TW202033685A - 散射膜 - Google Patents

Abstract

本發明之散射膜係於成形品與以覆蓋成形品之設計面之方式所配置之透明構件之間，使經由透明構件入射且於成形品之設計面反射之光散射者，且具備內部霧度設定為10%以上90%以下之範圍之值之片狀之散射構件。

Description

散射膜

本發明係關於一種散射膜，其配置於成形品與以覆蓋成形品之設計面之方式所配置之透明構件之間。

存在對如行動資訊終端之殼體之成形品之設計面進行用於調整該設計面之外觀之處理之情形。作為該處理之方法，例如，如專利文獻1般，已知如下方法：將於表面形成有皺褶之透光性層重疊配置於成形品之設計面，將外界光以成形品之設計面反射並且使其藉透光性層之皺褶散射。於該方法中，成形品之設計面之質感或色調藉由透光性層所產生之散射光而進行調整。 [先前技術文獻] [專利文獻]

日本特開2014-8470號公報

[發明所欲解決之課題]

然而，存在於成形品之設計面以覆蓋該設計面之方式配置透明構件，且成形品與透明構件經由透明之光學糊構件密接之情形。於該情形時，於專利文獻1之方法中，有透光性層之皺褶被光學糊構件掩埋，不易獲得散射光之虞。

因此，本發明之目的在於，即便於以覆蓋成形品之設計面之方式配置透明構件，且成形品與透明構件經由光學糊構件密接之情形時，亦可使由成形品之設計面所反射之外界光良好地散射，而調整成形品之設計面之外觀。 [解決課題之技術手段]

為了解決上述課題，本發明之一態樣之散射膜係於成形品與以覆蓋上述成形品之設計面之方式所配置之透明構件之間，使經由上述透明構件入射且於上述成形品之上述設計面反射之光散射者，且具備內部霧度設定為10%以上90%以下之範圍之值之片狀之散射構件。

根據上述構成，散射構件由於內部霧度設定為上述範圍之值，故而即便表面未形成有皺褶或凹凸，亦可藉由內部霧度而調整霧度。從而，可藉由調整內部霧度而對散射構件賦予適度之霧度，而增大散射膜之散射構件之光散射性。

因此，於以覆蓋成形品之設計面之方式配置透明構件之狀態下，例如，即便於經由光學糊構件使成形品與透明構件密接之情形時，亦可藉由調整散射構件之內部霧度，而藉由散射膜使由成形品之設計面所反射之外界光散射，而良好地調整成形品之外觀。

可進而具備支持上述散射構件之片狀之支持構件，且上述散射構件以覆蓋上述支持構件之一表面之方式配置。藉此，可於散射膜內藉由支持構件穩定支持散射構件。

上述散射構件可具有沿上述支持構件之上述表面延伸之塗層材料及分散於上述塗層材料內之填料粒子。藉此，可使用塗層材料與填料粒子容易地構成散射構件。又，例如可藉由填料粒子量容易地調整散射構件之內部霧度。

上述散射構件於將上述散射構件之上述內部霧度之絕對值設為H1、總霧度之絕對值設為H2時之比H1/H2可設定為0.7以上1.0以下之範圍之值。

根據上述構成，可將散射構件之內部霧度設定為範圍寬之值，於散射構件中，例如，與外部霧度相比而言，可將內部霧度設定為非常大之值。藉此，可提高散射膜之光散射性之設計自由度，而可對散射膜賦予良好之光散射性。

上述散射構件之與上述支持構件相反側之表面之算術平均粗糙度Ra可設定為0.1 μm以下之範圍之值。藉此，可對散射構件之上述表面賦予高度之平坦性。因此，於確保散射膜之光散射性，且例如於散射構件之上述表面重疊配置光學糊構件之情形時，可提高散射構件與光學糊構件之密接性。

可進而具備光學糊構件，該光學糊構件配置於上述散射構件之與上述支持構件之相反側且填充於上述散射構件與上述透明構件之間。藉此，可確保散射膜之光散射性，且經由光學糊構件使散射構件與透明構件密接。

