TW202206175A - 裝置 - Google Patents

裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW202206175A
TW202206175A TW110111738A TW110111738A TW202206175A TW 202206175 A TW202206175 A TW 202206175A TW 110111738 A TW110111738 A TW 110111738A TW 110111738 A TW110111738 A TW 110111738A TW 202206175 A TW202206175 A TW 202206175A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
atomizer
particles
droplets
exhaust stream
nozzles
Prior art date
Application number
TW110111738A
Other languages
English (en)
Inventor
阿朗尼 伊蘭迦納森
克里斯多福 保羅 威廉斯
安娜 維多利亞 豪布克
蓋瑞斯 大衛 史坦頓
Original Assignee
英商愛德華有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 英商愛德華有限公司 filed Critical 英商愛德華有限公司
Publication of TW202206175A publication Critical patent/TW202206175A/zh

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46—Removing components of defined structure
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D49/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by other methods
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46—Removing components of defined structure
    • B01D53/68—Halogens or halogen compounds
    • B01D53/70—Organic halogen compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/06—Spray cleaning
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/06—Spray cleaning
    • B01D47/063—Spray cleaning with two or more jets impinging against each other
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/12—Washers with plural different washing sections
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/14—Packed scrubbers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
    • B01D53/1456—Removing acid components
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/346—Controlling the process
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/75—Multi-step processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77—Liquid phase processes
    • B01D53/78—Liquid phase processes with gas-liquid contact
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
    • F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
    • F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
    • F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
    • F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
    • F23G7/061—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating
    • F23G7/065—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating using gaseous or liquid fuel
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES 
    • F23J15/00—Arrangements of devices for treating smoke or fumes
    • F23J15/02—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material
    • F23J15/022—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material for removing solid particulate material from the gasflow
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES 
    • F23J15/00—Arrangements of devices for treating smoke or fumes
    • F23J15/02—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material
    • F23J15/04—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material using washing fluids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2251/00—Reactants
    • B01D2251/10—Oxidants
    • B01D2251/11—Air
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2252/00—Absorbents, i.e. solvents and liquid materials for gas absorption
    • B01D2252/10—Inorganic absorbents
    • B01D2252/103—Water
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
    • B01D2257/204—Inorganic halogen compounds
    • B01D2257/2045—Hydrochloric acid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/55—Compounds of silicon, phosphorus, germanium or arsenic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/55—Compounds of silicon, phosphorus, germanium or arsenic
    • B01D2257/553—Compounds comprising hydrogen, e.g. silanes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2258/00—Sources of waste gases
    • B01D2258/02—Other waste gases
    • B01D2258/0216—Other waste gases from CVD treatment or semi-conductor manufacturing
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
    • F23G2209/00—Specific waste
    • F23G2209/14—Gaseous waste or fumes
    • F23G2209/142—Halogen gases, e.g. silane
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES 
    • F23J2217/00—Intercepting solids
    • F23J2217/50—Intercepting solids by cleaning fluids (washers or scrubbers)
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
    • Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
    • Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Chimneys And Flues (AREA)
  • Separation Of Particles Using Liquids (AREA)

Abstract

本發明揭示裝置及方法。該裝置包括：一減量裝置之一減量腔室，該減量腔室處理來自一半導體處理工具之一排出流，以提供具有排出粒子之一經燃燒排出流；以及一第一霧化器，其定位於該減量腔室之下游，該第一霧化器經組態以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之一粒徑之一液滴大小之液滴。如此，該霧化器可產生與該等排出粒子組合或黏附至該等排出粒子之液滴，此有助於從該經燃燒排出流移除該等排出粒子。

