TW202107212A - 具有形狀記憶體合金及磁耦合機構的倍縮光罩籠致動器 - Google Patents

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Abstract

本文中之實施例描述用以為一物件提供支撐之方法及安全器件。一種安全器件包括包含一驅動馬達之一驅動側及一從動側。該安全器件之該從動側包括：一殼體，該殼體具有沿該殼體之一長度延伸之一旋轉軸；及一安全閂鎖。該從動側在該旋轉軸之一第一端處經由一非接觸式磁耦合器件耦合至該驅動馬達，且該安全閂鎖耦合至與該旋轉軸之該第一端相對之該旋轉軸之一第二端。該驅動馬達經組態以在該驅動側上經由該非接觸式磁耦合器件使該安全閂鎖在一徑向方向上旋轉。

Description

具有形狀記憶體合金及磁耦合機構的倍縮光罩籠致動器
本發明係關於安全機構，諸如用於保持微影系統中之圖案化器件的倍縮光罩籠致動器及磁耦合機構。
微影裝置係將所要圖案施加至基板上(通常施加至基板之目標部分上)之機器。微影裝置可用於(例如)積體電路(IC)之製造中。在該個例中，替代地稱作光罩或倍縮光罩的圖案化器件可用以產生待形成於IC之個別層上之電路圖案。可將此圖案轉印至基板(例如，矽晶圓)上之目標部分(例如，包含晶粒之部分、一個或若干晶粒)上。通常經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上來進行圖案之轉移。大體而言，單個基板將含有順次圖案化之鄰近目標部分之網路。已知的微影裝置包括：所謂的步進器，其中藉由一次性將整個圖案暴露至目標部分上來輻照每一目標部分；及所謂的掃描器，其中藉由在給定方向(「掃描」方向)上經由輻射光束而掃描圖案同時平行或反平行於此掃描方向而同步地掃描目標部分來輻照每一目標部分。亦有可能藉由將圖案壓印至基板上而將圖案自圖案化器件轉印至基板。
微影被廣泛地認為係在IC以及其他器件及/或結構之製造中之關鍵步驟中的一者。然而，隨著使用微影所製造之特徵之尺寸變得愈來愈小，微影正變為用於使得能夠製造小型IC或其他器件及/或結構之更關鍵的因素。
為了將圖案投影在基板上，微影裝置可使用電磁輻射。此輻射之波長決定可形成於基板上的特徵之最小大小。相較於使用例如具有193 nm之波長之輻射的微影裝置，使用具有在4至20 nm之範圍內(例如6.7 nm或13.5 nm)之波長之極紫外線(EUV)輻射的微影裝置可用以在基板上形成較小特徵。
使用EUV輻射之微影裝置可需要EUV輻射光束路徑或EUV輻射光束路徑之至少相當大部分在微影操作期間必須保持在真空中。在微影裝置之此等真空區域中，靜電夾具可用以將物件(諸如，圖案化器件及/或基板)分別夾持至微影裝置之結構(諸如，圖案化器件台及/或基板台)。
習知圖案化器件(諸如倍縮光罩)係極昂貴的。因此，當在微影裝置內操作倍縮光罩時應極其小心。雖然通常將倍縮光罩夾持至夾盤結構，但是期望包括在夾持失效的情況下之安全機構。否則，倍縮光罩可能掉落，不僅對倍縮光罩自身造成損壞，而且對微影裝置內之其他昂貴的光學件造成損壞。
習知安全設計可用於確保圖案化器件(諸如倍縮光罩)不會不經意地自夾盤(例如，倍縮光罩載物台)掉落。此類設計通常使用電磁鐵來打開或閉合金屬臂以在倍縮光罩掉落時「抓住」倍縮光罩。此等設計並非極有效的，係因為其需要大型馬達以產生打開臂必需之力，且亦需要恆定功率消耗以將臂保持於打開位置。由於功率需求，安全設計亦需要電磁鐵之有效冷卻以消散系統內之熱量。此外，若在操作期間切斷電源，則由電磁鐵供電之安全閂鎖之臂將自動閉合並有可能在諸如倍縮光罩交換操作期間損壞倍縮光罩。
因此，需要提供用於以可靠及有效方式增強倍縮光罩安全機構之新器件及方法。本文中之實施例描述用於不需要電磁鐵來保持倍縮光罩的經改良之安全器件之系統、器件及方法。本發明提供利用永久的非接觸式磁耦合來促進旋轉致動機構支撐微影系統中之倍縮光罩的安全器件。磁耦合允許安全器件之軸在驅動載體側與夾盤側之間旋轉而不需要實體接觸，同時經由雙穩態致動器機構最小化功率需求。本發明亦包括用於形狀記憶體合金(SMA)及用於倍縮光罩安全性之壓縮彈簧激活式致動器之器件及方法。藉由將電流或熱量施加至安全器件之形狀記憶體合金，可回應於安全器件中由形狀記憶體合金之改變激活的彈簧的壓縮而將安全器件之安全閂鎖致動至「開啟」或「閉合」位置。
在一些實施例中，用於為物件提供支撐之安全器件包括驅動側及從動側。驅動側包括驅動馬達。從動側包括殼體，該殼體具有沿殼體之長度延伸的旋轉軸，及安全閂鎖，其中該從動側在該旋轉軸之第一端處經由非接觸式磁耦合器件耦合至驅動馬達。安全閂鎖耦合至與旋轉軸之第一端相對之旋轉軸之第二端。驅動馬達經組態以在驅動側上經由非接觸式磁耦合器件使安全閂鎖在徑向方向旋轉。
在一些實施例中，微影裝置包括照明系統、支撐結構、投影系統及一或多個安全器件。照明系統調節輻射光束。支撐結構經構造以支撐圖案化器件，該圖案化器件能夠在輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予圖案以形成經圖案化之輻射光束。投影系統經組態以將經圖案化之輻射光束投影至基板之目標部分上。一或多個安全器件耦合至支撐結構且各自包括驅動側及從動側。一或多個安全器件之驅動側包括驅動馬達。一或多個安全器件之從動側包括殼體，該殼體具有沿殼體之長度延伸之旋轉軸，及安全閂鎖，其中從動側在該旋轉軸之第一端處經由非接觸式磁耦合器件耦合至驅動馬達。安全閂鎖耦合至與旋轉軸之第一端相對之旋轉軸之第二端。驅動馬達經組態以在驅動側上經由非接觸式耦合器件使安全閂鎖在徑向方向上旋轉。
在一些實施例中，一種方法包括使用用以支撐圖案化器件之安全器件，該安全器件具有包含至少一個形狀記憶體合金之致動器、安全閂鎖及耦合至該安全閂鎖的至少一個彈簧。安全閂鎖包括在安全閂鎖之遠端處之支腳部分，其中該支腳部分經組態以充當圖案化器件之接觸點。該方法亦包括將電流施加至安全器件之至少一個形狀記憶體合金以激活至少一個形狀記憶體合金，及回應於至少一個形狀記憶體合金之激活而將安全閂鎖自圖案化器件下方的第一位置致動至第二位置。
下文參考隨附圖式來詳細地描述其他態樣、特徵及優點，以及本發明之各種實施例之結構及操作。應注意，本發明不限於本文中所描述之特定實施例。本文中僅出於說明性目的呈現此類實施例。基於本文中所含之教示，額外實施例對於熟習相關技術者將為顯而易見的。
