TW202219564A - 偏光薄膜、光學薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明課題在於提供一種即便在高溫高濕下之嚴酷環境下加濕可靠性仍優異之偏光薄膜。 其解決手段為一種偏光薄膜，其具備碘系偏光件與位於碘系偏光件之至少單側的鄰接層；鄰接層與水之HSP值距離為26以上。鄰接層宜為包含透濕度為500g/(m 2・24h)以下之障壁層者。又，障壁層之厚度宜為1µm以上。又，鄰接層宜為隔著直接接觸碘系偏光件之接著劑層而具備障壁層者。

Description

偏光薄膜、光學薄膜及影像顯示裝置
本發明涉及一種偏光薄膜，其具備碘系偏光件與位於前述碘系偏光件之至少單側的鄰接層。該偏光薄膜可單獨或是以將其積層而成之光學薄膜的形式來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影像顯示裝置。
在各種影像顯示裝置中，為了顯示影像係使用偏光薄膜。例如液晶顯示裝置(LCD)由其影像形成方式來看，於形成液晶面板表面之玻璃基板兩側配置偏光薄膜係必要不可或缺的。又，在有機EL顯示裝置中，為了遮蔽外光在金屬電極上的鏡面反射，會於有機發光層之視辨側配置偏光薄膜與1/4波長板積層而成之圓偏光薄膜。
前述偏光薄膜一般係使用於由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性材料構成之偏光件的單面或兩面透過各種接著劑等貼合有保護薄膜者。作為接著劑，例如提出了使用N-取代醯胺系單體作為硬化性成分之自由基聚合型之活性能量線硬化型接著劑(下述專利文獻1及專利文獻2)。所述接著劑雖為能在高濕度下及高溫下之嚴酷環境下發揮優異加濕可靠性者，但目前市場上仍持續要求可更提升加濕可靠性之接著劑。
又，提出了一種活性能量線硬化型接著劑，其係著眼於硬化性成分之SP值(溶解性參數)而以預定組成比率使用至少3種SP值不同之自由基聚合性化合物者，藉該接著劑可形成加濕可靠性提升之接著劑層(下述專利文獻3)。
此外，對於偏光薄膜不僅要求加濕可靠性，有時還要求即便在熱衝擊(例如反覆以-30℃與80℃之溫度條件進行之熱衝擊試驗)之嚴酷環境下仍具有優異耐性。例如，下述專利文獻4中記載了一種偏光薄膜，其具備偏光件與形成於偏光件之至少一面的保護薄膜層，且將該保護薄膜層之厚度設定為0.5µm以下。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2008-287207號公報 專利文獻2：日本專利特開2010-078700號公報 專利文獻3：日本專利特開2012-144690號公報 專利文獻4：國際公開第2018-101204號公報
發明欲解決之課題 根據上述專利文獻3記載之活性能量線硬化型接著劑，可對在製造偏光薄膜時使用之各種透明保護薄膜滿足加濕可靠性。然而，使用專利文獻3記載之活性能量線硬化型接著劑所得之偏光薄膜雖可滿足浸漬於60℃之溫水中6小時後之耐水性(溫水浸漬試驗)，但市場上仍要求在更高溫高濕下之嚴酷環境下之加濕可靠性。
此外，上述專利文獻4記載之偏光薄膜係在偏光薄膜之薄型化需求下，為了提升耐熱衝擊性而開發者，並非是為了提升加濕可靠性而開發者。更不用說上述專利文獻4中並未記載或教示任何有關後述本發明效果發揮之機制。
本發明係鑒於上述實情而開發出之物，目的在於提供一種即便在高溫高濕下之嚴酷環境下加濕可靠性仍優異之偏光薄膜。
用以解決課題之手段 上述課題可藉由下述構成解決。即，本發明涉及一種偏光薄膜，特徵在於：其具備碘系偏光件與位於前述碘系偏光件之至少單面的鄰接層；前述鄰接層與水之HSP值距離為26以上。
前述偏光薄膜中，前述鄰接層宜為包含透濕度為500g/(m 2・24h)以下之障壁層者。
前述偏光薄膜中，前述障壁層之厚度宜為1µm以上。
前述偏光薄膜中，前述鄰接層宜為隔著直接接觸前述碘系偏光件之接著劑層而具備前述障壁層者。
前述偏光薄膜中，前述鄰接層宜為隔著形成於易接著層上之接著劑層而具備前述障壁層者，且該易接著層係直接接觸前述碘系偏光件。
前述偏光薄膜中，前述障壁層之厚度Tb相對於前述接著劑層之厚度Ta之比(Tb/Ta)宜為0.05~50。
前述偏光薄膜宜更具備樹脂薄膜，該樹脂薄膜係積層於前述碘系偏光件之前述鄰接層側之面。
前述偏光薄膜中，前述樹脂薄膜之透濕度宜為80g/(m 2・24h)以上。
又，本發明涉及一種光學薄膜，其特徵在於積層有至少1片如前述任一項記載之偏光薄膜；以及涉及一種影像顯示裝置，其更具備如前述任一項記載之偏光薄膜或如前述記載之光學薄膜。
發明效果 本發明偏光薄膜於碘系偏光件之至少單面具備與水之HSP值距離為26以上的鄰接層。結果，本發明偏光薄膜即便在高溫高濕下之嚴酷環境下，加濕可靠性仍優異。獲得所述優異效果之理由雖不甚清楚，但可推測如下。
具備碘系偏光件之偏光薄膜尤其在高溫高濕下碘會從碘系偏光件往外層脫離，從而有偏光薄膜之單體透射率的變化量及偏光度的變化量皆變大之傾向。本發明人著眼於所述傾向努力探究其原因後，結果新得知：尤其在高溫高濕下，水會浸入碘系偏光件內，當侵入之水從碘系偏光件往外層脫離時，碘會被水夾帶，從而碘會以該形式與水一同從碘系偏光件往外層脫離。本發明人詳細檢討該機制後，結果發現藉由於碘系偏光件之至少單面設置與水之HSP值距離為26以上的鄰接層，可抑制碘從碘系偏光件脫離，即便在高溫高濕下之嚴酷環境下，仍可飛躍性地提升加濕可靠性。
尤其本發明偏光薄膜係製成使鄰接層為包含透濕度為500g/(m 2・24h)以下之障壁層者，並令該障壁層之厚度為1µm以上，藉此可顯著抑制碘從偏光件脫離，即便在高溫高濕下之嚴酷環境下，仍可更飛躍性地提升加濕可靠性。
本發明偏光薄膜可為於碘系偏光件之鄰接層側之面積層有樹脂薄膜者，尤其該樹脂薄膜之透濕度可為80g/(m 2・24h)以上。透濕度為80g/(m 2・24h)以上之樹脂薄膜尤其容易在高溫高濕下使水通過，而如前述機制所述，若為一般偏光薄膜，便容易發生碘從碘系偏光件脫離。但本發明偏光薄膜於碘系偏光件之至少單面具備與水之HSP值距離為26以上的鄰接層，因此能抑制碘從碘系偏光件脫離，即便在高溫高濕下之嚴酷環境下，加濕可靠性仍能飛躍性地提升。
本發明偏光薄膜具備碘系偏光件與位於碘系偏光件之至少單面的鄰接層。
＜碘系偏光件＞ 碘系偏光件(以下亦僅稱為「偏光件」或「薄型偏光件」)無特別限制，可使用各種偏光件。偏光件可舉例如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘並加以單軸延伸者等。偏光件之厚度可舉例如3~20µm。
惟，本發明中，由提升在高溫高濕下之嚴酷環境下的加濕可靠性之觀點來看，作為偏光件宜使用厚度在3μm以上且15μm以下之薄型偏光件。特別宜為12µm以下，更宜為10µm以下，尤宜為8µm以下。所述薄型偏光件之厚度參差少、視辨性佳且尺寸變化少，故對熱衝擊之耐久性優異。
將聚乙烯醇系薄膜用碘染色並單軸延伸之偏光件可藉由例如將聚乙烯醇浸漬於碘水溶液中來染色，並延伸成原長的3~7倍來製作。亦可視需要浸漬於亦可包含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等碘化鉀等的水溶液中。更可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢或抗黏結劑，除此之外藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤還有防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，可一邊染色並一邊延伸，又亦可於延伸後以碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
由延伸穩定性或加濕可靠性之觀點來看，偏光件宜含有硼酸。又，由抑制貫穿性裂痕發生之觀點來看，偏光件所含之硼酸含量宜相對於偏光件總量為22質量%以下，更宜為20質量%以下。由延伸穩定性或加濕可靠性之觀點來看，硼酸含量相對於偏光件總量宜為10質量%以上，更宜為12質量%以上。
薄型偏光件代表上可列舉： 日本專利第4751486號說明書、 日本專利第4751481號說明書、 日本專利第4815544號說明書、 日本專利第5048120號說明書、 國際公開第2014/077599號公報手冊、 國際公開第2014/077636號公報手冊等所記載之薄型偏光件或由該等所記載之製造方法獲得之薄型偏光件。
在包含在積層體之狀態下延伸之步驟與染色之步驟的製法中，由可以高倍率延伸以提升偏光性能之觀點來看，前述薄型偏光件以諸如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所記載之以包含在硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法獲得者為宜，尤以如日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所記載之以包含在硼酸水溶液中進行延伸前輔助性地進行空中延伸之步驟的製法獲得者為宜。該等薄型偏光件可藉由包含以下步驟之製法獲得：將聚乙烯醇系樹脂(以下，亦稱PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體之狀態下延伸之步驟與染色之步驟。若為該製法，即便PVA系樹脂層很薄，因其被延伸用樹脂基材支持著，故可延伸而不因延伸造成斷裂等不良狀況。
＜鄰接層＞ 本發明偏光薄膜之特徵在於：於碘系偏光件之至少單面具備鄰接層，且鄰接層與水之HSP值距離為26.0以上。首先，於以下說明HSP值(溶解性參數)之計算法。
(溶解度參數(HSP值距離)之計算法) 本發明中，鄰接層之溶解度參數(HSP值距離)係使用Hansen之計算法[使用HSPiP version 4.1.07 計算軟體]、亦即Hansen溶解度參數，為Chares M.Hansen於1967年發表之預測物質溶解性所用之值。
Hansen溶解度參數係由以下3個參數所構成。 ・δD：分子間之分散力產生之能量 ・δP：分子間之偶極矩相互作用產生之能量 ・δH：分子間之氫鍵產生之能量 該等3個參數可視為3維空間中之座標。2個物質間(例如水與鄰接層)之親和性可由2個HSP值的距離(HSP值距離)來評估，當2個物質間之HSP值距離小，即可說其親和性大。
作為此次指標使用之HSP值距離計算式，係將2個物質之上述Hansen之3成分代入下式算出之值。 [數學式1] HSP值距離=√(4×(δD 1-δD 2)^2+2×(δP 1-δP 2)^2+2×(δH 1-δH 2)^2)
本發明中，於碘系偏光件之至少單面具備之鄰接層與水之HSP距離宜為26以上，較宜為27以上，更宜為28以上。
此外，在本發明中亦可為僅於碘系偏光件之單面具備HSP距離為26以上之鄰接層者，但尤其於碘系偏光件之兩面具備HSP距離為26以上之鄰接層時，即便於高溫高濕下之嚴酷環境下，仍尤其具有優異之加濕可靠性，故為適宜。
鄰接層例如可為於偏光件之至少單面具備接著劑層及透濕度為500g/(m 2・24h)以下之障壁層者。此時，例如亦可於直接接觸碘系偏光件之接著劑層上形成障壁層。又，鄰接層係以接著劑層及障壁層構成時，鄰接層之與水的HSP值距離可如以下方式算出。 (鄰接層中接著劑層所佔之厚度比率)×(接著劑層之與水的HSP值距離)+(鄰接層中障壁層所佔之厚度比率)×(障壁層之與水的HSP值距離)
