TW202307486A - 顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種顯示裝置(1)，其係可抑制在高折射率層(45)反射之反射光入射於受光感測器(42)，亦更提供一種可使用於該顯示裝置之光學積層體(51)。
[解決手段]本發明之顯示裝置(1)，係從辨識側依序具有高折射率層(42)、第1相位差層(31)、直線偏光層(11)、及顯示單元(40)。高折射率層(42)之折射率為1.60以上。顯示單元(40)係具有顯示元件(41)及受光感測器(42)。第1相位差層(31)及直線偏光層(11)係以覆蓋顯示元件(41)及受光感測器(42)之方式積層。

Description

顯示裝置
本發明係有關一種顯示裝置，更有關一種使用於該顯示裝置之光學積層體。
包含直線偏光層之偏光板係廣泛使用來作為液晶顯示裝置或有機電致發光(EL)顯示裝置等顯示裝置中的偏光之供給元件、作為偏光之檢測元件、又作為抑制被顯示元件反射之反射光朝外之射出者。具備有偏光板之顯示裝置亦已擴展於筆記型個人電腦、智慧型手機、平板電腦終端等行動機器。在日本專利文獻1中，從智慧型手機等行動機器的顯示面中之顯示區域的擴大及設計性之觀點而言，例如在平面圖中，記載在顯示區域之邊緣切成凹狀而設置非顯示區域。
設置成上述凹狀之非顯示區域通常係未配置顯示元件及偏光板。因此，藉由在非顯示區域配置照相機透鏡及受光感測器等各種感測器等，可不易對照相機性能及感測器之靈敏度造成不良影響。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2019-219528號公報
為了更擴大在顯示面之顯示區域，被要求縮小非顯示區域。此時，可想到在設有顯示元件及偏光板之顯示區域內配置受光感測器等之各種感測器。若在顯示區域內配置受光感測器，來自顯示元件之射出光容易在配置於偏光板之辨識側的高折射率層進行反射而入射於受光感測器。入射於受光感測器之反射光係容易成為引起受光感測器之故障。
本發明之目的在於提供一種顯示裝置，其係即使在辨識側具備高折射率層，亦可抑制在高折射率層反射之反射光入射於受光感測器，以及提供一種可使用於該顯示裝置之光學積層體。
本發明係提供下列之顯示裝置。
[1]一種顯示裝置，係從辨識側依序具有高折射率層、第1相位差層、直線偏光層、及顯示單元，且
前述高折射率層之折射率為1.60以上，
前述顯示單元係具有顯示元件及受光感測器，
前述第1相位差層及前述直線偏光層係以覆蓋前述顯示元件及前述受光感測器之方式積層。
[2]如[1]所述之顯示裝置，其中，在平面圖中，前述第1相位差層係覆蓋前述直線偏光層之辨識側的整面。
[3]如[1]或[2]所述之顯示裝置，其中，前述直線偏光層之視感度修正單體穿透率為42%以上。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之顯示裝置，其中，前述第1相位差層之慢軸與前述直線偏光層之吸收軸構成的角度為10°以上80°以下。
[5]如[1]至[4]中任一項所述之顯示裝置，其中，前述第1相位差層在波長550nm的面內相位差值為80nm以上170nm以下。
[6]如[5]所述之顯示裝置，其中，前述第1相位差層具有逆波長分散性。
[7]如[5]或[6]所述之顯示裝置，其更在前述高折射率層與前述直線偏光層之間具有第2相位差層，
前述第2相位差層係以覆蓋前述顯示元件及前述受光感測器之方式積層，
前述第2相位差層在波長550nm的厚度方向相位差值為-140nm以上-20nm以下。
[8]如[1]至[7]中任一項所述之顯示裝置，其中，來自前述顯示元件之射出光在前述高折射率層反射時之反射光的刺激值Y為3.45%以上4.54%以下。
[9]如[1]至[8]中任一項所述之顯示裝置，其中，前述受光感測器係可偵知波長為320nm以上4000nm以下之光。
[10]如[1]至[9]中任一項所述之顯示裝置，其中，來自前述顯示元件之射出光係波長為320nm以上4000nm以下之光。
[11]如[1]至[10]中任一項所述之顯示裝置，其更在前述直線偏光層與前述顯示單元之間具有第3相位差層。
本發明係提供下列之光學積層體。
[12]一種光學積層體，係依序具有高折射率層、第1相位差層及直線偏光層，且前述高折射率層之折射率為1.60以上。
[13]如[12]所述之光學積層體，其中，在平面圖中，前述第1相位差層係覆蓋前述直線偏光層之辨識側的整面。
[14]如[12]或[13]所述之光學積層體，其中，前述直線偏光層之視感度修正單體穿透率為42%以上。
[15]如[12]或[13]所述之光學積層體，其中，前述第1相位差層之慢軸與前述直線偏光層之吸收軸構成的角度為10°以上80°以下。
[16]如[12]或[13]所述之光學積層體，其中，前述第1相位差層在波長550nm的面內相位差值為80nm以上170nm以下。
[17]如[12]或[13]所述之光學積層體，其中，前述第1相位差層具有逆波長分散性。
[18]如[12]或[13]所述之光學積層體，其更在前述高折射率層與前述直線偏光層之間具有第2相位差層，
前述第2相位差層在波長550nm的厚度方向相位差值為-140nm以上-20nm以下。
[19]如[12]或[13]所述之光學積層體，其中，在前述直線偏光層之與前述第1相位差層側為相反側，更具有第3相位差層。
若依據本發明之顯示裝置，可抑制在高折射率層反射之反射光入射於受光感測器。又，若依據本發明之光學積層體，可提供一種本發明之上述顯示裝置。
1~4:顯示裝置
11:直線偏光層
12:第1保護膜
13:第3相位差層
21:第1貼合層
22:第2貼合層
23:第3貼合層
24:第4貼合層
25:第5貼合層
26:第6貼合層
31:第1相位差層
32:第2相位差層
40:顯示單元
41:顯示元件
42:受光感測器
45:高折射率層
51~54:光學積層體
圖1係示意性表示本發明之一實施型態的顯示裝置之概略剖面圖。
圖2係示意性表示本發明之其它實施型態的顯示裝置之概略剖面圖。
圖3係示意性表示本發明之另一其它實施型態的顯示裝置之概略剖面圖。
圖4係示意性表示本發明之又另一其它實施型態的顯示裝置之概略剖面圖。
[用以實施發明之形態]
以下，參照圖式而說明顯示裝置及光學積層體之較佳的實施型態。在各圖式中，對於與先前說明之構件相同的構件係賦予相同的符號而省略其說明。
[實施型態1]
(顯示裝置及光學積層體)
圖1及圖2係示意性表示本發明之一實施型態的顯示裝置之概略剖面圖。在圖1及圖2中，上側為辨識側。如圖1及圖2所示，本實施型態之 顯示裝置1、2係從辨識側依序具有高折射率層45、第1相位差層31、直線偏光層11、及顯示單元40。此等之中，高折射率層45、第1相位差層31及直線偏光層11係構成光學積層體51、52。高折射率層45之折射率為1.60以上，較佳係1.75以上，更佳係1.80以上，通常為2.70以下，較佳係2.40以下，更佳係2.30以下，又更佳係2.10以下。高折射率層45之折射率係可藉由後述實施例記載的方法而測定。
顯示單元40係具有顯示元件41及受光感測器42。如圖1及圖2所示，顯示單元40可具有在顯示元件41之辨識側積層有受光感測器42之構造，亦可具有在顯示元件41之與辨識側為相反側積層有受光感測器42之構造。或者，在設於顯示元件41之貫穿孔或凹部嵌入受光感測器42。在顯示單元40因可將顯示元件41之區域設為顯示裝置1、2之顯示區域，故從擴大顯示區域之觀點而言，在顯示單元40之平面圖中，較佳係以包圍受光感測器42之周圍的方式存在顯示元件41之區域。
在顯示裝置1、2中，第1相位差層31及直線偏光層11係以覆蓋顯示元件41及受光感測器42之方式積層。第1相位差層31及直線偏光層11較佳係已覆蓋顯示單元40之辨識側的整面，亦即，覆蓋顯示元件41及受光感測器42之辨識側的整面之方式積層。如上述，藉由設置直線偏光層11，在平面圖中，於受光感測器42之周圍的顯示元件41之區域被直線偏光層11覆蓋，故容易擴大顯示裝置1、2之顯示區域。第1相位差層31係以覆蓋顯示元件41及受光感測器42之方式積層，在平面圖中可覆蓋直線偏光層11之整體，亦可覆蓋一部分。第1相位差層31之平面圖形狀係可與直線偏光層11之平面圖形狀為相同，亦可為相異。
