TW202039135A - 具有運動板或腹板的雷射加工機的特徵方法和系統 - Google Patents

Abstract

本發明揭示一種用以在不停止生產的情況下校準一雷射切割機之方法。該方法適用於雷射切割機，該雷射切割機使用一傳送帶以在運用雷射切割薄板的同時傳送該等薄板。根據生產工作，該方法允許將校準標記置放在薄板上方便的部位處，從而最小化材料之浪費。

Description

具有運動板或腹板的雷射加工機的特徵方法和系統

本發明係關於一種用於特性化及校準具有運動板或腹板或材料之雷射加工機之方法，且係關於實施該方法之雷射加工機。

雷射切割機可與各種材料一起使用，例如紙、金屬、木材或塑膠。

雷射加工機以適當焦點、功率及脈衝持續時間將雷射光束引導朝向待加工之薄板材料，以標記、彎折或切割該薄板。藉由在X-Y平移台上運送雷射源或藉由使用一個或兩個可傾斜鏡面使雷射光束沿著兩個維度偏離來定位雷射。在後一狀況下，有時要調適雷射之焦點，此係因為自雷射源至薄板之加工點之距離發生變化。雷射加工機可加工位於雷射之視場中之薄板。

由於環境改變，比如溫度或濕度變化，在薄板上發生加工之真實部位針對至雷射系統之相同輸入信號而變化。因此，為了獲得良好精度，必須校準雷射加工機。

未經校準之機器在輸入處採用標稱信號，其對應於機器之工作區域（表面）中之標稱部位。當運用該信號加工薄板時，在工作區域中之不同於標稱部位的加工部位處發生薄板之切割/標記。校準計算待應用至標稱信號之校正使得在標稱部位處發生薄板之切割/標記；換言之，校準確保加工部位與標稱部位重合。一旦標稱及加工部位開始漂移多於機器之精度規格的一分數，就必須週期性地執行機器之校準。特性化與校準之不同之處在於：特性化僅量測機器與經完全校準機器之不同程度，但不計算任何校正以補償此差異。舉例而言，機器之特性化可量測標稱部位集合與加工部位集合之間的距離。

用以校準雷射加工機之方法包括：置放覆蓋機器之工作區域之薄板、標記（或切割）處於標稱部位集合之薄板及量測該等標記在該薄板上之加工位置。接著，計算待應用於該集合之每一標稱部位之校正信號之集合。對工作區域中之任意（標稱）部位之校正係藉由自校正集合內插來獲得。出於實務原因，如在美國專利第US 5,832,415號中所揭示，藉由自機器獲取經加工薄板至量測裝置中來離線地執行量測或經加工部位。此產生機器之使用時的中斷、需要離線量測裝置且需要操作員輔助。

本發明係關於一種用於特性化一雷射加工機之方法。本發明亦關於一種用以校準雷射加工機之方法，且係關於實施此等方法中之任一者之雷射加工機。

本發明適合於加工各別材料薄板以及材料腹板的機器（其甚至可為輸入腹板或材料且輸出具有特殊形狀之薄板材料或材料薄板的機器）。吾人提及介質 來指示薄板或腹板或材料。

本發明適合於一種在一介質橫越機器之工作區域移動時加工該介質之加工機。

為了特性化該機器，該方法使一介質沿著該機器之該工作區域之高度移動、運用雷射系統根據一標稱部位集合來加工該介質上之一標記集合，且使用一攝影機記錄每一各別標記。標記（加工）該介質之該製程係與該介質之運動同步。該等標記散佈於該介質上使得每一經記錄標記可被追溯到其被加工之加工部位。藉由使運動操作及加工操作同步來選擇該等標記之空間組態。舉例而言，該等標記可經定位使得其在該介質上比在該工作區域中跨越一較小區域。

介質之同步加工及移動具有若干優點。其在介質上產生展現與工作區域中之加工部位集合不同的幾何組態之標記集合。此允許在根據校準/特性化約束分配加工部位的同時選擇介質上之標記部位。舉例而言，可在經預定以供浪費（其係工作相依的）之介質之部分中執行標記。亦可僅使用介質之小部分，例如材料板之正面或背面的條帶來執行標記。又，可在不停止生產的情況下在線地執行特性化/校準-此係由於倘若一些攝影機被置放於機器中之工作區域的下游，就可對介質之未使用部分執行特性化/校準。最後，其聯合地特性化及補償機器之運動設備（移動介質之運動設備）之缺陷及雷射之加工位置之誤差。

