TW202114871A - 積層光學薄膜之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種積層光學薄膜的製造方法，該積層光學薄膜是第1光學薄膜、及與上述第1光學薄膜不同的第2光學薄膜隔著接著劑層積層而成的。接著劑層包含第1接著劑組成物的第1硬化物層及第2接著劑組成物的第2硬化物層。該積層光學薄膜的製造方法包括：在第1光學薄膜的貼合面塗敷第1接著劑組成物的第1步驟；以及在第2光學薄膜的貼合面塗敷第2接著劑組成物的第2步驟，在第1步驟中，使第1硬化物層比第2硬化物層先硬化。

Description

積層光學薄膜之製造方法
發明領域
本發明涉及隔著接著劑層積層有第1光學薄膜及與第1光學薄膜不同的第2光學薄膜的積層光學薄膜的製造方法。該積層光學薄膜適用於影像顯示裝置、特別是有機EL顯示裝置。
發明背景
為了改善影像顯示裝置的顯示畫面中由外部光反射、背景的映入而導致的視覺辨認性不良，已知有在顯示面板的可視側配置有圓偏光板的顯示裝置。專利文獻1及2中提出了一種偏光薄膜及具備上述偏光薄膜的顯示裝置，該偏光薄膜可減少黑顯示中來自傾斜方向的入射光反射，而實現優異的傾斜方向的反射色相。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2015-111236號公報 專利文獻2：日本特開2015-210459號公報
發明概要 發明欲解決之問題
然而，專利文獻1及2中記載的使用了偏光薄膜的顯示裝置，其存在反射光產生不均、視覺辨認性不充分的問題。
鑒於上述實際情況，本發明的課題在於：提供一種積層光學膜的製造方法，其能減少來自外部光的反射率、且視覺辨認性優異。 用以解決問題的方法
上述問題可以藉由下述構成來解決。即，本發明涉及一種積層光學薄膜的製造方法，該積層光學薄膜是第1光學薄膜、及與上述第1光學薄膜不同的第2光學薄膜隔著接著劑層積層而成的，上述接著劑層包含第1接著劑組成物的第1硬化物層及第2接著劑組成物的第2硬化物層，上述第1接著劑組成物與上述第2接著劑組成物含有至少一部分不同的成分，該方法包括：在上述第1光學薄膜的貼合面塗敷上述第1接著劑組成物的第1步驟；在上述第2光學薄膜的貼合面塗敷上述第2接著劑組成物的第2步驟；將上述第1光學薄膜的上述第1接著劑組成物塗敷面及上述第2光學薄膜的上述第2接著劑組成物塗敷面貼合的第3步驟；以及從上述第1光學薄膜面側或上述第2光學薄膜面側照射活性能量射線，從而使上述第1光學薄膜與上述第2光學薄膜接著的第4步驟，在上述第1步驟中，使上述第1硬化物層比上述第2硬化物層先硬化。
優選在上述積層光學薄膜的製造方法中，在上述第1步驟中，從上述第1光學薄膜面側或上述第1光學薄膜的上述第1接著劑組成物塗敷面側，對塗敷後的上述第1接著劑組成物照射活性能量射線，使上述第1接著劑組成物硬化，使上述第1硬化物層比上述第2硬化物層先形成。
優選在上述積層光學薄膜的製造方法中，上述接著劑層的第1光學薄膜側表面F1的面內折射率RF1 與第2光學薄膜側表面F2的面內折射率RF2 不同。
優選在上述積層光學薄膜的製造方法中，上述第1光學薄膜的厚度為30μm以下，上述第2光學薄膜的厚度為20μm以下。
優選在上述積層光學薄膜的製造方法中，上述接著劑層的厚度為5μm以下。
優選在上述積層光學薄膜的製造方法中，上述第1光學薄膜為透明保護薄膜，上述第2光學薄膜為偏光件。 發明的效果
影像顯示裝置具備積層有2片以上之光學薄膜的積層光學薄膜，構成上述積層光學薄膜的各光學薄膜通常隔著接著劑層而積層在一起。在隔著接著劑層積層2片同種的光學薄膜的情況下，2片光學薄膜的折射率相同，因此，藉由將接著劑層按照其折射率接近於光學薄膜的折射率的方式來配合設計，可以防止各光學薄膜與接著劑層的界面的反射。另一方面，在隔著接著劑層積層2片不同的光學薄膜的情況下，2片光學薄膜的折射率通常不同。在此，目前存在的積層光學薄膜所具備的接著劑層，其在一光學薄膜側(將其表述為“表面側”)及另一光學薄膜側(將其表述為“背面側”)的折射率相同，至今為止並不存在為了抑制表面側光學薄膜與接著劑層的界面、及背面側光學薄膜與接著劑層的界面的反射，而使接著劑層的折射率在表面側與背面側不同的概念。
然而，在本發明的光學薄膜的製造方法中，隔著接著劑層積層2片不同的光學薄膜時，由包含第1接著劑組成物的第1硬化物層及第2接著劑組成物的第2硬化物層的材料形成接著劑層，使第1接著劑組成物與第2接著劑組成物的至少一部分含有不同的成分，並且在第1光學薄膜的貼合面塗敷第1接著劑組成物的第1步驟中，使第1硬化物層比第2硬化物層先硬化。藉此，可以形成折射率在表面側與背面側不同的接著劑層。將構成位於表面側的第1硬化物層的第1接著劑組成物的配合設計最佳化，並同樣地將構成位於背面側的第2硬化物層的第2接著劑組成物的配合設計最佳化，藉此，可以顯著抑制在第1光學薄膜與接著劑層的界面、以及在第2光學薄膜與接著劑層的界面的反射。
一般而言，積層光學薄膜越薄，反射光也容易產生不均，關注上述問題的結果，特別是對於本發明的積層光學薄膜而言，即使第1光學薄膜及第2光學薄膜、以及接著劑層的厚度較薄，也可以減少外部光、特別是自然光的反射率，視覺辨認性也能提高。因此，本發明的積層光學薄膜適用於影像顯示裝置、特別是有機EL顯示裝置。
用以實施發明之形態
在本發明中，製造第1光學薄膜、及與第1光學薄膜不同的第2光學薄膜隔著接著劑層積層而成的積層光學薄膜。而且，該積層光學薄膜的特徵在於，為了抑制各光學薄膜與接著劑層的界面的反射，而設計成折射率在表面側與背面側不同的接著劑層。關於上述特徵，其與具備現有的積層光學薄膜的影像顯示裝置進行對比，並在以下進行說明。
圖1是示出具備目前存在的積層光學薄膜的影像顯示裝置中來自外部光(自然光)L的反射光LR 的一例的圖。圖1所示的影像顯示裝置M是具備有機發光二極體7的有機EL影像顯示裝置，該影像顯示裝置M具備隔著第1接著劑層2積層有第1光學薄膜(透明保護薄膜)1及第2光學薄膜(偏光件)3的積層光學薄膜10。在圖1所示的現有構成的情況下，由於第1接著劑層2在表面側及背面側的折射率相同，透明保護薄膜1的折射率與第1接著劑層2的折射率的不同、以及第1接著劑層2與偏光件3的折射率的不同的原因，外部光(自然光)L在透明保護薄膜1與第1接著劑層2的界面、以及在第1接著劑層2與偏光件3的界面會發生反射，因此，反射光產生不均，視覺辨認性變得不充分。
圖2是示出具備依據本發明的製造方法所製造的積層光學薄膜的影像顯示裝置的一例的圖。圖2所示的影像顯示裝置M是具備有機發光二極體7的有機EL影像顯示裝置，該影像顯示裝置M具備隔著接著劑層2積層有第1光學薄膜(透明保護薄膜)1及第2光學薄膜(偏光件)3的積層光學薄膜10。此外，在本發明中，積層光學薄膜只要至少從外側面(可視側面)向內側面具備第1光學薄膜→接著劑層→第2光學薄膜，則也可以由3片以上的光學薄膜構成，在圖2(a)所示的實施方式中，影像顯示裝置M從最外側面向有機發光二極體7依次具備透明保護薄膜(第1光學薄膜)1→第1接著劑層2→偏光件(第2光學薄膜)3→第2接著劑層4→相位差薄膜(第3光學薄膜)5→黏著劑層6。將藉由本發明的製造方法製造的積層光學薄膜10所具備第1接著劑層2如下所述地設計：透明保護薄膜(第1光學薄膜)1側表面F1的面內折射率RF1 與偏光件(第2光學薄膜)3側表面F2的面內折射率RF2 不同，並且RF1 與透明保護薄膜的面內平均折射率之差為0.02以內，RF2 與偏光件的面內平均折射率之差為0.02以內。由此，在藉由本發明的製造方法製造的積層光學薄膜10中，外部光(自然光)L在透明保護薄膜與接著劑層的界面、以及在接著劑層與偏光件的界面的反射率會降低，且視覺辨認性優異。