＜障壁層＞ 尤其本發明偏光薄膜係製成使鄰接層為包含透濕度為500g/(m 2・24h)以下之障壁層者，並令該障壁層之厚度為1µm以上，藉此可顯著抑制碘從偏光件脫離，即便在高溫高濕下之嚴酷環境下，仍可更飛躍性地提升加濕可靠性。以構成障壁層之樹脂成分來說，例如宜以以下樹脂或該等之混合物構成障壁層：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚碳酸酯樹脂；芳酯系樹脂；尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系樹脂；如聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、具有環系乃至降莰烯結構之環狀烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂。尤其本發明中，構成障壁層之樹脂宜為聚碳酸酯系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂，尤宜為環狀聚烯烴系樹脂。
有關障壁層之厚度Tb，尤其下限宜為0.75µm，1µm尤佳。藉由障壁層之厚度的下限設計成如上述，可提升在高溫高濕下之嚴酷環境下的加濕可靠性。由偏光薄膜薄型化之需求之觀點來看，障壁層之厚度的上限可舉例如3µm左右，較宜為1µm左右。
＜接著劑層＞ 與水之HSP值距離為26以上的鄰接層可僅由直接接觸碘系偏光件之接著劑層構成，可以於直接接觸碘系偏光件之接著劑層上形成有障壁層者構成，或可以於直接接觸碘系偏光件之接著劑層上形成有障壁層、並於該障壁層上形成有接著劑層者構成。又，前述接著劑層可形成為直接接觸碘系偏光件，亦可為形成於直接接觸碘系偏光件之易接著層上者。關於易接著層容於後述。
構成鄰接層之接著劑層不論為1層時或為2層以上時，每1層之接著劑層厚度Ta宜為0.1~10µm，且0.5~5µm為佳。
由藉由鄰接層提升偏光薄膜之加濕可靠性之觀點來看，障壁層之厚度Tb相對於接著劑層之厚度Ta的比(Tb/Ta)宜為0.05~50，較宜為1~10。
成為本發明接著劑層之原料的接著劑組成物至少含有硬化性成分。該硬化性成分宜以使硬化後之接著劑層之與水的HSP值距離成為25以上且27以下之方式適當選擇。
硬化性成分可大致區別為電子束硬化型、紫外線硬化型、可見光線硬化型等活性能量線硬化型與熱硬化型。並且，紫外線硬化型、可見光線硬化型接著劑可區分為自由基聚合硬化型接著劑與陽離子聚合型接著劑。本發明中係將波長範圍在10nm~小於380nm之活性能量線標記為紫外線，且將波長範圍在380nm~800nm之活性能量線標記為可見光線。前述自由基聚合硬化型接著劑之硬化性成分可以熱硬化型接著劑之硬化性成分作使用。
前述硬化性成分可舉例如自由基聚合硬化型性接著劑所用之自由基聚合性化合物。自由基聚合性化合物可舉具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基的化合物。該等硬化性成分可使用單官能自由基聚合性化合物或雙官能以上之多官能自由基聚合性化合物中之任一者。又，該等自由基聚合性化合物可單獨使用1種或可組合2種以上來使用。該等自由基聚合性化合物例如宜為具有(甲基)丙烯醯基之化合物。此外，本發明中，所謂(甲基)丙烯醯係指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基，以下「(甲基)」同義。
單官能自由基聚合性化合物可舉例如具有(甲基)丙烯醯胺基之(甲基)丙烯醯胺衍生物。(甲基)丙烯醯胺衍生物不僅可確保與偏光件或各種透明保護薄膜之接著性，且在聚合速度快且生產性優良這點上甚為理想。(甲基)丙烯醯胺衍生物之具體例可列舉例如：N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺等含N-烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺等含N-羥烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；胺甲基(甲基)丙烯醯胺、胺乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-胺烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-甲氧甲基丙烯醯胺、N-乙氧甲基丙烯醯胺等含N-烷氧基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；巰甲基(甲基)丙烯醯胺、巰乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-巰烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物等。又，(甲基)丙烯醯胺基的氮原子形成雜環之含雜環的(甲基)丙烯醯胺衍生物，可舉例如N-丙烯醯基嗎福林、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶及N-丙烯醯基吡咯啶等。
又，單官能自由基聚合性化合物可舉例如具有(甲基)丙烯醯氧基之各種(甲基)丙烯酸衍生物。具體而言可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、2-甲基-2-硝基丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸三級戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、4-甲基-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正十八酯等之(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類。
又，前述(甲基)丙烯酸衍生物可列舉例如：(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等(甲基)丙烯酸環烷酯；(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳烷酯；(甲基)丙烯酸2-異莰酯、(甲基)丙烯酸2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降莰烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯等多環式(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、烷基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等之含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯等等。
又，前述(甲基)丙烯酸衍生物可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯等(甲基)丙烯酸羥烷基酯；或丙烯酸[4-(羥甲基)環己基]甲酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、2-羥-3-苯氧丙基(甲基)丙烯酸酯等含羥基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯環氧丙基醚等含環氧基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥丙酯等含鹵素的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯；(甲基)丙烯酸3-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-乙-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-丁-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-己-氧雜環丁烷基甲酯等含氧雜環丁烷基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸丁內酯等具有雜環的(甲基)丙烯酸酯；或羥基三甲基乙酸新戊二醇(甲基)丙烯酸加成物、(甲基)丙烯酸對苯基苯酚酯等。
又，單官能自由基聚合性化合物可列舉為：(甲基)丙烯酸、丙烯酸羧乙酯、丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸、異巴豆酸等含羧基之單體。
又，單官能自由基聚合性化合物可列舉例如：N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯基吡咯啶酮等內醯胺系乙烯基單體；乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌𠯤、乙烯基吡𠯤、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基嗎福林等具有含氮雜環之乙烯基系單體等等。
又，單官能自由基聚合性化合物可使用具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物係一在末端或分子中具有(甲基)丙烯醯基等活性雙鍵基且具有活性亞甲基之化合物。活性亞甲基可舉乙醯乙醯基、烷氧基丙二醯基或氰基乙醯基等。前述活性亞甲基宜為乙醯乙醯基。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之具體例可列舉例如：2-乙醯乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基-1-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯等乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯；2-乙氧基丙二醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-氰基乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-(2-氰基乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧基甲基苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基胺基乙基)丙烯醯胺等。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物宜為乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯。