本發明之一態樣之成形單元具備上述成形品、上述透明構件及上述散射膜。此處，散射構件由於即便表面未形成有皺褶或凹凸亦可藉由內部霧度調整霧度，故而可藉由提高散射構件之內部霧度，而提高散射構件之光散射性。因此，於成形單元中，例如，即便於將光學糊構件配置於成形品與透明構件之間之情形時，亦可藉由調整散射構件之內部霧度，而利用散射膜使由成形品之設計面所反射之外界光良好地散射。 [發明之效果]

根據本發明之各態樣，即便於以覆蓋成形品之設計面之方式配置透明構件，且成形品與透明構件經由光學糊構件密接之情形時，亦可使成形品之設計面所反射之外界光良好地散射，而調整成形品之設計面之外觀。

（實施形態） 以下，參照各圖對實施形態進行說明。圖1係實施形態之成形單元10之示意剖面圖。圖2係圖1之散射膜1之放大圖。如圖1及2所示，成形單元10具備成形品4、透明構件5、光學糊（OCA）構件6、7及散射膜1。散射膜1同時具備片狀之支持構件2與散射構件3。

成形單元10作為一例係裝置之殼體。又，成形單元10係裝置之外裝品。於成形單元10之內部收容有驅動裝置之驅動元件。該裝置於此處為智慧型手機或輸入板等行動資訊終端，但並不限定於此，例如，亦可為藉由手動或電力等驅動之其他機器。

成形品4為具有一定形狀之物品，構成成形單元10之基本構造。成形品4作為一例係射出成型品。成形品4之材料可適宜地選擇。作為該材料，例如可列舉樹脂材料或金屬材料。

成形品4可藉由單一或複合材料一體地構成，亦可藉由芯材與被覆芯材表面之表面材料構成。成形品4之設計面於此處為平坦狀，但亦可為曲面狀。成形品4之設計面之全光線透射率為20%以下，作為一例為不透明。於本實施形態之成形品4之設計面形成有金屬層。

透明構件5以覆蓋成形品4之設計面之方式配置。透明構件5之材料可適宜地選擇。作為該材料，例如可列舉樹脂材料或玻璃材料。透明構件可藉由單一之材料構成，亦可重疊複數種材料構成。透明構件5之厚度尺寸可適宜地設定。對於透明構件5，可對其至少一部分實施印刷。於對透明構件5之整面實施印刷之情形時，印刷部分之至少一部分具有透明性。

光學糊構件6配置於支持構件2之與散射構件3之相反側且填充於成形品4與支持構件2之間。光學糊構件6重疊配置於支持構件2。光學糊構件6使散射膜1密接於成形品4。

光學糊構件7配置於散射構件3之與支持構件2之相反側且填充於散射構件3與透明構件5之間。光學糊構件7重疊配置於散射構件3。光學糊構件7使散射膜1密接於透明構件5。

散射膜1於成形品4與以覆蓋成形品4之設計面之方式所配置之透明構件5之間，使經由透明構件5入射且於成形品4之設計面反射之光散射。

此處所謂之設計面係指為了加飾對象物而實施各種設計而成之面。設計根據安裝有散射膜1之對象物之用途等而不同。作為代表性設計，例如可列舉：利用金屬調色、黑色及其他單一或複數種顏色、透明性而得者、花樣（包括利用文字、圖形、記號、色彩等而得者）、及微細之凹凸圖案（包括利用壓紋等而得者）中之1種或2種以上。又，設計面可直接形成於由單一構件所構成之成形品4。又，設計面可形成於由基礎構件與積層於該基礎構件之膜構件等其他構件所構成的成形品4之上述其他構件。

本實施形態之散射膜1之全光線透射率設定為80%以上之範圍之值。該全光線透射率作為一例，進而較佳為85%以上之範圍之值，特佳為89%以上之範圍之值。

又，關於本實施形態之散射膜1，其光梳寬度為0.5 mm之透射影像清晰度設定為30%以上99%以下之範圍之值。該透射影像清晰度作為一例，進而較佳為50%以上98%以下之範圍之值，特佳為70%以上97%以下之範圍之值。

