TW202121558A - 真空腔內的自動水平調整系統以及真空浮動高度調整器 - Google Patents
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Abstract
本發明提出一種真空腔內的自動水平調整系統以及真空浮動高度調整器。自動水平調整系統包括腔體、平台以及多個高度調整器。平台位於腔體內。多個高度調整器設置在腔體的腔體底部的多個邊緣位置。所述多個高度調整器各別的一端部裝設在平台的多個底部位置,以使平台水平地位於腔體內。當腔體發生腔體形變時,所述多個高度調整器用以吸收腔體形變所產生的位移,以使平台維持水平。
Description
本發明是有關於一種調整系統,且特別是有關於一種真空腔內的自動水平調整系統以及真空浮動高度調整器。
在一般具有真空腔的製程設備中,通常不會設置用於內部製程平台的水平調整裝置。然而,隨著製程對象的體積越來越大,真空腔的腔體的體積也越來越大。對此,當腔體抽真空時,若腔體的體積越大,則腔體的各個腔壁因抽真空所受到的大氣壓力也越大。換言之,腔體的各個腔壁將可能對應地發生形變,因而造成裝設在腔體的腔壁或腔體底部的其他設備構件,將同時地發生位置的偏移,進而導致製程誤差增加。有鑑於此,以下將提出一種自動水平調整系統以及真空浮動高度調整器來有效地克服上述問題。
本發明提供一種真空腔內的自動水平調整系統以及真空浮動高度調整器,可提供有效的調整真空腔內的平台的水平以及高度的功能。
本發明的真空腔內的自動水平調整系統包括腔體、平台以及多個高度調整器。平台位於腔體內。多個高度調整器設置在腔體的腔體底部的多個邊緣位置。所述多個高度調整器各別的一端部裝設在平台的多個底部位置,以使平台水平地位於腔體內。當腔體發生腔體形變時,所述多個高度調整器用以吸收腔體形變所產生的位移,以使平台維持水平。
在本發明的一實施例中,上述的高度調整器的數量為至少三個。
在本發明的一實施例中,上述的腔體底部的底面為四邊形。所述多個高度調整器的數量為四個。所述多個邊緣位置分別位於腔體底部的四個角落。
在本發明的一實施例中,上述的多個高度調整器各別的另一端部位於腔體外。自動水平調整系統更包括多個高度感測器、多個馬達單元以及多個控制器。所述多個高度感測器設置在平台的所述多個底部位置的至少一部分,以提供多個高度資料。所述多個馬達單元位於腔體外,並且設置在所述多個高度調整器的所述多個另一端部,以驅動所述多個高度調整器。所述多個控制器耦接所述多個高度感測器以及所述多個馬達單元。所述多個控制器用以依據所述多個高度資料來控制所述多個馬達單元,以藉由驅動所述多個高度調整器來調整並維持平台的高度。
在本發明的一實施例中,上述的多個高度調整器分別為真空浮動高度調整器。真空浮動高度調整器包括法蘭座、第一法蘭、法蘭蓋、第二法蘭、可繞性波浪管以及貫穿軸桿。法蘭座固設在腔體內的腔體底部。第一法蘭裝設在法蘭座的一側。法蘭座與第一法蘭之間具有O型環。法蘭蓋固設在平台的底部。第二法蘭裝設在法蘭蓋的一側。可繞性波浪管設置在第一法蘭與第二法蘭之間。貫穿軸桿貫穿法蘭座、第一法蘭、可繞性波浪管、法蘭蓋以及第二法蘭。貫穿軸桿包括球形浮動接頭位於可繞性波浪管內,以使法蘭蓋與法蘭座之間形成可位移機構。
在本發明的一實施例中,上述的法蘭座的一部分貫穿腔體底部。貫穿軸桿更包括:第一軸桿部、調整桿以及第二軸桿部。第一軸桿部的一部分貫穿法蘭座以及第一法蘭,並且另一部分貫穿可繞性波浪管,以連接球形浮動接頭。調整桿位於腔體外,並且裝設在法蘭座的所述部分,以與第一軸桿部連動,以使法蘭蓋與法蘭座之間形成高度可調整機構。第二軸桿部的一部分貫穿第二法蘭,以固設在法蘭蓋的該側。第二軸桿部的另一部分貫穿可繞性波浪管,以連接球形浮動接頭。
在本發明的一實施例中,上述的調整桿更透過聯軸器與馬達單元連接。馬達單元用以驅動調整桿,以調整法蘭蓋與法蘭座之間的高度。
本發明的真空浮動高度調整器適於設置在腔體內,並且用以支撐平台。真空浮動高度調整器包括法蘭座、第一法蘭、法蘭蓋、第二法蘭、可繞性波浪管以及貫穿軸桿。法蘭座固設在腔體內的腔體底部。第一法蘭裝設在法蘭座的一側。法蘭座與第一法蘭之間具有O型環。法蘭蓋固設在平台的底部。第二法蘭裝設在法蘭蓋的一側。可繞性波浪管設置在第一法蘭與第二法蘭之間。貫穿軸桿貫穿法蘭座、第一法蘭、可繞性波浪管、法蘭蓋以及第二法蘭。貫穿軸桿包括球形浮動接頭位於可繞性波浪管內,以使法蘭蓋與法蘭座之間形成可位移機構。
