TW202026772A - 一種光罩姿態監測方法、裝置及光罩顆粒度檢測設備 - Google Patents

一種光罩姿態監測方法、裝置及光罩顆粒度檢測設備 Download PDF

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Abstract

本發明揭示一種光罩姿態監測方法、裝置及光罩顆粒度檢測設備，其中，監測方法包含：獲取至少一個標定點至標準面沿第一方向的距離；分別獲取至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點沿第一方向的距離、至少一個標定點至待測光罩上第二檢測點沿第一方向的距離，及至少一個標定點至待測光罩上第三檢測點沿第一方向的距離，根據獲取的數據計算待測光罩相對於標準面繞第二方向的偏轉角度以及繞第三方向的偏轉角度。

Description

一種光罩姿態監測方法、裝置及光罩顆粒度檢測設備
本發明關於半導體光刻技術領域，例如關於一種光罩姿態監測方法、裝置及光罩顆粒度檢測設備。
光罩在夾持、傳輸、儲存及曝光等過程可能受到污染而在其表面產生顆粒、刮擦痕、針孔等缺陷。在曝光過程中，上述缺陷的存在直接影響到光刻機的圖像性能及產率，嚴重的情況下，產率可降為零。
光罩顆粒度檢測系統作為光刻機光罩傳輸分系統的主要零件之一，能夠對光罩表面上的缺陷大小、位置進行檢測。根據檢測結果，光刻機作業系統或操作人員可以判定該光罩能否用於後續的曝光過程。檢測結果進一步可以作為清除光罩上缺陷時的輸入數據。
受照明及成像系統約束，光罩進行掃描測試前需要對光罩進行調焦及水平姿態(繞X軸的偏轉Rx及繞Y軸的偏轉Ry)的檢測。當前使用特殊設計的光罩，對Rx/Ry進行測量，特殊設計光罩上設計有特定結構的衍射標記，鐳射沿特定角度入射時，線陣電荷耦合器件(Charge Coupled Device，CCD)能夠接收到衍射標記的散射光強，根據光斑線上陣CCD相機上的位置及偏轉測量光罩的Rx/Ry。但是該方法只能應用於在 對光罩顆粒度檢測前的調試，而在具體工作工程中，由於機械手在往復運動中可能會出現偏轉，無法始終維持水平狀態，使得光罩亦會發生偏轉，導致顆粒度檢測結果異常。目前，線上直接監測Rx/Ry較為困難，成本較高且效率較低。
光罩在夾持、傳輸、儲存及曝光等過程可能受到污染而在其表面產生顆粒、刮擦痕、針孔等缺陷。在曝光過程中，上述缺陷的存在直接影響到光刻機的圖像性能及產率，嚴重的情況下，產率可降為零。
第一方面，本發明實施例提供一種光罩姿態監測方法，包含：獲取至少一個標定點至標準面沿第一方向的距離；分別獲取至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點沿第一方向的距離、至少一個標定點至待測光罩上第二檢測點沿第一方向的距離，及至少一個標定點至待測光罩上第三檢測點沿第一方向的距離，其中，第一檢測點與第二檢測點在標準面內的投影沿第二方向排布，第一檢測點與第三檢測點在標準面內的投影沿第三方向排布，第一方向、第二方向及第三方向互相垂直，標準面垂直於第一方向；根據第一檢測點至對應的標定點沿第一方向的距離、第一檢測點對應的標定點至標準面沿第一方向的距離、第二檢測點至對應的標定點沿第一方向的距離、第二檢測點對應的標定點至標準面沿第一方向的距離 以及第一檢測點與第二檢測點沿第二方向的距離計算待測光罩相對於標準面繞第三方向的偏轉角度；根據第一檢測點至對應的標定點沿第一方向的距離、第一檢測點對應的標定點至標準面沿第一方向的距離、第三檢測點至對應的標定點沿第一方向的距離、第三檢測點對應的標定點至標準面沿第一方向的距離以及第一檢測點與第三檢測點沿第三方向的距離計算待測光罩相對於標準面繞第二方向的偏轉角度。
