TW202305421A - 積層體及顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於提供一種積層體，其係即使在高溫條件下以背面層側為內側的方式使其反覆彎折之情況下，亦可抑制黏著劑層產生氣泡或黏著劑脫離。
針對前述課題，解決手段為一種積層體，其係依序具有前面層、第1黏著劑層、至少包含直線偏光層之偏光板、第2黏著劑層及背面層。將第1黏著劑層在溫度60℃之tanδ設為D1，將第2黏著劑層在溫度60℃之tanδ設為D2時，係滿足下式(1)及式(2)的關係。
D1<D2 (1)

Description

積層體及顯示裝置
本發明係關於積層體及包含該積層體之顯示裝置。
已知在具備可彎折之顯示面板的可撓性顯示器中，係為了實現良好的彎折性，而調整用於顯示面板之積層體所包含之黏著劑(pressure-sensitive adhesive)層的應力緩和特性等(例如專利文獻1至3)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]韓國公開專利第10-2014-0085299號公報
[專利文獻2]日本特開2018-27995號公報
[專利文獻3]日本特開2018-28573號公報
[專利文獻4]日本特開2017-125195號公報
已發現：若將用於顯示面板的積層體在高溫條件下反覆彎折， 則可能會有於積層體所包含的黏著劑層產生氣泡或黏著劑脫離(黏著劑脫落)之情況。黏著劑層中產生的氣泡或黏著劑脫離會成為對顯示裝置所顯示之影像的視認性造成不良影響的原因。
本發明之目的在於提供一種積層體以及包含該積層體的顯示裝置，該積層體係即使在高溫條件下以背面層側為內側的方式使其反覆彎折的情況下，亦可抑制於黏著劑層產生氣泡或黏著劑脫離。
本發明提供以下的積層體及顯示裝置。
[1]一種積層體，其係依序具有前面層、第1黏著劑層、至少包含直線偏光層之偏光板、第2黏著劑層及背面層，其中，
將前述第1黏著劑層在溫度60℃之tanδ設為D1、將前述第2黏著劑層在溫度60℃之tanδ設為D2時，係滿足下式(1)及式(2)的關係；
D1<D2 (1)
Figure 111120079-A0202-12-0002-3
[2]如[1]所述之積層體，其中，前述第2黏著劑層的厚度為15μm以上50μm以下。
[3]如[1]或[2]所述之積層體，其中，前述第2黏著劑層的玻璃轉移溫度為-55℃以下。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之積層體，其中，前述第2黏著劑層的膠化率為45%以上85%以下。
[5]如[1]至[4]中任一項所述之積層體，其中，前述第2黏著劑層係由包含(甲基)丙烯酸系聚合物的黏著劑組成物所形成；
前述(甲基)丙烯酸系聚合物係包含源自具有碳數1以上24以下之烷基的(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元。
[6]如[5]所述之積層體，其中，前述(甲基)丙烯酸系聚合物包含源自具有碳數20以上24以下之烷基的(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元。
[7]如[5]或[6]所述之積層體，其中，相對於構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物的全部結構單元，源自具有反應性官能基之單體的結構單元的含量為2質量%以下。
[8]如[1]至[7]中任一項所述之積層體，其中，前述偏光板為從前述前面層側依序具有前述直線偏光層及相位差層的圓偏光板。
[9]如[1]至[8]中任一項所述之積層體，其中，前述背面層為從前述第2黏著劑層側依序具有離型處理層及基材層的分隔件。
[10]一種顯示裝置，其係包含[1]至[8]中任一項所述之積層體。
[11]如[10]所述之顯示裝置，其係能夠以前述背面層為內側的方式彎折。
根據本發明，可提供一種積層體，其係即使在高溫條件下以背面層側為內側的方式使其反覆彎折的情況下，亦可抑制黏著劑層產生氣泡或黏著劑脫離。
1,2:積層體
11:前面層
15:背面層
21:第1黏著劑層
22:第2黏著劑層
30:偏光板
31:直線偏光層
32:保護膜
33:第1相位差層(相位差層)
34:第2相位差層
37,38:貼合層
100:試片
501,502:載台
C1,C2:間隙
P1,P2:位置
圖1係示意性表示本發明的一實施型態之積層體的概略剖面圖。
圖2係示意性表示本發明的另一實施型態之積層體的概略剖面圖。
圖3之(a)部分及(b)部分係用以說明彎折試驗之方法的概略圖。
以下，係參照圖式並說明本發明的實施型態，但本發明並不侷限於以下的實施型態。以下全部之圖式皆係用以幫助理解本發明者，圖式中顯示的各構成要件之尺寸及形狀未必與實際的構成要件尺寸及形狀一致。
(積層體)
圖1及圖2係示意性表示本實施型態的積層體之一例的概略剖面圖。積層體1、2係依序具有前面層11、第1黏著劑層21、偏光板30、第2黏著劑層22及背面層15。前面層11係設於偏光板30之視認側的層、背面層15係設於與偏光板30之視認側之相反側的層。積層體1、2中，第1黏著劑層21較佳係與前面層11及偏光板30直接相接。第2黏著劑層22較佳係與偏光板30及背面層15直接相接。偏光板30至少包含直線偏光層31，如後所述，其可為直線偏光板，亦可為圓偏光板。
積層體1、2係如後所述，可應用於能夠彎曲或捲繞等的顯示裝置(可撓性顯示器)。積層體1、2係在以背面層15側為內側的方式使其彎折時的彎折性特別優良。
積層體1、2，在將第1黏著劑層21在溫度60℃之tanδ設為D1、將第2黏著劑層22在溫度60℃之tanδ設為D2時，係滿足下式(1)及式(2)的關係。
D1<D2 (1)
Figure 111120079-A0202-12-0004-4
第1黏著劑層及第2黏著劑層在溫度60℃之D1、D2，在將第1黏著劑層及第2黏著劑層在溫度60℃之儲存彈性模數分別設為G’1及G’2、並將第1黏著劑層及第2黏著劑層在溫度60℃之損失彈性模數分別 設為G”1及G”2時，係以下式所表示的值。
D1=G”1/G’1
D2=G”2/G’2
上述G’1、G’2、G”1及G”2係可以後述實施例記載的方法測量，而可由此等的測量值求出D1及D2。
上述D2可為0.25以上，亦可為0.30以上，亦可為0.35以上，而且，可為0.90以下，亦可為0.80以下，亦可為0.60以下，亦可為0.50以下。
第2黏著劑層22的D2，可藉由形成第2黏著劑層22的黏著劑組成物所含的聚合物的種類及量、該聚合物的重量平均分子量、用以形成該聚合物的單體的種類及量、上述黏著劑組成物所含的聚合起始劑及添加劑的種類及量等來調整。
上述D1可為0.10以上，亦可為0.20以上，亦可為0.23以上，又亦可為0.30以上，亦可為0.35以上，而且，可未達1.00以下，亦可為0.80以下，亦可為0.60以下。
第1黏著劑層21的D1，可藉由形成第1黏著劑層21的黏著劑組成物所含的聚合物的種類及量、該聚合物的重量平均分子量、用以形成該聚合物的單體的種類及量、上述黏著劑組成物所含的聚合起始劑及添加劑的種類及量等來調整。
