TW202136823A - 成像模組及成像方法 - Google Patents

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TW202136823A TW109109548A TW109109548A TW202136823A TW 202136823 A TW202136823 A TW 202136823A TW 109109548 A TW109109548 A TW 109109548A TW 109109548 A TW109109548 A TW 109109548A TW 202136823 A TW202136823 A TW 202136823A
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吳欣灝
郭錦城
林信宏
林世安
何漢光
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佳世達科技股份有限公司
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Abstract

一種成像模組,包含一透光件、複數個微結構以及一光源。透光件具有一入光面以及一出光面。複數個微結構分佈於透光件中的不同深度。光源相對入光面設置。光源朝入光面發出一光線,光線通過入光面而投射至複數個微結構,且複數個微結構將光線反射至出光面,使得光線通過出光面而投射出透光件。

Description

成像模組及成像方法
本發明關於一種成像模組及成像方法,尤指一種藉由微結構形成顯眼的發光效果之成像模組及成像方法。
隨著科技的進步與發展,各式各樣的電子裝置已逐漸成為人們日常生活中所不可或缺的必需品。消費者於選購電子裝置時,除了功能性的要求外,外觀視覺效果亦是一個主要的考量。進一步來說,當二個電子裝置具有相同或相似的功能時,消費者往往會選購外觀視覺效果較具吸引力之電子裝置。因此,如何增進電子裝置之外觀視覺效果,便成為設計上的一大課題。
本發明的目的之一在於提供一種藉由微結構形成顯眼的發光效果之成像模組及成像方法,以解決上述問題。
根據一實施例,本發明之成像模組包含一透光件、複數個微結構以及一光源。透光件具有一入光面以及一出光面。複數個微結構分佈於透光件中的不同深度。光源相對入光面設置。光源朝入光面發出一光線,光線通過入光面而投射至複數個微結構,且複數個微結構將光線反射至出光面,使得光線通過出光面而投射出透光件。
根據另一實施例,本發明之成像方法包含下列步驟:提供一透光件,其中透光件具有一入光面以及一出光面,複數個微結構分佈於透光件中的不同深度;朝入光面發出一光線;光線通過入光面而投射至複數個微結構;複數個微結構將光線反射至出光面;以及光線通過出光面而投射出透光件。
綜上所述,本發明係於透光件中形成微結構,且微結構分佈於透光件中的不同深度。當光線經由微結構反射時,便會在透光件中形成顯眼的發光效果(例如,立體星芒效果)。當本發明之成像模組設置於電子裝置(例如,顯示裝置)中時,便可增進電子裝置之外觀視覺效果。由於結構設計簡單,因此,不會增加過多的製造成本,即可有效增進電子裝置之外觀視覺效果,進而提升消費者對於電子裝置之購買慾望。
關於本發明之優點與精神可以藉由以下的發明詳述及所附圖式得到進一步的瞭解。
請參閱第1圖至第4圖,第1圖為根據本發明一實施例之成像模組1的立體圖,第2圖為第1圖中的成像模組1的爆炸圖,第3圖為第1圖中的成像模組1於另一視角的爆炸圖,第4圖為第2圖中的透光件10與光學膜片16的組合側視圖。
如第1圖至第4圖所示,成像模組1包含一透光件10、複數個微結構12、一光源14、一光學膜片16以及一殼體18。透光件10具有一入光面100以及一出光面102,且光源14相對入光面100設置。於此實施例中,入光面100與出光面102相鄰,且光源14為側入式光源。於此實施例中,成像模組1可包含二光源14,且二光源14分別相對透光件10之二側的入光面100設置。當然,成像模組1亦可僅相對透光件10之一側的入光面100設置單一光源14。於此實施例中,光源14可為光條,其中光條可包含電路板以及設置於電路板上之複數個發光二極體。於另一實施例中,光源14亦可為其它發光裝置,不以光條為限。