在顯示裝置1、2係藉由從顯示元件41所射出之光而進行圖像顯示。如圖1中之箭號所示，來自顯示元件41之射出光的一部分係有可能在高折射率層45進行反射，且入射於受光感測器42。尤其在顯示單元40之平面圖中，例如，受光感測器42與顯示元件41之區域相隣而存在於附近等，在受光感測器42之周圍配置顯示元件41的區域時，在高折射率層45反射之反射光容易入射於受光感測器42。若反射光入射於受光感測器42，容易產生受光感測器42之故障。在本實施型態之顯示裝置1、2中，在覆蓋顯示元件41及受光感測器42之直線偏光層11的辨識側積層第1相位差層31。在高折射率層45反射之反射光係入射於第1相位差層31，藉由通過第1相位差層31而改變相位。因此，通過第1相位差層31之反射光的至少一部分容易被直線偏光層11吸收。藉此，可降低入射於受光感測器42之反射光的光量而可抑制受光感測器42之故障。
直線偏光層11之視感度修正單體穿透率係以42%以上為佳，以43%以上更佳，可為45%以上。若直線偏光層11之視感度修正單體穿透率變大，因穿透直線偏光層11之反射光的光量增加，故容易產生受光感測器42之故障。若依據本實施型態之顯示裝置1、2，使用視感度修正單體穿透率大的直線偏光層11時，可抑制入射於受光感測器42之反射光的光量，並可抑制受光感測器42之故障。直線偏光層11之視感度修正單體穿透率係可依據後述實施例記載的方法測定。
第1相位差層31只要具有相位差即可，但較佳係具有在波長550nm之面內相位差值Re(550)為80nm以上170nm以下的相位差。第1相位差層31之面內相位差值Re(550)係以100nm以上更佳，以130nm 以上為特佳，可為135nm以上，又，以160nm以下更佳，以150nm以下為又更佳。第1相位差層31之面內相位差值Re(550)係可依據後述實施例記載的方法測定。
第1相位差層31具有上述範圍之面內相位差值Re(550)時，在顯示裝置1、2中來自顯示元件41之射出光，若通過第1相位差層31則轉換成橢圓偏光。在高折射率層45反射之反射光(楕圓偏光)係藉由通過第1相位差層31而轉換成直線偏光。藉此，通過第1相位差層31之反射光容易被直線偏光層11吸收，故可更加抑制入射於受光感測器42之反射光的光量。
第1相位差層31之面內相位差值Re(550)為上述範圍時，直線偏光層11之吸收軸與第1相位差層31之慢軸構成的角度係以10°以上80°以下之範圍內為佳。上述角度可為30°以上，更佳係40°以上。又，上述角度可為60°以下，更佳係50°以下。
面內相位差值Re(550)為上述範圍的第1相位差層31係以具有逆波長分散性為佳。藉此，被直線偏光層11吸收之反射光的波長範圍變廣，故可抑制入射於受光感測器42之各種波長的反射光之光量。
在顯示裝置1、2中，來自顯示元件41之射出光在高折射率層45反射時之反射光的刺激值Y係以3.45%以上4.54%以下為佳。反射光之刺激值Y係反射光之光強度對來自顯示元件41之射出光的光強度之比率，刺激值Y愈小，在高折射率層45反射之反射光的光量愈小，表示不易成為受光感測器42之故障的原因。反射光之刺激值Y係可依據後述實施例記載的方法測定。反射光之刺激值Y可為3.48%以上，亦可為3.50% 以上，又，可為4.30%以下，可為4.10%以下，可為3.90%以下，亦可為3.76%以下。
射出光之刺激值Y在上述範圍的顯示裝置1、2中，容易抑制入射於受光感測器42之反射光的光量。射出光之刺激值Y小於上述範圍時，認為高折射率層45之折射率小，或，直線偏光層11之視感度修正單體穿透率小。因此，認為在射出光之刺激值Y小於上述範圍之顯示裝置中，入射於受光感測器42之反射光的光量小，不易產生受光感測器42之故障。又，射出光之刺激值Y大於上述範圍之顯示裝置中，入射於受光感測器42之反射光的光量大，容易產生受光感測器42之故障。
(顯示裝置及光學積層體之層構造)
以下，除了上述說明的層以外，說明有關顯示裝置1、2及光學積層體51、52可具有的層。
如圖1及圖2所示，顯示裝置1、2及光學積層體51、52較佳係在高折射率層45與第1相位差層31之間具有第1貼合層21。第1貼合層21係可與高折射率層45及第1相位差層31直接接觸。
顯示裝置1、2及光學積層體51、52除了上述高折射率層45以外，可具有1個以上之第2折射率層(未圖示)。第2折射率層之折射率係可設為在高折射率層45中說明之上述折射率範圍。第2折射率層可設於高折射率層45之辨識側，亦可設於高折射率層45與第1相位差層31之間。此時，顯示裝置1、2及光學積層體51、52係可在高折射率層45與第2折射率層之間具有貼合層(後述黏著劑層或接著劑層)，該貼合層係可與高折射率層45及第2折射率層直接接觸。顯示裝置1、2及光學積層體51、 52在高折射率層45與第1相位差層31之間具有第2折射率層時，第1貼合層21係可與第1相位差層31及第2折射率層直接接觸。
顯示裝置1、2及光學積層體51、52較佳係在第1相位差層31與直線偏光層11之間具有第2貼合層22。第2貼合層22係可與第1相位差層31及直線偏光層11直接接觸。
如圖1及圖2所示，顯示裝置1、2及光學積層體51、52係在第1相位差層31與直線偏光層11之間可具有第1保護膜12。第1保護膜12可為用以保護直線偏光層11之辨識側的表面之層，第1保護膜12及直線偏光層11係可構成直線偏光板。顯示裝置1、2及光學積層體51、52具有第1保護膜12時，第2貼合層22係可與第1相位差層31及第1保護膜12直接接觸。
顯示裝置1、2及光學積層體51、52具有第1保護膜12時，顯示裝置1、2及光學積層體51、52可與第1保護膜12與直線偏光層11直接接觸，較佳係在第1保護膜12與直線偏光層11之間具有第3貼合層23。第3貼合層23可構成直線偏光板，較佳係與第1保護膜12及直線偏光層11直接接觸。
顯示裝置1、2係可在直線偏光層11與顯示單元40之間(直線偏光層11之與第1相位差層31側為相反側)具有第4貼合層24。如圖1所示，直線偏光層11及顯示單元40係可與第4貼合層24直接接觸。如圖1及圖2所示，上述第4貼合層24係可具備光學積層體51、52。
顯示裝置1、2及光學積層體51、52係可在直線偏光層11與顯示單元40之間(直線偏光層11之與第1相位差層31側為相反側)具有 第2保護膜(未圖示)。第2保護膜可為用以保護直線偏光層11之與辨識側為相反側之表面的層，第2保護膜及直線偏光層11係可構成直線偏光板。顯示裝置1、2及光學積層體51、52具有第2保護膜時，第2保護膜與直線偏光層11係可直接接觸，亦可在第2保護膜與直線偏光層11之間具有貼合層(後述黏著劑層或接著劑層)。該貼合層係可構成直線偏光板，較佳係與第2保護膜及直線偏光層11直接接觸。此時，第4貼合層24可設於第2保護膜與顯示單元40之間，亦可與第2保護膜及顯示單元40直接接觸。
如圖2所示，顯示裝置2及光學積層體52係在直線偏光層11與顯示單元40之間(直線偏光層11之與第1相位差層31側為相反側)可具有第3相位差層13。此時，顯示裝置2及光學積層體52係可在直線偏光層11與第3相位差層13之間具有第5貼合層25，直線偏光層11及第3相位差層13可與第5貼合層25直接接觸。顯示裝置2及光學積層體52具有第2保護膜時，第5貼合層25係設於第2保護膜與第3相位差層13之間，可與第2保護膜及第3相位差層13直接接觸。在具有第3相位差層13之顯示裝置2中，第4貼合層24係可設於第3相位差層13與顯示單元40之間，亦可與第3相位差層13及顯示單元40直接接觸。在具有第3相位差層13之光學積層體52中，第4貼合層25可與第3相位差層13直接接觸。直線偏光層11與第3相位差層13係以構成圓偏光板為佳，第3相位差層13較佳係λ/4相位差層，更佳係逆波長分散性之λ/4相位差層。