又，關於本實施形態之散射膜1，散射構件3之與支持構件2之相反側之表面之60°光澤設定為3%以上100%以下之範圍之值。該60°光澤作為一例，進而較佳為40%以上100%以下之範圍之值，特佳為80%以上100%以下之範圍之值。

散射膜1之支持構件2為片狀，支持散射構件3。支持構件2例如藉由可成形之樹脂材料構成。作為該材料，可列舉：聚碳酸酯（PC）、聚甲基丙烯酸甲酯樹脂（PMMA）、聚對苯二甲酸乙二酯（PET）等。支持構件2之厚度尺寸可適宜地設定，此處，設定為數十μm之值。

散射構件3以覆蓋支持構件2之一表面之方式配置。散射構件3之厚度尺寸可適宜地設定，此處，小於支持構件2之厚度尺寸。散射構件3之厚度尺寸例如設定為5 μm以上20 μm以下之範圍之值。散射構件3之與支持構件2之相反側之算術平均粗糙度Ra設定為0.1 μm以下之範圍之值。

散射構件3之內部霧度設定為10%以上90%以下之範圍之值。作為一例，如圖2所示，散射構件3具有塗層材料30與填料粒子31。塗層材料30沿支持構件2之上述表面延伸。塗層材料30於此處包含紫外線硬化樹脂。填料粒子31分散於塗層材料30內。填料粒子31藉由苯乙烯等樹脂材料或氧化矽等無機材料構成。

填料粒子31之平均粒徑可適宜地設定，作為一例，可設定為1.0 μm以上3.0 μm以下之範圍之值。再者，本說明書所謂之平均粒徑係基於依據JIS Z 8825之方法，使用雷射繞射/散射式粒徑分佈測定裝置所測得之值。

再者，若填料粒子31之平均粒徑未達1.0 μm，則難以獲得利用填料粒子31所得之光散射效果。又，若填料粒子31之平均粒徑超過3.0 μm，則有填料粒子31自散射構件3脫落之虞。

又，若散射構件3之厚度尺寸未達5 μm，則有發生填料粒子31自散射構件3脫落之虞。又，若散射構件3之厚度尺寸超過20 μm，則有散射構件3之表面之平滑性過度降低之虞。

藉由使填料粒子31分散於塗層材料30內，散射構件3與表面之平坦性無關，而藉由內部霧度調整霧度。若增大填料粒子31之添加量，則散射構件3之內部霧度增大。藉此，於散射膜1中，散射構件3之內部霧度設定為10%以上90%以下之範圍之值。

又，於散射膜1中，將散射構件3之內部霧度之絕對值設為H1、總霧度之絕對值設為H2時之比H1/H2設定為0.7以上1.0以下之範圍之值。該比H1/H2作為一例，進而較佳為0.9以上1.0以下之範圍之值，特佳為0.99以上1.0以下之範圍之值。

再者，算出比H1/H2時，考慮測定誤差，於內部霧度H1之測定值大於總霧度H2之測定值，且兩測定值之差為0.5%以內之情形時，將比H1/H2設為1.00。

此處，散射膜1亦可謂為散射構件3之總霧度為10%以下，且散射構件3之與支持構件2之相反側之表面之算術平均粗糙度Ra設定為0.1 μm以下之範圍之值之膜。

再者，若散射構件3之內部霧度未達10%，則難以對散射構件3賦予充分之光散射性。又，若散射構件3之內部霧度超過90%，則有成形品4之設計面之視認性變差，無法獲得所需外觀之虞。

又，若比H1/H2未達0.7，則難以對散射構件3設定充分之內部霧度。又，若填料粒子31對散射構件3之添加量過度，則有散射構件3之表面析出填料粒子31，填料粒子31脫落，或散射構件3變脆之虞。

於成形單元10中，外界光入射時，外界光之一部分通過透明構件5、光學糊構件7、散射膜1、及光學糊構件6，於成形品4之設計面反射。該反射光再次通過光學糊構件6入射至散射膜1內。此時，反射光於散射構件3藉由填料粒子31散射。該散射光依序通過光學糊構件7及透明構件5。