Description

裝置
本發明係關於裝置及方法。實施例係關於用於處理含有固體粒子(諸如(例如) SiO2 )及酸性氣體(諸如HCl)之一排出流。
已知減量處理裝置。此等裝置用於處理由例如磊晶沈積或其他半導體製造程序產生之排出氣體。磊晶沈積程序愈來愈多地用於高速半導體器件，用於矽及化合物半導體應用兩者。一磊晶層係一精心生長之單晶矽膜。磊晶沈積利用在高溫(通常約800至1100°C)之一氫氣氛中，並在一真空條件下之一矽源氣體(通常為矽烷或氯矽烷化合物中之一者(諸如三氯矽烷或二氯矽烷))。磊晶沈積程序通常根據需要對於所製造之器件摻雜有少量硼、磷、砷、鍺或碳。供應至一處理腔室之蝕刻氣體可包含鹵代化合物，諸如HCl、HBr、BCl3 、Cl2 及Br2 以及其等之組合。氯化氫(HCl)或另一鹵代化合物(諸如SF6 或NF3 )可用於在程序運行之間清潔腔室。
在此等程序中，供應至處理腔室之氣體之僅一小比例在處理腔室內消耗，且因此供應至處理腔室之氣體之一高比例與來自處理腔室中發生之程序之固體及氣態副產物一起從處理腔室中排氣。一處理工具通常具有複數個處理腔室，該等處理腔室之各者可分別處於一沈積、蝕刻或清潔程序中之不同階段。因此，在處理期間，由從腔室排氣之氣體之一組合形成之一廢氣排出流可具有各種不同組合物。
在將廢氣流排放至大氣中之前，其使用減量裝置處理以從其移除選定氣體及固體粒子。酸性氣體(諸如HF和HCl)通常使用一填料塔洗滌器從一氣流移除，其中酸性氣體藉由流動通過洗滌器之一洗滌液體帶至溶液中。矽烷係自燃的，且因此在將廢氣流輸送通過洗滌器之前，通常做法係將廢氣流輸送通過一熱焚燒爐或減量腔室，以使存在於廢氣流中之矽烷或其他自燃氣體與空氣反應。任何全氟化合物(諸如NF3 )亦可在減量腔室內轉換為HF。
當矽烷燃燒時，產生大量二氧化矽(SiO2 )粒子。其他化合物在曝露於熱時亦產生粒子。儘管許多此等粒子可藉由堰及驟冷噴嘴被帶至懸浮液中，但已觀察到，藉由洗滌液體對相對較小粒子(例如，具有小於1微米之一大小)之捕獲相對較差。
儘管此裝置提供對排出氣流之處理，但其等具有若干缺點。因此，期望提供一種改良式減量裝置。
根據一第一態樣，提供一種裝置，其包括：一減量裝置之一減量腔室，該減量腔室處理來自一半導體處理工具之一排出流，以提供具有排出粒子之一經燃燒排出流；以及一第一霧化器，其定位於該減量腔室之下游，該第一霧化器經組態以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之一粒徑之一液滴大小之液滴。
該第一態樣認識到，既有配置之一問題在於可從該排出流移除之排出粒子之量係有限的。此可係因為該等粒子保持懸浮在該經燃燒排出流內，且因此難以移除。因此，提供一種裝置。該裝置可包括一減量腔室。該減量腔室可作為一減量裝置之部分提供。該減量裝置可經組態以處理(treat/process)或減量由一半導體處理工具提供之一排出流。該減量腔室可提供或產生一經燃燒排出流。該經燃燒排出流可具有懸浮在其中之排出粒子。該裝置可包括一霧化器，該霧化器可接收來自該減量腔室之該經燃燒排出流。該霧化器可經組態或配置以產生液滴。該等液滴可具有一液滴大小，該液滴大小可基於、相關於、相依於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑或與之成比例。如此，該霧化器可產生與該等排出粒子組合或黏附至該等排出粒子之液滴，此有助於從該經燃燒排出流移除該等排出粒子。
該裝置可包括定位於該第一霧化器之下游之一第二霧化器。提供一第二霧化器使進一步液滴能夠產生，該等液滴可與排出粒子及/或從該第一霧化器產生之已組合之排出粒子及液滴組合，此有助於從該經燃燒排出流移除此等。
該裝置可包括該第一霧化器之上游之一驟冷噴霧區段及該第二霧化器之上游之用於洗滌水溶性氣體之一噴霧噴嘴。典型地，該驟冷噴霧區段可定位於該減量腔室之下游之一驟冷級中。典型地，該噴霧噴嘴可定位於該第一霧化器之下游及該第二霧化器之上游之一填料塔中。
該第一霧化器可定位於一驟冷級之下游。
該第二霧化器可經定位朝向一填料塔之一入口。
該第二霧化器可經定位朝向該填料塔之一排氣口。將該第一霧化器定位朝向該填料塔之一個端且將該第二霧化器定位朝向該填料塔之另一端提供一空間供該等排出粒子及液滴黏附或組合且黏聚成更大，此輔助將其等從該經燃燒排出流移除。
該第二霧化器可定位於一旋風分離器或一除霧器之上游。再次，此有助於產生更大粒子，其等可更有效地移除。該旋風分離器或除霧器主要從該排出流移除水分。該旋風分離器/除霧器可與該頂部霧化器組合移除微粒。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之一粒徑分佈之一液滴大小分佈之液滴。因此，該等液滴之大小分佈亦可經組態以適合該粒徑分佈，以幫助確保適當數目個不同大小之液滴基於、相關於、相依於不同粒徑或與之成比例係可用的。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈重疊之該液滴大小分佈之液滴。因此，該等大小分佈可不精確匹配，而可簡單地重疊或具有共同大小，以便促進該等液滴與該等燃燒粒子之間的組合或黏附。同樣地，儘管該等液滴大小可為該等粒徑之一倍數(例如，該等液滴大小可高達該等粒徑之大小之200倍)，但相較於該等粒子，該等液滴之大小分佈輪廓可重疊或共用共同部分。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈匹配之該液滴大小分佈之液滴。儘管該等液滴大小可為該等粒徑之一倍數(例如，該等液滴大小可高達該等粒徑之大小之200倍)，但相較於該等粒子，該等液滴之該等大小分佈輪廓可匹配或具有一相似輪廓。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有高達待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑之200倍且較佳地高達20倍之一液滴大小之液滴。因此，相對大小不必精確匹配。該等相對大小可成倍地不同。已發現，高達200倍之一相對大小差仍促進燃燒粒子及液滴之適當黏附或組合以導致從該經燃燒排出流移除。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有介於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑之20倍與50倍之間的一液滴大小之液滴。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈內之粒子匹配之一大小之該液滴大小分佈內的液滴。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可包括經組態以產生該等液滴之複數個噴嘴。此容許該等液滴之增大數目及空間分佈。
該複數個噴嘴可被供應一霧化液體及一霧化氣體以產生該等液滴。調整該霧化液體及該霧化氣體有助於調整該等液滴之大小及大小分佈。
該複數個噴嘴可與一霧化液體源及一霧化氣體源並聯配置，以從各噴嘴產生具有一匹配之液滴大小分佈之該等液滴。
該複數個噴嘴可經組態以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。因此，各噴嘴可產生一不同液滴大小分佈，其一起產生所需液滴大小分佈以適合該經燃燒排出流。
該複數個噴嘴可配置成群組，各群組與一霧化液體源及一霧化氣體源並聯配置，以從各噴嘴群組產生具有一匹配液滴大小分佈之該等液滴。
各群組中之該等噴嘴可與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯配置，以從該群組內之各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
該複數個噴嘴可與一霧化液體源及一霧化氣體源串聯配置，以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。該等噴嘴之間的壓降可輔助在不同噴嘴處產生不同大小分佈。
該霧化液體源可被供應至該串聯之一個端，且該霧化氣體源被供應至該串聯之另一端，以從各噴嘴產生具有不同液滴大小分佈之該等液滴。
該複數個噴嘴可經定位以在該排出流中之不同位置處產生具有不同大小之液滴。不同大小可適合在不同位置發現之不同粒徑。例如，較小粒子可存在於該裝置之較快流動區域中，諸如朝向該填料塔入口之中心，而較大粒子可存在於較慢移動區域中，諸如朝向該填料塔入口之邊緣。因此，在該實例的情況下，經組態以產生較小液滴之噴嘴可經定位朝向該填料塔入口之該中心，且經組態以產生較大液滴之噴嘴可經定位朝向該填料塔入口之該等邊緣。
該等噴嘴可經定向以產生沿該霧化器之上游、下游及/或橫向於該霧化器之一方向行進之該等液滴。
該等噴嘴可經定向以產生沿該霧化器之上游及下游兩者的一方向行進之該等液滴。
該等噴嘴可經定向以產生沿與該經燃燒排出流之一流動方向相反之一方向行進之該等液滴。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可被供應高達每分鐘300升之霧化氣體，較佳地高達每分鐘250升(用設定為0°C之一流量器件量測)。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可被供應壓力高達10巴(較佳地高達6巴)之該霧化氣體。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可被供應高達每小時30升之霧化液體，較佳地高達每小時22升。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可被供應壓力高達2巴(較佳地高達1.5巴)之該霧化液體。
該霧化氣體可包括氮氣及/或經壓縮乾燥空氣，且該霧化液體可包括水。
該第一霧化器可包括至少1個噴嘴，且該第二霧化器可包括至少1個噴嘴。
該第一霧化器可包括配置成與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯之3個群組之2個噴嘴之至少6個噴嘴。
該第一霧化器可包括與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯配置之至少7個噴嘴。
根據一第二態樣，提供一種裝置，其包括：一減量裝置之一減量腔室，該減量腔室處理來自一半導體處理工具之一排出流，以提供具有燃燒粒子之一經燃燒排出流；一第一霧化器，其定位於該減量腔室之下游，該第一霧化器經組態以產生待挾帶至少一些該等燃燒粒子之液滴；及一第二霧化器，其定位於該第一霧化器之下游，該第二霧化器經組態以產生待挾帶至少一些該等燃燒粒子之液滴。
該第二態樣認識到，既有配置之一問題在於可從該排出流移除之排出粒子之量係有限的。此可係因為該等粒子保持懸浮在該經燃燒排出流內，且因此難以移除。
