TW202200386A - 偏光板及有機電致發光顯示裝置 - Google Patents

偏光板及有機電致發光顯示裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW202200386A
TW202200386A TW110109281A TW110109281A TW202200386A TW 202200386 A TW202200386 A TW 202200386A TW 110109281 A TW110109281 A TW 110109281A TW 110109281 A TW110109281 A TW 110109281A TW 202200386 A TW202200386 A TW 202200386A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
film
layer
protective film
compound
Prior art date
Application number
TW110109281A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI770876B (zh
Inventor
御子柴恵美子
Original Assignee
日商柯尼卡美能達股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商柯尼卡美能達股份有限公司 filed Critical 日商柯尼卡美能達股份有限公司
Publication of TW202200386A publication Critical patent/TW202200386A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI770876B publication Critical patent/TWI770876B/zh

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D201/00—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/41—Organic pigments; Organic dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/29—Laminated material
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本發明之課題係提供使用於顯示裝置尤其是有機EL顯示裝置時保護顯示元件免於受外光影響，同時使該顯示元件不產生發光損失且使含有色素化合物之層與鄰接層之密著性提高之偏光板及有機電致發光顯示裝置。 本發明之偏光板之特徵係自視覺辨識側起依序具有硬塗層、保護膜、偏光器及相位差膜之偏光板，前述硬塗層及前述保護膜中之至少一者含有在300~460nm之波長區域的吸收光譜中最大吸收波長存在於360~379nm之範圍內之色素化合物，前述保護膜及前述相位差膜中之至少一者含有紫外線吸收劑，含有前述色素化合物之層比含有前述紫外線吸收劑之層更位於視覺辨識側。

Description

偏光板及有機電致發光顯示裝置
本發明有關偏光板及有機電致發光顯示裝置，更詳言之，有關使用於顯示裝置尤其是有機電致發光顯示裝置時保護顯示元件免於受外光影響，同時使該顯示元件不產生發光損失且使含有色素化合物之層與鄰接層之密著性提高之偏光板及有機電致發光顯示裝置。
近幾年來，智慧型手機等之顯示裝置在強烈外光下使用之機會增多，為了提高在外光下之視覺辨識性，於光源使用有機電致發光(ElectroLuminescence；以下亦稱為「EL」)元件逐漸增加。伴隨此，產生有機EL元件因外光而劣化之問題。因此，有機EL顯示裝置中，藉由於配置在有機EL元件之視覺辨識側之偏光板等之構件中含有紫外線吸收劑及可比紫外線吸收劑吸收更長波長側之光的色素化合物而抑制有機EL元件因外光而劣化之技術為已知。
具體而言，例如於專利文獻1中已知有具有黏著劑層之黏著薄片，該黏著劑層含有全光線透過率為85%以上，波長380nm之光線透過率為5%以下之丙烯酸系聚合物及三嗪系紫外線吸收劑。
專利文獻1中記載之黏著薄片雖係可控制波長380nm之光的透過率者，但該黏著薄片於有機EL顯示裝置使用時，有因長時間使用而使有機EL元件劣化之情況，尚非為充分者。此認為係專利文獻1中記載之黏著薄片雖可吸收波長380nm之光，但比有機EL元件之發光區域(比430nm更長波長側)更為短波長側之波長區域(380~430nm)之光未能被充分吸收，而因該透過光產生劣化。
又，專利文獻2中記載有機EL顯示裝置，其具有有機EL元件及於其視覺辨識側具有偏光器、相位差膜及其以外之至少1層例如黏著劑層積層而成之光學積層體。專利文獻2中記載於構成前述光學積層體之個別層中調配紫外線吸收劑與吸收光譜之最大吸收波長存在於380~430 nm之波長區域的色素化合物，且使含有紫外線吸收劑之層比含有色素化合物之層更存在於視覺辨識側之方式設置，而抑制有機EL元件之劣化之技術。專利文獻2中記載，藉由以此等特定順序配置各層，可防止因上述色素化合物暴露於紫外線而劣化。
然而，若於有機EL元件之發光區域使用帶有吸收域之色素化合物，則產生發光損失，有使亮度降低之情況。因此，有必要於發光區域使用不具有吸收域之化合物，但專利文獻2所揭示之色素化合物由於吸收光譜之最大吸收波長存在於380~430nm之波長區域，且由於於有機EL元件之發光區域帶有色素化合物之吸收域，故見到該有機EL元件之亮度降低。
亦即，必須作成具備為了抑制有機EL元件之劣化，而抑制比有機EL元件之發光區域(比430nm更長波長側)更為短波長側之波長(380~430nm)之光的透過，且為了不產生對於有機EL元件之發光之亮度損失，而可充分確保前述有機EL元件之發光區域之可見光透過率的機構之有機EL顯示裝置。
另一方面，推定智慧型手機等之顯示裝置於戶外使用時，已知有於視覺辨識側最表面配置硬塗膜，但若實施於基材膜上設置硬塗層之硬塗膜之耐久性試驗，則有前述基材膜與硬塗膜之密著性劣化之情況。專利文獻3中雖揭示於硬塗層使用以特定胺基甲酸酯丙烯酸酯作為主成分，且藉由示差掃描熱量計測定之玻璃轉移溫度為110℃以上之紫外線硬化型樹脂組成物之技術，但耐久性試驗前之基材膜與硬塗層之層間密著性雖某程度被改善，但耐久性試驗後之密著性改善效果低。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2013-75978號公報 [專利文獻2] 日本特開2017-168430號公報 [專利文獻3] 日本特開2009-62499號公報
[發明欲解決之課題]
本發明係鑒於上述問題狀況而完成者，其解決之課題係提供使用於顯示裝置尤其是有機EL顯示裝置時保護顯示元件免於受外光影響，同時使該顯示元件不產生發光損失且使含有色素化合物之層與鄰接層之密著性提高之偏光板及有機電致發光顯示裝置。 [用以解決課題之手段]
本發明人等為了解決上述課題，針對上述問題之原因等檢討之過程中，發現藉由於構成偏光板之層設置含有紫外線吸收劑之層(含紫外線吸收材層)與含有比紫外線吸收劑吸收更長波長側之特定波長域之光的色素化合物之層(含色素化合物層)，且將上述含色素化合物層配置於比上述紫外線吸收層更於視覺辨識側之構成，可保護顯示元件免受外光之影響，並且該顯示元件不產生發光損失，而獲得含有前述色素化合物之層與鄰接層之密著性提高之偏光板，因而完成本發明。
亦即，本發明之上述課題係藉由以下手段而解決。
1. 一種偏光板，其特徵係自視覺辨識側起依序具有硬塗層、保護膜、偏光器及相位差膜之偏光板， 前述硬塗層及前述保護膜中之至少一者含有在300 ~460nm之波長區域的吸收光譜中最大吸收波長存在於360~379nm之範圍內之色素化合物，前述保護膜及前述相位差膜中之至少一者含有紫外線吸收劑，含有前述色素化合物之層比含有前述紫外線吸收劑之層更位於視覺辨識側。
2. 如第1項之偏光板，其中於前述硬塗層含有前述色素化合物，於前述保護膜含有前述紫外線吸收劑。
3. 如第1項或第2項之偏光板，其中前述色素化合物含有具有以下述一般式(1)表示之構造之化合物，
Figure 02_image001
(式中，R11 表示氫原子、鹵原子、烷基、烷氧基、羥基、胺基、烷基取代之胺基、羧基、烷氧羰基、羥烷基、烷羰氧基烷基、羧烷基、烷氧羰基烷基、芳基、醯基或磺基；R12 表示氫原子或羥基)。
4. 如第1項或第2項之偏光板，其中前述色素化合物含有具有以下述一般式(2)表示之構造之化合物，
Figure 02_image003
(式中，R21 表示氫原子或羥基；R22 、R23 及R24 表示烷基、烷氧基、烷基取代之胺基、羧基、烷氧羰基、羥烷基、烷羰氧基烷基、羧烷基、烷氧羰基烷基、芳基、醯基或磺基)。 5. 如第1項至第4項中任一項之偏光板，其中於前述相位差膜之與視覺辨識側相反側具備黏著劑層。
6. 一種有機電致發光顯示裝置，其特徵係於視覺辨識側具備如第1項至第5項中任一項之偏光板。 [發明效果]
依據本發明之上述手段，可提供使用於顯示裝置尤其是有機EL顯示裝置時保護顯示元件免於受外光影響，同時使該顯示元件不產生發光損失且使含有色素化合物之層與鄰接層之密著性提高之偏光板及有機電致發光顯示裝置。
關於本發明效果之展現機制乃至作用機制，雖尚不明確，但推測如以下。
本發明之偏光板之特徵係自視覺辨識側起依序具有硬塗層、保護膜、偏光器及相位差膜之偏光板，前述硬塗層及前述保護膜中之至少一者含有在300~460nm之波長區域的吸收光譜中最大吸收波長存在於360~379nm之範圍內之色素化合物(以下亦簡稱為「化合物(D)」)，前述保護膜及前述相位差膜中之至少一者含有紫外線吸收劑，含有前述化合物(D)之層比含有前述紫外線吸收劑之層更位於視覺辨識側。
本發明之偏光板係於使用於顯示裝置尤其是有機EL顯示裝置時，含有化合物(D)之層比含有紫外線吸收劑之層更配置於視覺辨識側之構成。此處，紫外線吸收劑係在300~460nm之波長區域的吸收光譜中最大吸收波長存在於300~359nm之範圍內之化合物。
本發明之偏光板藉由組合使用前述含有化合物(D)之層與含有紫外線吸收劑之層，而可充分吸收例如比有機EL元件之發光區域(比430nm更長波長側)更為短波長側之波長的光，而可保護有機EL元件等之顯示元件免於受外光之影響。
且，有機化合物可吸收某波長之光並轉換為熱能。本發明之偏光板藉由該轉換而產生之熱促進分子運動，使與鄰接層之相互作用增強，認為可提高硬塗層與保護膜之密著性。
本發明可保護顯示元件不受外光影響，同時對於該顯示元件之發光不產生亮度損失，進而可提供本發明之含有化合物(D)之層與鄰接層之密著性經提高之偏光板及有機電致發光顯示裝置。
本發明之偏光板之特徵係自視覺辨識側起依序具有硬塗層、保護膜、偏光器及相位差膜之偏光板，前述硬塗層及前述保護膜中之至少一者含有在300~460nm之波長區域的吸收光譜中最大吸收波長存在於360~379nm之範圍內之色素化合物，前述保護膜及前述相位差膜中之至少一者含有紫外線吸收劑，含有前述色素化合物之層比含有前述紫外線吸收劑之層更位於視覺辨識側。該特徵係與下述實施態樣共通或對應之技術特徵。
作為本發明之實施態樣，基於提高密著性之觀點，較佳於前述硬塗層含有前述化合物(D)，於前述保護膜含有前述紫外線吸收劑。
作為本發明之實施態樣，基於對於顯示元件之發光抑制亮度損失之觀點，作為前述化合物(D)較佳含有具有以上述一般式(1)表示之構造之化合物，或具有以上述一般式(2)表示之構造之化合物。
本發明之偏光板可為進而於前述相位差膜之與視覺辨識側相反側具備黏著劑層之形態。藉此，製作於有機EL元件之視覺辨識側配置該偏光板之有機EL顯示裝置時之作業性提高。
本發明之有機EL顯示裝置之特徵係於視覺辨識側具備本發明之偏光板。藉此，有機EL顯示裝置為於長期使用下之品質降低受抑制之有機EL顯示裝置。
以下針對本發明及其構成要素及用以實施本發明之形態･態樣詳細說明。又，本申請案中，「~」係以包含其前後記載之數值作為下限值及上限值之意義而使用。本說明書中，具有以一般式(1)表示之構造之化合物亦稱為化合物(1)。同樣具有以一般式(2)表示之構造之化合物亦稱為化合物(2)。
《本發明之偏光板之概要》 本發明之偏光板之特徵係自視覺辨識側起依序具有硬塗層、保護膜、偏光器及相位差膜之偏光板，前述硬塗層及前述保護膜中之至少一者含有在300~460nm之波長區域的吸收光譜中最大吸收波長存在於360~379nm之範圍內之色素化合物，前述保護膜及前述相位差膜中之至少一者含有紫外線吸收劑，前述含有色素化合物之層比前述含有紫外線吸收劑之層更位於視覺辨識側。
本說明書中，前述所謂紫外線吸收劑係指在300~460nm之波長區域的吸收光譜中最大吸收波長存在於300~359nm之範圍內之化合物。又，所謂特定波長區域的吸收光譜中「最大吸收波長」意指該特定波長區域的分光吸收光譜中，存在複數吸收極大之情況，其中顯示最大吸光度之吸收極大波長。再者，各種化合物之吸收光譜係將該化合物溶解於氯仿中藉由分光光度計測定之吸收光譜。 (最大吸收波長之測定) 上述化合物之最大吸收波長可藉由例如使用島津製作所股份有限公司製紫外線可見光分光光度計UV-2450，測定色素化合物之氯仿中之吸收光譜而求出。 又，本發明中所謂「最大吸收波長」意指測定上述化合物之吸收光譜時所得之化合物的吸收光譜中，顯示最大且極大吸光度(吸收強度)之波長(nm)。
本發明之偏光板可為進而於前述相位差膜之與視覺辨識側相反側具備黏著劑層之形態。本發明之偏光板進而根據需要，在不損及本發明效果之範圍，亦可任意具有其他層。作為其他層，舉例為根據保護膜之材質而設於其單面或兩面之底塗層、分別設於保護膜與偏光器之間及相位差膜與偏光器之間的接著劑層等。
以下，針對本發明之構成要素邊參考圖式詳細說明。 圖1係顯示自視覺辨識側起依序具有硬塗層1、保護膜2、偏光器3及相位差膜4之本發明之偏光板10A之構成例的剖面圖。圖2係顯示自視覺辨識側起依序具有硬塗層1、保護膜2、偏光器3、相位差膜4及黏著劑層5之本發明之偏光板10B之構成例的剖面圖。
本發明之偏光板若使用例如偏光板10B為例加以說明，則如圖3之剖面圖所示之有機EL顯示裝置20，以於有機EL元件11之視覺辨識側之面配置黏著劑層5之方式設置使用。
以下主要以偏光板10A為例，針對本發明之偏光板加以說明，但本發明不限定於此。本發明中，偏光板10A係滿足以下之(1)~(3)之條件的構成。
(1)硬塗層1及保護膜2中之至少一者含有化合物(D)。
(2)保護膜2及相位差膜4中之至少一者含有紫外線吸收劑。
(3)上述(1)之含有化合物(D)之層比上述(2)之含有紫外線吸收劑層更位於視覺辨識側。
上述(1)~(3)全部滿足之偏光板10A若示於表I，則可例示構成1~構成5。表I中之「D」表示表I之左欄之層或膜含有化合物(D)，「UVA」表示表I之左欄之層或膜含有紫外線吸收劑。
Figure 02_image005
