一種樹脂,與由P化合物、Si化合物、Co化合物、Ni化合物、Zn化合物、Al化合物、Mg化合物、V化合物、Mo化合物、Zr化合物、Ti化合物及Ca化合物中選出的至少一種金屬化合物,
前述鍍敷皮膜之形成係具有使基底鋼板浸漬於鍍敷浴中之熱浸鍍敷處理步驟,該鍍敷浴具有下述組成:含有Al:45~65質量%、Si:1.0~4.0質量%及Mg:1.0~10.0質量%,且剩餘部分由Zn及不可避免雜質所成,將前述鍍敷浴之不可避免雜質中的Co含量控制在0.080質量%以下。
前述鍍敷皮膜中含有的Co係如上述,由於有使表面處理鋼板的耐蝕性變差之情況,故在適當地控制鍍敷浴中的Al、Zn、Si及Mg之含量後,進一步抑制作為不可避免雜質的Co含量,而可抑制耐蝕性之變差。
尚且,前述熱浸鍍敷處理步驟之條件係與本發明之表面處理鋼板的鍍敷皮膜中所說明的內容同樣。
又,前述化成皮膜之構成亦與在本發明之表面處理鋼板的化成皮膜所說明的內容同樣。
(塗裝鋼板)
本發明之塗裝鋼板係在鍍敷皮膜上,直接或隔著化成皮膜形成有塗膜之塗裝鋼板。
其中,前述鍍敷皮膜之構成係與上述本發明之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板的鍍敷皮膜同樣。
本發明之塗裝鋼板係可在前述鍍敷皮膜上形成化成皮膜。
尚且,前述化成皮膜只要形成在塗裝鋼板之至少一面即可,亦可按照用途或所要求的性能,形成在塗裝鋼板之兩面。
・化成皮膜
而且,於本發明之塗裝鋼板中,前述化成皮膜之特徵為含有樹脂成分與無機化合物,該樹脂成分含有合計30~50質量%的(a):具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂及(b):具有雙酚骨架的環氧樹脂,該(a)與該(b)之含有比率((a):(b))以質量比計為3:97~60:40之範圍,該無機化合物包含2~10質量%的釩化合物、40~60質量%的鋯化合物及0.5~5質量%的氟化合物。
藉由將上述化成皮膜形成於鍍敷皮膜上,可一邊提高化成皮膜的強度及密著性,一邊亦提高耐蝕性。
此處,關於構成前述化成皮膜的樹脂成分,含有(a):具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂及(b):具有雙酚骨架的環氧樹脂。
關於前述(a)具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂,可舉出對於聚酯多元醇與具有兩個以上異氰酸酯基的二異氰酸酯或聚異氰酸酯之反應物,共聚合二羥甲基烷酸而得之樹脂。又,藉由眾所周知的方法使其分散於水等之液體中,可得到化成處理液。
作為前述聚酯多元醇,可舉出從二醇成分與羥基羧酸之酯形成衍生物等之酸成分,藉由脫水縮合反應而得之聚酯,藉由ε-己內酯等之環狀酯化合物的開環聚合反應而得之聚酯及此等之共聚合聚酯。
作為前述聚異氰酸酯,可舉出芳香聚異氰酸酯、脂肪族聚異氰酸酯、脂環式聚異氰酸酯等。作為前述芳香族聚異氰酸酯,例如可舉出2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、間二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、2,4-二苯基甲烷二異氰酸酯、2,2-二苯基甲烷二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基聚異氰酸酯、萘二異氰酸酯及此等之衍生物(例如藉由與多元醇類之反應而得的預聚物類、二苯基甲烷二異氰酸酯之碳二亞胺化合物等之改質聚異氰酸酯類等)等。
尚且,使前述聚酯多元醇與前述二異氰酸酯或聚異氰酸酯反應而合成胺基甲酸酯時,藉由例如將二羥甲基烷酸共聚合,自乳化而水溶化(水分散),可得到前述(a)具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂。於該情況下,作為二羥甲基烷酸,例如可舉出碳數2~6的二羥甲基烷酸,更具體而言,可舉出二羥甲基乙酸、二羥甲基丙酸、二羥甲基丁酸、二羥甲基庚酸及二羥甲基己酸等。
又,關於前述(b)具有雙酚骨架的環氧樹脂,可使用眾所周知的環氧樹脂。例如,可舉出雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙酚AD型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂等。該等環氧樹脂可藉由使雙酚A、雙酚F、雙酚AD、雙酚S等之雙酚化合物與環氧氯丙烷在鹼觸媒存在下反應而獲得。其中,成分[A]較佳包含雙酚A型環氧樹脂或雙酚F型環氧樹脂,更佳為包含雙酚A型環氧樹脂。該(b)具有雙酚骨架的環氧樹脂可藉由眾所周知的方法分散於水等之液體中而得到化成處理液。
前述樹脂成分係作為前述化成皮膜之黏結劑發揮作用,構成黏結劑之前述(a)具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂,由於具有可撓性,故於接受加工時可達成使化成皮膜不易破壞(剝離)之效果,前述(b)具有雙酚骨架的環氧樹脂可達成提高與基底的鋅系塗敷鋼板及上層的底漆塗膜之密著性之效果。
前述樹脂成分係於前述化成皮膜中被含有合計30~50質量%。前述樹脂成分之含量未達30質量%時,化成皮膜之黏結劑效果降低,超過50質量%時,下述所示之無機成分所致的功能例如抑制劑作用係降低。基於同樣的觀點,前述化成皮膜中的前述樹脂成分之含量較佳為35~45質量%。
再者,前述樹脂成分必須是前述(a)具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂與前述(b)具有雙酚骨架的環氧樹脂之含有比率((a):(b))以質量比計為3:97~60:40之範圍。此係因為前述(a):(b)為上述範圍外時,伴隨作為化成處理皮膜的可撓性降低或密著性降低,而無法得到充分的耐蝕性。基於同樣的觀點,前述(a):(b)較佳為10:90~55:45。
尚且,關於前述樹脂成分,按照所要求的性能,可包含上述(a)具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂及(b)具有雙酚骨架的環氧樹脂以外的樹脂(其他樹脂成分)。關於前述其他樹脂成分,並無特別的限定,例如可使用由丙烯酸樹脂、丙烯酸矽樹脂、醇酸樹脂、聚酯樹脂、聚伸烷基樹脂、胺基樹脂及氟樹脂中選出的至少一種或組合2種以上。
前述樹脂成分含有其他樹脂時,前述(a)具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂及前述(b)具有雙酚骨架的環氧樹脂之合計含量較佳為50質量%以上,更佳為75質量%以上。此係因為可更確實地得到作為化成處理皮膜之可撓性降低或密著性。
又,前述化成皮膜含有2~10質量%的釩化合物、40~60質量%的鋯化合物及0.5~5質量%的氟化合物作為無機化合物。
藉由包含該等化合物,可提高化成皮膜之耐蝕性。