又，於成形單元10中，外界光入射時，外界光之一部分通過透明構件5及光學糊構件7，不通過散射構件3而於散射構件3藉由填料粒子31反射及散射。該散射光與上述散射光同樣依序通過光學糊構件7及透明構件5。

藉此，於成形單元10中，經由透明構件5、光學糊構件7、散射膜1及光學糊構件6而成之成形品4之設計面之外觀藉由散射膜1進行調整。該調整之情況主要根據散射構件3之內部霧度而改變。

又，例如於成形品4之設計面為平坦面之情形時，藉由使用散射膜1，賦予宛如於成形品4之設計面形成微細凹凸之質感。如此，換言之，散射膜1亦可謂為藉由調整自成形品4之設計面之反射光之擴散方式而在外觀上修飾該表面之加飾膜。

如以上所說明般，根據散射膜1，散射構件3由於內部霧度設定為上述範圍之值，故而即便表面未形成有皺褶或凹凸，亦可藉由內部霧度調整霧度。從而，藉由調整內部霧度，可對散射構件3賦予適度之霧度，而增大散射膜1之散射構件3之光散射性。

因此，於以覆蓋成形品4之設計面之方式配置透明構件5之狀態下，例如，即便於經由光學糊構件6、7使成形品4與透明構件5密接之情形時，亦可藉由調整散射構件3之內部霧度，而利用散射膜1使由成形品4之設計面所反射之外界光散射，而良好地調整成形品4之外觀。

又，散射膜1由於具備支持散射構件3之片狀之支持構件2，且散射構件3以覆蓋支持構件2之一表面之方式配置，故而於散射膜1內，可藉由支持構件2穩定支持散射構件3。

又，散射構件3具有沿支持構件2之表面延伸之塗層材料30及分散於塗層材料30內之填料粒子31。藉此，可使用塗層材料30與填料粒子31，容易地構成散射構件3。又，例如藉由填料粒子31之量，可容易地調整散射構件3之內部霧度。

又，散射構件3之比H1/H2設定為0.7以上1.0以下之範圍之值。因此，可將散射構件3之內部霧度設定為範圍寬之值，於散射構件3中，例如，與外部霧度相比而言，可將內部霧度設定為非常大之值。藉此，可提高散射膜1之光散射性之設計自由度，而可對散射膜1賦予良好之光散射性。

又，散射構件3之與支持構件2之相反側之表面之算術平均粗糙度Ra設定為0.1 μm以下之範圍之值。藉此，可向散射構件3之上述表面賦予高度之平坦性。因此，於確保散射膜1之光散射性，且例如於散射構件3之上述表面重疊配置光學糊構件6、7之情形時，可提高散射構件3與光學糊構件6、7之密接性。

又，散射膜1具備重疊配置於散射構件3且填充於散射構件3與透明構件5之間之光學糊構件7。藉此，可確保散射膜1之光散射性，且經由光學糊構件7使散射構件3與透明構件5密接。

又，成形單元10具備成形品4、透明構件5及散射膜1。此處，散射構件3由於即便表面未形成有皺褶或凹凸亦可藉由內部霧度調整霧度，故而藉由提高散射構件3之內部霧度，可提高散射構件3之光散射性。因此，於成形單元10中，例如，即便於將光學糊構件6、7配置於成形品4與透明構件5之間之情形時，亦可藉由調整散射構件3之內部霧度，而利用散射膜1使成形品4之設計面所反射之外界光良好地散射。