藉由積層體1、2滿足上述式(1)及上述式(2)的關係，在高溫條件下，第1黏著劑層21及第2黏著劑層22可發揮優良的應力緩和性。若以背面層15側為內側的方式將積層體1、2彎折，則第2黏著劑層22的彎折半徑會小於第1黏著劑層21的彎折半徑，故咸認第2黏著劑層22的應力緩和性需較第1黏著劑層21更大。因此可得到具有優良的高溫彎折性 的積層體1、2，該優良的高溫彎折性係指在高溫條件下以背面層15側為內側的方式將積層體1、2彎折時，可抑制於第1黏著劑層21及/或第2黏著劑層22產生氣泡或黏著劑脫離(黏著劑的脫落)。
第2黏著劑層22的厚度可為5μm以上，亦可為10μm以上，亦可為15μm以上，而且，可為80μm以下，亦可為50μm以下，亦可為40μm以下。第2黏著劑層22的厚度較佳為15μm以上50μm以下。
第1黏著劑層21的厚度可為10μm以上，亦可為20μm以上，亦可為25μm以上，而且，可為50μm以下，亦可為40μm以下，亦可為30μm以下。第1黏著劑層21的厚度不限於此範圍；例如可超過50μm，而且，亦可為80μm以下。
第1黏著劑層21的厚度較佳係與第2黏著劑層22的厚度相同，或是小於第2黏著劑層22的厚度。
藉由使第2黏著劑層22的厚度滿足上述範圍，容易得到上述高溫彎折性、常溫彎折性及高溫耐久性優良的積層體1、2。所謂的常溫彎折性優良，係指在常溫條件下以背面層15側為內側的方式彎折時，可優良地抑制於第1黏著劑層21及/或第2黏著劑層22產生氣泡或黏著劑脫離。所謂的高溫耐久性優良，係指在高溫條件下可抑制積層體1、2發生浮凸、剝離、發泡等外觀不良而為優異。
積層體1、2的厚度較佳為100μm以上，亦可為150μm以上，而且，亦可為2000μm以下，亦可為1000μm以下，亦可為500μm以下，較佳為250μm以下，亦可為200μm以下。
(第1黏著劑層、第2黏著劑層)
第1黏著劑層21及第2黏著劑層22較佳係由包含(甲基)丙烯酸系聚合物的黏著劑組成物所形成。就形成第1黏著劑層21的黏著劑組成物的組 成與形成第2黏著劑層22的黏著劑組成物的組成而言，通常有所不同。本說明書中，所謂的「(甲基)丙烯酸系聚合物」係表示選自由丙烯酸系聚合物及甲基丙烯酸系聚合物所構成之群組中的至少一種。其他註以「(甲基)」的用語亦相同。
第1黏著劑層21的玻璃轉移溫度及第2黏著劑層22的玻璃轉移溫度係分別獨立，可為-40℃以下，亦可為-50℃以下，較佳為-55℃以下，亦可為-60℃以下，通常為-80℃以上。藉由使第1黏著劑層21及/或第2黏著劑層22具有上述範圍的玻璃轉移溫度，容易得到上述高溫彎折性、常溫彎折性及高溫耐久性優良的積層體1、2。第1黏著劑層21的玻璃轉移溫度與第2黏著劑層22的玻璃轉移溫度可相同亦可不同。第1黏著劑層21及第2黏著劑層22的玻璃轉移溫度，例如可藉由黏著劑組成物所包含的聚合物的種類及量、用以形成該聚合物的單體之種類及量等來調整。玻璃轉移溫度係可以後述實施例記載的方法進行測量。
第1黏著劑層21的膠化率及第2黏著劑層22的膠化率係分別獨立，可為40%以上，較佳為45%以上，亦可為50%以上，亦可為60%以上，而且，可為90%以下，較佳為85%以下，亦可為80%以下，亦可為75%以下。第1黏著劑層21的膠化率與第2黏著劑層22的膠化率可相同亦可不同。第1黏著劑層21及第2黏著劑層22的膠化率係例如可藉由上述(甲基)丙烯酸系聚合物中源自後述具有反應性官能基之單體的結構單元的量、黏著劑組成物所包含之交聯劑的量等來調整。膠化率可以後述實施例記載的方法進行測量。
(黏著劑組成物)
黏著劑組成物所包含的(甲基)丙烯酸系聚合物較佳係包含源自具有碳數1以上24以下之烷基的(甲基)丙烯酸烷酯(單體)的結構單元。(甲基)丙 烯酸系聚合物更佳係包含源自具有碳數20以上24以下之烷基的(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元。烷基可為直鏈狀，亦可為分枝鏈狀。藉由使用包含上述結構單元的黏著劑組成物來形成第1黏著劑層21及/或第2黏著劑層22，容易得到上述高溫彎折性、常溫彎折性及高溫耐久性優良的積層體1、2。
上述具有烷基的(甲基)丙烯酸烷酯可列舉：(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十三烷酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸二十二烷酯等。上述(甲基)丙烯酸烷酯可僅單獨使用1種，亦可併用2種以上。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物的全部結構單元，源自上述具有烷基的(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元之含量較佳為50質量%以上，可為60質量%以上，亦可為70質量%以上，而且，可為95質量%以下，亦可為90質量%以下，亦可為85質量%以下。
(甲基)丙烯酸系聚合物較佳係在源自上述(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元之中包含源自均聚物的玻璃轉移溫度為-40℃以下的(甲基)丙烯酸烷酯(以下有時稱為「低Tg單體」)的結構單元、以及源自均聚物的玻璃轉移溫度超過0℃的(甲基)丙烯酸烷酯(以下有時稱為「高Tg單體」)的結構單元。藉由使用包含這樣的(甲基)丙烯酸系聚合物之黏著劑組成物來形成第1黏著劑層21及/或第2黏著劑層22，容易得到上述之高溫彎折性、常溫彎折性及高溫耐久性優良的積層體1、2。低Tg單體及高Tg單體可分別使用1種或2種以上。(甲基)丙烯酸烷酯之均聚物的玻璃轉移溫度 例如可採用POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience)等的文獻記載值。
(甲基)丙烯酸系聚合物亦可更包含源自均聚物的玻璃轉移溫度超過-40℃且在0℃以下的(甲基)丙烯酸烷酯(以下有時稱為「中Tg單體」)的結構單元。中Tg單體亦可使用1種或2種以上。
低Tg單體的玻璃轉移溫度可為-45℃以下，亦可為-50℃以下。相對於(甲基)丙烯酸系聚合物的全部結構單元，源自低Tg單體的結構單元之含量為例如10質量%以上，可為30質量%以上，亦可為50質量%以上，而且，可為90質量%以下，亦可為85質量%以下，亦可為80質量%以下。
高Tg單體的玻璃轉移溫度可為10℃以上，亦可為30℃以上，亦可為50℃以上，而且，可為120℃以下，亦可為100℃以下，亦可為80℃以下。相對於(甲基)丙烯酸系聚合物的全部結構單元，源自高Tg單體的結構單元的含量為例如5質量%以上，可為8質量%以上，亦可為10質量%以上，而且，可為30質量%以下，亦可為25質量%以下，亦可為20質量%以下。
(甲基)丙烯酸系聚合物亦可包含源自具有反應性官能基之單體的結構單元。反應性官能基係可列舉可藉由活性能量射線的照射處理、加熱處理或加熱水分處理而與其他官能基反應並形成共價鍵的官能基。加熱水分處理係在高溫環境下(例如溫度85℃)與水或水蒸氣接觸的處理，亦可為在高溫環境下的加濕處理。反應性官能基可列舉例如：羥基、羧基、胺基、環氧基及醯胺基等。