偏光板10A中，含有化合物(D)及紫外線吸收劑之層各設為1層，亦即構成1、構成2及構成3就光學特性之調整容易性及製造容易性之觀點係較佳。且，基於設置偏光板10A之基材或偏光器3之保護之觀點，較佳於硬塗層1含有化合物(D)，於保護膜2含有紫外線吸收劑之構成，亦即構成1及構成4，特佳為構成1。
[色素化合物：化合物(D)] 本發明使用之化合物(D)只要為在300~460nm之波長區域的吸收光譜中最大吸收波長存在於360~379nm之範圍內之化合物即可，其以外並未特別限定。以下，只要未特別指明，則各種化合物之最大吸收波長係指在300~460nm之波長區域的吸收光譜中之最大吸收波長。
化合物(D)之最大吸收波長更佳存在於370 ~379nm之波長區域。化合物(D)因具有上述吸光特性，而可保護顯示元件尤其是有機EL顯示元件免於受外光之影響而可抑制劣化。化合物(D)若為具有上述吸光特性則並未特別限定，較佳不具有如阻礙有機EL元件之顯示性般之螢光及燐光性能(光致發光)。
化合物(D)若具有上述吸光特性，則其構造等並未特別限定。作為化合物(D)可舉例為例如有機系化合物或無機系化合物。化合物(D)係含於硬塗層及/或保護膜，基於維持對於該等層或膜之成膜成分的基底聚合物等之樹脂成分的分散性與透明性之觀點，較佳為有機系化合物。
作為上述有機系化合物，可舉例為偶氮次甲基系化合物、吲哚系化合物、桂皮酸系化合物、嘧啶系化合物、次甲基系化合物、卟啉(porphyrin)系化合物、二氰基次甲基系化合物、苯并三唑系化合物等。
化合物(D)由於含於比含有紫外線吸收劑之層更於視覺辨識側之層，故較佳對於380nm以下之波長的光具有耐光性。作為此等化合物(D)舉例為例如具有以下述一般式(1)及(2)表示之構造之化合物(1)及化合物(2)。
Figure 02_image007
(式中，R11 表示氫原子、鹵原子、烷基、烷氧基、羥基、胺基、烷基取代之胺基、羧基、烷氧羰基、羥烷基、烷羰氧基烷基、羧烷基、烷氧羰基烷基、芳基、醯基或磺基；R12 表示氫原子或羥基)。
Figure 02_image009
(式中，R21 表示氫原子或羥基；R22 、R23 及R24 表示烷基、烷氧基、烷基取代之胺基、羧基、烷氧羰基、羥烷基、烷羰氧基烷基、羧烷基、烷氧羰基烷基、芳基、醯基或磺基)。
上述烷基、烷氧基、炔基及烷基取代之胺基中之烷基中的碳數例如較佳為1~20，更佳為1~10。上述烷基及烷氧基或烷基取代之胺基所具有之烷基可為直鏈狀、分支狀、環狀及該等組合之形態。芳氧基中之碳數舉例為5~30。芳氧基中之芳基亦可具有雜原子。且芳基所具有之芳香環可為單環亦可為縮合環。作為芳氧基舉例為苯氧基、萘氧基、2-甲基苯氧基等。 以下例示具有以一般式(1)及一般式(2)表示之構造的化合物，但不限定於此。
Figure 02_image011
Figure 02_image013
Figure 02_image015
本發明之具有以一般式(1)及一般式(2)表示之構造的化合物可藉由以往習知之方法合成。亦即，如下述所示之反應式，將硝基苯胺重氮化，藉由常用方法與芝麻酚偶合而獲得硝基苯基偶氮化合物予以還原，可獲得目的之苯并三唑衍生物。
Figure 02_image017
[6-(5-甲氧羰基-2H-苯并三唑-2-基)苯并[1,3]二氧呃( dioxole)-5-醇之合成]
Figure 02_image019
於300ml之4頸燒瓶安裝球形冷凝管、溫度計、攪拌裝置，並放入6-(5-羧基-2H-苯并三唑-2-基)苯并[1,3]二氧呃-5-醇1.1g(0.0037莫耳)、甲苯200ml、亞硫醯氯0.9g(0.0076莫耳)、N,N-二甲基甲醯胺0.2ml，於65~70℃攪拌3小時。餾除溶劑後，添加甲苯150ml、甲醇0.5g (0.0156莫耳)、吡啶0.8g(0.0101莫耳)，於70~75℃攪拌2小時。以溫水100ml洗淨2次，添加活性碳0.1g，回流攪拌脫色後於熱時過濾，濾液冷卻至5℃，將析出之結晶過濾，以甲苯洗淨後，於60℃乾燥，獲得0.5g化合物(1-8)。收率43%(自6-(5-羧基-2H-苯并三唑-2-基)苯并[1,3]二氧呃-5-醇算出)。最大吸收波長為377nm。
化合物(D)可單獨使用，或亦可組合2種以上使用。含有化合物(D)之層中之化合物(D)含量係以相對於各層中之成膜成分的樹脂成分之100質量份之化合物(D)的質量份表示。
例如，化合物(D)僅於硬塗層中含有之上述構成1、構成2及構成4時，相對於硬塗層之構成樹脂100質量份的化合物(D)含量較佳於0.01~50質量份之範圍內，更佳於0.02~30質量份之範圍內。
又，針對化合物(D)僅於保護膜含有之構成3之情況，相對於保護膜之構成樹脂100質量份的化合物(D)含量較佳於0.01~10質量份之範圍內，更佳於0.02~8質量份之範圍內。於硬塗層及保護膜兩者含有化合物(D)之上述構成5之情況，各層中之化合物(D)的合計含量，相對於各層之構成樹脂100質量份，較佳於0.01~10質量份之範圍內，更佳於0.02~8質量份之範圍內。
藉由使化合物(D)含量為上述範圍，於將本發明之偏光板用於有機EL顯示裝置之情況，可充分吸收對於有機EL元件之發光不影響之區域的光，可抑制有機EL元件之劣化故而較佳。
[紫外線吸收劑] 作為紫外線吸收劑若為最大吸收波長存在於300~ 359nm之波長區域則未特別限定。
作為紫外線吸收劑可舉例為例如三嗪系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等，該等可單獨使用1種或組合2種以上使用。
該等中，較佳為三嗪系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑，較佳為選自由1分子中具有2個以下羥基之三嗪系紫外線吸收劑及1分子中具有1個苯并三唑骨架之苯并三唑系紫外線吸收劑所成之群之至少一種紫外線吸收劑。該等紫外線吸收劑較佳為對含有該紫外線吸收劑之保護膜及/或相位差膜之成膜成分的基底聚合物等之樹脂成分的溶解性良好。再者，該等紫外線吸收劑由於在波長380nm附近之紫外線吸收能力高故而較佳。
作為1分子中具有2個以下羥基之三嗪系紫外線吸收劑具體舉例為2,4-雙-[{4-(4-乙基己氧基)-4-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪(Tinosorb S，BASF公司製)、2,4-雙-[2-羥基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪(TINUVIN 460，BASF公司製)、2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基)-5-羥基苯基與[(C10-C16(主要為C12-C13)烷氧基)甲基]環氧乙烷之反應生成物(TINUVIN 400，BASF公司製)、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基]-5-[3-(十二烷氧基)-2-羥基丙氧基]酚)、2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪與(2-乙基己基)-縮水甘油酸酯之反應生成物(TINUVIN 405，BASF公司製)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2-基)-5-[(己基)氧基]-酚(TINUVIN 1577，BASF公司製)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯基氧基)乙氧基]-酚(ADK STAB LA46，ADEKA(股)製)、2-(2-羥基-4-[1-辛氧羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三嗪(TINUVIN 479，BASF公司製)、6,6’,6”-(1,3,5-三嗪-2,4,6-三基)三(3-己氧基-2-甲基酚)(LA-F70，ADEKA(股)製)等。
又，作為1分子中具有1個苯并三唑骨架之苯并三唑系紫外線吸收劑舉例為2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)酚(TINUVIN 928，BASF公司製)、2-(2-羥基-5-第三丁基苯基)-2H-苯并三唑(TINUVIN PS，BASF公司製)、苯丙酸及3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥基(C7-9側鏈及直鏈烷基)之酯化合物(TINUVIN 384-2，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)酚(TINUVIN 900，BASF公司製)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯/聚乙二醇300之反應生成物(TINUVIN 1130，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-對-甲酚(TINUVIN P，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)酚(TINUVIN 234，BASF公司製)、2-[5-氯(2H)-苯并三唑-2-基)-4-甲基-6-(第三丁基)酚(TINUVIN 326，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-二-第三丁基酚(TINUVIN 328，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)酚(TINUVIN 329，BASF公司製)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯與聚乙二醇300之反應生成物(TINUVIN 213，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二烷基-4-甲基酚(TINUVIN 571，BASF公司製)、2-[2-羥基-3-(3,4,5,6-四羥基鄰苯二甲醯亞胺-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑(Sumisorb 250，住友化學工業(股)製)、2-(2-羥基-3-第三丁基-5-甲基苯基)-5-氯苯并三唑(SeeSorb 703，SHIPRO化成(股)製，或KEMISORB 73，SHIPRO化成(股)製)等。
又，作為上述二苯甲酮系紫外線吸收劑(二苯甲酮系化合物)、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑(氧基二苯甲酮系化合物)，可舉例為例如2,4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸(無水及三水鹽)、2-羥基-4-辛氧基二苯甲酮、4-十二烷氧基-2-羥基二苯甲酮、4-苄氧基-2-羥基二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羥基二苯甲酮、2,2’-二羥基-4,4-二甲氧基二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羥基二苯甲酮(SeeSorb 106，SHIPRO化成(股)製)、2,2’-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮(KEMISORB 111，SHIPRO化成(股)製)等。
又作為上述水楊酸酯系紫外線吸收劑(水楊酸酯系化合物)舉例為例如2-丙烯醯基氧基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯基氧基-3-甲基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯基氧基-4-甲基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯基氧基-5-甲基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯基氧基-3-甲氧基苯甲酸苯酯、2-羥基苯甲酸苯酯、2-羥基-3-甲基苯甲酸苯酯、2-羥基-4-甲基苯甲酸苯酯、2-羥基-5-甲基苯甲酸苯酯、2-羥基-3-甲氧基苯甲酸苯酯、3,5-二-第三丁基-4-羥基苯甲酸2,4-二-第三丁基-苯酯(TINUVIN 120，BASF公司製)等。
作為上述氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑(氰基丙烯酸酯系化合物)舉例為例如2-氰基丙烯酸烷酯、2-氰基丙烯酸環烷酯、2-氰基丙烯酸烷氧基烷酯、2-氰基丙烯酸烯基酯、2-氰基丙烯酸炔基酯等。
紫外線吸收劑可單獨使用，且亦可混合2種以上使用。含有紫外線吸收劑之層中之紫外線吸收劑含量，係以相對於各層中之成膜成分的樹脂成分100質量份的紫外線吸收劑之質量份表示。
例如紫外線吸收劑僅於保護膜中含有之上述構造1之情況，相對於保護膜之構成樹脂100質量份的紫外線吸收劑含量較佳於0.1~8質量份之範圍內，更佳於0.5~5質量份之範圍內。關於紫外線吸收劑僅於相位差膜含有之構成2、構成3及構成5之情況亦同樣，相對於相位差膜之構成樹脂100質量份的紫外線吸收劑含量較佳於上述同樣範圍內。於保護膜及相位差膜之兩者含有紫外線吸收劑之上述構成4之情況，各層之化合物(D)含量較佳為上述同樣範圍。
藉由紫外線吸收劑之含量為上述範圍，由於含紫外線吸收劑之層可充分發揮紫外線吸收機能故而較佳。因此，本發明之偏光板使用於有機EL顯示裝置時，上述含有化合物(D)之層與含有紫外線吸收劑層以保護有機EL元件免受外光影響之方式發揮機能，使有機EL顯示裝置於整個長期內保持品質。
以下針對構成偏光板10A之各層自視覺辨識側起依序說明。又，硬塗層1由於係於製作保護膜2後，形成於所得保護膜2上之層，故與保護膜2一起說明。
[保護膜] 保護膜2係用以保護偏光器3而設置之例如由熱塑性樹脂所構成之膜。保護膜2較佳由透明性、機械強度、熱安定性、水分阻斷性、等向性等優異之熱塑性樹脂材料所形成。
作為保護膜2之形成所用之熱塑性樹脂，舉例為例如纖維素酯樹脂、聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、丙烯腈･苯乙烯共聚物(AS樹脂)、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚碸樹脂、聚醚碸樹脂、聚烯烴樹脂、環烯烴樹脂、聚氯化乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚乙烯縮丁醛樹脂、環氧樹脂、降冰片烯樹脂、氟樹脂等。