因此，提供一種裝置。該裝置可包括一減量腔室。該減量腔室可作為一減量裝置之部分提供。該減量裝置可經組態以處理(treat/process)或減量由一半導體處理工具提供之一排出流。該減量腔室可提供或產生一經燃燒排出流。該經燃燒排出流可具有懸浮在其中之排出粒子。該裝置可包括一第一霧化器，該第一霧化器可接收來自該減量腔室之該經燃燒排出流。該第一霧化器可經組態或配置以產生液滴。該等液滴可挾帶、捕獲、黏附至少一些該等燃燒粒子或與至少一些該等燃燒粒子結合。該裝置可包括一第二霧化器。該第二霧化器可定位在該第一霧化器之下游或遠離該第一霧化器。該第二霧化器可接收來自該第一霧化器之該經燃燒排出流。該第二霧化器可經組態或配置以產生液滴。該等液滴可挾帶、捕獲、黏附至少一些該等燃燒粒子或與至少一些該等燃燒粒子結合。如此，該等霧化器可產生與該等排出粒子組合或黏附至該等排出粒子之液滴，此有助於從該經燃燒排出流移除該等排出粒子。提供一第二霧化器使進一步液滴能夠產生，該等液滴可與排出粒子及/或從該第一霧化器產生之已組合之排出粒子及液滴組合，此有助於從該經燃燒排出流移除此等。
該裝置可包括該第一霧化器之上游之一驟冷噴霧區段及該第二霧化器之上游之用於洗滌水溶性氣體之一噴霧噴嘴。典型地，該驟冷噴霧區段可定位於該減量腔室之下游之一驟冷級中。典型地，該噴霧噴嘴可定位於該第一霧化器之下游及該第二霧化器之上游之一填料塔中。
該第一霧化器可定位於一驟冷級之下游。
該第二霧化器可經定位朝向一填料塔之一入口。
該第二霧化器可經定位朝向該填料塔之一排氣口。
該第二霧化器可定位於一旋風分離器級及一除霧器之一者之上游。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之一粒徑分佈之一液滴大小分佈之液滴。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈重疊之該液滴大小分佈之液滴。同樣地，儘管該等液滴大小可為該等粒徑之一倍數(例如，該等液滴大小可高達該等粒徑之大小之200倍)，但相較於該等粒子，該等液滴之大小分佈輪廓可重疊或共用共同部分。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈匹配之該液滴大小分佈之液滴。儘管該等液滴大小可為該等粒徑之一倍數(例如，該等液滴大小可高達該等粒徑之大小之200倍)，但相較於該等粒子，該等液滴之該等大小分佈輪廓可匹配或具有一相似輪廓。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有高達待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑之200倍且較佳地高達20倍之一液滴大小之液滴。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有介於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑之20倍與50倍之間的一液滴大小之液滴。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可經組態以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈內之粒子匹配之一大小之該液滴大小分佈內的液滴。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可包括經組態以產生該等液滴之複數個噴嘴。
該複數個噴嘴可被供應一霧化液體及一霧化氣體以產生該等液滴。
該複數個噴嘴可與一霧化液體源及一霧化氣體源並聯配置，以從各噴嘴產生具有一匹配之液滴大小分佈之該等液滴。
該複數個噴嘴可經組態以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
該複數個噴嘴可配置成噴嘴群組，各群組與一霧化液體源及一霧化氣體源並聯配置，以從各噴嘴群組產生具有一匹配液滴大小分佈之該等液滴。
各群組中之該等噴嘴可與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯配置，以從該群組內之各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
該複數個噴嘴可與一霧化液體源及一霧化氣體源串聯配置，以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液。
該霧化液體源可被供應至該串聯之一個端，且該霧化氣體源可被供應至該串聯之另一端，以從各噴嘴產生具有不同液滴大小分佈之該等液滴。
該複數個噴嘴可經定位以在該排出流中之不同位置處產生具有不同大小之液滴。
該等噴嘴可經定向以產生沿該霧化器之上游、下游及/或橫向於該霧化器之一方向行進之該等液滴。
該等噴嘴可經定向以產生沿該霧化器之上游及下游兩者的一方向行進之該等液滴。
該等噴嘴可經定向以產生沿與該經燃燒排出流之一流動方向相反之一方向行進之該等液滴。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可被供應高達每分鐘300升之霧化氣體，較佳地高達每分鐘250升(使用設定為0°C之一流量器件量測)。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可被供應壓力高達10巴(較佳地高達6巴)之該霧化氣體。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可被供應高達每小時30升之霧化液體，較佳地高達每小時22升。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可被供應壓力高達2巴(較佳地高達1.5巴)之該霧化液體。
該霧化氣體可包括氮氣及/或經壓縮乾燥空氣，且該霧化液體可包括水。
該第一霧化器可包括至少1個噴嘴，且該第二霧化器包括至少1個噴嘴。
該第一霧化器可包括配置成與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯之3個群組之2個噴嘴之至少6個噴嘴。
該第一霧化器可包括與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯配置之至少7個噴嘴。
根據一第三態樣，提供一種方法，其包括：從一減量裝置之一減量腔室接收具有燃燒粒子之一經燃燒排出流，該減量腔室處理來自一半導體處理工具之一排出流；且使用定位於該減量腔室之下游之一第一霧化器從該經燃燒排出流移除燃燒粒子，該第一霧化器經組態以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之一粒徑之一液滴大小之液滴。
該方法可包括定位定位於該第一霧化器之下游之一第二霧化器。
該方法可包括在該第一霧化器之上游定位一驟冷噴霧區段及在該第二霧化器之上游定位用於洗滌水溶性氣體之一噴霧噴嘴。典型地，該方法可包括將該驟冷噴霧區段定位於該減量腔室之下游之一驟冷級中。典型地，該方法可包括將該噴霧噴嘴定位於該第一霧化器之下游及該第二霧化器之上游之一填料塔中。
該方法可包括將該第一霧化器定位於一驟冷級之下游。
該方法可包括將該第一霧化器定位為朝向一填料塔之一入口。
該方法可包括將該第二霧化器定位為朝向該填料塔之一排氣口。
該方法可包括定位定位於一旋風分離器級及一除霧器之一者之上游之該第二霧化器。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之一粒徑分佈之一液滴大小分佈之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈重疊之該液滴大小分佈之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈匹配之該液滴大小分佈之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有高達待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑之200倍且較佳地高達20倍之一液滴大小之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有介於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑之20倍與50倍之間的一液滴大小之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生在具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈內之粒子匹配之一大小之該液滴大小分佈內之液滴。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可包括經組態以產生該等液滴之複數個噴嘴。
該方法可包括為該複數個噴嘴供應一霧化液體及一霧化氣體以產生該等液滴。
該方法可包括使該複數個噴嘴與一霧化液體源及一霧化氣體源並聯配置，以從各噴嘴產生具有一匹配之液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括組態該複數個噴嘴以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括使該複數個噴嘴配置成噴嘴群組，各群組與一霧化液體源及一霧化氣體源並聯配置，以從各噴嘴群組產生具有一匹配之液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括使各群組中之噴嘴與該霧化液體源及該霧化氣體源串聯配置，以從該群組內之各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括使該複數個噴嘴與一霧化液體源及一霧化氣體源串聯配置，以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括將該霧化液體源供應至該串聯之一個端，且將該霧化氣體源供應至該串聯之另一端，以從各噴嘴產生具有該不同液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括定位該複數個噴嘴以在該排出流中之不同位置處產生具有不同大小之液滴。
該方法可包括定向該等噴嘴以產生沿該霧化器之上游、下游及/或橫向於該霧化器之一方向行進之該等液滴。
該方法可包括定向該等噴嘴以產生沿該霧化器之上游及下游兩者的一方向行進之該等液滴。
該方法可包括定向該等噴嘴以產生沿與該經燃燒排出流之一流動方向相反之一方向行進之該等液滴。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器供應高達每分鐘300升之霧化氣體，較佳地高達每分鐘250升(從設定為0°C之一流量器件量測)。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器提供壓力高達10巴(較佳地高達6巴)之該霧化氣體。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器供應高達每小時30升之霧化液體，較佳地高達每小時22升。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器供應壓力高達2巴(較佳地高達1.5巴)之該霧化液體。
