TW202107254A

TW202107254A - 觸控面板

Info

Publication number: TW202107254A
Application number: TW108127551A
Authority: TW
Inventors: 王隆輝; 黃上榛; 劉勇智
Original assignee: 恆顥科技股份有限公司
Priority date: 2019-08-02
Filing date: 2019-08-02
Publication date: 2021-02-16
Also published as: US11099695B2; US20210034198A1; CN112306277B; TWI705364B; CN112306277A

Abstract

本發明提供一種觸控面板，包括基板、透明導電層與不透明導電層。透明導電層與不透明導電層設置於基板上，透明導電層包括複數條沿著第一方向延伸的第一感測電極條，各第一感測電極條包括複數個第一部分以及複數個第二部分，且各第二部分連接兩相鄰的第一部分。不透明導電層包括複數條沿著第二方向延伸的第二感測電極條，且各第二感測電極條具有網格圖案。第一部分與不透明導電層不重疊，且第二部分與不透明導電層重疊。

Description

觸控面板

本發明關於一種觸控面板，尤指一種同時包含有透明導電層與不透明導電層的觸控面板。

隨著科技日新月異，觸控面板由於具有人機互動還有透光的特性，已被廣泛應用於儀器的外埠輸入介面上，特別是應用在顯示器上。傳統觸控面板是由沿著兩不同方向並絕緣的兩層感測電極層所構成，且為了達到透光，兩層感測電極層通常由透明導電材料所形成。然而，一般透明導電材料的阻抗較高，因此限制了觸控面板的觸控解析度。為此發展出使用金屬網格作為兩層感測電極層。

儘管使用金屬網格相較於透明導電材料可提升觸控解析度，但在不斷提升的觸控解析度的趨勢下仍存在諸多缺點。首先，當為了提高觸控面板的觸控解析度，例如符合觸控筆的觸控解析度規格時，兩層感測電極層的金屬網格線的密度還需增加，使得兩層感測電極層的金屬網格線的交叉點增加，以致於增加由兩層感測電極層的重疊所產生的耦合電容，造成觸控面板的電阻電容負載過高。其次，雖然金屬網格具有低阻抗，但由於金屬網格線不透光，因此金屬網格密度的增加還會降低觸控面板的穿透率。第三，金屬網格的反射率較大，因此容易被人眼所觀看到，造成視覺效果不佳。特別是，當觸控面板外塗有抗反射層時，觸控面板的金屬網格因少了玻璃與空氣的介面反射光的干擾而更容易被使用者觀看到，造成金屬網格的可視度增加。

本發明的目的之一在於提供一種觸控面板，其利用透明導電層與不透明導電層作為驅動電極與感應電極，以改善觸控面板的穿透率，並降低觸控面板的可視度。

為達上述的目的，本發明提供一種觸控面板，用以偵測一觸控物的位置。觸控面板包括第一基板、透明導電層與不透明導電層。第一基板具有彼此相對的一第一表面與一第二表面，且第一表面比第二表面鄰近觸控物。透明導電層設置於第一基板的第二表面上，透明導電層包括複數條沿著第一方向延伸的第一感測電極條，各第一感測電極條包括複數個第一部分以及複數個第二部分，且各第二部分連接兩相鄰的第一部分。不透明導電層設置於第一基板的第二表面上，不透明導電層包括複數條沿著一第二方向延伸的第二感測電極條，且各第二感測電極條具有網格圖案。第一部分與不透明導電層不重疊，且第二部分與不透明導電層重疊。

在本發明所提供的觸控面板中，透過以透明導電層與不透明導電層作為驅動電極與感應電極，因此可改善觸控面板的穿透率，或者在觸控解析度增加的情況下不會大幅降低穿透率，從而維持相同的光學效果。並且，由於不透明導電層可為金屬網格，因此觸控面板的電阻電容負載也不會大幅增加，進而符合高觸控解析度的需求。此外，由於本發明的觸控面板僅具有單層的不透明導電層，因此更容易透過光學匹配層搭配透明導電層來降低因抗反射層的設置所產生不透明導電層的可視問題。