顯示裝置2及光學積層體52係在直線偏光層11與顯示單元40之間(直線偏光層11之與第1相位差層31側為相反側)，除了第3相 位差層13以外，可具有1個以上之第4相位差層(未圖示)。第4相位差層可設於直線偏光層11與第3相位差層13之間，亦可設於第3相位差層13與顯示單元40之間(第3相位差層13之與直線偏光層11側為相反側)。此時，可在第3相位差層13與第4相位差層之間具有貼合層(後述黏著劑層或接著劑層)，該貼合層可與第3相位差層13及第4相位差層直接接觸。顯示裝置2及光學積層體52在直線偏光層11與第3相位差層13之間具有第4相位差層時，第5貼合層25可與直線偏光層11及第4相位差層直接接觸。顯示裝置2在第3相位差層13與顯示單元40之間具有第4相位差層時，第4貼合層24可與第4相位差層及顯示單元40直接接觸。光學積層體52在第3相位差層13之與直線偏光層11側為相反側具有第3相位差層時，第4相位差層係可與第4貼合層直接接觸。直線偏光層11、第3相位差層13、及第4相位差層係以構成圓偏光板為佳。構成圓偏光板之第4相位差層係以λ/2相位差層或正C層為佳。
[實施型態2]
圖3及圖4係示意性表示本發明之其它實施型態的顯示裝置之概略剖面圖。在圖3及圖4中，上側為辨識側。本實施型態之顯示裝置3、4及光學積層體53、54係在高折射率層45與直線偏光層11之間具有第2相位差層32之點，因與先前之實施型態中說明的顯示裝置1、2及光學積層體51、52不同，故針對該點說明如下。
在顯示裝置3、4中，第2相位差層32係以覆蓋顯示元件41及受光感測器42之方式積層。第2相位差層32較佳係以覆蓋顯示單元40 之辨識側的整面，亦即，覆蓋顯示元件41及受光感測器42之辨識側的整面之方式積層。
圖3及圖4所示的顯示裝置3、4及光學積層體53、54係在高折射率層45與第1相位差層31之間具有第2相位差層32。第2相位差層32較佳係在平面圖中覆蓋第1相位差層31之整體，第2相位差層32之平面圖形狀更佳係與第1相位差層31之平面圖形狀為相同。
第2相位差層32只要具有相位差即可，較佳係具有在波長550nm之厚度方向相位差值Rth(550)為-140nm以上-20nm以下的相位差。第2相位差層32之厚度方向相位差值Rth(550)可為超出-140nm，可為-120nm以上，可為-100nm以上，亦可為-90nm以上，又，可為未達-20nm，可為-30以下，可為-40以下，亦可為-50以下。
第2相位差層32之厚度方向相位差值Rth(550)係依據式(i)所算出的值。
Rth(550)=[{(nx+ny)/2}-nz]×d (i)
[式(i)中，
nx係在第2相位差層32之面內波長550nm處之主折射率，
ny係在與nx相同面內，與nx正交的方向之波長550nm處的折射率，
nz係在第2相位差層32的厚度方向之波長550nm處的折射率，nx=ny時，nx可設為在第2相位差層32之面內的任意方向之折射率，
d係第2相位差層32之膜厚。]
藉由顯示裝置3、4具有第2相位差層32，如圖3中之箭號所示，即使對於從入射於受光感測器42之反射光之中的斜方向入射之反射 光，亦可降低光量。從斜方向入射之反射光主要係在顯示單元40之平面圖中，為從顯示元件41之中的受光感測器42遠離的區域所射出之射出光在高折射率層45反射之光。從斜方向入射之反射光的光量係第2相位差層32之厚度方向相位差值Rth(550)在上述範圍時容易降低。藉此，可更加抑制受光感測器42之故障。
如圖3及圖4所示，第1貼合層21可設於高折射率層45與第2相位差層32之間，亦可與高折射率層45及第2相位差層32直接接觸。顯示裝置3、4及光學積層體53、54係在第2相位差層32與第1相位差層31之間具有第6貼合層26，第2相位差層32及第1相位差層31較佳係與第6貼合層26直接接觸。
在圖3及圖4所示的顯示裝置3、4及光學積層體53、54中，係說明有關在高折射率層45與第1相位差層31之間具有第2相位差層32的情形，但只要在高折射率層45與直線偏光層11之間具有第2相位差層32，並不限定於此。例如，第2相位差層32可設於第1相位差層31與直線偏光層11之間。此時，第2相位差層32較佳係覆蓋直線偏光層11之整體。第2相位差層32之平面圖形狀較佳係與第1相位差層31之平面圖形狀相同。
顯示裝置3、4及光學積層體53、54係在第1相位差層31與直線偏光層11之間具有第2相位差層32時，顯示裝置3、4及光學積層體53、54可在第2相位差層32與第1相位差層31之間具有第6貼合層26。又，第2貼合層22可設於第2相位差層32與直線偏光層11之間，例如，第2貼合層22可與第2相位差層32及第1保護膜12直接接觸。
以下，更詳細說明有關上述說明之顯示裝置及構成顯示裝置的層等。
(顯示裝置)
上述顯示裝置係可使用來作為液晶顯示裝置或有機EL(電致發光)顯示裝置。顯示裝置可為智慧型手機及平板電腦等之行動終端。顯示裝置可為可彎折的可撓性顯示器。
顯示裝置之顯示區域的平面圖之外形並無特別限定，可為矩形、正方形、矩形及正方形以外之多角形、或、此等之角為圓角(具有R之形狀)的圓角形狀。矩形、正方形、上述多角形、或圓角形狀之顯示區域係可具有用以配置照相機等之貫穿孔。
(顯示元件)
顯示元件可為液晶顯示元件或有機EL顯示元件。液晶顯示元件例如，可具有夾在2片之單元基板之間的液晶層之液晶單元及背光等。有機EL顯示元件係例如可具有發光層及電極等。
來自顯示元件之射出光係以波長320nm以上4000nm以下之光為佳，以波長380nm以上780nm以下(可見光區域)之光更佳，可為波長380nm以上720nm以下之光。
(受光感測器)
受光感測器係偵知入射之光。受光感測器可為偵知顯示裝置周圍之照度的照度感測器、偵知物體之接近的近接感測器、或構成相機等者。受光感測器較佳係可偵知波長320nm以上4000nm以下之光，更佳係可偵知波 長380nm以上780nm以下(可見光區域)之光及/或波長780nm以上4000nm以下(紅外光區域)之光。
(觸控感測器面板)
顯示裝置及光學積層體可包含觸控感測器面板。觸控感測器面板係可偵知使用者以手指等觸控的位置。觸控感測器面板可列舉例如：電阻膜方式、電容耦合方式、光感測器方式、超音波方式、電磁感應耦合方式、表面聲波方式等之觸控感測器面板，其中，適合使用以電阻膜方式、電容耦合方式之觸控感測器面板。
在顯示裝置及光學積層體中，觸控感測器面板可設於直線偏光層之辨識側(直線偏光層之第1相位差層側)，亦可設於直線偏光層之與辨識側為相反側。觸控感測器面板設於直線偏光層之辨識側時，觸控感測器面板可構成後述高折射率層。觸控感測器面板設於直線偏光層之與辨識側為相反側時，觸控感測器面板較佳係設於直線偏光層與顯示單元之間。
(高折射率層)
高折射率層係只要折射率在本實施型態規定的範圍(1.60以上)之層即可，並無特別限定。高折射率層若為具有上述折射率之層，可為顯示裝置之前面板或觸控感測器面板。高折射率層可具有單層構造，亦可具有多層構造。高折射率層具有多層構造時，只要該高折射率層具有上述折射率，高折射率層可包含折射率未達1.60之層。
前面板可構成顯示裝置之前表面。前面板只要為可使光穿透的板狀體即可，例如，可為樹脂板、樹脂膜、玻璃板、或玻璃膜等。前面 板可為單層構造，亦可為多層構造。前面板之折射率可為1.45以上1.9以下。
構成樹脂板或樹脂膜之聚合物只要為可使光穿透的樹脂即可，並無特別限定。如此的聚合物可列舉例如：三乙醯基纖維素、乙醯基纖維素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙醯基纖維素、丁醯基纖維素、乙醯基丙醯基纖維素、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚碸、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯胺醯亞胺等。此等聚合物係可單獨或混合2種以上而使用。在本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸係指丙烯酸及/或甲基丙烯酸，所謂(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