第二方面，本發明實施例進一步提供一種光罩姿態監測裝置，包含：至少一個距離感測器，設置於待測光罩的上方，設置為獲取至少一個標定點至標準面沿第一方向的距離，以及，分別獲取至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點沿第一方向的距離、至少一個標定點至待測光罩上第二檢測點沿第一方向的距離，及至少一個標定點至待測光罩上第三檢測點沿第一方向的距離，其中，第一方向、第二方向及第三方向互相垂直，標準面垂直於第一方向，第一檢測點與第二檢測點在標準面內的投影沿第二方向排布，第一檢測點與第三檢測點在標準面內的投影沿第三方向排布；移動機構，設置為帶動待測光罩在沿第二方向及/或第三方向移動；控制計算單元，設置為根據第一檢測點至對應的標定點沿第一方向的距離、第一檢測點對應的標定點至標準面沿第一方向的距離、第二檢測點至對應的標定點沿第一方向的距離、第二檢測點對應的標定點至標準面沿第一方向的距離以及第一檢測點與第二檢測點沿第二方向的距離計算待測光罩相對於標準面繞第三方向的偏轉角度；以及，根據第一檢測點至對應的標定點沿第一方向的距離、第一檢測點對應的標定點至標準面沿第一方向的距離、第三檢測點至對應的標定點沿第一方向的距離、第三檢測點對應 的標定點至標準面沿第一方向的距離以及第一檢測點與第三檢測點沿第三方向的距離計算待測光罩相對於標準面繞第二方向的偏轉角度。
第三方面，本發明實施例進一步提供一種光罩顆粒度檢測設備，包含如本發明第二方面任意前述的光罩姿態監測裝置。
本發明提供一種光罩姿態監測方法、裝置及光罩顆粒度檢測設備，在光罩顆粒度檢測過程中，線上對光罩的姿態進行監測，簡化監測設備，提高監測效率。
101:距離感測器
200:待測光罩
201:保護膜
202:基底
300:安裝框架
400:移動機構
601:光源
602:照明系統
603:吸收裝置
604:探測單元
a1:第一檢測點
a2:第二檢測點
a3:第三檢測點
A:標準面
X:第二方向
Y:第三方向
Z:第一方向
H1、H1'、H2、H2'、H3、H3'、L1、L2:距離
【圖1】為本發明實施例提供的一種光罩姿態監測方法。
【圖2】為本發明實施例中一種計算待測光罩偏轉角度的原理圖。
【圖3】為本發明實施例中待測光罩上各檢測點的分佈示意圖。
【圖4】為本發明實施例中另一種計算待測光罩偏轉角度的原理圖。
【圖5】為本發明實施例提供的一種光罩姿態監測裝置沿第三方向的示意圖。
【圖6】為圖5中的光罩姿態監測裝置沿第二方向的示意圖。
【圖7】為本發明實施例提供的一種光罩姿態監測裝置沿第三方向的示意圖。
【圖8】為本發明實施例提供的光罩顆粒檢度檢測設備的檢測原理圖。
以下將結合圖式對本發明實施例的技術手段作進一步的詳細描述，顯然，所描述的實施例僅為本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，所屬領域具有通常知識者在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，皆屬於本發明保護的範圍。
在本發明的描述中，除非另有明確的規定及限定，術語「相連」、「連接」、「固定」應做廣義理解，例如，可以是固定連接，亦可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，亦可以是電連接；可以是直接相連，亦可以藉由中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連通或兩個元件的相互作用關係。對於所屬領域具有通常知識者而言，可以具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。
在本發明中，除非另有明確的規定及限定，第一特徵在第二特徵之「上」或之「下」可以包含第一及第二特徵直接接觸，亦可以包含第一及第二特徵不是直接接觸而是藉由其之間的另外的特徵接觸。而且，第一特徵在第二特徵「之上」、「上方」及「上面」包含第一特徵在第二特徵正上方及斜上方，或僅表示第一特徵水平高度高於第二特徵。第一特徵在第二特徵「之下」、「下方」及「下面」包含第一特徵在第二特徵正下方及斜下方，或僅表示第一特徵水平高度小於第二特徵。