基於上述,真空腔內的自動水平調整系統可藉由設置多個真空浮動高度調整器來支撐真空腔內的平台,並且可自動地調整真空腔內的平台的水平,以及對應地調整真空腔內的平台的高度。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
為了使本揭露之內容可以被更容易明瞭,以下特舉實施例做為本揭露確實能夠據以實施的範例。另外,凡可能之處,在圖式及實施方式中使用相同標號的元件/構件/步驟,係代表相同或類似部件。
圖1是依照本發明的一實施例的自動水平調整系統的方塊示意圖。參考圖1,圖1的自動水平調整系統100適於應用在真空腔內的平台的水平調整工作。在本實施例中,自動水平調整系統100包括腔體110、多個高度調整器121~124、多個高度感測器131~133以及多個控制單元141~143。在本實施例中,高度調整器121~124以及高度感測器131~133設置在腔體110內,並且控制器141~143設置在腔體110外。控制器141~143耦接(電性連接)至高度調整器121~124以及高度感測器131~133。
在本實施例中,高度調整器121~124例如設置在腔體110的腔體底部的多個邊緣位置,並且用以支撐腔體110內的一平台。並且,高度調整器121~124各別的一端部裝設在所述平台的多個底部位置,以使平台可水平地位於腔體110內。在本實施例中,高度感測器131~133設置在所述平台的多個感測位置,其中所述多個感測位置對應於高度調整器121~123的位置。高度感測器131~133可感測所述平台的高度變化,以對應提供多個高度資料至控制器141~143。
具體而言,當腔體110發生形變時,高度調整器121~124可自動地維持腔體110內的所述平台的水平。並且,高度感測器131~133可感測腔體110內的所述平台的高度。若腔體110內的所述平台的高度因腔體110發生形變而改變時,則高度感測器131~133輸出至控制器141~143的高度資料將會改變,因此控制器141~143可依據高度資料的變化來對應控制或操作高度調整器121~124在腔體110內支撐所述平台所提供的高度距離,以使所述平台在腔體110發生形變的情況下不僅可維持水平,且還可維持在相同高度。在一實施例中,高度調整器121~124可各包括馬達單元(圖未示),並且控制器141~143可例如輸出控制信號至高度調整器121~124的所述多個馬達單元,以驅動高度調整器121~124進行高度調整。
圖2是依照本發明的一實施例的自動水平調整系統的側視圖。同時參考圖1以及圖2,圖2為圖1的一種範例實施例。在本實施例中,腔體110為用於抽真空的真空腔(vacuum chamber)。腔體110可例如是用於半導體製程的濺鍍設備(sputter)的真空腔,並且平台150可例如是半導體製程設備內的相關製程平台或遮罩平台等。值得注意的是,本發明並不限制腔體110的類型以及用途,並且本實施例的自動水平調整系統100可應用於各種製程設備的真空腔。
在本實施例中,腔體110的腔體底部的底面可為四邊形,並且上述的多個邊緣位置可分別位於腔體底部的四個角落。值得注意的是,由於當腔體110發生形變時,腔體底部的四個角落的位移量應該為最少,因此高度調整器121~124的最佳裝設位置即為腔體底部的四個角落。並且,從另一角度而言,若高度調整器121~124可所需調整的位移量越少,則高度調整器121~124可更佳的調整效率。然而,在一實施例中,高度調整器121~124也可設置在腔體底部的其他邊緣位置,或依據不同的使用需求而對應設計之。
具體而言,在本實施例中,當腔體110抽真空時,腔體110會因為大氣壓力而發生形變。對此,如圖2所示腔體110的各個腔壁發生彎曲,以致於設置在腔體110內的設備也將會隨著腔體110的形變而對應發生位移。值得注意的是,所述位移實際上包括因輻射狀的擴張形變所造成的位移以及高度的位移。在本實施例中,高度調整器121~124與腔體底部固設的部分將會隨著腔體底部的形變而位移。高度調整器121~124各別的一端部裝設在平台150的多個底部位置,並且高度調整器121~124各別的一端部將會自動地進行調整,以使平台150的平台上表面仍可維持為水平。因此,高度調整器121~124可有效地避免平台150因輻射狀的擴張形變所造成的位移。