前述釩化合物係添加於化成處理液中作為防鏽劑(抑制劑)發揮作用。藉由於前述化成皮膜中含有前述釩化合物,於腐蝕環境下釩化合物可適度溶出,而與同樣於腐蝕環境下溶出之鍍敷成分的鋅離子等結合,形成緻密的保護皮膜。藉由所形成之保護皮膜,不僅對鋼板之平面部,而且對於缺陷部、因加工發生的鍍敷皮膜之損壞部、從切斷端面進行到平面部的腐蝕等,可進一步提高耐蝕性。
關於前述釩化合物,例如可舉出五氧化二釩、偏釩酸、偏釩酸銨、氧基三氯化釩、三氧化二釩、二氧化釩、釩酸鎂、乙醯丙酮氧釩、乙醯丙酮釩等。特別地,於該等之中,希望使用4價釩化合物或藉由還原或氧化所得之4價釩化合物。
又,前述化成處理皮膜中的釩化合物之含量為2~10質量%。前述化成處理皮膜中的釩化合物之含量未達2質量%時,由於抑制劑效果不充分,故導致耐蝕性降低,另一方面,若前述釩化合物之含量超過10質量%,則導致化成處理皮膜之耐濕性降低。
於前述化成皮膜中含有鋯化合物,藉由與鍍敷金屬反應及與樹脂成分共存,可期待作為化成處理皮膜之強度提升及耐蝕性提升,再者鋯化合物本身有助於形成緻密化成處理皮膜,由於富含被覆性,故可期待阻隔效果。
作為前述鋯化合物,可舉出硫酸鋯、碳酸鋯、硝酸鋯、乳酸鋯、乙酸鋯、氯化鋯等之中和鹽等。
又,前述化成處理皮膜中的鋯化合物之含量為40~60質量%。此係因為前述化成處理皮膜中的鋯化合物之含量未達40質量%時,導致作為化成處理皮膜之強度或耐蝕性降低,若前述鋯化合物之含量超過60質量%,則化成處理皮膜脆化,於接受嚴苛加工時,發生化成處理皮膜之破壞或剝離。
前述氟化合物係被含於前述化成皮膜中,作為與鍍敷皮膜的密著性賦予劑發揮作用。結果,可提高前述化成皮膜之耐蝕性。
作為前述氟化合物,例如可使用銨鹽、鈉鹽、鉀鹽等之氟化物鹽,或氟化亞鐵、氟化鐵等之氟化合物。於該等之中,較佳為使用氟化銨,或氟化鈉及氟化鉀等之氟化物鹽。
又,前述化成處理皮膜中的氟化合物之含量為0.5~5質量%。此係因為前述化成處理皮膜中的氟化合物之含量未達0.5質量%時,無法充分得到加工部之密著性,若前述氟化合物之含量超過5質量%,則化成處理皮膜之耐濕性降低。
又,前述化成皮膜之附著量係沒有特別的限定。例如,從更確實地確保耐蝕性,同時提高化成皮膜的密著性等之觀點來看,較佳將前述化成皮膜之附著量設為0.025~0.5g/m
2。藉由將前述化成皮膜之附著量設為0.025g/m
2以上,可更確實地確保耐蝕性,藉由將前述化成皮膜之附著量設為0.5g/m
2以下,可抑制化成皮膜之剝離。
前述化成皮膜之附著量,只要藉由如以螢光X射線分析皮膜而預先測定皮膜中之含量已知的元素之存在量之方法,從既有方法中適當地選擇之方法求出即可。
尚且,用於形成前述化成皮膜之方法係沒有特別的限定,可按照所要求的性能或製造設備等而適宜選擇。例如,可於前述鍍敷皮膜上,藉由輥塗機等連續地塗佈化成處理液,其後,使用熱風或感應加熱等,以60~200℃左右之到達板溫(Peak Metal Temperature:PMT)使其乾燥而形成。於前述化成處理液之塗佈中,除了輥塗機以外,還可適宜採用無空氣噴霧、靜電噴霧、簾流塗佈器等之眾所周知的手法。再者,若前述化成皮膜為包含前述樹脂及前述金屬化合物者,則可為單層膜或多層膜之任一者,並沒有特別的限定。
・塗膜
本發明之塗裝鋼板係如上述,在鍍敷皮膜上,直接或隔著化成皮膜形成塗膜,該塗膜至少具有底漆塗膜。
而且,本發明中前述底漆塗膜含有具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂與包含釩化合物、磷酸化合物及氧化鎂的無機化合物。
前述底漆塗膜係藉由含有前述具有胺基甲酸酯鍵之聚酯樹脂與前述無機化合物,而可一邊提高塗膜之密著性,一邊提高耐蝕性。
前述底漆塗膜係含有具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂作為主成分。前述具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂,由於兼備可撓性與強度,故得到在接受加工時底漆塗膜不易發生裂痕等之效果,由於與含有胺基甲酸酯樹脂的化成處理皮膜之親和性高,故特別有助於提高加工部之耐蝕性。
尚且,此處所謂「主成分」,就是意指底漆塗膜中的各成分中含量最多之成分。
作為前述具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂,可使用藉由聚酯多元醇與具有2個以上異氰酸酯基之二異氰酸酯或聚異氰酸酯反應而得之樹脂等眾所周知的樹脂。又,亦可使用對使前述聚酯多元醇與前述二異氰酸酯或前述聚異氰酸酯在羥基過量之狀態下反應而成之樹脂(胺基甲酸酯改質聚酯樹脂),以封端化聚異氰酸酯使其硬化而成之樹脂。
尚且,前述聚酯多元醇係可藉由利用多元醇成分與多元酸成分之脫水縮合反應的眾所周知之方法獲得。
作為前述多元醇,可舉出二醇及3價以上的多元醇。前述二醇例如可舉出乙二醇、丙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、二丙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、新戊二醇、己二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇、甲基丙二醇,環己烷二甲醇、3,3-二乙基-1,5-戊二醇等。又,前述3價以上的多元醇例如可舉出甘油、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇等。該等多元醇可單獨使用,亦可組合2種以上使用。
前述多元酸通常使用多元羧酸,但視需要可併用1價的脂肪酸等。作為前述多元羧酸,例如可舉出鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸、4-甲基六氫鄰苯二甲酸、雙環[2,2,1]庚烷-2,3-二羧酸、偏苯三甲酸、己二酸、癸二酸、琥珀酸、壬二酸、富馬酸、馬來酸、伊康酸、均苯四甲酸、二聚酸等及此等之酸酐,以及1,4-環己烷二羧酸、間苯二甲酸、四氫間苯二甲酸、六氫間苯二甲酸、六氫對苯二甲酸等。該等多元酸可單獨使用,亦可組合2種以上使用。
關於前述聚異氰酸酯,例如可舉出六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、二聚酸二異氰酸酯等之脂肪族二異氰酸酯,及苯二甲基二異氰酸酯(XDI)、間苯二甲基二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯(TDI)、4,4-二苯基甲烷二異氰酸酯(MDI)等之芳香族二異氰酸酯,更且異佛酮二異氰酸酯、氫化XDI、氫化TDI、氫化MDI等之環狀脂肪族二異氰酸酯及此等之加成體、縮二脲體,異三聚氰酸酯體等。該等聚異氰酸酯可單獨使用,亦可組合2種以上使用。
又,前述具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂之羥值係沒有特別的限定,但從耐溶劑性、加工性等之觀點來看,較佳為5~120mgKOH/g,更佳為7~100mgKOH/g,尤佳為10~80mgKOH/g。