舉例而言，標記可位於介質上之矩形區域中。可使矩形區域之高度小於覆蓋工作區域中之加工部位集合的（最小）矩形區域之高度。

為了校準雷射加工機，該方法自每一各別標記（例如工作區域座標系中）之攝影機讀取及自介質之運動計算出每一各別標記之加工部位。此產生加工部位集合，將其與其各別標稱部位相比以產生機器之幾何校準。

較佳地，標記在介質上被分組成叢集。每一叢集表示跨越工作區域之高度之部分的標稱部位集合。叢集之大小應足夠小以能夠由攝影機記錄。有利地，使用二維攝影機或藉由使用一維攝影機之平移掃描以單次拍攝記錄標記之叢集。分組成叢集會允許例如藉由將固定攝像機集合置放於工作區域之下游而特性化機器。該攝影機集合可在經加工介質正由機器之傳送系統（與在運用雷射加工介質時用以移動該介質之相同的系統）移動時掃描該介質。

較佳地，自由攝影機記錄之標記量測衝程寬度。衝程寬度可用以特性化（或校準）雷射光束之焦點。

較佳地，自由攝影機記錄之標記量測衝程之色值。顏色可用以特性化（或校準）雷射光束功率，及雷射光束是否已完全切穿介質。關於顏色，吾人意謂在一或多個維度中由攝影機記錄之強度值。舉例而言，其可為灰度值或紅色-綠色-藍色值。

本發明亦係關於一種用以特性化（或校準）包含具有重疊工作區域之兩個（或多於兩個）雷射源之一雷射加工機的方法。在工作區域之重疊分區中加工標記以使兩個雷射源對齊至共同座標系中。使用若干雷射源會允許加工較寬介質。

一旦執行校準，就對機器應用該校準使得當將雷射應用於由機器加工之下一介質上時加工部位與標稱部位匹配。

當在無校準的情況下執行特性化時，特性化可展示由機器執行之加工仍在規格內。其亦可展示：若特性化展示機器接近於不合規格，則機器可能不久需要一些維護。若特性化不合規格，則其亦可能產生誤差。

本發明亦係關於一種實施以上所提及之方法之雷射加工機。該雷射加工機包含用以橫越一工作區域平移一介質之一傳送系統。舉例而言，該傳送系統可為一傳送帶。該機器亦具有用以加工該介質之一雷射系統。該雷射系統能夠在該介質由該傳送系統移動時加工該介質。

關於本發明之另外細節在附屬申請專利範圍中加以描述。

圖1展示根據本發明之機器1之實施例。圖1之機器包含雷射2，由於鏡面20及21，該雷射經引導朝向工作區域5。在工作區域5中發生介質3之加工。該加工可為標記、切割或彎折操作。該介質係由與雷射加工相容之任何材料製成，例如紙、卡紙板、木材、金屬、塑膠、玻璃、皮革、層壓基板等。該介質係由傳送帶4運送，及/或由呈腹板形式之一組滾筒運送。較佳地，該介質在由雷射加工時以恆定速度被運送。該介質沿著工作區域之高度6移動。若干個攝影機7（僅展示兩個）被置放於工作區域之出口處、經定位及定向以便記錄雷射在校準操作期間正加工的一組標記。傳送帶可用以將介質朝向工作區域之出口處的攝影機之視場運送。

對於類似於圖1中之機器的機器，可需要取決於加工部位調適雷射之焦點，此係由於介質與雷射之間的距離在工作區域內變化。

使用圖2A至圖2D較佳地解釋雷射加工機之特性化。圖2A至圖2D表示在由雷射加工時行進通過工作區域5的介質3之快照。在圖2A中，雷射加工一系列校準標記10、30。圖2B展示在幾秒鐘後在工作區域中稍微前進一點的相同介質，其中雷射加工第二系列校準標記11、31。圖2C展示在幾秒鐘後在工作區域中稍微前進一點的相同介質，其中雷射加工第三系列校準標記12、32。圖2D展示在幾秒鐘後到達工作區域末端的相同介質，其中雷射加工第四系列校準標記13、33。在此實施例中，在矩形區域8內含有所有校準標記，該矩形區域之高度9（及表面）小於工作區域之高度6（及對應地，表面）。典型地，該矩形之高度可比工作區域之高度小10倍至100倍。

請注意，工作區域無需為矩形（亦即具有筆直邊緣）。工作區域包含於雷射掃描器之視場內。工作區域可為視場自身。亦請注意，介質可比工作區域更寬或可更窄（或具有與工作區域相等之寬度）。特性化機器係關於量測其準確度。校準係關於使用由特性化產生之量測以校正機器之行為。請注意，吾人可藉由（僅）量測標記之叢集來特性化機器。比較標記之此叢集與理論叢集（根據標稱輸入值而獲得）會允許檢查機器是否仍在規格內工作，而不必計算出標記在工作區域中之部位。

