TW202223506A - 背光模組和導光板的製作方法 - Google Patents

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Abstract

一種背光模組，包括多個發光元件以及導光板，其中導光板包括出光面、相對於出光面的底面、連接出光面以及底面的入光側，多個發光元件沿著第一方向配置於入光側，且出光面具有第一區域鄰近入光側。導光板包括多個稜柱以及多個微結構組，稜柱配置於出光面的第一區域並沿著第一方向延伸，每個微結構組具有沿著第二方向排列的多個微結構，每個微結構連接相鄰兩個稜柱，第二方向不同於第一方向。

Description

背光模組和導光板的製作方法
本公開涉及顯示器的背光模組和導光板的製作方法。
液晶顯示器普遍包括液晶模組以及用以提供光源的背光模組。背光模組中的發光元件提供光線，並由背光模組中的反射片、導光板、光學膜層等元件引導光線，使背光模組可以提供光源至整體的液晶模組。因此，背光模組的出光均勻性將會影響液晶顯示器的光學品味。
根據本公開的一些實施例，提供一種背光模組，包括多個發光元件以及導光板，其中導光板包括出光面、相對於出光面的底面、連接出光面和底面的入光側，且多個發光元件沿著第一方向配置於入光側，出光面具有鄰近入光側的第一區域。導光板包括多個稜柱以及多個微結構組，稜柱配置於出光面的第一區域並沿著第一方向延伸，每個微結構組具有沿著第二方向排列的多個微結構，每個微結構連接相鄰兩個稜柱，第二方向不同於第一方向。
根據本公開的一些實施例，提供一種導光板的製作方法，包括提供具有加工平面的第一基板、沿著第二方向以第一刀具在加工平面刻彼此連接的多個第一翻模凹槽、沿著第一方向以第二刀具在加工平面的第一加工區域中刻多個第二翻模凹槽，以及以加工平面翻模製作導光板的出光面，其中第一加工區域鄰近加工平面的第一邊緣，且第一方向不同於第二方向。
本公開提供的背光模組中，透過設置在導光板出光面上鄰近入光側的稜柱與微結構組，可以消除導光板出光面的暗帶與熱點(Hotspot)現象以均勻化導光板提供的面光源，並同時減少導光板的厚度，提供改善的光學表現。
為了實現提及主題的不同特徵，以下公開內容提供了許多不同的實施例或示例。以下描述組件、數值、配置等等的具體示例以簡化本公開。當然，這些僅僅是示例，而不是限制性的。例如，在以下的描述中，在第二特徵之上或上方形成第一特徵可以包括第一特徵和第二特徵以直接接觸形成的實施例，並且還可以包括在第一特徵和第二特徵之間形成附加特徵，使得第一特徵和第二特徵可以不直接接觸的實施例。另外，本公開可以在各種示例中重複參考數字和/或字母。此重複是為了簡單和清楚的目的，並且本身並不表示所討論的各種實施例和/或配置之間的關係。
此外，本文可以使用空間相對術語，諸如「在…下面」、「在…下方」、「下部」、「在…上面」、「上部」等，以便於描述一個元件或特徵與如圖所示的另一個元件或特徵的關係。除了圖中所示的取向之外，空間相對術語旨在包括使用或操作中的裝置的不同取向。裝置可以以其他方式定向(旋轉90度或在其他方向上)，並且同樣可以相應地解釋在此使用的空間相對描述符號。
背光模組中的導光板通常具有上表面或下表面的微結構，可以均勻化發光元件的光線，以提供顯示器的面光源。第1圖繪示了背光模組10的截面圖。在第1圖中，背光模組10包括導光板100和導光板100側方的發光元件110。然而應理解，在本公開的實施例中，背光模組10可包括其他層材料或組件，且背光模組10的組件可以其他方式排列。
在一些實施例中，發光元件110位於導光板100的側方，且導光板100面向發光元件110的側面為入光側102。舉例而言，發光元件110可以包括發光二極體(Light Emitting Diode，LED)。在此類實施例中，背光模組10也稱為側入式背光模組。