再者,前述具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂之數量平均分子量,從耐溶劑性、加工性等之觀點來看,較佳為500~15,000,更佳為700~12,000,尤佳為800~10,000。
前述底漆塗膜中,前述具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂之含量較佳為40~88質量%。前述具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂之含量未達40質量%時,有作為底漆塗膜之黏結劑功能降低之虞,另一方面,若前述具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂之含量超過88質量%,則有下述所示無機物之功能例如抑制劑作用降低之虞。
前述無機化合物之一的釩化合物係作為抑制劑發揮作用。作為前述釩化合物,例如可舉出五氧化二釩、偏釩酸、偏釩酸銨、氧基三氯化釩、三氧化二釩、二氧化釩、釩酸鎂、乙醯丙酮氧釩、乙醯丙酮釩等。特別地,於該等之中,希望使用4價釩化合物或藉由還原或氧化所得之4價釩化合物。
添加於前述底漆塗膜中的釩化合物係可與添加至前述化成處理皮膜的釩化合物同種,也可為異種。釩酸化合物被認為係因自外部侵入的水分而緩緩溶出之釩酸離子與鋅系鋼板表面之離子反應,形成密著性良好之鈍態皮膜,保護金屬露出部而出現防鏽作用。
前述底漆塗膜中的前述釩化合物含量係沒有特別的限定,但從兼顧耐蝕性與耐濕性之觀點來看,較佳為4~20質量%。前述釩化合物之含量未達4質量%時,有抑制劑效果降低,導致耐蝕性降低之虞,若前述釩化合物之含量超過20質量%,則有導致底漆塗膜的耐濕性降低之虞。
前述無機化合物之一的磷酸化合物,亦作為抑制劑發揮作用。作為前述磷酸化合物,例如可使用磷酸、磷酸之銨鹽、磷酸之鹼金屬鹽、磷酸之鹼土類金屬鹽等。特別地,可較宜使用磷酸鈣等之磷酸的鹼金屬鹽。
前述底漆塗膜中的前述磷酸化合物之含量係沒有特別的限定,但從兼顧耐蝕性及耐濕性之觀點,較佳為4~20質量%。前述磷酸化合物之含量未達4質量%時,有抑制劑效果降低而導致耐蝕性降低之虞,若前述磷酸化合物之含量超過20質量%,則有導致底漆塗膜的耐濕性降低之虞。
前述無機化合物之一的氧化鎂係藉由初期腐蝕生成含有Mg的生成物,作為難溶性鎂鹽,而謀求安定化,具有使耐蝕性提高之效果。
前述底漆塗膜中的前述氧化鎂之含量係沒有特別的限定,但從兼顧耐蝕性與加工部耐蝕性之觀點來看,較佳為4~20質量%。前述氧化鎂之含量未達4質量%時,有上述效果降低而導致耐蝕性降低之虞,若前述氧化鎂之含量超過20質量%,則有因前述底漆塗膜之可撓性降低,而使加工部的耐蝕性降低之虞。
又,前述底漆塗膜亦可含有上述具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂及無機化合物以外之成分。
例如,可舉出在形成底漆塗膜時所用的交聯劑。前述交聯劑係與前述具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂反應而形成交聯塗膜者,可舉出例如㗁唑啉化合物、環氧化合物、三聚氰胺化合物、異氰酸酯系化合物、碳二亞胺系化合物、矽烷偶合化合物等,亦可併用2種以上的交聯劑。其中,從所得之塗裝鋼板的加工部耐蝕性之觀點來看,較佳可使用封端化聚異氰酸酯化合物等。作為該封端化聚異氰酸酯,可舉出例如將聚異氰酸酯化合物的異氰酸酯基藉由例如丁醇等之醇類、甲基乙基酮肟等之肟類、ε-己內醯胺類等之內醯胺類、乙醯乙酸二酯等之二酮類、咪唑、2-乙基咪唑等之咪唑類或間甲酚等之酚類等予以封端者。
再者,前述底漆塗膜係視需要亦可含有塗料領域所通常使用之眾所周知的各種成分。具體而言,例如可舉出調平劑、消泡劑等之各種表面調整劑、分散劑、抗沉降劑、紫外線吸收劑、光安定劑、矽烷偶合劑、鈦酸鹽偶合劑等之各種添加劑、著色顏料、體質顏料等之各種顏料、光亮材、硬化觸媒、有機溶劑等。
前述底漆塗膜之厚度較佳為1.5μm以上。此係因為藉由將前述底漆塗膜之厚度設為1.5μm以上,可更確實地得到耐蝕性提高效果,或與化成處理皮膜或底漆塗膜上所形成的上塗塗膜之密著性提升效果。
關於形成前述底漆塗膜之方法,並無特別的限定。又,關於構成前述底漆塗膜的塗料組成物之塗裝方法,較佳可用輥塗機塗裝、簾流塗裝等之方法塗佈塗料組成物。於塗裝前述塗料組成物後,藉由熱風加熱、紅外線加熱、感應加熱等之加熱手段進行烘烤,可得到底漆塗膜。前述烘烤處理通常可將最高到達板溫設為180~270℃左右,在該溫度範圍進行約30秒~3分鐘。
又,關於構成本發明之塗裝鋼板的塗膜,較佳於前述底漆塗膜上,進一步形成上塗塗膜。
前述上塗塗膜係除了可對塗裝鋼板賦予色彩及光澤、表面狀態等之美觀之外,還可提高加工性、耐候性、耐化學性、耐污染性、耐水性、耐蝕性等之各種性能。
前述上塗塗膜之構成係沒有特別的限定,可按照所要求的性能而適宜選擇材料或厚度等。
例如,可使用聚酯樹脂系塗料、矽聚酯樹脂系塗料、聚胺基甲酸酯樹脂系塗料、丙烯酸樹脂系塗料、氟樹脂系塗料等來形成前述上塗塗膜。
再者,前述上塗塗膜可適量含有氧化鈦、氧化鐵紅、雲母、碳黑或其他各種著色顏料;鋁粉或雲母等之金屬顏料;由碳酸鹽或硫酸鹽等所成之體質顏料;二氧化矽微粒子、尼龍樹脂珠、丙烯酸樹脂珠等之各種微粒子;對甲苯磺酸、二月桂酸二丁錫等之硬化觸媒;蠟;其他添加劑。
又,從兼顧外觀性及加工性之觀點來看,前述上塗塗膜之厚度較佳為5~30μm。前述上塗塗膜之厚度為5μm以上時,可更確實地使色調外觀安定,前述上塗塗膜之厚度為30μm以下時,可更確實地抑制加工性降低(上塗塗膜的裂痕發生)。
用於形成前述上塗塗膜的塗料組成物之塗裝方法係沒有特別的限定。例如,可用輥塗機塗裝、簾流塗裝等之方法來塗佈前述塗料組成物。於塗裝前述塗料組成物後,藉由熱風加熱、紅外線加熱,感應加熱等之加熱手段進行烘烤,可形成上塗塗膜。前述烘烤處理通常可將最高到達板溫設為180~270℃左右,在該溫度範圍進行約30秒~3分鐘。
(塗裝鋼板之製造方法)
本發明之塗裝鋼板之製造方法係在鍍敷皮膜上,直接或隔著化成皮膜形成有塗膜的塗裝鋼板之製造方法。
而且,於本發明之製造方法中,前述化成皮膜含有樹脂成分與無機化合物,該樹脂成分含有合計30~50質量%的(a):具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂及(b):具有雙酚骨架的環氧樹脂,該(a)與該(b)之含有比率((a):(b))以質量比計為3:97~60:40之範圍,該無機化合物包含2~10質量%的釩化合物、40~60質量%的鋯化合物及0.5~5質量%的氟化合物,
前述塗膜至少具有底漆塗膜,該底漆塗膜含有具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂與包含釩化合物、磷酸化合物及氧化鎂之無機化合物,