前面板為樹脂膜時，前面板可於樹脂膜之至少一面具有硬塗層。硬塗層係可列舉例如：紫外線硬化型樹脂之硬化層。紫外線硬化型樹脂係可列舉例如：單官能(甲基)丙烯酸樹脂、多官能(甲基)丙烯酸樹脂、具有樹枝狀聚合物構造之多官能(甲基)丙烯酸樹脂等(甲基)丙烯酸樹脂等之(甲基)丙烯酸樹脂；聚矽氧樹脂；聚酯樹脂；胺基甲酸乙酯樹脂；醯胺樹脂；環氧樹脂等。為了提高強度，硬塗層可含有添加劑。添加劑並無特別限定，可列舉無機系微粒子、有機系微粒子、或此等之混合物。在樹脂膜之兩面具有硬塗層時，各硬塗層之組成及厚度係可互為相同或不同。
前面板為玻璃板或玻璃膜時，較佳係使用顯示器用強化玻璃。
構成高折射率層之觸控感測器面板係可列舉上述觸控感測器面板。觸控感測器面板構成高折射率層時，觸控感測器面板之折射率為1.60以上，較佳係1.70以上，更佳係1.90以上，通常係2.70以下，較佳係2.60以下，更佳係2.40以下。
(第1相位差層、第2相位差層、第3相位差層、第4相位差層)
第1相位差層、第2相位差層、第3相位差層、及第4相位差層(以下，有時彙整此等而稱為「相位差層」。)可為延伸膜，亦可為包含聚合性液晶化合物之硬化物層者。
相位差層為延伸膜時，延伸膜係可使用以往公知者，可使用藉由使樹脂膜進行單軸延伸或雙軸延伸而賦予相位差者。樹脂膜係可使用三乙醯基纖維素及二乙醯基纖維素等纖維素膜、聚對苯二甲酸乙二酯、聚異苯二甲酸乙二酯、及聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯膜、聚(甲基)丙烯酸甲酯及聚(甲基)丙烯酸乙酯等丙烯酸樹脂膜、聚碳酸酯膜、聚醚碸膜、聚碸膜、聚醯亞胺膜、聚烯烴膜、聚降茨烯膜等，但並不限定於此等。
相位差層為延伸膜時，相位差層之厚度通常為5μm以上200μm以下，較佳係10μm以上80μm以下，又更佳係40μm以下。
相位差層為包含上述硬化物層者時，聚合性液晶化合物係可使用以往公知之聚合性液晶化合物。聚合性液晶化合物係具有至少1個聚合性基，且具有液晶性之化合物。
聚合性液晶化合物之種類並無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物、及此等之混合物。藉由使聚合性液晶化合物聚 合所形成的硬化物層係藉由以朝適合聚合性液晶化合物的方向定向的狀態下硬化而顯現相位差。棒狀之聚合性液晶化合物相對於顯示裝置之平面方向水平定向或垂直定向時，該聚合性液晶化合物之光軸係與該聚合性液晶化合物之長軸方向一致。當圓盤狀之聚合性液晶化合物定向時，該聚合性液晶化合物之光軸係存在於與該聚合性液晶化合物之圓盤面正交之方向。棒狀之聚合性液晶化合物可適合使用例如日本特表平11-513019號公報(請求項1等)之記載者。圓盤狀之聚合性液晶化合物係可適合使用日本特開2007-108732號公報(段落[0020]至[0067]等)、日本特開2010-244038號公報(段落[0013]至[0108]等)之記載者。
所謂聚合性液晶化合物具有的聚合性基係指參與聚合反應之基，以光聚合性基為佳。所謂光聚合性基係指藉由從光聚合起始劑產生的活性自由基或酸等而可參與聚合反應的基。聚合性基係可列舉乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、(甲基)丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧環丁烷基、苯乙烯基、烯丙基等。其中，以(甲基)丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧環丁烷基為佳，以丙烯醯氧基更佳。聚合性液晶化合物具有的液晶性可為熱致液晶，亦可為溶致液晶，若使熱致液晶以有序度進行分類，可為向列型液晶亦可為層列型液晶。為了形成聚合性液晶化合物之硬化物層，併用2種類以上之聚合性液晶化合物時，較佳係至少1種在分子內具有2個以上之聚合性基。在本說明書中，所謂(甲基)丙烯醯基係指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基。
相位差層為包含上述硬化物層者時，相位差層係可含有定向層。定向層係具有使聚合性液晶化合物朝所希望之方向定向的定向限制力。 定向層係可為使聚合性液晶化合物之分子軸對顯示裝置之平面方向垂直定向的垂直定向層，亦可為使聚合性液晶化合物之分子軸對顯示裝置之平面方向水平定向的水平定向層，亦可為使聚合性液晶化合物之分子軸對顯示裝置之平面方向傾斜定向的傾斜定向層。相位差層包含2個以上定向層時，定向層係可互為相同或不同。
定向層較佳係具有不被包含聚合性液晶化合物之液晶層形成用組成物的塗佈等溶解之溶劑耐性，具有對用以去除溶劑或使聚合性液晶化合物定向的加熱處理之耐熱性者。定向層係可列舉以定向性聚合物所形成的定向性聚合物層、以光定向聚合物所形成的光定向性聚合物層、在層表面具有凹凸圖型或複數之溝槽(溝)的溝槽定向層。
上述硬化物層係可使包含聚合性液晶化合物及溶劑、依需要之各種添加劑的相位差層形成用之組成物塗佈於定向層上而形成塗膜，使該塗膜固化(硬化)，藉此而形成聚合性液晶化合物之硬化物層。或者，可在基材層上塗佈上述組成物而形成塗膜，藉由使該塗膜與基材層一起進行延伸而形成硬化物層。上述組成物係除了上述聚合性液晶化合物及溶劑以外，尚可包含聚合起始劑、反應性添加劑、調平劑、聚合抑制劑等。聚合性液晶化合物、溶劑、聚合起始劑、反應性添加劑、調平劑、聚合抑制劑等係可適當使用公知者。
基材層係可使用以樹脂材料所形成的膜，可列舉例如：使用說明作為用以形成後述第1保護膜所使用的熱塑性樹脂之樹脂材料的膜。基材層之厚度並無特別限定，但一般從強度及操作性等作業性之點而言，以1至300μm以下為佳，以20至200μm更佳，以30至120μm又更佳。 基材層可與聚合性液晶化合物之硬化物層一起併入顯示裝置中，亦可剝離基材層，而僅以聚合性液晶化合物之硬化物層、或、該硬化物層及定向層併入顯示裝置中。基材層與聚合性液晶化合物之硬化物層一起併入顯示裝置時，基材層之厚度可為未達30μm，例如，可為25μm以下。
相位差層為包含上述硬化物層者時，相位差層之厚度較佳係0.1μm以上，更佳係0.2μm以上，又，較佳係3μm以下，更佳係2μm以下。
(直線偏光層)
直線偏光層係具有使無偏光之光入射時，使具有與吸收軸正交的振動面之直線偏光穿透的性質。直線偏光層係可為碘進行吸附定向之聚乙烯醇系樹脂膜(以下，有時稱為「PVA系膜」。)，亦可為包含使包含具有吸收異向性及液晶性之化合物的組成物塗佈於基材膜所形成的液晶性之偏光層的膜。具有吸收異向性及液晶性之化合物可為具有吸收異向性之色素及具有液晶性之化合物的混合物，亦可為具有吸收異向性及液晶性之色素。
直線偏光層較佳係碘進行吸附定向之PVA系膜。屬於PVA系膜之直線偏光層可列舉例如：在聚乙烯醇膜、部分甲醛化聚乙烯醇膜、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等PVA系膜，施予以碘進行的染色處理、及延伸處理者等。依需要，可進行洗淨步驟，該洗淨步驟係藉由染色處理使碘經吸附定向之PVA系膜以硼酸水溶液處理後，洗掉硼酸水溶液。在各步驟係可採用公知之方法。
聚乙烯醇系樹脂(以下，有時稱為「PVA系樹脂」。)係可藉由使聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化來製造。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了屬於乙酸 乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯之外，尚亦可為乙酸乙烯酯與可與乙酸乙烯酯共聚的其它單體之共聚物。可與乙酸乙烯酯共聚的其它單體可列舉例如：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