具有反應性官能基之單體可列舉：
(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3- 羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-(2-羥基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥丙酯或(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥丙酯、二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯等具有羥基之(甲基)丙烯酸酯；
(甲基)丙烯酸、巴豆酸、馬來酸、伊康酸、檸康酸、(甲基)丙烯酸β-羧基乙酯等烯屬不飽和羧酸；
(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸正丁基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基丙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲胺基乙酯等具有胺基的(甲基)丙烯酸酯；
(甲基)丙烯酸(3,4-環氧環己基)甲酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯等具有環氧基的(甲基)丙烯酸酯；
(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺等具有醯胺基的(甲基)丙烯酸酯；
(甲基)丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫糠酯等具有雜環基之單體；等。具有反應性官能基之單體可僅單獨使用1種，亦可併用2種以上。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物的全部結構單元，源自具有反應性官能基之單體的結構單元的含量較佳為2質量%以下，可未達2質量%，亦可為1質量%以下。(甲基)丙烯酸系聚合物亦可不包含源自具有反應性官能基之單體的結構單元。藉由使用源自具有反應性官能基之單體的結構單元的含量經減少的(甲基)丙烯酸系聚合物來形成第1黏著劑層21及/或第2黏著劑層22，容易得到上述高溫彎折性、常溫彎折性及高溫耐久性優良的積層體1、2。
(甲基)丙烯酸系聚合物亦可包含具有烷氧基之單官能性(甲 基)丙烯酸系單體及己內酯(甲基)丙烯酸系單體等。
就上述單官能性(甲基)丙烯酸系單體所具有的烷氧基而言，可列舉例如：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基等。具有烷氧基的單官能性(甲基)丙烯酸系單體可列舉：丙烯酸乙氧基乙氧基乙酯(EOEOEA)、壬基酚EO改性丙烯酸酯[NP(EO)8A]等。上述單官能性(甲基)丙烯酸系單體可僅單獨使用1種，亦可併用2種以上。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物的全部結構單元，源自上述單官能性(甲基)丙烯酸系單體的結構單元之含量較佳為3質量%以上，亦可為5質量%以上，亦可為10質量%以上，亦可為20質量%以上，而且，可為50質量%以下，亦可為45質量%以下，亦可為40質量%以下。
就己內酯(甲基)丙烯酸系單體而言，可列舉：丙烯酸己內酯等。相對於(甲基)丙烯酸系聚合物的全部結構單元，源自己內酯(甲基)丙烯酸系單體之結構單元的含量可為0.1質量%以上，亦可為1質量%以上，而且，可為30質量%以下，亦可為20質量%以下。
(甲基)丙烯酸系聚合物能夠藉由將上述單體混合、並添加聚合起始劑等使單體聚合而獲得。聚合方法並無特別限定，可列舉：溶液聚合、整體聚合(bulk polymerization)、乳化聚合、光聚合等習知的聚合方法。(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物或接枝共聚物。
聚合起始劑只要根據聚合方法來選擇即可，可列舉例如：陽離子聚合起始劑或自由基聚合起始劑。聚合方法為光聚合時，例如可使用苄基二甲基縮酮、1-羥基環己基苯基酮及4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等光聚合起始劑。
(甲基)丙烯酸系聚合物的重量平均分子量(Mw)較佳為60萬 以上，亦可為70萬以上，亦可為90萬以上，亦可為200萬以下，亦可為180萬以下，較佳為150萬以下。重量平均分子量(Mw)可藉由後述實施例記載的方法進行測量。
黏著劑組成物包含1種或2種以上的上述(甲基)丙烯酸系聚合物，亦可更包含(甲基)丙烯酸系化合物及聚合起始劑。
相對於黏著劑組成物的固體成分，(甲基)丙烯酸系聚合物的含量為例如50質量%以上，亦可為60質量%以上，亦可為65質量%以上，亦可為70質量%以上，而且，可為95質量%以下，亦可為90質量%以下，亦可為85質量%以下，亦可為80質量%以下。
(甲基)丙烯酸系化合物可列舉：上述具有碳數1以上24以下之烷基的(甲基)丙烯酸烷酯及上述具有烷氧基的單官能性(甲基)丙烯酸系單體等。相對於黏著劑組成物的固體成分，(甲基)丙烯酸系化合物的含量為例如10質量%以上，亦可為15質量%以上，亦可為20質量%以上，亦可為25質量%以上，而且，可為50質量%以下，亦可為40質量%以下，亦可為30質量%以下。
上述具有烷基的(甲基)丙烯酸烷酯較佳為具有碳數9以上15以下之烷基的(甲基)丙烯酸烷酯，較佳為(甲基)丙烯酸月桂酯及(甲基)丙烯酸十三烷酯之中的至少一者。相對於黏著劑組成物的固體成分，上述(甲基)丙烯酸烷酯的含量為例如5質量%以上，亦可為10質量%以上，而且，可為25質量%以下，亦可為20質量%以下，亦可為15質量%以下。
具有烷氧基的單官能性(甲基)丙烯酸系單體較佳為丙烯酸乙氧基乙氧基乙酯。藉由使用含有上述單官能性(甲基)丙烯酸系單體的黏著劑組成物來形成第1黏著劑層21及/或第2黏著劑層22，容易得到上述高溫彎折性、常溫彎折性及高溫耐久性優良的積層體1、2。相對於黏著劑組 成物的固體成分，上述單官能性(甲基)丙烯酸系單體的含量為例如0.1質量%以上，亦可為1質量%以上，而且，可為25質量%以下，亦可為20質量%以下，亦可為15質量%以下，亦可為10質量%以下。
黏著劑組成物所包含的聚合起始劑可列舉：光聚合起始劑及熱聚合起始劑等。聚合起始劑可使用1種或2種以上。相對於黏著劑組成物的固體成分，聚合起始劑的含量為例如0.1質量%以上，亦可為1質量%以上，而且，可為10質量%以下，亦可為5質量%以下。
光聚合起始劑可列舉例如：苄基二甲基縮酮、1-羥基環己基苯基酮及4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。