前述鍍敷皮膜之形成係具有使基底鋼板浸漬於鍍敷浴中之熱浸鍍敷處理步驟,該鍍敷浴具有下述組成:含有Al:45~65質量%、Si:1.0~4.0質量%及Mg:1.0~10.0質量%,且剩餘部分由Zn及不可避免雜質所成,將前述鍍敷浴之不可避免雜質中的Co含量控制在0.080質量%以下。
前述鍍敷皮膜中含有的Co係如上述,由於有使塗裝鋼板的耐蝕性變差之情況,故在適當地控制鍍敷浴中的Al、Zn、Si及Mg之含量後,進一步抑制作為不可避免雜質的Co含量,而可抑制耐蝕性之變差。
尚且,前述熱浸鍍敷處理步驟之條件係與本發明之塗裝鋼板的鍍敷皮膜中所說明的內容同樣。
又,前述化成皮膜及前述塗膜之構成亦與在本發明之塗裝鋼板的化成皮膜所說明的內容同樣。
實施例
[實施例1:樣品1~55]
使用以常見方法製造之板厚0.8mm的冷軋鋼板作為基底鋼板,以(股)RHESCA製的熱浸鍍敷模擬器,進行退火處理、鍍敷處理,製作表1所示條件之熱浸鍍敷鋼板的樣品1~55。
再者,關於熱浸鍍敷鋼板製造所用之鍍敷浴之組成,以成為表1所示的各樣品之鍍敷皮膜組成之方式,使鍍敷浴之組成在Al:5~75質量%、Si:0.0~4.5質量%、Mg:0~10質量%、Co:0.000~0.120質量%之範圍內進行各種變化。又,鍍敷浴之浴溫係在Al:5質量%之情況設為450℃,在Al:15質量%之情況設為480℃,在Al:30~60質量%之情況設為590℃,在Al:超過60質量%之情況設為630℃,基底鋼板之鍍敷浸入板溫係控制成與鍍敷浴溫同溫度。再者,於Al:30~60質量%之情況,在板溫於3秒內冷卻至520~500℃的溫度範圍內之的條件下實施鍍敷處理。
又,鍍敷皮膜之附著量係控制成:樣品1~52中每一面85±5g/m
2,樣品53中每一面50±5g/m
2,樣品54中每一面100±5g/m
2,樣品55中每一面125±5g/m
2。
(評價)
對於如上述所得之熱浸鍍敷鋼板之各樣品,進行以下評價。表1中顯示評價結果。
(1)鍍敷皮膜(組成、附著量、X射線繞射強度)
對於鍍敷後的各樣品,沖壓100mmφ,以膠帶密封非測定面後,以JIS H 0401:2013所示之鹽酸與六亞甲基四胺之混合液溶解剝離鍍敷層,由剝離前後之樣品的質量差,算出鍍敷皮膜之附著量。表1中顯示算出的結果、所得的鍍敷皮膜之附著量。
然後,過濾剝離液,分別分析濾液及固體成分。具體而言,藉由ICP發光分光分析濾液,定量不溶Si以外之成分。
又,固體成分係於650℃之加熱爐內乾燥、灰化後,添加碳酸鈉與四硼酸鈉使其熔解。再者,以鹽酸溶解熔解物,藉由ICP發光分光分析溶解液,定量不溶Si。鍍敷皮膜中的Si濃度係將經由濾液分析所得之可溶Si濃度與經由固體成分分析所得之不溶Si濃度相加者。表1中顯示算出的結果、所得的鍍敷皮膜之組成。
此外,對於各樣品,剪切成100mm×100mm的尺寸後,機械地削出評價對象面之鍍敷皮膜直到基底鋼板露出,將所得之粉末充分混合後,取出0.3g,使用X射線繞射裝置(股份有限公司RIGAKU製「SmartLab」),在使用X射線:Cu-Kα(波長=1.54178Å),Kβ射線之去除:Ni濾波器,管電壓:40kV,管電流:30mA,掃描速度:4°/min,取樣間隔:0.020°,發散狹縫:2/3°,平行狹縫(Soller slit):5°,檢測器:高速一維檢測器(D/teX Ultra)之條件下,進行上述粉末之定性分析。將從各波峰強度減去基底強度後之強度作為各繞射強度(cps),測定Si的(111)面(面間隔d=0.3135nm)之繞射強度與Mg
2Si的(111)面(面間隔d=0.3668nm)之繞射強度。表1中顯示測定結果。
(2)耐蝕性評價
對於所得的熱浸鍍敷鋼板之各樣品,剪切成120mm×120mm的尺寸後,將與評價對象面之各邊緣距離10mm之範圍及樣品之端面與評價非對象面以膠帶密封,將評價對象面以100mm×100mm之尺寸露出之狀態者,使用作為評價用樣品。又,該評價用樣品係相同者製作3個。
對於如上述所製作的3個評價用樣品,皆以圖1所示之循環來實施腐蝕促進試驗。腐蝕促進試驗係從濕潤開始,進行至300個循環後,以JIS Z 2383及ISO8407中記載之方法測定各樣品之腐蝕減量,用下述基準評價。表1中顯示評價結果。
◎:3個樣品之腐蝕減量皆為45g/m
2以下
○:3個樣品之腐蝕減量皆為70g/m
2以下
×:1個以上的樣品之腐蝕減量超過70g/m
2
(3)表面外觀性
對於所得的熱浸鍍敷鋼板之各樣品,藉由目視觀察鍍敷皮膜之表面。
而且,依照以下基準評價觀察結果。表1中顯示評價結果。
◎:全然未觀察到皺紋狀缺陷
○:僅於距邊緣50mm之範圍內觀察到皺紋狀缺陷
×:於距邊緣50mm之範圍以外觀察到皺紋狀缺陷
(4)加工性
對於所得的熱浸鍍敷鋼板之各樣品,剪切成70mm×150mm的尺寸後,於內側夾入8片相同板厚的板,施予180°彎曲加工(8T彎曲)。彎折後於彎曲部之外表面強力貼合Cellotape(註冊商標:透明膠帶)後撕開。目視觀察彎曲部外面的鍍敷皮膜之表面狀態及所使用的膠帶之表面有無鍍敷皮膜附著(剝離),用下述基準評價加工性。表1中顯示評價結果。
〇:於鍍敷皮膜上都看不到裂痕與剝離
△:於鍍敷皮膜上有裂痕,但看不到剝離
×:於鍍敷皮膜上同時看到裂痕與剝離
(5)浴安定性
於熱浸鍍敷鋼板的各樣品之製造時,目視確認鍍敷浴的浴面之狀態,與製造熱浸鍍Al-Zn系鋼板時使用的鍍敷浴之浴面(無含Mg氧化物之浴面)進行比較。評價係用以下基準進行,表1中顯示評價結果。
〇:與熱浸Al-Zn系鍍敷浴(55質量%Al-剩餘部分Zn-1.6質量%浴)相同程度
△:相較於與熱浸Al-Zn系鍍敷浴(55質量%Al-剩餘部分Zn-1.6質量%浴),白色氧化物多
×:於鍍敷浴中看到黑色氧化物之形成
由表1之結果可知,相較於比較例之各樣品,本發明例之各樣品係耐蝕性、表面外觀性、加工性及浴安定性皆平衡佳地優異。
[實施例2:樣品1~134]
(1)使用以常見方法製造之板厚0.8mm的冷軋鋼板作為基底鋼板,以(股)RHESCA製的熱浸鍍敷模擬器,進行退火處理、鍍敷處理,製作表3及3所示之鍍敷皮膜條件的熱浸鍍敷鋼板之樣品。
再者,關於熱浸鍍敷鋼板製造所用之鍍敷浴之組成,以成為表3及3所示的各樣品之鍍敷皮膜組成之方式,使鍍敷浴之組成在Al:5~75質量%、Si:0.0~4.5質量%、Mg:0~10質量%、Co:0.000~0.120質量%之範圍內進行各種變化。又,鍍敷浴之浴溫係在Al:5質量%之情況設為450℃,在Al:15質量%之情況設為480℃,在Al:30~60質量%之情況設為590℃,在Al:超過60質量%之情況設為630℃,基底鋼板之鍍敷浸入板溫係控制成與鍍敷浴溫同溫度。再者,於Al:30~60質量%之情況,在板溫於3秒內冷卻至520~500℃的溫度範圍內之的條件下實施鍍敷處理。
又,鍍敷皮膜之附著量係控制成:樣品1~104、117~134中每一面85±5g/m
2,樣品105~106中每一面50±5g/m
2,樣品107~108中每一面100±5g/m
2,樣品109~110中每一面125g/m
2±5g/m
2,樣品111~116中每一面70±5g/m
2。