該霧化氣體可包括氮氣及/或經壓縮乾燥空氣，且該霧化液體包括水。
該第一霧化器可包括至少1個噴嘴，且該第二霧化器包括至少1個噴嘴。
該第一霧化器可包括配置成與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯之3個群組之2個噴嘴之至少6個噴嘴。
該第一霧化器可包括與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯配置之至少7個噴嘴。
該方法可包括將該經燃燒排出流與該等液滴一起從第一霧化器輸送朝向該第二霧化器，以黏聚至少一些該等液滴及至少一些該等排出粒子。
根據一第四態樣，提供一種方法，其包括：從一減量裝置之一減量腔室接收具有燃燒粒子之一經燃燒排出流，該減量腔室處理來自一半導體處理工具之一排出流；且使用定位於該減量腔室之下游之經組態以產生挾帶至少一些該等燃燒粒子之液滴之一第一霧化器及定位於該第一霧化器之下游之一第二霧化器從該經燃燒排出流移除燃燒粒子，該第二霧化器經組態以產生挾帶至少一些該等燃燒粒子之液滴。
該方法可包括在該第一霧化器之上游定位一驟冷噴霧區段及在該第二霧化器之上游定位用於洗滌水溶性氣體之一噴霧噴嘴。典型地，該方法可包括將該驟冷噴霧區段定位於該減量腔室之下游之一驟冷級中。典型地，該方法可包括將該噴霧噴嘴定位於該第一霧化器之下游及該第二霧化器之上游之一填料塔中。
該方法可包括將該第一霧化器定位於一驟冷級之下游。
該方法可包括將該第一霧化器定位為朝向一填料塔之一入口。
該方法可包括將該第二霧化器定位為朝向該填料塔之一排氣口。
該方法可包括將該第二霧化器定位於一旋風分離器級及一除霧器之一者之上游。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之一粒徑分佈之一液滴大小分佈之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈重疊之該液滴大小分佈之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈匹配之該液滴大小分佈之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有高達待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑之200倍且較佳地高達20倍之一液滴大小之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有介於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑之20倍與50倍之間的一液滴大小之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生在具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈內之粒子匹配之一大小之該液滴大小分佈內之液滴。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可包括經組態以產生該等液滴之複數個噴嘴。
該方法可包括為該複數個噴嘴供應一霧化液體及一霧化氣體以產生該等液滴。
該方法可包括使該複數個噴嘴與一霧化液體源及一霧化氣體源並聯配置，以從各噴嘴產生具有一匹配之液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括組態該複數個噴嘴以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括使該複數個噴嘴配置成噴嘴群組，各群組與一霧化液體源及一霧化氣體源並聯配置，以從各噴嘴群組產生具有一匹配之液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括使各群組中之噴嘴與該霧化液體源及該霧化氣體源串聯配置，以從該群組內之各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括使該複數個噴嘴與一霧化液體源及一霧化氣體源串聯配置，以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴
該方法可包括將該霧化液體源供應至該串聯之一個端，且將該霧化氣體源供應至該串聯之另一端，以從各噴嘴產生具有該不同液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括定位該複數個噴嘴以在該排出流中之不同位置處產生具有不同大小之液滴。
該方法可包括定向該等噴嘴以產生沿該霧化器之上游、下游及/或橫向於該霧化器之一方向行進之該等液滴。
該方法可包括定向該等噴嘴以產生沿該霧化器之上游及下游兩者的一方向行進之該等液滴。
該方法可包括定向該等噴嘴以產生沿與該經燃燒排出流之一流動方向相反之一方向行進之該等液滴。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器供應高達每分鐘300升之霧化氣體，較佳地高達每分鐘250升(使用設定為0°C之一流量器件量測)。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器提供壓力高達10巴(較佳地高達6巴)之該霧化氣體。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器供應高達每小時30升之霧化液體，較佳地高達每小時22升。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器供應壓力高達2巴(較佳地高達1.5巴)之該霧化液體。
該霧化氣體可包括氮氣及/或經壓縮乾燥空氣，且該霧化液體包括水。
該第一霧化器可包括至少1個噴嘴，且該第二霧化器包括至少1個噴嘴。
該第一霧化器可包括配置成與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯之3個群組之2個噴嘴之至少6個噴嘴。
該第一霧化器可包括與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯配置之至少7個噴嘴。
該方法可包括將該經燃燒排出流與該等液滴一起從第一霧化器輸送朝向該第二霧化器，以黏聚至少一些該等液滴及至少一些該等排出粒子。
根據一第五態樣，提供一種方法，其包括：判定待從來自一減量裝置之一減量腔室之一經燃燒排出流移除之燃燒粒子之一粒徑，該減量腔室處理來自一半導體處理工具之一排出流；及組態定位於該減量腔室之下游之一第一霧化器以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之一粒徑之一液滴大小之液滴。
該方法可包括組態定位於該第一霧化器之下游之一第二霧化器以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之一粒徑之一液滴大小之液滴。
該方法可包括在該第一霧化器之上游定位一驟冷噴霧區段及在該第二霧化器之上游定位用於洗滌水溶性氣體之一噴霧噴嘴。典型地，該方法可包括將該驟冷噴霧區段定位於該減量腔室之下游之一驟冷級中。典型地，該方法可包括將該噴霧噴嘴定位於該第一霧化器之下游及該第二霧化器之上游之一填料塔中。
該方法可包括將該第一霧化器定位於一驟冷級之下游。
該方法可包括將該第一霧化器定位為朝向一填料塔之一入口。
該方法可包括將該第二霧化器定位為朝向該填料塔之一排氣口。
該方法可包括將該第二霧化器定位於一旋風分離器級及一除霧器之一者之上游。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之一粒徑分佈之一液滴大小分佈之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈重疊之該液滴大小分佈之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及該第二霧化器以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈匹配之該液滴大小分佈之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有高達待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑之200倍且較佳地高達20倍之一液滴大小之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生具有介於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑之20倍與50倍之間的一液滴大小之液滴。
該方法可包括組態該第一霧化器及/或該第二霧化器以產生在具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈內之粒子匹配之一大小之該液滴大小分佈內之液滴。
該第一霧化器及/或該第二霧化器可包括經組態以產生該等液滴之複數個噴嘴。
該方法可包括為該複數個噴嘴供應一霧化液體及一霧化氣體以產生該等液滴。
該方法可包括使該複數個噴嘴與一霧化液體源及一霧化氣體源並聯配置，以從各噴嘴產生具有一匹配之液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括組態該複數個噴嘴以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括使該複數個噴嘴配置成噴嘴群組，各群組與一霧化液體源及一霧化氣體源並聯配置，以從各噴嘴群組產生具有一匹配之液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括使各群組中之噴嘴與該霧化液體源及該霧化氣體源串聯配置，以從該群組內之各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括使該複數個噴嘴與一霧化液體源及一霧化氣體源串聯配置，以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴
該方法可包括將該霧化液體源供應至該串聯之一個端，且將該霧化氣體源供應至該串聯之另一端，以從各噴嘴產生具有該不同液滴大小分佈之該等液滴。
該方法可包括定位該複數個噴嘴以在該排出流中之不同位置處產生具有不同大小之液滴。
該方法可包括定向該等噴嘴以產生沿該霧化器之上游、下游及/或橫向於該霧化器之一方向行進之該等液滴。
該方法可包括定向該等噴嘴以產生沿該霧化器之上游及下游兩者的一方向行進之該等液滴。