本發明實施例提供一種光罩姿態監測方法，圖1為本發明實施例提供的一種光罩姿態監測方法，如圖1所示，該光罩姿態監測方法包含步驟S11至步驟S13。
在步驟S11中，獲取至少一個標定點至標準面沿第一方向 的距離。
其中，標準面為與第一方向Z垂直的平面。示例性地，至少一個標定點可以是三個標定點，獲取三個標定點至標準面沿第一方向的距離。需要說明的是，三個標定點所在的平面可以與標準面平行，此種情況下，只需獲取其中一個標定點至標準面沿第一方向的距離即可。
在步驟S12中，獲取至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點、第二檢測點及第三檢測點沿第一方向的距離。
其中，第一檢測點、第二檢測點及第三檢測點位於待測光罩上，與三個標定點一一對應，第一檢測點與第二檢測點在標準面內的投影沿第二方向X排布，第一檢測點與第三檢測點在標準面內的投影沿第三方向Y排布，第一方向、第二方向及第三方向互相垂直。獲取至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點、第二檢測點及第三檢測點沿第一方向的距離，包含：獲取各檢測點至對應的標定點沿第一方向的距離。
在步驟S13中，根據獲取的數據計算待測光罩相對於標準面繞第二方向的偏轉角度以及繞第三方向的偏轉角度。
圖2為本發明實施例中一種計算待測光罩偏轉角度的原理圖，圖3為本發明實施例中待測光罩上各檢測點的分佈示意圖。需要說明的是，各檢測點並非是待測光罩上固定不動的點，而是根據檢測需要設置，只需滿足第一檢測點與第二檢測點在標準面內的投影沿第二方向X排布，第一檢測點與第三檢測點在標準面內的投影沿第三方向Y排布即可。以計算待測光罩相對於標準面繞第三方向的偏轉角度為例，如圖2所示，在一實施例中，根據第一檢測點a1至對應的標定點沿第一方向Z的距離 H1'、第一檢測點a1對應的標定點至標準面A沿第一方向Z的距離H1、第二檢測點a2至對應的標定點沿第一方向Z的距離H2'、第二檢測點a2對應的標定點至標準面A沿第一方向Z的距離H2、以及第一檢測點a1與第二檢測點a2沿第二方向X的距離L1，計算待測光罩200相對於標準面A繞第三方向Y的偏轉角度θ1。其中，第一檢測點a1與第二檢測點a2沿第二方向X的距離L1為對應的兩個標定點沿第二方向X的距離。在一實施例中，計算公式如下：
Figure 108147934-A0202-12-0007-1
待測光罩200相對於標準面A繞第二方向X的偏轉角度的計算原理與待測光罩200繞第二方向Y的偏轉角度的計算原理類似，在一實施例中，根據第一檢測點a1至對應的標定點沿第一方向Z的距離H1'、第一檢測點a1對應的標定點至標準面A沿第一方向Z的距離H1、第三檢測點a3至對應的標定點沿第一方向Z的距離H3'、第三檢測點a3對應的標定點至標準面A沿第一方向Z的距離H3、以及第一檢測點a1與第三檢測點a3沿第三方向Y的距離L2，計算待測光罩200相對於標準面A繞第二方向X的偏轉角度θ2。其中，第一檢測點a1與第三檢測點a3沿第三方向Y的距離L2為對應的兩個標定點沿第三方向Y的距離。在一實施例中，計算公式如下：
Figure 108147934-A0202-12-0007-2
本發明實施例藉由獲取至少一個標定點至標準面沿第一方向的距離、以及至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點、第二檢測點及第三檢測點沿第一方向的距離，根據獲取的數據計算待測光罩繞第二方向 的偏轉角度以及繞第三方向的偏轉角度，能夠實現對待測光罩的偏轉角度的線上監測，監測過程簡單，監測效率高，且無需特殊設計的光罩及線陣CCD相機，監測成本較低。
在一實施例中，在獲取至少一個標定點至標準面沿第一方向的距離之前，進一步包含：對標定光罩進行調平，以使標定光罩垂直於第一方向，標定光罩的表面為標準面。