透光件10另具有一非出光面104,其中非出光面104與出光面102相對。光學膜片16係設置於非出光面104上。光學膜片16可為一反射片或一吸光片,視實際應用而定。本發明可先將光學膜片16設置於透光件10之非出光面104上,再將透光件10設置於殼體18中。此外,光源14可容置於殼體18之側邊的長孔180,使得光源14相對透光件10之入光面100設置。
複數個微結構12分佈於透光件10中的不同深度。如第4圖所示,複數個微結構12在出光面102與非出光面104的方向上分佈於透光件10中的不同深度。於此實施例中,透光件10之材料可為壓克力或其它類似材料,且複數個微結構12可由一雷射於透光件10中的不同深度雕刻而形成。在以雷射於透光件10中的不同深度雕刻微結構12時,雷射之輸出口之移動速度可設定為1600 mm/s,雷射之輸出功率可設定為8 W,且雷射之脈衝頻率可設定為20 KHz。此外,本發明可進一步針對雷射之開光延時、關光延時、結束延時以及拐角延時進行設定。雷射之開光延時係指雷射之輸出口移動與雷射發出之時間差。若開光延時為正值,表示雷射之輸出口先移動此延遲時間後再發出雷射;若開光延時為負值,表示雷射先發出此延遲時間後雷射之輸出口再移動。雷射之關光延時係指雕刻結束時關閉雷射的延遲時間,其中關光延時不可為負值。雷射之結束延時係指從系統發出關閉命令到雷射完全關閉的時間,其中結束延時不可為負值。雷射之拐角延時係指每段雕刻路徑與下一段雕刻路徑之間的延遲時間,其中拐角延時不可為負值。舉例而言,雷射之開光延時可設定為300μm,雷射之關光延時可設定為100μm,雷射之結束延時可設定為300μm,且雷射之拐角延時可設定為100μm。
當光源14朝透光件10之入光面100發出一光線時,光線即會通過入光面100而投射至複數個微結構12。此時,複數個微結構12會將光線反射至透光件10之出光面102,使得光線通過出光面102而投射出透光件10。於此實施例中,複數個微結構12可形成一預定圖樣20,使得光線經由複數個微結構12反射而形成對應預定圖樣20之一光圖樣。當光學膜片16為反射片時,光學膜片16可將透光件10中的雜散光朝出光面102反射,以增進發光亮度。當光學膜片16為吸光片時,光學膜片16可吸收透光件10中雜散光,以避免雜散光影響發光效果。
如第1圖所示,由於複數個微結構12所形成之預定圖樣20為“A”,因此,經由複數個微結構12反射而形成之光圖樣亦為“A”。需說明的是,複數個微結構12所形成之預定圖樣20可根據實際應用而決定(例如,廠商之商標),不以圖中所繪示之實施例為限。
本發明可根據上述設定以低功率且高速度方式於透光件10中雕刻微結構12。進一步來說,本發明可將雷射聚焦於透光件10中進行雕刻。接著,再調整雕刻高度,以產生立體的微結構12。藉此,本發明可將雷射雕刻對透光件10之外觀面的燃燒影響降到最低,使得透光件10幾乎沒有明顯的刻痕。因此,當光源14尚未發出光線時,從透光件10之外觀幾乎看不出微結構12。當光源14發出光線時,光線便會經由微結構12反射,而在透光件10中形成顯眼的發光效果(例如,立體星芒效果)。需說明的是,透光件10之厚度可大於或等於20 mm,以使立體效果較為明顯。此外,雷射雕刻之參數設定可根據透光件10之材料來調整,本發明不以上述之實施例為限。
於另一實施例中,光源14發出之光線可具有一第一顏色(例如,藍色),且透光件10可具有一第二顏色(例如,黃色)。因此,在光線通過透光件10之入光面100後,第一顏色與第二顏色即會混合產生一第三顏色(例如,綠色)。藉此,本發明即可藉由改變光線之第一顏色及/或透光件10之第二顏色,來改變光圖樣之第三顏色。
於另一實施例中,本發明可將一螢光粉摻雜於透光件10中。光源14發出之光線可具有一第一顏色(例如,藍色),且螢光粉可具有一第二顏色(例如,黃色)。因此,在光線通過透光件10之入光面100後,第二顏色之螢光粉會受第一顏色之光線激發產生一第三顏色(例如,綠色)。藉此,本發明即可藉由改變光線之第一顏色及/或螢光粉之第二顏色,來改變光圖樣之第三顏色。
請參閱第5圖至第8圖,第5圖為根據本發明另一實施例之成像模組1'的立體圖,第6圖為第5圖中的成像模組1'的爆炸圖,第7圖為第5圖中的成像模組1'於另一視角的爆炸圖,第8圖為第6圖中的透光件10的側視圖。