下文結合具體實施例和附圖對本發明的內容進行詳細描述，且為了使本發明的內容更加清楚和易懂，下文各附圖為可能為簡化的示意圖，且其中的元件可能並非按比例繪製。並且，附圖中的各元件的數量與尺寸僅為示意，並非用於限制本發明的範圍。

請參考第1圖與第2圖，第1圖繪示本發明第一實施例的觸控面板的俯視示意圖，第2圖繪示本發明第一實施例的透明導電層的網格單元以及不透明導電層的網格單元的放大示意圖。為了清楚顯示透明導電層與不透明導電層的圖案，第1圖僅顯示出透明導電層、不透明導電層與第一基板，並省略其他膜層，但本發明不限於此。觸控面板1包括一第一基板12、一透明導電層14以及一不透明導電層16。第一基板12可例如為觸控面板1中最靠近觸控物的覆蓋板，用以保護觸控面板1，第一基板12可為透明基板，例如玻璃基板、塑膠基板、壓克力基板、石英基板、藍寶石基板或其他具有高機械強度材質的基板。第一基板12具有觸控區TR與周邊區(圖未示)，其中觸控區為使用者進行觸控操作的區域，周邊區設置於觸控區TR的至少一側，用以配置周邊線路。透明導電層14與不透明導電層16設置於第一基板12上。透明導電層14包括複數條沿著一第一方向D1延伸的第一感測電極條14S，各第一感測電極條14S包括複數個第一部分P1以及複數個第二部分P2，且各第二部分P2連接兩相鄰的第一部分P1。不透明導電層16包括複數條沿著不同於第一方向D1的一第二方向D2延伸的第二感測電極條16S，且各第二感測電極條16S具有網格圖案，其中第一部分P1與不透明導電層16不重疊，且第二部分P2與不透明導電層16重疊，具體描述於下文中。在一些實施例中，第一方向D1可例如垂直於第二方向D2，但不限於此。各第二感測電極條16S橫跨每一條第一感測電極條14S，使得第二感測電極條16S與第一感測電極條14S可彼此電容耦合形成多個觸控感測單元TU，用以偵測觸摸或接近觸控面板1的觸控物的位置。在一些實施例中，觸控物可例如為手指或直徑更小的觸控筆。在一些實施例中，第一感測電極條14S與第二感測電極條16S可分別為用於傳送驅動訊號的驅動電極以及用以偵測感應訊號的感應電極，但不限於此，反之亦可。透明導電層14可包括透明導電材料，例如氧化銦錫、摻鋁氧化鋅(Al-doped ZnO，AZO)、奈米碳管(carbon nanotube)或導電高分子，但不限於此。不透明導電層16可包括不透明導電材料，例如金屬或金屬合金，但不以此為限。金屬可例如包括金、銀、同、鋁、鎳、鋅或其他合適的材料，因此不透明導電層16的電阻率小於透明導電層14的電阻率。圖1所示兩相鄰第一感測電極條14S之間的間距與兩相鄰第二感測電極條16S之間的間距僅為示例，但不以此為限，且可依據實際需求作調整。

值得說明的是，由於驅動電極與感應電極的其中一者以透明導電層14取代金屬網格，而其中另一者則為不透明導電層16，因此相較於驅動電極與感應電極皆由金屬網格所構成的觸控面板而言，本實施例的觸控面板1的穿透率可增加，或者在觸控解析度增加(即觸控感測單元TU的密度增加)的情況下不會明顯降低，從而維持相同的光學效果，例如當觸控面板1設置在顯示裝置的顯示面時，觸控面板1不會影響所顯示影像的亮度。並且，由於驅動電極與感應電極的其中另一者為不透明導電層16，而具有較低阻抗，因此觸控面板1的電阻電容負載也不會大幅增加，進而符合高觸控解析度的需求，例如滿足偵測觸控筆的觸控解析度的需求。

