TW202226298A

TW202226298A - 多束x射線源及其形成方法

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Publication number: TW202226298A
Application number: TW110135831A
Authority: TW
Inventors: 健章
Original assignee: 美商Ｎｃｘ公司
Priority date: 2020-09-30
Filing date: 2021-09-27
Publication date: 2022-07-01
Also published as: WO2022070102A1; US20230411106A1

Abstract

一種X射線源裝置包含：陽極；及電子束陰極系統，該電子束陰極系統被設置成將複數個電子束從電子束陰極系統朝向陽極發射。偏轉器裝置與該電子束陰極系統相鄰地被安置，以操縱藉由電子束陰極系統發射的一或多個電子束與陽極的相互作用。亦提供了一種形成X射線源裝置的關聯方法。

Description

多束X射線源及其形成方法

本申請關於X射線裝置，且更具體地關於多束X射線源，及多束X射線源的形成方法。

典型的X射線管包含陰極及陽極（參見，比如，圖1），其中陰極（比如，熱燈絲、場發射發射器等）發射電子。陽極承載高電壓（比如，10kV或以上）。於此等條件下，陰極發射的電子藉由陽極產生的電場被加速，且被吸引且導向至陽極（比如，為電子束）。在電子衝擊陽極（比如，陽極上的焦斑或焦點處）時，X射線照射是經由電子束與陽極之間的衝擊/相互作用而產生的。一般而言，X射線管具有發射單一電子束的單一陰極、及單一陽極。因此，陽極通常情況下僅界定電子束的單一焦斑或焦點，該單一焦斑或焦點通常對應於陽極上的固定面積（比如，電子束衝擊的陽極的面積）。

於一些先前技術範例中，沿陰極與陽極之間的電子束的路徑，X射線管可包含偏轉器裝置。偏轉器產生電場及/或磁場，以在橫向上使電子束偏轉，且因此與在沒有偏轉器裝置及電場及/或磁場的情況下的電子束的焦斑/焦點相較（參見，比如，圖2A）而在陽極上的不同位置生成焦斑或焦點。於此等範例中，偏轉電場及/或磁場的強度、持續時間及/或極性可被改變，以控制電子束的偏轉量值及/或方向（參見，比如，圖2A至圖2D）。

然而，這種偏轉電子束的設置具有一些限制。舉例而言，此電子束偏轉設置一般而言能夠以相對小偏轉角（比如，＜10度）偏轉電子束，而不使電子束截面畸變，且因此而不利地影響電子束在陽極上的新/期望的焦斑/焦點處聚焦。以相對大偏轉角（比如，＞10度）偏轉電子束，同時使電子束的聚焦保持在陽極上的新/期望焦斑/焦點處，一般而言要求複雜裝置及設備。如此一來，對於產生一個被導向至陽極上的僅一個焦斑/焦點上的X射線束的傳統的單一陽極/單一陰極X射線管，此電子束偏轉設置具有有限的應用。

多束X射線源一般而言包含多個X射線管，該多個X射線管被整合在一起，以形成諸如線性多束X射線源的預定組態，舉例而言，如圖3所示，一般而言包含陰極陣列，每一個陰極被設置成將單一電子束導向陽極上的對應焦斑/焦點。此多束X射線源具有同時產生多個X射線束的能力，而X射線管或其部件沒有任何機械運動。除此之外，此多束X射線源有潛力用於各種應用，包含斷層合成影像及電腦斷層攝影。於諸如電腦斷層攝影的某些應用中，可能需要在陽極上具多個（比如，數百個）單獨X射線焦斑/焦點的多束X射線源。為了在陽極上的有限空間中整合多個X射線焦斑/焦點，需要高堆積密度的焦斑/焦點。然而，在每一個X射線管中，每一個陰極的發射面積常較陽極上的焦斑/焦點的面積大很多。相應地，由於包含陰極、聚焦（閘極）電極等的各種部件的實體尺寸的限制，此先前技術多束X射線源一般而言不能達成相對高X射線束堆積密度（比如，由於陽極上的焦斑/焦點之間的最小可達成間距，多個電子束產生的X射線的任何累積益處被減弱）。