熱聚合起始劑可列舉：偶氮系化合物、有機過氧化物、無機過氧化物等。偶氮系化合物可列舉例如：2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、4,4’-偶氮雙(4-氰基戊酸)、2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]等。
有機過氧化物可列舉例如：過氧化苯甲醯、過氧苯甲酸第三丁酯、過氧化氫異丙苯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二正丙酯、過氧化二碳酸二(2-乙氧基乙基)酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化戊酸第三丁酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物、二丙醯基過氧化物、二乙醯基過氧化物等。
無機過氧化物可列舉例如：過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等。
黏著劑組成物亦可包含交聯劑、矽烷偶合劑、交聯觸媒、耐候穩定劑、膠黏劑(tackifier)、塑化劑、軟化劑、染料、顏料、無機填充物、 光散射性微粒子、離子性化合物等抗靜電劑等添加劑。
交聯劑可列舉例如：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、胺系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、肼系交聯劑、醛系交聯劑、噁唑啉系交聯劑、金屬烷氧化物系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、金屬鹽系交聯劑、銨鹽系交聯劑等。
矽烷偶合劑可列舉：分子內具有至少一個烷氧基矽基的有機矽化合物。矽烷偶合劑可列舉例如：
乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等含聚合性不飽和基的矽化合物；
3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等具有環氧結構的矽化合物；
3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基二甲氧基甲基矽烷等含巰基之矽化合物；
3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷等含胺基之矽化合物；
3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、或此等的至少一者與甲基三乙氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷等含烷基之矽化合物的縮合物等。
黏著劑組成物可藉由將(甲基)丙烯酸系聚合物、(甲基)丙烯酸系化合物、聚合起始劑及添加劑等混合而製備。藉由將黏著劑組成物本身或是黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材上並使其乾燥，可形成第1黏著劑層21或第2黏著劑層22。塗佈黏著劑組成物或其有機溶劑稀釋液的方法，可列舉例如：棒塗法、刀塗法、輥塗法、刮刀塗佈法、模塗法、凹版塗佈法等。
亦可對塗佈於基材上的黏著劑組成物進行活性能量射線的照射處理或加熱處理等，而形成第1黏著劑層21或第2黏著劑層22。活性能量射線可列舉：紫外線及電子射線等，較佳為紫外線。
(前面層)
前面層11在將積層體1、2應用於顯示裝置時，可為構成顯示裝置之視認側的最表面的前面板，亦可為包含基材層與第1黏著劑層21的保護膜之基材層。保護膜通常係設置為能夠由偏光板30剝離。
前面層11可具有單層結構，亦可具有多層結構。前面層11的厚度為例如10μm以上，亦可為20μm以上，亦可為30μm以上，而且，可為500μm以下，亦可為200μm以下，亦可為100μm以下。
前面層11為前面板時，前面層11可為樹脂製的板狀體(例如樹脂板、樹脂膜等)或玻璃製的板狀體(例如玻璃板、玻璃膜等)。樹脂製的板狀體只要可透光則無限定。構成樹脂膜等樹脂製的板狀體之樹脂可列舉例如：由三乙醯基纖維素、乙醯基纖維素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙醯基纖維素、丁醯基纖維素、乙醯基丙醯基纖維素、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯基縮醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚碸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯胺醯亞胺等高分子所形成的膜。此等高分子可單獨或混合2種以上使用。從強度及透明性提升的觀點來看，較佳係由聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺等高分子所形成的樹脂膜。
從硬度的觀點來看，樹脂製的板狀體可為具備硬塗層的樹脂膜。硬塗層可形成於樹脂膜的一面，亦可形成於雙面。藉由設置硬塗層， 可提升硬度及抗刮性。硬塗層為例如紫外線硬化型樹脂的硬化層。紫外線硬化型樹脂可列舉例如：單官能(甲基)丙烯酸系樹脂、多官能(甲基)丙烯酸系樹脂、具有樹枝狀高分子結構的多官能(甲基)丙烯酸系樹脂等(甲基)丙烯酸系樹脂；聚矽氧系樹脂；聚酯系樹脂；胺酯系樹脂；醯胺系樹脂；環氧系樹脂等。硬塗層中，為了提升強度，亦可含有添加劑。添加劑並未特別限定，可列舉無機系微粒子、有機系微粒子或此等的混合物。樹脂膜的雙面具有硬塗層時，各硬塗層的組成及厚度可彼此相同，亦可彼此不同。
玻璃製的板狀體較佳係使用顯示器用強化玻璃。藉由使用玻璃板，可構成具有優良的機械強度及表面硬度的前面板。
前面層11為保護膜之基材層的情況，基材層亦可為樹脂膜。樹脂膜例如可由用於形成後述保護膜的熱塑性樹脂形成。
從彎折性的觀點來看，前面層11在溫度60℃之拉伸彈性模數較佳為2GPa以上10GPa以下，更佳為3GPa以上9GPa以下，又更佳為4GPa以上8GPa以下。上述拉伸彈性模數可使用拉伸試驗機(AG-1S，島津製作所股份有限公司製)在溫度60℃進行測量。
(偏光板)
偏光板30只要為至少包含直線偏光層者即可。偏光板30可為直線偏光板(圖1)，亦可為圓偏光板(圖2)。直線偏光板係在直線偏光層31的單面或雙面具有保護膜32。保護膜32係可隔著貼合層(接著劑層或黏著劑層)而設置於直線偏光層31的單面或雙面。直線偏光板如圖1及圖2所示，較佳係至少在直線偏光層31之前面層11側具有保護膜32。
圓偏光板如圖2所示般，係從前面層11側開始依序具有直線偏光層31及第1相位差層33(相位差層)。圓偏光板可為具有直線偏光板與第1相位差層33者，該直線偏光板係在直線偏光層31的單面或雙面具 有保護膜32。第1相位差層33可為λ/4相位差層，亦可為逆波長分散性的λ/4相位差層。
圓偏光板除了具有第1相位差層33以外，亦可具有第2相位差層34。第2相位差層34可設置於直線偏光層31與第1相位差層33之間，亦可如圖2所示般地設於第1相位差層33與背面層15之間。第2相位差層34較佳為λ/2相位差層或正C層。第1相位差層33與第2相位差層34亦可隔著貼合層38(接著劑層或黏著劑層)而積層。