PVA系樹脂之皂化度通常為85至100莫耳%左右，較佳係98莫耳%以上。PVA系樹脂係可被改性，例如，亦可使用以醛類改性的聚乙烯基甲醛或聚乙烯縮醛等。PVA系樹脂之平均聚合度通常為1,000至10,000左右，較佳係1,500至5,000左右。PVA系樹脂之皂化度及平均聚合度係可依據JIS K 6726(1994)而求出。平均聚合度未達1000時，難以獲得較佳的偏光性能，在超過10000係有膜加工性變差之情形。
屬於PVA系膜之直線偏光層的製造方法係可為包含下列步驟：準備基材膜，在基材膜上塗佈PVA系樹脂等樹脂之溶液，進行去除溶劑之乾燥等而在基材膜上形成樹脂層。又，在形成有基材膜之樹脂層的面係可預先形成預聚物層。基材膜係可使用後述說明作為用以形成第1保護膜所使用的熱塑性樹脂之樹脂材料的膜。預聚物層之材料係可列舉使在直線偏光層所使用的親水性樹脂經交聯的樹脂等。
然後，依需要而調整樹脂層之水分等溶劑量後，使基材膜及樹脂層進行單軸延伸，繼而，使樹脂層以碘進行染色而使碘在樹脂層吸附定向。其次，依需要而進行洗淨步驟，該洗淨步驟係以硼酸水溶液處理碘經吸附定向之樹脂層後，洗掉硼酸水溶液。藉此，製造碘經吸附定向之樹脂層，亦即，成為直線偏光層之PVA系膜。在各步驟係可使用公知方法。
在處理碘經吸附定向之PVA系膜或樹脂層的含硼酸的水溶液中之硼酸量通常係水每100質量份，為2至15質量份左右，以5至12質量份為佳。該含硼酸的水溶液係以含有碘化鉀為佳。在含硼酸的水溶液中之碘化鉀的量通常係水每100質量份，為0.1至15質量份左右，以5至12質量份左右為佳。在含硼酸的水溶液之浸漬時間通常為60至1,200秒左右，以150至600秒左右為佳，以200至400秒左右更佳。含硼酸的水溶液之溫度通常係50℃以上，以50至85℃為佳，以60至80℃更佳。
PVA系膜、以及基材膜及樹脂層之單軸延伸係可在染色之前進行，可在染色中進行，可在染色後之硼酸處理中進行，亦可在此等複數個階段中分別進行單軸延伸。PVA系膜、以及基材膜及樹脂層係可在MD方向(膜輸送方向)進行單軸延伸，此時，可在周速相異的輥間進行單軸延伸，亦可使用熱輥進行單軸延伸。又，PVA系膜、以及基材膜及樹脂層係可朝TD方向(與膜輸送方向垂直的方向)進行單軸延伸，此時，可使用所謂的拉幅器法。又，上述延伸係可為在大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可為以溶劑使PVA系膜或樹脂層膨潤的狀態下進行延伸之濕式延伸。為了顯現直線偏光層之性能，延伸倍率係4倍以上，以5倍以上為佳，以5.5倍以上為特佳。延伸倍率之上限並無特別限制，但從抑制破裂等之觀點而言，以8倍以下為佳。
以使用基材膜之製造方法所製作的直線偏光層係可積層第1保護膜或第2保護膜之後剝離基材膜而獲得。若依據該方法，直線偏光層可進一步薄膜化。
屬於PVA系膜之直線偏光層的厚度係以1μm以上為佳，可為2μm以上，亦可為5μm以上，又，以30μm以下為佳，以15μm以下更佳，可為10μm以下，亦可為8μm以下。
包含液晶性之偏光層的膜係可列舉將具有液晶性及吸收異向性之色素的組成物、或、包含具有吸收異向性之色素與聚合性液晶之組成物塗佈於基材膜所得到的直線偏光層。基材膜可列舉例如：使用說明作為用以形成後述第1保護膜所使用的熱塑性樹脂之樹脂材料的膜。包含液晶性之偏光層的膜可列舉例如：日本特開2013-33249號公報等記載之偏光層。
如上述方式形成的基材膜與直線偏光層之合計厚度係以小者為佳，但若太小，強度降低，有加工性變差之傾向，故通常為20μm以下，較佳係5μm以下，更佳係0.5至3μm。
如上述方式所得到的直線偏光層(PVA系膜、包含液晶性之偏光層的膜)係可在其單面或兩面隔著接著劑而以設為積層有後述第1保護膜及/或第2保護膜的直線偏光板之狀態下併入顯示裝置中。包含液晶性之偏光層的膜係可使上述基材膜設為第1保護膜或第2保護膜。
(第1保護膜、第2保護膜)
第1保護膜及第2保護膜係可使用例如由透明性、機械強度、熱安定性、水分阻隔性、等向性、延伸性等優異的熱塑性樹脂所形成之膜。熱塑性樹脂之具體例係可列舉三乙醯基纖維素等纖維素樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚醚碸樹脂；聚碸樹脂；聚碳酸酯樹脂；尼龍或芳香族聚醯胺等聚醯胺樹脂；聚醯亞胺樹脂；聚乙烯、聚丙 烯、乙烯/丙烯共聚物等聚烯烴樹脂；具有環系及降茨烯構造之環狀聚烯烴樹脂(亦稱為降茨烯系樹脂)；(甲基)丙烯酸樹脂；聚芳酯樹脂；聚苯乙烯樹脂；聚乙烯醇樹脂、以及此等之混合物。第1保護膜及第2保護膜之樹脂組成可為相同，亦可為相異。
第1保護膜可為具有抗反射特性、防眩特性、硬塗特性等者(以下，有時將具有該特性之保護膜稱為「功能性保護膜」。)。第1保護膜不為功能性保護膜時，在直線偏光板之單面係可設有抗反射層、防眩層、硬塗層等表面功能層。表面功能層較佳係設成與第1保護膜直接接觸者。表面功能層較佳係設於第1保護膜之與直線偏光層側為相反側者。
第1保護膜及第2保護膜較佳係分別獨立地為3μm以上，以5μm以上更佳，又，以50μm以下為佳，以30μm以下更佳。
(第1貼合層、第2貼合層、第3貼合層、第4貼合層、第5貼合層、第6貼合層)
第1貼合層、第2貼合層、第3貼合層、第4貼合層、第5貼合層、第6貼合層、及貼合層(以下，有時彙整此等稱為「貼合層」。)係分別獨立地為黏著劑層或接著劑層。
貼合層為黏著劑層時，係使用黏著劑組成物所形成的黏著劑層。黏著劑組成物或黏著劑組成物之反應生成物係使其本身貼合於金屬層等被黏體，以顯現接著性者，被稱為所謂之壓敏型接著劑。又，使用後述活性能量線硬化型黏著劑組成物所形成的黏著劑層係可藉由照射活性能量線，調整交聯度或接著力。
黏著劑組成物並無特別限制，可使用以往公知光學透明性優異的黏著劑，例如，可使用含有丙烯酸聚合物、胺基甲酸乙酯聚合物、聚矽氧聚合物、聚乙烯基醚等之基材聚合物的黏著劑組成物。又，黏著劑組成物可為活性能量線硬化型黏著劑組成物、或熱硬化型黏著劑組成物等。此等之中，適合為以透明性、黏著力、再剝離性(重工性)、耐候性、耐熱性等優異之丙烯酸樹脂作為基材聚合物之黏著劑組成物。黏著劑層較佳係由包含(甲基)丙烯酸樹脂、交聯劑、矽烷化合物之黏著劑組成物的反應生成物所構成，亦可包含其它成分。
黏著劑層係可使用活性能量線硬化型黏著劑而形成。活性能量線硬化型黏著劑係在上述黏著劑組成物中調配多官能性丙烯酸酯等紫外線硬化性化合物，形成黏著劑層之後照射紫外線而使其硬化，藉此可形成更硬的黏著劑層。活性能量線硬化型黏著劑係具有受到紫外線或電子束等能量線的照射而硬化之性質。活性能量線硬化型黏著劑係在能量線照射前亦具有黏著性，故具有密著於被黏體且可藉由能量線之照射而硬化來調整密著力之性質。
黏著劑層之厚度並無特別限定，較佳係5μm以上，可為10μm以上，可為15μm以上，可為20μm以上，亦可為25μm以上，通常為300μm以下，可為250μm以下，可為100μm以下，亦可為50μm以下。
貼合層為接著劑層時，接著劑層係可藉由使接著劑組成物中之硬化性成分硬化而形成。用以形成接著劑層之接著劑組成物係壓敏型接著劑(黏著劑)以外之接著劑，可列舉例如：水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑。
水系接著劑可列舉例如：使聚乙烯醇樹脂溶解、或分散於水之接著劑。對於使用水系接著劑時之乾燥方法並無特別限定，例如可採用使用熱風乾燥機或紅外線乾燥機進行乾燥之方法。
活性能量線硬化型接著劑可列舉例如：無溶劑型活性能量線硬化型接著劑，其係包含藉由如紫外線、可見光、電子束、X射線之活性能量線之照射而硬化的硬化性化合物。藉由使用無溶劑型之活性能量線硬化型接著劑，可提高層間之密著性。