（確認試驗） 其次，對確認試驗進行說明，但本發明並不限定於以下所示之各實施例。製造實施例1～8之散射膜1時所使用之原料如下。

[原料] 醋酸丙酸纖維素（CAP）：Eastman公司製造之「CAP-482-20」、乙醯化度＝2.5%、丙醯化度＝46%、聚苯乙烯換算之數量平均分子量為75000 丙烯酸胺酯（urethane acrylate）：新中村化學工業（股）製造之「UA-1100H」 雙酚A型環氧丙烯酸酯：DAICEL-ALLNEX（股）製造之「EBECRYL600」 二新戊四醇六丙烯酸酯：DAICEL-ALLNEX（股）製造之「DPHA」 新戊四醇(三/四)丙烯酸酯：DAICEL-ALLNEX（股）製造之「PETRA」 含有奈米氧化矽之丙烯酸系紫外線硬化性化合物：邁圖高新材料日本有限公司製造之「UVHC7800G」 氧化矽球狀微粒子A：（股）日本觸媒製造之「KE-P250」（平均粒徑為2.5 μm） 氧化矽球狀微粒子B：（股）日本觸媒製造之「KE-S100」（平均粒徑為1.0 μm） 細粉末合成氧化矽：FUJI SILYSIA CHEMICAL股份有限公司製造之「Sylysia 730」（無定形粒子、最大粒徑為3.0 μm） 交聯苯乙烯顆粒：綜研化學（股）製造之「SX-130H」（平均粒徑為1.3 μm） 具有聚合性基之氟系化合物A：（股）NEOS製造之「FTERGENT 602A」 光起始劑A：BASF Japan（股）製造之「Irgacure 184」 光起始劑B：BASF Japan（股）製造之「Irgacure 907」 聚對苯二甲酸乙二酯（PET）膜：東麗股份有限公司製造之「Lumirror」 三乙酸纖維素（TAC）膜：FUJIFILM股份有限公司製造之「Fujitac TG60UL」 透明光學黏著片（OCA）：日東電工股份有限公司製造之「LUCIACS」

[實施例1] 將77.6重量份之丙烯酸胺酯、19.4重量份之雙酚A型環氧丙烯酸酯、3重量份之醋酸丙酸纖維素、1重量份之光起始劑A、1重量份之光起始劑B、0.2重量份之具有聚合性基之氟系化合物A溶解於109重量份之甲基乙基酮與30重量份之1-丁醇之混合溶劑中。又，向該混合溶劑中添加1.6重量份之作為填料粒子31之氧化矽球狀微粒子A。藉此，製備成為散射構件3之材料之溶液。

使用線棒塗佈器（#24），將該溶液流鑄於作為支持構件2之PET膜上。其後，將溶液及支持構件2放置於80℃之烘箱內1分鐘，使溶液中之溶劑蒸發，藉此自上述溶液獲得厚度尺寸約為13 μm之散射構件3之中間物。其後，藉由高壓水銀燈，向中間物照射（照射累計光量約為100 mJ/cm² ）紫外線約5秒，藉此，對中間物進行紫外線硬化處理。藉此，形成塗層材料30，獲得實施例1之散射膜1。

[實施例2、3] 將氧化矽球狀微粒子A之添加量變更為3.8重量份，除此以外，藉由與實施例1相同之製造條件，獲得實施例2之散射膜1。又，將氧化矽球狀微粒子A之添加量變更為38重量份，除此以外，藉由與實施例1相同之製造條件，獲得實施例3之散射膜1。

[實施例4、5] 代替氧化矽球狀微粒子A而添加3.8重量份之氧化矽球狀微粒子B，除此以外，藉由與實施例1相同之條件，獲得實施例4之散射膜1。代替丙烯酸胺酯作為塗層材料30之材料，添加58.2重量份之二新戊四醇六丙烯酸酯、19.4重量份之新戊四醇(三/四)丙烯酸酯，且添加38重量份之氧化矽球狀微粒子A，除此以外，藉由與實施例1相同之條件，獲得實施例5之散射膜1。

[實施例6、7] 將醋酸丙酸纖維素設為6重量份，將氧化矽球狀微粒子A設為3.8重量份，除此以外，藉由與實施例1相同之條件，獲得實施例6之散射膜1。代替氧化矽球狀微粒子A而添加10重量份之細粉末合成氧化矽，除此以外，藉由與實施例1相同之條件，獲得實施例7之散射膜1。

[實施例8] 將166.7重量份之含有奈米氧化矽之丙烯酸系紫外線硬化性化合物、1重量份之光起始劑A、1重量份之光起始劑B、21重量份之交聯苯乙烯顆粒、0.2重量份之具有聚合性基之氟系化合物A溶解於48重量份之甲基乙基酮與13重量份之1-丁醇之混合溶劑中，製備溶液。