本說明書揭示併入本發明之特徵之一或多個實施例。所揭示之實施例僅例示本發明。本發明之範疇不限於所揭示之實施例。本發明由在此隨附之申請專利範圍定義。
所描述之實施例及本說明書中對「一個實施例」、「一實施例」、「一實例實施例」等之參照指示所描述之實施例可包括特定特徵、結構或特性，但每一實施例可未必包括該特定特徵、結構或特性。此外，此類片語未必指相同實施例。另外，當結合實施例來描述特定特徵、結構或特性時，應理解，無論是否予以明確描述，結合其他實施例影響此特徵、結構或特性在熟習此項技術者之認識範圍內。
為了易於描述的，空間相對術語(諸如「在……之下」、「在……下方」、「下部」、「在……上方」、「在……之上」、「上部」及其類似者)可在本文中用以描述一個元件或特徵與圖中所說明之另一個元件或特徵之關係。除了圖中所描繪之定向以外，空間相對術語亦意欲涵蓋器件在使用或操作中的不同定向。裝置可以其他方式定向(旋轉90度或處於其他定向)且本文中所使用之空間相對描述詞可同樣相應地進行解譯。
如本文中所使用之術語「約」指示可基於特定技術變化之給定數量之值。基於特定技術，術語「約」可指示例如在該值之10至30%內(例如，該值之±10%、±20%或±30%)變化之給定數量之值。
本發明之實施例可以硬體、韌體、軟體或其任何組合予以實施。本發明之實施例亦可實施為儲存於機器可讀媒體上之指令，該等指令可由一或多個處理器讀取及執行。機器可讀媒體可包括用於儲存或傳輸呈可由機器(例如，計算器件)讀取之形式之資訊的任何機制。舉例而言，機器可讀媒體可包括：唯讀記憶體(ROM))；隨機存取記憶體(RAM)；磁碟儲存媒體；光學儲存媒體；快閃記憶體器件；電氣、光學、聲學或其他形式之傳播信號(例如，載波、紅外線信號、數位信號等)及其他。另外，韌體、軟體、常式及/或指令可在本文中描述為執行某些動作。然而，應瞭解，此類描述僅出於方便起見，且此等動作實際上由計算器件、處理器、控制器或執行韌體、軟體、常式、指令等之其他器件所引起，且在執行此操作時可造成致動器或其他器件與實體世界交互。
然而，在更詳細地描述此類實施例之前，有指導性地呈現可實施本發明之實施例的實例環境。
實例微影系統
圖1展示包含輻射源SO及微影裝置LA之微影系統。輻射源SO經組態以產生EUV輻射光束B且將EUV輻射光束B供應至微影裝置LA。微影裝置LA包含照明系統IL、經組態以支撐圖案化器件MA (例如，光罩)之支撐結構(例如，光罩台) MT、投影系統PS及經組態以支撐基板W之基板台WT。大體而言，可憑藉長衝程模組(粗略定位)及短衝程模組(精細定位)來實現支撐結構MT之移動，如下文進一步描述。
照明系統IL經組態以在EUV輻射光束B入射於圖案化器件MA上之前調節EUV輻射光束B。另外，照明系統IL可包括琢面化場鏡面器件10及琢面化光瞳鏡面器件11。琢面化場鏡面器件10及琢面化光瞳鏡面器件11共同提供具有所要橫截面形狀及所要強度分佈之EUV輻射光束B。除了琢面化場鏡面器件10及琢面化光瞳鏡面器件11以外或代替琢面化場鏡面器件10及琢面化光瞳鏡面器件11，照明系統IL可包括其他鏡面或器件。
在由此調節之後，EUV輻射光束B與圖案化器件MA相互作用。由於此相互作用，產生經圖案化之EUV輻射光束B'。投影系統PS經組態以將經圖案化之EUV輻射光束B'投影至基板W上。出於該目的，投影系統PS可包含複數個鏡面13、14，其經組態以將經圖案化之EUV輻射光束B'投影至由基板台WT固持之基板W上。投影系統PS可將縮減因數應用至經圖案化之EUV輻射光束B'，因此形成具有小於圖案化器件MA上之對應特徵之特徵的影像。舉例而言，可應用縮減因數4或8。儘管在圖1中將投影系統PS說明為僅具有兩個鏡面13、14，但該投影系統PS可包括不同數目之鏡面(例如，六個或八個鏡面)。
基板W可包括先前形成之圖案。在此情況下，微影裝置LA將由經圖案化之EUV輻射光束B'形成之影像與先前形成於基板W上之圖案對準。
可在輻射源SO中、在照明系統IL中及/或在投影系統PS中提供相對真空，亦即在遠低於大氣壓力之壓力下之少量氣體(例如氫氣)。
輻射源SO可為雷射產生電漿(LPP)源、放電產生電漿(DPP)源、自由電子雷射(FEL)或能夠產生EUV輻射之任何其他輻射源。
實例倍縮光罩載物台及安全器件系統
圖2及圖3展示根據本發明之一些實施例的例示性倍縮光罩載物台200之示意性說明。倍縮光罩載物台200可包括頂部載物台表面202、底部載物台表面204、側載物台表面206、倍縮光罩208及安全器件300。在一些實施例中，具有倍縮光罩208之倍縮光罩載物台200可實施於微影裝置LA中。舉例而言，倍縮光罩載物台200可表示支撐結構MT且倍縮光罩208可表示微影裝置LA中之圖案化器件MA。在一些實施例中，倍縮光罩208及複數個安全器件300可安置於頂部載物台表面202上。舉例而言，如圖2中所展示，倍縮光罩208可安置於頂部載物台表面202之中心處，而安全器件300鄰近於倍縮光罩208之每一隅角安置。
在一些微影裝置(例如微影裝置LA)中，倍縮光罩載物台或夾盤200可用以固持及定位倍縮光罩208以用於掃描或圖案化操作。倍縮光罩載物台200需要強力驅動、大平衡質量及承力框架以支撐自身。倍縮光罩載物台200具有大慣性且可重達500 kg以上以推動及定位重約0.5 kg之倍縮光罩208。為實現通常在微影掃描或圖案化操作中發現的倍縮光罩208之往復運動，可藉由驅動倍縮光罩載物台200之直線馬達提供加速力及減速力。
在倍縮光罩載物台200例如因大功率損耗或嚴重系統故障而突發故障期間，倍縮光罩載物台200之加速力及減速力可轉移至倍縮光罩208並導致倍縮光罩碰撞。倍縮光罩208可碰撞到倍縮光罩載物台200之其他組件，導致倍縮光罩208及/或其他附近組件損壞。倍縮光罩208可在較高力(亦即，高加速度)下發生碰撞，其視倍縮光罩載物台200之預撞擊運動及動量而定。較軟倍縮光罩撓曲可引起金屬破裂(例如，圖案損壞)，同時較硬之倍縮光罩撓曲可引起玻璃破裂(例如，倍縮光罩中之裂痕)。當前方法使用某種形式之安全機構以降低或減小倍縮光罩在碰撞期間之力。然而，由於倍縮光罩在最壞情況碰撞下之衝擊應力(力)較高，倍縮光罩及/或當前安全機構可亦發生損壞。