具體來說，如第2圖所示，在各第一感測電極條14S中，四個第一部分P1與四個第二部分P2可連接形成一個網格單元14U，使得每個網格單元14U具有一個開口OP1，因此網格單元14U可拼接成第一感測電極條14S。在不透明導電層16的網格圖案中，各第二感測電極條16S可包括多個網格單元16U，每個網格單元16U由多條直條狀的網格線16L圍繞而成，並具有一個開口OP2。在俯視方向VD上，網格單元14U的第二部分P2會與網格單元16U的網格線16L重疊，而第一部分P1則位於對應的一個網格單元16U的開口OP2中。在一些實施例中，開口OP1與開口OP2的形狀可例如分別為菱形、矩形或其他合適的形狀。在一些實施例中，開口OP1的形狀可與開口OP2的形狀不同。本實施例的第一部分P1與第二部分P2可分別例如為一線段，且第一部分P1的寬度W1可大於第二部分P2的寬度W2。因此，第二部分P2的寬度W2可在降低由第一感測電極條14S的第二部分P2與第二感測電極條16S的網格線16L重疊所產生的耦合電容的情況下縮小，且同時可透過增加第一部分P1的寬度W1來彌補第二部分P2的阻抗降低，使得第一感測電極條14S的阻抗不因第二部分P2的寬度W2縮小而降低。

在本實施例中，網格線16L可具有均勻的寬度W3，但不限於此。由於不透明導電層16不可被光穿透，因此為了避免使用者觀看到網格線16L，網格線16L的寬度W3可小於30微米，較佳小於10微米，更加小於5微米。在本實施例中，彼此連接的兩網格線16L可沿著不同的方向延伸，以具有轉折，藉此可縮短沿同一方向延伸的單一網格線16L的長度，進而降低不透明導電層16的可視度，但不限於此。

下文將進一步說明觸控面板1的疊層結構。請參考第3圖，其繪示沿著第1圖的剖線A-A’的剖面示意圖。在本實施例中，第一基板12具有彼此相對的第一表面12a與第二表面12b，第一表面12a比第二表面12b鄰近觸控物，且透明導電層14與不透明導電層16設置於第一基板12的第二表面12b上。在本實施例中，觸控面板1可另包括一第二基板110、一絕緣層18以及一模糊(blur)層112。第二基板110面對第一基板12的第二表面12b設置，絕緣層18設置於透明導電層14與不透明導電層16之間，用以電性絕緣透明導電層14與不透明導電層16，且不透明導電層16、絕緣層18與透明導電層14依序形成在第二基板110上。第二基板110可為透明基板，例如玻璃基板、塑膠基板、壓克力基板、石英基板、藍寶石基板或其他具有高機械強度材質的基板。換言之，本實施例的觸控面板1也可稱為雙玻璃(GG)類型。由於透明導電層14設置於不透明導電層16與第一基板12之間，因此不透明導電層16的可視度可透過透明導電層14的設置而降低，但不限於此。在一些實施例中，不透明導電層16也可設置於透明導電層14與第一基板12之間。

在本實施例中，模糊層112的作用是將光線曲折，使得人眼不易聚焦，進而達到模糊化效果，因此可用以降低觸控面板具有不透明導電層16的區域與不具有不透明導電層16的區域之間的對比(或稱為銳利度)，使人眼不易對焦在對不透明導電層16，進而降低不透明導電層16的可視度。本實施例的模糊層112另包括黏著材料，因此模糊層112可將第二基板110與第一基板12黏合，但不限於此。在一些實施例中，模糊層112也可為保護層(overcoat)，例如包括有機材料。在此情況下，觸控面板1需另包括黏著層，將第一基板12與第二基板110貼合。