在一實施例中，在離線狀態下，對標定光罩進行調平，標定光罩可以是與待測光罩200具有相同參數及設計的光罩，使標定光罩垂直於第一方向Z，標定光罩的上下表面可以作為標準面，標定光罩無需特殊設計。
在一實施例中，繼續參考圖2，在本發明另一實施例中，至少一個標定點可以為兩個標定點，分別為第一標定點及第二標定點，第一標定點及第二標定點沿第二方向X排布，獲取至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點、第二檢測點及第三檢測點沿第一方向的距離，包含：獲取第一標定點至第一檢測點a1沿第一方向Z的距離H1'，以及第二標定點至第二檢測點a2沿第一方向Z的距離H2'；沿第三方向Y移動待測光罩200，獲取第一標定點至第三檢測點a3沿第一方向Z的距離，該距離作為第三檢測點a3至對應的標定點沿第一方向Z的距離H3'，其中，待測光罩200沿第三方向Y移動的距離為第一檢測點a1與第三檢測點a3沿第三方向Y的距離L2。
本發明實施例能夠減少標定點的數量，簡化監測裝置的結構，可利用相關技術中的光罩移動機構移動待測光罩，降低監測成本。
在一實施例中，第一標定點與第二標定點位於待測光罩200的同側，如圖2所示。圖4為本發明實施例中另一種計算待測光罩偏轉角度的原理圖，如圖4所示，第一標定點與第二標定點亦可以位於待測光罩200的異側。
在本發明另一實施例中，至少一個標定點可以是兩個標定點，分別為第三標定點及第四標定點，第三標定點及第四標定點沿第三方向Y排布，獲取至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點、第二檢測點及第三檢測點沿第一方向Z的距離，包含：獲取第三標定點至第一檢測點a1沿第一方向Z的距離，該距離作為第一檢測點a1至對應的標定點沿第一方向Z的距離H1'，以及第四標定點至第三檢測點a3沿第一方向的距離，該距離作為第三檢測點a3至對應的標定點沿第一方向Z的距離H3'；沿第二方向X移動待測光罩200，獲取第三標定點至第二檢測點a2沿第一方向Z的距離，該距離作為第二檢測點a2至對應的標定點沿第一方向Z的距離H2'，其中，待測光罩200沿第二方向X移動的距離為第一檢測點a1與第二檢測點a2沿第二方向X的距離L1。
在一實施例中，第三標定點與第四標定點位於待測光罩的同側或異側。
在本發明另一實施例中，標定點包含第五標定點，獲取至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點、第二檢測點及第三檢測點沿第一方向Z的距離，包含：沿第二方向X及/或第三方向Y移動待測光罩200，獲取第五標定點至第一檢測點a1沿第一方向Z的距離、第五標定點至第二檢測點a2沿第一方向Z的距離，以及第五標定點至第三檢測點a3 沿第一方向Z的距離，分別作為各檢測點至對應標定點沿第一方向Z的距離H1'、H2'及H3'，其中，待測光罩200沿第二方向X移動的距離為第一檢測點a1與第二檢測點a2沿第二方向X的距離，待測光罩200沿第三方向Y移動的距離為第一檢測點a1與第三檢測點a3沿第三方向Y的距離。
本發明實施例進一步減少標定點的數量，採用一個標定點即可完成監測過程，簡化監測裝置的結構，可利用相關技術中的光罩移動機構移動待測光罩，降低監測成本。
本發明實施例進一步提供一種光罩姿態監測裝置，圖5為本發明實施例提供的一種光罩姿態監測裝置沿第三方向的示意圖，圖6為圖5中的光罩姿態監測裝置沿第二方向的示意圖，如圖5及圖6所示，光罩姿態監測裝置包含：至少一個距離感測器101，設置於待測光罩200的上方，固定在安裝框架300上，示例性地，至少一個距離感測器可以是三個距離感測器101，設置為獲取三個標定點至標準面A沿第一方向Z的距離，以及，獲取待測光罩200上第一檢測點a1、第二檢測點a2及第三檢測點a3至對應的標定點沿第一方向Z的距離，其中，第一方向Z、第二方向X及第三方向Y互相垂直，標準面A垂直於第一方向Z，第一檢測點a1與第二檢測點a2在標準面A內的投影沿第二方向X排布，第一檢測點a1與第三檢測點a3在標準面A內的投影沿第三方向Y排布，距離感測器與檢測點一一對應設置。其中，標準面A為在離線狀態下，對標定光罩進行調平後，標定光罩的上下表面，標定光罩可以是與待測光罩200具有相同參數及設計的光罩，對標定光罩調平使標定光罩垂直於第一方向Z。
