TW202126994A - 用於等離子體處理裝置的光強度監測調節機構、調節方法及等離子體處理裝置 - Google Patents

用於等離子體處理裝置的光強度監測調節機構、調節方法及等離子體處理裝置 Download PDF

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Abstract

本發明公開了一種用於等離子體處理裝置的光強度監測調節機構，包括：反光鏡座，其內固定設置有一反光鏡，用於反射等離子體蝕刻過程中產生的光；一端卡固於反光鏡座內的凸透鏡座，其內固定設置有一凸透鏡，用於將反光鏡反射入的反射光彙聚至一光纖；調節螺桿，其一端容設於凸透鏡座內，另一端固設有所述光纖；所述調節螺桿相對於凸透鏡座在調節螺桿的延伸方向上移動，而改變光纖與凸透鏡之間的距離，以調整彙聚至光纖上的反射光的強度。

Description

用於等離子體處理裝置的光強度監測調節機構、調節方法及等離子體處理裝置
本發明涉及等離子體蝕刻的技術領域，尤其涉及適用於等離子體處理裝置的光強度監測調節機構及其調節方法及等離子體處理裝置。
近年來，隨著半導體製造製程的發展，對元件的集成度和性能要求越來越高，等離子體技術(Plasma Technology) 在半導體製造領域中正起著舉足輕重的作用。等離子體技術通過使製程氣體激發形成的等離子體被應用在許多半導體製程中，如沉積製程( 如化學氣相沉積)、蝕刻製程( 如乾法蝕刻)等。對等離子體處理製程來說，其準確度直接關係到元件的特徵尺寸。隨著半導體元件特徵尺寸縮小，以及半導體製造過程中所用的等離子體處理製程步驟的數量和複雜性的迅速增加，對等離子體處理製程控制的要求變得更加嚴格，這就需要採用即時監控的手段來控制製程過程的關鍵階段。
以等離子體蝕刻製程為例，在等離子體蝕刻過程中，一個關鍵的問題是當被蝕刻的介質層被蝕刻掉之後，應當及時停止等離子體蝕刻，以避免下層介質層受到等離子體的蝕刻而損傷，從而造成元件的失效。因此，精確判定等離子體蝕刻製程終點(endpoint）以避免因蝕刻不足或蝕刻過度導致元件失效就變得日益重要。習知技術中，通常採用光學發射光譜法(optical emission spectroscopy， OES)進行等離子體蝕刻終點監測。OES 技術主要是基於線上光譜監測設備（光譜儀）對等離子體發射出的光譜進行即時監測，由於蝕刻到不同物質層光譜會出現明顯的變化，特別當到達蝕刻終點時，因蝕刻的材料發生轉換，氣相的組成及被蝕刻薄膜都會發生化學變化，這種變化通過OES光譜訊號的強度變化表現出來。因此，通過連續監測等離子體發射，就能夠用OES終點監測方法來監測出此變化並利用它來確定薄膜被完全清除的時間。
通過光學發射光譜法（OES）監測蝕刻進程中通常使用光強度監測機構接收等離子體發射出的光，並通過光強度監測機構內的反光鏡及凸透鏡將光彙聚至光纖，通過連接在光纖上的光譜儀讀取光訊號以識別蝕刻進程。
傳統的光強度監測機構不具有調節功能，由於受到反光鏡安裝固定於反光鏡座的偏差以及等離子體裝置內的單個部件的更換維護等因素改變反應腔內的環境，而不能維持原先的彙聚至光纖上的光強度滿足光譜儀監測所需。
因此，極需一種可即時調節的光強度監測機構以使得彙聚至光纖上的光滿足光譜儀監測所需要的強度。
有鑑於此，本發明提供了一種可即時調節的光強度監測調節機構，有效解決習知技術存在的問題，使得彙聚至光纖上的光滿足光譜儀監測所需要的強度。