在本實施例中，觸控面板1可選擇性另包括一第一光學匹配層114，設置於透明導電層14與第一基板12之間以及絕緣層18與第一基板12之間。第一光學匹配層114可覆蓋第一基板12的第二表面12b的觸控區TR。透過折射率的匹配，使得光線在第一光學匹配層114中產生相位差，進而達到干涉效果，因此第一光學匹配層114可均勻化觸控區TR中具有不透明導電層16的區域與不具有不透明導電層16的區域的反射率，並降低不透明導電層16的可視度。舉例來說，第一光學匹配層114可包括氟化鎂(MgF₂ )、氧化鈦(TiO₂ )、氧化鈮(Nb₂ O₅ )、其他適合的材料或上述任兩種材料的堆疊，但不限於此。

在一些實施例中，觸控面板1可選擇性另包括一遮光層116，設置於不透明導電層16與第一基板12之間。舉例來說，遮光層116可透過黑化處理形成在不透明導電層16上，但不限於此。透過遮光層116的設置，可降低環境光受到包括金屬的不透明導電層16的反射，進而降低不透明導電層16的可視度。遮光層116的材料可例如包括金屬氧化物，但不限於此。

在一些實施例中，觸控面板1可選擇性另包括一抗反射層118，設置於第一基板12的第一表面12a上，用以降低環境光在遇到空氣與第一基板12的介面時的反射，進而提高觸控顯示裝置所顯示的影像的清晰度。值得說明的是，雖然抗反射層118的設置會降低空氣與第一基板12之間介面的反射，但透過設置於不透明導電層16與第一基板12之間的第一光學匹配層114與透明導電層14的折射率匹配，可大幅減少觸控面板1在具有不透明導電層16的區域與不具有不透明導電層16的區域的反射光差異以及色度差異，進而降低不透明導電層16的可視度，具體描述於下文中。

請參考第4圖與第5圖，且一併參考第3圖，第4圖繪示本發明觸控面板具有不透明導電層的區域與不具有不透明導電層的區域所反射的不同反射光在國際照明委員會(Commission Internationale d’Eclairage，CIE)的三維色度座標CIELAB的位置示意圖，第5圖繪示本發明觸控面板具有不透明導電層的區域與不具有不透明導電層的區域所反射的不同反射光的波長與反射率的關係示意圖。如第3圖與第4圖所示，當具有相同條件的環境光AL射入觸控面板1時，觸控面板1具有不透明導電層16的區域R1與不具有不透明導電層16的區域R2會分別將環境光AL反射為反射光RL1與RL2。反射光RL1在三維色度座標CIELAB中的位置為(

,

,

)，而反射光RL2在三維色度座標CIELAB中的位置為(

,

,

)，因此透過下面色度差異的公式(1)可計算出反射光RL1與RL2的色度差異

E。

(1)

在本實施例中，觸控面板1具有不透明導電層16的區域R1與不具有不透明導電層16的區域R2反射同一光線(例如環境光)的反射光RL1與RL2的色度差異可小於3，更佳地可小於1。由此可知，透過第一光學匹配層114與透明導電層14的調整，可明顯地降低區域R1與R2的色度差異。

如第3圖與第5圖所示，反射光RL1的波長與區域R1的反射率的關係可表示為曲線R₁ (λ)，反射光RL2的波長與區域R2的反射率的關係可表示為曲線R₂ (λ)。舉例來說，反射率可為對應的區域R1或R2反射的反射光RL1或RL2強度與進入對應的區域R1或R2的入射光強度的比例，但不限於此。區域R1與R2的反射率差異

可透過下面公式(2)計算出：

(2)