又，二官能以上之多官能自由基聚合性化合物可列舉例如：三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、2-乙-2-丁基丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A氧化乙烯加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A氧化丙烯加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、環狀三羥甲丙烷縮甲醛(甲基)丙烯酸酯、二㗁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改質二甘油四(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物、9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]茀。具體例可列舉：ARONIX M-220，M-306(東亞合成公司製)、LIGHT-ACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學公司製)、LIGHT-ACRYLATE DGE-4A(共榮社化學公司製)、LIGHT-ACRYLATE DCP-A(共榮社化學公司製)、SR-531(Sartomer公司製)、CD-536(Sartomer公司製)等。又，因應需要，可舉各種環氧基(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等。
由兼顧與偏光件或各種透明保護薄膜之接著性、以及在嚴酷環境下之光學耐久性的觀點來看，自由基聚合性化合物宜併用單官能自由基聚合性化合物與多官能自由基聚合性化合物。通常，相對於自由基聚合性化合物100重量%，宜以單官能自由基聚合性化合物30~90重量%與多官能自由基聚合性化合物10~70重量%之比率來併用。
本發明偏光薄膜用硬化型接著劑在將硬化性成分以活性能量線硬化性成分作使用時，可以活性能量線硬化型接著劑作使用，而在將硬化性成分以熱硬化性成分作使用時，可以熱硬化型接著劑作使用。前述活性能量線硬化型接著劑在將電子束等用於活性能量線時，該活性能量線硬化型接著劑不一定要含有光聚合引發劑，但在將紫外線或可見光線用於活性能量線時，則宜含有光聚合引發劑。另一方面，將前述接著劑之硬化性成分以熱硬化性成分作使用時，該接著劑宜含有熱聚合引發劑。
使用自由基聚合性化合物時，光聚合引發劑可依活性能量線適當選擇。藉由紫外線或可見光線使其硬化時，係使用紫外線或可見光線開裂之光聚合引發劑。前述光聚合引發劑可列舉例如：二苯基乙二酮(benzil)、二苯基酮、苯甲醯苯甲酸、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯基酮等二苯基酮系化合物；4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥-2-丙基)酮、α-羥-α,α’-二甲基苯乙酮、2-甲-2-羥基苯丙酮、α-羥基環己基苯基酮等芳香族酮化合物；甲氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2-甲-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-嗎福林基丙-1等的苯乙酮系化合物；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻丁基醚、大茴香偶姻甲基醚等的苯偶姻醚系化合物；苄基二甲縮酮等芳香族縮酮系化合物；2-萘磺醯氯等芳香族磺醯氯系化合物；1-苯酮-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟等的光活性肟系化合物；9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
、2-氯9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
、2-甲基9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
、2,4-二甲基9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
、異丙基-9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
、2,4-二氯9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
、2,4-二乙基9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
、2,4-二異丙基9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
、十二基9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
等的9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
系化合物；樟腦醌；鹵化酮；醯基氧化膦；醯基膦酸酯等。
相對於硬化性成分(自由基聚合性化合物)總量100重量份，前述光聚合引發劑之摻混量為20重量份以下。光聚合引發劑之摻混量宜為0.01~20重量份，並且為0.05~10重量份、更宜為0.1~5重量份。
又，將本發明偏光薄膜用硬化型接著劑以含有自由基聚合性化合物作為硬化性成分之可見光線硬化型來使用時，尤宜使用對380nm以上的光有高感度之光聚合引發劑。對380nm以上的光有高感度之光聚合引發劑容於後述。
前述光聚合引發劑宜單獨使用下述通式(1)所示化合物、或併用通式(1)所示化合物與後述對380nm以上的光有高感度之光聚合引發劑： [化學式1]
Figure 02_image001
(式中，R 1及R 2表示-H、-CH 2CH 3、-iPr或Cl，且R 1及R 2可相同或相異)。相較於單獨使用對380nm以上的光有高感度之光聚合引發劑的情形，使用通式(1)所示化合物時之接著性較佳。通式(1)所示化合物中，以R 1及R 2為-CH 2CH 3之二乙基9-氧硫
Figure 110136234-0000-3
尤佳。相對於硬化性樹脂組成物總量，硬化性樹脂組成物中通式(1)所示化合物之組成比率宜為0.1~5重量%，較宜為0.5~4重量%，更宜為0.9~3重量%。
又，宜因應需要而添加聚合引發助劑。聚合引發助劑可列舉三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲胺苯甲酸、4-二甲胺苯甲酸甲酯、4-二甲胺苯甲酸乙酯、4-二甲胺苯甲酸異戊酯等，尤宜為4-二甲胺苯甲酸乙酯。使用聚合引發助劑時，其添加量相對於硬化性樹脂組成物之總量，一般為0~5重量%，宜為0~4重量%，最宜為0~3重量%。
又，可因應需要併用公知之光聚合引發劑。具有UV吸收能之透明保護薄膜不會透射380nm以下的光，因此光聚合引發劑宜使用對380nm以上的光有高感度之光聚合引發劑。具體而言可列舉：2-甲-1-(4-甲基硫基苯基)-2-嗎福林基丙-1-酮、2-苄-2-二甲胺基-1-(4-嗎福林基苯基)-丁-1-酮、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福林基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。
尤其，光聚合引發劑除了通式(1)之光聚合引發劑外，還宜使用下述通式(2)所示化合物： [化學式2]
Figure 02_image003
(式中，R 3、R 4及R 5表示-H、-CH 3、-CH 2CH 3、-iPr或Cl，且R 3、R 4及R 5可相同或相異)。通式(2)所示化合物可適宜使用亦屬市售物的2-甲-1-(4-甲基硫基苯基)-2-嗎福林基丙-1-酮(商品名：IRGACURE907，製造商：BASF)。除此之外，2-苄-2-二甲胺基-1-(4-嗎福林基苯基)-丁-1-酮(商品名：IRGACURE369，製造商：BASF)、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福林基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE379，製造商：BASF)由於感度高，故理想。
上述接著劑組成物中，當使用具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物作為自由基聚合性化合物時，宜與具有奪氫作用之自由基聚合引發劑組合來使用。藉由所述構成，即便特別在剛從高濕度環境或水中取出後(非乾燥狀態)，偏光薄膜所具有之接著劑層的接著性仍會明顯提升。該理由尚不明確，但可推測以下原因。即，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物會一邊與構成接著劑層之其他自由基聚合性化合物一起聚合，一邊被組入接著劑層中基底聚合物的主鏈及/或側鏈，形成接著劑層。於前述聚合過程中，一旦存在具奪氫作用之自由基聚合引發劑，便會一邊形成構成接著劑層之基底聚合物，一邊從具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物奪氫，而在亞甲基產生自由基。於是，產生了自由基之亞甲基與PVA等偏光件之羥基便會進行反應，而在接著劑層與偏光件之間形成共價鍵。結果可推知即便特別在非乾燥狀態下，偏光薄膜所具有之接著劑層的接著性仍會明顯提升。
本發明中，具有奪氫作用之自由基聚合引發劑可舉例如9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
系自由基聚合引發劑、二苯基酮系自由基聚合引發劑等。前述自由基聚合引發劑宜為9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
系自由基聚合引發劑。作為9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
系自由基聚合引發劑，可舉例如上述通式(1)所示化合物。通式(1)所示化合物之具體例可舉例如9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
系、二甲基9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
系、二乙基9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
、異丙基9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
系、氯9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
系等。通式(1)所示化合物中，以R 1及R 2為-CH 2CH 3之二乙基9-氧硫𠮿
Figure 110136234-0000-3
尤佳。
上述接著劑組成物中，在含有具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物與具有奪氫作用之自由基聚合引發劑的情況下，將硬化性成分之總量設為100質量%時，宜含有1~50質量%之前述具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物，且相對於硬化性樹脂組成物之總量，宜含有0.1~10質量%之自由基聚合引發劑。