發光元件110發出的光線115經由入光側102進入導光板100，並在導光板100內全反射行進。當光線115觸碰到位於底面106的網點130時，網點130破壞了光線115的全反射，使光線115從出光面104離開導光板100後，進入背光模組10上方的元件，例如液晶模組(未示出)。
導光板100的網點130可在引導光線115離開導光板100時，集中控制光線115的出光角度。然而，光線115的角度過度集中可能減少導光板100接近入光側102的出光量，造成導光板100之出光面104上的出光量不均勻，形成出光面104上鄰近入光側102的暗帶與熱點。
在一些實施例中，導光板100包括接近入光側102的喇叭口120，喇叭口120增加進入導光板100之入光側102的入光量，進而增加接近入光側102的出光量。然而，喇叭口120增加鄰近入光側102的入光量，可能造成大視角的漏光。此外，喇叭口120增加了導光板100的厚度，降低導光板100在顯示器中的應用性。
本公開揭露的一種背光模組，可消除導光板之出光面鄰近入光側的暗帶與熱點現象並同時減少導光板厚度，增加背光模組的光學表現。
根據本公開的一些實施例，第2A圖繪示了導光板200的立體圖，第2B圖繪示了導光板200的俯視圖，第2C圖繪示了導光板200沿著第2B圖中線A-A在y-z平面上的截面圖。在一些實施例中，如第1圖所示的背光模組10可包括本公開提供之導光板(例如導光板200或後續實施例中的其他導光板)，但本公開提供之導光板並不限使用於背光模組10之中。
應注意，第2B圖以及以下內文所參考的圖式中，放大繪示了導光板200上的第一稜柱220和第一微結構組230，以及其他實施例中導光板上對應的微結構，用以說明這些元件之間的相對位置或大小，而非以圖式限定本公開實施例中元件的實際大小以及位置。
如第2A圖至第2C圖所示，導光板200可包括出光面204、底面206和入光側202。底面206相對於出光面204，而入光側202連接出光面204和底面206。在一些實施例中，發光元件可沿著x軸方向配置於入光側202，使光線經由入光側202進入導光板200，並由出光面204離開導光板200。
導光板200的出光面204可包括鄰近入光側202的第一區域210，其中導光板200包括第一區域210以外的出光面204。在一些實施例中，第一區域210在y軸方向上的長度L2和出光面204在y軸方向上的長度L1的比例可落在0.1%至10%的範圍內。
在一些實施例中，如第2B圖所示，y軸方向垂直於x軸方向，但本公開不限於此。在一些其他的實施例中，y軸方向與x軸方向可以夾其他角度。
出光面204的第一區域210中可包括多個第一稜柱220和多個第一微結構組230。在一些實施例中，如第2B圖所示，第一稜柱220和第一微結構組230可僅配置於鄰近入光側202的第一區域210中，而免於配置在第一區域210以外的出光面204上。
參考第2B圖和第2C圖，在一些實施例中，第一稜柱220可沿著x軸方向延伸，換而言之，第一稜柱220的稜線平行於x軸方向。多個第一稜柱220沿著y軸方向排列，其中相鄰的兩個第一稜柱220可沿著y軸方向彼此連接或不連接。
在一些實施例中，每個第一微結構組230包括沿著y軸方向排列的多個第一微結構232，其中每個第一微結構232連接相鄰的兩個第一稜柱220。換而言之，兩個第一稜柱220之間包括第一微結構232，而第一微結構組230中兩個第一微結構232之間包括第一稜柱220。應理解，第2B圖和第2C圖僅示例性繪示第一稜柱220和第一微結構組230的數量，導光板200可包括其他數量的第一稜柱220和第一微結構組230。