為實現上述目的，本發明提供一種用於等離子體處理裝置的光強度監測調節機構，包括：反光鏡座，其內固定設置有一反光鏡，用於反射等離子體蝕刻過程中產生的光；一端卡固於反光鏡座內的凸透鏡座，其內固定設置有一凸透鏡，用於將反光鏡反射入的反射光彙聚至一光纖；調節螺桿，其一端容設於凸透鏡座內，另一端固設有所述光纖；其中，所述調節螺桿相對於凸透鏡座在調節螺桿的延伸方向上移動，而改變光纖與凸透鏡之間的距離，以調整彙聚至光纖上的反射光的強度。
較佳的，所述光強度監測調節機構包括調節螺母，所述調節螺母通過螺紋配合設置於調節螺桿的外側，調節調節螺母，而使得調節螺桿相對於凸透鏡座在調節螺桿的延伸方向上移動。
較佳的，所述光強度監測調節機構包括卡箍，所述凸透鏡座與調節螺母的外周緣分別設置有環形凹槽，所述卡箍的內周緣設置有環形凸部，所述卡箍箍設於凸透鏡座與調節螺母的外側，所述環形凸部容設於環形凹槽內而使得凸透鏡座與調節螺母之間的距離保持恒定。
較佳的，所述卡箍設置成一對箍設於凸透鏡座與調節螺母的外側，所述卡箍上設置有鎖緊件，調節鎖緊件，而將卡箍對調節螺母進行鎖緊或解鎖。
較佳的，當鎖緊件處於解鎖狀態時，環形凸部自由容設於環形凹槽內，調節調節螺母可使得調節螺桿在調節螺桿的延伸方向上移動，進而調節光纖與凸透鏡之間的距離，或當鎖緊件處於鎖緊狀態時，環形凸部卡止於環形凹槽內，調節螺母與調節螺桿被鎖止，光纖與凸透鏡之間的距離被固定。
較佳的，所述鎖緊件為螺栓結構。
較佳的，所述調節螺桿與凸透鏡座之間為軸孔間隙配合而使得調節螺桿容設於凸透鏡座內且可於凸透鏡座內在調節螺桿的延伸方向上移動。
較佳的，所述調節螺桿與凸透鏡座相配合的表面中的一者凹設有長槽，而另一者的表面凸設有凸台，所述凸台容設於長槽內，而防止調節螺桿在其延伸方向上移動的過程中出現旋轉。
較佳的，所述調節螺母與調節螺桿之間為細牙螺紋配合。
較佳的，所述反光鏡座與凸透鏡座之間通過螺紋緊固連接。
較佳的，所述反光鏡座呈直角設置，直角的底端連接有延伸至等離子體處理裝置的導管，所述導管用於接收與傳遞等離子體蝕刻過程中產生的光。
本發明還提供一種用於等離子體處理裝置的光強度監測調節機構的調節方法，包括：提供一反光鏡座，其內固定設置有一反光鏡，用於反射等離子體蝕刻過程中產生的光；提供一端卡固於反光鏡座內的凸透鏡座，其內固定設置有一凸透鏡，用於將反光鏡反射入的反射光彙聚至一光纖；提供一調節螺桿，其一端容設於凸透鏡座內，另一端固設有所述光纖；其中，所述調節螺桿相對於凸透鏡座在調節螺桿的延伸方向上移動，而改變所述光纖與凸透鏡之間的距離，以調整彙聚至光纖上的反射光的強度。
較佳的，提供一調節螺母，所述調節螺母通過螺紋配合設置於調節螺桿的外側，調節調節螺母，而使得調節螺桿相對於凸透鏡座在調節螺桿的延伸方向上移動。
較佳的，提供一卡箍，於凸透鏡座與調節螺母的外周緣分別設置環形凹槽，於卡箍的內周緣設置環形凸部，令所述卡箍箍設於凸透鏡座與調節螺母的外側，使得環形凸部容設於環形凹槽內而使得凸透鏡座與調節螺母之間的距離保持恒定，調節調節螺母，使得調節螺桿相對於凸透鏡座在調節螺桿的延伸方向上移動。
較佳的，令所述卡箍設置成一對箍設於凸透鏡座與調節螺母的外側，於卡箍上設置鎖緊件，通過調節鎖緊件將卡箍對調節螺母進行鎖緊或解鎖。
較佳的，調節鎖緊件於解鎖狀態，環形凸部自由容設於環形凹槽內，調節調節螺母使得調節螺桿在調節螺桿的延伸方向上移動以改變光纖與凸透鏡之間的距離。
較佳的，調節鎖緊件於鎖緊狀態，環形凸部卡止於環形凹槽內，調節螺母與調節螺桿被鎖止，光纖與凸透鏡之間的距離被固定。
較佳的，令調節螺桿與凸透鏡座之間為軸孔間隙配合，而使得調節螺桿容設於凸透鏡座內且可於凸透鏡座內水平移動。
較佳的，於調節螺桿與凸透鏡座相配合的表面中的一者凹設長槽，而於另一者的表面凸設凸台，令凸台容設於長槽內，而防止調節螺桿在其延伸方向上移動的過程中出現旋轉。