接著,高度感測器131~133鄰近於高度調整器121~123的位置而設置,其中高度感測器131~133可提供所述三個不同位置的高度資料至控制器141~143。在本實施例中,控制器141~143可依據高度資料來控制高度調整器121~123在腔體110當中的高度,以使有效地避免平台150的高度因腔體形變而改變。因此,本實施例的自動水平調整系統100還可提供自動的高度調整效果。然而,關於本實施例中所述的高度調整器121~124的自動調整手段,以下將以圖3以及圖4來進一步說明之。
更進一步而言,本實施例的高度感測器131~133的數量為三個。控制器141是依據高度感測器131提供的高度資料來控制高度調整器121。控制器142是依據高度感測器132提供的高度資料來控制高度調整器122。控制器143是依據高度感測器133提供的高度資料來同時控制高度調整器123、124。值得注意的是,對於自動控制的機制而言,若高度調整器121~124分別由四個不同的控制器來分別進行獨立的控制,則當高度調整器121~124同時作動時,平台150的水平調整實際上將無法達到平衡。因此,本實施例是以三個控制器141~143來控制四個高度調整器121~124,以使平台150的水平調整來達到平衡,而實現有效的水平調整效果。然而,在一實施例中,高度調整器的數量為至少三個而不限於圖1及圖2所示,並且高度感測器以及控制器的數量也不限於圖1及圖2所示。事實上,本發明的高度調整器、高度感測器以及控制器的數量可隨著不同腔體110的形狀或平台150的形狀來基於上述說明而對應設計之。
在本實施例中,高度感測器131~133可為接觸式的感測器。舉例而言,高度感測器131~133可各別包括量測機構以及電位計。所述量測機構耦接所述電位計。所述量測機構可抵靠在平台150的底部。當平台150發生高度變化時,所述量測機構將發生偏移而使電位計輸出的電信號對應改變,而使控制器141~143所取得的高度資料也將對應改變。然而,本發明的高度感測器131~133的機構型式、配置位置甚至感測器類型都不限於圖2所示。本發明的高度感測器可以是其他接觸式的感測器或是非接觸式的感測器。例如,在一實施例中,高度感測器131~133可以是一種電荷耦合器件(Charge-Coupled Device,CCD),並且可藉由影像感測的方式來感測平台150的高度變化。
另外,在本發明的其他應用實施例中,本發明的自動水平調整系統也可只具有多個高度調整器,而不具有高度感測器以及控制器。對此,由於本發明的高度調整器已足以維持腔體內的平台的水平,因此在不在意高度變化或高度變化較少的其他應用實施例中,自動水平調整系統也可只配置多個高度調整器,即可提供自動的水平調整效果。
圖3是依照本發明的一實施例的真空浮動高度調整器的機構示意圖。參考圖3,上述的高度調整器121~124可各別以本實施例的真空浮動高度調整器300來實現之。在本實施例中,真空浮動高度調整器300包括法蘭座320、第一法蘭322、可繞性波浪管330、球形浮動接頭340、法蘭蓋350、第二法蘭352以及貫穿軸桿360。法蘭座320固設在腔體內的腔體底部310的真空側(腔體底部310朝向+Z方向的一側)。第一法蘭322裝設在法蘭座320的一側。第一法蘭322與法蘭座320之間栓鎖多個栓鎖件324,並且法蘭座320與第一法蘭322之間具有O型環326。當腔體抽真空時,O型環326可用於避免空氣從大氣側(腔體底部310朝向-Z方向的一側)洩漏至真空側,以助於維持腔體的真空度。此外,法蘭座320與腔體底部310交界縫隙可具有焊接件328,同樣可助於維持腔體的真空度。
在本實施例中,法蘭蓋350固設在平台的底部(如圖2的平台150的底部)。第二法蘭352裝設在法蘭蓋350的一側。第二法蘭352與法蘭蓋350之間栓鎖多個栓鎖件354,並且第二法蘭352與法蘭蓋350之間具有O型環356。可繞性波浪管330設置在第一法蘭322與第二法蘭352之間。貫穿軸桿360貫穿法蘭座320、第一法蘭322、可繞性波浪管330、法蘭蓋350以及第二法蘭352。貫穿軸桿360包括球形浮動接頭340,並且位於可繞性波浪管330內。可繞性波浪管330可同樣用於避免空氣從大氣側洩漏至真空側,以助於維持腔體的真空度。
在本實施例中,當腔體發生形變時,法蘭蓋350(包括第二法蘭352)與法蘭座320(包括第一法蘭322)之間形成可位移機構。換言之,法蘭蓋350與第二法蘭352所抵靠在腔體底部310的平面可不平行於與法蘭座320與第一法蘭322所抵靠在平台的底部的平面,並且法蘭座320與第一法蘭322所抵靠在平台的底部的平面可維持為水平面。因此,本實施例的真空浮動高度調整器300可對設置在真空浮動高度調整器300上的平台進行自動的水平調整功能。