其中，

為波長，

為可見光範圍中的不同波長，N為大於2的正整數。在本實施例中，可見光範圍可例如從380奈米到780奈米，但不限於此。從公式(2)可知，反射率差異

是將曲線R₁ (λ)與R₂ (λ)在不同的波長的差值取絕對值，並將差值的絕對值加總取平均值，因此公式(2)所計算出的反射率差異

可有效呈現曲線R₁ (λ)與R₂ (λ)的差異。在本實施例中，觸控面板1具有不透明導電層16的區域R1與不具有不透明導電層16的區域R2的反射率差異百分比可小於6，較佳小於3，更佳小於1。由此可知，透過第一光學匹配層114與透明導電層14的調整，可明顯地降低區域R1與R2的反射率差異，從而降低不透明導電層14的可視度。因此，本實施例的觸控面板1透過透明導電層14與不透明導電層16作為驅動電極與感應電極除了可有效提升穿透率之外，還可更容易透過第一光學匹配層114搭配透明導電層14來降低因抗反射層118的設置所造成不透明導電層16的可視問題。

本發明的觸控面板並不以上述實施例為限，且以下將進一步描述本發明的其他實施例。為方便比較不同實施例與簡化說明，下文中將使用相同標號標註相同元件，且下文將詳述不同實施例之間的差異，並不再對相同部分作贅述。

請參考第6圖，其繪示本發明第一實施例的另一變化實施例的觸控面板的剖面示意圖。本變化實施例的觸控面板2與上述實施例的差異在於觸控面板2的不透明導電層16與透明導電層14的位置可互換，也就是不透明導電層16可設置於透明導電層14與第一基板12之間。在本實施例中，第一光學匹配層114可設置於不透明導電層16與模糊層112之間，例如直接形成在不透明導電層16與絕緣層18上。本實施例的觸控面板2可選擇性另包括一第二光學匹配層222、一第三光學匹配層224與一第四光學匹配層226。第二光學匹配層222設置於透明導電層14與不透明導電層16之間。具體來說，第二光學匹配層222可設置於絕緣層18與不透明導電層16之間。第三光學匹配層可設置於透明導電層14相對於不透明導電層16的一側，也就是位於透明導電層14與第二基板110之間。第四光學匹配層226可設置於絕緣層18與透明導電層226之間。在一些實施例中，觸控面板2可僅包括第一光學匹配層114、第二光學匹配層222、第三光學匹配層224與第四光學匹配層226的其中至少一個，用以降低不透明導電層16的可視度。在一些實施例中，當透明導電層14位於不透明導電層16與第一基板12之間時，第三光學匹配層224、不透明電層16、第四光學匹配層226、絕緣層18、第二光學匹配層222與第一光學匹配層114可依序形成於第二基板110上。在一些實施例中，第二光學匹配層222、第三光學匹配層224與第四光學匹配層226可具有與第一光學匹配層114類似的功用，且可包括氟化鎂(MgF₂ )、氧化鈦(TiO₂ )、氧化鈮(Nb₂ O₅ )、其他適合的材料或上述任兩種材料的堆疊，但不限於此。

請參考第7圖，其繪示本發明第一實施例的又一變化實施例的觸控面板的剖面示意圖。本變化實施例的觸控面板3與上述實施例的差異在於觸控面板3另包括一第三基板328，設置於第一基板12與第二基板310之間。換言之，本實施例的觸控面板3可為雙薄膜(GFF)類型。具體來說，第二基板310與第三基板328可分別為薄膜，例如包括聚醯亞胺(polyimide，PI)。在本實施例中，透明導電層14直接形成於第三基板328上，且不透明導電層16直接形成於第二基板310上，但不限於此。並且，第二基板310與第三基板328可透過黏著層330彼此貼合，使第三基板328與黏著層330的至少一個可用於將透明導電層14與不透明導電層16電性絕緣。在一些實施例中，不透明導電層16可直接形成於第三基板328上，且透明導電層14可直接形成於第二基板310上。在一些實施例中，觸控面板3可不包括光學匹配層，或者可包括上述實施例中的至少一光學匹配層。