＜第1接著劑層＞ 以下，對藉由本發明的製造方法製造的積層光學薄膜所具備的接著劑層進行說明。在本發明中，優選接著劑層的厚度薄的情況，具體而言，接著劑層的厚度優選為5μm以下、更優選為0.5~3μm。
藉由本發明的製造方法製造的積層光學薄膜所具備的接著劑層的特徵在於，折射率在表面側與背面側不同。具體而言，第1光學薄膜側表面F1的面內折射率RF1 與第2光學薄膜側表面F2的面內折射率RF2 不同，RF1 與第1光學薄膜的面內平均折射率之差為0.02以內，RF2 與第2光學薄膜的面內平均折射率之差為0.02以內。為了進一步抑制在第1光學薄膜與接著劑層的界面、以及在第2光學薄膜與接著劑層的界面的反射，更優選將RF1 與第1光學薄膜的面內平均折射率之差設為0.01以內，更優選將RF2 與第2光學薄膜的面內平均折射率之差設為0.01以內。
此外，在本發明中，對於接著劑層的第1光學薄膜側表面F1(或第2光學薄膜側表面F2)中的“面內折射率”而言，使用稜鏡耦合器SPA-4000(Cylon technology公司製)來測定接著劑層的各表面側的面內的折射率。測定溫度設為23℃、測定波長設為532nm。
在本發明中，接著劑層只要滿足上述特徵，則可以為任意的材料設計，特別優選為活性能量射線硬化型接著劑組成物經活性能量射線照射後而得到硬化物層來形成者。活性能量射線硬化型接著劑組成物可以大致區分為電子束硬化型、紫外線硬化型、可見光硬化型等。進而，紫外線硬化型、可見光硬化型接著劑可以大致區分為自由基聚合硬化型接著劑和陽離子聚合型接著劑。在本發明中，可將波長範圍10nm至小於380nm的活性能量射線記載為紫外線、將波長範圍380nm~800nm的活性能量射線記載為可見光。
作為構成自由基聚合硬化型接著劑的化合物，可列舉自由基聚合性化合物。自由基聚合性化合物可列舉具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等碳-碳雙鍵的自由基聚合性官能基的化合物。這些硬化性成分可以使用單官能自由基聚合性化合物或二官能以上的多官能自由基聚合性化合物中的任一種。另外，這些自由基聚合性化合物可以單獨使用1種，或者組合使用2種以上。作為這些自由基聚合性化合物，優選例如具有(甲基)丙烯醯基的化合物。本發明中使用的活性能量射線硬化型接著劑組成物優選含有具有(甲基)丙烯醯基的化合物作為主成分，具體而言，將活性能量射線硬化型接著劑組成物的總量設為100重量%時，優選含有50重量%以上的具有(甲基)丙烯醯基的化合物、更優選含有80重量%以上。另外，在本發明中，(甲基)丙烯醯基是指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基，「(甲基)」在以下是相同的含義。
作為單官能自由基聚合性化合物，可列舉例如具有(甲基)丙烯醯胺基的(甲基)丙烯醯胺衍生物。(甲基)丙烯醯胺衍生物在確保與偏光件、各種透明保護薄膜的接著性方面、以及聚合速度快、生產性優異的方面是優選的。作為(甲基)丙烯醯胺衍生物的具體例，可列舉例如：N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N, N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N, N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺等含N-烷基(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙基(甲基)丙烯醯胺等含N-羥基烷基(甲基)丙烯醯胺衍生物；氨基甲基(甲基)丙烯醯胺、氨基乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-氨基烷基(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺等含N-烷氧基(甲基)丙烯醯胺衍生物；巰基甲基(甲基)丙烯醯胺、巰基乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-巰基烷基(甲基)丙烯醯胺衍生物；等等。另外，作為(甲基)丙烯醯胺基的氮原子形成了雜環的含雜環(甲基)丙烯醯胺衍生物，可列舉例如：N-丙烯醯基嗎啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡咯烷等。
在上述(甲基)丙烯醯胺衍生物中，從與偏光件、各種透明保護薄膜的接著性的觀點來看，優選含N-羥基烷基(甲基)丙烯醯胺衍生物，另外，作為單官能自由基聚合性化合物，可列舉例如具有(甲基)丙烯醯氧基的各種(甲基)丙烯酸衍生物。具體而言，可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸叔戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2, 2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸4-甲基-2-丙基戊酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯等(甲基)丙烯酸(碳原子數1-20)烷基酯類。
另外，作為上述(甲基)丙烯酸衍生物，可列舉例如：(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸酯環戊酯等(甲基)丙烯酸環烷基酯；(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳烷基酯；(甲基)丙烯酸2-異冰片酯、(甲基)丙烯酸2-降冰片基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降冰片烯-2-基甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-2-降冰片基甲酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯等多環式(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸乙基卡必醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸烷基苯氧基聚乙二醇酯等含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯；等等。