除此之外，對於多束X射線源，特別是對於具數百個焦斑/焦點的多束X射線源，難以生產其中所有X射線管（比如，發射電子束、與焦斑/焦點處的陽極相互作用的每一個陰極）可操作，且沒有任何缺陷的陰極陣列。也就是說，正常情況下，多束X射線源有少許引起故障的缺陷，且因此引起一些陰極及對應焦斑/焦點的不可操作性（參見，比如，圖4）。通常情況下，如果僅存在少量故障/不可操作的陰極及對應焦斑/焦點，則借助成像軟體校正可能對在那些焦斑/焦點處產生的X射線的損失進行補償，儘管此種解決方案一般而言不是較佳的。然而，於其他範例中，缺陷可能足夠繁多而造成整個多束X射線源無用，從而顯著降低產出率且提高成本。

由此，存在對多束X射線源及形成此種多束X射線源的方法的需要，其中可達成高X射線束堆積密度。除此之外，此種多束X射線源應該期望地包含對故障/不可操作陰極/電子束進行補償的能力，以提供裝置的可接受操作性，從而增加X射線源的產出率且降低生產及/或操作成本。

上述及其他需要藉由本揭露內容的態樣滿足，其包含但不限於下面的實例性實施方式，且在一個特定態樣中，提供一種X射線源裝置，包括：陽極；及電子束陰極系統，該電子束陰極系統被設置成將複數個電子束從電子束陰極系統朝向該陽極發射。偏轉器裝置與該電子束陰極系統相鄰地被安置，以操縱藉由電子束陰極系統發射的一或多個電子束與陽極的相互作用。

另一個實例性態樣提供一種形成X射線源裝置的方法，包括：設置電子束陰極系統，以將複數個電子束從電子束陰極系統朝向陽極發射；以及與該電子束陰極系統相鄰地安置偏轉器裝置，其中該偏轉器裝置被設置成操縱藉由電子束陰極系統發射的一或多個電子束與陽極的相互作用。因此，本揭露內容包含而不限於下面的實例性實施方式：

實例性實施方式 1 ：一種X射線源裝置，包括：陽極；電子束陰極系統，該電子束陰極系統被設置成將複數個電子束從電子束陰極系統朝向陽極發射；以及偏轉器裝置，該偏轉器裝置與電子束陰極系統相鄰地被安置，以操縱藉由電子束陰極系統發射的一或多個電子束與陽極的相互作用。

實例性實施方式 2 ：任何前述實例性實施方式的裝置或其組合，其中該偏轉器裝置被設置成形成電場或磁場，以操縱藉由電子束陰極系統發射的一或多個電子束。

實例性實施方式 3 ：任何前述實例性實施方式的裝置或其組合，其中該偏轉器裝置被設置成實體地操縱藉由電子束陰極系統發射的一或多個電子束。

實例性實施方式 4 ：任何前述實例性實施方式的裝置或其組合，其中該偏轉器裝置被設置成形成電場或磁場，並實體地操縱該電場或磁場，以操縱藉由電子束陰極系統發射的一或多個電子束。

實例性實施方式 5 ：任何前述實例性實施方式的裝置或其組合，其中該電子束陰極系統包括複數個相鄰設置陰極裝置，每一個陰極裝置被設置成將該等電子束中一個電子束朝向陽極上的複數個相鄰設置預定焦點中的對應相鄰設置預定焦點發射。

實例性實施方式 6 ：任何前述實例性實施方式的裝置或其組合，其中該偏轉器裝置界定對應於複數個陰極裝置的複數個偏轉器部，每一個偏轉器部被設置成操縱藉由該等陰極裝置中一對應陰極裝置發射的電子束。

實例性實施方式 7 ：任何前述實例性實施方式的裝置或其組合，其中該偏轉器裝置界定複數個偏轉器部，每一個偏轉器部對應於複數個陰極裝置中多於一個陰極裝置，每一個偏轉器部被設置成操縱藉由該等陰極裝置中對應的多於一個陰極裝置集體發射的電子束。

實例性實施方式 8 ：任何前述實例性實施方式的裝置或其組合，其中該偏轉器裝置被設置成將藉由該等陰極裝置中一個陰極裝置發射的電子束重新導向至陽極上的預定焦點中一個預定焦點，該一個預定焦點與該等陰極裝置中一個陰極裝置的對應預定焦點相鄰。