該方法可包括定向該等噴嘴以產生沿與該經燃燒排出流之一流動方向相反之一方向行進之該等液滴。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器供應高達每分鐘300升之霧化氣體，較佳地高達每分鐘250升(使用設定為0°C之流量器件量測)。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器提供壓力高達10巴(較佳地高達6巴)之該霧化氣體。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器供應高達每小時30升之霧化液體，較佳地高達每小時22升。
該方法可包括向該第一霧化器及/或該第二霧化器供應壓力高達2巴(較佳地高達1.5巴)之該霧化液體。
該霧化氣體可包括氮氣及/或經壓縮乾燥空氣，且該霧化液體包括水。
該第一霧化器可包括至少1個噴嘴，且該第二霧化器包括至少1個噴嘴。
該第一霧化器可包括配置成與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯之3個群組之2個噴嘴之至少6個噴嘴。
該第一霧化器可包括與該霧化液體源及該霧化氣體源並聯配置之至少7個噴嘴。
該方法可包括組態該裝置以將該經燃燒排出流與該等液滴一起從第一霧化器輸送朝向該第二霧化器，以黏聚至少一些該等液滴及至少一些該等排出粒子。
在隨附獨立及附屬技術方案中陳述進一步特定及較佳態樣。附屬技術方案之特徵可酌情與獨立技術方案之特徵組合，且可為除在技術方案中明確陳述外之組合。
在一裝置特徵被描述為可操作以提供一功能的情況下，將瞭解，此包含提供該功能或經調適或組態以提供該功能之一裝置特徵。
在更詳細論述任何實施例之前，首先將提供一概述。實施例提供其中液滴經產生且從一減量腔室之下游引入至排出流之流量中之一配置。此等液滴與排出流中之典型固體粒子組合或黏附，此有助於將該等粒子捕集或挾帶在減量裝置內之一流體中。液滴至粒子之黏附隨著液滴與粒子之間的相對大小差減小而增強。同樣地，在其中粒子及液滴可相互作用之一環境中增加粒子在排出流中之駐留時間有助於增加液滴與粒子之間黏附之概率，以及增加其他液滴與粒子之間黏聚發生之可能性，此有助於增加其等質量並增加粒子將挾帶在減量裝置之流體內之可能性。因此，提供適當大小之液滴以與排出流內之粒子黏附有助於將粒子挾帶在減量裝置內(並從離開減量系統之排出流移除粒子)。此導致排出流中之更少微粒及一更清潔環境。類似地，為粒子及液滴提供黏聚之一機會亦有助於將粒子挾帶在減量裝置內。減量裝置
圖1繪示根據一項實施例之一減量裝置10。提供一減量腔室20，其接收來自一半導體處理工具(未展示)之一排出流30。如上文提及，排出流30可含有氣體及微粒物質。根據對排出流30進行熱及化學減量且產生一經燃燒排出流30’之需要，減量腔室20通常包括一多孔燃燒器、明火燃燒器、一電加熱之熱處理單元或一電漿腔室。 經燃燒排出流30’含有需要被移除之粒子。通常，目的係移除具有小於2.5微米之一粒子直徑之粒子之90%。在減量腔室20下游係一堰級50，其中經燃燒排出流30’通過由流動水之一堰圍繞之一導管。在堰級50之下游係一驟冷級60，其中水沿橫向於經燃燒排出流30’之流量之一方向噴射。在驟冷級60之下游係一槽70，該槽70用作減量裝置10內之水之一貯槽(sump)，且經燃燒排出流30’流動通過該槽70。在槽70之下游係一下部霧化器80，該下部霧化器80產生經燃燒排出流30’流動通過之液滴，以幫助移除懸浮在經燃燒排出流30’內之一特定大小之粒子。液滴黏附至大小相似之粒子，從而使粒子歸因於質量增加而落入貯槽中。其他較小粒子在排出流30’’中黏聚，此將在下文中更詳細地解釋。下部霧化器80之下游係一填料塔90。填料塔90通常含有鮑爾環(pall ring)，該等鮑爾環填充填料塔90且藉由從填料塔90之頂部向下，逆著經黏聚排出流30’’之流量，流動通過下部霧化器80且接著進入槽70以進行再循環之水再次潤濕。槽70中之水再循環至填料塔90、堰級50及驟冷級60。在填料塔90之下游係一上部霧化器100，該上部霧化器100產生液滴，經黏聚排出流30’’流動通過該等液滴，以幫助移除懸浮在經黏聚排出流30’’內之粒子(大部分經黏聚且生長)，如將在下文更詳細地解釋。在上部霧化器100之下游係一旋風分離器級110，該旋風分離器級110含有接收經黏聚排出流30’’之一或多個旋風分離器或一除霧墊(mist pad)，並有助於移除懸浮在經黏聚排出流30’’內之粒子/水/水分，且產生一經處理排出流30’’’。在旋風分離器級110之下游係一填料塔蓋120，該填料塔蓋120具有一排氣系統，經處理排出流30’’’透過該排氣系統排放至提取設施。
在操作中，排出流30 (其含有氣體並可含有固體組分或粒子)在一入口處由減量腔室20接收，並在一出口處作為經燃燒排出流30’(其亦含有氣體以及固體組分或粒子)排氣至堰級50中。經燃燒排出流30’行進通過堰級50及驟冷級60，其中經燃燒排出流30’被冷卻。驟冷噴嘴移除從程序化學物減量產生之粒子之一比例。經冷卻之經燃燒排出流30’離開驟冷級60，並行進通過槽70至下部霧化器80。
下部霧化器80產生水之液滴。該等液滴黏附至經燃燒排出流30’內之粒子，以產生經黏聚排出流30’’。經黏聚排出流30’’現含有氣態及固體組分或粒子、經組合粒子及液滴以及經黏聚粒子及液滴。若其等增加至一足夠質量，則其等從來自經黏聚排出流30’’之懸浮液落出。
當經黏聚排出流30’’通過填料塔90時，一些氣態組分溶解至流動通過填料塔90之水中。此外，經黏聚排出流30’’內之一些粒子、經組合粒子及液滴以及經黏聚粒子黏附至填料塔90內之經潤濕表面，其由填料塔噴霧沖走。此外，經黏聚排出流30’’內的經黏聚粒子的大小隨著其等在從下部霧化器80行進通過填料塔90至上部霧化器100時組合而增大。若其等增加至一足夠質量，則其等從來自經黏聚排出流30’’之懸浮液落出。
經黏聚排出流30’’通過上部霧化器100，該上部霧化器100亦產生液滴。一些此等液滴在其等通過上部霧化器100時，與仍在經黏聚排出流30’’內之一些粒子、經組合粒子及液滴以及經黏聚粒子組合。若其等增加至一足夠質量，則其等從來自經黏聚排出流30’’之懸浮液落出。此外，由上部霧化器100產生之一些液滴落入填料塔90中，以與通過填料塔90之經黏聚排出流30’’相互作用。
如此，下部霧化器80藉由產生黏附至經燃燒排出流30’’內之粒子之一比例之液滴來幫助移除該等粒子，並且作為一直接結果或透過與其他粒子黏聚來增加其等質量，使得其等逆流行進並落回朝向槽70。同樣地，一些剩餘粒子、經組合粒子及液滴以及經黏聚粒子可由填料塔90內之經潤濕表面直接捕集。當液滴及粒子行進通過填料塔90時，此黏附或從懸浮液落出發生之可能性增加，此係因為其等之組合及黏聚在其等行進通過填料塔90時增加。接著保留之任何剩餘粒子、經組合粒子及液滴以及經黏聚粒子經受來自上部霧化器100之液滴進一步流入，該等液滴再次與仍在經黏聚排出流30’’內之剩餘粒子及/或經黏聚粒子之一比例組合。此等之一些落回至填料塔90中，或行進至旋風分離器110。再次，當剩餘粒子、經組合粒子及液滴以及經黏聚粒子行進朝向旋風分離器級110時，經黏聚粒子之比例增加，該等經黏聚粒子之質量亦增加。此增大上部霧化器100之效能，此係因為未由下部霧化器80移除之粒子現由上部霧化器100分離。旋風分離器級110移除由排出流30’’攜載之粒子/水/水分。因此，從填料塔蓋120排放之經處理排出流30’’’具有一極小微粒含量。
在一個實驗中，依1巴向一四入口減量裝置10供應每分鐘0.25升之矽烷。接著使用一電低壓衝擊器(ELPI+(註冊商標))量測從矽烷燃燒產生之矽石粉末，該衝擊器提供用於即時粒子量測之粒徑光譜法。霧化器中之噴嘴使用氮氣或空氣來將水分散成較小液滴。至霧化噴嘴之N2/空氣供應的流量及壓力愈高，產生之水滴愈小。在本文描述之實驗中，所使用之噴嘴係來自Spraying Systems Company(註冊商標)之一霧化噴霧設備SU26。SU26設備由裝配至一標準空氣霧化器噴嘴本體之一流體蓋60100及一空氣蓋140-6-37-70°構成。上部霧化器100裝配在填料塔90上方，並且具有將水及氮氣之一單一供應分裂至指向填料塔90之兩個SU26噴嘴及指向旋風分離器級110之一個SU26噴嘴之一短管(spool)，以容許潤濕旋風分離器級110以改良其效率，如圖2中繪示。下部霧化器80裝配在填料塔90下方，並且具有將水及氮氣分裂至經定向以指向槽70之三個SU26噴嘴之一短管。
噴嘴之詳細配置及操作可適合裝置內之條件。例如，可對減量裝置進行預期粒徑、大小分佈及數量或速率之一評估或判定。另外，可對期望彼等如何分佈在減量裝置內之不同位置處進行判定。接著霧化器可經定位、組態且操作以產生用於彼等預期粒子之適當大小、適當大小分佈及適當數量之液滴。
圖3係以每分鐘升數為單位之通過霧化器之總氮氣流量對比自系統之粉末移除之總%之一圖表，且展示上部霧化器100及下部霧化器80在個別地操作時並且在具有每分鐘150升與250升之間的變化氮氣流量的情況下之效能。點1用於上部霧化器100中之不銹鋼噴嘴，點2用於下部霧化器80中之不銹鋼噴嘴，且點3用於下部霧化器80中之塑膠噴嘴。改變至霧化短管之總氮氣供應(在一6巴壓力下供應)以研究變化的水滴大小。該圖表展示上部霧化器100及下部霧化器80在獨立操作時之測試。如可見，隨著至三個噴嘴之氮氣流量增加(及水流量減少)，上部霧化器100之效能係相當恆定的(增加指頂部霧化器之氮氣流量對粒子移除效率無顯著改良)。在以每分鐘100升供應6巴壓力氮氣至上部霧化器100的情況下，相較於每分鐘250升下之70%粉末移除存在66%粉末移除。因此，提供每分鐘180升之6巴之氮氣及每分鐘1升之1.5巴之水至上部霧化器100可為足夠的。測試已展示，將上部霧化器100定向為使三個噴嘴返回指向填料塔90並與經黏聚排出流30’’之流量相反增加粉末移除量。如亦可見，下部霧化器80具有比上部霧化器100更低之粉末移除，惟在每分鐘250升之氮氣流量下除外。如亦可見，塑膠噴嘴展示與不銹鋼噴嘴相當之效能，且因此噴嘴材料似乎不影響粉末移除。
Atlas設備 ATSP N2 流量 (slm) SiO2輸入 SiO2輸出 PRE% 方法
mg/min mg/min mg/m3
無ATSP 0 675 390 758.4 42.2% ELPI+
頂部ATSP 150 675 227.7 343.0 66.3% ELPI+
頂部ATSP 200 675 212.6 297.8 68.5% ELPI+
頂部ATSP 220 675 218.2 297.3 67.7% ELPI+
底部ATSP 150 675 292 440.0 56.7% ELPI+
底部ATSP 200 675 268.8 376.5 60.2% ELPI+
底部ATSP 250 675 216.1 338.4 68.0% ELPI+
雙ATSP 180 675 200.59 229.5 70.3% ELPI+
雙ATSP 200 675 185.5 202.9 72.5% ELPI+
雙ATSP 220 675 174.9 183.3 74.1% ELPI+
雙ATSP 250 675 162.3 160.1 76.0% ELPI+