當發光元件提供光線給導光板200時，第一稜柱220和第一微結構組230在鄰近入光側202的出光面204上形成包括凹槽的非平整表面，用以調整光線離開導光板200的出光強度和位置，增加導光板200接近入光側202的出光量，減少接近入光側202和遠離入光側202的出光量差異，從而均勻化出光面204的出光量，消除導光板200之出光面204的暗帶與熱點現象，提高包括導光板200之背光模組的光學品質。
另外，由於第一稜柱220和第一微結構組230足以均勻化出光面204的出光量，導光板200可降低對於喇叭口(例如第1圖中的喇叭口120)的需求，從而減少導光板200的厚度。
如第2C圖所示，第一稜柱220和第一微結構232可包括適當的相對尺寸和位置，以對應導光板200的設計提供適當的反射效果。下文將進一步描述第一稜柱220和第一微結構232的細節，然而應理解，第一稜柱220和第一微結構232可配合不同的導光板200之實施例，而具有不同數值範圍的尺寸或相對位置。
在一些實施例中，第一稜柱220在y軸方向上可具有寬度E，如第2C圖所示，寬度E為第一稜柱220在參考線215的寬度，其中參考線215沿著y軸方向延伸並連接多個第一稜柱220之間的谷線。在一些實施例中，寬度E約在0.01毫米至1毫米的範圍內。
在一些實施例中，相鄰的兩個第一稜柱220之間沿著y軸方向上可具有間距F，如第2C圖所示，間距F為兩個第一稜柱220的稜線之間的距離。在一些實施例中，間距F約在0.001毫米至3毫米的範圍內。
應注意，間距F影響兩個第一稜柱220之間第一微結構232沿著y軸方向的長度。舉例而言，當間距F月大時，第一微結構232沿著y軸方向的長度越大。
在一些實施例中，第一稜柱220在z軸方向上從可具有高度H，如第2C圖所示，高度H為第一稜柱220的稜線至參考線215的高度。換而言之，高度H為第一稜柱220之頂端至參考線215的高度。在一些實施例中，高度H約在0.001毫米至0.15毫米的範圍。
在一些實施例中，第一區域210和入光側202之間可具有距離D。如第2C圖所示，距離D可為第一區域210中最接近入光側202的第一稜柱220和入光側202之間的距離。在一些實施例中，距離D約不超過3毫米，換而言之，距離D約在0毫米至3毫米的範圍內。
在一些實施例中，如第2B圖所示，第一微結構組230的第一微結構232可包括頂端具有倒角(round angle)的三角形微結構。在一些其他的實施例中，第一微結構232可包括其他形狀的微結構。
在一些實施例中，如第2C圖所示，第一稜柱220可包括實質上為三角形的截面，其中第一稜柱220的兩側壁共同形成第一稜柱220的稜線，第一稜柱220的兩側壁包括垂直於參考線215的側壁。在一些其他的實施例中，第一稜柱220可包括和參考線215之間具有非垂直夾角的側壁。
根據本公開的一些其他實施例，第3A圖繪示了導光板200′在y-z平面上的截面圖，其截面位置和第2B圖中的線A-A相同。如第3A圖所示，導光板200′的第一稜柱220′包括形成稜線的兩側壁，更靠近入光側202′的側壁和參考線215′之間分具有角度θ1，更遠離入光側202′的側壁和參考線215′之間分具有角度θ2，其中參考線215′沿著y軸方向延伸並連接多個第一稜柱220′之間的谷線。在一些實施例中，角度θ1大於角度θ2，以相對於導光板200′的入光側202′提供適當的反射效果。在一些實施例中，角度θ1約在75度至90度的範圍內，而角度θ2約在1度至15度的範圍內。
在一些實施例中，導光板200的多個第一稜柱220和多個第一微結構232可包括相同的尺寸(例如寬度E、間距F或高度H)，如第2C圖所示。在一些其他的實施例中，第一稜柱220和第一微結構232的尺寸可隨著位置改變，以對應入光側202的位置提供適當的反射效果。
根據本公開的一些其他實施例，第3B圖繪示了導光板300在y-z平面上的截面圖，其截面位置和第2B圖中的線A-A相同。如第3B圖所示，在一些實施例中，導光板300上更接近入光側302的第一稜柱320a具有寬度E1，更遠離入光側302的第一稜柱320b具有寬度E2，其中寬度E2大於寬度E1。應理解，寬度E1和寬度E2落在第2C圖中寬度E的範圍內。