另外，作為上述(甲基)丙烯酸衍生物，可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、[4-(羥基甲基)環己基]甲基丙烯酸酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯等含羥基(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、4-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯縮水甘油醚等含環氧基(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2, 2, 2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2, 2, 2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯等含鹵素(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基氨基烷基酯；(甲基)丙烯酸3-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-乙基氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-丁基氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-己基氧雜環丁烷基甲酯等含氧雜環丁烷基(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、丁內酯(甲基)丙烯酸酯等具有雜環的(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇(甲基)丙烯酸加成物、對苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯等。
另外，作為單官能自由基聚合性化合物，可列舉出：(甲基)丙烯酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、馬來酸、富馬酸、巴豆酸、異巴豆酸等含羧基單體。
另外，作為單官能自由基聚合性化合物，例如可列舉出：N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯基吡咯烷酮等內醯胺類乙烯基單體；乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌嗪、乙烯基吡嗪、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基噁唑、乙烯基嗎啉等具有含氮雜環的乙烯基類單體等。
另外，作為單官能自由基聚合性化合物，可以使用具有活性亞甲基的自由基聚合性化合物。具有活性亞甲基的自由基聚合性化合物為末端或分子中具有(甲基)丙烯酸基等活性雙鍵基團、且具有活性亞甲基的化合物。作為活性亞甲基，可列舉例如：乙醯乙醯基、烷氧基丙二醯基、或氰基乙醯基等。上述活性亞甲基優選為乙醯乙醯基。作為具有活性亞甲基的自由基聚合性化合物的具體例，可列舉例如：(甲基)丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙基丙酯、(甲基)丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙基-1-甲基乙酯等(甲基)丙烯酸乙醯乙醯氧基乙基烷基酯；(甲基)丙烯酸2-乙氧基丙二醯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-氰基乙醯氧基乙酯、N-(2-氰基乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧基乙基甲基苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基氨基乙基)丙烯醯胺等。具有活性亞甲基的自由基聚合性化合物優選為(甲基)丙烯酸乙醯乙醯氧基乙基烷基酯。
另外，作為二官能以上的多官能自由基聚合性化合物，可列舉例如：三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1, 6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1, 9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1, 10-癸二醇二丙烯酸酯、2-乙基-2-丁基丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、環狀三羥甲基丙烷甲縮醛(甲基)丙烯酸酯(cyclic trimethylolpropane formal(meth)Acrylate)、二噁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改性二甘油四(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物、9, 9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]芴。作為具體例，可列舉ARONIX M-220(東亞合成股份有限公司製)、LIGHT ACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學股份有限公司製)、LIGHT ACRYLATE DGE-4A(共榮社化學股份有限公司製)、LIGHT ACRYLATE DCP-A(共榮社化學股份有限公司製)、SR-531(Sartomer公司製)、CD-536(Sartomer公司製)等。另外，根據需要，可列舉出：各種環氧(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、各種(甲基)丙烯酸酯類單體等。
對於活性能量射線硬化型接著劑組成物而言，在活性能量射線使用電子束等的情況下，該活性能量射線硬化型接著劑組成物不需要含有光聚合引發劑，但在活性能量射線使用紫外線或可見光的情況下，優選含有光聚合引發劑。