熱塑性樹脂可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。保護膜2除了上述熱塑性樹脂以外，在不損及本實施形態之效果之範圍，亦可含有熱塑性彈性體、橡膠質聚合物、有機微粒子、無機微粒子等作為成膜成分。又，有機微粒子包含後述丙烯酸樹脂中說明之橡膠粒子。
保護膜2可對應於偏光板10A之上述構成1~5而含有化合物(D)或紫外線吸收劑，或該等之任一者均不含。保護膜2於含有化合物(D)或紫外線吸收劑時之該等添加劑之種類及含量如上述。保護膜2除了化合物(D)或紫外線吸收劑以外，在不損及本實施形態效果之範圍，亦可進而包含抗氧化劑、可塑劑、抗靜電劑、剝離劑、增黏劑等之其他添加劑。
保護膜2可為單層或2層以上之積層膜。保護膜2為積層膜且含有化合物(D)或紫外線吸收劑時，只要將作為保護膜2全體之該等添加劑含量如上述調整各層之添加量即可。又，保護膜2為積層膜時，各層之形成所用之熱塑性樹脂可為相同亦可不同。作為積層膜之製造方法可未特別限定地應用以往習知之方法。
作為保護膜2之形成所用之熱塑性樹脂，基於透明性及機械強度等之觀點，較佳為環烯烴樹脂、纖維素酯樹脂及丙烯酸樹脂。其中，特佳之熱塑性樹脂為環烯烴樹脂，其由於極性低而不易受水分影響，折射率不易隨波長而變化。
(環烯烴樹脂) 作為本發明所用之環烯烴樹脂舉例為具有以下述一般式(3)表示之構造的(共)聚合物。
Figure 02_image021
一般式(3)中，R1 ~R4 分別獨立為氫原子、烴基、鹵原子、羥基、酯基、烷氧基、氰基、醯胺基、醯亞胺基、矽烷基或經極性基(亦即鹵原子、羥基、酯基、烷氧基、氰基、醯胺基、醯亞胺基或矽烷基)取代之烴基。但R1 ~R4 亦可兩個以上相互鍵結形成不飽和鍵、單環或多環，該單環或多環亦可具有雙鍵，亦可形成芳香環。R1 與R2 、或R3 與R4 可形成亞烷基。p及m為0以上之整數。
一般式(3)中，R1 及R3 為氫原子或碳數1~10，更佳1~4，特佳1或2之烴基。R2 及R4 為氫原子或1價有機基，R2 及R4 之至少一者為氫原子及烴基以外之具有極性之極性基。m為0~3之整數，p為0~3之整數，更佳m+p=0~4，更佳為0~2，特佳m=1且p=0。m=1，p=0之特定單體就使所得之環烯烴樹脂之玻璃轉移溫度提高且機械強度亦優異之之方面而言較佳。
作為上述特定單體之極性基，舉例為羧基、羥基、烷氧羰基、烯丙氧羰基、胺基、醯胺基、氰基等，該等極性基可經由亞甲基等之連結基鍵結。且，以羰基、醚基、矽烷醚基、硫醚基、亞胺基等之具有極性之2價有機基作為連結基而鍵結之烴基等亦被舉例為極性基。該等中，較佳為羧基、羥基、烷氧羰基或烯丙氧羰基，特佳為烷氧羰基或烯丙氧羰基。
再者，R2 及R4 之至少一者係以式 -(CH2 )n COOR表示之極性基的單體就所得之環烯烴樹脂成為具有高玻璃轉移溫度與低吸濕性、與各種材料之優異密著性者之方面係較佳。上述特定極性基之該式中，R為碳原子數1~12，更佳1~4，特佳1~2之烴基，較佳為烷基。
作為共聚合性單體之具體例可舉例為環丁烯、環戊烯、環庚烯、環辛烯、二環戊二烯等之環烯烴。作為環烯烴之碳數，較佳為4~20之範圍內，更佳為5~12。
本實施形態中，環烯烴樹脂可為單獨1種，或可併用2種以上。
本實施形態之環烯烴樹脂之較佳分子量，係固有黏度[η]inh為0.2~5dL/g，較佳為0.3~3dL/g，特佳為0.4~1.5dL/g，以凝膠滲透層析儀(GPC)測定之聚苯乙烯換算之數平均分子量(Mn)為8000~100000，較佳為10000~ 80000，特佳為12000~50000，重量平均分子量(Mw為20000~300000，又更佳為30000~250000，特佳為40000~ 200000之範圍者。
藉由使固有黏度[η]inh、數平均分子量及重量平均分子量落於上述範圍，可使環烯烴樹脂之耐熱性、耐水性、耐藥品性、機械特性與作為本實施形態之環烯烴膜之成形加工性良好。
作為本實施形態之環烯烴樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)，通常為110℃以上，較佳為110~350℃，更佳為120~250℃，特佳為120~220℃之範圍內。Tg為110℃以上時，由於不易因於高溫下使用或因塗佈、印刷等之二次加工而引起變形故而較佳。另一方面，藉由Tg設為350℃以下，可避免成形加工變困難之情況，可抑制因成形加工時之熱而使樹脂劣化之可能性。
又，作為環烯烴樹脂可較佳地使用市售品。市售品例如獲自JSR(股)之以Arton(註冊商標)G(G7810等)、Arton F、Arton R及Arton RX之商品名銷售，且獲自日本ZEON(股)之以Zeonor(註冊商標)ZF14、ZF16、Zeonex(註冊商標)250或Zeonex 280之商品名銷售者，可使用該等。
(纖維素酯樹脂) 作為本發明所用之纖維素酯樹脂舉例為例如三乙醯纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。且，亦可與纖維素酯樹脂一起併用聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等之聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚乙烯、聚丙烯等之聚烯烴樹脂、降冰片烯樹脂、氟樹脂、環烯烴樹脂等。
作為纖維素酯樹脂製之膜(纖維素酯膜)之市售品，舉例為例如KONICA MINOLTA TAC KC8UX、KC4UX、KC8UY、KC4UY、KC6UA、KC4UA、KC2UA、KC4UE及KC4UZ、KC4CT1、KC2CT1 (以上為KONICA MINOLTA(股)製)。纖維素酯膜之折射率較佳為1.45~ 1.55。折射率可依據JISK7142-2008測定。
本發明之保護膜所用之纖維素酯較佳為碳數2~22左右之羧酸酯，亦可為芳香族羧酸之酯，較佳為纖維素之低級脂肪酸酯。此處，纖維素之低級脂肪酸酯中之「低級脂肪酸」意指碳原子數為6以下之脂肪酸。
又，構成纖維素酯之與葡萄糖單位之羥基鍵結之醯基可為直鏈烴基，亦可為分支烴基，亦可為環狀構造之烴基，亦可對於醯基取代其他取代基。纖維素酯之與羥基鍵結之取代基之取代度相同時，低級脂肪酸之碳數若超過7，則由於雙折射性降低，故構成纖維素酯之與葡萄糖單位之羥基鍵結之醯基的碳數較佳為2~6，該碳數更佳為2~4，又更佳為2~3。
本發明中，纖維素酯亦可使用源自混合酸之醯基，較佳可使用碳數2及3之醯基，或碳數2及4之醯基。作為此等纖維素酯之具體例，可使用纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯或纖維素乙酸酯丙酸酯丁酸酯等之除了乙醯基以外鍵結有丙酸酯基或丁酸酯基之纖維素之混合脂肪酸酯。又，形成丁酸酯之丁醯基可為直鏈狀，亦可為分支狀。纖維素酯較佳為纖維素乙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯、纖維素乙酸酯丙酸酯或纖維素乙酸酯苯二甲酸酯。
上述保護膜2之延遲值可藉由纖維素酯所含之醯基種類與醯基對於纖維素樹脂骨架之吡喃糖環之取代度等而適當控制。
構成保護膜2所用之纖維素酯之鍵結於葡萄糖單位之羥基之取代基較佳同時滿足下述式(4)及式(5)。
式(4)：2.0≦X+Y≦3.0 式(5)：0≦Y≦2.0 上述式(4)中，X為乙醯基之取代度，式(4)及式(5)中，Y為丙醯基或丁醯基之取代度。藉由滿足上述2式，可製造顯示優異光學特性之保護膜2。上述纖維素酯中，較佳使用三乙醯纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯。纖維素乙酸酯丙酸酯較佳乙醯基之取代度X為1.0≦X≦2.5，且0.1≦Y≦1.5，2.0≦X+Y≦3.0。
醯基取代度之測定方法可依據ASTM-D817-96測定。醯基之取代度過低時，構成纖維素樹脂之骨架的對於吡喃環之羥基未反應部分變多，該羥基殘存較多。因此，由於保護膜2之延遲值會隨濕度而變化故而欠佳，由於作為偏光板保護膜而保護偏光器之能力降低故而欠佳。
上述纖維素酯之數平均分子量較佳為60000~ 300000，更佳為70000~200000。藉由使用此等數平均分子量之纖維素酯，可提高保護膜2之機械強度。該纖維素酯之數平均分子量係採用以高速液體層析儀以下述條件測定之值。
溶劑：丙酮 管柱：MPW×1(TOSOH股份有限公司製) 試料濃度：0.2(質量/容量)% 流量：1.0mL/min 試料注入量：300μL 標準試料：標準聚苯乙烯 溫度：23℃
成為纖維素酯之原料的纖維素並未特別限定，但可舉例為棉花短絨、木材紙漿、大麻槿等。又由該等材料所得之纖維素酯各可以任意比例混合使用。
作為上述纖維素原料的醯化劑使用乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐等之酸酐時，藉由乙酸之有機酸或二氯甲烷等之溶劑與硫酸等之質子性觸媒進行反應。作為醯化劑使用醯鹵化物(CH3 COCl、C2 H5 COCl、C3 H7 COCl)時，使用胺等之鹼性化合物作為觸媒。纖維素原料之醯化可藉由日本特開平10-45804號公報中記載之方法合成。
上述纖維素酯中，較好葡萄糖單位之6位之醯基之平均取代度為0.5~0.9之範圍內。於構成纖維素酯之葡萄糖單位之6位之羥基，存在有與2位及3位之羥基相比反應性較高的一級羥基。該一級羥基於以硫酸為觸媒之纖維素酯之製造過程中優先形成硫酸酯。因此，於纖維素之酯化反應中，藉由增加觸媒的硫酸之添加量，而與通常之纖維素酯相比，可獲得葡萄糖之2位及3位之羥基的平均取代度較高之纖維素酯。
又，為了提高2位及3位之羥基之平均取代度，亦可根據需要使纖維素酯三苯甲基化。藉由使構成纖維素酯之葡萄糖單位之6位的羥基三苯甲基化而選擇性予以保護，而可使葡萄糖單位之2位及3位之羥基集中酯化。因此葡萄糖單位之2位及3位之羥基被酯化後，藉由使保護葡萄糖之6位之羥基的三苯甲基(保護基)脫離，可將葡萄糖之2位及3位之羥基之平均取代度比6位之羥基更提高。作為此等酯化之方法可較佳地使用以日本特開 2005-281645號公報記載之方法製造之纖維素酯。
使用乙醯纖維素作為纖維素酯時，為了提高乙醯纖維素之醋化率，則必須延長醋化反應之時間。但，醋化反應之反應時間若拉長，由於引起纖維素鏈之切斷及乙醯基之分解等，故而欠佳。因此，為了提高乙醯纖維素之醋化度並抑制纖維素酯之分解，較佳將醋化反應之反應時間設定在特定範圍內。然而由於反應時間之較佳數值範圍係隨反應裝置、反應設備、其他反應條件等而最適反應時間大幅變化，故難以一概決定。
因此較佳替代上述反應時間，而使用反應程度之一指標的重量平均分子量(Mw)/數平均分子量(Mn)之值。纖維素酯與通常之聚合物分解同樣隨著分解進行分子量分佈變廣，故藉由重量平均分子量(Mw)/數平均分子量(Mn)之值可掌握纖維素酯之分解程度。例如藉由重量平均分子量(Mw)/數平均分子量(Mn)之值而特定反應程度，於使纖維素三乙酸酯醋化之過程，可防止醋化之時間過於拉長，防止纖維素三乙酸酯之分解過於進行，且可確保使醋化充分之反應時間。纖維素酯之Mw/Mn比較佳為1.4~ 5.0。
若於以下顯示纖維素酯之製造方法之一例，則將作為纖維素原料之綿化短絨100質量份解碎，添加40質量份之乙酸，於36℃施以20分鐘前處理活化。隨後，添加8質量份硫酸、260質量份乙酸酐、350質量份乙酸，於36℃進行酯化120分鐘。以24%乙酸鎂水溶液11質量份中和後，於63℃進行35分鐘之皂化熟成，獲得乙醯纖維素。該乙醯纖維素使用10倍之乙酸水溶液(乙酸：水=1:1(質量比))於室溫攪拌160分鐘後，過濾並乾燥，獲得乙醯基取代度為2.75之純化乙醯纖維素。該乙醯纖維素係Mn為92000，Mw為156000，Mw/Mn為1.7。同樣，藉由調整纖維素酯之酯化條件(例如溫度、時間、攪拌)、水解條件，而可合成取代度、Mw/Mn比不同之纖維素酯。
以上述方法合成之纖維素酯較佳經純化而去除低分子量成分，較佳藉由過濾濾除未醋化或低醋化度成分。且，上述纖維素酯為混酸纖維素酯之情況，可藉由日本特開平10-45804號公報中記載之方法獲得。
且纖維素酯較佳不含鐵(Fe)、鈣(Ca)、鎂(Mg)等之金屬。係因為該等金屬離子因與包含有機酸性基之聚合物分解物等形成鹽而形成不溶性核之故。該等微量金屬認為係源自製造步驟中使用之水而含於纖維素酯中。
上述纖維素酯所含之鐵較佳為1ppm以下。纖維素酯所含之鈣較佳為60ppm以下，更佳為0~30ppm。鈣會與羧酸或磺酸等酸性成分形成錯合物且與多數配位體形成錯合物。因該等錯合物而形成源自不溶鈣之膠渣(不溶性之沉澱、混濁)。纖維素酯所含之鎂較佳為0~70 ppm，更佳為0~200ppm。藉由使鎂為70ppm以下，可抑制不溶分生成。
上述金屬之含量可藉由將經絕對乾燥之纖維素酯以微消化濕式分解裝置進行硫硝酸分解後，以鹼熔融進行前處理，使用ICP-AES(感應耦合電漿發光分光分析裝置)分析該前處理後之纖維素酯而特定出。
((甲基)丙烯酸樹脂) 丙烯酸樹脂係由選自(甲基)丙烯酸及其衍生物之單體(共)聚合而得之(共)聚合物所成之樹脂。(共)聚合物中之源自單體之單位稱為「構造單位」。
又，本實施形態中，所謂「(甲基)丙烯酸」表示「丙烯酸」及「甲基丙烯酸」兩者，所謂「(甲基)丙烯酸酯」表示「丙烯酸酯」及「甲基丙烯酸酯」兩者，所謂「(甲基)丙烯醯基」表示「丙烯醯基」及「甲基丙烯醯基」兩者。例如「胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯」表示「胺基甲酸酯丙烯酸酯」及「胺基甲酸酯甲基丙烯酸酯」兩者。
保護膜2所用之丙烯酸樹脂係對應於所要求之物性選擇單體種類或組合、單體組成。以下基於將保護膜之平衡含水率調整於特定範圍內並且改善脆度之觀點等，以經分子設計之丙烯酸樹脂為例說明丙烯酸樹脂，但本發明所用之丙烯酸樹脂並非限定於此。丙烯酸樹脂較佳包含例如源自甲基丙烯酸甲酯之構造單位(U1)、源自苯基馬來醯亞胺之構造單位(U2)與源自丙烯酸烷酯之構造單位(U3)。
源自甲基丙烯酸甲酯之構造單位(U1)之含量，相對於構成丙烯酸樹脂之全部構造單位，較佳為50~95質量%，更佳為70~90質量%。
源自苯基馬來醯亞胺之構造單位(U2)，由於具有適度極性故提高與水分之親和性。且源自苯基馬來醯亞胺之構造單位(U2)由於具有體積大的構造，故具有使水分於樹脂基質中移動之微空隙。藉此，可提高保護膜之水分移動性或排出性。
源自苯基馬來醯亞胺之構造單位(U2)之含量，相對於構成丙烯酸樹脂之全部構造單位，較佳為1~25質量%。源自苯基馬來醯亞胺之構造單位(U2)之含量若為1質量%以上，則由於具有適度極性，不僅容易提高與水分子之親和，亦由於充分具有水分子可移動之微空隙，故容易提高平衡含水率。源自苯基馬來醯亞胺之構造單位(U2)之含量若為25質量%以下，則不易損及保護膜2之脆性。源自苯基馬來醯亞胺之構造單位(U2)之含量，基於上述觀點，更佳為7~15質量%。
源自丙烯酸烷酯之構造單位(U3)由於與例如後述之構成殼部之聚合物為包含源自丙烯酸丁酯之構造單位的橡膠粒子具有良好親和性，故提高橡膠粒子之分散性。
丙烯酸烷酯較佳烷基部分之碳原子數為1~7，較佳為1~5之丙烯酸烷酯。丙烯酸烷酯之例包含丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯等。