當如圖2所示般為圓偏光板包含直線偏光板的情況，直線偏光板可為在直線偏光層31的單面具有保護膜32者。此種情況下，亦可在直線偏光層31的與保護膜32側為相反之側隔著貼合層(接著劑層或黏著劑層)37來設置第1相位差層33或第2相位差層34。
(直線偏光層)
直線偏光層係有在入射無偏光之光線時使具有與吸收軸正交之振動面的直線偏光穿透的性質。直線偏光層可為吸附定向有碘的聚乙烯醇系樹脂膜(以下有時稱為「PVA系膜」)，亦可為包含液晶性偏光層的膜，該液晶性偏光層係將包含具有吸收各向異性及液晶性之化合物的組成物塗佈於基材膜所形成。具有吸收各向異性及液晶性的化合物，可為具有吸收各向異性之色素與具有液晶性之化合物的混合物，亦可為具有吸收各向異性及液晶性的色素。
屬於PVA系膜的直線偏光層可列舉例如：對於聚乙烯醇膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇膜、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等PVA系膜實施了以碘染色之處理及延伸處理而成者等。亦可因應需求而在將藉由染色處理而吸附定向有碘的PVA系膜以硼酸水溶液處理，並於該處理之後進行清洗步驟以洗掉硼酸水溶液。各步驟可採用習知的方法。
聚乙烯醇系樹脂(以下有時稱為「PVA系樹脂」)可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而製造。就聚乙酸乙烯酯系樹脂而言，除了屬於乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，亦可為乙酸乙烯酯和能夠與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物。能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體係可列舉例如：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
PVA系樹脂的皂化度通常為85至100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。PVA系樹脂亦可經過改性，例如亦可使用經醛類改性的聚乙烯基甲醛或聚乙烯基縮醛等。PVA系樹脂的平均聚合度通常為1,000至10,000左右，較佳為1,500至5,000左右。PVA系樹脂的皂化度及平均聚合度可根據JIS K 6726(1994)求出。若平均聚合度未達1000，則難以得到較佳的偏光性能，若超過10000則會有薄膜加工性不佳之情形。
屬於PVA系膜的直線偏光層的製造方法係可列舉包含下述步驟的方法：準備基材膜，將PVA系樹脂等樹脂的溶液塗佈於基材膜上，進行去除溶劑之乾燥等，而在基材膜上形成樹脂層。另外，可在基材膜之形成有樹脂層的面預先形成底塗層。作為基材膜，可使用採用了後述說明之形成保護膜之熱塑性樹脂用之樹脂材料的膜。底塗層的材料可列舉：使用於直線偏光層的親水性樹脂交聯而成的樹脂等。
接著，因應需求調整樹脂層之水分等的溶劑量，之後，將基材膜及樹脂層進行單軸延伸，然後以碘將樹脂層染色，使碘吸附定向於樹脂層。接著，因應需求而以硼酸水溶液處理吸附定向有碘的樹脂層，之後，進行清洗步驟以洗掉硼酸水溶液。藉此，製造吸附定向有碘的樹脂層，亦即，製造出成為直線偏光層的PVA系膜。各步驟可採用習知的方法。
處理吸附定向有碘的PVA系膜或樹脂層的含硼酸之水溶液中 的硼酸量，通常係在每100質量份的水中為2至15質量份左右，較佳為5至12質量份。就該含硼酸之水溶液較佳係含有碘化鉀。含硼酸之水溶液中的碘化鉀的量而言，通常在每100質量份的水中為0.1至15質量份左右，較佳為5至12質量份左右。浸漬於含硼酸之水溶液的時間通常為60至1,200秒左右，較佳為150至600秒左右，更佳為200至400秒左右。含硼酸之水溶液的溫度通常為50℃以上，較佳為50至85℃，更佳為60至80℃。
PVA系膜以及基材膜及樹脂層的單軸延伸可在染色前進行，亦可在染色中進行，亦可在染色後的硼酸處理中進行，也可以是在此等複數個階段中分別進行單軸延伸。PVA系膜以及基材膜及樹脂層可在MD方向(薄膜輸送方向)上單軸延伸，此種情況下，可以是在轉速不同的輥之間進行單軸延伸，亦可使用熱輥而進行單軸延伸。又，PVA系膜以及基材膜及樹脂層亦可在TD方向(與薄膜輸送方向垂直的方向)上進行單軸延伸，此種情況下，可使用所謂的拉幅法。又，上述延伸可為在大氣中進行延伸的乾式延伸，亦可為在用溶劑使PVA系膜或樹脂層呈膨潤的狀態下進行延伸的濕式延伸。為了呈現直線偏光層的性能，延伸倍率為4倍以上，較佳為5倍以上，特佳為5.5倍以上。延伸倍率並無特別的上限，惟從抑制斷裂等的觀點來看較佳為8倍以下。
以使用基材膜的製造方法所製作出的直線偏光層，可藉由在積層保護膜後將基材膜剝離而獲得。根據此方法，可使直線偏光層進一步薄膜化。
屬於PVA系膜的直線偏光層的厚度較佳為1μm以上，亦可為2μm以上，亦可為5μm以上，而且，較佳為30μm以下，更佳為15μm以下，亦可為10μm以下，亦可為8μm以下。
含液晶性偏光層的膜可列舉：將組成物塗佈於基材膜所得到的直線偏光層，該組成物係包含具有液晶性及吸收各向異性之色素的組成物、或是包含具有吸收各向異性之色素與聚合性液晶的組成物。基材膜可列舉例如：採用了後述說明作為用以形成保護膜之熱塑性樹脂的樹脂材料所成的膜。含液晶性偏光層的膜可列舉例如：日本特開2013-33249號公報等記載的偏光層。
以上述方式形成的基材膜與直線偏光層的總厚度以小為宜，但若太小則會有強度降低、加工性不佳的傾向，故通常為20μm以下，較佳為5μm以下，更佳為0.5至3μm。
(保護膜)
保護膜例如係能夠使用由透明性、機械強度、熱穩定性、阻水性、等向性、延伸性等優良的熱塑性樹脂所形成的膜。熱塑性樹脂的具體例可列舉：三乙醯基纖維素等纖維素樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚醚碸樹脂；聚碸樹脂；聚碳酸酯樹脂；尼龍或芳香族聚醯胺等聚醯胺樹脂；聚醯亞胺樹脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯/丙烯共聚物等聚烯烴樹脂；環系及具有降莰烯結構的環狀聚烯烴樹脂(亦稱為降莰烯系樹脂)；(甲基)丙烯酸樹脂；聚芳酯樹脂；聚苯乙烯樹脂；聚乙烯醇樹脂、以及此等的混合物。
保護膜可為具有抗反射特性、防眩特性、硬塗特性等者(以下有時將具有該等特性的保護膜稱為「功能性保護膜」)。保護膜並非功能性保護膜的情況下，亦可在直線偏光板的單面設置抗反射層、防眩層、硬塗層等表面功能層。表面功能層較佳係以與保護膜直接相接的方式設置。表面功能層較佳係設於保護膜之直線偏光層側的相反側。
保護膜較佳為3μm以上，更佳為5μm以上，而且，較佳為 50μm以下，更佳為30μm以下。
(第1相位差層、第2相位差層)