使用自由基聚合性化合物時的光聚合引發劑，可根據活性能量射線而適宜選擇。在藉由紫外線或可見光來硬化的情況下，可使用紫外線或可見光裂解的光聚合引發劑。上述光聚合引發劑可以單獨使用，但在混合多種光聚合引發劑而使用的情況下，可以調整硬化速度、硬化性，因而優選。作為上述光聚合引發劑，可列舉例如：苯偶醯、二苯甲酮、苯甲醯苯甲酸、3, 3′-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮等二苯甲酮類化合物；4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮、α-羥基-α, α′-二甲基苯乙酮、2-甲基-2-羥基苯丙酮、1-羥基環己基苯基酮、1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮等芳香族酮化合物；甲氧基苯乙酮、2, 2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2, 2-二乙氧基苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-嗎啉代丙烷-1-酮等苯乙酮類化合物；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻丁基醚、茴香偶姻甲基醚等苯偶姻醚類化合物；苯偶醯二甲基縮酮等芳香族縮酮類化合物；2-萘磺醯氯等芳香族磺醯氯類化合物；1-苯基-1, 1-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟等光活性肟類化合物；噻噸酮、2-氯噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2, 4-二甲基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2, 4-二氯噻噸酮、2, 4-二乙基噻噸酮、2, 4-二異丙基噻噸酮、十二烷基噻噸酮等噻噸酮類化合物；樟腦醌；鹵代酮；醯基氧化膦；醯基膦酸酯等。
將活性能量射線硬化型接著劑組成物的總量設為100重量%時，上述光聚合引發劑的摻合量為20重量%以下。光聚合引發劑的摻合量優選為0.01~20重量%、更優選為0.05~10重量%、進一步優選為0.1~5重量%。
另外，本發明之積層光學薄膜用硬化型接著劑，於使用含有自由基聚合性化合物作為硬化性成分之可見光線硬化型時，特別優選使用對380nm以上的光為高靈敏度的光聚合引發劑。關於對380nm以上的光為高靈敏度的光聚合引發劑，後面進行敘述。
作為上述光聚合引發劑，優選單獨使用下述通式(1)所示的化合物；或者組合使用通式(1)所示的化合物和後面敘述的對380nm以上的光高靈敏度的光聚合引發劑。
[化學式1]
Figure 02_image001
(式中，R1 及R2 表示-H、-CH2 CH3 、-iPr或Cl，R1 及R2 可以相同或不同)。使用通式(1)所示的化合物的情況下，與單獨使用對380nm以上的光具有高靈敏度的光聚合引發劑的情況相比，接著性優異。特別優選在通式(1)所示的化合物中， R1 及R2 為-CH2 CH3 ，即二乙基噻噸酮。將活性能量射線硬化型接著劑組成物的總量設為100重量%時，接著劑中的通式(1)所示的化合物的組成比率優選為0.1~5重量%、更優選為0.5~4重量%、進一步優選為0.9~3重量%。
另外，優選根據需要添加聚合引發助劑。作為聚合引發助劑，可列舉出：三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲基氨基苯甲酸、4-二甲基氨基苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸異戊酯等，特別優選4-二甲基氨基苯甲酸乙酯。使用聚合引發助劑的情況下，其添加量相對於硬化性成分的總量100重量份通常為0~5重量份，優選為0~4重量份，最優選為0~3重量份。
另外，根據需要，可以組合使用公知的光聚合引發劑。具有UV吸收能力的透明保護薄膜由於不透過380nm以下的光，因此作為光聚合引發劑，優選使用對380nm以上的光為高靈敏度的光聚合引發劑。具體而言，可列舉出：2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉代丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮、2, 4, 6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2, 4, 6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)苯基)鈦等。
特別地，作為光聚合引發劑，除通式(1)的光聚合引發劑以外，優選進一步使用下述通式(2)所示的化合物，
[化學式2]
Figure 02_image003
(式中，R3 、R4 及R5 表示-H、-CH3 、-CH2 CH3 、-iPr或Cl，R3 、R4 及R5 可以相同或不同)。作為通式(2)所示的化合物，可以適宜使用作為市售品的2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉代丙烷-1-酮(商品名：Omnirad907 製造商：IGMresins)。此外，2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮(商品名：Omnirad369 製造商：IGMresins)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：Omnirad379 製造商：IGMresins)由於靈敏度高，因而優選。
在本發明中，在上述光聚合引發劑中，優選使用含羥基光聚合引發劑。當活性能量射線硬化型接著劑組成物含有含羥基光聚合引發劑作為聚合引發劑時，對於偏光件側的A成分濃度高的接著劑層的溶解性會提高，接著劑層的硬化性亦會提高。作為具有羥基的光聚合引發劑，可列舉例如：2-甲基-2-羥基苯丙酮(商品名“DAROCUR1173”、IGMresins公司製)、1-羥基環己基苯基酮(商品名“Omnirad184”、IGMresins公司製)、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮(商品名“Omnirad2959”、IGMresins公司製)、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(商品名“Omnirad127”、IGMresins公司製)等。特別是1-羥基環己基苯基酮，其對於A成分濃度高的接著劑層的溶解性特別優異，因而更優選。
本發明中使用的活性能量射線硬化型接著劑組成物中，除上述自由基聚合性化合物的硬化性成分以外，還可以含有使(甲基)丙烯酸單體聚合而成的丙烯酸類寡聚物。藉由在活性能量射線硬化型接著劑組成物中含有丙烯酸類寡聚物成分，可降低對該組成物照射活性能量射線並使其硬化時的硬化收縮，並減少接著劑與偏光件及透明保護薄膜等被黏附物的界面應力。其結果，可抑制接著劑層與被黏附物的接著性降低。為了充分抑制硬化物層(接著劑層)的硬化收縮，將活性能量射線硬化型接著劑組成物的總量設為100重量%時，優選將丙烯酸類寡聚物的含量設為5~30重量%、更優選設為10~20重量%。