請參考第8圖，其繪示本發明第一實施例的再一變化實施例的觸控面板的剖面示意圖。本變化實施例的觸控面板4與上述實施例的差異在於透明導電層14與不透明導電層16直接形成於第一基板12的第二表面12b上。換言之，本實施例的觸控面板4可稱為單玻璃(OGS)類型。在本實施例中，透明導電層14、絕緣層18與不透明導電層16依序形成在第二表面12b上，且觸控面板4另包括一保護層432覆蓋於不透明導電層16上，用以保護透明導電層14與不透明導電層16。在一些實施例中，透明導電層14與第一基板12之間可選擇性設置第一光學匹配層114，透明導電層14與絕緣層18之間可選擇性設置第二光學匹配層422，但不限於此。在一些實施例中，觸控面板4也可包括第一光學匹配層114、第二光學匹配層422、第三光學匹配層與第四光學匹配層的其中至少一個。在一些實施例中，觸控面板4可不包括光學匹配層。

請參考第9圖，其繪示本發明第二實施例的觸控面板的俯視示意圖。為清楚顯示第一感測電極條與第二感測電極條，第9圖僅示例出單一第一感測電極條與單一第二感測電極條，但本發明不以此為限。本實施例的觸控面板5與上述實施例的差異在於第一部分P15的面積可相同於或小於對應的開口OP2的面積。當第一部分P15的面積相同於對應的開口OP2的面積時，不與第二感測電極條16S重疊的第一部分P15的面積可被最大化，藉此第一部分P15的寬度可遠大於第二部分P25的寬度，使得第一感測電極條14S的阻抗可大幅降低，或者在增加觸控解析度的情況下，第一感測電極條14S的阻抗可不致於增加。第一部分P15的面積也可依據實際所需的電阻電容負載而調整為小於對應開口OP2的面積且在同一方向(例如第二方向D2)上，第一部分P15的寬度W1’大於第二部分P25的寬度W2’。在本實施例中，第一感測電極條14S的開口OP15可例如為X形，但不限於此。在一些實施例中，第二實施例的觸控面板5的疊層結構也可應用上述任一實施例或變化實施例的疊層結構。

綜上所述，在本發明所提供的觸控面板中，透過以透明導電層與不透明導電層作為驅動電極與感應電極，因此可改善觸控面板的穿透率，或者在觸控解析度增加的情況下不會大幅降低穿透率，從而維持相同的光學效果。並且，由於不透明導電層可為金屬網格，因此觸控面板的電阻電容負載也不會大幅增加，進而符合高觸控解析度的需求。此外，由於本發明的觸控面板僅具有單層的不透明導電層，因此更容易透過光學匹配層搭配透明導電層來降低因抗反射層的設置所產生不透明導電層的可視問題。以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。

1、2、3、4、5:觸控面板 110、310:第二基板 112:模糊層 114:第一光學匹配層 116:遮光層 118:抗反射層 12:第一基板 12a:第一表面 12b:第二表面 14:透明導電層 14S:第一感測電極條 14U、16U:網格單元 16:不透明導電層 16L:網格線 16S:第二感測電極條 18:絕緣層 222、422:第二光學匹配層 224:第三光學匹配層 226:第四光學匹配層 328:第三基板 432:保護層 AL:環境光 D1:第一方向 D2:第二方向 OP1、OP2、OP15:開口 P1、P15:第一部分 P2、P25:第二部分 R1 (λ)、R2 (λ):曲線 R1、R2:區域 RL1、RL2:反射光 TR:觸控區 TU:觸控感測單元 VD:俯視方向 W1、W2、W3、W1’、W2’:寬度