表 1
表1展示針對不同霧化器位置之作為一百分比之矽石粉末移除(雙ATSP係兩個霧化器在操作，頂部ATSP係上部霧化器100在操作，且底部ATSP係下部霧化器80在操作)。如可見，最佳組態達成一76%粉末移除。此憑藉以下達成：上部霧化器100及下部霧化器80兩者操作，其中上部霧化器100被供應每分鐘250升之6巴之氮氣及約每小時22升之1.5巴之水，其中下部霧化器80被供應每分鐘250升之6巴之氮氣及約每小時25升之1.5巴之水。
然而，當以重量法測試(重複兩次)時，最佳組態提供82.1%之粉末移除之一平均效能，而非表1中展示之76%移除。
圖4係展示以µm為單位之在50%衝擊器切割點處之氣動粒子直徑對比以%為單位之從排氣口收集之樣本粉末之正規化質量之一圖表，其繪示粒徑分佈之正規化質量且比較來自各種霧化器組態之結果。線1繪示在無霧化器操作但包括減量腔室20、堰級50、驟冷級60、槽70及填料塔90之減量裝置10開啟，且具有排出流30之正向流動的情況下之效能。線2展示添加當以每分鐘250升之氮氣操作時之下部霧化器80之減量裝置10之效能。線3展示添加以每分鐘250升之氮氣操作之上部霧化器100之減量裝置10之效能。線4展示在下部霧化器80及上部霧化器100兩者當以每分鐘250升之氮氣操作時之減量裝置10的操作。結果展示，相較於無上部霧化器100操作的情況，在存在上部霧化器100的情況下，在排氣口中量測到較少大粒子(0.6微米)。存在較高數量之具有直徑0.225微米之粒子，但此可係捕獲(並因此從排氣口移除)較大粒子之結果，此放大出現在排氣口中之較小粒子之比例。下部霧化器80展現經由排氣口離開之較大粒子(粒徑大於0.255微米)之增加濃度。操作下部霧化器80及上部霧化器100兩者似乎使粒徑分佈分佈朝一較小粒徑移位。此處，在排氣口中觀察到0.154及0.255微米粒子之增加濃度，但再次，由於此係一正規化分佈，故較小粒子之絕對數目減少，如表1且透過重量測試所示範。
圖5係以小時為單位之時間對比百分比粒子移除效率之一圖表，且繪示填料塔90對利用一下部霧化器80及一上部霧化器100兩者之配置之效能影響。測試在兩小時週期內完成。線1表示下部霧化器80及上部霧化器100兩者操作，但槽70中之流體已含有大量粉末(水係白色的)之結果。線2表示下部霧化器80及上部霧化器100兩者操作但在槽70中具有清潔流體之結果。然而，此與針對線3(其省略鮑爾環及噴霧)及線4(其僅省略鮑爾環)所展示之一配置具有相同趨勢。然而，移除鮑爾環及/或噴霧之效應係大幅減小影響從經黏聚排出流30’’移除水溶性氣體之填料塔90內之表面積。填料塔噴霧係一僅水噴霧，其產生在大小上明顯大於經黏聚排出流30’’中之粒子之水滴，因此可見，填料塔90內之鮑爾環及噴霧的存在對從經黏聚排出流30’’內移除粒子具有一邊際效應。
圖6繪示圖5中提及之各種組態。特定言之，圖6A展示線1、2及4之組態，圖6B展示線3之組態，且圖6C展示線5之組態。如圖5中可見，當採用圖6C中展示之其中填料塔90定位於下部霧化器80及上部霧化器100兩者之下游之組態時，粉末移除存在大約10%的減少。此表明，用一空隙分離霧化器(具有或不具有鮑爾環及一填料塔噴霧)有助於移除粒子。在不希望被理論束縛的情況下，此表明下部霧化器80移除較小粒子或促進較小粒子之黏聚。當經黏聚排出流30’’通過填料塔90時，粒子黏聚，變得愈來愈大。此黏聚繼續，並且一旦在一特定大小(諸如0.25微米或更大)下，上部霧化器100在移除此等粒子時更有效，並且此黏聚持續，此可使旋風分離器級110在移除彼等粒子時亦更有效。此使雙霧化器配置更有效，此係因為在驟冷級60之後存在兩個粒子移除級。此亦意味著填料塔空間亦有助於使雙霧化器配置在移除粒子時更有效。
實驗資料展示，對於如圖6中展示之一填料塔配置(250 mm直徑及117 cm之總高度)，當以500 lpm輸送量及一0.25 lpm矽烷流量操作時，粉末移除效能未增加至高於針對圖6(c)配置(其中下部霧化器80及上部霧化器100相鄰)所展示，直至下部霧化器80與上部霧化器100之間的距離增加至至少17.5 cm。此展示存在粒子黏聚及因此生長，此係因為粒子從下部霧化器80行進至上部霧化器100有助於改良上部霧化器100之粒子移除效能。而且，將噴霧噴嘴定向成與通過填料塔之流量之主方向相反有助於減緩通過填料塔之流量，此增加駐留時間並進一步改良粒子移除。
如上文提及，使用ELPI+(註冊商標)裝置收集之資料使用一重量法進行驗證，其中該裝置使用一高效率微粒空氣(HEPA)過濾器運行，該過濾器在一旋風分離器之後裝配，該旋風分離器能夠移除取自填料塔蓋120上方60 cm處之採樣線中之大於10微米之粒子。結果在圖7中展示，圖7展示來自重量測試設定之結果之一比較。行A展示既不使用下部霧化器80亦不使用上部霧化器100移除之粉末(粒子)之百分比(自減量系統的粉末移除)。行B展示在存在下部霧化器80及上部霧化器100兩者的情況下移除之粉末之百分比。行C展示使用一單一、7噴嘴下部霧化器80之一替代性配置。
單一、7噴嘴下部霧化器80捕獲所產生之粉末的77.4%，其用重量法量測。7噴嘴霧化器係由七個SU26噴嘴構成，但有每分鐘100升之6巴之氮氣及每小時2.5升之1.5巴之水個別地經由七個入口供應器供應至各噴嘴之一霧化器短管。此配置依下列測試達成，該等測試涉及改變至一單一噴嘴之流量氣體，以在水供應器變得堵塞(藉由視覺檢測判定)之前識別氮氣與水之最佳比率。接著將該比率應用於所有七個噴嘴，以觀察產生更多相同大小之水滴對粉末移除效率之影響。
噴嘴 Z Q 水 Q 空氣 Q 空氣 D10 D32 DV 0.1 DV 0.5 DV 0.9 軸向速度
ID (mm) (LPH) (0°C下之LPM) (SCFM) (µm) (µm) (µm) (µm) (µm) (m/s)
SU 26 150 2.5 100 3.8 19.3 28.0 16.2 31.4 63.7 6.2
表 2
表2展示在距噴嘴0.15米之一距離處從噴嘴量測之液滴大小(藉由噴嘴提供者Spraying systems (註冊商標))。
定義： -D32-邵特(Sauter)中值直徑，此值係最佳代表整體噴霧之液滴大小，即，此大小之液滴之體積與表面積之比率與整體噴霧體積對整體噴霧表面積之比率相同。 -D10係一直線(算術)平均液滴大小 -DV0,5-體積中值直徑，噴霧體積具有比此大小小50%且比此值大50% -DV0.9-90%之噴霧體積具有小於或等於此值之液滴大小
下部霧化器設定 百分比粉末移除效率 (%)
7個噴嘴 76.95
5個噴嘴 71.35
3個噴嘴 61.10
1個噴嘴 49.10
僅SiH4 36.21
表 3
表3展示當改變操作中之噴嘴的數目時之結果。如可見，最佳結果係當使用7噴嘴霧化器時。憑藉28微米之一邵特中值直徑，移除76.95%之粉末。
圖8係展示以µm為單位之50%衝擊器切割點之氣動直徑對比以%為單位之從排氣口收集之樣本粉末之正規化質量之一圖表，並展示此測試之正規化粒子分佈，其中線1無霧化器，線2具有1個噴嘴，線3具有3個噴嘴，線4具有5個噴嘴且線5具有7個噴嘴。如藉由比較無霧化器之粒徑分佈與具有霧化器之粒徑分佈可見，粒徑分佈隨著增大數目之霧化器而向左移位。因此，可見28微米邵特中值直徑液滴之產生移除大於0.3819微米之粒子。此外，似乎存在與噴嘴之近接性之關係，表明液滴剪切至較小大小或黏聚至較大液滴大小。
在不希望被理論束縛的情況下，觀察到液滴在大小上愈接近排出流內之粒子，從排出流移除彼等粒子愈有效。認為當液滴及粒子係類似大小時，其等更可能黏附在一起。液滴及粒子不需要具有相同大小，且即使當液滴為粒徑之一倍數時，黏附似乎亦出現。例如，具有28微米之一邵特中值直徑之粒子似乎有效地黏附至大小大於0.2555微米之粒子。因此，比粒子大約200倍之液滴仍似乎黏附至彼等粒子。因此，推斷出若可產生與粒子相似大小之液滴，則移除彼等粒子之有效性將增加。亦觀察到，在經燃燒排出流中，粒子將具有一特定大小分佈，且因此液滴具有一類似大小分佈以便使大小之間的相關性最大化將為有利的。此可藉由使用不同噴嘴來產生不同大小液滴及不同大小分佈來達成。同樣地，如藉由7噴嘴霧化器所示範，藉由產生相較於粒子數目之極高數量之液滴，液滴與粒子之間的黏附亦可增加，此係大概歸因於兩者將碰撞且黏附之增加的統計概率。亦觀察到，即使當極小粒子在與一液滴組合時仍具有將太小而無法在重力作用下逆著排出流之流量而下落之一質量時，經組合液滴及粒子更可能黏附至填料塔內之表面並且與其他液滴及/或粒子及/或經組合液滴及粒子黏聚且因此在其等行進通過填料塔90時大小增加，此增加其等將被有效地挾帶在填料塔90內或與由上部霧化器100提供之進一步液滴組合之可能性且達成歸因於重力效應克服經燃燒排出流之流量及/或改良其等由上部霧化器100從經燃燒排出流移除之一質量。
在一個實驗中，頂部霧化器(無雙霧化器)處之一典型量測粒徑為約433 nm。所量測之水滴大小約為16.2 µm至63.7 µm -在遠離噴霧噴嘴15 cm之一距離處量測(然而，水滴將略小於此，此係因為頂部霧化器與填料塔之間的最大空間為15 cm，且底部霧化器與槽水高度之間的最大空間為15 cm；因此，對其等而言在距離噴嘴＜15 cm處進行量測係有用的)。此展示液滴大小介於粒徑之20倍與50倍之間(對於16 µm水滴係37倍)。
因此，在一些實施例中，基於排出流中之粒子的預期大小來選擇液滴之粒徑。液滴不需要與粒子之大小精確匹配，但通常可高達粒徑之200倍且通常介於20倍與50倍之間，同時仍促進液滴與粒子之間的黏附及黏聚。此外，在已知粒子之預期大小分佈的情況下，可控制液滴之大小分佈以匹配該大小分佈之至少一部分，以確保可獲得適當數量之適當(通常為相對)大小之液滴。
儘管本文已參考附圖詳細揭示本發明之繪示性實施例，但應理解，本發明不限於該精確實施例，且可在不脫離如由隨附發明申請專利範圍及其等等效物所定義之本發明之範疇之情況下由熟習此項技術者實現其中之各種改變及修改。
10:減量裝置 20:減量腔室 30:排出流 30’:經燃燒排出流 30’’:經黏聚排出流 30’’’:經處理排出流 50:堰級 60:驟冷級 70:槽 80:下部霧化器 90:填料塔 100:上部霧化器 110:旋風分離器級 120:填料塔蓋
現將參考隨附圖式進一步描述本發明之實施例，其中：
圖1繪示根據一項實施例之一減量裝置；
圖2繪示一實例霧化器配置；
圖3係通過霧化器之以每分鐘升數為單位之總氮流量(使用設定為0°C之一流量器件量測)對比總粉末移除之一圖表；
圖4係展示以µm為單位之在50%衝擊器切割點處之粒子之氣動直徑對比從排氣口收集之正規化樣本粉末之一圖表；
圖5係以小時為單位之時間對比百分比粒子移除效率之一圖表；
圖6繪示圖5中提及之各種霧化器組態；
圖7展示來自重量測試設定之結果之一比較；及
圖8係展示以µm為單位之在50 %衝擊器切割點處之粒子之氣動直徑對比從排氣口收集之平均樣本粉末之一圖表。
10:減量裝置
20:減量腔室
30:排出流
30’:經燃燒排出流
30”:經黏聚排出流
30’’’:經處理排出流
50:堰級
60:驟冷級
70:槽
80:下部霧化器
90:填料塔
100:上部霧化器
110:旋風分離器級
120:填料塔蓋