一種可能的解決方案係將安全機構(例如安全器件300)定位在倍縮光罩208周圍以充當減震器來降低倍縮光罩208在碰撞期間之衝擊力。舉例而言，可在倍縮光罩208周圍使用具有減震器之緩衝器裝置201以吸收由碰撞帶來的可能的力或震動，使得可完全減少或消除對倍縮光罩208及安全器件300之損壞。根據實施例，安全器件300亦可各自包括安全閂鎖(圖中未展示)，該安全閂鎖在倍縮光罩208下方適當旋轉，使得安全閂鎖防止倍縮光罩208自倍縮光罩載物台200掉落。可藉由四個安全器件300 (例如，鄰近於倍縮光罩208之隅角配置)來限制倍縮光罩208。在一實施例中，安全器件300可與用以阻止物件位移或掉落之「籠」起相同作用。當安全器件300用以為倍縮光罩提供緊急支撐時，該等安全器件300可統稱為倍縮光罩籠，但安全器件300亦可用以支撐其他類型的圖案化器件或任何其他類型的經夾持物件。
在一些實施例中，如圖2及圖3中所展示，倍縮光罩載物台200可包括用於定位操作之第一編碼器212及第二編碼器214。舉例而言，第一編碼器212及第二編碼器214可為干涉計。第一編碼器212可沿第一方向，例如倍縮光罩載物台200之橫向方向(亦即，X方向)附接，且第二編碼器214可沿第二方向，例如倍縮光罩載物台200之縱向方向(亦即，Y方向)附接。在一些實施例中，如圖2及圖3中所展示，第一編碼器212可與第二編碼器214正交。
安全器件300可經組態以穩定及減小在碰撞期間對倍縮光罩208之損壞。安全器件300可經組態以使倍縮光罩208在碰撞期間之衝擊力均一地分佈。在一些實施例中，複數個安全器件300可安置於頂部載物台表面202中且可配置於倍縮光罩208之周邊周圍。舉例而言，多個安全器件300可鄰近於倍縮光罩208之每一隅角安置以使倍縮光罩208之衝擊力均一地分佈於複數個衝擊位置上。
在一些實施例中，諸如在倍縮光罩交換操作或倍縮光罩208之手動恢復期間，可利用安全器件300來將倍縮光罩208 (例如，具有安全閂鎖之倍縮光罩)固持在適當位置。安全器件300亦適用於在倍縮光罩208在掃描期間自固持倍縮光罩之靜電夾具脫離的情況下防止該倍縮光罩在Z方向上位移。
具有磁耦合之安全器件之實例設計
圖4A及圖4B說明根據本發明之實施例的一個安全器件300之實例視圖。特定而言，圖4A說明安全器件300之側視圖，而圖4B說明安全器件300之橫截面圖。如上文圖2至圖3中所論述，一或多個安全器件300可安置在倍縮光罩208周圍且耦合至夾盤(例如，倍縮光罩載物台200)。
安全器件300包括驅動側401 (例如，在載體上)及從動側402 (例如，在夾盤上)。特定而言，驅動側401包括安全器件300之移動件組件，而從動側402包括對驅動側401之運動作出反應之從動件組件。驅動側401包括驅動馬達404、驅動組件406a及感測器418。
在一些實施例中，感測器418包含位置感測器，該位置感測器經組態以感測物件或目標(例如，目標420)之近接度或位置。舉例而言，感測器418可為電容式感測器、電感式感測器、光學反射式感測器、斷裂光束感測器。在一些實施例中，感測器418可位於驅動側401 (例如，載體)上，而感測器418感測到之物件可位於從動側402 (例如，夾盤)上。在其他實施例中，感測器418及感測器418感測到之物件兩者可位於從動側402 (例如，夾盤)上。在一些情況下，若感測器418及物件位於安全器件300之不同側上(例如，感測器418位於驅動側401上且物件位於從動側402上，或反之亦然)，則從動側402及驅動側401之移動可影響感測器資料。藉由使感測器418及物件兩者定位於從動側402上，從動側402及驅動側401可相對於彼此移動而不影響感測器資料。
驅動馬達404為移動安全器件300及控制安全器件300之移動的組件。在一些實施例中，驅動馬達404可為旋轉馬達、致動器及/或直接驅動器、雙穩態致動器。特定而言，驅動馬達404驅動或致動驅動組件406a，該驅動組件406a為磁耦合器件406之部分。可替代地，可使用旋轉螺線管代替馬達或具有制動機構之另一電旋轉馬達。驅動馬達404之雙穩態性質意謂馬達之運動僅在功率不足時發生。當驅動馬達404固定於給定位置時，其不會消耗功率。驅動馬達404可為壓電馬達或DC馬達。
磁耦合器件406為安全器件300提供非接觸式永久磁耦合。磁耦合器件406包括兩個組件：驅動組件406a及從動組件406b。該兩個組件406a及406b具有面向彼此但不彼此接觸之永久磁鐵。舉例而言，驅動組件406a及從動組件406b可藉由約1至4 mm之間距實體分離。驅動組件406a及從動組件406b之永久磁鐵之間的吸引力允許驅動側401以旋轉方式驅動或移動安全器件之從動側402。
從動側402包括從動組件406b、殼體408、軸410、安全緩衝器416、安全閂鎖412、支腳區域414、安全緩衝器416及目標420。經由磁耦合406，從動組件406b對驅動組件406a之運動作出反應，使得機械能非接觸式地傳輸至從動側402。從動側402之殼體408可沿Z軸具有最長長度，且可提供該殼體408以保護安置於內部之移動組件。殼體408可為射出模製材料，諸如聚合物材料，或殼體408可為經機械加工之金屬。在一些實施例中，殼體408沿Z方向之長度可為約20至70毫米。
殼體408包括經由磁耦合器件406附接至驅動馬達404之軸410。特定而言，軸410可安置於殼體408內，而磁耦合器件406可耦合至殼體408外之軸410之一端。軸410可沿殼體408之長度延伸。
亦可包括安全緩衝器416作為馬達設計之部分且該安全緩衝器416安置於安全器件之從動側402內。任何類型之套管或軸承設計可用於安全緩衝器設計中。根據一些實施例，一旦倍縮光罩失去對從動側402 (例如，夾盤)之夾持力，一或多個安全緩衝器416即可包括於安全器件300中以在X方向及Y方向上充當倍縮光罩之停止機構。安全緩衝器416更詳細地描述於美國申請案第62/768,161號中，該美國申請案以全文引用之方式併入本文中。
安全器件300亦包括安全閂鎖412，其耦合至軸410之與耦合至磁耦合器件406之末端相對的末端。安全閂鎖412沿旋轉軸410旋轉。在一些實施例中，安全閂鎖412可在殼體408下方圍繞平行於Z方向之軸旋轉完整的360度。安全閂鎖412自軸410徑向朝外延伸且可具有小於60 mm之長度。舉例而言，安全閂鎖412可具有大於10 mm且小於60 mm長度。安全閂鎖412之確切所說明之設計僅為一個實例且並不意欲為限制性的。安全閂鎖412可包括如圖4A、圖4B或圖5所說明之兩個或更多個獨立光束，或其可為一個實心件。