在一些實施例中，導光板300上更接近入光側302的第一稜柱320a和次接近入光側302的第一稜柱320b之間具有間距F1，第一稜柱320b和更遠離入光側302的第一稜柱320c之間具有間距F2，其中間距F2大於間距F1。應理解，間距F1和間距F2落在第2C圖中間距F的範圍內。
在一些實施例中，導光板300上更接近入光側302的第一稜柱320a之稜線至參考線315具有高度H1，更遠離入光側302的第一稜柱320b之稜線至參考線315具有高度H2，其中高度H2小於高度H1，參考線315沿著y軸方向延伸並連接第一稜柱320a至第一稜柱320c之間的谷線。應理解，高度H1和高度H2落在第2C圖中高度H的範圍內。
根據本公開的一些實施例，第4A圖至第4D圖分別繪示了導光板400、導光板402、導光板404和導光板406在x-z平面上的截面圖，並強調導光板上第一微結構的形狀。在第4A圖中，導光板400包括弧形的第一微結構420。在第4B圖中，導光板402包括V型切割(V-cut)形成的三角形第一微結構422。在第4C圖中，導光板404包括梯形的第一微結構424。在第4D圖中，導光板406包括V型切割形成且具有弧形倒角(round angle)的第一微結構426。第4A圖至第4D圖僅示例性繪示導光板上微結構可包括的形狀，且此些實施例以外的形狀也在本公開的範圍內。
根據本公開的一些實施例，第5圖繪示了導光板500的俯視圖。在一些實施例中，導光板500的出光面504可包括第一區域510和第二區域520，其中第一區域510和第二區域520沿著y軸方向排列，第二區域520位於第一區域510和入光側502之間。
在一些實施例中，第二區域520在y軸方向上的長度L3不超過10毫米。在一些實施例中，第二區域520和入光側502之間的距離不超過3毫米。
在第5圖中，第一區域510包括多個第一稜柱512和多個第一微結構組514，且每個第一微結構組514中包括多個第一微結構516。第一稜柱512和第一微結構組514類似於第2B圖中的第一稜柱220和第一微結構組230，細節將不在此重複贅述。
在一些實施例中，第二區域520包括沿著x軸方向延伸的第二稜柱522，其中多個第二稜柱522沿著y軸方向排列。第5圖僅示例性繪示第二稜柱522的數量，導光板500可包括其他數量的第二稜柱522。
在一些實施例中，第二稜柱522可包括不同於第一稜柱512的形狀或尺寸。舉例而言，第二稜柱522可包括和第一稜柱512不同形狀的截面(例如類似於梯形的截面)，或是在沿著y軸方向上第二稜柱522的寬度可大於第一稜柱512的寬度。在一些實施例中，第二稜柱522的高度(未示出)大於第一稜柱512的高度。
當發光元件提供光線給導光板500時，第一稜柱512、第一微結構組514和第二稜柱522在鄰近入光側502的出光面504上形成包括凹槽的非平整表面，用以調整光線離開導光板500的出光強度和位置，增加導光板500接近入光側502的出光量，減少接近入光側502和遠離入光側502的出光量差異，從而均勻化出光面504的出光量，消除導光板500之出光面504的暗帶與熱點現象，提高包括導光板500之背光模組的光學品質。
如第5圖所示，在一些實施例中，導光板500的出光面504可包括第一區域510和第三區域530，其中第一區域510和第三區域530沿著y軸方向排列，第一區域510位於第三區域530和入光側502之間。
在一些實施例中，第三區域530包括沿著y軸方向延伸的多個散射結構532，且每個散射結構532和第一微結構組514的其中一者沿著y軸方向排列。在一些實施例中，散射結構532可包括類似於第一微結構516的形狀，舉例而言，散射結構532和第一微結構516可同為三角形微結構。