在考慮塗敷時的作業性、均勻性的情況下，優選活性能量射線硬化型接著劑組成物為低黏度，因此，將(甲基)丙烯酸單體聚合而成的丙烯酸類寡聚物也優選為低黏度。作為低黏度的丙烯酸類寡聚物，其重均分子量(Mw)優選為15000以下、更優選為10000以下、特別優選為5000以下。另一方面，為了使夾在偏光件及透明保護薄膜間的接著劑組成物的成分更加集中存在，丙烯酸類寡聚物(A)的重均分子量(Mw)優選為500以上、更優選為1000以上、特別優選為1500以上。作為構成丙烯酸類寡聚物(A)的(甲基)丙烯酸類單體，具體可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸叔戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2, 2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸4-甲基-2-丙基戊酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯等(甲基)丙烯酸(碳原子數1-20)烷基酯類、以及例如：(甲基)丙烯酸環烷基酯(例如(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸酯環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷基酯(例如(甲基)丙烯酸苄酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如(甲基)丙烯酸2-異冰片酯、(甲基)丙烯酸-2-降冰片基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降冰片烯-2-基甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-2-降冰片基甲酯等)、含羥基(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2, 3-二羥基丙基甲基丁酯等)、含烷氧基或苯氧基(甲基)丙烯酸酯類((甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸乙基卡必醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等)、含環氧基(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等)、含鹵素(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸2, 2, 2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2, 2, 2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等)、(甲基)丙烯酸烷基氨基烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯等)等。這些(甲基)丙烯酸酯可以單獨使用或組合使用2種以上。作為丙烯酸類寡聚物(A)的具體例，可列舉東亞合成股份有限公司製“ARUFON”、綜研化學股份有限公司製“ACTFLOW”、IGMresins Ltd.製“JONCRYL”等。
當丙烯酸類寡聚物為液體時，因不需考慮對於接著劑組成物的溶解性，故可適宜使用。丙烯酸類寡聚物在玻璃轉移溫度(Tg)為小於25℃時，通常為液體。另外，為了兼顧與接著劑組成物的相容性和成分在接著劑層中的集中存在，優選丙烯酸類寡聚物含有極性官能基。作為極性官能基，可列舉羥基、環氧基、羧基、烷氧基甲矽烷基等。具體而言，可列舉例如：“ARUFONUH系列”、“ARUFON UC系列”、“ARUFON UF系列”、“ARUFON UG系列”、“ARUFON US系列”(均為東亞合成股份有限公司製)等。其中，由於可以實現與偏光件的相互作用而帶來的接著性的提高，優選含有環氧基。具體而言，可列舉例如：“ARUFON UG-4000”、“ARUFON UG-4010”(均為東亞合成股份有限公司製)。
＜第1光學薄膜＞ 在本發明中，作為第1光學薄膜，可以適宜使用透明保護薄膜。優選透明保護薄膜的厚度薄的情況，具體而言，優選為30μm以下、更優選為1~20μm。作為透明保護薄膜，優選為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、各向同性等優異者。例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯類聚合物、二乙酸纖維素、三乙酸纖維素等纖維素類聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸類聚合物、聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯類聚合物、聚碳酸酯類聚合物等。另外，聚乙烯、聚丙烯、具有環類或降冰片烯結構的聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物這樣的聚烯烴類聚合物、氯乙烯類聚合物、尼龍、芳香族聚醯胺等醯胺類聚合物、醯亞胺類聚合物、碸類聚合物、聚醚碸類聚合物、聚醚醚酮類聚合物、聚苯硫醚類聚合物、乙烯醇類聚合物、偏氯乙烯類聚合物、乙烯基縮丁醛類聚合物、聚芳酯類聚合物、聚甲醛類聚合物、環氧類聚合物、或上述聚合物的混合物等也可以作為形成上述透明保護薄膜的聚合物的實例而列舉出。透明保護薄膜中可以含有1種以上任意適當的添加劑。作為添加劑，例如可列舉：紫外線吸收劑、抗氧劑、潤滑劑、增塑劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中的上述熱塑性樹脂的含量優選為50~100重量%、更優選為50~99重量%、進一步優選為60~98重量%、特別優選為70~97重量%。透明保護薄膜中的上述熱塑性樹脂的含量為50重量%以下的情況下，恐有不能充分表現出熱塑性樹脂本來具有的高透明性等之虞。
另外，作為透明保護薄膜，可列舉日本特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載的聚合物薄膜，例如(A)含有側鏈具有取代及/或未取代醯亞胺基的熱塑性樹脂和側鏈具有取代及/或未取代苯基及腈基的熱塑性樹脂的樹脂組成物。作為具體例，可列舉含有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺形成的交替共聚物和丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組成物的薄膜。薄膜可以使用由樹脂組成物的混合擠出品等形成的薄膜。這些薄膜的相位差小、光彈性係數小，因此能夠消除因偏光薄膜的應變所導致不均等不良的情況，另外，透濕度小，因此加濕耐久性優異。
另外，在本發明中，透明保護薄膜的“面內平均折射率”使用稜鏡耦合器SPA-4000(Cylon technology公司製)，測定面內的慢軸方向和快軸方向各自的折射率，得到它們的平均值。測定溫度設為23℃、測定波長設為532nm。