實例性實施方式 9 ：任何前述實例性實施方式的裝置或其組合，其中該偏轉器裝置被設置成將藉由該等陰極裝置中每一個陰極裝置發射的電子束重新導向至陽極上的預定焦點中一個預定焦點，該一個預訂焦點與該等陰極裝置中每一個陰極裝置的對應預定焦點相鄰。

實例性實施方式 10 ：任何前述實例性實施方式的裝置或其組合，其中該偏轉器裝置被設置成將藉由該等陰極裝置中一個陰極裝置發射的電子束重新導向至陽極上的新焦點，新焦點被安置於該等陰極裝置中一個陰極裝置的對應預定焦點與相鄰於該對應預定焦點的預定焦點中一個預定焦點之間。

實例性實施方式 11 ：一種形成X射線源裝置的方法，包括：設置電子束陰極系統，以將複數個電子束從電子束陰極系統朝向陽極發射；以及與該電子束陰極系統相鄰地安置偏轉器裝置，該偏轉器裝置被設置成操縱藉由電子束陰極系統發射的一或多個電子束與陽極的相互作用。

實例性實施方式 12 ：任何前述實例性實施方式的方法或其組合，包括設置該偏轉器裝置，以形成電場或磁場，以操縱藉由電子束陰極系統發射的一或多個電子束。

實例性實施方式 13 ：任何前述實例性實施方式的方法或其組合，包括設置該偏轉器裝置，以實體地操縱藉由電子束陰極系統發射的一或多個電子束。

實例性實施方式 14 ：任何前述實例性實施方式的方法或其組合，包括設置偏轉器裝置，以形成電場或磁場，且實體地操縱該電場或磁場，以操縱藉由電子束陰極系統發射的一或多個電子束。

實例性實施方式 15 ：任何前述實例性實施方式的方法或其組合，其中該電子束陰極系統包括複數個相鄰設置陰極裝置，且其中該方法包括將每一個陰極裝置設置成將該等電子束中一個電子束朝向該陽極上的複數個相鄰設置預定焦點中的對應相鄰設置預定焦點發射。

實例性實施方式 16 ：任何前述實例性實施方式的方法或其組合，其中該偏轉器裝置界定對應於複數個陰極裝置的複數個偏轉器部，且其中該方法包括將每一個偏轉器部設置成操縱藉由該等陰極裝置中一個對應陰極裝置發射的電子束。

實例性實施方式 17 ：任何前述實例性實施方式的方法或其組合，其中該偏轉器裝置界定複數個偏轉器部，每一個偏轉器部對應於複數個陰極裝置中多於一個陰極裝置，且其中該方法包括將每一個偏轉器部設置成操縱藉由該等陰極裝置中對應的多於一個陰極裝置集體發射的電子束。

實例性實施方式 18 ：任何前述實例性實施方式的方法或其組合，包括將該偏轉器裝置設置成將藉由該等陰極裝置中一個陰極裝置發射的電子束重新導向至陽極上的預定焦點中一個預定焦點，該一個預定焦點與該等陰極裝置中一個陰極裝置的對應預定焦點相鄰。

實例性實施方式 19 ：任何前述實例性實施方式的方法或其組合，包括將該偏轉器裝置設置成將藉由該等陰極裝置中每一個陰極裝置發射的電子束重新導向至陽極上的預定焦點中一個預定焦點，該一個預定焦點與該等陰極裝置中每一個陰極裝置的對應預定焦點相鄰。

實例性實施方式 20 ：任何前述實例性實施方式的方法或其組合，包括將該偏轉器裝置設置成將藉由該等陰極裝置中一個陰極裝置發射的電子束重新導向至該陽極上的新焦點，該新焦點被安置於該等陰極裝置中一個陰極裝置的對應預定焦點與相鄰於該對應預定焦點的預定焦點中一個預定焦點之間。

藉由與附圖一起閱讀以下詳細描述，本揭露內容的此等及其他特徵、態樣及優點將是明顯的，下面將簡單描述此等及其他特徵、態樣及優點。本揭露內容包含此揭露內容中闡釋的二、三、四或更多個特徵或元件的任一組合，而與此等特徵或元件是否明確地被組合或是否以其他方式記載於本文中的特定實施方式的描述中無關。預期此揭露內容被全盤地閱讀，使得應當如預期（即，可被組合）看待本揭露內容的任何態樣及實施方式中的任何可分離特徵或元件，除非本揭露內容的上下文另外清楚地指示。