本發明還提供一種等離子體處理裝置，包括：由複數個壁圍成的反應腔；設置在反應腔內的基座，用於固定基片；形成在反應腔內對基片進行蝕刻的等離子體處理區域；設置在反應腔壁上的光強度監測調節機構，用於監測反應腔內蝕刻進程，所述光強度監測調節機構具有上述任一項所述特徵；光譜儀，用於讀取反射至光纖上的反射光訊號。
相較於習知技術，本發明提供的技術方案至少具有以下優點：本發明中的光強度監測調節機構，可在等離子體裝置內的單個部件進行更換及任何改變等離子體裝置內的原始狀態的情況下，均可即時進行調節，以保證彙聚至光纖上的光符合光譜儀精確監測所需要的光強度範圍。且在調節的過程中，光纖不會出現旋轉而扭轉打結的不良現象，且在調節完畢之後，可對光強度監測調節機構進行鎖緊，鎖緊過程也不會影響調節的結果。光強度監測調節機構結構緊湊，滿足狹小空間內的佈局要求，且調節精度高，不會影響光的採集效果，鎖緊功能牢固可靠。
為使本發明實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，所屬技術領域中具有通常知識者在沒有做出進步性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。
圖1至圖3均描述了一種光強度監測調節機構100，用於等離子體處理裝置。
圖4描述了設置有光強度監測調節機構100的等離子體處理裝置，光強度監測調節機構100設置在反應腔200的某一壁上。光強度監測調節機構100包括由複數個壁圍成的反應腔200；設置在反應腔200內的基座201，用於固定待處理的基片；形成在反應腔200內對基片進行蝕刻的等離子體處理區域；光譜儀202，用於讀取光強度監測調節機構100監測到的反應腔200內蝕刻進程的反射光訊號。
請參照圖1至圖3所示，光強度監測調節機構100包括反光鏡座110、一端卡固於反光鏡座110內的凸透鏡座120、一端容設於凸透鏡座120內的調節螺桿130、螺紋配合設置於調節螺桿130的外側的調節螺母140及箍設於凸透鏡座120與調節螺母140的外側的卡箍150，鎖定有光纖161的光纖鎖定端160鎖止於調節螺桿130的端部。
反光鏡座110呈直角設置，直角的底端連接有延伸至等離子體處理裝置的導管111。導管111用於接收與傳遞等離子體蝕刻過程中產生的光。反光鏡座110內固定設置有一反光鏡112，用於反射等離子體蝕刻過程中產生的光。
凸透鏡座120呈長筒狀，其內固定設置有一凸透鏡121，用於將反光鏡112反射入的反射光彙聚至光纖161。凸透鏡座120的一端與反光鏡座110通過螺紋緊固連接而使得凸透鏡座120的一端卡固於反光鏡座110內，另一端延伸出反光鏡座110。
調節螺桿130呈桿狀，調節螺桿130與凸透鏡座120之間為軸孔間隙配合而使得調節螺桿130在凸透鏡座120內有一定的相對位置精度而容設於凸透鏡座120內並延伸出凸透鏡座120，且調節螺桿130可於凸透鏡座120內沿調節螺桿130延伸方向移動。調節螺桿130與凸透鏡座120相配合的表面中的一者凹設有長槽，而另一者的表面凸設有凸台，較佳的，於調節螺桿130的外表面凸設凸台131及凸透鏡座120的內表面凹設長槽122。凸台131容設於長槽122內而相當於一導軌結構，凸台131可沿著長槽122的導向而水平移動，從而防止調節螺桿130移動的過程中出現旋轉。調節螺桿130延伸出凸透鏡座120的部分的端部鎖止有光纖鎖定端160。
調節螺母140設置於調節螺桿130的外側，且與調節螺桿130之間通過細牙螺紋配合連接。