第1相位差層及第2相位差層(以下有時將兩者統稱為「相位差層」)可為延伸膜，亦可為含聚合性液晶化合物之硬化物層者，但較佳為硬化物層。
相位差層為延伸膜的情況，延伸膜可使用以往習知者，可使用將樹脂膜藉由單軸延伸或雙軸延伸而賦予了相位差者。作為樹脂膜，係可使用三乙醯基纖維素及二乙醯基纖維素等纖維素膜；聚對苯二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯及聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯膜；聚(甲基)丙烯酸甲酯及聚(甲基)丙烯酸乙酯等丙烯酸樹脂膜；聚碳酸酯膜、聚醚碸膜、聚碸膜、聚醯亞胺膜、聚烯烴膜、聚降莰烯膜等，但不限於此等。
相位差層為延伸膜的情況下，相位差層的厚度通常為5μm以上200μm以下，較佳為10μm以上80μm以下，更佳為40μm以下。
相位差層為包含上述硬化物層者的情況下，聚合性液晶化合物可使用習知的聚合性液晶化合物。聚合性液晶化合物係具有至少一個聚合性基且具有液晶性的化合物。
聚合性液晶化合物的種類並無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物及此等的混合物。藉由使聚合性液晶化合物聚合而形成的硬化物層，係使聚合性液晶化合物在適合的方向上定向並於此的狀態下硬化，藉此呈現相位差。棒狀的聚合性液晶化合物在相對於積層體的平面方向為水平定向或垂直定向時，該聚合性液晶化合物的光軸係與該聚合性液晶化合物的長軸方向一致。圓盤狀的聚合性液晶化合物經定向時，該聚合性液晶化合物的光軸係存在相對於該聚合性液晶化合物的圓盤面為正交的方向上。就棒狀的聚合性液晶化合物而言，例如可適合使用日本特 表平11-513019號公報(請求項1等)所記載者。圓盤狀的聚合性液晶化合物可適合使用日本特開2007-108732號公報(段落[0020]至[0067]等)、日本特開2010-244038號公報(段落[0013]至[0108]等)所記載者。
聚合性液晶化合物所具有的聚合性基，係指參與聚合反應之基，較佳為光聚合性基。所謂的光聚合性基，係指因為由光聚合起始劑產生的活性自由基或酸等而參與聚合反應之基。聚合性基可列舉：乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、(甲基)丙烯醯氧基、氧雜環丙烷基(oxiranyl)、氧雜環丁烷基、苯乙烯基、烯丙基等。其中，較佳為(甲基)丙烯醯氧基、乙烯氧基、氧雜環丙烷基及氧雜環丁烷基，更佳為丙烯醯氧基。聚合性液晶化合物所具有的液晶性可為熱致液晶，亦可為溶致液晶，若將熱致液晶以有序度分類，則可為向列型液晶，亦可為層列型液晶。為了形成聚合性液晶化合物的硬化物層而併用2種以上的聚合性液晶化合物時，較佳係至少一種聚合性液晶化合物在分子內具有2個以上的聚合性基。
相位差層為包含上述硬化物層者的情況，相位差層亦可包含定向層。定向層具有使聚合性液晶化合物在所期望的方向上定向的定向限制力。定向層可為使聚合性液晶化合物的分子軸相對於積層體的平面方向垂直定向的垂直定向層，亦可為使聚合性液晶化合物的分子軸相對於積層體的平面方向水平定向的水平定向層，亦可為使聚合性液晶化合物的分子軸相對於積層體的平面方向傾斜定向的傾斜定向層。相位差層包含2層以上之定向層的情況，定向層可彼此相同，亦可為彼此不同。
作為定向層，較佳係具有不會因為含聚合性液晶化合物的液晶層形成用組成物之塗佈等而溶解的耐溶劑性，並且具有對於用以去除溶劑及使聚合性液晶化合物定向之加熱處理的耐熱性。定向層可列舉：由定 向性聚合物形成的定向性聚合物層、由光定向聚合物形成的光定向性聚合物層、在層表面具有凹凸圖案或複數凹槽(溝)的凹槽定向層。
上述硬化物層，係藉由將包含聚合性液晶化合物、溶劑、因應需求之各種添加劑的相位差層形成用組成物塗佈於定向層上而形成塗膜，再使此塗膜固化(硬化)，而可形成聚合性液晶化合物的硬化物層。或者，亦可將上述組成物塗佈於基材膜上而形成塗膜，並藉由將此塗膜與基材膜一起進行延伸，而形成硬化物層。上述組成物中，除了包含上述聚合性液晶化合物及溶劑以外，亦可包含聚合起始劑、活性添加劑、調平劑、聚合抑制劑等。聚合性液晶化合物、溶劑、聚合起始劑、活性添加劑、調平劑、聚合抑制劑等係可適合使用習知者。
基材膜可使用由樹脂材料形成的膜，可列舉例如：採用上述說明作為用以形成保護膜之熱塑性樹脂的樹脂材料而成的膜。基材膜的厚度並無特別限定，一般而言，從強度及操作性等作業性的觀點來看，較佳為1至300μm以下，更佳為20至200μm，又更佳為30至120μm。基材膜可以與聚合性液晶化合物的硬化物層一起設置於積層體中，亦可將基材膜剝離而僅將聚合性液晶化合物的硬化物層或是該硬化物層及定向層設置於積層體中。
(背面層)
背面層可為分隔件，亦可為背面板，該背面板係配置於顯示裝置之視認側之相反側的構件。背面板為例如觸控感測面板、顯示元件及此等的組合等。
背面層的厚度例如可為5μm以上，亦可為10μm以上，亦可為30μm以上，亦可為50μm以上，而且，亦可為2000μm以下，亦可為1000μm以下，亦可為500μm以下。
背面層為分隔件的情況，分隔件係以能夠對第2黏著劑層剝離的方式設置，而被覆保護第2黏著劑層的表面。分隔件係具有基材層及離型處理層。基材層亦可為樹脂膜。樹脂膜例如可由用以形成上述保護膜的熱塑性樹脂形成。離型處理層只要是習知的離型處理層即可，可列舉例如：將氟化物或聚矽氧化合物等離型劑塗佈於基材層而形成的層。
觸控感測面板可檢測使用者以手指等觸控感測面板位置。背面層所包含的觸控感測面板例如可為電阻膜式、靜電電容耦合式、光感測式、超音波式、電磁感應耦合式、表面彈性波式等觸控感測面板。
背面層包含顯示元件時，顯示元件並無特別限定，較佳為有機EL顯示元件。有機EL顯示元件係例如可具有發光層及電極等。
背面層在溫度60℃之拉伸彈性模數，從彎折性的觀點來看，較佳為2GPa以上10GPa以下，更佳為3GPa以上9GPa以下，又更佳為4GPa以上8GPa以下。背面層的上述拉伸彈性模數較佳係大於前面層的上述拉伸彈性模數。上述拉伸彈性模數可使用拉伸試驗機(AG-1S，島津製作所股份有限公司製)在溫度60℃進行測量。
(貼合層)
貼合層為黏著劑層或接著劑層。貼合層為黏著劑層的情況，係使用黏著劑所形成的黏著劑層。黏著劑係藉由將其本身貼附於被附著體而顯示接著性者，其係所謂的感壓型接著劑(pressure-sensitive adhesive)。黏著劑可為上述說明的黏著劑組成物，而且，可使用習知的光學透明性優良之黏著劑。習知的黏著劑係例如可使用含有丙烯酸聚合物、胺酯聚合物、聚矽氧聚合物、聚乙烯醚等基質聚合物的黏著劑。又，黏著劑亦可為活性能量射線硬化型黏著劑或是熱硬化型黏著劑等。此等之中，宜為以透明性、黏著力、再剝離性(重工性)、耐候性、耐熱性等優良的丙烯酸樹脂作為基質聚合 物的黏著劑。黏著劑層較佳係由包含(甲基)丙烯酸樹脂、交聯劑、矽烷偶合劑的黏著劑所構成，亦可包含其他成分。
黏著劑層的厚度並無特別限定，較佳為5μm以上，亦可為10μm以上，亦可為15μm以上，亦可為20μm以上，亦可為25μm以上，通常為300μm以下，亦可為250μm以下，亦可為100μm以下，亦可為50μm以下。