使用線棒塗佈器（#6），將該溶液流鑄於作為支持構件2之PET膜上。其後，將溶液及支持構件2放置於80℃之烘箱內1分鐘，使溶劑蒸發，藉此，形成厚度尺寸約為5 μm之散射構件3之中間物。其後，藉由與實施例1相同之條件，獲得實施例8之散射膜1。

對於以上所獲得之實施例1～8之散射膜1，依以下之順序，測定霧度、全光線透射率、60°光澤及算術平均粗糙度Ra。

[霧度及全光線透射率] 於使用霧度計（HAZE METER）（日本電色股份有限公司製造之「NDH-5000W」），依據JIS K7136，測定總霧度之情形時，以散射膜1之散射構件3成為受光器側之方式進行配置而測定。測定散射構件3之內部霧度時，於散射構件3之與支持構件2之相反側之表面以光學糊構件貼合TAC膜而測定，將自所獲得之霧度值減去僅TAC/OCA之霧度值（0.7%）而得之值作為散射構件3之內部霧度之值。於散射膜1之散射構件3之總霧度與內部霧度之差量為0.5%以下之情形時，定為對總霧度之貢獻均為內部霧度。

[透射影像（映像）清晰度] 使用映像測定器（Suga Test Instruments股份有限公司製造、商品名為「ICM-1T」），基於JIS K7105，以散射膜1之支持構件2之製膜方向與光梳之梳齒之方向平行之方式設置散射膜1，測定散射膜1之透射影像清晰度。於本試驗中，測定映像測定器之光梳中0.5 mm寬度之光梳之散射膜1之透射影像清晰度。

[60°光澤] 依據JIS K7105，使用光澤計（（股）堀場製作所製造之「IG-320」），以角度60°測定散射膜1之散射構件3之與支持構件2相反側之表面之60°光澤。

[算術平均粗糙度Ra] 依據JIS B0601，使用表面粗糙度形狀測定機（（股）東京精密製造之「Surfcom 570A」），測定散射膜1之散射構件3之與支持構件2相反側之表面之算術平均粗糙度Ra。將各測定結果及比H1/H2之算出結果示於表1。

再者，於實施例2、3、5及6中，由於內部霧度H1之測定值大於總霧度H2之測定值，且兩測定值之差為0.5%以內，故而將比H1/H2設為1.00。

[表1]

項目	實施例
1	2	3	4	5	6	7	8
總霧度（%）	14.0	23.8	85.0	10.6	87.3	22.4	70.1	91.0
內部霧度（%）	13.8	24.0	85.3	10.4	87.6	22.8	57.6	69.1
H1/H2	0.99	1.00	1.00	0.98	1.00	1.00	0.82	0.76
全光線透射率（%）	91.1	91.1	89.8	90.8	89.8	91.3	90.2	90.0
透射影像（映像）清晰度 （%）	95.5	94.9	71.4	93.5	78.5	93.4	46.6	31.8
60°光澤（%）	96	96	86	97	83	94	39	4
Ra（μm）	0.006	0.009	0.033	0.005	0.039	0.013	0.29	0.35

如表1所示，實施例1～8以至少內部霧度設定為大於外部霧度之方式構成散射構件3。又，實施例1～8之散射構件3之比H1/H2設定為0.7以上1.0以下之範圍之值。

其中，實施例1～6之散射構件3之比H1/H2至少為0.98以上，內部霧度與外部霧度相比而言大幅度提高。換言之，實施例1～6之散射構件3以與支持構件2相反側之表面具有較高之平坦性之方式構成。

又，於實施例1～8之任一者中，均係散射構件3之內部霧度設定為10.4以上之值，且適度地設定霧度。藉此，無論有無外部霧度，實施例1～8之散射構件3均具有良好之光散射性。

由實施例1～3之結果可知，散射構件3之總霧度與內部霧度、及散射構件3之與支持構件2相反側之表面之算術平均粗糙度Ra與填料粒子31之摻合量存在比例關係。又，散射膜1之全光線透射率、透射影像清晰度、及散射構件3之60°光澤與填料粒子31之摻合量存在反比例關係。