在一些實施例中，第一稜柱512和第一微結構組514僅配置於更接近入光側502的第一區域510中，而免於配置於更遠離入光側502的第三區域530中。
根據本公開的一些實施例，第6圖繪示了背光模組60的立體圖。背光模組60類似於第1圖中的背光模組10，但為了詳細描述，僅繪示背光模組60的導光板600和發光元件650。
在背光模組60中，導光板600包括出光面604、導光板600側方的第一入光側602和相對於第一入光側602的第二入光側606。第一入光側602和第二入光側606共同連接出光面604和導光板600的底面(未示出)。背光模組60亦包括多個發光元件650，且發光元件650沿著x軸方向配置於第一入光側602和第二入光側606。
在一些實施例中，出光面604可包括第一區域610、第二區域630和第三區域640，其中第一區域610、第二區域630和第三區域640依序沿著y軸方向排列，且第一區域610鄰近第一入光側602，第三區域640鄰近第二入光側606，第二區域630則是位於第一區域610和第三區域640之間。
第一區域610可包括類似於第一稜柱512和第一微結構組514的多個第一稜柱612和第一微結構組614。舉例而言，第一稜柱612沿著x軸方向延伸，第一微結構組614包括沿著y軸方向排列的多個第一微結構616。在一些實施例中，第一稜柱612和第一微結構組614僅配置於第一區域610中，而免於配置於出光面604中間位置的第二區域630。
第三區域640可包括類似於第一稜柱512和第一微結構組514的多個第三稜柱642和第二微結構組644。舉例而言，第三稜柱642沿著x軸方向延伸，第二微結構組644包括沿著y軸方向排列的多個第二微結構646。在一些實施例中，第三稜柱642和第二微結構組644僅配置於第三區域640中，而免於配置於出光面604中間位置的第二區域630。
在一些實施例中，第一區域610和第三區域640可包括類似於第二稜柱522的第二稜柱622。如第6圖所示，第一區域610中的第二稜柱622和第一稜柱612相比更接近第一入光側602，第三區域640中的第二稜柱622和第三稜柱642相比更接近第二入光側606。
在一些實施例中，第二區域630包括類似於第5圖中沿著y軸方向延伸之散射結構532的散射結構632，細節將不在此重複贅述。
第一區域610和第三區域640的微結構在出光面604上形成包括凹槽的非平整表面，用以調整光線離開導光板600的出光強度和位置，增加導光板600接近第一入光側602和第二入光側606的出光量，從而均勻化出光面604的出光量，消除導光板600之出光面604的暗帶與熱點現象。
根據本公開的一些實施例，第7A圖至第7E圖繪示了形成導光板706之製程中間階段的截面圖。應理解，在第7A圖至第7E圖繪示的製程步驟之前、期間或之後可包括其他步驟，且第7A圖至第7E圖中的組件數量僅為示例性的，在其他實施例中可包括其他數量的步驟和組件。舉例而言，在第7E圖中的導光板706包括類似於上述導光板500的第一區域510、第二區域520和第三區域530，然而在其他實施例中，導光板706可包括類似於上述導光板600的第三區域640。
在第7A圖中，提供基板700做為後續加工製程的基板，以加工形成導光板706(如第7E圖所示)的翻模母模。基板700具有加工平面750，且在後續製程中於加工平面750上以加工工具形成下述相關結構，例如以加工刀具形成加工平面750上的結構。
在一些實施例中，加工平面750可包括第一加工區域710、第二加工區域720和第三加工區域730，其中第一加工區域710、第二加工區域720和第三加工區域730沿著y軸方向排列，且第一加工區域710相較於第三加工區域730更鄰近加工平面750的第一邊緣755。