在一些實施例中，支腳區域414可安置於安全閂鎖412之遠端處。支腳區域414可被稱為安全支腳或倍縮光罩支腳。支腳區域414可實質上為平坦的且經設計以接觸圖案化器件(例如，倍縮光罩)之一部分。根據一些實施例，支腳區域414僅為安全閂鎖412中在圖案化器件將在Z方向上自其夾持位置掉落的情況下將與該器件有任何接觸之部分。
圖4B之橫截面圖進一步說明安全器件300之額外組件，包括顆粒顆粒密封件422、上端顆粒密封件424、軸承426及下端顆粒密封件428。軸承426包括承受殼體408中之旋轉部分之間的摩擦之陶瓷組件。顆粒密封件422、424及428可設計成使得在安全閂鎖412旋轉期間自移動部分產生之顆粒仍被截留於客體408內且不會被排出而進入安全器件300周圍的空間內。在一些實施例中，上端顆粒密封件424、軸承426及下端顆粒密封件428可安置於安全器件之殼體408內。
圖5說明根據本發明之實施例的圖4A及圖4B之安全器件300之等距視圖的示意性說明。安全器件300包括驅動馬達404、磁耦合器件406、殼體408、軸410、安全閂鎖412及支腳區域414以及安全緩衝器416。
如圖5中所展示，支腳區域414可自安全閂鎖412之剩餘部分以一角度(諸如約90度角)彎曲。根據一些實施例，傾斜部件(圖中未展示)可將安全閂鎖412連接至支腳區域414，使得支腳區域414安置於低於安全閂鎖412之平行平面處。
在一些實施例中，安全器件300可為剛性材料，例如金屬或陶瓷。在一些實施例中，安全器件300之殼體408可為圓柱形且延伸穿過倍縮光罩載物台200之一部分以用於與倍縮光罩之隅角剛性對準。在一些實施例中，安全閂鎖412可經組態以穩定(例如，發現)並減小在碰撞期間對倍縮光罩之損壞。舉例而言，安全閂鎖412之支腳區域414可在倍縮光罩之頂部表面上方延伸，且可經組態以防止倍縮光罩在垂直於頂部載物台表面202之表面的方向(例如，Z方向)上移動。
圖6A、圖6B及圖6C說明根據本發明之實施例的用於安全器件之實例磁耦合組態的示意圖。特定而言，圖6A說明面對面磁耦合組態600、圖6B說明共軸磁耦合組態610，且圖6C說明磁耦合表面620之實例。
圖6A之面對面磁耦合組態600為面對面磁耦合機構，其中驅動組件406a與從動組件406b之表面鄰近於彼此置放，其間有材料。驅動組件406a及從動組件406b之表面內襯有複數個彼此吸引之永久磁鐵，得到磁耦合器件406。在一些實施例中，驅動組件406a及從動組件406b之表面可由該兩個組件之間由具有預定厚度之材料分隔(例如約1.5 mm至6 mm之距離可分隔驅動組件406a與從動組件406b)。
圖6B之共軸磁耦合組態610為共軸磁耦合機構，其中驅動組件406a及從動組件406b之圓柱形末端彼此同軸耦合。驅動組件406a及從動組件406b之圓柱形末端可由材料(例如，絕緣體)分離，以便在安全器件中提供非接觸式磁耦合機構。在一些實施例中，驅動組件406a之外部圓柱形末端可與從動組件406b之內部圓柱形末端同軸耦合。舉例而言，驅動組件406a之外部圓柱形末端之內部表面可內襯有吸引至極性相反之永久磁鐵之永久磁鐵，該等極性相反之永久磁鐵鋪設在從動組件406b之內部圓柱形末端之外部表面上。
在其他實施例中，從動組件406b之外部圓柱形末端可與驅動組件406a之內部圓柱形末端同軸耦合。舉例而言，從動組件406b之外部圓柱形末端之內部表面可內襯有吸引至極性相反之永久磁鐵之永久磁鐵，該等極性相反之永久磁鐵鋪設在驅動組件406a之內部圓柱形末端之外部表面上。
圖6C進一步說明磁耦合表面620之實例。磁耦合表面620可表示面對面耦合機構(例如，面對磁耦合組態600)中之驅動組件406a之表面及/或從動組件406b之表面。耦合表面620可包括以圓形方式配置於驅動組件406a及/或從動組件406b之表面上之複數個磁鐵625。在一些實施例中，可基於驅動馬達404之運動之解析度及驅動組件406a與從動組件406b之耦合強度選擇磁鐵625之間的間距及磁鐵625之數目。
雖然圖6A至圖6C僅展示兩個磁耦合組態時，但應理解，磁耦合器件406可利用磁耦合機構或組態之其他實施例來耦合驅動組件406a與從動組件406b。藉由利用各種磁耦合機構(例如，面對面耦合機構、共軸耦合機構或其類似者)，安全器件之從動側可基於其與具有驅動馬達之驅動側之連接移動。
此外，非接觸式磁耦合器件406可藉由提供雙穩態致動機構而具有優勢，其中驅動側401 (驅動馬達404定位之處)上之振動與從動側402實體隔離，使得對夾盤之振動或干擾的傳遞極大地減少。此外，安全器件中之驅動側401與從動側402之間的間隔在兩側之間提供有助於阻止顆粒自驅動側401進入之障壁或顆粒捕集器。在一些實施例中，因為耦合件係以磁性方式連接，所以本發明考慮到耦合件之間(例如，驅動組件406a與從動組件406b之間)的一些未對準(例如，軸向及角向)，同時維持雙穩態致動機構。換言之，當未致動驅動側401時，從動側402保持在適當位置。
圖7說明根據本發明之實施例的鄰近於圖案化器件圖案化器件208之一個隅角之圖案化器件208及安全器件300之俯視圖。應注意，圖7並不按比例繪製且為清楚起見而使某些特徵較大。此外，安全器件300相對於圖案化器件208之定位並不意欲為限制性的—安全器件300可位於圖案化器件208之周邊周圍之任何地方。
如圖7中所展示，安全器件300之安全閂鎖412在左側上所示之第一位置與右側上所示之第二位置之間旋轉。在第一位置中，支腳區域414對準於圖案化器件208之下，使得在圖案化器件208與夾盤脫離(圖7中未展示)且沿Z方向掉落的情況下圖案化器件208接觸支腳區域414。在第二位置中，安全閂鎖412已旋轉遠離圖案化器件208，使得沒有安全閂鎖412之部分在圖案化器件208下方。根據一實施例，圖案化器件208耦合至夾盤時，安全閂鎖412將旋轉至第一位置內。根據實施例，安全閂鎖412將在圖案化器件208自夾盤裝載或移除期間旋轉至第二位置中。安全閂鎖412在第一位置與第二位置之間的旋轉角θ可介於5度與20度之間。基於安全閂鎖412之長度，其他旋轉角同樣係有可能的。
在一些實施例中，使用具有雙穩態馬達(例如，驅動馬達404)及磁耦合器件之安全器件來旋轉安全閂鎖412的優勢為：馬達僅在旋轉期間消耗功率，且在安全閂鎖412在第一位置或第二位置中靜止時不消耗功率。舉例而言，僅在安全閂鎖412自第一位置旋轉至第二位置時(且反之亦然)對馬達供電，持續僅短時間(例如0.5秒至3秒)。因此，並不需要長時間開啟馬達，且最終並不需要主動冷卻。