如上述，本發明中，在具有奪氫作用之自由基聚合引發劑存在下，使具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之亞甲基產生自由基，該亞甲基便會與PVA等偏光件之羥基反應形成共價鍵。因此，為了使具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之亞甲基產生自由基並充分形成前述共價鍵，在將硬化性成分之總量設為100質量%時，宜含有1~50質量%之具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物，進而較宜含有3~30質量%。為使耐水性充份提升以提升非乾燥狀態下之接著性，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物宜設為1質量%以上。另一方面，若大於50質量%，會有接著劑層硬化不良的情況。又，相對於接著劑組成物之總量，具有奪氫作用之自由基聚合引發劑宜含有0.1~10質量%，進而較宜含有0.3~9質量%。為了使奪氫反應充分進行，宜使用0.1質量%以上之自由基聚合引發劑。另一方面，若大於10質量%，便有不完全溶解於組成物中的情況。
本發明中使用之接著劑組成物可視需求進一步將以下化合物摻混於接著劑組成物中： 下述通式(3)記載之化合物： [化學式3]
Figure 02_image005
(惟，X為含反應性基之官能基，R 6及R 7分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)； 較宜為前述通式(3')記載之化合物： [化學式4]
Figure 02_image007
(惟，Y為有機基，X'為X所含之反應性基，R 6及R 7與前述相同)； 更宜為後述通式(3a)~(3d)記載之化合物： [化學式5]
Figure 02_image009
於接著劑組成物中摻混了該等化合物時，與偏光件或透明保護薄膜之接著性會提升，故理想。由偏光件與透明保護薄膜之接著性及耐水性提升之觀點來看，接著劑組成物中，前述通式(3)記載之化合物含量宜為0.001~50質量%，較宜為0.1~30質量%，最宜為1~10質量%。
前述通式(3)中，前述脂肪族烴基可舉碳數1~20之可具有取代基之直鏈或支鏈烷基、碳數3~20之可具有取代基之環狀烷基、碳數2~20之烯基；芳基可舉碳數6~20之可具有取代基之苯基、碳數10~20之可具有取代基之萘基等；雜環基可舉例如包含至少一個雜原子且可具有取代基之5員環或6員環之基。該等可相互連結形成環。通式(3)中，作為R 6及R 7宜為氫原子、碳數1~3之直鏈或支鏈烷基，最宜為氫原子佳。
通式(3)所示化合物具有之X為含反應性基且可與構成接著劑層之硬化性成分反應之官能基，X所含之反應性基可列舉例如羥基、胺基、醛基、羧基、乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、α,β-不飽和羰基、巰基、鹵素基等。構成接著劑層之硬化性樹脂組成物為活性能量線硬化性時，X所含之反應性基宜為選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基及巰基所構成群組中之至少1種反應性基；特別於構成接著劑層之接著劑組成物為自由基聚合性時，X所含之反應性基宜為選自於由(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基及(甲基)丙烯醯胺基所構成群組中之至少1種反應性基；通式(1)所示化合物具有(甲基)丙烯醯胺基時，由於反應性高，而可提高與活性能量線硬化性樹脂組成物之共聚率，因此較理想。又，(甲基)丙烯醯胺基之極性高，接著性優異，因此可有效率地獲得本發明效果，由此點來看亦佳。構成接著劑層之硬化性樹脂組成物為陽離子聚合性時，X所含之反應性基宜具有選自於羥基、胺基、醛、羧基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、巰基中之至少1個官能基，特別於具有環氧基時，因所得硬化性樹脂層與被黏著體之密著性優異，故理想；具有乙烯基醚基時，因硬化性樹脂組成物之硬化性優良，故理想。
本發明中，通式(3)所示化合物亦可為反應性基與硼原子直接鍵結者，如前述具體例所示，通式(3)所示化合物宜為反應性基與硼原子隔著有機基鍵結者，即通式(3’)所示化合物。通式(3)所示化合物為例如隔著鍵結於硼原子之氧原子與反應性基鍵結者時，偏光薄膜之接著耐水性有劣化的傾向。另一方面，當通式(3)所示化合物不為具硼-氧鍵者，而為藉由硼原子與有機基鍵結而具有硼-碳鍵且含反應性基者時(通式(3’)所示者時)，因可提升偏光薄膜之接著耐水性，故理想。前述有機基具體上意指可具有取代基之碳數1~20有機基，具體可列舉例如碳數1~20之可具有取代基之直鏈或支鏈伸烷基、碳數3~20之可具有取代基之環狀伸烷基、碳數6~20之可具有取代基之伸苯基、碳數10~20之可具有取代基之伸萘基等。
通式(3)所示化合物除了前述例示之化合物外，還可例示羥乙基丙烯醯胺與硼酸之酯、羥甲基丙烯醯胺與硼酸之酯、丙烯酸羥乙酯與硼酸之酯、及丙烯酸羥丁酯與硼酸之酯等(甲基)丙烯酸酯與硼酸之酯。
本發明中使用之接著劑組成物亦可因應需要更含有氣泡抑制劑。氣泡抑制劑係一藉由摻混於接著劑組成物中而可降低其表面張力之化合物，藉此具有減低與貼合之被黏著體之間之氣泡的效果。氣泡抑制劑可使用具備添加至接著劑組成物中時能減低其表面張力之效果者，例如：聚二甲基矽氧烷等具有聚矽氧烷骨架之聚矽氧系氣泡抑制劑、(甲基)丙烯酸酯等聚合而成之具有(甲基)丙烯醯基骨架的(甲基)丙烯酸系氣泡抑制劑、乙烯基醚或環狀醚等聚合而成之聚醚系氣泡抑制劑、由具全氟烷基之氟系化合物構成之氟性氣泡抑制劑等。
氣泡抑制劑宜於化合物中具有反應性基。此時，貼合偏光件及透明保護薄膜時，可降低積層氣泡之發生。氣泡抑制劑具有之反應性基可舉聚合性官能基，具體上可列舉例如：(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等具有乙烯性雙鍵之自由基聚合性官能基；環氧丙基等環氧基、氧雜環丁烷基、乙烯基醚基、環狀醚基、環狀硫醚基、內酯基等陽離子聚合性官能基等。由在接著劑組成物中之反應性的觀點來看，宜為具有雙鍵作為反應性基之氣泡抑制劑，較宜為具有(甲基)丙烯醯基之氣泡抑制劑。
考慮到抑制積層氣泡與提升接著性之效果時，前述氣泡抑制劑中又宜為聚矽氧系氣泡抑制劑。又，考慮到接著劑層之接著性時，氣泡抑制劑中又宜為於主鏈骨架或側鏈包含胺甲酸酯鍵或三聚異氰酸酯環結構者。聚矽氧系氣泡抑制劑亦可適宜使用市售物，可舉例如丙烯醯基改質聚二甲基矽氧烷之「BYK-UV3505」(BYK・Japan公司製)。
為兼顧所得接著劑層之接著力與減低積層氣泡之效果，令接著劑組成物之總量為100質量%時，氣泡抑制劑之含量宜為0.01~0.6質量%。
本發明中使用之接著劑組成物除了前述自由基聚合性化合物之硬化性成分外，還可含有(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物。藉由於接著劑組成物中含有該丙烯酸系寡聚物，可在對該組成物照射活性能量線使其硬化時降低硬化收縮，從而可降低接著劑與偏光件及透明保護薄膜等被黏著體之界面應力。結果可抑制接著劑層與被黏著體之接著性降低。為充分抑制硬化物層(接著劑層)之硬化收縮，相對於接著劑組成物之總量，丙烯酸系寡聚物之含量宜為20質量%以下，較宜為15質量%以下。若接著劑組成物中之丙烯酸系寡聚物之含量過多，對該組成物照射活性能量線時反應速度會急遽降低，而有硬化不良的情況。另一方面，相對於接著劑組成物之總量，宜含有3質量%以上之丙烯酸系寡聚物，較宜含有5質量%以上。
考慮到塗敷時之作業性或均一性時，接著劑組成物宜為低黏度，故(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物亦宜為低黏度。作為低黏度且可防止接著劑層之硬化收縮的丙烯酸系寡聚物，宜為重量平均分子量(Mw)在15000以下者，較宜為10000以下者，尤宜為5000以下者。另一方面，為充分抑制硬化物層(接著劑層)之硬化收縮，丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量(Mw)宜在500以上，較宜為1000以上，尤宜為1500以上。構成丙烯酸系寡聚物之(甲基)丙烯酸單體，具體上可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲-2-硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸S-丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸三級戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2,2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸4-甲-2-丙基戊酯、N-十八基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸(碳數1~20)烷基酯類；以及例如(甲基)丙烯酸環烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸苄酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如(甲基)丙烯酸2-異莰酯、(甲基)丙烯酸2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降莰烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲-2-降莰基甲酯等)、含羥基的(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、2,3-二羥丙基甲基-丁基(甲基)甲基丙烯酸酯等)、含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯類((甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯等)、含環氧基的(甲基)丙烯酸酯類(例如，(甲基)丙烯酸環氧丙酯等)、含鹵素的(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等)、(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯(例如二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等)等。該等(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或併用2種以上。丙烯酸系寡聚物之具體例可舉東亞合成公司製「ARUFON」、綜研化學公司製「ACTFLOW」、BASF JAPAN公司製「JONCRYL」等。
上述接著劑組成物中可含有光酸產生劑。相較於不含光酸產生劑之情況，上述接著劑組成物中含有光酸產生劑時，可飛躍性地提升接著劑層之耐水性及耐久性。光酸產生劑可以下述通式(4)表示。
通式(4) [化學式6]
Figure 02_image011
(惟，L +表示任意的鎓陽離子；又，X -表示選自於由PF 6 -、SbF 6 -、AsF 6 -、SbCl 6 -、BiCl 5 -、SnCl 6 -、ClO 4 -、二硫代胺甲酸鹽陰離子、SCN-所構成群組中的相對陰離子)。
接著，說明通式(4)中的相對陰離子X -。
通式(4)中的相對陰離子X -原理上無特別限制，宜為非親核性陰離子。當相對陰離子X -為非親核性陰離子時，因不易使共存於分子內的陽離子或所併用之各種材料之親核反應發生，結果可使通式(4)所示之光酸產生劑本身或使用有其之組成物的歷時穩定性提升。此處所提非親核性陰離子係指引發親核反應之能力低的陰離子。上述陰離子可列舉例如PF 6 -、SbF 6 -、AsF 6 -、SbCl 6 -、BiCl 5 -、SnCl 6 -、ClO 4 -、二硫代胺甲酸鹽陰離子、SCN -等。