在一些實施例中，第一加工區域710位於第二加工區域720和第三加工區域730之間，第二加工區域720和第一邊緣755之間的距離約不超過3毫米，第二加工區域720在y軸方向上的寬度不超過10毫米。
在一些其他的實施例中，加工平面750包括第一加工區域710和第三加工區域730，但不包括第二加工區域720，第一加工區域710和第一邊緣755之間的距離約不超過3毫米。
在第7B圖中，加工形成基板702。在第7A圖之基板700的加工平面750上，以輪廓類似於上述第一微結構516的加工工具，形成沿著y軸方向延伸的多個第一翻模凹槽740。在一些實施例中，第一翻模凹槽740之間彼此連接。
在第7C圖中，加工形成基板704。在第7B圖之基板702上，以輪廓類似於上述第一稜柱512的加工工具，在第一加工區域710中形成第二翻模凹槽742。在一些實施例中，第二翻模凹槽742僅形成於第一加工區域710中，免於形成於第三加工區域730中。
在一些實施例中，第二翻模凹槽742對應於第5圖中導光板500的第一稜柱512，且相鄰兩個第二翻模凹槽742之間的第一翻模凹槽740對應於第5圖中導光板500的第一微結構組514。舉例而言，在一些實施例中，第二翻模凹槽742在y軸方向上具有寬度約在0.01毫米至1毫米的範圍內。在一些實施例中，第二翻模凹槽742具有相對低點形成的谷線，兩個第二翻模凹槽742的谷線之間的間距約在0.001毫米至3毫米的範圍內。在一些實施例中，第二翻模凹槽742在z軸方向上具有深度約在0.001毫米至0.15毫米的範圍內。
在一些實施例中，形成第二翻模凹槽742之後，在第二加工區域720中形成第三翻模凹槽744，並移除第二加工區域720中的第一翻模凹槽740。在一些實施例中，可使用形成第二翻模凹槽742的加工工具，在第二加工區域720中形成第三翻模凹槽744。在一些實施例中，第三翻模凹槽744對應於第5圖中導光板500的第二稜柱522，舉例而言，第三翻模凹槽744的深度可大於第二翻模凹槽742的深度。
在一些實施例中，基板700的加工平面750上可包括依序沿著y軸方向排列的第一加工區域710、第三加工區域730以及第四加工區域(未示出)，第一加工區域710鄰近第一邊緣755，第四加工區域鄰近相對於第一邊緣755的第二邊緣(未示出)，第三加工區域730位於第一加工區域710和第四加工區域之間。第四加工區域類似於第一加工區域710，即第一加工區域710和第四加工區域包括第二翻模凹槽742，且第二翻模凹槽742免於形成於第三加工區域730中。
在第7D圖至第7E圖中，使用加工後的基板704做為翻模母模，以加工平面翻模製作出導光板706的出光面708。導光板706的出光面708包括第一翻模凹槽740、第二翻模凹槽742和第三翻模凹槽744所翻模形成的結構，由於翻模形成的出光面708在鄰近入光側的位置上包括多個凹槽，均勻化導光板706之出光面708的出光量，消除導光板706的暗帶與熱點現象。
在本公開揭露的背光模組中，導光板具有鄰近入光側的上表面結構，此結構中包括稜柱和微結構形成的凹槽，可以調整局部出光強度、角度或位置，減少接近入光側和遠離入光側的出光量，均勻化導光板的出光量，消除出光面的暗帶與熱點現象。導光板包括的稜柱和微結構可具有變化的尺寸，進一步均勻化離開背光模組的光線。本公開揭露的導光板利用上表面結構達到消除暗帶與熱點的目的，避免使用喇叭口等顯著增加導光板厚度的結構，從而可以薄化導光板的厚度。
前面概述一些實施例的特徵，使得本領域技術人員可更好地理解本公開的觀點。本領域技術人員應該理解，他們可以容易地使用本公開作為設計或修改其他製程和結構的基礎，以實現相同的目的和/或實現與本文介紹之實施例相同的優點。本領域技術人員還應該理解，這樣的等同構造不脫離本公開的精神和範圍，並且在不脫離本公開的精神和範圍的情況下，可以進行各種改變、替換和變更。