成像模組1'與上述的成像模組1的主要不同之處在於,成像模組1'之複數個微結構12係均勻分佈於透光件10中,且成像模組1'另包含一遮光件22,如第5圖至第8圖所示。此外,複數個微結構12亦分佈於透光件10中的不同深度。如第8圖所示,複數個微結構12在出光面102與非出光面104的方向上分佈於透光件10中的不同深度。本發明亦可根據上述設定以低功率且高速度方式於透光件10中雕刻微結構12,在此不再贅述。需說明的是,第5-8圖中與第1-4圖中所示相同標號的元件,其作用原理大致相同,在此亦不再贅述。
遮光件22設置於透光件10之出光面102上,且遮光件22包含一透光區220。於此實施例中,遮光件22可由不透光材料(例如,黑色塑膠)製成,且透光區220可為形成於遮光件22上之一鏤空結構,其中鏤空結構可形成一預定圖樣。換言之,光線只能通過遮光件22之透光區220,而無法通過遮光件22本身。於另一實施例中,遮光件22亦可為塗佈或印刷於透光件10之出光面102上的不透光材料(例如,油墨),視實際應用而定。
當光源14朝透光件10之入光面100發出一光線時,光線即會通過入光面100而投射至複數個微結構12。此時,複數個微結構12會將光線反射,使得光線依序通過出光面102與透光區220而投射出透光件10,進而形成對應透光區220之一光圖樣。同時,經由微結構12反射之光線會在透光件10中形成顯眼的發光效果(例如,立體星芒效果)。如第5圖所示,由於透光區220所形成之預定圖樣為“A”,因此,經由透光區220而形成之光圖樣亦為“A”。需說明的是,透光區220所形成之預定圖樣可根據實際應用而決定(例如,廠商之商標),不以圖中所繪示之實施例為限。
請參閱第9圖,第9圖為根據本發明一實施例之成像方法的流程圖。第5圖中的成像方法可利用第1圖中的成像模組1或第5圖中的成像模組1'來實現。首先,執行步驟S10,提供一透光件10,其中透光件10具有一入光面100以及一出光面102,且複數個微結構12分佈於透光件10中的不同深度。接著,執行步驟S12,朝透光件10之入光面100發出一光線。接著,於步驟S14中,光線通過透光件10之入光面100而投射至複數個微結構12。接著,於步驟S16中,複數個微結構12將光線反射至透光件10之出光面102。接著,於步驟S18中,光線通過透光件10之出光面102而投射出透光件10。
於此實施例中,本發明之成像方法可由一雷射於透光件10中的不同深度雕刻而形成複數個微結構12。
於此實施例中,雷射之輸出口之移動速度可為1600 mm/s,雷射之輸出功率可為8 W,且雷射之脈衝頻率可為20 KHz。
根據第1圖至第4圖所示之實施例,本發明之成像方法可另包含設置一光學膜片16於透光件10之非出光面104上,其中光學膜片16可為一反射片或一吸光片。此外,複數個微結構12可形成一預定圖樣20,使得光線經由複數個微結構12反射而形成對應預定圖樣20之一光圖樣。
根據第5圖至第8圖所示之實施例,複數個微結構12可均勻分佈於透光件10中,且本發明之成像方法可另包含設置一遮光件22於透光件10之出光面102上,其中遮光件22包含一透光區220。因此,光線依序通過透光件10之出光面102與遮光件22之透光區220而投射出透光件10,進而形成對應透光區220之一光圖樣。
需說明的是,本發明之成像方法之詳細實施例係如上所述,在此不再贅述。
綜上所述,本發明係於透光件中形成微結構,且微結構分佈於透光件中的不同深度。當光線經由微結構反射時,便會在透光件中形成顯眼的發光效果(例如,立體星芒效果)。當本發明之成像模組設置於電子裝置(例如,顯示裝置)中時,便可增進電子裝置之外觀視覺效果。由於結構設計簡單,因此,不會增加過多的製造成本,即可有效增進電子裝置之外觀視覺效果,進而提升消費者對於電子裝置之購買慾望。 以上所述僅為本發明之較佳實施例,凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾,皆應屬本發明之涵蓋範圍。
1,1':成像模組 10:透光件 12:微結構 14:光源 16:光學膜片 18:殼體 20:預定圖樣 22:遮光件 100:入光面 102:出光面 104:非出光面 180:長孔 220:透光區 S10~S18:步驟