本發明光酸產生劑之理想具體例，具體上可列舉例如：「Cyracure-UVI-6992」、「Cyracure-UVI-6974」(以上為陶氏化學(Dow Chemical)日本股份公司製)、「ADEKA OPTOMER SP150」、「ADEKA OPTOMER SP152」、「ADEKA OPTOMER SP170」、「ADEKA OPTOMER SP172」(以上為股份公司ADEKA製)、「IRGACURE250」(Ciba Specialty Chemicals公司製)、「CI-5102」、「CI-2855」(以上為日本曹達公司製)、「SANEIDO SI-60L」、「SANEIDO SI-80L」、「SANEIDO SI-100L」、「SANEIDO SI-110L」、「SANEIDO SI-180L」(以上為三新化學公司製)、「CPI-100P」、「CPI-100A」(以上為San-Apro股份公司製)、「WPI-069」、「WPI-113」、「WPI-116」、「WPI-041」、「WPI-044」、「WPI-054」、「WPI-055」、「WPAG-281」、「WPAG-567」、「WPAG-596」(以上為和光純藥公司製)。
相對於接著劑組成物之總量，光酸產生劑之含量為10質量%以下，宜為0.01~10質量%，較宜為0.05~5質量%，尤宜為0.1~3質量%。
光鹼產生劑係一藉由紫外線或可見光線等光照射使分子結構產生變化、或藉由分子開裂而作為自由基聚合性化合物或環氧樹脂的聚合反應之觸媒發揮功能，生成1種以上鹼性物質之化合物。鹼性物質可舉例如2級胺、3級胺。光鹼產生劑可列舉例如上述α-胺基苯乙酮化合物、上述肟酯化合物、或具有醯基氧基亞胺基、N-甲醯基化芳香族胺基、N-醯基化芳香族胺基、硝基苄基胺甲酸酯基、烷氧基苄基胺甲酸酯基等取代基的化合物。其中又宜為肟酯化合物。
具有醯基氧基亞胺基之化合物可舉例如O,O’-琥珀酸二苯乙酮肟、O,O’-琥珀酸二萘乙酮肟、二苯甲酮肟丙烯酸酯-苯乙烯共聚物。
具有N-甲醯基化芳香族胺基、N-醯基化芳香族胺基之化合物可列舉例如：二-N-(對甲醯胺基)二苯甲烷、二-N(對乙醯胺基)二苯甲烷、二-N-(對苯甲醯胺)二苯甲烷、4-甲醯胺基甲苯、4-乙醯胺基甲苯、2,4-二甲醯胺基甲苯、1-甲醯胺基萘、1-乙醯胺基萘、1,5-二甲醯胺基萘、1-甲醯胺基蒽、1,4-二甲醯胺基蒽、1-乙醯胺基蒽、1,4-二甲醯胺基蒽醌、1,5-二甲醯胺基蒽醌、3,3’-二甲基-4,4’-二甲醯胺基聯苯、4,4’-二甲醯胺基二苯基酮。
具有硝基苄基胺甲酸酯基、烷氧基苄基胺甲酸酯基之化合物可列舉例如：雙{{(2-硝基苄基)氧基}羰基}二胺基二苯甲烷、2,4-二{(2-硝基苄基)氧基}甲苯、雙{(2-硝基苄基氧基)羰基}己烷-1,6-二胺及間茬胺{{(2-硝基-4-氯苄基)氧基}醯胺}。
光鹼產生劑宜為肟酯化合物及α-胺基苯乙酮化合物中之至少任1種，較宜為肟酯化合物。α-胺基苯乙酮化合物尤宜為具有2個以上氮原子者。
其他光鹼產生劑亦可使用WPBG-018(商品名：9-anthrylmethyl N,N’-diethylcarbamate)、WPBG-027(商品名：(E)-1-[3-(2-hydroxyphenyl)-2-propenoyl]piperidine)、WPBG-082(商品名：guanidinium2-(3-benzoylphenyl)propionate)、WPBG-140(商品名：1-(anthraquinon-2-yl)ethyl imidazolecarboxylate)等光鹼產生劑。
上述接著劑組成物可於接著劑組成物中併用光酸產生劑與含烷氧基或環氧基中之任一者的化合物。
使用分子內具有1個以上環氧基之化合物或分子內具有2個以上環氧基之高分子(環氧樹脂)時，亦可併用分子內具有2個以上與環氧基有反應性之官能基的化合物。此處所謂與環氧基有反應性之官能基，可列舉例如羧基、酚性羥基、巰基、1級或2級芳香族胺基等。考慮到3維硬化性，以一分子中具有2個以上該等官能基尤佳。
分子內具有1個以上環氧基之高分子可舉例如環氧樹脂，且有由雙酚A與環氧氯丙烷所衍生之雙酚A型環氧樹脂、由雙酚F與環氧氯丙烷所衍生之雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚A酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚F酚醛清漆型環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、二苯基醚型環氧樹脂、氫醌型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、茀型環氧樹脂、3官能型環氧樹脂或4官能型環氧樹脂等多官能型環氧樹脂、縮水甘油酯型環氧樹脂、縮水甘油胺型環氧樹脂、乙內醯脲型環氧樹脂、三聚異氰酸酯型環氧樹脂、脂肪族鏈狀環氧樹脂等，該等環氧樹脂可業經鹵素化，亦可業經氫化。市售的環氧樹脂製品可列舉例如：Japan Epoxy Resins股份公司製的JERCoat 828、1001、801N、806、807、152、604、630、871、YX8000、YX8034、YX4000；DIC股份公司製的Epiclon830、EXA835LV、HP4032D、HP820；股份公司ADEKA製的EP4100系列、EP4000系列、EPU系列；DAICEL化學股份公司製的CELLOXIDE系列(2021、2021P、2083、2085、3000等)、EPOLEAD系列、EHPE系列；新日鐵化學公司製的YD系列、YDF系列、YDCN系列、YDB系列、苯氧樹脂(為由雙酚類與環氧氯丙烷合成之聚羥基聚醚並在兩末端具有環氧基；YP系列等)；NAGASE CHEMTEX公司製的DENACOL系列；共榮社化學公司製的Epolite系列等，惟不受該等所限。該等環氧樹脂亦可併用2種以上。
作為分子內具有烷氧基之化合物，若為分子內具有1個以上烷氧基者便無特別限制，可使用公知之物。所述化合物可舉三聚氰胺化合物、胺基樹脂、矽烷耦合劑等作為代表。
相對於接著劑組成物之總量，含烷氧基或環氧基中之任一者的化合物之摻混量通常為30質量%以下，組成物中化合物之含量若過多，接著性便會降低，而有對落下試驗之耐衝擊性變差之情形。組成物中化合物之含量較宜為20質量%以下。另一方面，由耐水性之觀點來看，組成物中宜含有2質量%以上之化合物，較宜含有5質量%以上。
本發明中使用之接著劑組成物為活性能量線硬化性時，矽烷耦合劑宜使用活性能量線硬化性化合物，但即便不是活性能量線硬化性，仍可賦予相同耐水性。
矽烷耦合劑之具體例方面，作為活性能量線硬化性化合物可列舉：乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等。
宜為3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷。
非屬活性能量線硬化性之矽烷耦合劑的具體例方面，宜為具有胺基之矽烷耦合劑。具有胺基之矽烷耦合劑之具體例可列舉：γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-胺丙基三乙氧基矽烷、γ-胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-(2-(2-胺乙基)胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(6-胺己基)胺丙基三甲氧基矽烷、3-(N-乙胺基)-2-甲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲丙基三甲氧基矽烷、γ-脲丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-苄基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-乙烯基苄基-γ-胺丙基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基二乙氧基甲基矽烷、N-苯基胺甲基三甲氧基矽烷、(2-胺乙基)胺甲基三甲氧基矽烷、N,N’-雙[3-(三甲氧基矽基)丙基]乙二胺等含胺基的矽烷類；N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙胺等酮亞胺(ketimine)型矽烷類。
具有胺基之矽烷耦合劑可僅使用1種，亦可組合複數種來使用。為了確保良好之接著性，該等之中宜為γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙烷胺。
相對於接著劑組成物之總量，矽烷耦合劑之摻混量宜為0.01~20質量%之範圍，較宜為0.05~15質量%，更宜為0.1~10質量%。因摻混量大於20質量%時，接著劑組成物之儲存穩定性會變差，而低於0.1質量%時則無法充分發揮接著耐水性之效果。
上述以外之非屬活性能量線硬化性的矽烷耦合劑之具體例可列舉：3-脲丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-巰丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷、雙(三乙氧基矽基丙基)四硫醚、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、咪唑矽烷等。
本發明中使用之接著劑組成物含有具乙烯基醚基之化合物時，偏光件與接著劑層之接著耐水性會提升，故理想。獲得該效果之理由尚不明確，但可推測理由之一係化合物具有之乙烯基醚基與偏光件相互作用，藉此提高偏光件與接著劑層之接著力。為更提高偏光件與接著劑層之接著耐水性，化合物宜為具乙烯基醚基之自由基聚合性化合物。又，相對於接著劑組成物之總量，化合物之含量宜含有0.1~19質量%。
本發明中使用之接著劑組成物中可含有會產生酮-烯醇互變異構性之化合物。例如，在包含交聯劑之接著劑組成物中或在摻混交聯劑後使用之接著劑組成物中，可適宜採用包含上述會產生酮-烯醇互變異構性之化合物的態樣。藉此，可抑制在摻混有機金屬化合物後接著劑組成物的黏度過度上升或膠化現象、以及微凝膠物的生成，而可實現延長該組成物之使用期限的效果。
上述會產生酮-烯醇互變異構性之化合物可使用各種β-二羰基化合物。具體例可列舉：乙醯丙酮、2,4-己二酮、3,5-庚二酮、2-甲基己-3,5-二酮、6-甲基庚-2,4-二酮、2,6-二甲基庚-3,5-二酮等的β-二酮類；乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、乙醯乙酸異丙酯、乙醯乙酸三級丁酯等乙醯乙酸酯類；丙醯乙酸乙酯、丙醯乙酸乙酯、丙醯乙酸異丙酯、丙醯乙酸三級丁酯等丙醯乙酸酯類；異丁醯乙酸乙酯、異丁醯乙酸乙酯、異丁醯乙酸異丙酯、異丁醯乙酸三級丁酯等異丁醯乙酸酯類；丙二酸甲酯、丙二酸乙酯等丙二酸酯類等。其中適宜的化合物可舉乙醯丙酮及乙醯乙酸酯類。所述會產生酮-烯醇互變異構性之化合物可單獨使用，亦可組合2種以上來使用。
會產生酮-烯醇互變異構性之化合物的使用量，可設為例如相對於1質量份之有機金屬化合物為0.05質量份~10質量份，宜可設為0.2質量份~3質量份(例如0.3質量份~2質量份)。上述化合物之使用量相對於1質量份之有機金屬化合物若低於0.05質量份，便有難以發揮充分之使用效果的情形。另一方面，該化合物之使用量相對於1質量份之有機金屬化合物若大於10質量份，便會對有機金屬化合物行過剩之相互作用，而有難以展現目標之耐水性之情況。