移動機構400，設置為帶動待測光罩200在沿第二方向X 及/或第三方向Y移動，移動機構400可以是機械手，機械手自由端設置有版叉，設置為承載待測光罩200。
控制計算單元(圖中未示出)，設置為根據距離感測器101獲取的數據計算待測光罩200相對於標準面A繞第二方向X的偏轉角度以及繞第三方向Y的偏轉角度。
在一實施例中，根據第一檢測點a1至對應的標定點沿第一方向Z的距離H1'、第一檢測點a1對應的標定點至標準面A沿第一方向z的距離H1、第二檢測點a2至對應的標定點沿第一方向Z的距離H2'、第二檢測點a2對應的標定點至標準面A沿第一方向Z的距離H2以及第一檢測點a1與第二檢測點a2沿第二方向X的距離L1，計算待測光罩200相對於標準面A繞第三方向Y的偏轉角度θ1。其中，第一檢測點a1與第二檢測點a2沿第二方向X的距離L1為對應的兩個距離感測器101沿第二方向X的距離。在一實施例中，計算公式如下：
Figure 108147934-A0202-12-0011-3
待測光罩200相對於標準面A繞第二方向X的偏轉角度的計算原理與待測光罩200繞第二方向Y的偏轉角度的計算原理類似，在一實施例中，根據第一檢測點a1至對應的標定點沿第一方向Z的距離H1'、第一檢測點a1對應的標定點至標準面A沿第一方向Z的距離H1、第三檢測點a3至對應的標定點沿第一方向Z的距離H3'、第三檢測點a3對應的標定點至標準面A沿第一方向Z的距離H3、以及第一檢測點a1與第三檢測點a3沿第三方向Y的距離L2，計算待測光罩200相對於標準面A繞第二方向X的偏轉角度θ2。其中，第一檢測點a1與第三檢測點a3沿第三方 向Y的距離L2為對應的兩個距離感測器101沿第三方向Y的距離。在一實施例中，計算公式如下：
Figure 108147934-A0202-12-0012-4
本發明實施例藉由至少一個距離感測器獲取至少一個標定點至標準面沿第一方向的距離、以及至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點、第二檢測點及第三檢測點沿第一方向的距離，控制計算單元根據獲取的數據計算待測光罩繞第二方向的偏轉角度以及繞第三方向的偏轉角度，能夠實現對待測光罩的偏轉角度的線上監測，監測過程簡單，監測效率高，且無需特殊設計的光罩及線陣CCD相機，監測成本較低。
在本發明另一實施例中，參考圖5，光罩姿態監測裝置包含兩個距離感測器101，沿第二方向X排布，分別對應第一標定點及第二標定點。兩個距離感測器101首先獲取第一標定點至第一檢測點a1沿第一方向Z的距離H1'，以及第二標定點至第二檢測點a2沿第一方向Z的距離H2'。接著，控制計算單元控制移動機構400攜帶待測光罩200沿第三方向Y移動，對應的距離感測器101獲取第一標定點至第三檢測點a3沿第一方向Z的距離，該距離作為第三檢測點a3至對應的標定點沿第一方向Z的距離H3'，其中，待測光罩200沿第三方向Y移動的距離為第一檢測點a1與第三檢測點a3沿第三方向Y的距離L2。
參考圖6，在本發明另一實施例中，光罩姿態監測裝置包含兩個距離感測器101，沿第三方向Y排布，分別對應第三標定點及第四標定點。兩個距離感測器101首先獲取第三標定點至第一檢測點a1沿第一方向Z的距離H1'，以及第四標定點至第三檢測點a3沿第一方向Z的距 離H3'。然後，控制計算單元控制移動機構攜帶待測光罩200沿第二方向X移動，對應的距離感測器101獲取第三標定點至第二檢測點a2沿第一方向Z的距離，該距離作為第二檢測點a2至對應的標定點沿第一方向Z的距離H2'，其中，待測光罩200沿第二方向X移動的距離為第一檢測點a1與第二檢測點a2沿第二方向X的距離L2。