源自丙烯酸烷酯之構造單位(U3)之含量，相對於構成丙烯酸樹脂之全部構造單位，較佳為1~25質量%。源自丙烯酸烷酯之構造單位(U3)之含量若為1質量%以上，則由於對丙烯酸樹脂賦予適度柔軟性，膜不會變過脆，不易斷裂。源自丙烯酸烷酯之構造單位(U3)之含量若為25質量%以下，則由於丙烯酸樹脂之Tg不會過低，故不僅不易損及保護膜2之耐熱性，亦不損及機械強度。源自丙烯酸烷酯之構造單位之含量，基於上述觀點，更佳為5~15質量%。
源自苯基馬來醯亞胺之構造單位(U2)相對於源自苯基馬來醯亞胺之構造單位(U2)與源自丙烯酸烷酯之構造單位(U3)之合計量之比率較佳為20~70質量%。該比率若為20質量%以上，則容易提高保護膜2之耐熱性，若為70質量%以下，則保護膜2不會變過脆。
丙烯酸樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為110℃以上，更佳為120~150℃。丙烯酸樹脂之Tg若為上述範圍內，則容易提高保護膜2之耐熱性。為了調整丙烯酸樹脂之Tg，較佳調整源自苯基馬來醯亞胺之構造單位(U2)或源自丙烯酸烷酯之構造單位(U3)之含量。
丙烯酸樹脂之重量平均分子量較佳為50萬以上。丙烯酸樹脂之重量平均分子量若為50萬以上，則溶液澆鑄所用之濃液黏度不會過低，故不僅可抑制橡膠粒子凝集，亦可抑制保護膜2之表面平坦性降低。再者，丙烯酸樹脂之重量平均分子量若為50萬以上，則可對保護膜2賦予充分之機械強度(韌性)。丙烯酸樹脂之重量平均分子量，基於上述觀點，更佳為50萬~300萬，又更佳為60萬~200萬。重量平均分子量可藉與前述同樣方法測定。
丙烯酸樹脂之含量，相對於保護膜2，較佳為60質量%以上，更佳為70質量%以上。
保護膜2係以丙烯酸樹脂為主體而構成時，亦可含有具有對保護膜2賦予韌性(柔韌性)之機能的橡膠粒子。橡膠粒子為包含橡膠狀聚合物之粒子。橡膠狀聚合物係玻璃轉移溫度為20℃以下之軟質交聯聚合物。如此之交聯聚合物之例，包含丁二烯系交聯聚合物、(甲基)丙烯酸系交聯聚合物及有機矽氧烷系交聯聚合物。其中，基於使與丙烯酸樹脂之折射率差較小，不易損及保護膜2之透明性之觀點，較佳為(甲基)丙烯酸系交聯聚合物，更佳為丙烯酸系交聯聚合物(丙烯酸系橡膠狀聚合物)。
橡膠粒子較佳為包含丙烯酸系橡膠狀聚合物之粒子。丙烯酸系橡膠狀聚合物係包含源自丙烯酸酯之構造單位作為主成分之交聯聚合物。所謂包含作為主成分，係指源自丙烯酸酯之構造單位含量為40質量%以上。丙烯酸系橡膠狀聚合物較佳為包含源自丙烯酸酯之構造單位，源自可與其共聚合之其他單體之構造單位及源自1分子中具有2個以上自由基聚合性基(非共軛反應性雙鍵)之多官能性單體之構造單位的交聯聚合物。
橡膠狀聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為0℃以下，更佳為-10℃以下。橡膠狀聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)若為0℃以下，則對膜賦予適度韌性。橡膠狀聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)可藉與前述同樣方法測定。
包含丙烯酸系橡膠狀聚合物之粒子亦可為具有包含丙烯酸系橡膠狀聚合物之核部與包覆其之殼部之核殼型粒子。殼部較佳包含以含有接枝鍵結至丙烯酸系橡膠狀聚合物之源自甲基丙烯酸酯之構造單位作為主成分之甲基丙烯酸系聚合物。
橡膠粒子之平均粒徑可藉由ζ電位･粒徑測定系統(大塚電子股份有限公司製ELSZ-2000ZS)測定分散液中之橡膠粒子之分散粒徑而求出。橡膠粒子之平均粒徑較佳為100~300nm之範圍內。橡膠粒子之含量並未特別限定，但相對於保護膜2較佳為5~25質量%，更佳為5~15質量%。
(保護膜之製造) 保護膜2可藉由熔融澆鑄法、溶液澆鑄法、軋光成形法等之習知成形方法製造。較佳使用熔融澆鑄法、溶液澆鑄法，特佳為溶液澆鑄法。
保護膜2以溶液澆鑄法製造時，具體而言，使用包含以下(1)~(3)之步驟之製造方法。再者，該製造方法較佳具有(4)之步驟。 (1)獲得濃液之步驟，該濃液包含含有熱塑性樹脂之成膜成分、根據偏光板10A之構成而根據需要添加之化合物(D)或紫外線吸收劑及任意之添加劑及溶劑 (2)將所得濃液澆鑄於支撐體後，乾燥及剝離，獲得膜狀物之步驟 (3)將所得膜狀物根據需要邊延伸邊乾燥之步驟 (4)捲取所得保護膜獲得捲筒體之步驟。
關於(1)之步驟 將含有熱塑性樹脂之成膜成分、根據偏光板10A之構成而根據需要添加之化合物(D)或紫外線吸收劑及任意之添加劑溶解或分散於溶劑，調製濃液。
濃液所用之溶劑至少包含可溶解熱塑性樹脂之有機溶劑(良溶劑)。含有化合物(D)或紫外線吸收劑之情況，有機溶劑較佳對於該等添加劑之溶解性高。良溶劑之例包含二氯甲烷等之氯系有機溶劑或；乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酮、四氫呋喃等之非氯系有機溶劑。其中較佳為二氯甲烷。
濃液所用之溶劑亦可進而含有弱溶劑。弱溶劑之例包含碳原子數1~4之直鏈或分支鏈狀之脂肪族醇。若濃液中之醇比率變高，則膜狀物容易凝膠化，自金屬支撐體之剝離易變容易。作為碳原子數1~4之直鏈或分支鏈狀之脂肪族醇可舉例為甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇。該等中，基於濃液之安定性、沸點亦較低、乾燥性亦佳等，較佳為乙醇。
關於(2)之步驟 將所得濃液澆鑄於支撐體上。濃液之澆鑄可從澆鑄模嘴噴出而進行。
接著，將澆鑄至支撐體上之濃液中之溶劑蒸發、乾燥。從支撐體剝離乾燥後之濃液，獲得膜狀物。
自支撐體剝離時之濃液之殘留溶劑量(剝離時之膜狀物之殘留溶劑量)，例如較佳為20質量%以上，更佳為20~30質量%。若剝離時之殘留溶劑量為30質量%以下，則容易抑制剝離所致之膜狀物過度拉伸。
剝離時之濃液之殘留溶劑量由下述式定義。以下亦同。
濃液之殘留溶劑量(質量%)=(濃液加熱處理前之質量-濃液加熱處理後之質量)/濃液加熱處理後之質量×100 且，測定殘留溶劑量時之加熱處理意指140℃30分鐘之加熱處理。
剝離時之殘留溶劑量可藉由於支撐體上之濃液之乾燥溫度或乾燥時間、支撐體之溫度等調整。
關於(3)之步驟 使所得之膜狀物乾燥。乾燥可一階段進行，亦可多階段進行。又，乾燥亦可根據需要邊延伸邊進行。
例如，膜狀物之乾燥步驟亦包含將膜狀物預備乾燥之步驟(預備乾燥步驟)、使膜狀物延伸之步驟(延伸步驟)、及使延伸後之膜狀物乾燥之步驟(正式乾燥步驟)。
(預備乾燥步驟) 預備乾燥溫度(延伸前之乾燥溫度)係較延伸溫度高之溫度。具體而言，於將熱塑性樹脂之玻璃轉移溫度設為Tg時，較佳為(Tg-50)~(Tg+50)℃。若預備乾燥溫度為(Tg-50)℃以上，則因溶劑容易適度揮發，故容易提高搬送性(操作性)，若為(Tg+50)℃以下，則因溶劑不會過度揮發，不易損及其後延伸步驟之延伸性。初期乾燥溫度於藉由(a)邊以拉幅延伸機或滾筒搬送邊藉由非接觸加熱型乾燥時，係作為延伸機內溫度或熱風溫度等之環境溫度而測定。
(延伸步驟) 延伸只要根據所要求之光學特性例如延遲值進行即可，較佳為於至少一方向延伸，亦可朝相互正交之二方向延伸(例如，膜狀物之寬度方向(TD方向)及與其正交之搬送方向(MD方向)之雙軸延伸)。
製造保護膜2時之延伸倍率較佳為5~100%，更佳為20~100%。雙軸延伸之情況，於各方向之延伸倍率較佳分別於上述範圍內。
延伸倍率(%)係定義為(延伸後之薄膜之延伸方向大小-延伸前之薄膜之延伸方向大小)/(延伸前之薄膜之延伸方向大小)×100。且進行雙軸延伸時，關於TD方向及MD方向各者，較佳設為上述延伸倍率。
延伸溫度(延伸時之乾燥溫度)與前述同樣，將熱塑性樹脂之玻璃轉移溫度設為Tg時，較佳為Tg(℃)以上，更佳為(Tg+10)~(Tg+50)℃。延伸溫度若為Tg(℃)以上，較佳為(Tg+10)℃以上，則因容易使溶劑適度揮發，故容易將延伸張力調整於適當範圍，若為(Tg+50)℃以下，則由於溶劑不會過度揮發，故不易損及延伸性。保護膜2製造時之延伸溫度設為例如115℃以上。延伸溫度與前述相同，較佳係測定(a)延伸機內溫度等之環境溫度。
延伸開始時之膜狀物中之殘留溶劑量，較佳為與剝離時之膜狀物中之殘留溶劑量相同程度，例如較佳為20~30質量%，更佳為25~30質量%。
膜狀物之TD方向(寬度方向)之延伸，例如可以夾具及銷固定膜狀物之兩端，並朝行進方向擴展夾具及銷之間隔之方法(拉幅法)進行。膜狀物之MD方向之延伸，例如可使複數輥產生周速差，於其間利用輥之周速差之方法(輥法)進行。
(正式乾燥步驟) 基於更減低殘留溶劑量之觀點，較佳為使延伸後所得之膜狀物進一步乾燥。例如，較佳為以輥等邊運送延伸後所得之膜狀物邊乾燥。
正式乾燥溫度(未延伸時為乾燥溫度)，於將熱塑性樹脂之玻璃轉移溫度設為Tg時，較佳為(Tg-50)~ (Tg-30)℃，更佳為(Tg-40)~(Tg-30)℃。若後乾燥溫度為(Tg-50)℃以上，則溶劑容易自延伸後之膜狀物充分揮發去除，若為(Tg-30)℃以下，則可高度抑制膜狀物之變形等。正式乾燥溫度與前述相同，較佳為測定(a)熱風溫度等之環境溫度。
關於(4)之步驟 所得保護膜較佳為長條狀。長條狀之保護膜係捲取為捲筒狀，成為捲筒體。
長條狀保護膜之長度並未特別限定，但可為例如100~10000m左右。且保護膜之寬度較佳為1m以上，更佳為1.3~4m。
保護膜2之厚度係適當決定，但一般就強度或處理性等之作業性、薄膜性等之觀點較佳於1~500μm之範圍內。保護膜2之厚度更佳於5~50μm之範圍內，又更佳於15~45μm之範圍內。
偏光板10A於保護膜2之視覺辨識側具備硬塗層1，於保護膜2之與視覺辨識側相反側具有偏光器3。雖根據保護膜之主要構成材料的樹脂種類而定，但可於保護膜2之單面或雙面設置底塗層。尤其保護膜2以環烯烴樹脂作為主成分而形成時，較佳設置底塗層。尤其較佳於保護膜2之設置硬塗層1之側的面設置底塗層。
(底塗層) 作為構成底塗層之材料可使用可改善保護膜2與硬塗層1或偏光器3之密著性及接著性之任意材料。且作為材料之特性，較佳除了密著性･接著性以外，透明性、熱安定性等亦優異。作為此等材料，舉例為以聚胺基甲酸酯、聚烯烴、聚酯、聚偏二氯乙烯、丙烯酸系聚合物、改質矽氧系聚合物、苯乙烯丁二烯橡膠、碳二醯亞胺化合物、異氰酸酯等構成之樹脂。
上述底塗層亦可根據需要含有任意添加劑。作為添加劑之具體例，舉例為調平劑、聚合起始劑、聚合促進劑、黏度調整劑、滑劑、分散劑、可塑劑、熱安定劑、光安定劑、滑材、抗氧化劑、難燃劑、著色劑、抗靜電劑、相溶化劑、交聯劑等。所使用之添加劑的種類及量，可根據目的適當設定。例如添加劑之使用量，相對於底塗層中之全部固形分100質量份，較佳為30質量份以下，更佳為20質量份以下。
作為構成上述底塗層之材料，於上述樹脂中，較佳使用以聚胺基甲酸酯為主成分者。作為聚胺基甲酸酯之例，舉例為DIC(股)製商品名「HYDRUN系列」AP-201、AP-40F、HW-140SF、WLS-202、第一工業製造(股)製商品名「SUPERFLEX系列」SF-210、SF460、SF870、SF420、SF-420NS、三井化學(股)製商品名「TAKELAC系列」W-615、W6010、W-6020、W-6061、W-405、W-5030、W-5661、W-512A-6、W-635、WPB-6601、WS-6021、WS-5000、WS-5100、WS-4000、WSA-5920、WF-764、ADEKA(股)製開發品「SPX-0882」等。又，於側鏈具有羧基之聚胺基甲酸酯等之樹脂藉由以異氰酸酯或噁唑啉、碳二醯亞胺等交聯劑予以交聯，可實現底塗層之強度提高。
作為構成上述底塗層之材料而可使用之聚烯烴之具體例，舉例為UNITIKA(股)製商品名 「ARROWBASE系列」SB-1200、SF-1010、SE-1013N、SE-1030N、SD-1010、TC-4010、TD-4010、東邦化學(股)製「HITEC系列」S3148、S3121、S8512、P-5060N、P-9018、三井化學(股)製商品名「UNISTOLE系列」S-120、S-75N、V100、H-200、H-300、EV210H、三井化學(股)製商品名「CHEMIPEARL系列」XHP-400、住友精化(股)製商品名「ZAIKTHENE系列」ZAIKTHENE A、ZAIKTHENE L、東洋紡(股)製商品名「HARDLEN系列」NZ-1004、NZ-1005、NZ-1022等。
作為構成上述底塗層之材料而可使用之丙烯酸聚合物之具體例，舉例為日本觸媒(股)製商品名「EPOCLOTH WS系列」WS-700、新中村化學(股)製商品名「NEW COAT系列」開發品CP-0101等。
作為構成上述底塗層之材料而可使用之改質矽氧系聚合物之具體例，舉例為DIC(股)製商品名「CERANATE系列」WSA1060、WSA1070、旭化成化學(股)製H7620、H7630、H7650等。
作為構成上述底塗層之材料而可使用之聚酯之具體例，舉例為東洋紡(股)製商品名「VYLON系列」MD1400、MD1480、MD1245、MD1500、互應化學工業(股)製商品名「PLASCOAT系列」Z-221、Z-561、Z-730、RZ-142、Z-687等。
作為構成上述底塗層之材料而可使用之苯乙烯丁二烯橡膠之具體例，舉例為日本ZEON(股)製NIPOL LX415、NIPOL LX407、NIPOL V1004、NIPOL MH8101、SX1105等。
作為構成上述底塗層之材料而可使用之聚偏二氯乙烯之具體例，舉例為旭化成(股)製商品名「SARAN LATEX系列」L509等。
作為構成上述底塗層之材料而可使用之碳二醯亞胺化合物之具體例，舉例為日清紡化學(股)製商品名「CARBODILITE系列」V-02、V-02-L2、SV-02、V-04、E-02等。
作為構成上述底塗層之材料而可使用之異氰酸酯化合物可使用1分子中含有2個以上異氰酸酯基之各種化合物。可舉例為例如六亞甲基二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等。又亦可為異氰酸酯經封端劑遮蔽加工者。
上述底塗層中亦可使用用以賦予抗黏連性之任意適當微粒子。作為微粒子之具體例，日本觸媒(股)製「SEAHOSTAR系列」KE-P20、KE-P30、開發品KE-W20、「EPOSTAR系列」MX100W等。微粒子之粒徑較佳為50~500nm，更佳為100~300nm。若為上述範圍，則可兼具底塗層之透明性與抗黏連性。
上述底塗層之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為-40 ~+130℃，更佳為-30~+50℃，特佳為0~+20℃。又，玻璃轉移溫度可藉由讀取動態黏彈性測定之損失正切(tanδ)之極大值而測定。
作為上述底塗層之厚度可採用任意厚度。底塗層厚度較佳為10~1000nm，更佳為20~500nm，最佳為50~400nm。