Claims (16)

  1. 一種裝置，其包括： 一減量裝置之一減量腔室，該減量腔室處理來自一半導體處理工具之一排出流，以提供具有排出粒子之一經燃燒排出流；及 一第一霧化器，其定位於該減量腔室之下游，該第一霧化器經組態以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之一粒徑之一液滴大小之液滴。
  2. 如請求項1之裝置，其包括定位於該第一霧化器之下游之一第二霧化器。
  3. 如請求項2之裝置，其中該第一霧化器及該第二霧化器之至少一者經組態以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之一粒徑分佈之一液滴大小分佈之液滴。
  4. 如請求項2或3之裝置，其中該第一霧化器及該第二霧化器之至少一者經組態以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈重疊之該液滴大小分佈之液滴。
  5. 如請求項2至4中任一項之裝置，其中該第一霧化器及該第二霧化器之至少一者經組態以產生具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈匹配之該液滴大小分佈之液滴。
  6. 如請求項2至5中任一項之裝置，其中該第一霧化器及該第二霧化器之至少一者經組態以產生具有高達待從該經燃燒排出流移除之該等排出粒子之該粒徑分佈之200倍且較佳地高達20倍之一液滴大小之液滴。
  7. 如請求項2至6中任一項之裝置，其中該第一霧化器及該第二霧化器之至少一者經組態以產生在該液滴大小分佈內具有與待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之該粒徑分佈內之粒子匹配之一大小之液滴。
  8. 如請求項2至7中任一項之裝置，其中該第一霧化器及該第二霧化器之至少一者包括經組態以產生該等液滴之複數個噴嘴。
  9. 如請求項8之裝置，其中該複數個噴嘴經組態以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
  10. 如請求項8或9之裝置，其中該複數個噴嘴與該霧化液體之一源及該霧化氣體之一源串聯配置，以從各噴嘴產生具有一不同液滴大小分佈之該等液滴。
  11. 如請求項8至10中任一項之裝置，其中該複數個噴嘴經定位以在該排出流中之不同位置處產生具有不同大小之液滴。
  12. 如請求項8至11中任一項之裝置，其中該等噴嘴經定向以產生沿與該經燃燒排出流之一流動方向相反之一方向行進之該等液滴。
  13. 一種裝置，其包括： 一減量裝置之一減量腔室，該減量腔室處理來自一半導體處理工具之一排出流，以提供具有燃燒粒子之一經燃燒排出流； 一第一霧化器，其定位於該減量腔室之下游，該第一霧化器經組態以產生挾帶至少一些該等燃燒粒子之液滴；及 一第二霧化器，其定位於該第一霧化器之下游，該第二霧化器經組態以產生挾帶至少一些該等燃燒粒子之液滴。
  14. 一種方法，其包括： 從處理來自一半導體處理工具之一排出流之一減量裝置之一減量腔室接收具有燃燒粒子之一經燃燒排出流；及 使用定位於該減量腔室之下游之一第一霧化器從該經燃燒排出流移除燃燒粒子，該第一霧化器經組態以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之一粒徑之一液滴大小之液滴。
  15. 一種方法，其包括： 從處理來自一半導體處理工具之一排出流之一減量裝置之一減量腔室接收具有燃燒粒子之一經燃燒排出流；及 使用定位於該減量腔室之下游之經組態以產生挾帶至少一些該等燃燒粒子之液滴之一第一霧化器及定位於該第一霧化器之下游之一第二霧化器從該經燃燒排出流移除燃燒粒子，該第二霧化器經組態以產生挾帶至少一些該等燃燒粒子之液滴。
  16. 一種方法，其包括： 判定待從來自處理來自一半導體處理工具之一排出流之一減量裝置之一減量腔室之一經燃燒排出流移除之燃燒粒子之一粒徑；及 組態定位於該減量腔室之下游之一第一霧化器，以產生具有基於待從該經燃燒排出流移除之該等燃燒粒子之一粒徑之一液滴大小之液滴。
TW110111738A 2020-03-31 2021-03-31 裝置 TW202206175A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB2004688.4 2020-03-31
GB2004688.4A GB2593722A (en) 2020-03-31 2020-03-31 Apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202206175A true TW202206175A (zh) 2022-02-16