貼合層為接著劑層的情況，接著劑層可藉由使接著劑組成物中的硬化性成分硬化而形成。作為用以形成接著劑層的接著劑組成物，係感壓型接著劑(黏著劑)以外的接著劑，而可列舉例如：水系接著劑、活性能量射線硬化型接著劑。
水系接著劑可列舉例如：使聚乙烯醇樹脂溶解或分散於水中而成的接著劑。使用水系接著劑時的乾燥方法並未特別限定，可採用例如使用熱風乾燥機或紅外線乾燥機而進行乾燥的方法。
就活性能量射線硬化型接著劑而言，可列舉例如：包含藉由照射紫外線、可見光、電子射線、X射線之類的活性能量射線而硬化之硬化性化合物的無溶劑型活性能量射線硬化型接著劑。藉由使用無溶劑型活性能量射線硬化型接著劑，可提升層間密合性。
作為活性能量射線硬化型接著劑，為了呈現良好的接著性，較佳係包含陽離子聚合性的硬化性化合物、自由基聚合性的硬化性化合物中的任一者或兩者。活性能量射線硬化型接著劑可更包含用以使上述硬化性化合物之硬化反應開始的光陽離子聚合起始劑等陽離子聚合起始劑、或是自由基聚合起始劑。
貼合層為接著劑層時的厚度較佳為0.1μm以上，亦可為0.5μm以上，而且，較佳為10μm以下，亦可為5μm以下。
(顯示裝置)
顯示裝置包含積層體1、2。顯示裝置較佳為能夠以背面層15為內側的方式彎折的可撓性顯示器。所謂的能夠彎折，係指在後述高溫彎折性試驗中的彎折次數小於10萬次以內，而且能夠在積層體1、2不產生氣泡或黏著劑脫離之情況下進行彎折。
顯示裝置所包含的積層體1、2中，較佳係前面層11為前面板，背面層15包含觸控感測面板及顯示元件之中的至少一者。顯示裝置並無特別限定，較佳為有機EL顯示裝置。
顯示裝置可為智慧型手機或平板電腦等行動式終端，亦可為電視、數位相框、電子看板、測定器以及度量工具類、事務用機器、醫療機器、電算設備等。
[實施例]
以下顯示實施例以更具體說明本發明，但本發明並不限定於此等的例子。
[儲存彈性模數G’的測量及tanδ的計算]
溫度60℃之第1黏著劑層及第2黏著劑層的tanδ係使用黏彈性測量裝置(MCR-301，Anton Paar公司)進行測量。將黏著片裁切成寬度20mm×長度20mm後，將分隔件剝離，以厚度成為150μm的方式積層複數片並貼合於玻璃板後，在與測量晶片接著的狀態下，在-20℃至80℃的溫度區域以頻率1.0Hz、變形量1%、升溫速度2℃/分鐘的條件進行測量，求出溫度60℃之儲存彈性模數G’及損失彈性模數G”，並求出tanδ。
[厚度的測量]
厚度係使用接觸式膜厚測量裝置(NIKON股份有限公司製「ZC-101」)進行測量。
[玻璃轉移溫度的測量]
將分隔件從後述黏著片剝離，得到黏著劑層。所得之黏著劑層的玻璃轉移溫度係使用SII NanoTechnology股份有限公司製的示差掃描熱量計(DSC)「EXSTAR DSC6000」，在氮氣環境下，以測量溫度範圍-80至50℃、升溫速度10℃/分鐘的條件進行測量。
[膠化率的測量]
將黏著片裁切成寬度80mm×長度80mm後，將裁切出的黏著片所包含的黏著劑層作為試料。將試料包入至聚酯製篩網(網目尺寸200)，並使用精密天秤秤量其質量。從所秤量出之質量減去上述篩網單獨的質量，藉此算出試料單獨的質量M1。
接著，將包有上述聚酯製篩網的黏著劑層在室溫下(23℃)浸漬於乙酸乙酯72小時，然後取出試料(以下係將所取出的試料稱為「浸漬後的試料」)。在溫度23℃、相對濕度50%的環境下使浸漬後的試料風乾24小時，再於120℃的烘箱中使其乾燥4小時後，使用精密天秤秤量其質量。從所秤量出之質量減去上述篩網單獨的質量，藉此算出只有浸漬後的試料時的質量M2。藉由下式從質量M1及質量M2決定膠化率。
膠化率[%]=(M2/M1)×100
[高溫彎折性試驗]
於從實施例及比較例中所得之積層體將分隔件剝離而露出的第2黏著劑層貼合假定為顯示元件(背面層)的厚度100μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜，而得到試片100。使用此試片100，以下述方法進行高溫彎折性試驗。圖3之(a)部分及(b)部分係示意性表示高溫彎折性試驗之方法的圖。準備具備2個載台501、502的彎折裝置(Science Town公司製，STS-VRT-500)。將試片100以背面層側朝上的方式載置於載台501、502之上(圖3 之(a)部分)。在2個載台501、502之間設置間隙C1，以寬度方向之中心位於間隙C1之中心的方式固定試片100以進行配置(圖3之(a)部分)。此載台501、502係可擺動，2個載台501、502最初構成同一平面。將1次彎折之動作定義如下：使2個載台501、502以位置P1及位置P2為旋轉軸之中心而往上旋轉90度，以相對的試片100彼此之間隔C2成為6mm的方式使2個載台501、502閉合(圖3之(b)部分)，再將載台501、502打開。在溫度60℃的條件下重複此動作，並計算在試片100的第1黏著劑層或第2黏著劑層產生氣泡或黏著劑脫離(黏著劑的脫落)為止的彎折次數，以評估彎折性。評估的基準如下所述。
A：彎折次數達到20萬次仍未產生氣泡及黏著劑脫離。
B：彎折次數在15萬次以上且未達20萬次時產生氣泡或黏著劑脫離。
C：彎折次數在10萬次以上且未達15萬次時產生氣泡或黏著劑脫離。
D：彎折次數在5萬次以上且未達10萬次時產生氣泡或黏著劑脫離。
E：彎折次數未達5萬次時產生氣泡或黏著劑脫離。
[常溫彎折性試驗]
除了將進行彎折動作時的溫度條件變更為25℃之外，係以與高溫彎折性試驗相同的程序評估彎折性。評估的基準如下所述。
a：彎折次數達到20萬次仍未產生氣泡及黏著劑脫離。
b：彎折次數在10萬次以上且未達20萬次時產生氣泡或黏著劑脫離。
c：彎折次數未達10萬次時產生氣泡或黏著劑脫離。
[高溫耐久性試驗]
將在實施例及比較例中製作的積層體裁切成寬度100mm×長度100mm後，在將分隔件剝離而露出的第2黏著劑層上貼合無鹼玻璃，以製作試樣。將此試樣在高壓釜(溫度50℃，5大氣壓)中進行壓接處理約20分 鐘，並在恆溫恆濕條件(溫度23℃，相對濕度50%RH)下保持4小時。之後，將試樣放入溫度60℃的烘箱並保持250小時後，目視試樣並判斷有無浮凸、剝離、氣泡。
x：幾乎未看到浮凸、剝離、發泡等外觀變化。
y：浮凸、剝離、發泡等外觀變化稍微醒目。
z：可確認到顯著的浮凸、剝離、發泡等外觀變化。
[(甲基)丙烯酸系聚合物A1至A8的製備]
在設有冷卻裝置以進行氮氣回流而可輕易調節溫度的1L反應器中，投入將表1所示之單體成分以表1所示的摻合量混合而成的混合物。為了去除氧，係使氮氣在反應器內回流1小時後，將混合物維持在60℃。將混合物均勻地混合後，以表1所示的摻合量投入表1所示的光聚合起始劑，一邊攪拌一邊照射UV燈(10mW)，得到(甲基)丙烯酸系聚合物A1至A8。表1所示的摻合量係表示相對於單體成分及光聚合起始劑之總質量的質量比例。以下述程序測量所得之(甲基)丙烯酸系聚合物A1至A8的重量平均分子量。結果顯示於表1。
(重量平均分子量(Mw)的測量)