上述底塗層係藉由例如將以特定比例含有上述聚胺基甲酸酯等之熱塑性樹脂之塗佈液塗佈於保護膜2表面並乾燥而形成。作為上述塗佈液之調整方法，可採用任意適當方法。例如可使用市售溶液或分散液，亦可於市售溶液或分散液中添加溶劑而使用，亦可將固形分溶解或分散於各種溶劑中而使用。
塗佈液之塗佈方法可使用任意方法。例如可使用利用凹版模嘴或塗佈器之塗佈方式。又，底塗層亦可根據需要形成於保護膜2之僅單面，亦可形成於兩面。
於保護膜2塗佈上述底塗層時，作為用以提高濡濕性之預備處理，可實施保護膜表面之溶劑改質、電暈處理、電漿處理。
上述塗佈液之全部固形分濃度可根據底塗層形成材料之種類、溶解性、塗佈黏度、濡濕性、塗佈後之厚度等而變化。為了獲得表面均一性之底塗層，全部固形分濃度相對於溶劑100質量份，較佳固形分為1~100質量份，更佳為1~50質量份。
作為上述塗佈液之黏度，於可塗佈之範圍可採用任意適當黏度。作為該黏度，於23℃下以剪切速度1000(l/s)測定之值較佳為1~50(mPa･sec)，更佳為2~10 (mPa･sec)。若為上述範圍，則可形成表面均一性優異之底塗層。
積層有上述底塗層之保護膜2根據需要亦可以任意倍率進行延伸。延伸方向相對於搬送方向可為水平方向、垂直方向、斜向方向之單軸方向之任一者，亦可為雙軸方向。又，保護膜2之延伸可根據需要於底塗層塗佈前、底塗層塗佈後等進行，亦可於底塗層塗佈前與底塗層塗佈後各延伸1次以上。延伸條件如上述。
[硬塗層] 偏光板10A具有硬塗層1作為視覺辨識側之最表層。藉由具有硬塗層1，可提高偏光板10A之耐衝擊性或處理容易性等。硬塗層1係對應於偏光板10A之上述構成1~5而適當含有化合物(D)。硬塗層1中含有化合物(D)時之化合物(D)之種類及含量如上述。
硬塗層1之以JISK5600-2014規定之鉛筆硬度試驗較佳顯示「HB」以上之硬度，為了獲得該硬度較佳含有活性線硬化性樹脂之硬化物。作為活性線硬化性樹脂可較佳地使用包含具有乙烯性不飽和雙鍵之單體的成分。作為活性線硬化性樹脂，舉例為紫外線硬化性樹脂或電子束硬化性樹脂，但藉由紫外線照射而硬化之樹脂由於機械性膜強度(耐擦傷性、鉛筆硬度)優異之方面係較佳。
作為活性線硬化性樹脂較佳使用丙烯酸系材料。作為丙烯酸系材料，可使用如多元醇之(甲基)丙烯酸酯般之單官能或多官能之(甲基)丙烯酸酯化合物、如由二異氰酸酯與多元醇及(甲基)丙烯酸之羥基酯等合成之多官能胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。且，除該等以外，可使用具有丙烯酸酯系之官能基之聚醚樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂等。
尤其，較佳使用紫外線硬化型丙烯酸酯系樹脂、紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、紫外線硬化型聚酯丙烯酸酯系樹脂、紫外線硬化型環氧丙烯酸酯系樹脂、紫外線硬化型多元醇丙烯酸酯系樹脂或紫外線硬化型環氧樹脂等，其中，較佳為紫外線硬化型丙烯酸酯系樹脂。
硬塗層1係使用例如含有活性線硬化性樹脂、聚合起始劑、硬塗層1含有化合物(D)時之化合物(D)、與溶劑之硬塗層形成用組成物而形成。作為硬塗層形成用組成物所含之溶劑，較佳為可使保護膜2溶解或膨潤或於保護膜2具有底塗層時可使底塗層溶解或膨潤之溶劑。藉由溶劑使保護膜2或底塗層溶解或膨潤，容易使硬塗層形成用組成物自保護膜2或底塗層之表面浸透至內部，可提高保護膜2或底塗層與硬塗層1之密著性。
又，於保護膜2或底塗層之表層附近，形成保護膜2或底塗層之樹脂成分與硬塗層之樹脂成分混合存在之層，藉由該層之作用，可使保護膜2或底塗層與硬塗層之折射率成為梯度，可防止干涉不均之產生。
或對應於提高硬塗層之硬度、抑制硬化收縮、防止黏連、抑制折射率、賦予防眩性、控制硬塗層表面之性質等之目的，亦可於硬塗層形成用組成物中添加以往習知之微粒子、分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、增黏劑、著色防止劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、調平劑、難燃劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改質劑等。又，上述硬塗層形成用組成物亦可包含光增感劑，作為其具體例舉例為正丁胺、三乙胺、聚-正丁基膦等。
尤其硬塗層較佳含有微粒子。微粒子含量較佳為微粒子：活性線硬化性樹脂=100:100~400:100。藉由以此等含量含有微粒子，可減低硬塗層之尺寸變動。此處之微粒子並未特別限定，較佳為由金屬氧化物構成之微粒子(以下亦記載為「金屬氧化物粒子」)。作為此處之金屬氧化物舉例為氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、五氧化二銻等。該等中，金屬氧化物粒子較佳以氧化矽構成。氧化矽微粒子亦可為於內部形成空洞之中空粒子。
上述微粒子較佳藉由聚合物矽烷偶合劑被覆。藉由微粒子表面以聚合物矽烷偶合劑被覆，可使微粒子於硬塗層形成用組成物中均一分散。以聚合物矽烷偶合劑被覆之微粒子之平均粒徑較佳為5~500nm，更佳為10~200nm。藉由使用此等平均粒徑之微粒子，可提高硬塗層之光學特性。
上述聚合物矽烷偶合劑係藉由使聚合性單體與矽烷偶合劑(反應性矽烷化合物)反應而調製。作為聚合性單體舉例為具有乙烯性不飽和雙鍵之單體，較佳選自(甲基)丙烯酸及其衍生物之單體。作為反應性矽烷化合物較佳為於矽原子鍵結3個烷氧基與1個官能基之水解性矽烷化合物。作為鍵結於矽原子之官能基舉例為具有選自(甲基)丙烯醯氧基、環氧基(縮水甘油基)、胺基甲酸酯基、胺基、氟基、巰基之1種或2種以上之基的基。
聚合物矽烷偶合劑可依據例如日本特開平11-116240號揭示之聚合性單體與反應性矽烷化合物之反應物之製法而製作。聚合物矽烷偶合劑之數平均分子量以聚苯乙烯換算較佳為2000~150000，更佳為2500~100000。
關於以聚合物矽烷偶合劑被覆微粒子表面之方法，以氧化矽微粒子為例加以說明。首先製作使氧化矽微粒子與聚合物矽烷偶合劑分散於有機溶劑之分散液。對該分散液添加鹼，於氧化矽微粒子表面生成OH基，使聚合物矽烷偶合劑吸附於該OH基。或藉由該OH基與聚合物矽烷偶合劑之OH基的脫水反應而鍵結。最後，自分散液分離出吸附或鍵結有聚合物矽烷偶合劑之氧化矽微粒子並乾燥，而獲得以聚合物矽烷偶合劑被覆之氧化矽微粒子。
作為上述硬塗層形成用組成物之調製方法若為可將硬塗層含有之固形成分均一溶解於溶劑中，則未特別限定，例如使用塗料搖晃機、珠磨機、捏合機、混合機等之習知裝置將上述各固形成分與溶劑混合或溶解而調製。
將硬塗層形成用組成物塗佈於保護膜2或底塗層之表面，使塗膜中之活性線硬化性樹脂硬化形成硬塗層1。作為硬塗層形成用組成物之塗佈方法，可無特別限制地適用以往習知之方法。例如形成均一薄膜層時，較佳為微凹版塗佈法，且有必要形成厚膜層時，較佳為模嘴塗佈法。根據需要自塗膜去除溶劑後，藉由照射活性線使活性線硬化性樹脂硬化而獲得硬塗層。
硬塗層1之厚度以平均厚度計較佳於0.01~ 20μm之範圍內，更佳為0.5~10μm之範圍內。
[偏光器] 偏光器3係僅使一定方向之偏波面之光通過之元件。作為偏光器舉例為例如聚乙烯醇系膜、部分甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯･乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等之親水性高分子膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並單軸延伸者、聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯化乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。該等中，適當為由聚乙烯醇系膜與碘等之二色性物質所成之偏光器。該等偏光器之厚度並未特別限定，一般為5~80μm左右。
聚乙烯醇系膜以碘染色後經單軸延伸之偏光器例如可藉由將聚乙烯醇系膜浸漬於碘之水溶液中予以染色，延伸為原長的3~7倍而製作。根據需要可浸漬於可包含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等之水溶液。進而根據需要於染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系膜可洗淨聚乙烯醇系膜表面之污物或抗黏連劑，除此之外藉由使聚乙烯醇系膜膨潤，亦有防止染色不均等之效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可邊染色邊延伸，且亦可延伸後以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液或水浴中延伸。
又，本發明中，亦可使用厚度10μm以下之薄型偏光器。若基於薄型化之觀點來說，該厚度較佳為1~7μm。此等薄型偏光器就厚度不均少、視覺辨識性優異、且尺寸變化少故而耐久性優異，進而作為偏光膜之厚度亦可實現薄型化之方面係較佳。
作為薄型偏光器代表性可舉例為日本特開昭51-069644號公報或日本特開2000-338329號公報、或國際公開第2010/100917號、國際公開第2010/100917號或日本專利4751481號公報或日本特開2012-073563號公報中記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包含將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材以積層體狀態延伸之步驟與染色之步驟的製法獲得。依據該製法，即使PVA系樹脂層較薄，亦可藉由延伸用樹脂基材之支撐而可無因延伸所致之斷裂等缺陷而延伸。
作為前述薄型偏光膜，於包含以積層體狀態延伸之步驟與染色之步驟之製法中，就可以高倍率延伸提高偏光性能之方面，較佳為以如國際公開第2010/100917號、國際公開第2010/100917號或日本專利4751481號公報或日本特開2012-073563號公報中記載之包含於硼酸水溶液延伸之步驟的製法獲得者，尤其較佳可藉由日本專利4751481號公報或日本特開2012-073563號公報中記載之於硼酸水溶液延伸之前包含輔助進行空中延伸之步驟的製法獲得者。
[相位差膜] 相位差膜4具有相位差，可使用能作為光學補償膜發揮機能之任一者。使用具有相位差之透明保護膜時，其相位差特性可適當調整至光學補償所必要之值。
作為相位差膜4，於例如將慢軸方向之折射率設為nx，將面內之快軸方向之折射率設為ny，將厚度方向之折射率設為nz時，滿足nx=ny＞nz、nx＞ny＞nz、nx＞ny=nz、nx＞nz＞ny、nz=nx＞ny、nz＞nx＞ny、nz＞nx=ny之關係者，可對應於各種用途選擇使用。又，所謂nx=ny不僅為nx與ny完全相同之情況，亦包含nx與ny實質上相同之情況。又所謂ny=nz不僅為ny與nz完全相同之情況，亦包含ny與nz實質上相同之情況。
偏光板10A使用於有機EL顯示裝置時，相位差膜4較佳為將正面延遲設為1/4波長(約100~170nm)之1/4波長板。藉由將偏光器3與1/4波長板(相位差膜)4積層，而可作為有機EL顯示裝置之抗反射用之圓偏光板發揮機能故而較佳。
亦即，入射於該有機EL顯示裝置之外部光，因偏光器3而僅使直線偏光成分透過。該直線偏光藉由相位差膜4一般成為橢圓偏光，但尤其於相位差膜4為1/4波長板而且於與相位差膜4之偏光方向所成之角為π/4時成為圓偏光。
該圓偏光透過有機EL面板中之透明基板、透明電極、有機薄膜，以金屬電極反射，再次透過有機薄膜、透明電極、透明基板，以相位差膜4再次成為直線偏光。接著，由於該直線偏光與偏光器3之偏光方向正交，故無法透過偏光器3。其結果，可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
作為相位差膜4可較佳地使用將以熱塑性樹脂作為成膜成分之膜予以延伸之延伸膜。作為熱塑性樹脂可使用與上述保護膜2之構成材料記載者相同的熱塑性樹脂。
相位差膜4可對應於偏光板10A之上述構成1~5適當含有紫外線吸收劑。相位差膜4含有紫外線吸收劑時之紫外線吸收劑種類及含量如上述。相位差膜4進而除了紫外線吸收劑以外，於不損及本實施形態之效果之範圍，亦可含有相位差調整劑、抗氧化劑、可塑劑、抗靜電劑、剝離劑、增黏劑等之其他添加劑。
相位差膜4可為單層亦可為2層以上之積層膜。相位差膜4為積層膜且含有紫外線吸收劑時，作為相位差膜4全體之紫外線吸收劑之含量如上述，調整各層中之添加量即可。又，相位差膜4為積層膜時，各層之形成所用之熱塑性樹脂可相同亦可不同。作為積層膜之製造方法可無特別限制地適用以往習知方法。
作為相位差膜4之形成所用之熱塑性樹脂，除了上述環烯烴樹脂、纖維素酯樹脂及丙烯酸樹脂以外，亦可較佳地使用聚碳酸酯樹脂。尤其製造後述之斜向延伸膜時，較佳使用聚碳酸酯樹脂。相位差膜4為積層膜時，較佳為例如纖維素酯樹脂與聚碳酸酯樹脂層之組合。
(聚碳酸酯樹脂) 作為聚碳酸酯樹脂可無特別限定地使用各種者，基於化學性質及物性之觀點，較佳為芳香族聚碳酸酯樹脂，尤其較佳為具有茀骨架之聚碳酸酯或雙酚A系聚碳酸酯樹脂。其中，更佳使用於雙酚A中導入苯環、環己烷環及脂肪族烴基等之雙酚A衍生物者。再者，特佳為使用對於雙酚A之中央碳非對稱地導入上述官能基之衍生物所得之單位分子內之異向性減少之構造之聚碳酸酯樹脂。
作為此種聚碳酸酯樹脂特佳為使用例如雙酚A之中央碳之2個甲基取代為苯環者，例如雙酚A之各苯環之氫以甲基或苯基等對於中央碳非對稱地取代者所得之聚碳酸酯樹脂。具體為藉由光氣法或酯交換法自4,4’-二羥基二苯基烷或該等之鹵素取代體獲得者，舉例為例如4,4’-二羥基二苯基甲烷、4,4’-二羥基二苯基乙烷、4,4’-二羥基二苯基丁烷等。又，除此之外，若例示具體之聚碳酸酯樹脂，則可舉例為例如日本特開2006-215465號公報、日本特開2006-91836號公報、日本特開2005-121813號公報、日本特開2003-167121號公報、日本特開2009-126128號公報、日本特開2012-67300號公報、國際公開第 2000/026705號等所記載之聚碳酸酯系樹脂。
(相位差膜之製造) 相位差膜4可與上述說明之保護膜2同樣，藉由熔融澆鑄法、溶液澆鑄法、軋光成形法等之習知成形方法製造。較佳使用熔融澆鑄法、溶液澆鑄法，特佳為溶液澆鑄法。
相位差膜4可藉由保護膜2中說明之溶液澆鑄法中(1)之獲得濃液之步驟，除了將添加劑設為配合相位差膜4並根據偏光板10A之構成依必要添加之紫外線吸收劑及任意添加以外，可同樣地製造。
又，保護膜2所說明之溶液澆鑄法中，可將(3)或(4)之步驟所得之膜作為膜基材，進而藉以下方法斜向延伸作成相位差膜4。
使用膜基材製造長條狀之斜向延伸膜時，例如使用圖4及圖5中示意性顯示概略構成之裝置。圖4係示意性顯示斜向延伸膜之製造裝置80之概略構成的俯視圖。圖5係示意性顯示斜向延伸膜之製造裝置80所具備的延伸部之導軌圖型之一例的俯視圖。製造裝置80自膜基材之搬送方向上游側起依序具備膜捲出部81、搬送方向變更部82、導輥83、延伸部84、導輥85、搬送方向變更部86及膜捲取部87。