10,60:背光模組 100:導光板 102:入光側 104:出光面 106:底面 110:發光元件 115:光線 120:喇叭口 130:網點 200,200′,300:導光板 202,202′,302:入光側 204:出光面 206:底面 210:第一區域 215,215′,315:參考線 220,220′,320a,320b,320c:第一稜柱 230:第一微結構組 232:第一微結構 400,402,404,406:導光板 420,422,424,426:第一微結構 500:導光板 502:入光側 504:出光面 510:第一區域 512:第一稜柱 514:第一微結構組 516:第一微結構 520:第二區域 522:第二稜柱 530:第三區域 532:散射結構 600:導光板 602:第一入光側 604:出光面 606:第二入光側 610:第一區域 612:第一稜柱 614:第一微結構組 616:第一微結構 622:第二稜柱 630:第二區域 632:散射結構 640:第三區域 642:第三稜柱 644:第二微結構組 646:第二微結構 650:發光元件 700,702,704:基板 706:導光板 708:出光面 710:第一加工區域 720:第二加工區域 730:第三加工區域 740:第一翻模凹槽 742:第二翻模凹槽 744:第三翻模凹槽 750:加工平面 755:第一邊緣 A-A:線 D:距離 E,E1,E2:寬度 F,F1,F2:間距 H,H1,H2:高度 L1,L2,L3:長度 x,y,z:軸 θ1,θ2:角度
當結合附圖閱讀時，從以下詳細描述中可以最好地理解本公開的各方面。應注意，根據工業中的標準方法，各種特徵未按比例繪製。實際上，為了清楚地討論，可任意增加或減少各種特徵的尺寸。 第1圖根據一些實施例，繪示背光模組的截面圖。 第2A圖根據本公開的一些實施例，繪示導光板的立體圖。 第2B圖根據本公開的一些實施例，繪示第2A圖中導光板的俯視圖。 第2C圖根據本公開的一些實施例，繪示第2B圖中導光板的截面圖。 第3A圖至第3B圖根據本公開的一些其他實施例，繪示導光板的截面圖。 第4A圖至第4D圖根據本公開的一些實施例，繪示導光板的截面圖。 第5圖根據本公開的一些實施例，繪示背光模組的俯視圖。 第6圖根據本公開的一些實施例，繪示背光模組的俯視圖。 第7A圖至第7E圖根據本公開的一些實施例，繪示形成導光板製程中間階段的截面圖。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無
200:導光板
204:出光面
202:入光側
210:第一區域
220:第一稜柱
230:第一微結構組
232:第一微結構
L1,L2:長度
x,y:軸

Claims (20)

  1. 一種背光模組，包括： 多個第一發光元件；以及 一導光板，包括： 一出光面； 一底面，相對於所述出光面； 一第一入光側，連接所述出光面以及所述底面，且所述多個第一發光元件沿著一第一方向配置於所述第一入光側，且所述出光面具有一第一區域，且所述第一區域鄰近所述第一入光側； 多個第一稜柱，配置於所述出光面的所述第一區域並沿著所述第一方向延伸；以及 多個第一微結構組，每個所述第一微結構組具有沿著一第二方向排列的多個第一微結構，每個所述第一微結構連接相鄰兩個所述第一稜柱，所述第二方向不同於所述第一方向。
  2. 如請求項1所述之背光模組，其中所述導光板的所述出光面具有一第二區域，所述第二區域位於所述第一區域和所述第一入光側之間，所述導光板包括多個第二稜柱，其配置於所述出光面的所述第二區域並沿著所述第一方向延伸，且所述多個第二稜柱的高度大於所述多個第一稜柱的高度。
  3. 如請求項2所述之背光模組，其中所述第二區域於所述第二方向上的長度不超過10毫米。