卡箍150設置成一對箍設於凸透鏡座120與調節螺母140的外側。凸透鏡座120與調節螺母140的外周緣分別設置有環形凹槽D，卡箍150的內周緣設置有環形凸部151，環形凸部151容設於環形凹槽D內而使得凸透鏡座120與調節螺母140之間的距離保持恒定。卡箍150上設置有鎖緊件152（參圖1），較佳的，該鎖緊件152為螺栓結構，調節鎖緊件152，而將卡箍150對調節螺母140進行鎖緊或解鎖，鎖緊狀態下：卡箍150的環形凸部151卡緊於環形凹槽D內（參圖3）；解鎖狀態下：卡箍150的環形凸部151容設於環形凹槽D內（參圖2），此時並未鎖緊，卡箍150的環形凸部151可起到使凸透鏡座120與調節螺母140兩者水平位置相對不變。
光纖鎖定端160，其內鎖定有光纖161。光纖鎖定端160鎖止於調節螺桿130的端部。光纖161連接至一光譜儀202。
以下參照圖2及圖3介紹光強度監測調節機構100的調節方法：
凸透鏡座120與反光鏡座110之間為螺紋緊固連接，兩者之間呈現固定連接的不可移動狀態。由於調節螺母140與凸透鏡座120上的環形凹槽D受到卡箍150的環形凸部151的限位，而使得調節螺母140與凸透鏡座120之間的距離保持恒定。因此調節螺母140、凸透鏡座120與反光鏡座110三者之間保持恒定的位置關係，即三者的位置被固定。
調節鎖緊件152於解鎖狀態，環形凸部151自由容設於環形凹槽D內，此時可通過扳手或手動調節調節螺母140，由於調節螺母140與調節螺桿130之間為細牙螺紋配合，且調節螺母140所在的位置被固定，此時調節螺桿130受到調節螺母140的調節而相對於凸透鏡座120在調節螺桿130的延伸方向上移動。另，調節螺桿130在相對於凸透鏡座120相對移動的過程中，由於調節螺桿130上的凸台131受到凸透鏡座120上的長槽122的限位，而使得調節螺桿130只能在其延伸方向上移動，而限制其旋轉，如此可防止調節螺母140帶著調節螺桿130原地旋轉而未在調節螺桿130的延伸方向上移動，也能防止光纖161被帶動移位元的過程中出現旋轉而扭轉打結。此時，固定設置於凸透鏡座120內的凸透鏡121與固定設置於調節螺桿130的光纖161之間的距離改變。通過連接於光纖161的光譜儀202讀取調節過程中的即時讀數，以調整彙聚至光纖161上的反射光的強度，以將出光強度調整在一個規定的範圍內。
調整完畢之後，可通過調節鎖緊件152於鎖緊狀態，環形凸部151卡止於環形凹槽D內，調節螺母140與調節螺桿130被鎖止，光纖161與凸透鏡121之間的距離被固定，凸透鏡121彙聚至光纖161上的出光強度被鎖定。
在等離子體處理裝置內進行等離子體蝕刻製程處理的過程中，等離子體蝕刻晶圓不同層的時候，會產生不同的強度的光，光通過反光鏡座110底部的導管111傳遞至反光鏡座110內設置的反光鏡112上，該反光鏡112將光反射至設置於凸透鏡座120內的凸透鏡121上，凸透鏡121將反射入的光彙聚至光纖161，光纖161連接至一光譜儀202，通過光譜儀202監測光譜辨別蝕刻處理的進程。
傳統的光強度監測機構不具有調節功能，由於受到反光鏡安裝固定於反光鏡座的偏差以及等離子體裝置內的單個部件的更換維護等因素，而導致傳統的光強度監測機構不能很好的將彙聚至光纖上的光滿足光譜儀所需要的強度監測範圍，而致使連接至光纖上的光譜儀不能對蝕刻進程進行精確的監測。
而本發明中的光強度監測調節機構100，可在等離子體裝置內的單個部件進行更換及任何改變等離子體裝置內的原始狀態的情況下，均可即時進行調節，以保證彙聚至光纖161上的光符合光譜儀202精確監測所需要的光強度範圍。且在調節的過程中，光纖161不會出現旋轉而扭轉打結的不良現象，且在調節完畢之後，可對光強度監測調節機構100進行鎖緊，鎖緊過程也不會影響調節的結果。光強度監測調節機構100結構緊湊，滿足狹小空間內的佈局要求，且調節精度高，不會影響光的採集效果，鎖緊功能牢固可靠。