在一些實施例中，具有磁耦合之安全器件300可能不依賴於旋轉或壓縮彈簧來提供用於將安全閂鎖412維持在第一位置中的力。此外，與先前安全設計(例如，使用電磁鐵之安全器件)相比，具有驅動馬達及磁耦合器件之安全器件300可具有低質量。
用於安全器件之實例形狀記憶體合金 (SMA) 機構
圖8A及圖8B說明根據本發明之實施例的用於安全器件(例如，安全器件300)之形狀記憶體合金(SMA)致動器機構之實例圖。特定而言，圖8A說明處於第一位置(例如，閉合位置)之致動器機構800的正視圖，而圖8B說明處於第二位置(例如，開啟位置)之致動器機構810的正視圖。
致動器機構800及810包括形狀記憶體合金802、銷子接頭804、彈簧806、安全閂鎖808及倍縮光罩支腳809。安全器件中之致動器機構800及810的運動係藉由安全閂鎖808 (例如，槓桿或蹺板機構)在Z方向上之移位而發生。雖然圖8A及圖8B中僅展示一個形狀記憶體合金802、銷子接頭804及彈簧806時，但致動器機構800及810可在安全器件中利用任何數目之形狀記憶體合金802、銷子接頭804及/或彈簧806，以便增加安全器件中之致動力。
在圖8A中，諸如在倍縮光罩掃描期間，在倍縮光罩(例如，倍縮光罩208)夾持至夾盤之表面時，致動器機構800經展示處於非致動、閉合位置。彈簧806可將致動器固持於閉合位置直至該致動器致動為止。舉例而言，彈簧806可為拉力彈簧。在一些實施例中，可基於致動器件所需之致動力及將致動器固持在閉合位置所需之固持力來預先選擇形狀記憶體合金802及彈簧806。特定而言，蹺板機構可用以將形狀記憶體合金802之線性運動轉換為在安全閂鎖808中在Z方向上擺動。
為了將安全閂鎖808旋轉至藉由如圖8B中之致動器機構810所展示的打開位置，可將電流811施加至形狀記憶體合金802以激活該形狀記憶體合金802 (例如，藉由加熱)且使安全閂鎖808移動(例如，旋轉)。釋放或移除電流811之後，彈簧806可壓縮且使安全閂鎖808自圖8B中之打開位置回到圖8A中之閉合位置。在一些實施例中，可冷卻形狀記憶體合金802以促進形狀記憶體合金802回到其原始形狀(例如，閉合位置或打開位置)。
在一些實施例中，安全閂鎖808可具有約15 mm之長度且可回應於形狀記憶體合金802之激活藉由在約5度與約20度之間的預定旋轉角而自閉合位置旋轉至打開位置。在一些實施例中，安全閂鎖808可自閉合位置旋轉約5 mm而到達K打開位置，或反之亦然。倍縮光罩支腳809可與安全閂鎖808之剩餘部分成一角度(例如，90度)安置於安全閂鎖808之遠端處。
圖9A及圖9B說明根據本發明之實施例的用於安全器件(例如，安全器件300)之形狀記憶體合金(SMA)致動器機構的額外實例圖。特定而言，圖9A說明處於第一位置(例如，閉合位置)之致動器機構900的正視圖，而圖9B說明處於第二位置(例如，打開位置)之致動器機構910的俯視圖。
致動器機構900及910使用旋轉組態，其中形狀記憶體合金902及彈簧906整合於驅動馬達404中且耦合至具有倍縮光罩支腳909之安全閂鎖908。雖然圖9A及圖9B中展示三個形狀記憶體合金902及彈簧906，但致動器機構900及910可在安全器件中利用任何數目之形狀記憶體合金902及/或彈簧906，以便減少或增加安全器件中之致動力。在一些實施例中，彈簧906可為膨脹彈簧及/或壓縮彈簧，且致動器機構900及910中之安全閂鎖908可在如藉由圖9A及圖9B之俯視圖所展示之X及Y方向上移位。
舉例而言，彈簧906可為與致動器機構900及910中的形狀記憶體合金902平行配置之壓縮彈簧。當將電流施加至形狀記憶體合金902時，該形狀記憶體合金902可變熱並膨脹，使得安全閂鎖908自第一位置旋轉至第二位置。一旦切斷電流，彈簧906就可壓縮且促進形狀記憶體合金902收縮至其先前形狀/組態，使得安全閂鎖908自第二位置旋轉回至第一位置。
在另一實例中，彈簧906可為與致動器機構900及910中之形狀記憶體合金902平行配置的膨脹彈簧。形狀記憶體合金902可抵抗彈簧906之膨脹直至電流通過形狀記憶體合金902為止。在一些情況下，一旦電流已施加至形狀記憶體合金902，該形狀記憶體合金902即膨脹，且彈簧906促進形狀記憶體合金902膨脹，使得安全閂鎖908自第一位置旋轉至第二位置。一旦切斷電流，形狀記憶體合金902即冷卻並收縮至其原始位置，同時亦使彈簧906收縮回至其原始位置內。此收縮使得安全閂鎖908自第二位置旋轉回至第一位置。
在一些實施例中，致動器機構800、810、900及/或910可與圖4A、圖4B及圖5所展示之磁耦合器件406組合，以便提供經增強之安全器件。圖10A至圖10D展示根據本發明之實施例的形狀記憶體合金致動器及用於倍縮光罩安全性之安全器件的實例。特定而言，圖10A說明安全器件1000之俯視圖之示意性說明、圖10B說明安全器件1010之側視圖，且圖10C說明安全器件1020之等距視圖。圖10D說明夾盤1030中之形狀記憶體合金致動器及安全器件之等距視圖。
圖10A至圖10C中展示之安全器件包括與彈簧1006平行配置且耦合至具有倍縮光罩支腳1009之安全閂鎖1008之形狀記憶體合金1002。在一些實施例中，可將形狀記憶體合金1002及彈簧1006封裝或整合至旋轉驅動馬達1004中，該旋轉驅動馬達1004可用以驅動安全閂鎖在X及Y方向上移位。
實例操作方法
圖11為根據本發明之實施例的用於操作用於支撐圖案化器件之例示性方法1100的流程圖。方法1100可描述安全器件300及其對應之安全閂鎖412的操作，如上文參考圖2至圖10所論述。應理解，方法1100中所示之操作並非詳盡的，且可在所說明操作中之任一者之前、之後或之間同樣執行其他操作。在本發明之各種實施例中，方法1100之操作可以不同次序執行及/或變化。
在操作1102中，安全器件用以支撐圖案化器件。安全器件可包括具有至少一個形狀記憶體合金之致動器、安全閂鎖及耦合至該安全閂鎖的至少一個彈簧。安全閂鎖包括在該安全閂鎖之遠端處之支腳部分，其中該支腳部分經組態以充當圖案化器件之接觸點。在一些實施例中，可在旋轉組態中使用安全器件。在其他實施例中，可在蹺板組態中使用安全器件。