  4. 如請求項1所述之背光模組，其中在所述第二方向上，所述多個第一稜柱的稜線之間的間距落在0.001毫米至3毫米的範圍。
  5. 如請求項1所述之背光模組，其中所述第二方向垂直於所述第一方向。
  6. 如請求項1所述之背光模組，其中所述多個第一稜柱的高度落在0.001毫米至0.15毫米的範圍。
  7. 如請求項1所述之背光模組，其中所述多個第一稜柱在所述第二方向上的寬度落在0.1毫米至1毫米的範圍。
  8. 如請求項1所述之背光模組，其中在所述第二方向上，所述第一區域和所述第一入光側之間的距離不超過3毫米。
  9. 如請求項1所述之背光模組，其中所述導光板的所述出光面具有一第三區域，所述第一區域位於所述第三區域和所述第一入光側之間，所述導光板包括多個散射結構，其配置於所述出光面的所述第三區域並沿著所述第二方向延伸，且每個散射結構和所述多個微結構組的其中之一沿著所述第二方向排列。
  10. 如請求項1所述之背光模組，還包括： 多個第二發光元件， 所述導光板包括一第二入光側、多個第三稜柱以及多個第二微結構組，且所述出光面具有一第四區域， 其中所述第二入光側連接所述出光面以及所述底面，且所述第一入光側相對於所述第二入光側，所述多個第二發光元件沿著所述第一方向配置於所述第二入光側，且所述第四區域鄰近所述第二入光側，所述多個第三稜柱配置於所述出光面的所述第四區域並沿著所述第一方向延伸，且每個所述第二微結構組具有多個沿著所述第二方向排列的第二微結構，所述多個第二微結構分別連接相鄰兩所述第三稜柱。
  11. 一種導光板的製作方法，包括： 提供一第一基板，具有一加工平面； 沿著一第二方向以一第一刀具在所述加工平面刻多個第一翻模凹槽，所述多個第一翻模凹槽彼此連接； 沿著一第一方向以一第二刀具在所述加工平面的一第一加工區域中刻多個第二翻模凹槽，且所述第一加工區域鄰近所述加工平面的一第一邊緣，且所述第一方向不同於所述第二方向；以及 以所述加工平面翻模製作一導光板的出光面。
  12. 如請求項11所述之製作方法，其中在刻所述多個第二翻模凹槽的步驟之後包括： 沿著所述第一方向以所述第二刀具在所述加工平面的一第二加工區域中刻多個第三翻模凹槽並移除部分所述多個第一翻模凹槽，且所述第二加工區域位於所述第一加工區域和所述加工平面的所述第一邊緣之間。
  13. 如請求項12所述之製作方法，其中所述第二加工區域於所述第二方向上的寬度不超過10毫米。
  14. 如請求項11所述之製作方法，其中在每個所述第二翻模凹槽具有谷線，且所述多個第二翻模凹槽的谷線之間的間距落在0.001毫米至3毫米的範圍。
  15. 如請求項11所述之製作方法，其中所述第一方向垂直於所述第二方向。
  16. 如請求項11所述之製作方法，其中所述多個第二翻模凹槽的深度落在0.001毫米至0.15毫米的範圍。
  17. 如請求項11所述之製作方法，其中所述多個第二翻模凹槽在所述第二方向上的寬度落在0.1毫米至1毫米的範圍。
  18. 如請求項11所述之製作方法，其中在所述第二方向上，所述第一加工區域和所述加工平面的所述第一邊緣的距離不超過3毫米。
  19. 如請求項11所述之製作方法，其中所述加工平面具有一第三加工區域，所述第一加工區域位於所述第三加工區域和所述加工平面的所述第一邊緣之間，且所述第三加工區域未被所述第二刀具加工。
  20. 如請求項11所述之製作方法，其中在刻所述多個第二翻模凹槽的步驟之後包括： 沿著所述第一方向以所述第二刀具在所述加工平面的一第四加工區域中刻多個第三翻模凹槽，且所述第四加工區域鄰近所述加工平面的一第二邊緣，且所述第二邊緣相對於所述第一邊緣。
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