應當明白，提供本文中的發明內容僅出於概略說明一些實例態樣從而對本揭露內容提供基本理解的目的。就其本身而言，應當明白，上面描述的實例態樣僅是實例，且不應當被認為以任何方式使本揭露內容的範圍或精神變窄。應當明白，除了本文中概略說明的態樣，本揭露內容的範圍涵蓋許多可能的態樣，下面將進一步描述其中一些態樣。此外，根據以下結合附圖進行的詳細描述，本文中揭露的其他態樣及此等態樣的優點將變得明顯，以實例的方式，附圖例示所描述的態樣的原理。

現在將在下文中參考附圖更全面地描述本揭露內容，附圖中顯示本揭露內容的一些態樣，而非全部態樣。的確，本揭露內容可以許多不同的形式被具體實施，而且不應當被認為限於本文闡釋的態樣；相反地，提供此等態樣是為了此揭露內容滿足可實用的法律要求。在全文中，相似的編號指相似的元件。

圖5示意性地例示根據本揭露內容一個態樣的多束X射線源100。此種多束X射線源100包含陽極200及電子束陰極系統300，該電子束陰極系統300被設置成將複數個電子束400從電子束陰極系統300朝向陽極200發射。偏轉器裝置500（比如，電子束偏轉電極）與電子束陰極系統300相鄰地被安置，以操縱藉由電子束陰極系統300發射的一或多個電子束400與陽極200的相互作用。於特定態樣中，偏轉器裝置500被設置成形成電場及/或磁場，以操縱藉由電子束陰極系統300發射的一或多個電子束400。

也就是說，於一些態樣中，電子束陰極系統300包括複數個相鄰設置陰極裝置（比如，325A、325B、325C…325x），而且每一個陰極裝置325x被設置成將電子束400中的一個電子束朝向陽極上的複數個相鄰設置預定焦點中的對應相鄰設置預定焦點發射。每一個陰極裝置325x可包括例如熱燈絲發射器、場發射發射器或任何其他適合的電子發射器。

於一些態樣中，比如，如圖5、圖6A、及圖6B中所示，偏轉器裝置500界定對應於複數個陰極裝置325x的複數個偏轉器部（比如，525A、525B、525C…525x），其中每一個偏轉器部525x被設置成操縱藉由陰極裝置325x中的對應陰極裝置325x發射的電子束400。也就是說，偏轉器裝置500經組態，使得其特定部525x對應於單一陰極裝置325x，且那個部525x被設置成控制/操縱僅來自那個陰極裝置325x的電子束400。舉例而言，偏轉器裝置500的每一個部525x可界定允許來自對應陰極裝置325x的電子束400穿過的開口，且如此一來，偏轉器裝置500可為一系列此等部525x，每一個此種部525x界定開口，或可為網狀（mesh-like）結構或格式（grill-like）結構形式的整體元件。

於其他態樣中，比如，如圖7A及圖7B所示，偏轉器裝置500界定複數個偏轉器部525x，每一個偏轉器部525x對應於複數個陰極裝置325x中的多於一個陰極裝置325x，其中每個偏轉器部525x被設置成操縱藉由對應於多於一個陰極裝置325x集體發射的電子束400。也就是說，偏轉器裝置500經組態，使得其特定部525x對應於多於一個陰極裝置325x（比如，二個、三個、四個、或更多個相鄰陰極裝置的群組），且那個部525x被設置成控制/操縱來自那些多於一個陰極裝置325x的集體電子束400。舉例而言，偏轉器裝置500的每一個部525x可界定允許來自對應二或多個陰極裝置325x的電子束400穿過的開口，且如此一來，偏轉器裝置500可為一系列此等部525x，每一個部525x界定開口，或可為網狀（mesh-like）結構或格式（grill-like）結構形式的整體元件。