(2)其後,於所製作之熱浸鍍敷鋼板的各樣品之鍍敷皮膜上,以棒塗機塗佈化成處理液,以熱風爐乾燥(升溫速度:60℃/s,PMT:120℃)而形成化成皮膜,製作表3及3所示之表面處理鋼板的各樣品。
尚且,化成處理液係調製將各成分溶解於作為溶劑的水中而成之表面處理液A~F。表面處理液所含有的各成分(樹脂、金屬化合物)之種類係如以下。
(樹脂)
胺基甲酸酯樹脂:Superflex 130、Superflex 126(第一工業製藥股份有限公司)
丙烯酸樹脂:Boncoat EC-740EF(DIC股份有限公司)
(金屬化合物)
P化合物:三聚磷酸二氫鋁
Si化合物:二氧化矽
V化合物:偏釩酸鈉
Mo化合物:鉬酸
Zr化合物:碳酸鋯鉀
表2中顯示所調製的化成處理液A~F之組成及所形成的化成皮膜之附著量。又,本說明書之表2中的各成分之濃度為固體成分濃度(質量%)。
(評價)
對於如上述所得之熱浸鍍敷鋼板及表面處理鋼板之各樣品,進行以下評價。表3及表4中顯示評價結果。
(1)鍍敷皮膜(組成、附著量、X射線繞射強度)
對於熱浸鍍敷鋼板的各樣品,沖壓100mmφ,以膠帶密封非測定面後,以JIS H 0401:2013所示之鹽酸與六亞甲基四胺之混合液溶解剝離鍍敷層,由剝離前後之樣品的質量差,算出鍍敷皮膜之附著量。表3及4中顯示算出的結果、所得的鍍敷皮膜之附著量。
然後,過濾剝離液,分別分析濾液及固體成分。具體而言,藉由ICP發光分光分析濾液,定量不溶Si以外之成分。
又,固體成分係於650℃之加熱爐內乾燥、灰化後,添加碳酸鈉與四硼酸鈉使其熔解。再者,以鹽酸溶解熔解物,藉由ICP發光分光分析溶解液,定量不溶Si。鍍敷皮膜中的Si濃度係將經由濾液分析所得之可溶Si濃度與經由固體成分分析所得之不溶Si濃度相加者。表3及4中顯示算出的結果、所得的鍍敷皮膜之組成。
此外,對於各樣品,剪切成100mm×100mm的尺寸後,機械地削出評價對象面之鍍敷皮膜直到基底鋼板露出,將所得之粉末充分混合後,取出0.3g,使用X射線繞射裝置(股份有限公司RIGAKU製「SmartLab」),在使用X射線:Cu-Kα(波長=1.54178Å),Kβ射線之去除:Ni濾波器,管電壓:40kV,管電流:30mA,掃描速度:4°/min,取樣間隔:0.020°,發散狹縫:2/3°,平行狹縫:5°,檢測器:高速一維檢測器(D/teX Ultra)之條件下,進行上述粉末之定性分析。將從各波峰強度減去基底強度後之強度作為各繞射強度(cps),測定Si的(111)面(面間隔d=0.3135nm)之繞射強度與Mg
2Si的(111)面(面間隔d=0.3668nm)之繞射強度。表3及表4中顯示測定結果。
(2)耐蝕性評價
對於熱浸鍍敷鋼板及表面處理鋼板之各樣品,剪切成120mm×120mm的尺寸後,將與評價對象面之各邊緣距離10mm之範圍及樣品之端面與評價非對象面以膠帶密封,將評價對象面以100mm×100mm之尺寸露出之狀態者,使用作為評價用樣品。又,該評價用樣品係相同者製作3個。
對於如上述所製作的3個評價用樣品,皆以圖1所示之循環來實施腐蝕促進試驗。腐蝕促進試驗係從濕潤開始,進行至300個循環後,以JIS Z 2383及ISO8407中記載之方法測定各樣品之腐蝕減量,用下述基準評價。表3及4中顯示評價結果。
◎:3個樣品之腐蝕減量皆為30g/m
2以下
○:3個樣品之腐蝕減量皆為50g/m
2以下
×:1個以上的樣品之腐蝕減量超過50g/m
2
(3)耐白鏽性
對於熱浸鍍敷鋼板及表面處理鋼板之各樣品,剪切成120mm×120mm的尺寸後,將與評價對象面之各邊緣距離10mm之範圍及樣品之端面與評價非對象面以膠帶密封,將評價對象面以100mm×100mm之尺寸露出之狀態者,使用作為評價用樣品。
使用上述評價用樣品,實施JIS Z 2371中記載之鹽水噴霧試驗90小時,用下述基準評價。表3及表4中顯示評價結果。
◎:在平板部無白鏽
○:平板部的白鏽發生面積未達10%
×:平板部的白鏽發生面積10%以上
(4)表面外觀性
對於熱浸鍍敷鋼板之各樣品,藉由目視觀察鍍敷皮膜之表面。
然後,依照以下基準來評價觀察結果。表3及表4中顯示評價結果。
◎:全然未觀察到皺紋狀缺陷
○:僅於距邊緣50mm之範圍內觀察到皺紋狀缺陷
×:於距邊緣50mm之範圍以外觀察到皺紋狀缺陷
(5)加工性
對於熱浸鍍敷鋼板之各樣品,剪切成70mm×150mm的尺寸後,於內側夾入8片相同板厚的板,施予180°彎曲加工(8T彎曲)。彎折後於彎曲部之外表面強力貼合Cellotape(註冊商標:透明膠帶)後撕開。目視觀察彎曲部外面的鍍敷皮膜之表面狀態及所使用的膠帶之表面有無鍍敷皮膜附著(剝離),用下述基準評價加工性。表3及表4中顯示評價結果。
〇:於鍍敷皮膜上都看不到裂痕與剝離
△:於鍍敷皮膜上有裂痕,但看不到剝離
×:於鍍敷皮膜上同時看到裂痕與剝離
(5)浴安定性
於熱浸鍍敷時,目視確認鍍敷浴的浴面之狀態,與製造熱浸鍍Al-Zn系鋼板時使用的鍍敷浴之浴面(無含Mg氧化物之浴面)進行比較。評價係用以下基準進行,表3及表4中顯示評價結果。
〇:與熱浸Al-Zn系鍍敷浴(55質量%Al-剩餘部分Zn-1.6質量%浴)相同程度
△:相較於與熱浸Al-Zn系鍍敷浴(55質量%Al-剩餘部分Zn-1.6質量%浴),白色氧化物多
×:於鍍敷浴中看到黑色氧化物之形成
由表3及表4之結果可知,相較於比較例之各樣品,本發明例之各樣品係耐蝕性、耐白鏽性、表面外觀性、加工性及浴安定性皆平衡佳地優異。
又,由表4之結果可知,實施了化成處理A~D的各樣品之耐白鏽性係顯示特別優異之結果。
[實施例3:樣品1~55]
使用以常見方法製造之板厚0.8mm的冷軋鋼板作為基底鋼板,以(股)RHESCA製的熱浸鍍敷模擬器,進行退火處理、鍍敷處理,製作表5所示條件之熱浸鍍敷鋼板的樣品1~55。
再者,關於熱浸鍍敷鋼板製造所用之鍍敷浴之組成,以成為表6所示的各樣品之鍍敷皮膜組成之方式,使鍍敷浴之組成在Al:5~75質量%、Si:0.0~4.5質量%、Mg:0~10質量%、Co:0.000~0.120質量%之範圍內進行各種變化。又,鍍敷浴之浴溫係在Al:5質量%之情況設為450℃,在Al:15質量%之情況設為480℃,在Al:30~60質量%之情況設為590℃,在Al:超過60質量%之情況設為630℃,基底鋼板之鍍敷浸入板溫係控制成與鍍敷浴溫同溫度。再者,於Al:30~60質量%之情況,在板溫於3秒內冷卻至520~500℃的溫度範圍內之的條件下實施鍍敷處理。
又,鍍敷皮膜之附著量係控制成:樣品1~52中每一面85±5g/m
2,樣品53中每一面50±5g/m
2,樣品54中每一面100±5g/m
2,樣品55中每一面125±5g/m
2。
(2)其後,於所製作之熱浸鍍敷鋼板的各樣品之鍍敷皮膜上,以棒塗佈器塗佈表5所示之化成處理液,以熱風乾燥爐乾燥(到達板溫:90℃),形成附著量為0.1g/m
2之化成處理皮膜。
尚且,所用之化成處理液係使用將各成分溶解於作為溶劑的水中而調製之pH為8~10之化成處理液。化成處理液所含有的各成分(樹脂成分、無機化合物)之種類係如以下。
(樹脂成分)