膜捲出部81將如上述製作之膜基材捲出並供給至延伸部84。搬送方向變更部82將自膜捲出部81捲出之膜基材之搬送方向變更為朝向作為斜面延伸拉幅機之延伸部84入口之方向。導輥83為了使膜基材行進時於軌道上安定而於延伸部84之上游側至少設置1根。導輥85為了使由延伸部84予以斜向延伸之膜行進時於軌道上安定而於延伸部84之下游側至少設置1根。搬送方向變更部86將自延伸部84搬送之延伸後之膜之搬送方向變更為朝向膜捲取部87之方向。膜捲取部87將自延伸部84經由搬送方向變更部86而搬送之膜捲取。
關於延伸部84之細節，基於圖5加以說明。斜向延伸膜之製造可使用例如圖5所示之可斜向延伸之拉幅機(斜向延伸機)作為延伸部84。該拉幅機係將膜基材加熱至可延伸之任意溫度並斜向延伸之裝置，具備加熱區Z、左右一對之導軌Ri･Ro及沿導軌Ri･Ro行進並搬送膜之多數把持具Ci･Co(圖5中僅圖示1組把持具)。又，關於加熱區Z之細節將於後述。導軌Ri･Ro分別以連結部將複數導軌部連結而構成(圖5中之空心圓為連結部之一例)。把持具Ci･Co係以把持膜寬度方向之兩端的夾具構成。
圖5中，膜基材之捲出方向D1與延伸後之長條斜向延伸膜之捲出方向D2不同，與捲取方向D2之間成為捲出角度θi。捲出角度θi於超過0°且未達90°之範圍，可以期望角度任意設定。
由於捲出方向D1與捲取方向D2不同，故拉幅機之導軌圖型成為左右非對稱形狀。接著，對應於對應製造之長條斜向延伸膜賦予之配向角θ、延伸倍率等，以手動或自動調整導軌圖型。本實施形態之製造方法所用之斜向延伸機較佳自由設定構成導軌Ri･Ro之各導軌部及導軌連接部之位置，可任意變更導軌圖型。藉此，可自在設定膜配向角。
延伸部84中，膜基材其兩端藉由左右把持具Ci･Co把持，伴隨把持具Ci･Co之行進於加熱區Z內搬送。左右把持具Ci･Co於延伸部84之入口部(圖中之A位置)中，相對於對於膜行進方向(捲出方向D1)略垂直之方向，分別於左右非對稱之導軌Ri･Ro上行進，於延伸結束時於出口部(圖中B之位置)放開經把持之膜。自把持具Ci･Co放開之膜由前述之膜捲取部87捲取於卷芯。
由於導軌Ri･Ro為左右非對稱，故圖5之例中，以圖中A的位置相對地左右的把持具Ci･Co隨著於導軌Ri･Ro上之行進，於導軌Ri側(內側)行進之把持具Ci成為相對於於導軌Ro側(外側)行進之把持具Co先行之位置關係。
亦即，於圖中A的位置於對於膜捲出方向D1略垂直之方向上相對之把持具Ci･Co中，一把持具Ci先到達至膜延伸結束時之位置B時，連結把持具Ci･Co之直線相對於略垂直於膜捲取方向D2之方向，以傾斜角θL傾斜。基於以上作為，膜基材成為相對於寬度方向以θL之角度斜向延伸。此處所謂略垂直表示落於90±1°之範圍。
延伸部84之加熱區Z由預熱區Z1、延伸區Z2及熱固定區Z3構成。於延伸部84，由把持具Ci･Co把持之膜依序通過預熱區Z1、延伸區Z2、熱固定區Z3。本實施形態中，預熱區Z1與延伸區Z2由隔板隔開，延伸區Z2與熱固定區Z3以隔板隔開。
預熱區Z1係指於加熱區Z之入口部，使把持膜兩端之把持具Ci･Co於左右(膜寬度方向)保持固定間隔之狀態行走之區間。
延伸區Z2係使把持膜兩端之把持具Ci･Co空出間隔直至成為特定間隔之區間。藉此進行如上述之斜向延伸。亦即於延伸區Z2，進行藉由使長條膜(膜基材)以膜面內相對於寬度方向及長度方向之兩方向傾斜之斜向方向延伸，而取得斜向延伸膜之斜向延伸步驟。又，於斜向延伸前後，亦可根據需要進行於縱方向或橫方向之延伸。
所謂熱固定區Z3係指在延伸區Z2之後之使把持具Ci･Co之間隔再次成為一定之區間，使兩端之把持具Ci･Co保持相互平行地行進之區間。亦即，於熱固定區Z3，進行邊將寬度保持一定邊搬送斜向延伸膜之熱固定步驟。
又，延伸之膜於通過熱固定區Z3後，亦可通過將區內之溫度設定於構成膜之熱塑性樹脂之玻璃轉移溫度Tg(℃)以下之區間(冷卻區)。此時，考慮因冷卻之膜收縮，亦可預先作成將對向之把持具Ci･Co之間隔縮窄之導軌圖型。
相對於熱塑性樹脂之玻璃轉移溫度Tg，較佳將預熱區Z1之溫度設定為Tg~Tg+30℃，延伸區Z2之溫度設定為Tg~Tg+30℃，熱固定區Z3及冷卻區之溫度設定為Tg-30~Tg+20℃。
又，預熱區Z1、延伸區Z2及熱固定區Z3之長度可適當選擇，相對於延伸區Z2之長度，預熱區Z1之長度通常為100~150%，熱固定區Z3之長度通常為50~100%。
又，將延伸前之膜寬度設為Wo(mm)，將延伸後之膜寬度設為W(mm)時，延伸步驟中延伸倍率R(W/Wo)較佳為1.3~3.0，更佳為1.5~2.8。延伸倍率若為該範圍，則膜之寬度方向的厚度不均變小故而較佳。斜向延伸拉幅機之延伸區Z2中，若於寬度方向對延伸溫度賦予差異，則可使寬度方向厚度不均更成為良好等級。又，上述延伸倍率R等於於拉幅機入口部把持之夾具兩端之間隔Wo成為拉幅機出口部之間隔W時之倍率(W/Wo)。
相位差膜4之厚度可適當決定，但一般基於光學特性、強度及處理性等之作業性、薄膜性等之方面，較佳於1~500μm之範圍內。相位差膜4之厚度更佳於5~100μm之範圍內，又更佳於15~80μm之範圍內。
[接著劑層] 偏光器3與保護膜2及偏光器3與相位差膜4較佳例如藉由接著劑層予以密著。接著劑層可為使水系接著劑乾燥而得之層，亦可為活性線硬化性接著劑之硬化物層。且接著劑層可含有金屬化合物填料。
作為水系接著劑可例示異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系接著劑、水系聚胺基甲酸酯、水系聚酯等。作為聚乙烯醇系接著劑具體而言舉例為完全鹼化型聚乙烯醇水溶液(水糊)。作為活性線硬化性接著劑舉例為紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。
[黏著劑層] 黏著劑層係任意設定於本發明之偏光板。藉由具有黏著劑層，於製作將該偏光板配置於有機EL元件之視覺辨識側之有機EL顯示裝置時之作業性提高。剖面圖顯示於圖2之偏光板10B係於偏光板具有黏著劑層時之一例。偏光板10B除了於相位差膜4之與偏光器3相反側具有黏著劑層5以外，包含較佳態樣均與偏光板10A相同。
作為形成黏著劑層5之黏著劑種類，並未特別限定，可舉例為例如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽氧系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。該等黏著劑中，基於光學透明性優異、顯示適當密著性與凝集性與接著性之黏著特性、耐候性或耐熱性等優異之方面，較佳使用丙烯酸系黏著劑。本發明中，較佳為含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之丙烯酸系黏著劑。
作為黏著劑層5之形成方法並未特別限定，通常可藉由本領域中所用之方法形成。具體而言，將含有上述黏著劑或其原料與溶劑之黏著劑組成物塗佈於基材之至少單面，使由接著劑組成物形成之塗膜乾燥而形成，或可照射紫外線等之活性線而形成。丙烯酸系黏著劑之情況，黏著劑組成物中包含成為聚合物之構造單位之單體、聚合起始劑、溶劑。
塗佈黏著劑組成物之基材可為例如脫模膜或相位差膜4。於脫模膜上形成黏著劑層5時，所形成之黏著劑層5轉印於相位差膜4，剝離脫模膜。又，偏光板10B於供於實用之前，可藉脫模膜保護黏著劑層5。
作為黏著劑層5之厚度並未特別限定，但較佳為10~75μm左右，更佳為12~50μm左右。
[偏光板] 偏光板10A係將如上述製作之附硬塗層1之保護膜2、偏光器3及相位差膜4以自視覺辨識側起為硬塗層1、保護膜2、偏光器3、相位差膜4之方式積層而獲得。又，積層時，硬塗層1、保護膜2及相位差膜4之組合係以成為上述構成1~5之任一者之方式選擇該等各層。又，保護膜2與偏光器3及偏光器3與相位差膜4較佳藉由如上述之接著劑予以接著。
偏光板10B係將如上述製作之附硬塗層1之保護膜2、偏光器3、相位差膜4及黏著劑層5積層而獲得。與偏光板10A同樣，積層時，硬塗層1、保護膜2及相位差膜4之組合係以成為上述構成1~5之任一者之方式選擇該等各層。保護膜2與偏光器3及偏光器3與相位差膜4較佳藉由接著劑予以接著。上述積層時，黏著劑層5可預先與相位差膜4積層，亦可作為形成於脫模膜上之黏著劑層5予以積層。
本發明之偏光板中，含有紫外線吸收劑或化合物(D)之層的透過率及偏光板之透過率較佳落於以下範圍。
(i)包含紫外線吸收劑之層的透過率 包含紫外線吸收劑之層的波長380nm下之透過率較佳為9%以下，更佳為7%以下，又更佳為5%以下，特佳為3%以下。藉由波長380nm下之透過率為上述範圍，可更高度阻斷入射之紫外線中該波長附近之區域，使用於有機EL顯示裝置時，可顯著抑制有機EL元件之劣化。
又，包含紫外線吸收劑之層的波長450nm下之透過率較佳為60%以上，更佳為70%以上，又更佳為75%以上。藉由波長450nm下之透過率為上述範圍，使用於有機EL顯示裝置時，可使有機EL元件之發光充分透過，於該有機EL顯示裝置中可確保充分之顯示性能故而較佳。
(ii)包含化合物(D)之層的透過率 包含化合物(D)之層的波長380nm下之透過率較佳為9%以下，更佳為7%以下，又更佳為5%以下，特佳為3%以下。藉由波長380nm下之透過率為上述範圍，由於可更高度阻斷入射之紫外線，故可顯著抑制有機EL元件之劣化而較佳。 且包含化合物(D)之層的波長400nm下之透過率較佳為60%以下，更佳為50%以下，又更佳為40%以下。藉由波長400nm下之透過率為上述範圍，由於可更高度阻斷入射之紫外線，故可顯著抑制有機EL元件之劣化而較佳。 且包含化合物(D)之層的波長440nm下之透過率較佳為50%以上，更佳為60%以上，又更佳為70%以上。藉由波長440nm下之透過率為上述範圍，可使有機EL元件之發光充分透過，於有機EL顯示裝置中可確保充分之顯示性能故而較佳。
(iii)偏光板之透過率 本發明之偏光板，於波長380nm下之透過率較佳為9%以下，更佳為7%以下，又更佳為5%以下，特佳為3%以下。偏光板於波長400nm下之透過率較佳為20%以下，更佳為15%以下，又更佳為10%以下。
藉由偏光板於波長380nm下之透過率及於波長400nm下之透過率為上述範圍，可更高度阻斷入射之紫外線。藉此，偏光板使用於有機EL顯示裝置時，可更高度阻斷入射之紫外線。
又，本發明之偏光板於波長450nm下之透過率較佳為25%以上，更佳為30%以上，又更佳為33%以上。藉由使於波長450nm下之透過率為上述範圍，於使用於有機EL顯示裝置時，可使有機EL元件之發光充分透過，於該有機EL顯示裝置中可確保充分之顯示性能故而較佳。
[有機EL顯示裝置] 本發明之偏光板可使用於液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置(OLED)或觸控面板等之各種顯示裝置。尤其較佳使用本發明之偏光板作為有機EL顯示裝置之圓偏光板。
本發明之有機EL顯示裝置之一構成例的剖面圖示於圖3。圖3所示之有機EL顯示裝置20具有有機EL元件11與於其視覺辨識側之本發明之偏光板10B。有機EL顯示元件11具有例如光反射電極、發光層、透明電極層與透明塑膠膜基板。
有機EL顯示裝置20若於光反射電極與透明電極層之間通電，則發光層發光，可顯示圖像。進而，自外部入射至有機EL顯示裝置之光由於全部被偏光板10B之偏光器3吸收，故即使被有機EL元件之光反射電極反射亦不出射至外部，可抑制因背景映入所致之顯示特性降低。
有機EL顯示裝置20中，偏光板10B如上述構成1~5般於硬塗層1及保護膜2之至少一者含有化合物(D)，於保護膜2及相位差膜4中之至少一者含有紫外線吸收劑，且含有化合物(D)之層比含有紫外線吸收劑之層更位於視覺辨識側之構成。
如此，藉由將具有含色素化合物之層與含紫外線吸收劑之層之偏光板10B配置於有機EL顯示元件11之視覺辨識側，使偏光板10可充分吸收比有機EL元件11之發光區域(比430nm更長波長側)更短波長側之波長的光，可保護有機EL元件11免於受外光影響，且可抑制發光損失。再者，藉由依據上述特定順序配置含色素化合物之層與含紫外線吸收劑之層，自化合物(D)產生之熱不會妨礙紫外線吸收層之發熱，可自有機EL顯示裝置20之表面向外部釋出。藉此，可抑制因化合物(D)之發熱所致之相位差膜4之光學值變動等之劣化及偏光器3之收縮等之劣化。 [實施例]
以下列舉實施例具體說明本發明，但本發明不限定於該等。又，實施例中使用「份」或「%」之表示，只要未特別指明則表示「質量份」或「質量%」。
(最大吸收波長之測定) 將實施例所用之本發明之最大吸收波長存在於360~379nm之範圍內之色素化合物的化合物(D)與作為比較例之色素化合物之最大吸收波長係使用島津製作所股份有限公司製紫外線可見光分光光度計UV-2450，測定色素化合物之氯仿中之吸收光譜而求出，並記載於表II。 又，本發明中所謂「最大吸收波長」係指於測定上述化合物之吸收光譜時所得之化合物的吸收光譜中，顯示最大且極大吸光度(吸收強度)之波長(nm)。
Figure 02_image023
又，表II記載之D-1~3之構造及上述比較例之化合物(BONASORB 3912及FDB009)之內容示於下。
Figure 02_image025
比較化合物1：BONASORB UA3912(ORIENT化學工業(股)製) 比較化合物2：FDB-009(山田化學工業(股)製)
[1]附硬塗層之保護膜(附HD層之保護膜)之製造 (1)附硬塗層之環烯烴樹脂膜之製造 (1-1)環烯烴樹脂膜之製造 (濃液之調製) 將表III之各成分投入密閉容器，並加熱、攪拌使完全溶解。將其以安積濾紙(股)製之安積濾紙No.24過濾，獲得濃液(COP-1~COP-7)。又，作為表III中之環烯烴樹脂係使用ARTON G7810(JSR股份有限公司製)。又，LA-F70係最大吸收波長為355nm之ADEKA(股)製之紫外線吸收劑，TINUVIN 928係最大吸收波長為349nm之日本BASF(股)製之紫外線吸收劑，各者於表中以「UVA」表示之紫外線吸收劑。化合物D-1、化合物(1)-1、化合物(2)-3相當於化合物(D)(表中之「(D)」)。
Figure 02_image027
(保護膜之製膜) 所得濃液保持於30℃，將濃液均一澆鑄於被保溫於30℃之金屬支撐體的不鏽鋼帶上。接著，所澆鑄之濃液乾燥至殘留溶劑量成為30質量%後，自不鏽鋼帶上剝離獲得膜狀物。
其次，所得膜狀物於40℃乾燥至殘留溶劑量成為10質量%後，於寬度方向以延伸倍率1.4倍(40%)延伸。接著，所得膜狀物邊以多數輥搬送邊於150℃進一步乾燥，獲得長3000m、厚20μm之保護膜。所得保護膜對應於濃液種類設為保護膜COP-1~COP-7。
(1-2)底塗層之形成 (硬塗層側底塗層塗佈液1之調製) 將熱硬化性之水系聚烯烴系樹脂(ARROWBASE SB-1200(商品名)，固形分25%，UNITIKA股份有限公司製) 100質量份、噁唑啉系交聯劑(WS-700，日本觸媒股份有限公司製)8質量份以稀釋劑(水/甲醇=30/70(質量%))稀釋至固形分濃度成為5%後，於室溫攪拌，調製底塗層塗佈液1。