又，由實施例2、4之結果可知，填料粒子31之平均粒徑與散射構件3之總霧度及內部霧度存在比例關係。又，由實施例1、5、6之結果可知，即便填料粒子31之摻合量相同，亦可藉由改變塗層材料30之材質，而調整散射構件3之總霧度及內部霧度。

關於實施例1～6，認為散射構件3之60°光澤之值被保持為較高，且散射構件3之與支持構件2相反側之表面高度平坦地形成，但散射構件3之總霧度實質上僅藉由內部霧度設定，故而可使來自成形品4之設計面之反射光良好地散射。

關於實施例7、8，由比H1/H2之值可知，散射構件3之外部霧度相對較大。作為其理由之一，認為於實施例7中作為填料粒子31使用無定形之氧化矽粒子，於實施例8中作為填料粒子31使用球狀之苯乙烯顆粒粒子，藉此容易於散射構件3之表面形成些許凹凸。

又，如此，認為於實施例7、8中，藉由使散射構件3之外部霧度相對較大，而提高防眩性。又，於實施例7、8中，藉由使散射構件3之外部霧度相對較大，與實施例1～6相比，抑制透射影像清晰度。然而，認為於實施例7、8中，散射構件3之內部霧度某種程度上設定為較大，故而可使來自成形品4之設計面之反射光適度地散射。

實施例1～8之散射膜1均具有適度之全光線透射率。因此，認為於將實施例1～8之散射膜1應用於成形單元10及具備其之裝置之情形時，藉由使來自成形品4之設計面之反射光透射，可良好地調整成形品4之設計面之美觀。

由上述試驗結果可知，實施例1～8之散射膜1均為散射構件3之內部霧度相對於總霧度之比率較大，散射構件3之與支持構件2相反側之表面為平坦或比照其之狀態。

本發明並不限定於上述實施形態，於不脫離本發明之主旨之範圍內，可變更、追加、或刪除其構成。

於成形單元10中，可重疊配置複數層散射膜1。於該情形時，相鄰散射膜1彼此之間亦可配置其他膜或光學糊構件。又，散射構件3可配置於成形品4側，且支持構件2可配置於透明構件5側。

又，於散射構件3具有某種程度之強度之情形時，可省略支持構件2。於該情形時，散射膜1例如僅由散射構件3所構成。又，散射構件3之構成並不僅限定於由塗層材料30與填料粒子31所組成之構成。

1:散射膜 2:支持構件 3:散射構件 4:成形品 5:透明構件 6,7:光學糊構件 30:塗層材料 31:填料粒子

[圖1]係實施形態之成形單元之示意剖面圖。 [圖2]係圖1之散射膜之放大圖。

1:散射膜

2:支持構件

3:散射構件

4:成形品

5:透明構件

6,7:光學糊構件

10:成形單元

Claims (7)

1. 一種散射膜，其係於成形品與以覆蓋上述成形品之設計面之方式所配置之透明構件之間，使經由上述透明構件入射且於上述成形品之上述設計面反射之光散射者，且 具備內部霧度設定為10%以上90%以下之範圍之值之片狀之散射構件。
2. 如請求項1之散射膜，其進而具備支持上述散射構件之片狀之支持構件，且 上述散射構件以覆蓋上述支持構件之一表面之方式配置。
3. 如請求項2之散射膜，其中，上述散射構件具有：塗層材料，其沿上述支持構件之上述表面延伸；填料粒子，其分散於上述塗層材料內。
4. 如請求項2或3之散射膜，其中，上述散射構件於將上述散射構件之上述內部霧度之絕對值設為H1、總霧度之絕對值設為H2時之比H1/H2設定為0.7以上1.0以下之範圍之值。
5. 如請求項2或3之散射膜，其中，上述散射構件之與上述支持構件相反側之表面之算術平均粗糙度Ra設定為0.1 μm以下之範圍之值。
6. 如請求項1至3中任一項之散射膜，其進而具備：光學糊構件，其重疊配置於上述散射構件，且填充於上述散射構件與上述透明構件之間。
7. 一種成形單元，其具備上述成形品、上述透明構件及請求項1至6中任一項之散射膜。

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