(甲基)丙烯酸系聚合物的重量平均分子量Mw，係在GPC裝置中將4根東曹股份有限公司製的「TSK gel XL」及1根昭和電工股份有限公司製的「Shodex GPC KF-802」共5根以串聯方式配置而作為管柱，並使用四氫呋喃作為溶析液，以試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘的條件，藉由標準聚苯乙烯換算而進行測量。得到GPC之排放曲線時的條件亦與此相同。
[(甲基)丙烯酸系聚合物A9及A10的製備]
在設有冷卻裝置以使氮氣回流而可輕易調節的1L反應器中，投入將表1所示的單體成分以表1所示的摻合量混合而成的混合物。為了去除氧，係使氮氣在反應器內回流1小時後，維持在80℃。將上述混合物均勻地混合後，以表1所示的摻合量投入表1所示的光聚合起始劑，一邊攪拌一邊照射UV燈(10mW)，得到(甲基)丙烯酸系聚合物A9及A10。表1所示的摻合量，表示相對於單體成分及光聚合起始劑的總質量之質量比例。以上述程序測量所得之(甲基)丙烯酸系聚合物A9及A10的重量平均分子量。結果顯示於表1。
[表1]
Figure 111120079-A0202-12-0031-5
表1中的各縮寫如下所述。
TDA：丙烯酸十三烷酯(玻璃轉移溫度：-55℃)
IDA：丙烯酸異癸酯(玻璃轉移溫度：-60℃)
EOEOEA：丙烯酸乙氧基乙氧基乙酯(玻璃轉移溫度：-56℃)
CA：丙烯酸己內酯(玻璃轉移溫度：-40℃)
2-EHA：丙烯酸2-乙基己酯(玻璃轉移溫度：-70℃)
BA：丙烯酸正丁酯(玻璃轉移溫度：-55℃)
2-HEA：丙烯酸2-羥乙酯(玻璃轉移溫度：-15℃)
LA：丙烯酸月桂酯(玻璃轉移溫度：15℃)
DCA：丙烯酸二十二烷酯
MMA：甲基丙烯酸甲酯(玻璃轉移溫度：105℃)
I-651：苄基二甲基縮酮
I-184：1-羥基環己基苯基酮
[黏著劑組成物B1至B10的製備]
將表2所示的丙烯酸系聚合物、化合物及聚合起始劑以表2所示的摻合量混合，得到黏著劑組成物B1至B10。
[表2]
Figure 111120079-A0202-12-0033-6
表2中的縮寫如於表1所說明。
[黏著片(1)至(10)的製作]
在分隔件A(塗佈有含聚矽氧化合物之離型劑的聚對苯二甲酸乙二酯膜，厚度38μm)的離型處理面，以厚度成為25μm的方式，塗佈表3所示的黏著劑組成物。在塗佈層上，以離型處理面側成為塗佈層側的方式積層分隔件B(塗佈有含聚矽氧化合物之離型劑的聚對苯二甲酸乙二酯膜，厚度38μm)後，進行UV照射，得到具有分隔件A/黏著劑層/分隔件B之層結構的黏著片(1)至(10)。UV照射係以累積光量成為400mJ/cm2、照度成為1.8mW/cm2(UVV基準)的方式進行。針對所得之黏著片(1)至(10)的黏著劑層，測量在溫度60℃時的tanδ及儲存彈性模數G’、厚度、玻璃轉移溫 度Tg、膠化率。結果顯示於表3。
[表3]
Figure 111120079-A0202-12-0034-7
[實施例1至10、比較例1及2]
(前面板的準備)
準備在樹脂膜(聚醯亞胺系樹脂膜、厚度40μm)的一面上形成有硬塗層(厚度10μm)以作為前面層的前面板。硬塗層係由包含末端具有多官能丙烯酸基之樹枝狀高分子(dendrimer)化合物的組成物所形成之層。
(圓偏光板的準備)
使用水系接著劑將保護膜(環烯烴系樹脂膜，厚度18μm)與直線偏光層(厚度8μm)貼合，得到具有保護膜/接著劑層/直線偏光層之層結構的直線偏光板。
得到依序積層有第1相位差層(厚度3μm)、接著劑層(厚度1μm)及第2相位差層(厚度2μm)而成的相位差積層體。第1相位差層為λ/4相位差層，其係聚合性液晶化合物的硬化物層。接著劑層為屬於光硬化型接著劑組成物之環氧系接著劑的硬化物層。第2相位差層為正C層，其係聚合性液晶化合物的硬化物層。
使用黏著劑層(丙烯酸系黏著劑，厚度5μm)將上述所得之直線偏光板的直線偏光層側與相位差積層體的第1相位差層側貼合，得到作為偏光板的圓偏光板。圓偏光板的層結構為直線偏光板(保護膜/接著劑層/直線偏光層)/相位差積層體(第1相位差層/接著劑層/第2相位差層)。
(積層體的製作)
使用表4及表5所示的第1黏著劑層將上述所得之前面層的樹脂膜側與圓偏光板的直線偏光板側貼合，在圓偏光板的相位差積層體側積層表4及表5所示的第2黏著劑層及分隔件，製作積層體(1)至(12)。積層體(1)至(12)的層結構為前面層(硬塗層/樹脂膜)/第1黏著劑層/直線偏光板(保護膜/接著劑層/直線偏光層)/相位差積層體(第1相位差層/接著劑層/第2相位差層)/第2黏著劑層/分隔件。
針對所得之積層體(1)至(10)，進行高溫彎折性試驗、常溫彎折性試驗及高溫耐久性試驗。結果顯示於表4及表5。
[表4]
Figure 111120079-A0202-12-0036-8
[表5]
Figure 111120079-A0202-12-0037-9
1:積層體
11:前面層
15:背面層
21:第1黏著劑層
22:第2黏著劑層
30:偏光板
31:直線偏光層
32:保護膜

Claims (11)

  1. 一種積層體，其係依序具有前面層、第1黏著劑層、至少包含直線偏光層之偏光板、第2黏著劑層及背面層，其中，
    將前述第1黏著劑層在溫度60℃之tanδ設為D1，將前述第2黏著劑層在溫度60℃之tanδ設為D2時，滿足下式(1)及式(2)的關係；
    D1<D2 (1)
    Figure 111120079-A0202-13-0001-10
  2. 如請求項1所述之積層體，其中，前述第2黏著劑層的厚度為15μm以上50μm以下。
  3. 如請求項1或2所述之積層體，其中，前述第2黏著劑層的玻璃轉移溫度為-55℃以下。
  4. 如請求項1至3中任一項所述之積層體，其中，前述第2黏著劑層的膠化率為45%以上85%以下。
  5. 如請求項1至4中任一項所述之積層體，其中，前述第2黏著劑層係由包含(甲基)丙烯酸系聚合物的黏著劑組成物所形成；
    前述(甲基)丙烯酸系聚合物係包含源自具有碳數1以上24以下之烷基的(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元。
  6. 如請求項5所述之積層體，其中，前述(甲基)丙烯酸系聚合物包含源自具有碳數20以上24以下之烷基的(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元。
  7. 如請求項5或6所述之積層體，其中，相對於構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物的全部結構單元，源自具有反應性官能基之單體的結構單元的含量為2質量%以下。
  8. 如請求項1至7中任一項所述之積層體，其中，前述偏光板為從前述前面層側依序具有前述直線偏光層及相位差層的圓偏光板。
  9. 如請求項1至8中任一項所述之積層體，其中，前述背面層為從前述第2黏著劑層側依序具有離型處理層及基材層的分隔件。
  10. 一種顯示裝置，其係包含請求項1至8中任一項所述之積層體。
  11. 如請求項10所述之顯示裝置，其能以前述背面層為內側的方式彎折。
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