在操作1104中，將電流施加至安全器件之至少一個形狀記憶體合金以激活該至少一個形狀記憶體合金。在一些實施例中，至少一個形狀記憶體合金之激活可包括至少一個形狀記憶體合金之膨脹，以及安全器件中之至少一個彈簧的膨脹。在其他實施例中，至少一個形狀記憶體合金之激活可包括至少一個形狀記憶體合金之壓縮，以及安全器件中之至少一個彈簧的壓縮。
在操作1106中，回應於激活至少一個形狀記憶體合金，將安全器件之安全閂鎖自圖案化器件下方的第一位置致動至第二位置。在一些實施例中，形狀記憶體合金之膨脹可導致安全閂鎖自「打開」位置旋轉至「閉合」位置，或反之亦然。安全閂鎖包括在該安全閂鎖之遠端處之支腳部分，其中該支腳部分經組態以充當倍縮光罩之接觸點。應理解，只要安全閂鎖並不發妨礙將倍縮光罩裝載至倍縮光罩夾盤，安全閂鎖之任何位置就可視為「打開」位置。
在操作1108中，自安全器件之至少一個形狀記憶體合金移除電流。在一些實施例中，可藉由冷卻形狀記憶體合金802或藉由關斷至該至少一個形狀記憶體合金的電流源來移除電流。
在操作1110中，回應於自至少一個形狀記憶體合金移除電流，將安全器件之安全閂鎖自第二位置致動至第一位置。在一些情況下，形狀記憶體合金可收縮至其原始位置，其使得安全閂鎖自「閉合」位置旋轉至「打開」位置，或反之亦然。
可使用以下條款來進一步描述實施例： 1. 一種用以為一物件提供支撐之安全器件，其包含： 一驅動側，其包含一驅動馬達；及 一從動側，其包含： 一殼體，其包含沿該殼體之一長度延伸之一旋轉軸；及 一安全閂鎖， 其中該從動側在該旋轉軸之一第一端處經由一非接觸式磁耦合器件耦合至該驅動馬達， 其中該安全閂鎖耦合至與該旋轉軸之該第一端相對之該旋轉軸之一第二端，且 其中該驅動馬達經組態以在該驅動側上經由該非接觸式磁耦合器件使該安全閂鎖在一徑向方向上旋轉。 2.     如條項1之安全器件，其中： 該非接觸式磁耦合器件包含兩個組件；且 複數個永久磁鐵配置於該兩個組件之鄰近表面上且在該磁耦合器件之該兩個組件之間提供吸引力。 3.     如條項1之安全器件，其中該非接觸式磁耦合器件包含一面對面耦合機構。 4.     如條項1之安全器件，其中該非接觸式磁耦合器件包含一共軸耦合機構。 5.     如條項1之安全器件，其中該安全閂鎖經組態以在一第一位置與一第二位置之間旋轉，該第一位置及第二位置係由約5度與約20度之間的角分隔。 6.     如條項1之安全器件，其中該驅動馬達包含一壓電馬達或一雙穩態DC馬達。 7.     如條項1之之安全器件，其中該安全閂鎖包含在安全閂鎖的遠離旋轉軸之一遠端處之一支腳部分，該支腳部分經組態以充當該物件之一接觸點。 8.     一種微影裝置，其包含： 一照明系統，其經組態以調節一輻射光束； 一支撐結構，其經構造以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化之輻射光束； 一投影系統，其經組態以將該經圖案化之輻射光束投影至一基板之一目標部分上；及 一或多個安全器件，其耦合至該支撐結構，該一或多個安全器件中之每一者包含： 一驅動側，其包含一驅動馬達；及 一從動側，其包含： 一殼體，其包含沿該殼體之一長度延伸之一旋轉軸；及 一安全閂鎖， 其中該從動側在該旋轉軸之一第一端處經由一非接觸式磁耦合器件耦合至該驅動馬達， 其中該安全閂鎖耦合至與該旋轉軸之該第一端相對之該旋轉軸之一第二端，且 其中該驅動馬達經組態以在該驅動側上經由該非接觸式磁耦合器件使該安全閂鎖在一徑向方向上旋轉。 9.     如條項8之微影器件，其中： 非接觸式磁耦合器件包含兩個組件；且 複數個永久磁鐵配置於該兩個組件之鄰近表面上且在該磁耦合器件之該兩個組件之間提供吸引力。 10.   如條項8之微影裝置，其中該非接觸式磁耦合器件包含一面對面耦合機構。 11.    如條項8之微影裝置，其中該非接觸式磁耦合器件包含一共軸耦合機構。 12.   如條項8之微影裝置，其中該安全閂鎖經組態以在一第一位置及一第二位置之間旋轉，該第一位置及該第二位置係由在約5度與約20度之間的角分隔。 13.   如條項8之微影裝置，其中該驅動馬達包含一壓電馬達或一雙穩態DC馬達。 14.   如條項8之微影裝置，其中該安全閂鎖包含在該安全閂鎖的遠離該旋轉軸之一遠端處之一支腳部分，該支腳部分經組態以充當該圖案化器件之一接觸點。 15.   一種方法，其包含： 使用一安全器件支撐一圖案化器件，該安全器件包含具有至少一個形狀記憶體合金之一致動器、一安全閂鎖及耦合至該安全閂鎖之至少一個彈簧，該安全閂鎖包含位於該安全閂鎖之一遠端處之一支腳部分，該支腳部分經組態以充當該圖案化器件之一接觸點； 將一電流施加至該安全器件之至少一個形狀記憶體合金以激活該至少一個形狀記憶體合金；及 回應於該至少一個形狀記憶體合金之激活而將該安全閂鎖自該圖案化器件下方的一第一位置致動至一第二位置。 16.   如條項15之方法，其中該使用包含：在一旋轉組態中使用該至少一個形狀記憶體合金及該致動器中耦合至該安全閂鎖之該至少一個彈簧。 17.   如條項15之方法，其中該使用包含：在一蹺板組態中使用該至少一個形狀記憶體合金及該致動器中耦合至該安全閂鎖之至少一個彈簧。 18.   如條項15之方法，其進一步包含： 自該安全器件之該至少一個形狀記憶體合金移除電流以將該安全閂鎖自該第二位置致動至該第一位置。 19.   如條項15之方法，其進一步包含： 回應於將該電流施加至該至少一個形狀記憶體合金來使該至少一個彈簧膨脹。 20.   如條項15之方法，其進一步包含： 回應於將該電流施加該至少一個形狀記憶體合金來壓縮至少一個彈簧。
最終結論
雖然在本文中可特定地參考「倍縮光罩」，但應理解，此僅為圖案化器件之一個實例且本文所描述之實施例可適用於任何類型的圖案化器件。此外，本文所描述之實施例可用以為任何物件提供安全支撐，以確保夾持失效不會導致物件掉落並損壞自身或其他設備。