第1圖繪示本發明第一實施例的觸控面板的俯視示意圖。第2圖繪示本發明第一實施例的透明導電層的網格單元以及不透明導電層的網格單元的放大示意圖。第3圖繪示沿著第1圖的剖線A-A’的剖面示意圖。第4圖繪示本發明觸控面板具有不透明導電層的區域與不具有不透明導電層的區域所反射的不同反射光在三維色度座標CIELAB的位置示意圖。第5圖繪示本發明觸控面板具有不透明導電層的區域與不具有不透明導電層的區域所反射的不同反射光的波長與反射率的關係示意圖。第6圖繪示本發明第一實施例的另一變化實施例的觸控面板的剖面示意圖。第7圖繪示本發明第一實施例的又一變化實施例的觸控面板的剖面示意圖。第8圖繪示本發明第一實施例的再一變化實施例的觸控面板的剖面示意圖。第9圖繪示本發明第二實施例的觸控面板的俯視示意圖。

1:觸控面板

12:第一基板

14:透明導電層

14S:第一感測電極條

16:不透明導電層

16S:第二感測電極條

D1:第一方向

D2:第二方向

TR:觸控區

TU:觸控感測單元

VD:俯視方向

Claims

一種觸控面板，用以偵測一觸控物的位置，包括：一第一基板，具有彼此相對的一第一表面與一第二表面，且該第一表面比該第二表面鄰近該觸控物；一透明導電層，設置於該第一基板的該第二表面上，該透明導電層包括複數條沿著一第一方向延伸的第一感測電極條，各該第一感測電極條包括複數個第一部分以及複數個第二部分，且各該第二部分連接兩相鄰的該等第一部分；以及一不透明導電層，設置於該第一基板的該第二表面上，該不透明導電層包括複數條沿著一第二方向延伸的第二感測電極條，且各該第二感測電極條具有網格圖案；其中該等第一部分與該不透明導電層不重疊，且該等第二部分與該不透明導電層重疊。
如請求項1所述的觸控面板，另包括一抗反射層，設置於該第一基板的該第一表面上。
如請求項1所述的觸控面板，其中該等第一部分中的一個的寬度大於該等第二部分中的一個的寬度。
如請求項2所述的觸控面板，其中各該第二感測電極條具有多個開口，且該等第一部分中的一者的面積相同於或小於該等開口中的一者的面積。
如請求項1所述的觸控面板，其中該觸控面板具有該不透明導電層的一區域與不具有該不透明導電層的另一區域的反射率差異百分比小於3。
如請求項1所述的觸控面板，其中該觸控面板具有該不透明導電層的一區域與不具有該不透明導電層的另一區域反射同一光線的反射光的色度差異小於3。
如請求項1所述的觸控面板，其中該透明導電層與該不透明導電層中的一個設置於該第一基板與該透明導電層與該不透明導電層中的另一個之間。
如請求項7所述的觸控面板，另包括一第一光學匹配層，設置於該透明導電層與該不透明導電層中的該個與該第一基板之間，且該第一光學匹配層至少覆蓋該第二表面。
如請求項7所述的觸控面板，另包括一第二光學匹配層，設置於該透明導電層與該不透明導電層中的該個與該透明導電層與該不透明導電層中的該另一個之間。
如請求項7所述的觸控面板，另包括一第三光學匹配層，設置於該透明導電層與該不透明導電層中的該另一個相對於該透明導電層與該不透明導電層中的該個的一側。
如請求項1所述的觸控面板，另包括一第二基板以及一模糊層，該第二基板面對該第一基板的該第二表面設置，該透明導電層與該不透明導電層直接形成於該第二基板上，且該模糊層設置於該不透明導電層與該第一基板之間。
如請求項11所述的觸控面板，其中該模糊層包括黏著材料，且該模糊層將該第二基板與該第一基板黏合。
如請求項11所述的觸控面板，另包括一絕緣層，設置於該透明導電層與該不透明導電層之間。
如請求項1所述的觸控面板，另包括一第二基板以及一第三基板，該第三基板設置於該第一基板與該第二基板之間，該透明導電層與該不透明導電層中的一個直接形成於該第二基板上，且該透明導電層與該不透明導電層中的另一個直接形成於該第三基板上。
如請求項1所述的觸控面板，其中該透明導電層與該不透明導電層直接形成於該第一基板上。