樹脂A:將(a)具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂(第一工業製藥(股)製「Superflex 210」)與(b)具有雙酚骨架的環氧樹脂(吉村油化學(股)製「Yuka Resin RE-1050」)以含有質量比(a):(b)=50:50混合者
樹脂B:丙烯酸樹脂(DIC(股)製「Boncoat EC-740EF」)
(無機化合物)
釩化合物:經乙醯丙酮螯合化的有機釩化合物
鋯化合物:碳酸鋯銨
氟化合物:氟化銨
(3)然後,於如上述形成之化成皮膜上,以棒塗機塗佈底漆塗料,於鋼板之到達溫度230℃、烘烤時間35秒之條件下進行烘烤,形成具有表5所示的成分組成之底漆塗膜。其後,於如上述形成之底漆塗膜上,以棒塗機塗佈上塗塗料組成物,於鋼板之到達溫度230℃~260℃、烘烤時間40秒之條件下進行烘烤,形成具有表5所示的樹脂條件及膜厚之上塗塗膜,製作各樣品之塗裝鋼板。
尚且,底漆塗料係在藉由混合各成分後,以球磨機攪拌約1小時而獲得。構成底漆塗膜的樹脂成分及無機化合物係使用以下者。
(樹脂成分)
樹脂α:使用胺基甲酸酯改質聚酯樹脂(使聚酯樹脂455質量份、異佛酮二異氰酸酯45質量份反應而得者,樹脂酸價為3,數量平均分子量為5,600,羥值為36)經封端化異氰酸酯所硬化者。
尚且,胺基甲酸酯改質的聚酯樹脂係用以下條件製作。於具備攪拌機、精餾塔、水分離器、冷卻管及溫度計的燒瓶中,加入間苯二甲酸320質量份、己二酸200質量份、三羥甲基丙烷60質量份、環己烷二甲醇420質量份,進行加熱、攪拌,一邊將生成之縮合水餾除到系統外,一邊以一定速度費4小時從160℃升溫到230℃,到達溫度230℃後,徐徐地添加二甲苯20質量份,以溫度維持在230℃之狀態下繼續縮合反應,於酸價成為5以下時終止反應,冷卻至100℃後,添加Solvesso 100(EXXON MOBILE公司製,商品名,高沸點芳香族烴系溶劑)120質量份、丁基溶纖劑100質量份,而得到聚酯樹脂溶液。
樹脂β:胺基甲酸酯硬化聚酯樹脂(關西油漆(股)製「Everclad 4900」)
(無機化合物)
釩化合物:釩酸鎂
磷酸化合物:磷酸鈣
氧化鎂化合物:氧化鎂
又,關於表5所示的上塗塗膜所用之樹脂,使用以下之塗料。
樹脂I:三聚氰胺硬化聚酯塗料(BASF日本(股)製「Precolor HD0030HR」)
樹脂II:聚偏二氟乙烯與丙烯酸樹脂以質量比80:20之有機溶膠系烘烤型氟樹脂系塗料(BASF日本(股)製「Precolor No.8800HR」)
(評價)
對於如上述所得之塗裝鋼板的各樣品,進行以下評價。表6中顯示評價結果。
(1)鍍敷皮膜(組成、附著量、X射線繞射強度)
對於熱浸鍍敷鋼板的各樣品,沖壓100mmφ,以膠帶密封非測定面後,以JIS H 0401:2013所示之鹽酸與六亞甲基四胺之混合液溶解剝離鍍敷層,由剝離前後之樣品的質量差,算出鍍敷皮膜之附著量。表6中顯示算出的結果、所得的鍍敷皮膜之附著量。
然後,過濾剝離液,分別分析濾液及固體成分。具體而言,藉由ICP發光分光分析濾液,定量不溶Si以外之成分。
又,固體成分係於650℃之加熱爐內乾燥、灰化後,添加碳酸鈉與四硼酸鈉使其熔解。再者,以鹽酸溶解熔解物,藉由ICP發光分光分析溶解液,定量不溶Si。鍍敷皮膜中的Si濃度係將經由濾液分析所得之可溶Si濃度與經由固體成分分析所得之不溶Si濃度相加者。表6中顯示算出的結果、所得的鍍敷皮膜之組成。
此外,對於各樣品,剪切成100mm×100mm的尺寸後,機械地削出評價對稱面之鍍敷皮膜直到基底鋼板露出,將所得之粉末充分混合後,取出0.3g,使用X射線繞射裝置(股份有限公司RIGAKU製「SmartLab」),在使用X射線:Cu-Kα(波長=1.54178Å),Kβ射線之去除:Ni濾波器,管電壓:40kV,管電流:30mA,掃描速度:4°/min,取樣間隔:0.020°,發散狹縫:2/3°,平行狹縫:5°,檢測器:高速一維檢測器(D/teX Ultra)之條件下,進行上述粉末之定性分析。將從各波峰強度減去基底強度後之強度作為各繞射強度(cps),測定Si的(111)面(面間隔d=0.3135nm)之繞射強度與Mg
2Si的(111)面(面間隔d=0.3668nm)之繞射強度。表6中顯示測定結果。
(2)耐蝕性評價
對於塗裝鋼板之各樣品,剪切成120mm×120mm的尺寸後,將與評價對象面之各邊緣距離10mm之範圍及樣品之端面與評價非對象面以膠帶密封,將評價對象面以100mm×100mm之尺寸露出之狀態者,使用作為評價用樣品。又,該評價用樣品係相同者製作3個。
對於如上述所製作的3個評價用樣品,皆以圖1所示之循環來實施腐蝕促進試驗。腐蝕促進試驗係從濕潤開始,在每20個循環取出樣品,水洗及乾燥後藉由目視觀察,對於未被膠帶密封之1邊的剪切端面之紅鏽發生,進行確認。
然後,依照下述基準,評價看到紅鏽時之循環數。表6中顯示評價結果。
◎:3個樣品發生紅鏽之循環數≧600循環
○:600個循環>3個樣品發生紅鏽之循環數≧500循環
×:至少1個樣品發生紅鏽之循環數<500個循環
(3)塗裝後之外觀性
對於塗裝鋼板之各樣品,藉由目視觀察表面。
然後,依照以下基準,評價觀察結果。表6中顯示評價結果。
◎:全然未觀察到皺紋狀缺陷
○:僅於距邊緣50mm之範圍內觀察到皺紋狀缺陷
×:於距邊緣50mm之範圍以外觀察到皺紋狀缺陷
(4)塗裝後之加工性
對於塗裝鋼板之各樣品,剪切成70mm×150mm的尺寸後,於內側夾入8片相同板厚的板,施予180°彎曲加工(8T彎曲)。彎折後於彎曲部之外表面強力貼合Cellotape(註冊商標:透明膠帶)後撕開。目視觀察彎曲部外面的塗膜之表面狀態及所使用的膠帶之表面有無塗膜附著(剝離),用下述基準評價加工性。表6中顯示評價結果。
〇:於鍍敷皮膜上都看不到裂痕與剝離
△:於鍍敷皮膜上有裂痕,但看不到剝離
×:於鍍敷皮膜上同時看到裂痕與剝離
(5)浴安定性
於熱浸鍍敷時,目視確認鍍敷浴的浴面之狀態,與製造熱浸鍍Al-Zn系鋼板時使用的鍍敷浴之浴面(無含Mg氧化物之浴面)進行比較。評價係用以下基準進行,表6中顯示評價結果。
〇:與熱浸Al-Zn系鍍敷浴(55質量%Al-剩餘部分Zn-1.6質量%浴)相同程度
△:相較於與熱浸Al-Zn系鍍敷浴(55質量%Al-剩餘部分Zn-1.6質量%浴),白色氧化物多
×:於鍍敷浴中看到黑色氧化物之形成
由表6之結果可知,相較於比較例之各樣品,本發明例之各樣品係耐蝕性、塗裝後的外觀性、塗裝後的加工性及浴安定性皆平衡佳地優異。
產業上的利用可能性
依據本發明,可提供一種具有安定優異的耐蝕性之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板及其製造方法。
[圖1]係用於說明日本汽車規格的複合循環試驗(JASO-CCT)的流程之圖。
Claims (12)