雖然在本文中可特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文中所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如製造積體光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、LCD、薄膜磁頭等。熟習此項技術者應瞭解，在此等替代應用之上下文中，可認為本文中對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用分別與更一般術語「基板」或「目標部分」同義。可在曝光之前或之後在(例如)自動化光阻塗佈及顯影系統單元(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光之抗蝕劑之工具)、度量衡單元及/或檢測單元中處理本文中所提及之基板。在適用情況下，可將本文中之揭示內容施加至此等及其他基板處理工具。此外，可將基板處理多於一次，(例如)以便產生多層IC，使得本文所使用之術語「基板」亦可指已含有多個經處理之層的基板。
雖然上文可特定地參考在光學微影之上下文中本發明之實施例的使用，但將瞭解，本發明可用於其他應用(例如，壓印微影)中，且在上下文允許之情況下不限於光學微影。在壓印微影中，圖案化器件中之構形(topography)定義在基板上產生之圖案。可將圖案化器件之構形壓入至供應至基板之抗蝕劑層中，在基板上，抗蝕劑係由施加電磁輻射、熱、壓力或其組合而固化。在抗蝕劑固化之後，將圖案化器件移出抗蝕劑，從而在其中留下圖案。
應理解，本文中之措詞或術語係出於描述而非限制之目的，使得本說明書之術語或措詞應由在所屬領域具通常知識者鑒於本文中之教示予以解譯。
如本文所使用之術語「基板」描述材料層經添加至之材料。在一些實施例中，基板自身可經圖案化，且添加於基板之頂部上之材料亦可經圖案化，或可保持不圖案化。
本發明之實施例可以硬體、韌體、軟體或其任何組合來實施。本發明之實施例亦可實施為儲存於機器可讀媒體上之指令，該等指令可由一或多個處理器讀取及執行。機器可讀媒體可包括用於儲存或傳輸呈可由機器(例如，計算器件)讀取之形式之資訊的任何機制。舉例而言，機器可讀媒體可包括唯讀記憶體(ROM)；隨機存取記憶體(RAM)；磁碟儲存媒體；光學儲存媒體；快閃記憶體元件；電氣、光學、聲學或其他形式之傳播信號及其他。另外，韌體、軟體、常式及/或指令可在本文中描述為執行某些動作。然而，應瞭解，此等描述僅出於方便起見，且此等動作實際上由計算器件、處理器、控制器或執行韌體、軟體、常式及/或指令之其他器件所導致。
以下實例說明但不限制本發明之實施例。通常在該領域中遇到的將對熟習此項技術者顯而易見之多種條件及參數的其他適合之修改及調整在本發明之精神及範疇內。
雖然可在本文中特定地參考根據本發明之裝置及/或系統在IC之製造中的使用，但仍應明確理解，此類裝置及/或系統具有多種其他可能的應用。舉例而言，其可用於製造積體光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、LCD面板、薄膜磁頭等。熟習此項技術者將瞭解，在此類替代應用之上下文中，本文中之術語「倍縮光罩」、「晶圓」或「晶粒」之任何使用應視為分別由更一般術語「光罩」、「基板」及「目標部分」替代。
雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述方式不同之其他方式來實踐本發明。該描述不意欲限制本發明。
應瞭解，[實施方式]章節而非[發明內容]及[中文發明摘要]章節意欲用以解譯申請專利範圍。[發明內容]及[中文發明摘要]章節可闡述如由發明者預期之一或多個但並非所有本發明之例示性實施例，且因此，並不意欲以任何方式限制本發明及所附申請專利範圍。
上文已憑藉說明特定功能及其關係的實施之功能建置區塊來描述本發明。為便於描述，本文中已任意地定義此等功能建置區塊的邊界。只要適當地執行指定功能及該等功能之關係，便可界定替代邊界。
特定實施例之前述描述將充分地揭露本發明之一般性質，使得在不脫離本發明之一般概念的情況下，其他人可藉由應用此項技術之技能範圍內之知識針對各種應用而容易地修改及/或調整此等特定實施例，而無需進行不當實驗。因此，基於本文中所呈現之教示及導引，此等調整及修改意欲在所揭示之實施例之等效者的涵義及範圍內。
因此，本發明之廣度及範疇不應受上述例示性實施例中之任一者限制，而應僅根據以下申請專利範圍及其等效者來界定。
10:琢面化場鏡面器件 11:琢面化光瞳鏡面器件 13:鏡面 14:鏡面 200:倍縮光罩載物台/夾盤 201:緩衝器器件 202:頂部載物台表面 204:底部載物台表面 206:側載物台表面 208:倍縮光罩 212:第一編碼器 214:第二編碼器 300:安全器件 401:驅動側 402:從動側 404:驅動馬達 406:磁耦合 406a:驅動組件 406b:從動組件 408:殼體 410:軸 412:安全閂鎖 414:支腳區域 416:安全緩衝器 418:感測器 420:目標 422:顆粒密封件 424:上端顆粒密封件 426:軸承 428:下端顆粒密封件 600:面對面磁耦合組態 610:共軸磁耦合組態 620:磁耦合表面 625:磁鐵 802:形狀記憶體合金 802:致動器機構 804:銷子接頭 806:彈簧 808:安全閂鎖 809:倍縮光罩支腳 810:致動器機構 811:電流 900:致動器機構 902:形狀記憶體合金 906:彈簧 908:安全閂鎖 909:倍縮光罩支腳 910:致動器機構 1000:安全器件 1002:形狀記憶體合金 1004:驅動馬達 1006:彈簧 1008:安全閂鎖 1009:倍縮光罩支腳 1010:安全器件 1020:安全器件 1030:夾盤 1100:方法 1102:操作 1104:操作 1106:操作 1108:操作 1110:操作 B:輻射光束 B':輻射光束 IL:照明系統 LA:微影系統 MA:圖案化器件 MT:支撐結構 PS:投影系統 SO:輻射源 W:基板 WT:基板台
併入本文中且形成本說明書之部分的隨附圖式說明本發明，且與實施方式一起進一步用於解釋本發明之原理且使熟習相關技術者能夠製造並使用本發明。
圖1為根據本發明之實施例的微影裝置之示意性說明。
圖2為根據本發明之實施例的倍縮光罩載物台之立體示意性說明。
圖3為圖2之倍縮光罩載物台之頂部平面圖。
圖4A及圖4B為根據本發明之實施例的安全器件之示意性說明。
圖5為展示根據本發明之實施例的圖4A及圖4B之安全器件之等距視圖的示意性說明。
圖6A、圖6B及圖6C為用於根據本發明之實施例的安全器件之實例磁耦合組態之示意性說明。
圖7為根據本發明之實施例的旋轉安全閂鎖之示意性說明。