較佳地，標記在介質上之跨度小於其在工作區域中之各別加工部位之跨度。換言之，若吾人將繪製緊密覆蓋介質上之標記之第一矩形，及緊密覆蓋發生加工（在工作區域中）的其各別部位集合之第二矩形，則第一矩形將小於第二矩形。

請注意，吾人可選擇在介質之正面及背面加工標記，在此狀況下，吾人將把標記分割成兩個群組-在介質之正面具有標記之第一群組、在介質之背面具有標記之第二群組，且量測作為兩個矩形之跨度之和的跨度：一個跨度係針對介質之正面，且一個跨度係針對背面。吾人將接著比較其在介質上之面積之和與其在工作區域中之對應矩形之和。

本發明之關鍵態樣中之一者為將標記在介質中置放於方便的部位集合中（其可為工作相依的），同時充分覆蓋工作區域以執行對規格之校準。吾人偏好發生至少一些標記分組的解決方案（亦即，存在加工部位在工作區域中散開且在介質上分組的至少兩個標記）。

圖3展示在工作區域座標系中之加工位置。此等位置對應於圖2之標記。位置100、110、120及130分別對應於標記10、11、12及13。位置100、110、120及130分別對應於標記10、11、12及13。因此，標記在介質座標系中之跨度小於標記在工作區域座標系中之跨度。藉由選擇標記之部位（在介質座標系中）使其在將要丟棄之介質部分中，其允許減少浪費且在生產中執行校準。亦將標記分組成叢集以易於記錄。

如圖2中所展示，為了校準或特性化機器，方法將介質沿著機器之工作區域之高度移動、運用雷射根據標稱部位集合來加工介質上之標記集合。藉由繼續將介質運送於工作區之外，攝影機可記錄標記。標記（加工）介質之製程係與介質之運動同步。標記散佈於介質上使得每一經記錄標記可被追溯到其被加工之部位。實務上，標稱部位經選擇使得若所有事物皆經完美校準，則標記以裕度60、61在介質上散開，該裕度係根據（添加至傳送機中之一者之標記之）預期定位雜訊及攝影機區分兩個標記所需之最小距離進行選擇。實務上，該等標記以少的量60、61移位或縮放。標記可呈L形，為簡單斑點、十字形、圓圈、多邊形等。藉由雷射按順序逐行繪製（加工）圖2中所展示之標記，而在該等標記之間無任何延遲。換言之，一些標記（每一叢集中之一個標記）沿著實質上相同行（或Y座標）對準。

可將繪製校準標記之序列及方法分裂成若干區段且插入於雷射加工之正常序列中，使得雷射系統可通常在加工標記的瞬間之間加工基板。

為了校準雷射加工機，方法自每一各別標記之攝影機讀取及自介質之運動（及自加工標記之確切時間）計算出每一各別標記之加工部位（在工作區域座標系中）。此導致將加工部位集合與該等標記之各別標稱部位進行比較，從而導致針對每一標稱部位之誤差向量集合。請注意，可使用額外參數，例如雷射焦點，從而導致多維校準（此處為三維誤差向量）。可藉由內插獲得任何輸入部位之誤差，從而導致前向轉移函數，其係針對工作區域之每一點而定義。可倒轉此函數，從而導致經倒轉轉移函數，其給出校正向量以應用至任何標稱輸入。藉由校正，經處理輸出與標稱輸入匹配。機器之校準為校正向量之集合。其亦可為向機器給出任何輸入之校正函數。若校正向量之集合為二維的或若校正函數具有兩個維度（在輸入及輸出中），則校準為幾何的；該兩個維度表示幾何座標。

圖6A展示標記係藉由經校準系統加工，亦即其中標稱部位等於加工部位的實施例。其導致規則移位之標記集合（該等標記無需規則地隔開）。圖6B展示未經校準之系統之實施例，其係使用與在圖6A中之相同標稱部位，但其中歸因於系統缺陷，每一標記之（加工）位置偏離其所要（標稱）位置。標記之間的距離60、61經選擇使得由未經校準之系統（如圖6B中所展示之未經校準之系統）加工之標記重疊的機率接近為零。

可藉由量測標記之顏色，或藉由量測標記是否被切穿介質或部分切穿介質來量測功率。關於功率，吾人意謂以雷射衝程之長度為單位遞送的能量之量。因此，其與雷射之輸出功率相關、與脈衝持續時間相關且與加工速度相關。