(硬塗層側底塗層之形成) 於厚度20μm之保護膜的硬塗層側之面，以棒塗佈器塗佈上述調製之底塗層塗佈液1，以80℃之乾燥爐進行40秒之吹風機乾燥而造膜，以乾膜厚成為0.4μm之方式形成硬塗層側底塗層。
(偏光器側底塗層塗佈液2之調製) 將水系胺基甲酸酯系樹脂(HYDRUN AP-40F(商品名)，固形分20%，DIC股份有限公司製)100質量份、噁唑啉系交聯劑(WS-700，日本觸媒股份有限公司製)5質量份以稀釋劑(水/甲醇=30/70(質量%))稀釋至固形分濃度成為5%後，於室溫攪拌，調製底塗層塗佈液2。
(偏光器側底塗層之形成) 於厚度20μm之保護膜的偏光器側之面，以棒塗佈器塗佈上述調製之底塗層塗佈液2，以120℃之乾燥爐進行120秒之吹風機乾燥而造膜，以膜厚成為0.5μm之方式形成偏光器側底塗層。
(1-3)硬塗層之形成 (硬塗層形成用組成物之調製) 以表IV之比例混合各材料，調製硬塗層形成用組成物(CHD-1~CHD-7)。又，表IV中作為硬塗樹脂使用胺基甲酸酯丙烯酸酯、UA-306H(商品名，共榮社化學股份有限公司製)。又，IRGACURE 184(日本BASF股份有限公司製)係光聚合起始劑，KF-351A(商品名，信越化學股份有限公司製)為界面活性劑。作為稀釋溶劑使用丙二醇單甲醚(PGME)與乙酸甲酯(MA)(溶劑質量比率：PGME/NA= 40/60)。
Figure 02_image029
(硬塗層之形成) 於上述製作之附底塗層之保護膜的硬塗層側底塗層上，將上述調製之硬塗層形成用組成物如表V所示組合，以棒塗佈器塗佈為乾膜厚為2.5μm，以50℃乾燥爐進行40秒吹風機乾燥，使溶劑揮發。接著以該狀態邊吹拂氮氣使氧濃度成為1.0體積%以下之環境，邊使用紫外線燈以照射部之照度為100mW/cm2 ，照射量設為0.2J/cm2 ，使塗佈層硬化，製作附硬塗層之保護膜(附HD層之保護膜1~14)。
Figure 02_image031
(2)附硬塗層之纖維素酯膜之製造 (2-1)纖維素酯膜之製造
(濃液之調製) 調製下述組成之濃液。亦即，首先於加壓溶解槽中添加二氯甲烷及乙醇。接著，於放入溶劑之加壓溶解槽中邊攪拌邊添加纖維素酯，將其加熱，邊攪拌使其完全溶解。 纖維素酯： 三乙醯纖維素                                    100質量份 聚縮合酯化合物N                               2質量份 聚縮合酯化合物M                              7質量份 溶劑： 二氯甲烷                                          540質量份 乙醇                                                35質量份 添加劑： 微粒子；二氧化矽分散稀釋液               3質量份 紫外線吸收劑                                    2質量份 進而於密閉容器中投入上述添加劑成分，邊攪拌使之溶解，使用安積濾紙(股)製之安積濾紙No.244進行過濾，調製濃液。
又，如以下製作酯化合物N、酯化合物M及二氧化矽分散稀釋液。且，作為紫外線吸收劑使用 TINUVIN 928(商品名，日本BASF(股)製)。
(酯化合物N) 首先，於具備溫度計、攪拌器、緩急冷卻管之2L四頸燒瓶中饋入1,2-丙二醇251g、對苯二甲酸354g、對-甲苯甲酸680g及作為酯化觸媒之鈦酸四異丙酯0.191g。其次，於四頸燒瓶內吹入氮氣流，邊攪拌溶液邊使溶液緩慢升溫直至使溶液溫度成為230℃，邊觀察聚合度邊進行脫水縮合反應。反應結束後，於200℃減壓餾除未反應之1,2-丙二醇，藉此獲得聚縮合酯化合物N。該酯化合物N之酸價為0.30，數平均分子量為400。
(酯化合物M) 首先，於具備溫度計、攪拌器、緩急冷卻管之2L四頸燒瓶中饋入1,2-丙二醇251g、苯二甲酸酐244g、己二酸103g、苯甲酸610g及作為酯化觸媒之鈦酸四異丙酯0.191g。其次，於四頸燒瓶內吹入氮氣流，邊攪拌溶液邊使溶液緩慢升溫直至使溶液溫度成為230℃，邊觀察聚合度邊進行脫水縮合反應。反應結束後，於200℃減壓餾除未反應之1,2-丙二醇，藉此獲得聚縮合酯化合物M。該酯化合物M之酸價為0.10，數平均分子量為450。
(二氧化矽分散液) 首先以分散機將10質量份AEROSIL R812(商品名，日本AERSOIL股份有限公司製)與90質量份乙醇攪拌混合30分鐘後，以Manton-Gaulin均質機於乙醇中分散二氧化矽。於該分散液中邊攪拌邊投入88質量份之二氯甲烷，以分散機攪拌混合30分鐘，而稀釋分散液。該經稀釋之分散液以微粒子分散稀釋液過濾器(ADVANTECH東洋股份有限公司製：聚丙烯捲繞匣過濾器TCW-PPS-1N)過濾，藉此獲得二氧化矽分散液。
(保護膜之製膜) 使用帶澆鑄裝置，將上述調製之濃液均一澆鑄於溫度22℃、1.8m寬之不鏽鋼帶支撐體上。於不鏽鋼帶支撐體，使溶劑蒸發直至殘留溶劑量成為20質量%，自不鏽鋼帶支撐體上剝離濃液膜(網片)。
其次，使經剝離之網片於35℃蒸發溶劑，切成1.6m寬，隨後使用拉幅機，以160℃之溫度於寬度方向(TD方向)相對於原寬延伸1.1倍。此時，由拉幅機開始延伸時之殘留溶劑量為4質量%。
隨後，以多數輥於120℃、140℃之乾燥區內搬送並結束乾燥，切成1.3m寬，於膜兩端實施寬10mm、高2.5μm之捲邊加工後，捲取於卷芯，製作保護膜TAC-1。保護膜TAC-1之膜厚為25μm，捲繞長度為6000m。
(2-2)硬塗層之形成 (硬塗層形成用組成物之調製) 藉以下比率混合各材料，調製硬塗層形成用組成物。 硬塗層樹脂： 季戊四醇三/四丙烯酸酯(NK ESTER A-TMM-3L，商品名，新中村化學工業(股)製)              100質量份 光聚合起始劑： IRGACURE 184(商品名，日本BASF(股)製)  9質量份 溶劑： 丙二醇單甲醚                     20質量份 乙酸甲酯                        30質量份 甲基乙基酮                      70質量份 添加劑： 界面活性劑；KF-351A(商品名，聚醚改質矽氧油，信越化學工業股份有限公司製)               2質量份 微粒子；聚合物矽烷偶合劑被覆氧化矽(1) 100質量份 化合物(D)；化合物1-12               5質量份
如下述般製作聚合物矽烷偶合劑被覆氧化矽(1)。於容器中添加甲基丙烯酸甲酯(共榮社化學(股)製：LIGHT ESTER M)30ml、3-巰基丙基三甲氧基矽烷(信越化學(股)製：KBM-803)1mL、作為溶劑之四氫呋喃100mL、作為聚合起始劑之偶氮異丁腈(關東化學(股)製：AIBN) 50mg，以N2 氣體置換後，於80℃加熱3小時，調製聚合物矽烷偶合劑。所得聚合物矽烷偶合劑之分子量為16000。又，分子量之測定係以凝膠滲透層析裝置測定。
其次，將氧化矽溶膠(日揮觸媒化成工業(股)製：Si-45P，商品名，SiO2 濃度30質量%，平均粒徑45nm，分散介質：水)以離子交換樹脂進行離子交換，以超過濾膜法進行將水置換為乙醇之溶劑置換，調製氧化矽微粒子之乙醇分散液100g(SiO2 濃度30質量%)。
將該氧化矽微粒子之乙醇分散液100g與聚合物矽烷偶合劑1.5g分散於丙酮20g(25mL)中，於其中添加濃度29.8質量%之氨水20mg，於室溫攪拌30小時，使聚合物矽烷偶合劑吸附於氧化矽微粒子。
隨後，添加平均粒徑5μm之氧化矽粒子，攪拌2小時使溶液中未吸附之聚合物矽烷偶合劑吸附於氧化矽粒子，接著，藉由離心分離去除吸附有未被吸附之聚合物矽烷偶合劑之平均粒徑5μm之氧化矽粒子。於吸附有聚合物矽烷偶合劑之氧化矽微粒子分散液中添加乙醇1000g，使氧化矽微粒子沉降，將其分離並減壓乾燥，接著於25℃乾燥8小時，獲得聚合物矽烷偶合劑被覆氧化矽(1)。所得聚合物矽烷偶合劑被覆氧化矽(1)之平均粒徑為57nm。平均粒徑係藉由雷射粒徑測定裝置測定。
(硬塗層之形成) 於上述製作之保護膜之視覺辨識側表面，以棒塗佈器將上述調製之硬塗層形成用組成物塗佈為乾膜厚為2.5μm，以50℃之乾燥爐進行40秒之吹風機乾燥使溶劑揮發。接著，以該狀態邊吹拂氮氣以使氧濃度成為1.0體積%以下之環境，邊使用紫外線燈以照射部之照度為100mW/cm2 ，照射量設為0.2J/cm2 使塗佈層硬化，製作附硬塗層之保護膜。所得硬塗層亦稱為「THD1」。又，所得附硬塗層之保護膜於以下亦稱為「附HD層之保護膜21」。
(3)附硬塗層之丙烯酸樹脂膜之製造 (3-1)丙烯酸樹脂膜之製造
(濃液之調製) 調製下述組成之濃液。首先於加壓溶解槽中添加二氯甲烷及乙醇。接著，於加壓溶解槽中邊攪拌邊投入樹脂。其次，投入上述調製之橡膠粒子分散液，將其邊攪拌使之完全溶解。使用ROKITECH(股)製之SHP150將其過濾，獲得濃液。
樹脂((甲基)丙烯酸系樹脂)           100質量份 二氯甲烷                        200質量份 乙醇                            40質量份 橡膠粒子分散液                   200質量份 TINUVIN 928(商品名，日本BASF(股)製)   5質量份 上述所用之(甲基)丙烯酸系樹脂係甲基丙烯酸甲酯(MMA)/N-苯基馬來醯亞胺(PMI)/丙烯酸丁酯(BA~共聚物(80/10/10質量比)，Tg：120℃，Mw：200萬)。
又，丙烯酸樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)係使用DSC(Differential Scanning Colorimeter：示差掃描熱量法)，依據JISK7121-2012測定。
又，丙烯酸樹脂之重量平均分子量(Mw)係使用凝膠滲透層析儀(TOSOH公司製HLC8220GPC)，管柱(TOSOH公司製TSK-GELG6000 HXL-G5000HXL- G5000HXL-G4000HXL-G3000HXL串聯)測定。將試料20mg±0.5mg溶解於四氫呋喃10mL，以0.45mm之過濾器過濾。該溶液100mL注入管柱(溫度40℃)，以檢測器RI溫度40℃測定，使用苯乙烯換算之值。
上述所用之橡膠粒子分散液係將丙烯酸系橡膠粒子M-210(核部：多層構造之丙烯酸系橡膠狀聚合物，殼部：甲基丙烯酸甲酯為主成分之甲基丙烯酸酯系聚合物之核殼型橡膠粒子，丙烯酸系橡膠狀聚合物之Tg：約-10℃，平均粒徑：220nm)10質量份與二氯甲烷190質量份以分散機混合攪拌50分鐘後，使用乳化分散機(太平洋機工股份有限公司製)於1500rpm條件下分散所得者。
又，橡膠粒子之平均粒徑係以ζ電位･粒徑測定系統(大塚電子股份有限公司製)測定分散液中之橡膠粒子之分散粒徑而得。
(保護膜之製膜) 使用上述濃液進行製膜。具體而言，使用環形帶澆鑄裝置，將濃液均一澆鑄於溫度30℃、1800mm寬之不鏽鋼帶支撐體上。不鏽鋼帶之溫度控制為28℃。
於不鏽鋼帶支撐體上，使溶劑蒸發直至經澆鑄(cast)之濃液中之殘留溶劑量成為30質量%。其次，以剝離張力128N/m，自不鏽鋼帶支撐體剝離，獲得膜狀物。剝離時之膜狀物的殘留溶劑量為30質量%。
其次，經剝離之膜以多數輥進行搬送，邊將所得膜狀物以拉幅機在140℃(Tg+20℃)之條件下於寬度方向(TD方向)延伸20%。隨後，邊以輥搬送邊於100℃(Tg-20℃)進一步乾燥，以拉幅機夾具夾住之端部予以切除並捲取為捲筒狀，獲得長3000m，寬1.5m，膜厚40μm之保護膜Ac-1(捲筒體)。
(3-2)硬塗層之形成 (硬塗層形成用組成物之調製) 藉以下比率混合各材料，調製硬塗層形成用組成物。又，聚合物矽烷偶合劑被覆氧化矽(1)係與於上述附硬塗層之纖維素酯樹脂膜之製造中，所製作之聚合物矽烷偶合劑被覆氧化矽(1)同樣獲得者。
硬塗樹脂； 胺基甲酸酯丙烯酸酯(U-4H，商品名，新中村化學工業(股)製) 35質量份 光聚合起始劑； IRGACURE 184(商品名，日本BASF(股)製)  5質量份 溶劑： 丙二醇單甲醚                     80質量份 乙酸甲酯                        20質量份 添加劑； 界面活性劑；KF-642(商品名，聚醚改質矽氧油，信越化學工業股份有限公司製)               2質量份 微粒子；聚合物矽烷偶合劑被覆氧化矽(1) 10質量份 化合物(D)；化合物2-3                5質量份
(硬塗層之形成) 於上述製作之保護膜之未與澆鑄帶接觸之面，使用擠出塗佈器將上述調製之硬塗層形成用組成物塗佈為乾膜厚為2.5μm，以恆率乾燥區間溫度50℃、減率乾燥區間溫度50℃乾燥後，邊吹拂氮氣以使氧濃度成為1.0體積%以下之環境，邊使用紫外線燈以照射部之照度為100mW/cm2 ，照射量設為0.25J/cm2 使塗佈層硬化，形成硬塗層。所得硬塗層亦稱為「AHD1」。又，所得附硬塗層之保護膜於以下亦稱為「附HD層之保護膜31」。
[2]偏光器之製造 將厚度25μm之聚乙烯醇系膜以35℃的水膨潤。所得膜以由碘0.075g、碘化鉀5g及水100g所成之水溶液中浸漬60秒，進而於由碘化鉀3g、硼酸7.5g及水100g所成之45℃的水溶液中浸漬。所得膜以延伸溫度55℃、延伸倍率5倍之條件單軸延伸。該單軸延伸膜經水洗後予以乾燥，獲得厚度12μm之偏光器(1)。
[3]相位差膜之製造 (相位差膜1) 藉由以下製造方法(熔融澆鑄製膜法)製作聚碳酸酯樹脂膜(PC膜)。
使用由具備攪拌翼及經控制於100℃之回流冷卻器之縱型反應器2個所成之批次聚合裝置進行聚合。將9,9-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]茀(BHEPF)、異山梨糖酐(ISB)、二乙二醇(DEG)、碳酸二苯酯(DPC)及乙酸鎂4水合物以莫耳比率為BHEPF/ISB/DEG/DPC/乙酸鎂=0.348 /0.490/0.162/1.005/1.00×10-5 之方式饋入。反應器內以氮氣充分置換後(氧濃度0.0005~0.001vol%)，以熱媒進行加溫，於內溫成為100℃之時點開始攪拌。升溫開始40分鐘後，使內溫達到220℃，以保持該溫度之方式進行控制同時開始減壓，到達220℃後於90分鐘內設為13.3kPa。與聚合反應同時副生之酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，將酚蒸氣中所含若干量之單體成分返回反應器，將未冷凝之酚蒸氣導入45℃之冷凝器並回收。