儘管本發明的內容已經通過上述較佳實施例作了詳細介紹，但應當認識到上述的描述不應被認為是對本發明的限制。在所屬技術領域中具有通常知識者閱讀了上述內容後，對於本發明的多種修改和替代都將是顯而易見的。因此，本發明的保護範圍應由所附的申請專利範圍來限定。
100:光強度監測調節機構 110:反光鏡座 111:導管 112:反光鏡 120:凸透鏡座 121:凸透鏡 122:長槽 130:調節螺桿 131:凸台 140:調節螺母 150:卡箍 151:環形凸部 152:鎖緊件 160:光纖鎖定端 161:光纖 200:反應腔 201:基座 202:光譜儀 D:環形凹槽
為了更清楚地說明本發明實施例的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對於所屬技術領域中具有通常知識者來講，在不付出進步性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。 圖1公開了一種用於等離子體處理裝置的光強度監測調節機構的立體圖； 圖2公開了圖1所示的光強度監測調節機構處於解鎖狀態下的示意圖； 圖3公開了圖1所示的光強度監測調節機構處於鎖緊狀態下的示意圖；以及 圖4公開了具有光強度監測調節機構的等離子體處理裝置的示意圖。
100:光強度監測調節機構
110:反光鏡座
112:反光鏡
120:凸透鏡座
121:凸透鏡
122:長槽
130:調節螺桿
131:凸台
140:調節螺母
150:卡箍
151:環形凸部
152:鎖緊件
160:光纖鎖定端
161:光纖

Claims (20)

  1. 一種用於等離子體處理裝置的光強度監測調節機構，其中，包括： 一反光鏡座，其內固定設置有一反光鏡，用於反射等離子體蝕刻過程中產生的光； 一凸透鏡座，其一端卡固於該反光鏡座內，其內固定設置有一凸透鏡，用於將該反光鏡反射入的反射光彙聚至一光纖；以及 一調節螺桿，其一端容設於該凸透鏡座內，另一端固設有該光纖； 其中，該調節螺桿相對於該凸透鏡座在該調節螺桿的延伸方向上移動，而改變該光纖與該凸透鏡之間的距離，以調整彙聚至該光纖上的反射光的強度。
  2. 如請求項1所述的光強度監測調節機構，其中：該光強度監測調節機構包括一調節螺母，該調節螺母通過螺紋配合設置於該調節螺桿的外側，調節該調節螺母，而使得該調節螺桿相對於該凸透鏡座在該調節螺桿的延伸方向上移動。
  3. 如請求項2所述的光強度監測調節機構，其中：該光強度監測調節機構包括一卡箍，該凸透鏡座與該調節螺母的外周緣分別設置有一環形凹槽，該卡箍的內周緣設置有一環形凸部，該卡箍箍設於該凸透鏡座與該調節螺母的外側，該環形凸部容設於該環形凹槽內而使得該凸透鏡座與該調節螺母之間的距離保持恒定。
  4. 如請求項3所述的光強度監測調節機構，其中：該卡箍設置成一對箍設於該凸透鏡座與該調節螺母的外側，該卡箍上設置有該鎖緊件，調節該鎖緊件，而將該卡箍對該調節螺母進行鎖緊或解鎖。
  5. 如請求項4所述的光強度監測調節機構，其中：當該鎖緊件處於解鎖狀態時，該環形凸部自由容設於該環形凹槽內，調節該調節螺母可使得該調節螺桿在該調節螺桿的延伸方向上移動，進而調節該光纖與該凸透鏡之間的距離，或當該鎖緊件處於鎖緊狀態時，該環形凸部卡止於該環形凹槽內，該調節螺母與該調節螺桿被鎖止，該纖與該凸透鏡之間的距離被固定。
  6. 如請求項4所述的光強度監測調節機構，其中：該鎖緊件為螺栓結構。
  7. 如請求項1所述的光強度監測調節機構，其中：該調節螺桿與該凸透鏡座之間為軸孔間隙配合而使得該調節螺桿容設於該凸透鏡座內且可於該凸透鏡座內在該調節螺桿的延伸方向上移動。