可藉由量測雷射衝程之寬度來量測焦點。

較佳地，標記在介質上被分組成叢集。圖4A至圖4E展示使用不同基本形狀的此類叢集之實施例。圖4A展示L形標記。舉例而言，標記10對應於圖3中之標稱部位100，標記11對應於圖3中之標稱部位110（相同情形對於圖4B至圖4E亦成立）。標記之叢集被展示於圖之右側上。每一標記必須根據X及Y方向稍微移位。根據慣例，X方向與圖之水平方向對準（且與檢測區域之高度對準），而Y方向垂直於X方向。

圖4B展示其中使X及Y座標量測解耦的標記。標記10分別係由子標記10a及10b構成。每一子標記（10a、10b）經不同移位以形成圖之右側所展示之叢集。

圖4C展示僅需要根據Y方向移位以形成叢集的標記之實施例。

圖4E展示圓形標記，其中圓圈之大小變化，但其中標記處於固定部位以形成叢集。

可用以許多替代方案以量測標記之叢集。舉例而言，可將若干個固定攝影機置放於工作區下游，使得標記之每一叢集由於傳送系統在攝影機下方行進。關於固定攝影機，吾人意謂在介質之加工期間及在本發明之方法之執行期間不移動（但在加工工作之間可位移）的攝影機。該實施例之攝影機較佳為二維攝影機，但亦可為線攝影機，其中像素之線經定向成與介質之運動成橫向。

替代地，可使用安裝於線性位移導引件上之單個攝影機。自運動方向橫向地（亦即沿著Y方向）執行位移以掃描標記之所有叢集。又，位移導引件必須具有用以量測攝影機之位置之系統以判定標記之叢集之間的空間關係。

替代地，代替移動攝影機，吾人可根據該橫向方向移動介質。

本發明亦關於用以特性化（及校準）雷射加工機之方法，該雷射加工機包含具有重疊工作區域（51、52）之兩個（或多於兩個）雷射源，其中在工作區域之重疊分區53中加工標記（30、32、32、40、41、42）以使雷射源對齊至共同座標系中，如圖5中所展示。使用若干雷射源會允許加工較寬介質。若一方面在介質上之標記之間存在一對一關係，且另一方面在加工部位與雷射ID之間存在一對一關係，則整個系統之校準可藉由將校準方法各別地應用至每一雷射子系統來進行。針對所有雷射，工作區域之座標系需要為共同的。

舉例而言，典型系統將具有2至4個雷射源。然而，該方法對於任意數目個雷射源起作用。

貫穿本發明所使用之一些定義：

標稱部位：工作區域座標系中之部位，其中若雷射機器經完美校準，則將發生標記之加工。

加工部位：工作區域座標系中之部位，其中實務上發生標記之加工。

關於藉由雷射「加工」，吾人意謂永久性影響介質之雷射之任何操作，例如標記、切割或彎折。

關於「雷射光束位置」，吾人意謂在雷射係藉由將雷射源運送於X-Y平移台上而定位的情況下雷射光束之X-Y位置。關於「雷射光束位置」，吾人意謂在雷射係藉由使用一個或兩個可傾斜鏡面使雷射光束沿著兩個維度偏離而控制的情況下的二維雷射光束定向。關於「雷射光束位置」，吾人意謂在雷射可沿著X-Y維度移動且使用兩個鏡面來定向的情況下之光束之X-Y位置及二維定向兩者。關於「標記」，吾人意謂形狀經設計以被容易識別且位於影像中的參考標記。

關於二維攝影機，吾人意謂標準攝影機，比如如今在吾人之電話中所發現之攝影機。換言之，感測器為二維的攝影機。根據此定義，標準顏色攝影機被認為係二維攝影機，即使由攝影機輸出之每一顏色像素為三維的（紅色、綠色及藍色分量）。並非二維的攝影機之實施例為線攝影機，其每曝光僅輸出影像之一條線。

附注：在申請專利範圍中，為了避免與英文單詞「或」之使用相關的分岐，吾人以大寫字母使用「或（OR）」運算子以指示邏輯或運算。若邏輯或輸入中之任一者為真，則邏輯或運算返回真。若所有輸入皆為假，則輸出亦為假。