於第1反應器中導入氮氣且暫時復壓至大氣壓後，將第1反應器內之寡聚化之反應液移至第2反應器。其次，開始第2反應器內之升溫及減壓，於50分鐘設為內溫240℃、壓力0.2kPa。隨後，進行聚合直至成為特定攪拌動力。到達特定動力之時點於反應器內導入氮氣並復壓，將反應液以線的形態抽出，以旋轉式切割器進行顆粒化，獲得BHEPF/ISB/DEG=34.8/49.0/16.2[mol%]之共聚合組成的聚碳酸酯樹脂A。該聚碳酸酯樹脂A的還原黏度為0.430dL/g，玻璃轉移溫度為138℃。
所得聚碳酸酯樹脂A於80℃真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠出機(ISUZU化工機公司製，螺桿徑25mm，螺桿設定溫度：220℃)、T模嘴(寬900mm，設定溫度：220℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之膜製膜裝置，製作長條膜之捲筒體(膜捲筒)之厚度130μm之聚碳酸酯樹脂膜(PC膜1)。
將上述製作之PC膜1之捲筒體(膜捲筒)設定於斜向延伸膜之製造裝置80(參考圖4、圖5)捲出PC膜1。接著，使該PC膜1通過延伸部之預熱區Z1將PC膜1加熱至預熱溫度，隨後通過延伸區Z2以延伸倍率3倍進行斜向延伸，接著通過熱固定區Z3，製作膜厚50μm，寬1500mm，配向角θ=45°(寬度中央部之值)之斜向延伸PC膜1。所製作之斜向延伸PC膜1經捲取作成膜捲筒。又，於延伸部之預熱區Z1之溫度T1(預熱溫度)設為(Tg+15)℃，延伸區Z2之溫度T2(延伸溫度)設為(Tg+11)℃，熱固定區Z3之溫度T3設為(Tg+9)℃。所得相位差膜作為相位差膜1。
(相位差膜2) 相位差膜2係於上述所得之相位差膜1上積層上述TAC-1之構成的膜。又，相位差膜1與TAC-1之接著係使用以下之[5]有機EL顯示裝置之製作所用之黏著劑層(A1)。
[4]偏光板之製作 將上述[1]~[3]所得之各層以表VII所示組合並積層，製作偏光板1~11。又，相位差膜與偏光器之間、保護膜與偏光器之間使用完全鹼化型聚乙烯醇水溶液(水糊)予以接著。又，相位差膜2之積層係TAC-1側朝向偏光器側進行。
[5]有機EL顯示裝置之製作 將表VII所示之偏光板1~11分別經由以下黏著劑層(A1)與有機EL元件積層，製作有機EL顯示裝置並評價。具體而言拆解搭載有機EL面板之SAMSUNG公司製 GALAXY S10(商品名)，自有機EL元件剝離圓偏光板，於剝離之面經由黏著劑層(A1)將表VII所示之偏光板1~11分別以硬塗層側為視覺辨識側，相位差膜側為有機EL元件側予以貼合，製作有機EL顯示裝置。
(黏著劑組成物(A1)之製造) 於由丙烯酸2-乙基己酯(2HEA)78質量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)18質量份及丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)15質量份所構成之單體混合物中，調配作為光聚合起始劑之1-羥基環己基苯基酮(商品名：IRGACURE 184，日本BASF(股)製)0.035質量份、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 651，日本BASF(股)製)0.035質量份後，照射紫外線直至黏度(測量條件：BH黏度計No.5轉子，10rpm，測定溫度30℃)成為約20Pa･s，獲得上述單體成分之一部分聚合之預聚物組成物(聚合率：8%)。其次，於該預聚物組成物中，添加己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.15質量份、矽烷偶合劑(商品名：KBM-403，信越化學工業(股)製)0.3質量份並混合，獲得丙烯酸系黏著劑組成物(a)。
對所得丙烯酸系黏著劑組成物(a)添加(將形成丙烯酸系聚合物之單體成分設為100質量份)與雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦(商品名：IRGACURE 819，日本BASF(股)製)0.2質量份並攪拌，藉此獲得黏著劑組成物(A1)。
(黏著劑層(A1)之形成) 將黏著劑組成物(A1)以黏著劑層形成後之厚度成為150μm之方式塗佈於脫模膜之經剝離處理之膜上，其次，於該黏著劑組成物層之表面貼合脫模膜。隨後以照度：6.5mW/cm2 ，光量：1500mJ/cm2 、峰值波長：350nm之條件進行紫外線照射，使黏著劑組成物層光硬化，形成黏著劑層(A1)。
《評價》 (1)光透過率之評價 上述製作之表V中記載之附HD層之保護膜之光透過率，係改變測定波長，使用分光光度計(日立高科技製U-3300)進行測定。所得結果示於表VI。
Figure 02_image033
(2)密著性之評價 將上述製作之偏光板切出為各10cm×10cm尺寸，假定於戶外使用以熱循環(-40℃放置30分鐘，其次於95℃放置30分鐘，交替進行)進行500次循環後，以耐光試驗機(EYE SUPERUV測試機，岩崎電氣股份有限公司製)進行150小時光照射。 耐久試驗後之各偏光板於23℃、55%RH之環境下調濕12小時後，依據JISK5400之方法，於各偏光板之硬塗層以1mm之間隔縱橫畫出11條切痕，製作1mm見方、100個棋盤格，貼附賽璐吩膠帶以90度之角度快速剝下。賽璐吩每1次剝離予以更換，該膠帶之剝離作業實施6次後，自未剝離而留下之棋盤格面積，藉以下基準進行評價。 ○：經剝離之棋盤格面積比例未達5% △：經剝離之棋盤格面積比例為5%以上、未達10% ×：經剝離之棋盤格面積比例為10%以上
Figure 02_image035
如由表VI及表VII所了解，含有化合物(D)之層比含有紫外線吸收劑之層更配置於視覺辨識側時，不管化合物(D)或紫外線吸收劑、保護膜之樹脂種類，均可適當控制380~440nm之光透過率，可保護顯示元件免受外光之影響，並且對於該顯示元件之發光不產生發光損失，確認前述含有色素化合物之層與鄰接層之密著性提高。
本發明之偏光板藉由依特定順序配置硬塗層與保護膜所含有之化合物(D)與紫外線吸收材，認為自化合物(D)產生之熱促進了分子運動，增強與鄰接層之相互作用，而可提高硬塗層與保護膜之密著性者。
且該效果於硬塗層含有化合物(D)，於保護膜含有紫外線吸收劑之情況，亦即構成1及構成4之情況，確認密著性更提高。 [產業上之可利用性]
本發明中，可提供使用於顯示裝置尤其是有機EL顯示裝置時保護顯示元件免於受外光影響，同時使該顯示元件不產生發光損失且使含有色素化合物之層與鄰接層之密著性提高之偏光板。且藉由使用該偏光板，可提供發光損失經減低之有機電致發光顯示裝置。
10A,10B:偏光板 1:硬塗層 2:保護膜 3:偏光器 4:相位差膜 5:黏著劑層 20:有機EL顯示裝置 11:有機EL元件 80:斜向延伸膜之製造裝置 81:膜捲出部 82,86:搬送方向變更部 83,85:導輥 84:延伸部 87:膜捲取部
[圖1]係顯示本發明之偏光板之構成例的剖面圖。 [圖2]係顯示本發明之另一偏光板之構成例的剖面圖。 [圖3]係顯示本發明之有機EL顯示裝置之構成例的剖面圖。 [圖4]係示意性顯示斜向延伸膜之製造裝置之概略構成的俯視圖。 [圖5]係示意性具備圖4所示之顯示斜向延伸膜之製造裝置的延伸部之導軌(rail)圖型之一例的俯視圖。
1:硬塗層
2:保護膜
3:偏光器
4:相位差膜
5:黏著劑層

Claims (6)

  1. 一種偏光板，其特徵係自視覺辨識側起依序具有硬塗層、保護膜、偏光器及相位差膜之偏光板， 前述硬塗層及前述保護膜中之至少一者含有在300 ~460nm之波長區域的吸收光譜中最大吸收波長存在於360 ~379nm之範圍內之色素化合物，前述保護膜及前述相位差膜中之至少一者含有紫外線吸收劑，含有前述色素化合物之層比含有前述紫外線吸收劑之層更位於視覺辨識側。
  2. 如請求項1之偏光板，其中於前述硬塗層含有前述色素化合物，於前述保護膜含有前述紫外線吸收劑。
  3. 如請求項1或2之偏光板，其中前述色素化合物含有具有以下述一般式(1)表示之構造之化合物，
    Figure 03_image001
    (式中，R11 表示氫原子、鹵原子、烷基、烷氧基、羥基、胺基、烷基取代之胺基、羧基、烷氧羰基、羥烷基、烷羰氧基烷基、羧烷基、烷氧羰基烷基、芳基、醯基或磺基；R12 表示氫原子或羥基)。
  4. 如請求項1或2之偏光板，其中前述色素化合物含有具有以下述一般式(2)表示之構造之化合物，
    Figure 03_image003
    (式中，R21 表示氫原子或羥基；R22 、R23 及R24 表示烷基、烷氧基、烷基取代之胺基、羧基、烷氧羰基、羥烷基、烷羰氧基烷基、羧烷基、烷氧羰基烷基、芳基、醯基或磺基)。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中於前述相位差膜之與視覺辨識側相反側具備黏著劑層。
  6. 一種有機電致發光顯示裝置，其特徵係於視覺辨識側具備如請求項1至5中任一項之偏光板。
TW110109281A 2020-03-30 2021-03-16 偏光板及有機電致發光顯示裝置 TWI770876B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020-059349 2020-03-30
JP2020059349 2020-03-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202200386A true TW202200386A (zh) 2022-01-01
TWI770876B TWI770876B (zh) 2022-07-11

Family

ID=77929957

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110109281A TWI770876B (zh) 2020-03-30 2021-03-16 偏光板及有機電致發光顯示裝置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPWO2021200622A1 (zh)
TW (1) TWI770876B (zh)
WO (1) WO2021200622A1 (zh)

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5416171B2 (ja) * 2010-07-21 2014-02-12 シプロ化成株式会社 ベンゾトリアゾール誘導体化合物
JP6830350B2 (ja) * 2015-12-25 2021-02-17 日東電工株式会社 有機ｅｌ表示装置
CA3042886C (en) * 2016-11-23 2021-05-18 Ppg Industries Ohio, Inc. Ultraviolet protective transparency
WO2018102341A1 (en) * 2016-11-30 2018-06-07 Basf Se Photocurable hardcoat compositions, methods, and articles derived therefrom
JP2019204086A (ja) * 2018-05-21 2019-11-28 大日本印刷株式会社 光学積層体、表示パネル及び表示装置
JP7184549B2 (ja) * 2018-06-28 2022-12-06 日東電工株式会社 光学積層体および有機ｅｌ表示装置
US20210405272A1 (en) * 2018-11-13 2021-12-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical film, polarizing plate, surface plate for image display device, and image display device
WO2020137529A1 (ja) * 2018-12-28 2020-07-02 日本ゼオン株式会社 位相差フィルム及びその製造方法、並びに偏光板
JPWO2021006039A1 (zh) * 2019-07-09 2021-01-14

Also Published As

Publication number Publication date
TWI770876B (zh) 2022-07-11
WO2021200622A1 (ja) 2021-10-07
JPWO2021200622A1 (zh) 2021-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5990128B2 (ja) 液晶表示装置
TWI569967B (zh) A polarizing plate and a liquid crystal display device using the same
JP6226762B2 (ja) 光学用ポリエステルフィルム、偏光板、画像表示装置、光学用ポリエステルフィルムの製造方法、および易接着層用組成物
JP6096582B2 (ja) 偏光板及びその製造方法ならびに画像表示装置
JP6069176B2 (ja) 光学補償フィルムの製造方法、光学補償フィルム、偏光板、液晶表示装置
JP2014209162A (ja) 偏光板及び画像表示装置
JP2013152430A (ja) 光学フィルム、積層フィルム、及びそれらの製造方法
JP7044468B2 (ja) 光学積層体および該光学積層体を用いた画像表示装置
KR101834069B1 (ko) 광학 필름 및 그 제조 방법
KR20160111453A (ko) 기능성 필름, 편광판 및 표시 장치
JP7099440B2 (ja) 偏光板およびこれを具備する表示装置
JP2017040727A (ja) 光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
TWI770876B (zh) 偏光板及有機電致發光顯示裝置
WO2017135239A1 (ja) 光学積層体および該光学積層体を用いた画像表示装置
TWI773115B (zh) 偏光板及有機電致發光顯示裝置
JP2022150732A (ja) 位相差層付偏光板および該位相差層付偏光板を用いた画像表示装置
WO2022209279A1 (ja) 偏光板保護フィルム
WO2022131062A1 (ja) 光学フィルム、偏光板及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置
TWI750736B (zh) 光學薄膜、偏光板及有機ｅｌ顯示裝置
JP6873208B2 (ja) 位相差フィルムおよびその製造方法、ならびに、該位相差フィルムを用いた円偏光板および画像表示装置
TW202302368A (zh) 偏光片保護薄膜
KR20230152587A (ko) 위상차층 부착 편광판 및 화상 표시 장치
CN117590509A (zh) 偏振片以及使用该偏振片的图像显示装置