活性能量線硬化型接著劑係因顯示良好的接著性，故較佳係包含陽離子聚合性之硬化性化合物、自由基聚合性之硬化性化合物之任一者或兩者。活性能量線硬化型接著劑係可更包含用以使上述硬化性化合物之硬化反應起始的光陽離子聚合起始劑等陽離子聚合起始劑、或自由基聚合起始劑。
陽離子聚合性之硬化性化合物可列舉例如：具有鍵結於脂環式環之環氧基的脂環式環氧化合物、具有2個以上環氧基且不具有芳香環之多官能脂肪族環氧化合物、具有1個環氧基之單官能環氧基(但，含在脂環式環氧化合物者除外)、具有2個以上環氧基且具有芳香環之多官能芳香族環氧化合物等環氧系化合物；分子內具有1個或2個以上氧環丁烷環之氧環丁烷化合物；此等之組合。
自由基聚合性之硬化性化合物可列舉例如：在(甲基)丙烯酸化合物(分子內具有1個或2個以上之(甲基)丙烯醯氧基的化合物)、具有自由基聚合性雙鍵的其它乙烯系化合物、或此等之組合。
活性能量線硬化型接著劑係可依需要而含有光敏劑等之敏化劑。藉由使用敏化劑，反應性會提高，且可使接著劑層之機械強度或接著強度更提高。敏化劑係可適當應用公知者。調配敏化劑時，相對於活性能量線硬化型接著劑之總量100質量份，其調配量係以0.1至20質量份之範圍為佳。
活性能量線硬化型接著劑係可依需要而含有離子捕獲劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增黏劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑、抗靜電劑、調平劑、溶劑等添加劑。
使用活性能量線硬化型接著劑時，可照射如紫外線、可見光、電子束、X射線之活性能量線使接著劑之塗佈層硬化而形成接著劑層。活性能量線係以紫外線為佳，此時之光源係可使用低壓水銀灯、中壓水銀灯、高壓水銀灯、超高壓水銀灯、化學燈、黑光燈、微波激發水銀灯、金屬鹵素燈等。
貼合層為接著劑層時之厚度係以0.1μm以上為佳，可為0.5μm以上，又，以10μm以下為佳，可為5μm以下。
[實施例]
以下，顯示實施例而更具體地說明本發明，但本發明係不受此等之例所限定者。
[折射率之測定]
高折射率層之折射率係在25℃環境下使用多波長ABBE折射計[ATAGO股份有限公司製“DR-M4”]，使測定波長為589nm而進行測定。
[視感度修正單體穿透率Ty之測定]
對於直線偏光層，使用附積分球的分光光度計[日本分光股份有限公司製之「V7100」]測定在波長380至780nm之範圍的MD穿透率及TD穿透率，依據下述式算出在各波長之單體穿透率。
單體穿透率(%)=(MD+TD)/2
所謂「MD穿透率」係使從格蘭-湯普森稜鏡(Glan-Thompson Prism)射出之偏光的方向與直線偏光層之穿透軸形成為平行時之穿透率，在上述式中係表示為「MD」。又，所謂「TD穿透率」係使從格蘭-湯普森稜鏡射出之偏光的方向與直線偏光層之穿透軸形成為正交時之穿透率，在上述式中，係表示為「TD」。對於所得到的單體穿透率，藉由JIS Z 8701：1999「色之顯示方法-XYZ表色系及X10Y10Z10表色系」之2維視野(C光源)進行視感度修正，求出視感度修正單體穿透率。
[面內相位差值之測定]
第1相位差層及第1保護膜之面內相位差值係使用相位差測定裝置(王子計測機器股份有限公司製KOBRA-WPR)而測定。
[厚度方向相位差值之測定]
第2相位差層之厚度方向相位差值係使用相位差測定裝置(王子計測機器股份有限公司製KOBRA-WPR)而測定。在測定中，改變光對第2相位差層的入射角，測定以第2相位差層之正面相位差值、及快軸作為中心而傾斜40°時之相位差值。在各波長之平均折射率係使用日本分光股份有限公司製之橢圓偏光儀M-220而測定。又，第2相位差層之厚度係使用濱松PHOTONICS股份有限公司製之Optical NanoGauge膜厚計C12562-01而測定。從在上述經測定之正面相位差值、快軸作為中心而傾斜40°時 之相位差值、平均折射率、第2相位差層之厚度的值，參考王子計測機器技術資料(https：//oji-keisoku.co.jp/cms/uploads/kbr_shiryo04.pdf)算出3維折射率。從所得到的3維折射率，依據上述式(i)，算出第2相位差層之厚度方向相位差值Rth。
[刺激值Y之測定]
在刺激值Y之測定係使用分光測色計[Konica Minolta公司製之CM2600d]。從積層體之蛾眼膜側使分光測色計之光入射，測定其反射光之刺激值Y。又，蛾眼膜之反射率極小，故空氣與蛾眼膜之界面反射對分光測色計之光之影響係可忽略不計。在測定時，確認出從分光測色計之受發光部在光行進方向1m以內無光反射性之物體，為了去除因外光所造成的影響，在充分黑暗的環境進行測定。以在該測定環境下無測定試樣(積層體)之狀態進行分光測色計之測定的結果，確認出刺激值Y為0.1%以下。因此，在上述測定環境下測定積層體之刺激值Y時，分光測色計偵知之光係以偏光片吸收一部分，成為僅在高折射率層經反射之光。
[實施例1]
(偏光片(1)之製作)
使厚度20μm之聚乙烯醇系樹脂膜(平均聚合度約為2400，皂化度為99.9莫耳%以上。)藉由乾式延伸以延伸倍率約4.5倍進行縱向單軸延伸。直接以維持延伸後之拉緊狀態，浸漬於溫度為30℃之純水中60秒鐘。繼而，直接以維持拉緊狀態，碘/碘化鉀/水之質量比為0.05/5/100，浸漬於溫度為28℃之碘/碘化鉀水溶液60秒鐘。繼而，直接維持拉緊狀態，碘化鉀/硼酸/水之質量比為15/5.5/100，浸漬於溫度為64℃之碘化鉀/硼酸水溶液 中170秒鐘。繼而，直接以維持拉緊狀態，以溫度10℃之純水洗淨5秒鐘，繼而，直接以維持拉緊狀態，在大氣中以溫度80℃乾燥70秒鐘，碘在聚乙烯醇系樹脂膜進行吸附定向，製作厚度為8μm之偏光片(1)(直線偏光層)。該偏光片(1)之視感度修正單體穿透率Ty為42.2±0.5%。
(第1相位差層(1)之準備)
準備具有硬塗層之厚度25μm的環狀聚烯烴樹脂膜作為第1相位差層(1)。第1相位差層(1)在波長550nm的面內相位差值為100nm。
(水系接著劑之調製)
在水100質量份中使羧基改性聚乙烯醇[KURARAY股份有限公司製「KL-318」]3質量份溶解，獲得聚乙烯醇水溶液，在該聚乙烯醇水溶液(水100質量份)中加入水溶性聚醯胺環氧樹脂[田岡化學工業股份有限公司製「Sumirez Resin 650(30)」、固形分濃度30質量%]1.5質量份(固形分為0.45質量份)，獲得水系接著劑。
(直線偏光板(1)之製作)
準備厚度13μm之環狀聚烯烴樹脂膜作為第1保護膜。又，準備在表面不施予皂化處理之三乙醯基纖維素系樹脂膜[Konica Minolta股份有限公司製「KC4UY」、厚度40μm]作為第2保護膜。
在上述獲得之偏光片(1)的一面，隔著上述獲得之水系接著劑，重疊上述準備之第1保護膜(環狀聚烯烴樹脂膜)，在偏光片(1)之另一面隔著純水，重疊上述準備之第2保護膜(三乙醯基纖維素系樹脂膜)，通過一對貼合輥間之後，在溫度85℃下加熱乾燥3分鐘，藉此使水系接著劑硬化而形成作為第3貼合層之接著劑層，製作具有第1保護膜/第3貼合層 /偏光片(1)/第2保護膜之層構造的直線偏光板(1)。上述第1保護膜在波長550nm的面內相位差值為0nm。
(高折射率層之製作)
在無鹼玻璃板[CORNING公司製「EAGLE XG」、折射率1.50]之一面，使屬於氧化銦與氧化錫之混合物的ITO(氧化銦錫：Indium Tin Oxide)藉由真空蒸鍍法成膜，形成厚度100μm之ITO層，獲得屬於無鹼玻璃板與ITO層之積層構造體的高折射率層。從ITO層側測定該高折射率層之折射率，結果為2.00。
(積層體(1)之製作)