無

本發明之具體實例係在隨附圖式中作為實施例加以說明，在該等圖式中，元件符號指示相同或相似元件，且其中： [圖1]展示雷射加工機之原理圖； [圖2A]至[圖2D]展示在移動通過雷射加工機之工作區域時由雷射加工之介質； [圖3]展示圖2中所展示之標記在工作區域座標系中的加工部位； [圖4A]至[圖4D]展示標記之實施例，左側展示各別標記，且右側展示此等標記中之四個標記之叢集； [圖4E]展示圓形標記之實施例，其中圓圈之大小可變化，但標記係處於固定部位以形成叢集； [圖5]展示在具有兩個雷射及一重疊分區之機器上加工之介質； [圖6A]及[圖6B]分別展示用於經校準及未經校準之系統之標記的實施例。

Claims (14)

1. 一種用於特性化一雷射加工機之特性化方法，該雷射加工機具有一工作區域及一雷射系統，該雷射系統經建構以將一雷射光束引導於該工作區域之任何部位中以加工介質，該方法包含： 使用該雷射加工機之一傳送系統以沿著該工作區域之高度而移動一介質； 根據該工作區域中之一標稱部位集合以運用該雷射加工機之雷射來加工該介質上之一標記集合； 使該傳送系統與該雷射光束部位同步，以將該等標記散佈於該介質上，其中每一標記可分別與該工作區域中該標記被加工的一加工部位相關聯； 使用一攝影機來記錄該介質上之每一各別標記。
2. 如請求項1之特性化方法，其中該等標記在該介質上之跨度係小於其在該工作區域中之各別加工部位之跨度。
3. 如請求項1或2之特性化方法，其中該標記集合係位於該介質之一矩形區域中，該矩形區域之表面係小於覆蓋該工作區域中之加工部位集合的最小矩形區域之表面。
4. 如請求項3之特性化方法，其中將該等標記分組成叢集，每一叢集覆蓋該介質之一區域為足夠小以能夠由二維攝影機以單一圖像捕捉，且其中一叢集內之該等標記之該等加工部位跨越覆蓋該工作區域中之該加工部位集合的該最小矩形區域之高度的至少一半。
5. 如請求項3之特性化方法，其中該介質上之該矩形區域之高度比該工作區域之該高度小至少十倍。
6. 如請求項1之特性化方法，其中存在該等標記至第一標記群組及第二標記群組之分段，其中該第一標記群組在該介質上之跨度加至該第二標記群組在該介質上之跨度係小於該第一標記群組在該工作區域中之該等加工部位的跨度加至該第二標記群組在該工作區域中之該等加工部位的跨度。
7. 如請求項1之特性化方法，其用於具有包含一或多個浪費區域之佈局的介質，其中所有該等標記皆位於該介質上之該等浪費區域上。
8. 如任一前述請求項之特性化方法，其係用於具有一雷射之一機器，該雷射具有一功率控制件且具有一可控制聚焦系統，其中衝程寬度或顏色係由該攝影機記錄以分別量測該雷射光束之焦點或功率。
9. 如任一前述請求項之特性化方法，其用於包含具有重疊工作區域之一第一雷射源及一第二雷射源的一雷射加工機，其中該方法供該第一雷射應用且供該同一介質上之該第二雷射應用，且其中源自該第一雷射之該等標記之跨度與源自該第二雷射之該等標記之跨度重疊。
10. 一種校準方法，其包含如任一前述請求項之特性化方法，其進一步包含： 針對每一各別標記： 自該介質上之該標記之位置及自該介質之運動，計算該標記之該加工部位； 比較該加工部位與該各別標稱部位； 使用該加工部位集合及該標稱部位集合來計算一幾何校準。
11. 如請求項10之校準方法，其包含如請求項8之特性化方法，其中將該雷射之該焦點或該功率添加至該雷射加工機之該校準。
12. 如請求項10或11之校準方法，其用於包含具有重疊工作區域之一第一雷射源及一第二雷射源的一雷射加工機，該校準方法包含如請求項9之特性化方法，其中針對兩個雷射源在一共同參考座標系中執行該幾何校準。
13. 一種雷射加工機，其包含：一傳送系統，其用以橫越一工作區域平移一介質；及一雷射系統，其經建構以將一雷射光束引導於該工作區域之任何部位中以加工該介質， 其中該雷射加工機經建構以在該介質移動時加工該介質， 其特徵在於： 該雷射加工機經建構以執行如任一請求項1至8之方法。
14. 如請求項13之雷射加工機，其中該雷射系統進一步包含： 一鏡面，其用以使該雷射光束朝向一工作區域轉向，及 一可控制聚焦系統，其用以使該雷射光束在依據該轉向角而變化的一預定距離處聚焦， 且其中該雷射加工機經建構以執行如請求項9之方法。

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