在本實施例中,法蘭座320的一部分貫穿腔體底部310。貫穿軸桿360包括第一軸桿部361、調整桿362、第二軸桿部363以及球形浮動接頭340。第一軸桿部361的一部分貫穿法蘭座320以及第一法蘭322,並且另一部分貫穿可繞性波浪管330,以連接球形浮動接頭340。調整桿362位於腔體外(腔體底部310的大氣側),並且裝設在法蘭座320的大氣側的部分,以與第一軸桿部361連動,以使法蘭蓋350與法蘭座320之間形成高度可調整機構。第二軸桿部363一部分貫穿第二法蘭352,以固設在法蘭蓋350的一側,並且另一部分貫穿可繞性波浪管330,以連接球形浮動接頭340。值得注意的是,本實施例的調整桿362可提供使用者以手動的方式來轉動之,以微調法蘭蓋350至腔體底部310之間的高度距離。本實施例的真空浮動高度調整器300可對設置在真空浮動高度調整器300上的平台進行手動的水平調整功能。
圖4是依照本發明的另一實施例的真空浮動高度調整器的機構示意圖。參考圖4,上述的高度調整器121~124可各別以本實施例的真空浮動高度調整器400來實現之。在本實施例中,真空浮動高度調整器400包括法蘭座420、第一法蘭422、可繞性波浪管430、球形浮動接頭440、法蘭蓋450、第二法蘭452以及貫穿軸桿460。法蘭座420固設在腔體內的腔體底部410的真空側(腔體底部410朝向+Z方向的一側)。第一法蘭422裝設在法蘭座420的一側。第一法蘭422與法蘭座420之間栓鎖多個栓鎖件424,並且法蘭座420與第一法蘭422之間具有O型環426。當腔體抽真空時,O型環426可用於避免空氣從大氣側(腔體底部310朝向-Z方向的一側)洩漏至真空側,以助於維持腔體的真空度。此外,法蘭座420與腔體底部410交界縫隙可具有焊接件428,同樣可助於維持腔體的真空度。
在本實施例中,法蘭蓋450固設在平台的底部(如圖2的平台150的底部)。第二法蘭4552裝設在法蘭蓋450的一側。第二法蘭452與法蘭蓋450之間栓鎖多個栓鎖件454,並且第二法蘭452與法蘭蓋450之間具有O型環456。可繞性波浪管430設置在第一法蘭422與第二法蘭452之間。貫穿軸桿460貫穿法蘭座420、第一法蘭422、可繞性波浪管430、法蘭蓋450以及第二法蘭452。貫穿軸桿460包括球形浮動接頭440,並且位於可繞性波浪管430內。可繞性波浪管430可同樣用於避免空氣從大氣側洩漏至真空側,以助於維持腔體的真空度。
在本實施例中,當腔體發生形變時,法蘭蓋450(包括第二法蘭452)與法蘭座420(包括第一法蘭422)之間形成可位移機構。換言之,法蘭蓋450與第二法蘭452所抵靠在腔體底部410的平面可不平行於與法蘭座420與第一法蘭422所抵靠在平台的底部的平面,並且法蘭座420與第一法蘭422所抵靠在平台的底部的平面可維持為水平面。因此,本實施例的真空浮動高度調整器400可對設置在真空浮動高度調整器400上的平台進行自動的水平調整功能。
在本實施例中,法蘭座420的一部分貫穿腔體底部410。貫穿軸桿460包括第一軸桿部461、調整桿462、第二軸桿部463以及球形浮動接頭440。第一軸桿部461的一部分貫穿法蘭座420以及第一法蘭422,並且另一部分貫穿可繞性波浪管430,以連接球形浮動接頭440。調整桿462位於腔體外(腔體底部410的大氣側),並且裝設在法蘭座420的大氣側的部分,以與第一軸桿部461連動,以使法蘭蓋450與法蘭座420之間形成高度可調整機構。第二軸桿部463一部分貫穿第二法蘭452,以固設在法蘭蓋450的一側,並且另一部分貫穿可繞性波浪管430,以連接球形浮動接頭440。
相較於圖3實施例,本實施例調整桿462進一步連接聯軸器470,並且經由聯軸器470與馬達單元480連接。值得注意的是,本實施例的調整桿462是以自動控制的方式來轉動之。馬達單元480可耦接如上述實施例所述的控制器,其中控制器可接收高度感測器所提供的高度資料,以依據高度資料的變化來對應微調法蘭蓋450至腔體底部410之間的高度距離。因此,本實施例的真空浮動高度調整器400可對設置在真空浮動高度調整器400上的平台進行自動的高度調整功能。