其次，從直線偏光板(1)剝離第2保護膜，在露出之偏光片(1)側，隔著第4貼合層(厚度25μm之丙烯酸系黏著劑層)，積層蛾眼膜(GEOMATECH公司製g.moth)，在直線偏光板(1)之第1保護膜側依序積層第2貼合層(厚度5μm之丙烯酸系黏著劑層)、第1相位差層(1)、第1貼合層(厚度25μm之丙烯酸系黏著劑層)、折射率1.50之無鹼玻璃板(EAGLE XG、折射率1.50)與高折射率層(ITO層)之積層構造體(折射率2.00)、黑色亞克力板，製作積層體(1)。積層體(1)係以高折射率層成為黑色亞克力板側之方式積層。高折射率層與黑色亞克力板之間係在積層前藉由滴入之乙醇充滿而排除空氣層。第1相位差層(1)係以硬塗層側成為高折射率層側之方式積層。在積層體(1)中，第1相位差層(1)之慢軸與直線偏光板(1)之偏光片(1)的吸收軸構成的角度為45°。所得到的積層體(1)之層構造係黑色亞克力板/乙醇/高折射率層/第1貼合層/第1相位差層(1)/第2貼合層/第1保護膜/第3貼合層/偏光片(1)/第4貼合層/蛾眼膜。將測定積層體(1)之刺激值Y的結果 呈示於表1中。蛾眼膜係以無視第4貼合層與空氣層之間的界面反射之影響而進行積層體(1)之評定方式設置者，在實際之顯示裝置中，係在第4貼合層之與偏光片(1)為相反側配置顯示單元。
[實施例2]
(第1相位差層(2)之準備)
準備厚度50μm之環狀聚烯烴樹脂膜作為第1相位差層(2)。第1相位差層(2)在波長550nm的面內相位差值為141nm。
(積層體(2)之製作)
除了使用第1相位差層(2)取代第1相位差層(1)以外，其餘係以與實施例1相同之順序獲得積層體(2)。所得到的積層體(2)之層構造係黑色亞克力板/乙醇/高折射率層/第1貼合層/第1相位差層(2)/第2貼合層/第1保護膜/第3貼合層/偏光片(1)/第4貼合層/蛾眼膜。將測定積層體(2)之刺激值Y的結果呈示於表1中。
[實施例3]
(水平定向膜形成用組成物之調製)
混合下述構造之光定向性聚合物(日本特開2013-33249號公報中記載)5質量份與環戊酮(溶劑)95質量份，在溫度80℃攪拌1小時，獲得水平定向膜形成用組成物。
‧光定向性聚合物(5質量份)：
Figure 111122893-A0202-12-0033-1
‧溶劑(95質量份)：環戊酮
(第1相位差層(3)之形成用的聚合性液晶組成物(A1)之調製)
以質量比90：10混合聚合性液晶化合物(X1)及聚合性液晶化合物(X2)，獲得混合物。相對於所得到的混合物100份，添加調平劑「BYK-361N」(BM Chemie公司製)0.1份、作為光聚合起始劑之2-二甲基胺基-2-苯甲基-1-(4-嗎福林基苯基)丁烷-1-酮(BASF JAPAN股份有限公司製「IRGACURE(註冊商標)369(Irg 369)」)6份。再者，以固形分濃度成為13%之方式添加N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP)。藉由將該混合物在80℃下攪拌1小時，獲得第1相位差層(3)之形成用的聚合性液晶組成物(A1)。
聚合性液晶化合物(X1)：
Figure 111122893-A0202-12-0034-2
聚合性液晶化合物(X2)：
Figure 111122893-A0202-12-0034-3
(第1相位差層(3)之製作)
在日本ZEON股份有限公司製之COP(環狀烯烴系樹脂)膜(ZF-14-50)上實施電暈處理之後，將上述獲得之水平定向膜形成用組成物以桿塗佈機進行塗佈，在80℃下乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-9；USHIO電機股份有限公司製)，在波長313nm之累積光量：以100mJ/cm2實施偏光UV曝光，獲得水平定向膜。以橢圓偏光儀測定所得到的水平定向膜之膜厚後，結果為200nm。
繼而，在平定向膜上使用桿塗佈機塗佈上述獲得的聚合性液晶組成物(A1)，在120℃下加熱60秒鐘之後，使用高壓水銀燈(UNICURE VB-15201BY-A、USHIO電機股份有限公司製)，藉由從塗佈有聚合性液晶組成物(A1)之面照射紫外線(氮環境下、波長365nm之累積光量：500mJ/cm2)，形成水平定向液晶層(聚合性液晶化合物之硬化物層)，獲得具有COP膜/水平定向膜/水平定向液晶層之層構造的積層構造體(A1)。確認在COP膜無相位差之後，以積層構造體(A1)在波長450nm及波長550nm的面內相位差值Re(450)及Re(550)作為第1相位差層(3)之面內相位差值Re(450)及Re(550)而經測定後，Re(550)為139nm。算出Re(450)/Re(550)，結果為0.87，確認出該積層體係顯示逆波長分散性。
剝離積層構造體(A1)之COP膜，使水平定向膜/水平定向液晶層作為第1相位差層(3)。
(積層體(3)之製作)
除了使用第1相位差層(3)取代第1相位差層(1)以外，其餘係以與實施例1相同之順序獲得積層體(3)。第1相位差層(3)係以水平定向膜側成為高折射率層側之方式積層。所得到的積層體(3)之層構造係黑色亞克力板/乙醇/高折射率層/第1貼合層/第1相位差層(3)/第2貼合層/第1保護膜/第3貼合層/偏光片(1)/第4貼合層/蛾眼膜。將測定積層體(3)之刺激值Y的結果呈示於表1中。
[實施例4]
(垂直定向膜形成用組成物之調製)
使矽烷偶合劑「KBE-9103」(信越化學工業股份有限公司製)溶解於以9：1(重量比)之比例混合乙醇與水而成的混合溶劑中，獲得固形分濃度為1%之垂直定向膜形成用組成物。
(第2相位差層(1)之形成用的聚合性液晶組成物(A2)之調製)
相對於屬於聚合性液晶化合物之Paliocolor LC242(BASF公司註冊商標)100份，添加0.1份作為調平劑的F-556、及3份作為聚合起始劑的IRGACURE 369。添加環戊酮以使固形分濃度成為13%，獲得聚合性液晶組成物(A2)。
(第2相位差層(1)之製作)
於日本ZEON股份有限公司製之COP(環狀烯烴系樹脂)膜(ZF-14-50)上實施電暈處理之後，以桿塗佈機塗佈垂直定向膜形成用組成物，在120℃下乾燥1分鐘，獲得垂直定向膜。以橢圓分析儀測定所得到的垂直定向膜之膜厚，結果為100nm。
繼而，在垂直定向膜上使用桿塗佈機塗佈在上述得到的聚合性液晶組成物(A2)，在120℃下乾燥1分鐘之後，使用高壓水銀燈(UNICURE VB-15201BY-A、USHIO電機股份有限公司製)，藉由從塗佈有聚合性液晶組成物(A2)之面側照射紫外線(氮環境下、在波長365nm之累積光量：500mJ/cm2)，形成垂直定向液晶層(聚合性液晶化合物之硬化物層)，獲得具有COP膜/垂直定向膜/垂直定向液晶層之層構造的積層構造體(A2)。確認出在COP膜無相位差之後，以積層構造體(A2)在波長550nm 的厚度方向相位差值Rth(550)作為第2相位差層(1)之厚度方向相位差值Rth(550)而測定後，結果Rth(550)為-70nm。
剝離積層構造體(A2)之COP膜及垂直定向膜，以垂直定向液晶層作為第2相位差層(1)。
(積層體(4)之製作)
使用紫外線硬化型接著劑貼合以與實施例3相同之順序製作出的第1相位差層(3)之水平定向液晶層側與第2相位差層(1)，使紫外線硬化型接著劑硬化，形成作為第6貼合層之接著劑層(厚度1μm)，製作第2相位差層(1)/第6貼合層/第1相位差層(3)之相位差積層體。
除了使用相位差積層體取代第1相位差層(1)以外，其餘係以與實施例1相同之順序獲得積層體(4)。相位差積層體係以第2相位差層(1)側成為高折射率層側之方式積層。所得到的積層體(4)之層構造係黑色亞克力板/乙醇/高折射率層/第1貼合層/第2相位差層(1)/第6貼合層/第1相位差層(3)/第2貼合層/第1保護膜/第3貼合層/偏光片(1)/第4貼合層/蛾眼膜。將測定積層體(4)之刺激值Y的結果呈示於表1中。
[表1]
Figure 111122893-A0202-12-0037-4
[實施例5]
(偏光片(2)之製作)