  8. 如請求項8所述的光強度監測調節機構，其中：該調節螺桿與該凸透鏡座相配合的表面中的一者凹設有一長槽，而另一者的表面凸設有一凸台，該凸台容設於該長槽內，而防止該調節螺桿在其延伸方向上移動的過程中出現旋轉。
  9. 如請求項1所述的光強度監測調節機構，其中：該調節螺母與該調節螺桿之間為細牙螺紋配合。
  10. 如請求項1所述的光強度監測調節機構，其中：該反光鏡座與該凸透鏡座之間通過螺紋緊固連接。
  11. 如請求項1所述的光強度監測調節機構，其中：該反光鏡座呈直角設置，直角的底端連接有延伸至一等離子體處理裝置的一導管，該導管用於接收與傳遞等離子體蝕刻過程中產生的光。
  12. 一種用於等離子體處理裝置的光強度監測調節機構的調節方法，其中，包括： 提供一反光鏡座，其內固定設置有一反光鏡，用於反射等離子體蝕刻過程中產生的光； 提供一端卡固於反光鏡座內的一凸透鏡座，其內固定設置有一凸透鏡，用於將該反光鏡反射入的反射光彙聚至一光纖；以及 提供一調節螺桿，其一端容設於該凸透鏡座內，另一端固設有該光纖； 其中，該調節螺桿相對於該凸透鏡座在該調節螺桿的延伸方向上移動，而改變該光纖與該凸透鏡之間的距離，以調整彙聚至該光纖上的反射光的強度。
  13. 如請求項12所述的光強度監測調節機構的調節方法，其中：提供一調節螺母，該調節螺母通過螺紋配合設置於該調節螺桿的外側，調節該調節螺母，而使得該調節螺桿相對於該凸透鏡座在該調節螺桿的延伸方向上移動。
  14. 如請求項13所述的光強度監測調節機構的調節方法，其中：提供一卡箍，於該凸透鏡座與該調節螺母的外周緣分別設置一環形凹槽，於該卡箍的內周緣設置一環形凸部，令該卡箍箍設於該凸透鏡座與該調節螺母的外側，使得該環形凸部容設於該環形凹槽內而使得該凸透鏡座與該調節螺母之間的距離保持恒定，調節該調節螺母，使得該調節螺桿相對於該凸透鏡座在該調節螺桿的延伸方向上移動。
  15. 如請求項13所述的光強度監測調節機構的調節方法，其中：令該卡箍設置成一對箍設於該凸透鏡座與該調節螺母的外側，於該卡箍上設置一鎖緊件，通過調節該鎖緊件將該卡箍對該調節螺母進行鎖緊或解鎖。
  16. 如請求項15所述的光強度監測調節機構的調節方法，其中：調節該鎖緊件於解鎖狀態，該環形凸部自由容設於該環形凹槽內，調節該調節螺母使得該調節螺桿在該調節螺桿的延伸方向上移動以改變該光纖與該凸透鏡之間的距離。
  17. 如請求項15所述的光強度監測調節機構的調節方法，其中：調節該鎖緊件於鎖緊狀態，該環形凸部卡止於該環形凹槽內，該調節螺母與該調節螺桿被鎖止，該光纖與該凸透鏡之間的距離被固定。
  18. 如請求項12所述的光強度監測調節機構的調節方法，其中：令該調節螺桿與該凸透鏡座之間為軸孔間隙配合，而使得該調節螺桿容設於該凸透鏡座內且可於該凸透鏡座內水平移動。
  19. 如請求項18所述的光強度監測調節機構的調節方法，其中：於該調節螺桿與該凸透鏡座相配合的表面中的一者凹設一長槽，而於另一者的表面凸設一凸台，令該凸台容設於該長槽內，而防止該調節螺桿在其延伸方向上移動的過程中出現旋轉。
  20. 一種等離子體處理裝置，其中，包括： 一反應腔，其由複數個壁圍成的； 一基座，其設置在該反應腔內，用於固定一基片； 一等離子體處理區域，其形成在該反應腔內對該基片進行蝕刻的區域； 一光強度監測調節機構，其設置在該反應腔壁上，用於監測該反應腔內蝕刻進程，該光強度監測調節機構具有如請求項1至請求項11中任一項所述的特徵； 一光譜儀，用於讀取反射至光纖上的反射光訊號。
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