本發明接著劑組成物中可含有聚輪烷。上述聚輪烷具有環狀分子、貫穿該環狀分子的開口部之直鏈狀分子及封端基，該封端基係以該環狀分子不會從該直鏈狀分子脫離之方式配置於該直鏈狀分子兩端。環狀分子宜具有活性能量線硬化性官能基。
環狀分子若為其開口部上有直鏈狀分子被以串刺狀包接、可在直鏈狀分子上移動且具有活性能量線聚合性基之分子，則無特別限定。此外，本說明書中，「環狀分子」之「環狀」意指實質上為「環狀」。亦即，若可在直鏈狀分子上移動，則環狀分子亦可為非完全閉環。
環狀分子之具體例可適宜列舉環狀聚醚、環狀聚酯、環狀聚醚胺、環狀多胺等環狀聚合物；及α-環糊精、β-環糊精、γ-環糊精等環糊精。其中，由較容易取得且可選擇多種封端基之種類來看，宜為α-環糊精、β-環糊精、γ-環糊精等環糊精。環狀分子亦可於聚輪烷中或接著劑中混合存在有2種以上。
本發明所用之聚輪烷中，上述環狀分子具有活性能量線聚合性基。藉此，聚輪烷與活性能量線硬化性成分會進行反應，而即便在硬化後仍可獲得交聯點可動之接著劑。環狀分子具有之活性能量線聚合性基若為可與上述活性能量線硬化性化合物聚合之基即可，可舉例如(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯氧基等自由基聚合性基。
使用環糊精作為環狀分子時，活性能量線聚合性基宜透過任意適當之連接子導入環糊精之羥基。聚輪烷於1分子中具有之活性能量線聚合性基之數量宜為2個~1280個，較宜為50個~1000個，更宜為90個~900個。
環狀分子中宜導入有疏水性改質基。藉由導入疏水性改質基，可提升與活性能量線硬化性成分之相溶性。又，因會賦予疏水性，故在用於偏光薄膜時可防止水浸入接著劑層與偏光件之界面，而可更進一步提升耐水性。疏水性改質基可列舉聚酯鏈、聚醯胺鏈、烷基鏈、氧伸烷基鏈、醚鏈等。具體例可舉WO2009/145073之[0027]~[0042]中記載之基團。
將含有聚輪烷之樹脂組成物作為接著劑使用之偏光薄膜，其耐水性佳。偏光薄膜之耐水性提升的理由尚不明確，但吾等推測如下。亦即，吾等認為係因聚輪烷的環狀分子的可動性致使交聯點可移動(所謂滑輪效應)，而對硬化後之接著劑賦予柔軟性，增加對偏光件表面凹凸之密著性，結果便防止了水侵入偏光件與接著劑層之界面。並且，吾等還認為藉由聚輪烷具有疏水性改質基而可對接著劑賦予疏水性這一點，亦有助於防止水侵入偏光件與接著劑層之界面。相對於樹脂組成物，聚輪烷之含量宜為2質量%~50質量%。
本發明中，為了形成接著劑層，亦可使用陽離子聚合性接著劑組成物。陽離子聚合性接著劑組成物中所使用之陽離子聚合性化合物，可分類為：分子內具有1個陽離子聚合性官能基的單官能陽離子聚合性化合物、與分子內具有2個以上陽離子聚合性官能基的多官能陽離子聚合性化合物。單官能陽離子聚合性化合物之液體黏度相對較低，使之含有於樹脂組成物中，便可降低樹脂組成物之液體黏度。又，單官能陽離子聚合性化合物大多具有能展現各種機能之官能基，使之含有於樹脂組成物中，便可使樹脂組成物及/或樹脂組成物之硬化物展現各種機能。多官能陽離子聚合性化合物因可使樹脂組成物之硬化物產生3維交聯，故宜使之含有於樹脂組成物中。單官能陽離子聚合性化合物與多官能陽離子聚合性化合物之比，宜相對於100質量份之單官能陽離子聚合性化合物，以10質量份至1000質量份之範圍混合多官能陽離子聚合性化合物。陽離子聚合性官能基可舉環氧基或氧雜環丁烷基、乙烯基醚基。具環氧基之化合物可舉脂肪族環氧化合物、脂環式環氧化合物、芳香族環氧化合物，本發明陽離子聚合性接著劑組成物以含有脂環式環氧化合物尤佳，因其硬化性或接著性優異。脂環式環氧化合物可舉3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己烷羧酸酯、3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己烷羧酸酯的己內酯改質物、三甲基己內酯改質物或戊內酯改質物等，具體而言可列舉：CELLOXIDE 2021、CELLOXIDE 2021A、CELLOXIDE 2021P、CELLOXIDE 2081、CELLOXIDE 2083、CELLOXIDE 2085(以上，DAICEL化學工業公司製)、Cyracure UVR-6105、Cyracure UVR-6107、Cyracure 30、R-6110(以上，DOW CHEMICAL日本公司製)等。具氧雜環丁烷基之化合物有改善本發明陽離子聚合性接著劑組成物之硬化性、或降低該組成物之液體黏度等效果，故宜含有。具氧雜環丁烷基之化合物可列舉：3-乙-3-羥甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲氧基甲基]苯、3-乙-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、二[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲基]醚、3-乙-3-(2-乙基己氧基甲基)氧雜環丁烷、苯酚酚醛氧雜環丁烷等，及市售之ARON OXETANE OXT-101、ARON OXETANE OXT-121、ARON OXETANE OXT-211、ARON OXETANE OXT-221、ARON OXETANE OXT-212(以上，東亞合成公司製)等。具乙烯基醚基之化合物有改善本發明陽離子聚合性接著劑組成物之硬化性、或降低該組成物之液體黏度等效果，故宜含有。具乙烯基醚基之化合物可列舉例如：2-羥乙基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚、4-羥丁基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚、三乙二醇二乙烯基醚、環己烷二甲醇二乙烯基醚、環己烷二甲醇單乙烯基醚、三環癸烷乙烯基醚、環己基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙基乙烯基醚、新戊四醇型四乙烯基醚等。
陽離子聚合性接著劑組成物含有選自於以上所說明之具環氧基之化合物、具氧雜環丁烷基之化合物、具乙烯基醚基之化合物中之至少1種化合物作為硬化性成分，且該等皆為可藉由陽離子聚合而硬化者，故摻混光陽離子聚合引發劑。該光陽離子聚合引發劑藉由可見光線、紫外線、X射線、電子束等活性能量線之照射，會產生陽離子種或路易士酸，引發環氧基或氧雜環丁烷基的聚合反應。光陽離子聚合引發劑可使用光酸產生劑與光鹼產生劑，且適宜使用後述之光酸產生劑。又，本發明中使用之接著劑組成物以可見光線硬化性作使用時，宜使用特別對380nm以上的光有高感度之光陽離子聚合引發劑，光陽離子聚合引發劑一般而言係一在300nm附近或較其更短之波長區域顯示極大吸收之化合物，故可藉由摻混對較其更長之波長區域、具體而言為對波長較380nm更長的光顯示極大吸收之光敏劑，來感應在其附近波長的光，促進來自光陽離子聚合引發劑之陽離子種或酸的產生。光敏劑可列舉例如蒽化合物、芘化合物、羰基化合物、有機硫化合物、過硫化物、氧化還原系化合物、偶氮及重氮化合物、鹵素化合物及光還原性色素等，該等亦可混合2種以上來使用。尤其蒽化合物因光敏化效果優異而理想，具體上可舉ANTHRACURE UVS-1331、ANTHRACURE UVS-1221(川崎化成公司製)。光敏劑之含量宜為0.1質量%~5質量%，較宜為0.5質量%~3質量%。
＜易接著組成物＞ 為了使偏光件與鄰接層之間的接著性更提升，本發明中亦可於偏光件之貼合面(與鄰接層之貼合面)塗敷易接著組成物。所述易接著組成物宜含有前述通式(3)所示化合物。藉由將含有前述通式(3)所示含硼化合物之易接著組成物塗敷於偏光件之貼合面，尤其能提升偏光薄膜之耐水接著性，故理想。展現所述效果之理由尚不明確，但可推測以下理由。
易接著組成物中，前述式(3)記載之含硼化合物可與偏光件所具備之羥基等官能基反應。藉此，可提升偏光件與例如接著劑層之接著性，結果能發揮提升偏光薄膜之耐水接著性的效果。本發明中，可藉由於偏光件之鄰接層側整面塗敷易接著組成物來形成易接著層，亦可藉由於至少一部分的面塗敷易接著組成物來形成易接著層。
前述通式(3)所示化合物中，又宜為前述通式(3')所示化合物，更宜為前述化合物(3a)~(3d)。
易接著組成物中通式(3)所示化合物之含量若過少，存在於易接著層表面之通式(3)所示化合物之比率會降低，而有易接著效果減低的情形。因此，易接著組成物中通式(3)所示化合物含量宜為0.01質量%以上，較宜為0.05質量%以上，更宜為0.1質量%以上。
除了前述通式(3)記載之化合物及前述通式(3)記載之化合物外，本發明中亦可於易接著組成物中包含有溶劑。易接著組成物可包含之溶劑宜為可使通式(3)所示化合物穩定化並使其溶解或分散者。所述溶劑可使用有機溶劑、水、或該等之混合溶劑。前述溶劑可選自例如：乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸2-羥乙酯等酯類；甲基乙基酮、丙酮、環己酮、甲基異丁基酮、二乙酮、甲基-正丙酮、乙醯丙酮等酮類；四氫呋喃(THF)、二㗁烷等環狀醚類；正己烷、環己烷等脂肪族或脂環族烴類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、環己醇等脂肪族或脂環族醇類；乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、二乙二醇單乙基醚等二醇醚類；二乙二醇單甲基醚乙酸酯、二乙二醇單乙基醚乙酸酯等甘醇醚乙酸酯類等。
並且於本發明中使用易接著組成物時，亦可含有其他添加劑，例如增黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等。
＜樹脂薄膜＞ 本發明偏光薄膜亦可為具備積層於碘系偏光件之鄰接層側之面的樹脂薄膜者。此外，以透過接著劑層於碘系偏光件上積層有透濕度為80g/(m 2・24h)以上之樹脂薄膜的習知偏光薄膜來說，會發生碘從碘系偏光件脫離至該樹脂薄膜，結果有加濕可靠性變差之傾向，但以本發明偏光薄膜來說加濕可靠性能提升。本發明中透濕度為80g/(m 2・24h)以上之樹脂薄膜可舉特定透明保護薄膜或相位差薄膜等。
透濕度為80g/(m 2・24h)以上之透明保護薄膜可舉例如TAC薄膜(透濕度1250g/(m 2・24h))、附硬塗層之TAC薄膜(透濕度420g/(m 2・24h))、聚碳酸酯薄膜(透濕度90g/(m 2・24h))等。
透濕度為80g/(m 2・24h)以上之相位差薄膜可舉例如聚碳酸酯系樹脂系相位差薄膜(透濕度90g/(m 2・24h))、包含液晶固化層之相位差薄膜(透濕度500g/(m 2・24h))等。
以下，針對本發明偏光薄膜之製造方法之一例進行說明。
本發明偏光薄膜例如可藉由下述製造方法製造。 一種偏光薄膜之製造方法，該偏光薄膜具備碘系偏光件與位於前述碘系偏光件之至少單面的鄰接層；其中前述鄰接層係具備直接接觸前述碘系偏光件之接著劑層與位於前述接著劑層上之障壁層者，前述鄰接層與水之HSP值距離為26以上；該製造方法包含以下步驟：塗敷步驟，係於前述碘系偏光件之至少單面塗敷成為前述接著劑層之原料的接著劑組成物；貼合步驟，係將附分離薄膜之障壁層的障壁層面與前述碘系偏光件之前述接著劑組成物塗敷面予以貼合，前述附分離薄膜之障壁層係樹脂層與分離件之積層體，而該樹脂層則成為障壁層；及形成步驟，係剝離前述附分離薄膜之障壁層的分離件，形成附障壁層之偏光件。