將厚度20μm之聚乙烯醇系樹脂膜(平均聚合度約為2400，皂化度為99.9莫耳%以上。)藉由乾式延伸以延伸倍率約4.5倍進行縱向單軸延伸。直接以維持延伸後之拉緊狀態，浸漬於溫度為30℃之純水中60秒鐘。繼而，直接以維持拉緊狀態，碘/碘化鉀/水之質量比為0.02/5/100，浸漬於溫度為28℃之碘/碘化鉀水溶液中60秒鐘。繼而，直接以維持拉緊狀態，碘化鉀/硼酸/水之質量比為15/5.5/100，浸漬於溫度為64℃之碘化鉀/硼酸水溶液中45秒鐘。繼而，直接維持拉緊狀態，以溫度10℃之純水洗淨5秒鐘，繼而，直接以維持拉緊狀態，在大氣中以溫度80℃乾燥75秒鐘，碘在聚乙烯醇系樹脂膜進行吸附定向，製作厚度為8μm之偏光片(2)(直線偏光層)。該偏光片(2)之視感度修正單體穿透率Ty為46.0±0.5%。
(積層體(5)之製作)
除了使用偏光片(2)取代偏光片(1)以外，其餘係以與實施例1相同之順序獲得積層體(5)。所得到的積層體(5)之層構造係黑色亞克力板/乙醇/高折射率層/第1貼合層/第1相位差層(1)/第2貼合層/第1保護膜/第3貼合層/偏光片(2)/第4貼合層/蛾眼膜。將測定積層體(5)之刺激值Y的結果呈示於表2中。
[實施例6]
除了使用偏光片(2)取代偏光片(1)以外，其餘係以與實施例2相同之順序獲得積層體(6)。所得到的積層體(6)之層構造係黑色亞克力板 /乙醇/高折射率層/第1貼合層/第1相位差層(2)/第2貼合層/第1保護膜/第3貼合層/偏光片(2)/第4貼合層/蛾眼膜。將測定積層體(6)之刺激值Y的結果呈示於表2中。
[實施例7]
除了使用偏光片(2)取代偏光片(1)以外，其餘係以與實施例3相同之順序獲得積層體(7)。所得到的積層體(7)之層構造係黑色亞克力板/乙醇/高折射率層/第1貼合層/第1相位差層(3)/第2貼合層/第1保護膜/第3貼合層/偏光片(2)/第4貼合層/蛾眼膜。將測定積層體(7)之刺激值Y的結果呈示於表2中。
[實施例8]
除了使用偏光片(2)取代偏光片(1)以外，其餘係以與實施例4相同之順序獲得積層體(8)。所得到的積層體(8)之層構造係黑色亞克力板/乙醇/高折射率層/第1貼合層/第2相位差層(1)/第6貼合層/第1相位差層(3)/第2貼合層/第1保護膜/第3貼合層/偏光片(2)/第4貼合層/蛾眼膜。將測定積層體(8)之刺激值Y的結果呈示於表2中。
[比較例1]
除了不積層第1相位差層(1)及第2貼合層，而在第1保護膜上隔著第1黏著劑層而積層高折射率層以外，其餘係以與實施例5相同之順序獲得積層體(9)。所得到的積層體(9)之層構造係黑色亞克力板/乙醇/高折射率層/第1貼合層/第1保護膜/第3貼合層/偏光片(2)/第4貼合層/蛾眼膜。將測定積層體(9)之刺激值Y的結果呈示於表2中。
[表2]
Figure 111122893-A0202-12-0040-5
從表1及表2所示的結果，可知若第1相位差層之面內相位差值為80nm以上170nm以下之範圍，刺激值Y變小，並可降低入射於顯示單元之受光元件的反射光。又，可知即使在積層體所含有的偏光片之視感度修正單體穿 透率Ty較大時，亦可減少刺激值Y，並可降低入射於顯示單元之受光元件的反射光。
1:顯示裝置
11:直線偏光層
12:第1保護膜
21:第1貼合層
22:第2貼合層
23:第3貼合層
24:第4貼合層
31:第1相位差層
40:顯示單元
41:顯示元件
42:受光感測器
45:高折射率層
51:光學積層體

Claims (19)

  1. 一種顯示裝置，係從辨識側依序具有高折射率層、第1相位差層、直線偏光層、及顯示單元，且
    前述高折射率層之折射率為1.60以上，
    前述顯示單元係具有顯示元件及受光感測器，
    前述第1相位差層及前述直線偏光層係以覆蓋前述顯示元件及前述受光感測器之方式積層。
  2. 如請求項1所述之顯示裝置，其中，在平面圖中，前述第1相位差層係覆蓋前述直線偏光層之辨識側的整面。
  3. 如請求項1或2所述之顯示裝置，其中，前述直線偏光層之視感度修正單體穿透率為42%以上。
  4. 如請求項1或2所述之顯示裝置，其中，前述第1相位差層之慢軸與前述直線偏光層之吸收軸構成的角度為10°以上80°以下。
  5. 如請求項1或2所述之顯示裝置，其中，前述第1相位差層在波長550nm的面內相位差值為80nm以上170nm以下。
  6. 如請求項5所述之顯示裝置，其中，前述第1相位差層具有逆波長分散性。
  7. 如請求項5所述之顯示裝置，其更在前述高折射率層與前述直線偏光層之間具有第2相位差層，
    前述第2相位差層係以覆蓋前述顯示元件及前述受光感測器之方式積層，
    前述第2相位差層在波長550nm的厚度方向相位差值為-140nm以上-20nm以下。
  8. 如請求項1或2所述之顯示裝置，其中，來自前述顯示元件之射出光在前述高折射率層反射時之反射光的刺激值Y為3.45%以上4.54%以下。
  9. 如請求項1或2所述之顯示裝置，其中，前述受光感測器係可偵知波長為320nm以上4000nm以下之光。
  10. 如請求項1或2所述之顯示裝置，其中，來自前述顯示元件之射出光係波長為320nm以上4000nm以下之光。
  11. 如請求項1或2所述之顯示裝置，其更在前述直線偏光層與前述顯示單元之間具有第3相位差層。
  12. 一種光學積層體，係依序具有高折射率層、第1相位差層及直線偏光層，且前述高折射率層之折射率為1.60以上。
  13. 如請求項12所述之光學積層體，其中，在平面圖中，前述第1相位差層係覆蓋前述直線偏光層之辨識側的整面。
  14. 如請求項12或13所述之光學積層體，其中，前述直線偏光層之視感度修正單體穿透率為42%以上。
  15. 如請求項12或13所述之光學積層體，其中，前述第1相位差層之慢軸與前述直線偏光層之吸收軸構成的角度為10°以上80°以下。
  16. 如請求項12或13所述之光學積層體，其中，前述第1相位差層在波長550nm的面內相位差值為80nm以上170nm以下。
  17. 如請求項12或13所述之光學積層體，其中，前述第1相位差層具有逆波長分散性。
  18. 如請求項12或13所述之光學積層體，其更在前述高折射率層與前述直線偏光層之間具有第2相位差層，且
    前述第2相位差層在波長550nm的厚度方向相位差值為-140nm以上-20nm以下。
  19. 如請求項12或13所述之光學積層體，其中，在前述直線偏光層之與前述第1相位差層側為相反側，更具有第3相位差層。
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WO2015099101A1 (ja) * 2013-12-25 2015-07-02 京セラ株式会社 電子機器および電子機器用の透光性カバー基板
JP6758148B2 (ja) * 2015-11-30 2020-09-23 日東電工株式会社 液晶表示装置
KR102503174B1 (ko) * 2017-07-27 2023-02-27 삼성디스플레이 주식회사 지문센서, 이를 포함하는 표시장치 및 상기 지문센서의 구동방법
KR102403015B1 (ko) * 2017-09-29 2022-05-27 삼성전자주식회사 지문 인식 센서를 포함하는 전자 장치
WO2020067243A1 (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 東洋紡株式会社 指紋認証センサー付き画像表示装置
US20210036265A1 (en) * 2019-07-30 2021-02-04 Apple Inc. Electronic Device Having Display With Internal Light Reflection Suppression
CN112054044B (zh) * 2020-08-13 2023-05-23 合肥维信诺科技有限公司 一种显示面板及显示设备

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