綜上所述,本發明的真空腔內的自動水平調整系統可藉由設置多個真空浮動高度調整器來支撐真空腔內的平台。因此,當腔體發生形變時,自動水平調整系統的多個真空浮動高度調整器可自動地調整真空腔內的平台的水平,並且真空浮動高度調整器還可搭配高度感測器來取得真空腔內的平台的高度變化,進而對應地調整真空腔內的平台的高度。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明的精神和範圍內,當可作些許的更動與潤飾,故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100:自動水平調整系統
110:腔體
121~124、300、400:高度調整器
131~133:高度感測器
141~143:控制器
150:平台
310、410:腔體底部
320、420:法蘭座
322、422:第一法蘭
324、354、424、454:栓鎖件
326、356、426、456:O型環
328、428:焊接件
330、430:可繞性波浪管
340、440:球形浮動接頭
350、450:法蘭蓋
352、452:第二法蘭
360、460:貫穿軸桿
361、461:第一軸桿部
362、462:調整桿
363、463:第二軸桿部
470:聯軸器
480:馬達單元
圖1是依照本發明的一實施例的自動水平調整系統的方塊示意圖。
圖2是依照本發明的一實施例的自動水平調整系統的側視圖。
圖3是依照本發明的一實施例的真空浮動高度調整器的機構示意圖。
圖4是依照本發明的另一實施例的真空浮動高度調整器的機構示意圖。
100:自動水平調整系統
110:腔體
121~124:高度調整器
131~133:高度感測器
141~143:控制器
Claims (10)
- 一種真空腔內的自動水平調整系統,包括: 一腔體; 一平台,位於該腔體內;以及 多個高度調整器,設置在該腔體的一腔體底部的多個邊緣位置,並且該些高度調整器各別的一端部裝設在該平台的多個底部位置,以使該平台水平地位於該腔體內, 其中當該腔體發生一腔體形變時,該些高度調整器用以吸收該腔體形變所產生的位移,以使該平台維持水平。
- 如申請專利範圍第1項所述的自動水平調整系統,其中該些高度調整器的數量為至少三個。
- 如申請專利範圍第1項所述的自動水平調整系統,其中該腔體底部的一底面為一四邊形,並且該些高度調整器的數量為四個,其中該些邊緣位置分別位於該腔體底部的四個角落。
- 如申請專利範圍第1項所述的自動水平調整系統,其中該些高度調整器各別的另一端部位於該腔體外,並且該自動水平調整系統更包括: 多個高度感測器,設置在該平台的該些底部位置的至少一部分,以提供多個高度資料; 多個馬達單元,位於該腔體外,並且設置在該些高度調整器的該些另一端部,以驅動該些高度調整器;以及 多個控制器,耦接該些高度感測器以及該些馬達單元,並且用以依據該些高度資料來控制該些馬達單元,以藉由驅動該些高度調整器來調整並維持該平台的高度。
- 如申請專利範圍第1項所述的自動水平調整系統,其中該些高度調整器分別為一真空浮動高度調整器,並且該真空浮動高度調整器包括: 一法蘭座,固設在該腔體內的該腔體底部; 一第一法蘭,裝設在該法蘭座的一側,並且該法蘭座與該第一法蘭之間具有一O型環; 一法蘭蓋,固設在該平台的底部; 一第二法蘭,裝設在該法蘭蓋的一側; 一可繞性波浪管,設置在該第一法蘭與該第二法蘭之間;以及 一貫穿軸桿,貫穿該法蘭座、該第一法蘭、該可繞性波浪管、該法蘭蓋以及該第二法蘭,並且包括一球形浮動接頭位於該可繞性波浪管內,以使該法蘭蓋與該法蘭座之間形成一可位移機構。
- 如申請專利範圍第5項所述的自動水平調整系統,其中該法蘭座的一部分貫穿該腔體底部,並且該貫穿軸桿更包括: 一第一軸桿部,一部分貫穿該法蘭座以及該第一法蘭,並且另一部分貫穿該可繞性波浪管,以連接該球形浮動接頭; 一調整桿,位於該腔體外,並且裝設在該法蘭座的該部分,以與該第一軸桿部連動,以使該法蘭蓋與該法蘭座之間形成一高度可調整機構;以及 一第二軸桿部,一部分貫穿該第二法蘭,以固設在該法蘭蓋的該側,並且另一部分貫穿該可繞性波浪管,以連接該球形浮動接頭。
- 如申請專利範圍第6項所述的自動水平調整系統,其中該調整桿更透過一聯軸器與一馬達單元連接,並且該馬達單元用以驅動該調整桿,以調整該法蘭蓋與該法蘭座之間的一高度。