於特定態樣中，當偏轉器裝置500被加能形成電場及/或磁場時，偏轉器裝置500被設置成將藉由一或多個陰極裝置325x發射的每一個電子束400重新導向至陽極200上的預定焦點中的一個預定焦點，該一個預訂焦點與一或多個陰極裝置325x中的每一者的對應預定焦點相鄰。也就是說，為對從陰極325x發射的電子束400進行轉向、控制或其他方式的操控而實施的偏轉電極（偏轉器裝置500）允許每一個陰極325x能夠朝向陽極200上的多個X射線焦斑/焦點發射電子束400。在如此做時，來自陰極裝置325x的電子束400可藉由偏轉器裝置500被操控為朝向與藉由相鄰陰極裝置325x發射的電子束400對應的陽極200上的預定焦斑/焦點。於一些特定態樣中，來自一個陰極裝置325x的電子束400藉由偏轉器裝置500被操控至與藉由相鄰陰極裝置325x發射的電子束400對應的陽極200上的預定焦斑/焦點（參見，比如，圖6A及圖6B）。以此方式，實施根據本揭露內容的態樣的偏轉器裝置500的多束X射線源100可利用來自相鄰陰極裝置325x的電子束400對陣列中的故障或不可操作陰極裝置進行補償（比如，如圖4所示）。對故障/不可操作陰極裝置補償的此能力將增加此等X射線源（比如，至少其電極發射陰極系統）的產出率，可延長X射線源的操作使用壽命，且降低生產及/或操作成本。

於其他特定態樣中，偏轉器裝置500被設置且組態成能夠將藉由陰極裝置325x中每一者發射的電子束400重新導向至陽極200上的預定焦點中的一個預定焦點或朝向陽極200上的預定焦點中的一個預定焦點，該一個預定焦點與陰極裝置325x中每一者的對應預定焦點相鄰（比如，偏轉器裝置500能夠使來自該陣列中的每一個陰極裝置325x的電子束偏轉）。於又進一步態樣中，偏轉器裝置500被設置成將藉由陰極裝置325x中一者發射的電子束400重新導向至陽極200上的新焦點，該新焦點被安置於陰極裝置325x中一者的對應預定焦點與相鄰於該對應預定焦點的預定焦點中一者之間（參見，比如，圖5）。在如此做時，藉由施加偏轉器裝置500生成的偏轉場，陣列中的每一個陰極裝置325x可因此被導向陽極200上的多個焦斑/焦點。如此一來，陰極裝置325x及/或偏轉器裝置500可被設置成每一個以相對小角度重新導向來自複數個陰極裝置325x的電子束400，以增加陽極200上的X射線焦斑/焦點的堆積密度（比如，焦斑/焦點彼此之間的接近度）。

偏轉器裝置500的組態可改變。舉例而言，如圖7A所示，代替具有對應於每一個陰極裝置的偏轉器裝置的單獨部，偏轉器裝置500被組態/設置成被應用於藉由所有陰極裝置325x集體發射的電子束400（比如，單一偏轉電極/偏轉器裝置應用於藉由陰極裝置發射的所有電子束）。於此等態樣中，偏轉器裝置500的操作參數（比如，電場/磁場強度、持續時間等）可針對陽極200上的每一個焦斑/焦點要求調節。

於其他態樣中，偏轉器裝置500被設置成實體地操縱藉由電子束陰極系統300發射的一或多個電子束400。也就是說，偏轉器裝置500可實體地調節，以實現例如圖7B中所示的（多個）電子束400的特定偏轉。於另外其他態樣中，偏轉器裝置500被設置成形成電場或磁場，且實體地操縱電場或磁場，以操縱藉由電子束陰極系統300發射的一或多個電子束400（比如，偏轉器裝置的可實體調節度及經由偏轉器裝置施加的電場及/或磁場的組合）。

因此，本揭露內容的態樣提供多束X射線源及此種多束X射線源的形成方法，其中高X射線束堆積密度可被達成。除此之外，此種多束X射線源提供對故障/不可操作陰極/電子束進行補償的能力，以提供該裝置的可接受操作性，從而增加X射線源的產出率且降低生產及/或操作成本。

得益於前面的描述和有關附圖中呈現的教導的此等所揭露實施方式，所屬領域中具有通常知識者會想到本文闡釋的本發明的許多修改及其他實施方式。因此，應當理解，本發明的實施方式並不限於所揭露的具體實施方式，而且修改及其他實施方式旨在包含於本發明的範圍內。另外，儘管前面的描述及有關圖式在元件及/或功能的某個實例性組合的情境下描述了實例性實施方式，但應當明白，可藉由替代實施方式提供元件及/或功能的不同組合，而不脫離本揭露內容的範圍。於此方面，舉例而言，在本揭露內容的範圍內，與上面明確描述的那些元件及/或功能的組合不同的元件及/或功能的組合亦被構思。儘管本文中採用特定術語，但僅以一般描述性意義使用它們，而沒有限制性目的。