此外，本發明偏光薄膜為了使偏光件與鄰接層之間的接著性更提升，本發明中亦可於偏光件之貼合面(與鄰接層之貼合面)塗敷易接著組成物。此時，亦可在於碘系偏光件之至少單面塗敷成為前述接著劑層之原料的接著劑組成物的塗敷步驟(令其為「接著劑組成物塗敷步驟」)之前，設置一於偏光件之貼合面(與鄰接層之貼合面)塗敷易接著組成物的易接著組成物塗敷步驟。
＜塗敷步驟＞ 於偏光件之貼合面塗敷接著劑組成物、或塗敷易接著組成物及接著劑組成物之方法，可依組成物之黏度或目標厚度適當選擇，惟由去除碘系偏光件表面的異物或塗敷性之觀點看來，宜使用後計量塗敷方式。後計量塗敷方式之具體例可列舉凹版輥塗敷方式、順輥(forward roll)塗敷方式、氣刀塗敷方式、桿式/棒式塗敷方式等。由去除透明保護薄膜表面之異物或塗敷性之觀點來看，該等中又以凹版輥塗敷方式尤佳。
亦可於前述塗敷步驟之前，於偏光件之接著劑組成物之塗敷面塗敷易接著組成物。於偏光件之貼合面塗敷易接著組成物之方法，由發揮與前述塗敷步驟相同效果來看，宜使用後計量塗敷方式。
以凹版輥塗敷方式來說，可於凹版輥表面形成各種圖案，例如可形成蜂巢網格圖案、梯形圖案、格子圖案、金字塔圖案或斜線圖案等。為了有效防止最終所得偏光薄膜發生外觀缺陷，形成於前述凹版輥表面的圖案宜為蜂巢網格圖案。為蜂巢網格圖案時，為了提高塗敷易接著組成物後之塗敷面的面精度，凹槽容積宜為1~5cm 3/m 2，且2~3cm 3/m 2為佳。同樣地，為了提高塗敷易接著組成物後之塗敷面的面精度，輥的每1inch之凹槽線數宜為200~3000線/inch。又，相對於偏光件的行進速度，前述凹版輥的旋轉速度比宜為100~300%。
＜貼合步驟＞ 透過如上述方式塗敷之接著劑組成物，貼合偏光件與障壁層形成用樹脂薄膜。偏光件與障壁層形成用樹脂薄膜之貼合可使用輥壓層合器等來進行。
＜形成步驟＞ 附分離件之障壁層宜藉由澆鑄成形或擠製成形來成形。澆鑄成形中，係將已將成為障壁層之樹脂溶解於任意溶劑中之溶液塗佈於分離件並使溶劑乾燥，藉此可獲得附分離件之障壁層。擠製成形中，係將成為障壁層之樹脂與成為分離件之樹脂進行共擠製，藉此可獲得附分離件之障壁層。
藉由澆鑄成形來形成障壁層時，藉由適當調整塗佈溶液時之棒塗機之編號或被稱為線棒號之線粗度、進而塗佈之溶液的固體成分濃度，可形成具有任意厚度之障壁層。
透過接著劑層製造偏光件與障壁層之積層體後，更可視需求實施以下步驟：將接著劑組成物塗敷於障壁層的第2塗敷步驟，接著實施將透明保護薄膜或相位差薄膜等樹脂薄膜貼合於前述接著劑組成物之塗敷面的第2貼合步驟，並實施照射活性能量線後，透過屬前述接著劑組成物之硬化物的接著劑層，接著附鄰接層之碘系偏光件與樹脂薄膜的接著步驟。
＜接著步驟＞ 在貼合偏光件與透明保護薄膜後，照射活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)，使接著劑組成物、或接著劑組成物及易接著組成物硬化而形成接著劑層。活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)之照射方向可從任意適當之方向照射。宜從透明保護薄膜側進行照射。若從偏光件側進行照射，則有偏光件因活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)劣化之虞。
照射電子束時之照射條件若為可將上述接著劑組成物硬化之條件，便可採用任意適當之條件。例如，照射電子束時，加速電壓宜為5kV~300kV，更宜為10kV~250kV。加速電壓低於5kV時，電子束會無法到達接著劑而有硬化不足之虞；加速電壓超過300kV時，通過試料之滲透力會過強，而有對透明保護薄膜或偏光件造成傷害之虞。照射線量為5~100kGy，更宜為10~75kGy。照射線量低於5kGy時，接著劑會硬化不足；超過100kGy時，會對透明保護薄膜或偏光件造成傷害，使機械強度降低或發生黃變，而無法獲得預定之光學特性。
電子束之照射通常係於非活性氣體中進行照射，然若有必要，亦可於大氣中或導入了少量氧之條件下進行。雖因透明保護薄膜的材料而定，但藉由適當導入氧可在電子束一開始接觸之透明保護薄膜面上特意產生氧阻障，防止對透明保護薄膜造成損害，而可有效率地只對接著劑照射電子束。
前述偏光薄膜之製造方法中，活性能量線宜為使用包含波長範圍380nm~450nm之可見光線者、特別為使用波長範圍380nm~450nm之可見光線的照射量最多之活性能量線。使用紫外線、可見光線且使用賦予了紫外線吸收能之透明保護薄膜(紫外線不透射型透明保護薄膜)時，會吸收波長較約380nm更短的光，故波長較380nm短的光不會到達接著劑組成物，而無助於其聚合反應。並且，被透明保護薄膜吸收之波長較380nm短的光會轉換成熱，使透明保護薄膜本身發熱，造成偏光薄膜發生捲曲、起皺等不良之原因。因此，本發明中採用紫外線、可見光線時，活性能量線發生裝置以使用不發出波長較380nm短的光之裝置為佳，更具體來說，以波長範圍380~440nm之累積照度與波長範圍250~370nm之累積照度的比為100:0至100:50為佳，較佳為100:0至100:40。本發明偏光薄膜之製造方法中，活性能量線宜為充有鎵之金屬鹵素燈、發出波長範圍380~440nm之光的LED光源。或可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熱燈泡、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵素燈、螢光燈、鎢絲燈、鎵燈、包含準分子雷射或太陽光等紫外線與可見光線之光源，亦可用帶通濾波器遮蔽波長較380nm短之紫外線來使用。為了提高偏光件與透明保護薄膜之間的接著劑層的接著性能，同時防止偏光薄膜捲曲，宜使用充有鎵之金屬鹵素燈，且使用透過可遮蔽波長較380nm短之光的帶通濾波器而得之活性能量線、或使用LED光源而得之波長405nm的活性能量線。
宜在照射紫外線或可見光線之前將接著劑組成物加溫(照射前加溫)，此時宜加溫至40℃以上，較宜加溫至50℃以上。又，亦宜在照射紫外線或可見光線之後將活性能量線硬化型接著劑組成物加溫(照射後加溫)，此時宜加溫至40℃以上，較宜加溫至50℃以上。
＜光學薄膜＞ 藉由本發明製造方法製出之偏光薄膜在實際使用時，可以與其他光學層積層而成之光學薄膜之形式來使用。關於該光學層無特別限定，可列舉例如相位差薄膜(包含1/2或1/4等之波長板)、視覺補償薄膜、增亮薄膜、反射板或半透射板等成為可用於形成液晶顯示裝置等的光學層者。
前述相位差薄膜可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差者。正面相位差通常係控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~300nm之範圍。
相位差薄膜可舉將高分子素材進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、以薄膜支持液晶聚合物之定向層者。相位差薄膜之厚度亦無特別限制，一般為20~150μm左右。
作為相位差薄膜，亦可使用滿足下述式(1)乃至(3)之逆波長色散型相位差薄膜： 0.70＜Re[450]/Re[550]＜0.97…(1) 1.5×10 -3＜Δn＜6×10 -3…(2) 1.13＜NZ＜1.50…(3) (式中，Re[450]及Re[550]分別係在23℃下以波長450nm及550nm之光測定之相位差薄膜的面內相位差值；Δn係分別將相位差薄膜之慢軸方向、快軸方向之折射率設為nx、ny時之nx-ny的面內雙折射；NZ係令nz為相位差薄膜之厚度方向的折射率時，厚度方向雙折射之nx-nz與面內雙折射之nx-ny的比)。
亦可在前述偏光薄膜或積層有至少1層偏光薄膜之光學薄膜上，設置用於與液晶單元等其他構件接著之黏著層。形成黏著層之黏著劑無特別限制，可適當選擇例如以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基底聚合物者來使用。尤其可適宜使用如丙烯酸系黏著劑般展現優異光學透明性以及適度濡濕性、凝集性與接著性等黏著特性且具有優異耐候性或耐熱性等之物。
黏著層亦可以不同組成或種類等之物的重疊層形式設置於偏光薄膜或是光學薄膜之單面或兩面。又，設置於兩面時，於偏光薄膜或光學薄膜之表背亦可做成組成、種類或厚度等相異之黏著層。黏著層之厚度可因應使用目的或接著力等來適當決定，一般為1~500µm，宜為1~200µm，尤宜為1~100µm。
對於黏著層之露出面為防止其受污染，係在供實際使用前之期間暫時貼附分離件並覆蓋。藉此，可防止在一般操作狀態下接觸到黏著層。作為分離件，除了上述厚度條件外，可使用依循習知之適當物，例如可使用經將塑膠薄膜、橡膠片、紙、布、不織布、網狀物、發泡片或金屬箔及該等之積層體等適當之單片體因應需要以聚矽氧系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當的剝離劑進行塗佈處理者。
＜影像顯示裝置＞ 本發明偏光薄膜或光學薄膜可適宜使用於液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可依循習知來進行。即，液晶顯示裝置一般是藉由將液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜及因應需求的照明系統等構成零件適當組裝並組入驅動電路等而形成，而在本發明中，除了使用本發明偏光薄膜或光學薄膜這點外無特別限定，可依循習知。關於液晶單元，可使用例如TN型或STN型、π型等任意型式者。
可形成液晶單元之單側或兩側配置有偏光薄膜或光學薄膜之液晶顯示裝置、或是於照明系統使用了背光件或反射板者等適當的液晶顯示裝置。此時，本發明偏光薄膜或光學薄膜可配置於液晶單元之單側或兩側。於兩側配置偏光薄膜或光學薄膜時，其等可為相同者，亦可為相異者。並且，於形成液晶顯示裝置時，可在適當位置上配置1層或2層以上諸如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光件等適當零件。
實施例 以下記載本發明之實施例，惟本發明實施形態不受該等所限。
＜薄型偏光件＞ 首先將非晶性PET基材上成膜有厚9μm之PVA層的積層體，利用延伸溫度130℃之空中輔助延伸而生成延伸積層體，接著將延伸積層體利用染色生成著色積層體，並利用延伸溫度65度之硼酸水中延伸將著色積層體與非晶性PET基材一體地進行延伸，使總延伸倍率達5.94倍，而生成包含厚5μm之PVA層的光學薄膜積層體。藉由所述2段延伸可獲得用以構成碘系薄型偏光件之包含厚度5μm之PVA層(薄型偏光件)的光學薄膜積層體，該光學薄膜積層體之成膜於非晶性PET基材之PVA層的PVA分子經高度定向，且藉染色而吸附的碘以多碘離子錯合物之形式於一方向高度定向。
＜透明保護薄膜＞ 透明保護薄膜係使用以下薄膜。 「TAC」；三醋酸纖維素(TAC)薄膜(透濕度420g/(m 2・24h)，與水之HSP值距離22.2，厚度25µm)(商品名「Konica Minolta TAC film KC2UA」，(Konica Minolta)公司製 「PC」；聚碳酸酯(PC)薄膜(透濕度90g/(m 2・24h)，與水之HSP值距離22.2，厚度13µm) 「COP」；環烯烴系聚合物(COP)薄膜(透濕度8g/(m 2・24h)，與水之HSP值距離33.3，厚度20µm)(商品名「ZeonorFilm ZF14」，日本ZEON公司製
＜相位差薄膜＞ 相位差薄膜係藉由下述製造方法製造。