＜第2光學薄膜＞ 本發明中，作為第2光學薄膜，可以適宜使用偏光件。偏光件沒有特殊限制，可以使用各種偏光件。作為偏光件，例如可列舉：在聚乙烯醇類膜、部分甲縮醛化聚乙烯醇類膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物類部分皂化膜等親水性高分子膜上吸附碘、二色性染料等二色性材料且進行了單向拉伸而成的薄膜、聚乙烯醇的脫水處理物、聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等多烯類配向薄膜等。這些當中，由聚乙烯醇類膜與碘等二色性物質形成的偏光件是適宜的。
此外，在本發明中，對於偏光件的“面內平均折射率”而言，使用稜鏡耦合器SPA-4000(Cylon technology製)，測定偏光件的面內折射率中的透射軸方向的折射率及吸收軸方向的折射率，將它們的平均值作為偏光件的面內平均折射率。測定溫度設為23℃、測定波長設為532nm。
偏光件的厚度一般為1~30μm，但如上所述，積層光學薄膜越薄，反射光越容易產生不均，在本發明中，偏光件特別優選為薄型偏光件，具體而言，厚度優選為20μm以下、更優選為1~12μm。
作為薄型的偏光件，代表性的可以舉出：日本特開昭51-069644號公報、日本特開2000-338329號公報、WO2010/100917號小冊子、PCT/JP2010/001460的說明書、或日本特願2010-269002號說明書、日本特願2010-263692號說明書中記載的薄型偏光膜。這些薄型偏光膜可以藉由包括將聚乙烯醇類樹脂(以下，也稱為PVA類樹脂)層與拉伸用樹脂基材，以積層體的狀態進行拉伸步驟與進行染色步驟的製法來獲得。如果是該製法，則即使PVA類樹脂層薄，也能夠藉由被拉伸用樹脂基材支撐來進行拉伸而不發生由拉伸導致的斷裂等不良情況。
作為上述薄型偏光膜，在包括以積層體的狀態進行拉伸步驟與進行染色步驟的製法中，從能夠以高倍率進行拉伸、能夠提高偏光性能的方面來看，優選藉由WO2010/100917號小冊子、PCT/JP2010/001460的說明書、或日本特願2010-269002號說明書、日本特願2010-263692號說明書中記載的那樣的、包括在硼酸水溶液中進行拉伸步驟的製法來獲得，特別優選藉由日本特願2010-269002號說明書、日本特願2010-263692號說明書中記載的、包括在硼酸水溶液中進行拉伸之前輔助地進行空中拉伸步驟的製法來獲得。
藉由本發明的製造方法來製造的積層光學薄膜其特徵在於，面內折射率在接著劑層的表面側與背面側不同。具備上述接著劑層的積層光學薄膜可以藉由下述製造方法來製造。一種積層光學薄膜的製造方法，該積層光學薄膜隔著接著劑層積層有第1光學薄膜及與上述第1光學薄膜不同的第2光學薄膜，上述接著劑層包含第1接著劑組成物的第1硬化物層及第2接著劑組成物的第2硬化物層，上述第1接著劑組成物與上述第2接著劑組成物含有至少一部分不同的成分，該方法包括：在上述第1光學薄膜的貼合面塗敷上述第1接著劑組成物的第1步驟；在上述第2光學薄膜的貼合面塗敷上述第2接著劑組成物的第2步驟；使上述第1光學薄膜的上述第1接著劑組成物塗敷面及上述第2光學薄膜的上述第2接著劑組成物塗敷面貼合的第3步驟；以及從上述第1光學薄膜面側或上述第2光學薄膜面側照射活性能量射線，使上述第1光學薄膜與上述第2光學薄膜接著的第4步驟，在上述第1步驟中，使上述第1硬化物層比上述第2硬化物層先硬化。
在上述製造方法中，接著劑層包含第1接著劑組成物的第1硬化物層及第2接著劑組成物的第2硬化物層，且第1接著劑組成物與第2接著劑組成物含有至少一部分不同的成分，因此，可形成一接著劑層其在第1光學薄膜側表面F1的面內折射率RF1 與第2光學薄膜側表面F2的面內折射率RF2 不同。在此，第1光學薄膜的面內平均折射率及第2光學薄膜的面內平均折射率可以預先測定，第1接著劑組成物的第1硬化物層的第1光學薄膜側表面F1的面內折射率RF1 及第2光學薄膜側表面F2的面內折射率RF2 也可以藉由分別進行最佳的配合設計而設計成任意的值。因此，在上述製造方法中，可以製造出具備下述接著劑層的積層光學薄膜，該接著劑層的RF1 與第1光學薄膜的面內平均折射率之差為0.02以內、RF2 與第2光學薄膜的面內平均折射率之差為0.02以內。
另外，在上述第1步驟中，可以從上述第1光學薄膜面側或上述第1光學薄膜的上述第1接著劑組成物塗敷面側，對塗敷後的上述第1接著劑組成物照射活性能量射線，使上述第1接著劑組成物硬化，預先形成上述第1硬化物層，也可以藉由將塗敷後的上述第1接著劑組成物風乾，進而在塗敷後的上述第1接著劑組成物含有溶劑的情況下，將溶劑除去，從而在未硬化狀態下使第1接著劑組成物硬化。
在本發明的積層光學薄膜中，在第1光學薄膜為透明保護薄膜、第2光學薄膜為偏光件的情況下，可以在上述第1步驟及/或第二塗敷步驟(塗敷步驟)前進行表面改性處理。作為具體的處理，可列舉基於電暈處理、電漿處理、皂化處理的處理等。
另外，在上述第1步驟及/或第二塗敷步驟(塗敷步驟)中，活性能量射線硬化型接著劑組成物的塗敷方式可根據組成物的黏度、目標厚度適宜選擇。作為塗敷方式的例子，可列舉例如：逆向塗布器、凹版塗布器(直接、反向、或膠版)、棒式逆向塗布器、輥塗機、模塗機、繞線棒塗布器、棒塗機等。此外，塗敷時可以適宜使用浸漬方式等方式。
在上述第3步驟(貼合步驟)中，隔著塗敷後的活性能量射線硬化型接著劑組成物來貼合2種不同的光學薄膜。光學薄膜的貼合可以藉由例如輥式層壓機等來進行。
在上述第4步驟(接著步驟)中，活性能量射線硬化型接著劑組成物可以以電子束硬化型、紫外線硬化型、可見光硬化型的方式使用。作為活性能量射線硬化型接著劑組成物，從生產性的觀點考慮，優選可見光硬化型接著劑組成物。
對於活性能量射線硬化型接著劑組成物而言，例如將偏光件和透明保護薄膜貼合後，照射活性能量射線(電子束、紫外線、可見光等)，使活性能量射線硬化型接著劑組成物硬化，從而形成接著劑層。在上述第4步驟(接著步驟)中，活性能量射線(電子束、紫外線、可見光等)的照射方向可從任意適當的方向照射。優選從透明保護薄膜側照射。如果從偏光件側照射，則恐有偏光件因活性能量射線(電子束、紫外線、可見光等)而劣化之虞。
在電子束硬化型中，電子束的照射條件只要是能使上述活性能量射線硬化型接著劑組成物硬化的條件即可，可以採用任意適當的條件。例如，電子束照射的加速電壓優選為5kV~300kV、進一步優選為10kV~250kV。加速電壓小於5kV時，恐有電子束不能達到接著劑、而使硬化變得不充分之虞，如果加速電壓大於300kV，則恐有穿過試樣的浸透力過強而造成透明保護薄膜、偏光件損傷之虞。作為照射線量，為5~100kGy、進一步優選為10~75kGy。照射線量小於5kGy時，接著劑的硬化會變得不充分，如果大於100kGy，則對透明保護薄膜、偏光件帶來損傷，發生機械強度的降低、黃變，無法得到預定的光學特性。
電子束照射通常在非活性氣體中進行照射，可以根據需要在大氣中、少量導入氧的條件下進行。根據透明保護薄膜材料的不同，可適宜導入氧，與最初電子束接觸的透明保護薄膜面接觸，發生氧阻礙，可防止對透明保護薄膜的損傷，可以僅對接著劑高效地照射電子束。