應當理解，儘管本文中可使用術語第一、第二等描述各種步驟或計算，但此等步驟或計算不應當受此等術語的限制。此等術語僅用於將一個操作或計算與另一個操作或計算區別開。舉例而言，第一計算可被稱為第二計算，且類似地，第二步驟可被稱為第一步驟，而不脫離本揭露內容的範圍。如本文中使用的，術語“及/或”及“/”符號包含一或多個有關列項的任一或全部組合。

如本文中使用的，單數形式“一（a）”、“一（an）”及 “該(the)旨在亦包含複數形式，除非上下文另外清楚地指示。應當進一步理解，術語“包括（comprises）”、“包括（comprising）”、“包含（includes）”及/或“包含（including）”當在本文中使用時說明所陳述特徵、整數、步驟、操作、元件及/或組件的存在，但不排除一或多個其他特徵、整數、步驟、操作、元件、組件及/或其群組的存在或附加。因此，本文中使用的術語僅出於描述特定實施方式的目的，而非旨在限制性。

100:多束X射線源 200:陽極 300:電子束陰極系統 400:電子束 500:偏轉器裝置 325A、325B、325C......325x:陰極裝置 525A、525B、525C……525x:偏轉器部

由此，已經以一般術語描述了本揭露內容，現在將參考附圖，附圖未必按比例繪製，且其中：圖1示意性地例示包含單一陽極及單一陰極的X射線管結構的先前技術實例；圖2A至圖2D示意性地例示包含單一陽極及單一陰極的X射線管結構的先前技術實例，其具有藉由產生且施加電場及/或磁場而能夠使由陰極發射的電子束偏轉從而操控電子束的電子束偏轉器裝置；圖3示意性地例示具形成於線性陣列中的多個陰極的多束X射線源的先前技術實例；圖4示意性地例示具形成於線性陣列中的多個陰極的多束X射線源的先前技術實例，在導致陽極上的對應焦斑/焦點損失的陣列中的一故障陰極的範例中顯示陣列的電子束產生作用；圖5示意性地例示根據本揭露內容的一個態樣實施電子束偏轉裝置的多束X射線源；圖6A及圖6B示意性地例示本揭露內容的一個態樣，其中一個陰極裝置的電子束藉由偏轉器裝置被導向至相鄰陰極裝置的焦斑/焦點，以補償故障/不可操作陰極裝置；圖7A示意性地例示根據本揭露內容的另一個態樣、實施可應用於集體來自複數個陰極裝置的電子束的偏轉器裝置的多束X射線源；以及圖7B示意性地例示根據本揭露內容的另一個態樣、實施可應用於集體來自複數個陰極裝置的電子束的可實體地調節偏轉器裝置的多束X射線源。