Family

ID=70553404

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110111738A TW202206175A (zh) 2020-03-31 2021-03-31 裝置

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20230158440A1 (zh)
EP (1) EP4126309A1 (zh)
JP (1) JP2023519972A (zh)
KR (1) KR20220155581A (zh)
CN (1) CN115427132A (zh)
GB (1) GB2593722A (zh)
IL (1) IL296783A (zh)
TW (1) TW202206175A (zh)
WO (1) WO2021198646A1 (zh)

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4364750A (en) * 1981-02-09 1982-12-21 Canadian Fine Color Company, Limited Process and apparatus for purifying waste gases
US5279646A (en) * 1992-06-25 1994-01-18 Process And Control Technology Corporation Venturi scrubber and process
US6322756B1 (en) * 1996-12-31 2001-11-27 Advanced Technology And Materials, Inc. Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases
WO2000032299A1 (en) * 1998-12-01 2000-06-08 Ebara Corporation Exhaust gas treating device
US6423284B1 (en) * 1999-10-18 2002-07-23 Advanced Technology Materials, Inc. Fluorine abatement using steam injection in oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases
WO2001032297A2 (en) * 1999-11-01 2001-05-10 Moore Robert E Modular chemical treatment system
US6953495B2 (en) * 2003-07-31 2005-10-11 Envirocare International, Inc. Low-energy venturi pre-scrubber for an air pollution control system and method
WO2005097297A1 (en) * 2004-04-09 2005-10-20 Turbosonic Inc. Pollution control in wood products dryer
KR100647997B1 (ko) * 2004-12-13 2006-11-23 유니셈 주식회사 폐가스 처리 장치
JP5131069B2 (ja) * 2008-07-17 2013-01-30 ソニー株式会社 ノズルユニット及び部品実装装置
US20100119420A1 (en) * 2008-11-07 2010-05-13 Applied Materials, Inc. Abatement system having enhanced effluent scrub and moisture control
US8544769B2 (en) * 2011-07-26 2013-10-01 General Electric Company Multi-nozzle spray gun
CN203294735U (zh) * 2013-06-09 2013-11-20 中交一航局安装工程有限公司 单流体与双流体综合除尘设备结构
US20180200661A1 (en) * 2015-09-03 2018-07-19 David Y.H. Pui Solar assisted large scale cleaning system

Also Published As

Publication number Publication date
EP4126309A1 (en) 2023-02-08
WO2021198646A1 (en) 2021-10-07
US20230158440A1 (en) 2023-05-25
CN115427132A (zh) 2022-12-02
GB2593722A (en) 2021-10-06
IL296783A (en) 2022-11-01
GB202004688D0 (en) 2020-05-13
KR20220155581A (ko) 2022-11-23
JP2023519972A (ja) 2023-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20070022958A1 (en) Abatement of fluorine gas from effluent
JP6240571B2 (ja) 湿式スクラバノズルシステム及びプロセスガスを浄化するために使用する方法
JP6873040B2 (ja) ガス処理装置
CA2202254A1 (en) Venturi scrubber and method with optimized remote spray
JP2015020169A5 (zh)
US20010048902A1 (en) Treatment system for removing hazardous substances from a semiconductor process waste gas stream
KR20150042732A (ko) 탈황 분무 탑들을 위한 방법 및 장치
WO2013060244A1 (zh) 一种活性焦再生混合汽的处理方法和装置
US20030219361A1 (en) Apparatus and method for pretreating effluent gases in a wet environment
JP2001502604A (ja) 半導体製造排気の酸化処理のための排気流処理システム
US10617997B1 (en) Apparatus for exhaust gas abatement under reduced pressure
CN1309580A (zh) 用于天然气流湿法净化的方法及设备
US20100119420A1 (en) Abatement system having enhanced effluent scrub and moisture control
US20100192773A1 (en) Abatement apparatus with scrubber conduit
Bhargava Wet scrubbers–design of spray tower to control air pollutants
US20030089242A1 (en) Method for removing impurity contents in the air
TW202206175A (zh) 裝置
US20020011150A1 (en) Apparatus for removing impurity contents in the air
JP4772223B2 (ja) 排ガス除害装置及び方法
Tsai et al. An efficient venturi scrubber system to remove submicron particles in exhaust gas
KR100658953B1 (ko) 폐가스 수처리장치
US20090056544A1 (en) Methods and apparatus for abating electronic device manufacturing tool effluent
KR20230096964A (ko) 배기 가스 처리 설비
WO2001058558A2 (en) Process for removing volatile organic compounds from an air stream and apparatus therefor
TW200412409A (en) Vortex-type reaction chamber toxic gas treatment device and method