製造本發明的積層光學薄膜時，作為活性能量射線，優選使用包含波長範圍380nm~450nm之可見光的活性能量射線、特別是波長範圍380nm~450nm之可見光的照射量最多的活性能量射線。在紫外線硬化型、可見光硬化型中，在使用賦予了紫外線吸收能力的透明保護薄膜(紫外線不透射型透明保護薄膜)的情況下，吸收大約比380nm短波長的光，因此，比380nm短波長的光不會到達活性能量射線硬化型接著劑，對其聚合反應沒有貢獻。此外，由透明保護薄膜吸收的比380nm短波長的光會轉變成熱，透明保護薄膜自身會發熱，而成為積層光學薄膜捲曲/褶皺等不良的原因。因此，在本發明中，採用紫外線硬化型、可見光硬化型的情況下，優選使用不會發出比380nm短波長的光的裝置來作為活性能量射線產生裝置，更具體而言，波長範圍380~440nm的累積照度與波長範圍250~370nm的累積照度之比優選為100:0~100:50、更優選為100:0~100:40。作為本發明的活性能量射線，優選封入有鎵的金屬鹵化物燈、發出波長範圍380~440nm的光的LED光源。或者可以使用低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、白熾燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵化物燈、螢光燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射或太陽光等包含紫外線與可見光的光源，也可以用帶通濾波器將比380nm短的波長的紫外線阻斷後使用。為了提高偏光件與透明保護薄膜之間的接著劑層的接著性能，並防止積層光學薄膜的捲曲，優選使用封入有鎵的金屬鹵化物燈，且使用藉由可阻斷比380nm短波長的光的帶通濾波器得到的活性能量射線、或使用LED光源得到波長405nm的活性能量射線。
在紫外線硬化型或可見光硬化型中，也優選在照射紫外線或可見光後，對活性能量射線硬化型接著劑進行加熱(照射後加熱)，該情況下，優選加熱至40℃以上、更優選加熱至50℃以上。
本發明中使用的活性能量射線硬化型接著劑，特別可適用在形成下述接著劑層時，該接著劑層會將偏光件與波長365nm之透光率小於5%的透明保護薄膜接著。此處，本發明的活性能量射線硬化型接著劑藉由含有上述通式(1)的光聚合引發劑，能夠隔著具有UV吸收能力的透明保護薄膜照射紫外線而硬化形成接著劑層。因此，即使對於在偏光件兩面積層有具有UV吸收能力的透明保護薄膜的積層光學薄膜，也能夠使接著劑層硬化。但是，當然，對於積層有不具有UV吸收能力的透明保護薄膜的積層光學薄膜，也能夠使接著劑層硬化。另外，具有UV吸收能力的透明保護薄膜是指對380nm的光的透射率小於10%的透明保護薄膜。
作為對透明保護薄膜賦予UV吸收能力的方法，可列舉：使透明保護薄膜中含有紫外線吸收劑的方法、在透明保護薄膜表面積層含有紫外線吸收劑的表面處理層的方法。
作為紫外線吸收劑的具體例，例如可列舉：以往公知的氧基二苯甲酮類化合物、苯並三唑類化合物、水楊酸酯類化合物、二苯甲酮類化合物、氰基丙烯酸酯類化合物、鎳絡鹽類化合物、三嗪類化合物等。
＜第2接著劑層＞ 在圖2所示的實施方式中，第2接著劑層4可以與上述第1接著劑層同樣地設計。然而，在圖2所示的實施方式中，入射至第2接著劑層4的光L因為透過偏光件(第2光學薄膜)3而入射，因此，會變成偏光件3透射軸方向的偏光。因此，為了抑制在偏光件3與第2接著劑層4的界面、以及在相位差薄膜5與第2接著劑層4的界面的反射，優選第2接著劑層4的偏光件3側表面F3的偏光件3透射軸方向的折射率RF3 與相位差薄膜5側表面F4的偏光件3透射軸方向的折射率RF4 不同，RF3 與偏光件3的透射軸方向的折射率之差為0.05以內，RF4 與相位差薄膜5的偏光件3的透射軸方向的折射率之差為0.05以內。該情況下，影像顯示裝置M整體的反射率會降低，視覺辨認性會顯著提高。
＜第3光學薄膜＞ 第3光學薄膜沒有特別限定，可以使用例如反射薄膜、半透射薄膜、相位差薄膜(包括1/2、1/4等波片)、視覺補償薄膜等會在影像顯示裝置等形成時使用的光學層。在本發明中，優選第3光學薄膜的厚度薄的情況，具體而言，優選為20μm以下、更優選為1~10μm。
＜黏著劑層＞ 在圖2所示的實施方式中，將上述具備透明保護薄膜(第1光學薄膜)1、第1接著劑層2、偏光件(第2光學薄膜)3、第2接著劑層4及相位差薄膜(第3光學薄膜)5的積層光學薄膜隔著黏著劑層6積層於有機發光二極體7。形成黏著層的黏著劑沒有特殊限制，可以適宜地選擇將例如丙烯酸類聚合物、矽氧類聚合物、聚酯、聚氨酯、聚醯胺、聚醚、氟類、橡膠類等聚合物作為基礎聚合物的黏著劑來使用。可以特別優選使用丙烯酸類黏著劑那樣的光學透明性優異、顯示出適度的潤濕性、凝集性與接著性這種黏著特性，耐候性、耐熱性等優異的黏著劑。
。另外，設置於兩面時，也可以在偏光薄膜、光學薄膜的表面和背面上形成不同組成、種類、厚度等的黏著層。黏著層的厚度可以根據使用目的、接著力等來適宜決定，通常為1~500μm、優選為1~200μm、特別優選為1~100μm。
黏著層的露出面在直到供於實際使用為止的期間，出於防止其污染等目的，暫時接著分隔件將其覆蓋。由此，能夠防止在通常處理狀態下與黏著層接觸。作為分隔件，可以使用除了上述厚度條件以外，根據需要以矽氧類、長鏈烷基類、氟類、硫化鉬等適宜的剝離劑，對於下述列舉各者進行塗布處理而成的分隔件等依以往規定的適宜分隔件，例如：塑膠膜、橡膠片、紙、布、無紡布、網、發泡片、金屬箔、其等的積層體等適宜的薄層體。
＜影像顯示裝置＞ 本發明的積層光學薄膜可以優選用於有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等各種影像顯示裝置的形成等。影像顯示裝置的形成可以根據以往的方式來進行。即，影像顯示裝置通常藉由將有機發光二極體、液晶單元與積層光學薄膜、及根據需要使用的照明系統等構成部件適宜組裝並將驅動電路裝入等來形成，在本發明中，除了使用本發明的積層光學薄膜這一點以外，沒有特別限定，可以根據以往的方式來進行。
將本發明的積層光學薄膜用於液晶顯示裝置時，可以形成在液晶單元單側或兩側配置有積層光學薄膜的液晶顯示裝置、在照明系統中使用了背光燈或反射板的液晶顯示裝置等適宜的液晶顯示裝置。在這種情況下，本發明的積層光學薄膜可以設置在液晶單元的單側或兩側。在兩側設置積層光學薄膜的情況下，它們可以相同，也可以不同。進而，在液晶顯示裝置的形成時，可以在適宜的位置配置1層或2層以上的例如擴散板、防眩層、防反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光燈等適宜的部件。 實施例
(第1光學薄膜(透明保護薄膜)) 作為第1光學薄膜，使用了550nm的面內平均折射率為1.537的環烯烴系保護膜(商品名：ZF14-013、日本瑞翁製)。
(第2光學薄膜(偏光件)) 作為第2光學薄膜，使用了550nm的面內平均折射率為1.555的偏光件(厚度5μm)的光學薄膜。
＜活性能量射線＞ 作為活性能量射線，使用了可見光(封入有鎵的金屬鹵化物燈)照射裝置：Fusion UV Systems，Inc製Light HAMMER10 閥：V閥峰值照度：1600mW/cm2 、累積照射量1000/mJ/cm2 (波長380~440nm)。另外，使用Solatell公司製造的Sola-Check系统測定了可見光的照度。