- 一種真空浮動高度調整器,適於設置在一腔體內,並且用以支撐一平台,其中該真空浮動高度調整器包括: 一法蘭座,用以固設在該腔體內的一腔體底部; 一第一法蘭,裝設在該法蘭座的一側,並且該法蘭座與該第一法蘭之間具有一O型環; 一法蘭蓋,用以固設在該平台的底部; 一第二法蘭,裝設在該法蘭蓋的一側; 一可繞性波浪管,設置在該第一法蘭與該第二法蘭之間;以及 一貫穿軸桿,貫穿該法蘭座、該第一法蘭、該可繞性波浪管、該法蘭蓋以及該第二法蘭,並且包括一球形浮動接頭位於該可繞性波浪管內,以使該法蘭蓋與該法蘭座之間形成一可位移機構。
- 如申請專利範圍第8項所述的真空浮動高度調整器,其中該法蘭座的一部分貫穿該腔體底部,並且該貫穿軸桿更包括: 一第一軸桿部,一部分貫穿該法蘭座以及該第一法蘭,並且另一部分貫穿該可繞性波浪管,以連接該球形浮動接頭; 一調整桿,位於該腔體外,並且裝設在該法蘭座的該部分,以與該第一軸桿部連動,以使該法蘭蓋與該法蘭座之間形成一高度可調整機構;以及 一第二軸桿部,一部分貫穿該第二法蘭,以固設在該法蘭蓋的該側,並且另一部分貫穿該可繞性波浪管,以連接該球形浮動接頭。
- 如申請專利範圍第9項所述的真空浮動高度調整器,其中該調整桿更透過一聯軸器與一馬達單元連接,並且該馬達單元用以驅動該調整桿,以調整該法蘭蓋與該法蘭座之間的一高度。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW108143534A TWI723651B (zh) | 2019-11-29 | 2019-11-29 | 真空腔內的自動水平調整系統以及真空浮動高度調整器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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TW108143534A TWI723651B (zh) | 2019-11-29 | 2019-11-29 | 真空腔內的自動水平調整系統以及真空浮動高度調整器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI723651B TWI723651B (zh) | 2021-04-01 |
TW202121558A true TW202121558A (zh) | 2021-06-01 |
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TW108143534A TWI723651B (zh) | 2019-11-29 | 2019-11-29 | 真空腔內的自動水平調整系統以及真空浮動高度調整器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWI723651B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI839586B (zh) | 2019-12-24 | 2024-04-21 | 大陸商中微半導體設備(上海)股份有限公司 | 等離子體處理裝置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007043528A1 (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、及びトレイ |
TWI371823B (en) * | 2008-05-16 | 2012-09-01 | Ind Tech Res Inst | Supporting holder positioning a susceptor of a vacuum apparatus |
KR101150698B1 (ko) * | 2009-10-16 | 2012-06-08 | 주성엔지니어링(주) | 기판안치수단과 이를 포함하는 기판처리장치 및 기판처리모듈 |
-
2019
- 2019-11-29 TW TW108143534A patent/TWI723651B/zh active
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Publication number | Publication date |
---|---|
TWI723651B (zh) | 2021-04-01 |
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