- 一種熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其係具備鍍敷皮膜的熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其特徵為: 前述鍍敷皮膜具有下述組成:含有Al:45~65質量%、Si:1.0~4.0質量%及Mg:1.0~10.0質量%,且剩餘部分由Zn及不可避免雜質所成, 相對於前述鍍敷皮膜之總質量,前述不可避免雜質中的Co含量為0.080質量%以下, 前述鍍敷皮膜中的Si及Mg 2Si之藉由X射線繞射法的繞射強度滿足以下關係(1), Si(111)/Mg 2Si(111)≦0.8 ・・・(1) Si(111):Si的(111)面(面間隔d=0.3135nm)之繞射強度, Mg 2Si(111):Mg 2Si的(111)面(面間隔d=0.3668nm)之繞射強度。
- 如請求項1之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其中前述鍍敷皮膜中的Si之藉由X射線繞射法的繞射強度滿足以下關係(2), Si(111)=0 ・・・(2) Si(111):Si的(111)面(面間隔d=0.3135nm)之繞射強度。
- 如請求項1或2之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其中前述鍍敷皮膜進一步含有Sr:0.01~1.0質量%。
- 如請求項1或2之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其中前述鍍敷皮膜中的Al之含量為50~60質量%。
- 如請求項1或2之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其中前述鍍敷皮膜中的Si之含量為1.0~3.0質量%。
- 如請求項1或2之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板,其中前述鍍敷皮膜中的Mg之含量為1.0~5.0質量%。
- 一種熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法,其係具備鍍敷皮膜的熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法,其特徵為: 前述鍍敷皮膜之形成係具有使基底鋼板浸漬於鍍敷浴中之熱浸鍍敷處理步驟,該鍍敷浴具有下述組成:含有Al:45~65質量%、Si:1.0~4.0質量%及Mg:1.0~10.0質量%,且剩餘部分由Zn及不可避免雜質所成, 相對於前述鍍敷浴之總質量,將前述鍍敷浴之不可避免雜質中的Co含量控制在0.080質量%以下。
- 如請求項7之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法,其中前述鍍敷浴進一步含有Sr:0.01~1.0質量%。
- 一種表面處理鋼板,其係具備如請求項1或2之鍍敷皮膜與形成在該鍍敷皮膜上之化成皮膜的表面處理鋼板,其特徵為: 前述化成皮膜含有由環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、丙烯酸矽樹脂、醇酸樹脂、聚酯樹脂、聚伸烷基樹脂、胺基樹脂及氟樹脂中選出的至少一種樹脂,與由P化合物、Si化合物、Co化合物、Ni化合物、Zn化合物、Al化合物、Mg化合物、V化合物、Mo化合物、Zr化合物、Ti化合物及Ca化合物中選出的至少一種金屬化合物。
- 一種表面處理鋼板之製造方法,其係具備藉由如請求項7或8之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法所形成之鍍敷皮膜與形成在該鍍敷皮膜上之化成皮膜的表面處理鋼板之製造方法,其特徵為: 前述化成皮膜含有由環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、丙烯酸矽樹脂、醇酸樹脂、聚酯樹脂、聚伸烷基樹脂、胺基樹脂及氟樹脂中選出的至少一種樹脂,與由P化合物、Si化合物、Co化合物、Ni化合物、Zn化合物、Al化合物、Mg化合物、V化合物、Mo化合物、Zr化合物、Ti化合物及Ca化合物中選出的至少一種金屬化合物。
- 一種塗裝鋼板,其係在如請求項1或2之鍍敷皮膜上,直接或隔著化成皮膜形成有塗膜之塗裝鋼板,其特徵為: 前述化成皮膜含有樹脂成分與無機化合物,該樹脂成分含有合計30~50質量%的(a):具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂及(b):具有雙酚骨架的環氧樹脂,該(a)與該(b)之含有比率((a):(b))以質量比計為3:97~60:40之範圍,該無機化合物包含2~10質量%的釩化合物、40~60質量%的鋯化合物及0.5~5質量%的氟化合物, 前述塗膜至少具有底漆塗膜,該底漆塗膜含有具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂與包含釩化合物、磷酸化合物及氧化鎂之無機化合物。
- 一種塗裝鋼板之製造方法,其係於藉由如請求項7或8之熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板之製造方法所形成之鍍敷皮膜上,直接或隔著化成皮膜形成有塗膜的塗裝鋼板之製造方法,其特徵為: 前述化成皮膜含有樹脂成分與無機化合物,該樹脂成分含有合計30~50質量%的(a):具有酯鍵的陰離子性聚胺基甲酸酯樹脂及(b):具有雙酚骨架的環氧樹脂,該(a)與該(b)之含有比率((a):(b))以質量比計為3:97~60:40之範圍,該無機化合物包含2~10質量%的釩化合物、40~60質量%的鋯化合物及0.5~5質量%的氟化合物, 前述塗膜至少具有底漆塗膜,該底漆塗膜含有具有胺基甲酸酯鍵的聚酯樹脂與包含釩化合物、磷酸化合物及氧化鎂之無機化合物。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022001318A JP2023100556A (ja) | 2022-01-06 | 2022-01-06 | 表面処理鋼板及びその製造方法 |
JP2022-001317 | 2022-01-06 | ||
JP2022001320A JP2023100557A (ja) | 2022-01-06 | 2022-01-06 | 塗装鋼板及びその製造方法 |
JP2022-001318 | 2022-01-06 | ||
JP2022-001320 | 2022-01-06 | ||
JP2022001317A JP2023100555A (ja) | 2022-01-06 | 2022-01-06 | 溶融Al-Zn-Si-Mg系めっき鋼板及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202332787A true TW202332787A (zh) | 2023-08-16 |
Family
ID=87073698