(第1接著劑組成物及第2接著劑組成物) 按照表1所記載的摻合表，將以下所示的各成分混合，在50℃下攪拌1小時，製備了第1接著劑組成物及第2接著劑組成物。以下示出使用的原材料。 “ACMO”(丙烯醯基嗎啉)、商品名“ACMO”、KJ化學公司製 “1,9NDA”(1,9-壬二醇二丙烯酸酯)、共榮社化學股份有限公司製 “UP1190”、商品名“ARUFONUP1190”、東亞合成股份有限公司製 “POB-A”、商品名“LIGHT ACRYLATE POB-A”、共榮社化學股份有限公司製 “OGSOL F5710”、商品名“OGSOLEA-F5710”、大阪燃氣化學股份有限公司製 “KAYACUREDETX-S(二乙基噻噸酮(diethylthioxanthone)、通式(1)中記載的化合物)、商品名“KAYACUREDETX-S”、 日本化藥股份有限公司製“Omnirad907(2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉代丙烷-1-酮、通式(2)中記載的化合物)、商品名“Omnirad907”、IGMresins公司製
實施例1 使用MCD塗布機(富士機械股份有限公司製)(單元形狀：蜂窩、凹印輥線數：1000條/英寸、轉速140%/對線速)，在透明保護薄膜的貼合面上，塗敷調整為表1所載摻合量的第1接著劑組成物，使厚度成為1μm，藉由活性能量射線照射裝置，從第1接著劑組成物塗敷面側照射上述可見光，首先形成了第1硬化物層(第1步驟)。接下來，使用MCD塗布機，在偏光件的貼合面上，塗敷調整為表1所載摻合量的第2接著劑組成物，使厚度成為1μm(第2步驟)。然後，將透明保護薄膜上的第1硬化物層及偏光件的第2接著劑組成物塗敷面貼合(第3步驟)。然後，藉由活性能量射線照射裝置，從貼合後的透明保護薄膜側照射上述可見光，使活性能量射線硬化型接著劑硬化後，在70℃下熱風乾燥3分鐘，得到了在一面具備透明保護薄膜、且具有薄型偏光件1的偏光薄膜(積層光學薄膜)(第4步驟)。
比較例1 在透明保護薄膜的貼合面及偏光件的貼合面，以厚度分別成為1μm的方式分別塗敷相同組成的第1接著劑組成物及第2接著劑組成物，不使第1接著劑組成物先硬化，而是將透明保護薄膜上的第1硬化物層及偏光件的第2接著劑組成物塗敷面貼合後，藉由活性能量射線照射裝置，從貼合後的透明保護薄膜側照射上述可見光，使活性能量射線硬化型接著劑硬化，除此以外，藉由與實施例1同樣的方法，得到了在一面具備透明保護薄膜、且具有薄型偏光件1的偏光薄膜(積層光學薄膜)。
(積層光學薄膜的反射率測定) 利用厚度20μm的黏著劑(折射率1.492)使所得偏光薄膜的偏光件面和黑色丙烯酸酯板貼合，之後，使用CARY7000UMS(Agilent Technologies公司製)，基於與偏光件的吸收軸方向相同軸向的方位角，從透明保護薄膜側在400nm~700nm的範圍內，以1nm間隔測定極角10°下的反射率，將其平均值作為反射率，將結果示於表1。
表1
  比較例1 實施例1
      第1接著劑組成物 ACMO 50 45
1,9NDA 40 30
UP1190 10 10
POB-A   15
OGSOL F5710    
Omnirad907 2 2
KAYACURE DETX-S 2 2
第1硬化物層的第1光學薄膜側表面F1 的面內折射率RF1 1.528 1.539
      第2接著劑組成物 ACMO 50 35
1,9NDA 40 25
UP1190 10  
POB-A   30
OGSOL F5710   10
Omnirad907 2 2
KAYACURE DETX-S 2 2
第2硬化物層的第2光學薄膜側表面F2 的面內折射率RF2 1.528 1.559
接著劑厚度（μm） 2.1 2
透明保護薄膜 面內平均折射率R(a) 1.537 1.537
厚度（μm） 13 13
偏光件 面內平均折射率R(b) 1.555 1.555
厚度（μm） 5 5
|R(a)-RF1| 0.009 0.002
|R(b)-RF2| 0.027 0.004
反射率 4.631 4.53
根據表1的結果可知，在比較例1中，得到的接著劑層為均勻的層，因此，反射率在表面側與背面側相同，其結果，偏光件與接著劑層的折射率差變大，因此，反射率變大。另一方面，可知在實施例1中，得到的接著劑層的透明保護薄膜表面F1的面內折射率RF1 與偏光件側表面F2的面內折射率RF2 不同，並且RF1 與R(a) 、RF2 與R(b) 之差被設計為0.004以內，其結果，可知得到的偏光薄膜的反射率變小。
1:第1光學薄膜,透明保護薄膜 2:第1接著劑層,接著劑層 3:第2光學薄膜,偏光件 4:第2接著劑層 5:第3光學薄膜,相位差薄膜 6:黏著劑層 7:有機發光二極體 10:積層光學薄膜 F1,F2:側表面 L:外部光,自然光 LR:反射光 M:影像顯示裝置
圖1是示出具備目前存在的積層光學薄膜的影像顯示裝置中來自外部光的反射的一例的圖。 圖2(a)~(b)是示出具備本發明的積層光學薄膜的影像顯示裝置的一例的圖。
1:第1光學薄膜，透明保護薄膜
2:第1接著劑層，接著劑層
3:第2光學薄膜，偏光件
4:第2接著劑層
5:第3光學薄膜，相位差薄膜
6:黏著劑層
7:有機發光二極體
10:積層光學薄膜
F1,F2:側表面
L:外部光，自然光
M:影像顯示裝置

Claims (6)

  1. 一種積層光學薄膜之製造方法，該積層光學薄膜是第1光學薄膜、及與前述第1光學薄膜不同的第2光學薄膜隔著接著劑層積層而成的， 前述接著劑層包含：第1接著劑組成物的第1硬化物層及第2接著劑組成物的第2硬化物層，前述第1接著劑組成物與前述第2接著劑組成物含有至少一部分不同的成分， 該方法包括： 在前述第1光學薄膜的貼合面塗敷前述第1接著劑組成物的第1步驟； 在前述第2光學薄膜的貼合面塗敷前述第2接著劑組成物的第2步驟； 將前述第1光學薄膜的前述第1接著劑組成物塗敷面及前述第2光學薄膜的前述第2接著劑組成物塗敷面貼合的第3步驟；以及 從前述第1光學薄膜面側或前述第2光學薄膜面側照射活性能量射線，從而使前述第1光學薄膜與前述第2光學薄膜接著的第4步驟， 在前述第1步驟中，使前述第1硬化物層比前述第2硬化物層先硬化。
  2. 如請求項1之積層光學薄膜之製造方法，其中， 在前述第1步驟中，從前述第1光學薄膜面側或前述第1光學薄膜的前述第1接著劑組成物塗敷面側，對塗敷後的前述第1接著劑組成物照射活性能量射線，使前述第1接著劑組成物硬化，使前述第1硬化物層比前述第2硬化物層先硬化。
  3. 如請求項1之積層光學薄膜之製造方法，其中， 前述接著劑層的第1光學薄膜側表面F1的面內折射率RF1 與第2光學薄膜側表面F2的面內折射率RF2 不同。
  4. 如請求項1之積層光學薄膜之製造方法，其中， 前述第1光學薄膜的厚度為30μm以下，前述第2光學薄膜的厚度為20μm以下。
  5. 如請求項1之積層光學薄膜之製造方法，其中， 前述接著劑層的厚度為5μm以下。
  6. 如請求項1之積層光學薄膜之製造方法，其中， 前述第1光學薄膜為透明保護薄膜，前述第2光學薄膜為偏光件。
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