圖8A及圖8B為展示根據本發明之實施例的形狀記憶體合金(SMA)致動器機構之正視圖的示意性說明。
圖9A及圖9B為展示根據本發明之實施例的形狀記憶體合金(SMA)致動器機構之俯視圖的示意性說明。
圖10A至圖10D為根據本發明之實施例的形狀記憶體合金致動器及用於倍縮光罩安全性之安全器件的示意性說明。
圖11為根據本發明之實施例的用於操作用於支撐圖案化器件之安全器件之流程圖的示意性說明。
根據以下結合圖式所闡述之詳細描述，本發明之特徵及優點將變得更顯而易見，在該等圖式中，相同參考標號始終識別對應元件。在圖式中，相同的附圖標號通常指示相同、功能上相似及/或結構上相似之元件。除非另有指示，否則貫穿本發明提供之圖式不應解釋為按比例繪製。
200:倍縮光罩載物台
201:緩衝器器件
202:頂部載物台表面
208:倍縮光罩
212:第一編碼器
214:第二編碼器
300:安全器件

Claims (14)

  1. 一種用以為一物件提供支撐之安全器件，其包含： 一驅動側，其包含一驅動馬達；及 一從動側，其包含： 一殼體，其包含沿該殼體之一長度延伸之一旋轉軸；及 一安全閂鎖， 其中該從動側在該旋轉軸之一第一端處經由一非接觸式磁耦合器件耦合至該驅動馬達， 其中該安全閂鎖耦合至與該旋轉軸之該第一端相對之該旋轉軸之一第二端，且 其中該驅動馬達經組態以在該驅動側上經由該非接觸式磁耦合器件使該安全閂鎖在一徑向方向上旋轉。
  2. 如請求項1之安全器件，其中： 該非接觸式磁耦合器件包含兩個組件；且 複數個永久磁鐵配置於該兩個組件之鄰近表面上且在該磁耦合器件之該兩個組件之間提供吸引力。
  3. 如請求項1之安全器件，其中該非接觸式磁耦合器件包含一面對面耦合機構。
  4. 如請求項1之安全器件，其中該非接觸式磁耦合器件包含一共軸耦合機構。
  5. 如請求項1之安全器件，其中該安全閂鎖經組態以在一第一位置及一第二位置之間旋轉，該第一位置及該第二位置係由約5度與約20度之間的角分隔。
  6. 如請求項1之安全器件，其中該驅動馬達包含一壓電馬達或一雙穩態DC馬達。
  7. 如請求項1之安全器件，其中該安全閂鎖包含在該安全閂鎖的遠離該旋轉軸之一遠端處之一支腳部分，該支腳部分經組態以充當該物件之一接觸點。
  8. 一種微影裝置，其包含： 一照明系統，其經組態以調節一輻射光束； 一支撐結構，其經構造以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化之輻射光束； 一投影系統，其經組態以將該經圖案化之輻射光束投影至一基板之一目標部分上；及 一或多個安全器件，其耦合至該支撐結構，該一或多個安全器件中之每一者包含： 一驅動側，其包含一驅動馬達；及 一從動側，其包含： 一殼體，其包含沿該殼體之一長度延伸之一旋轉軸；及 一安全閂鎖， 其中該從動側在該旋轉軸之一第一端處經由一非接觸式磁耦合器件耦合至該驅動馬達， 其中該安全閂鎖耦合至與該旋轉軸之該第一端相對之該旋轉軸之一第二端，且 其中該驅動馬達經組態以在該驅動側上經由該非接觸式磁耦合器件使該安全閂鎖在一徑向方向上旋轉。
  9. 如請求項8之微影裝置，其中： 非接觸式磁耦合器件包含兩個組件；且 複數個永久磁鐵配置於該兩個組件之鄰近表面上且在該磁耦合器件之該兩個組件之間提供吸引力。
  10. 如請求項8之微影裝置，其中該非接觸式磁耦合器件包含一面對面耦合機構。
  11. 如請求項8之微影裝置，其中該非接觸式磁耦合器件包含一共軸耦合機構。
  12. 如請求項8之微影裝置，其中該安全閂鎖經組態以在一第一位置與一第二位置之間旋轉，該第一位置及第二位置係由約5度及約20度之間的角分隔。
  13. 如請求項8之微影裝置，其中該驅動馬達包含一壓電馬達或一雙穩態DC馬達。
  14. 如請求項8之微影裝置，其中該安全閂鎖包含在該安全閂鎖的遠離該旋轉軸之一遠端處之一支腳部分，該支腳部分經組態以充當該圖案化器件之一接觸點。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117966103B (zh) * 2024-02-04 2024-06-18 浙江晟霖益嘉科技有限公司 一种蒸发真空设备生产线

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07297118A (ja) * 1994-04-27 1995-11-10 Canon Inc 基板および基板保持方法ならびにその装置
US6172738B1 (en) * 1996-09-24 2001-01-09 Canon Kabushiki Kaisha Scanning exposure apparatus and device manufacturing method using the same
JP2000332081A (ja) * 1999-05-18 2000-11-30 Bks Lab:Kk 複数軸動力伝達装置およびウエハ搬送用アームリンク
US6783299B2 (en) * 1999-07-26 2004-08-31 Ovadia Meron Latch for detachably attaching and mounting a semiconductor wafer to a support ring
KR100551993B1 (ko) * 2004-12-03 2006-02-20 미래산업 주식회사 반도체 소자 테스트 핸들러용 캐리어 모듈
CN1941565A (zh) * 2005-09-27 2007-04-04 乐金电子(天津)电器有限公司 混合感应电机
US8317450B2 (en) * 2008-10-30 2012-11-27 Lam Research Corporation Tactile wafer lifter and methods for operating the same
KR20100052321A (ko) * 2008-11-10 2010-05-19 인테벡, 인코포레이티드 기판을 이송 및 처리하는 장치 및 방법
JP2017225231A (ja) * 2016-06-14 2017-12-21 株式会社豊田中央研究所 回転電機

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