第1圖為根據本發明一實施例之成像模組的立體圖。 第2圖為第1圖中的成像模組的爆炸圖。 第3圖為第1圖中的成像模組於另一視角的爆炸圖。 第4圖為第2圖中的透光件與光學膜片的組合側視圖。 第5圖為根據本發明另一實施例之成像模組的立體圖。 第6圖為第5圖中的成像模組的爆炸圖。 第7圖為第5圖中的成像模組於另一視角的爆炸圖。 第8圖為第6圖中的透光件的側視圖。 第9圖為根據本發明一實施例之成像方法的流程圖。
1:成像模組
10:透光件
12:微結構
14:光源
18:殼體
20:預定圖樣
102:出光面
180:長孔

Claims (20)

  1. 一種成像模組,包含: 一透光件,具有一入光面以及一出光面; 複數個微結構,分佈於該透光件中的不同深度;以及 一光源,相對該入光面設置; 其中,該光源朝該入光面發出一光線,該光線通過該入光面而投射至該複數個微結構,且該複數個微結構將該光線反射至該出光面,使得該光線通過該出光面而投射出該透光件。
  2. 如請求項1所述之成像模組,其中該複數個微結構係由一雷射於該透光件中的不同深度雕刻而形成。
  3. 如請求項2所述之成像模組,其中該雷射之輸出口之移動速度為1600 mm/s,該雷射之輸出功率為8 W,且該雷射之脈衝頻率為20 KHz。
  4. 如請求項1所述之成像模組,其中該入光面與該出光面相鄰,且該光源為側入式光源。
  5. 如請求項4所述之成像模組,其中該透光件另具有一非出光面,該非出光面與該出光面相對,該成像模組另包含一光學膜片,該光學膜片設置於該非出光面上。
  6. 如請求項5所述之成像模組,其中該光學膜片為一反射片或一吸光片。
  7. 如請求項1所述之成像模組,其中該複數個微結構形成一預定圖樣,使得該光線經由該複數個微結構反射而形成對應該預定圖樣之一光圖樣。
  8. 如請求項1所述之成像模組,其中該複數個微結構均勻分佈於該透光件中,該成像模組另包含一遮光件,該遮光件設置於該出光面上,該遮光件包含一透光區,該光線依序通過該出光面與該透光區而投射出該透光件,進而形成對應該透光區之一光圖樣。
  9. 如請求項1所述之成像模組,其中該光線具有一第一顏色,該透光件具有一第二顏色,在該光線通過該入光面後,該第一顏色與該第二顏色混合產生一第三顏色。
  10. 如請求項1所述之成像模組,其中一螢光粉摻雜於該透光件中,該光線具有一第一顏色,該螢光粉具有一第二顏色,在該光線通過該入光面後,該第二顏色之該螢光粉受該第一顏色之該光線激發產生一第三顏色。
  11. 一種成像方法,包含下列步驟: 提供一透光件,其中該透光件具有一入光面以及一出光面,複數個微結構分佈於該透光件中的不同深度; 朝該入光面發出一光線; 該光線通過該入光面而投射至該複數個微結構; 該複數個微結構將該光線反射至該出光面;以及 該光線通過該出光面而投射出該透光件。
  12. 如請求項11所述之成像方法,另包含下列步驟: 由一雷射於該透光件中的不同深度雕刻而形成該複數個微結構。
  13. 如請求項12所述之成像方法,其中該雷射之輸出口之移動速度為1600 mm/s,該雷射之輸出功率為8 W,且該雷射之脈衝頻率為20 KHz。
  14. 如請求項11所述之成像方法,其中該入光面與該出光面相鄰,且該光源為側入式光源。
  15. 如請求項14所述之成像方法,其中該透光件另具有一非出光面,該非出光面與該出光面相對,該成像方法另包含設置一光學膜片於該非出光面上。
  16. 如請求項15所述之成像方法,其中該光學膜片為一反射片或一吸光片。
  17. 如請求項11所述之成像方法,其中該複數個微結構形成一預定圖樣,使得該光線經由該複數個微結構反射而形成對應該預定圖樣之一光圖樣。
  18. 如請求項11所述之成像方法,其中該複數個微結構均勻分佈於該透光件中,該成像方法另包含設置一遮光件於該出光面上,該遮光件包含一透光區,該光線依序通過該出光面與該透光區而投射出該透光件,進而形成對應該透光區之一光圖樣。
  19. 如請求項11所述之成像方法,其中該光線具有一第一顏色,該透光件具有一第二顏色,在該光線通過該入光面後,該第一顏色與該第二顏色混合產生一第三顏色。
  20. 如請求項11所述之成像方法,其中一螢光粉摻雜於該透光件中,該光線具有一第一顏色,該螢光粉具有一第二顏色,在該光線通過該入光面後,該第二顏色之該螢光粉受該第一顏色之該光線激發產生一第三顏色。
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