100:多束X射線源

200:陽極

300:電子束陰極系統

325A、325B、325C:陰極裝置

400:電子束

500:偏轉器裝置

525A、525B、525C:偏轉器部

Claims

一種X射線源裝置，包括：一陽極；一電子束陰極系統，該電子束陰極系統被設置成將複數個電子束從該電子束陰極系統朝向該陽極發射；以及一偏轉器裝置，該偏轉器裝置與該電子束陰極系統相鄰地被安置，以操縱藉由該電子束陰極系統發射的一或多個電子束與該陽極的相互作用。
如請求項1所述的裝置，其中該偏轉器裝置被設置成形成一電場或一磁場，以操縱藉由該電子束陰極系統發射的該一或多個電子束。
如請求項1所述的裝置，其中該偏轉器裝置被設置成實體地操縱藉由該電子束陰極系統發射的該一或多個電子束。
如請求項1所述的裝置，其中該偏轉器裝置被設置成形成一電場或一磁場，以及實體地操縱該電場或磁場，以操縱藉由該電子束陰極系統發射的該一或多個電子束。
如請求項1所述的裝置，其中該電子束陰極系統包括複數個相鄰設置陰極裝置，每一個陰極裝置被設置成將該等電子束中一個電子束朝向該陽極上的複數個相鄰設置預定焦點中一個對應預定焦點發射。
如請求項5所述的裝置，其中該偏轉器裝置界定對應於該複數個陰極裝置的複數個偏轉器部，每一個偏轉器部被設置成操縱藉由該等陰極裝置中一個對應陰極裝置發射的電子束。
如請求項5所述的裝置，其中該偏轉器裝置界定複數個偏轉器部，每一個偏轉器部對應於該複數個陰極裝置中多於一個陰極裝置，每一個偏轉器部被設置成操縱藉由該等陰極裝置中對應的多於一個陰極裝置集體發射的電子束。
如請求項5所述的裝置，其中該偏轉器裝置被設置成將藉由該等陰極裝置中一個陰極裝置發射的電子束重新導向至該陽極上的該等預定焦點中的一個預定焦點，該一個預定焦點與該等陰極裝置中該一個陰極裝置的該對應預定焦點相鄰。
如請求項5所述的裝置，其中該偏轉器裝置被設置成將藉由該等陰極裝置中每一個陰極裝置發射的電子束重新導向至該陽極上的該等預定焦點中一個預定焦點，該一個預定焦點與該等陰極裝置中每一個陰極裝置的該對應預定焦點相鄰。
如請求項5所述的裝置，其中該偏轉器裝置被設置成將藉由該等陰極裝置中一個陰極裝置發射的該電子束重新導向至該陽極上的一新焦點，該新焦點被安置於該等陰極裝置中該一個陰極裝置的該對應預定焦點與相鄰於該對應預定焦點的該等預定焦點中一個預定焦點之間。
一種形成一X射線源裝置的方法，包括：設置一電子束陰極系統，以將複數個電子束從該電子束陰極系統朝向一陽極發射；以及與該電子束陰極系統相鄰地安置一偏轉器裝置，該偏轉器裝置被設置成操縱藉由該電子束陰極系統發射的一或多個電子束與該陽極的相互作用。
如請求項11所述的方法，包括設置該偏轉器裝置，以形成一電場或一磁場，以操縱藉由該電子束陰極系統發射的該一或多個電子束。
如請求項11所述的方法，包括設置該偏轉器裝置，以實體地操縱藉由該電子束陰極系統發射的該一或多個電子束。
如請求項11所述的方法，包括設置該偏轉器裝置，以形成一電場或一磁場，且實體地操縱該電場或磁場，以操縱藉由該電子束陰極系統發射的該一或多個電子束。
如請求項11所述的方法，其中該電子束陰極系統包括複數個相鄰設置的陰極裝置，且其中該方法包括將每一個陰極裝置設置成將該等電子束中一個電子束朝向該陽極上的複數個相鄰設置預定焦點中的一對應相鄰設置預定焦點發射。
如請求項15所述的方法，其中該偏轉器裝置界定對應於該複數個陰極裝置的複數個偏轉器部，且其中該方法包括將每一個偏轉器部設置成操縱藉由該等陰極裝置中一個對應陰極裝置發射的該電子束。
如請求項15所述的方法，其中該偏轉器裝置界定複數個偏轉器部，每一個偏轉器部對應於該複數個陰極裝置中多於一個陰極裝置，且其中該方法包括將每一個偏轉器部設置成操縱藉由該等陰極裝置中對應的多於一個陰極裝置集體發射的該等電子束。
如請求項15所述的方法，包括將該偏轉器裝置設置成將藉由該等陰極裝置中一個陰極裝置發射的該電子束重新導向至該陽極上的該等預定焦點中一個預定焦點，該一個預定焦點與該等陰極裝置中該一個陰極裝置的該對應預定焦點相鄰。
如請求項15所述的方法，包括將該偏轉器裝置設置成將藉由該等陰極裝置中每一個陰極裝置發射的該等電子束重新導向至該陽極上的該等預定焦點中一個預定焦點，該一個預定焦點與該等陰極裝置中每一個陰極裝置的該對應預定焦點相鄰。
如請求項15所述的方法，包括將該偏轉器裝置設置成將藉由該等陰極裝置中一個陰極裝置發射的該電子束重新導向至該陽極上的一新焦點，該新焦點被安置於該等陰極裝置中該一個陰極裝置的該對應預定焦點與相鄰於該對應預定焦點的該等預定焦點中一個預定焦點之間。