聚酯碳酸酯系樹脂之聚合 使用由2台具備有攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器的直立式反應器構成之批次聚合裝置進行聚合。饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60質量份(0.046mol)、異山梨醇(ISB)29.21質量份(0.200mol)、螺甘油(SPG)42.28質量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298mol)及作為觸媒的乙酸鈣一水合物1.19×10 -2質量份(6.78×10 -5mol)。將反應器內進行減壓氮取代後，以熱介質加溫，於內溫達100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內溫達到220℃，控制維持該溫度的同時開始減壓，在達到220℃後以90分鐘使其成為13.3kPa。將隨聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含些許量之單體成分返回反應器，並將未凝聚之苯酚蒸氣導入45℃的凝聚器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓後，將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並以50分鐘使內溫成為240℃、壓力成為0.2kPa。然後，進行聚合直到達到預定之攪拌功率。在達到預定功率之時間點將氮導入反應器中使壓力回復，並將生成之聚酯碳酸酯系樹脂擠出至水中，裁切束狀物而獲得丸粒。
相位差薄膜之製作 將所得聚酯碳酸酯系樹脂(丸粒)在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬200mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出厚度130μm之長條狀樹脂薄膜。以可獲得預定相位差之方式一邊調整所得長條狀樹脂薄膜一邊進行延伸，而獲得厚度48μm的相位差薄膜。延伸條件係沿寬度方向，延伸溫度為143℃，延伸倍率為2.8倍。所得相位差薄膜之Re(550)為141nm，Re(450)/Re(550)為0.86，Nz係數為1.12。 相位差薄膜之與水的HSP值距離為22.7，透濕度為90g/(m 2・24h)。
＜活性能量線＞ 活性能量線係使用可見光線(充有鎵之金屬鹵素燈)，照射裝置：Fusion UV Systems, Inc公司製Light HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰值照度：1600mW/cm 2，累積照射量1000/mJ/cm 2(波長380~440nm)。此外，可見光線之照度係使用Solatell公司製Sola-Check系統來測定。
＜接著劑層1~3＞ 接著劑層1~3係以下述接著劑組成物1~3為原料來形成。 「接著劑組成物1」；含有30重量份之ACMO、30重量份之19NDA、15重量份之P2HA的接著劑組成物(將接著劑組成物1硬化後所得之接著劑層1之與水的HSP值距離；27.0) 「接著劑組成物2」；含有36重量份之19NDA、12.5重量份之HEAA、22重量份之M5700、6重量份之DEAA、12.5重量份之HPPA的接著劑組成物(將接著劑組成物2硬化後所得之接著劑層2之與水的HSP值距離；25.7) 「接著劑組成物3」；含有10重量份之19NDA、43.5重量份之P2HA、10重量份之HEAA、10重量份之M5700、10重量份之M220、3重量份之DEAA的接著劑組成物(將接著劑組成物3硬化後所得之接著劑層3之與水的HSP值距離；25.5)
上述各接著劑組成物中： 「ACMO」；丙烯醯基嗎福林(商品名「ACMO」，KJ Chemicals Corporation製) 「19NDA」；1,9-壬二醇二丙烯酸酯(商品名「LIGHT ACRYLATE 1,9ND-A」，共榮社化學公司製) 「P2HA」；苯氧基二乙二醇丙烯酸酯(商品名「LIGHT ACRYLATE P2H-A」，共榮社化學公司製 「HEAA」；N-(2-羥乙基)丙烯醯胺(商品名「HEAA」，KJ Chemicals Corporation製 「M5700」；以2-羥-3-苯氧丙基丙烯酸酯為主成分之2,3-環氧丙基=苯基醚與丙烯酸之反應產物 (商品名「ARONIX M-5700」，東亞合成公司製 「M220」；(三丙二醇二丙烯酸酯)(商品名「ARONIX M-220」，(東亞合成)公司製) 「DEAA」；(N-N-二乙基丙烯醯胺)(商品名「DEAA」，(KJ Chemicals Corporation)製) 「HPPA」；(新戊二醇、羥三甲基乙酸及丙烯酸之反應物)(商品名「LIGHT ACRYLATE HPP-A」，(共榮社化學)公司製)
實施例1 於2,4-三氯苯與甲苯之2：3混合溶劑90g中添加環烯烴系聚合物(COP)薄膜(商品名「ZeonorFilm ZF14」)10g，調製出COP溶液。接著，使用棒塗機#5塗敷已調製於PET薄膜(分離件)上之COP溶液，然後以60℃之烘箱使其乾燥3分鐘，藉此製出於分離件上積層有厚度1µm之COP膜(障壁層)的附分離薄膜之障壁層。此外，障壁層之透濕度為480g/(m 2・24h)，與水之HSP值距離為33.3。
使用MCD塗佈機(富士機械公司製)(凹槽形狀：蜂巢狀，凹版輥筒線數：1000條/inch，旋轉速度140%/相對生產線速度)，將接著劑組成物2塗敷於薄型偏光件與非晶性PET基材積層而成之光學薄膜積層體的薄型偏光件側面(貼合面)，並用輥軋機貼合於附分離薄膜之障壁層的障壁層面(貼合面)(貼合之生產線速度25m/分鐘)。之後，從附分離薄膜之障壁層的分離薄膜側藉由活性能量線照射裝置照射上述可見光線，使接著劑組成物2硬化。然後，從附分離薄膜之障壁層剝離分離薄膜，藉此獲得薄型偏光件(薄型偏光件與非晶性PET基材積層而成之光學薄膜積層體)與障壁層1透過接著劑層2積層而成之積層薄膜1。此外，該積層薄膜1中之障壁層1之厚度為1µm，接著劑層2之厚度為1µm。以障壁層1與接著劑層2構成鄰接層1，鄰接層1與水之HSP值距離為29.4。
使用MCD塗佈機(富士機械公司製)(凹槽形狀：蜂巢狀，凹版輥筒線數：1000條/inch，旋轉速度140%/相對生產線速度)，將接著劑組成物1塗敷於積層薄膜1之障壁層1面使其成為厚度0.7µm後，用輥軋機貼合於保護薄膜1(「TAC」)上(貼合之生產線速度25m/分鐘)。之後，從保護薄膜1側藉由活性能量線照射裝置進行照射，使接著劑組成物1硬化，藉此獲得於障壁層1上透過接著劑層1積層有保護薄膜1之積層薄膜2。接著劑層1之厚度為0.9µm。
將所得積層薄膜2之非晶性PET基材(薄型偏光件與非晶性PET基材積層而成之光學薄膜積層體所具備之非晶性PET基材)剝離，使薄型偏光件露出。接著，於薄型偏光件面側以與前述相同方法塗敷接著劑組成物2，並以輥軋機貼合於附分離薄膜之障壁層的障壁層面(貼合面)(貼合之生產線速度為25m/分鐘)。之後，從附分離薄膜之障壁層的分離薄膜側藉由活性能量線照射裝置照射上述可見光線，使接著劑組成物2硬化。然後，從附分離薄膜之障壁層剝離分離薄膜，藉此獲得於薄型偏光件之另一面透過接著劑層2積層有障壁層2之積層薄膜3。此外，該積層薄膜3中之障壁層2之厚度為1µm，接著劑層2之厚度為1µm。以障壁層2與接著劑層2構成鄰接層2，鄰接層2與水之HSP值距離為29.4。
於積層薄膜3之障壁層2面以與前述相同方法塗敷接著劑組成物3，並以輥軋機貼合於面板側保護薄膜(相位差薄膜)(貼合之生產線速度為25m/分鐘)。之後，從面板側保護薄膜側藉由活性能量線照射裝置進行照射，使接著劑組成物3硬化，藉此製出實施例1之偏光薄膜(從視辨側起依序積層有「保護薄膜1」-「接著劑層1」-「障壁層1」-「接著劑層2」-「薄型偏光件」-「接著劑層2」-「障壁層2」-「接著劑層3」-「面板側保護薄膜」之偏光薄膜)。
此外，實施例1中之「保護薄膜1」、「接著劑層1」、「障壁層1」、「接著劑層2」、「薄型偏光件」、「接著劑層2」、「障壁層2」、「接著劑層3」及「面板側保護薄膜」之積層順序不限於前述記載之順序，可任意變更。
實施例2~5、比較例1~3 將障壁層1及接著劑層1(或障壁層2及接著劑層3)之有無、保護薄膜1之種類、各接著劑層之厚度變更成表1記載之內容，除此之外藉由與實施例1相同方法製出偏光薄膜。
(透射率變化試驗) 針對所得偏光薄膜之透射率Ts，使用紫外可見光分光光度計(日本分光公司製V-7100)進行測定，並將測得之單體透射率Ts、平行透射率Tp、正交透射率Tc分別作為偏光薄膜之Ts、Tp及Tc。該等Ts、Tp及Tc係以JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正後之Y值。此外，保護層之折射率為1.50，而偏光膜之與保護層為相反側的表面之折射率為1.53。其係以Z8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正後之Y值。此外，保護層之折射率為1.50，而偏光膜之與保護層為相反側的表面之折射率為1.53。使用紫外可見光分光光度計(日本分光公司製V-7100)進行測定，並將測得之單體透射率Ts、平行透射率Tp、正交透射率Tc分別作為偏光膜之Ts、Tp及Tc。該等Ts、Tp及Tc係以JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正後之Y值。此外，保護層之折射率為1.50，而偏光膜之與保護層為相反側的表面之折射率為1.53。針對在60℃95%RH之環境下暴露240小時並投入後之偏光薄膜，亦以相同方法測定透射率Ts，求出透射率變化ΔT(%)=｜(投入前之透射率Ts(%))-(投入後之透射率Ts(%))｜。將結果列於表1。
(加濕可靠性之判定) 加濕可靠性之判定中，在前述求算之透射率變化ΔT(%)在0.4以下時評估為◎，大於0.4且在0.8以下時評估為○，大於0.8且在1.0以下時評估為△，大於1.0時評估為×。將結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image013
(無)

Claims (10)

  1. 一種偏光薄膜，特徵在於： 其具備碘系偏光件與位於前述碘系偏光件之至少單面的鄰接層； 前述鄰接層與水之HSP值距離為26以上。
  2. 如請求項1之偏光薄膜，其中前述鄰接層係包含透濕度為500g/(m 2・24h)以下之障壁層者。
  3. 如請求項2之偏光薄膜，其中前述障壁層之厚度為1µm以上。
  4. 如請求項2或3之偏光薄膜，其中前述鄰接層係隔著直接接觸前述碘系偏光件之接著劑層而具備前述障壁層者。
  5. 如請求項2或3之偏光薄膜，其中前述鄰接層係隔著形成於易接著層上之接著劑層而具備前述障壁層者，且該易接著層係直接接觸前述碘系偏光件。
  6. 如請求項4或5之偏光薄膜，其中前述障壁層之厚度Tb相對於前述接著劑層之厚度Ta之比(Tb/Ta)為0.05~50。
  7. 如請求項1至6中任一項之偏光薄膜，其更具備樹脂薄膜，該樹脂薄膜係積層於前述碘系偏光件之前述鄰接層側之面。
  8. 如請求項7之偏光薄膜，其中前述樹脂薄膜之透濕度為80g/(m 2・24h)以上。
  9. 一種光學薄膜，特徵在於積層有至少1片如請求項1至8中任一項之偏光薄膜。
  10. 一種影像顯示裝置，具備如請求項1至8中任一項之偏光薄膜或如請求項9之光學薄膜。
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