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW112100399A TW202332787A (zh) | 2022-01-06 | 2023-01-05 | 熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板及其製造方法,表面處理鋼板及其製造方法及塗裝鋼板及其製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TW202332787A (zh) |
WO (1) | WO2023132327A1 (zh) |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6055591B2 (ja) * | 1980-10-09 | 1985-12-05 | 新日本製鐵株式会社 | 耐経時めつき剥離性に優れた溶融亜鉛合金めつき鋼板の製造法 |
KR20180118242A (ko) * | 2008-03-13 | 2018-10-30 | 블루스코프 스틸 리미티드 | 금속 코팅된 강철 스트립 |
CN105483594B (zh) * | 2016-01-14 | 2018-10-30 | 上海大学 | 一种钢材表面连续热浸镀Al–Zn–Mg–Si合金镀层的方法 |
KR102354447B1 (ko) * | 2018-09-27 | 2022-03-21 | 주식회사 포스코 | 용접액화취성에 대한 저항성과 도금밀착성이 우수한 고내식 도금강판 |
WO2020130640A1 (ko) * | 2018-12-18 | 2020-06-25 | 주식회사 포스코 | 합금 코팅강판 및 그 제조방법 |
JP6715399B1 (ja) * | 2019-03-01 | 2020-07-01 | Jfe鋼板株式会社 | 溶融Al−Zn−Mg−Si−Srめっき鋼板及びその製造方法 |
JP6715400B1 (ja) * | 2019-03-01 | 2020-07-01 | Jfe鋼板株式会社 | 溶融Al−Zn−Mg−Si−Srめっき鋼板及びその製造方法 |
JP6959466B2 (ja) * | 2020-03-05 | 2021-11-02 | Jfe鋼板株式会社 | 塗装鋼板 |
KR20230082044A (ko) * | 2020-10-30 | 2023-06-08 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 용융 Al-Zn-Si-Mg계 도금 강판, 표면 처리 강판 및 도장 강판 |
KR20230082043A (ko) * | 2020-10-30 | 2023-06-08 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 용융 Al-Zn-Si-Mg계 도금 강판, 표면 처리 강판 및 도장 강판 |
KR20230082045A (ko) * | 2020-10-30 | 2023-06-08 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 용융 Al-Zn-Si-Mg-Sr계 도금 강판, 표면 처리 강판 및 도장 강판 |
KR20230109706A (ko) * | 2021-03-11 | 2023-07-20 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 용융 Al-Zn-Si-Mg 계 도금 강판 및 그 제조 방법, 표면 처리 강판 및 그 제조 방법, 그리고, 도장 강판 및 그 제조 방법 |
-
2022
- 2022-12-28 WO PCT/JP2022/048682 patent/WO2023132327A1/ja unknown
-
2023
- 2023-01-05 TW TW112100399A patent/TW202332787A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023132327A1 (ja) | 2023-07-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101807926B1 (ko) | 도장 도금 강재 | |
TWI789061B (zh) | 熔融Al-Zn-Si-Mg系鍍敷鋼板、表面處理鋼板及塗裝鋼板 | |
TWI793814B (zh) | 熔融Al-Zn-Si-Mg-Sr系鍍敷鋼板、表面處理鋼板及塗裝鋼板 | |
WO2022091849A1 (ja) | 溶融Al-Zn-Si-Mg系めっき鋼板、表面処理鋼板及び塗装鋼板 | |
WO2022191213A1 (ja) | 溶融Al-Zn-Si-Mg系めっき鋼板及びその製造方法、表面処理鋼板及びその製造方法、並びに、塗装鋼板及びその製造方法 | |
JP2019155872A (ja) | 被覆めっき鋼板及び被覆めっき鋼板の製造方法 | |
JP6959466B2 (ja) | 塗装鋼板 | |
TW202332787A (zh) | 熱浸鍍Al-Zn-Si-Mg系鋼板及其製造方法,表面處理鋼板及其製造方法及塗裝鋼板及其製造方法 | |
WO2023166858A1 (ja) | 溶融Al-Zn系めっき鋼板、その製造方法、表面処理鋼板及び塗装鋼板 | |
JP7097493B2 (ja) | 塗装鋼板 | |
JP7091535B2 (ja) | 塗装鋼板 | |
JP7097492B2 (ja) | 塗装鋼板 | |
JP7097491B2 (ja) | 表面処理鋼板 | |
JP7097490B2 (ja) | 表面処理鋼板 | |
CN116490635A (zh) | 热浸Al-Zn-Si-Mg系镀覆钢板、表面处理钢板和涂装钢板 | |
CN116490636A (zh) | 热浸镀Al-Zn-Si-Mg系钢板、表面处理钢板和涂装钢板 | |
JP7091534B2 (ja) | 表面処理鋼板 | |
CN116507754A (zh) | 热浸Al-Zn-Si-Mg-Sr系镀覆钢板、表面处理钢板和涂装钢板 | |
JP2023036983A (ja) | 塗装鋼板及びその製造方法 | |
JP2022140249A (ja) | 塗装鋼板及びその製造方法 | |
JP2023100557A (ja) | 塗装鋼板及びその製造方法 | |
JP2023100556A (ja) | 表面処理鋼板及びその製造方法 | |
CN116888298A (zh) | 熔融Al-Zn-Si-Mg系镀覆钢板及其制造方法、表面处理钢板及其制造方法以及涂装钢板及其制造方法 | |
JP2023038245A (ja) | 表面処理鋼板及びその製造方法 | |
JP2022140248A (ja) | 表面処理鋼板及びその製造方法 |