圖7為本發明實施例提供的一種光罩姿態監測裝置沿第三方向的示意圖，在一實施例中，參考圖5、6或7，兩個距離感測器101位於待測光罩200的同側或異側。
本發明實施例能夠減少距離感測器的數量，簡化監測裝置的結構，可利用相關技術中的光罩移動機構移動待測光罩，降低監測成本。
在本發明另一實施例中，光罩姿態監測裝置包含一個距離感測器101，對應第五標定點。在一實施例中，移動機構400沿第二方向X及/或第三方向Y移動待測光罩200，距離感測器101獲取第五標定點至第一檢測點a1沿第一方向Z的距離、第五標定點至第二檢測點a2沿第一方向Z的距離，以及第五標定點至第三檢測點a3沿第一方向Z的距離，分別作為各檢測點至對應標定點沿第一方向Z的距離H1'、H2'及H3'，其中，待測光罩200沿第二方向X移動的距離為第一檢測點a1與第二檢測點a2沿第二方向X的距離L1，待測光罩200沿第三方向Y移動的距離為第一檢測點a1與第三檢測點a3沿第三方向Y的距離L2。
本發明實施例進一步減少距離感測器的數量，採用一個距離感測器即可完成監測過程，簡化監測裝置的結構，可利用相關技術中的 光罩移動機構移動待測光罩，降低監測成本。
本發明實施例進一步提供一種光罩顆粒度檢測設備，包含如本發明上述任意實施例所述的光罩姿態監測裝置。
光罩顆粒度檢測設備作為光刻機光罩傳輸分系統的主要零件之一，能夠對光罩保護膜(pellicle)面與基底(glass)面上的污染顆粒大小、位置進行檢測。根據檢測結果，光刻機作業系統或操作人員可以判定該光罩能否用於後續的曝光過程。檢測結果進一步可以作為清除光罩上污染顆粒時的輸入數據。
圖8為本發明實施例提供的光罩顆粒檢度檢測設備的檢測原理圖，如圖8所示，光罩的保護膜201及基底202表面分別配置一套照明及探測單元。為提高對顆粒的探測靈敏度，光罩顆粒檢度檢測採用暗場散射測量技術，其可探測小於圖元尺寸的顆粒。
光源601產生的光經過照明系統602準直、擴束、勻光後，以一定的傾角入射到pellicle面(或glass面)，在pellicle面形成一條高亮度的線性光斑，該光斑即為探測區域，探測區域沿第三方向Y分佈，當探測區域無污染顆粒時，光束沿著鏡面反射方向進入吸收裝置603，此時探測單元604檢測不到光訊號；當探測區域存在污染顆粒時，部分光束被顆粒散射而進入探測單元604，根據檢測到的光強值而確定顆粒尺寸。移動機構承載光罩沿第二方向X運動，探測區域對整個光罩表面進行掃描。
需要理解的是，術語「上」等方位或位置關係為基於圖式所示的方位或位置關係，僅是為了便於描述及簡化操作，而不是指示或暗 示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造及操作，因此不能理解為對本發明的限制。
在本說明書的描述中，參考術語「一實施例」等的描述意指結合該實施例的特徵、結構、材料或者特點包含於本發明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不一定指的是相同的實施例。
此外，應當理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但並非每個實施方式僅包含一個獨立的技術手段，說明書的此等敘述方式僅是為清楚器件，所屬領域具有通常知識者應當將說明書作為一個整體，各實施例中的技術手段亦可以適當組合，形成所屬領域具有通常知識者可以理解的其他實施方式。
本發明要求在2018年12月28日提交中國專利局、申請號為201811630079.0的中國專利發明的優先權，該發明的全部內容通過引用結合在本發明中。

Claims (14)

  1. 一種光罩姿態監測方法，其特徵係，其包含：
    獲取至少一個標定點至標準面沿第一方向的距離；
    分別獲取前述至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點沿前述第一方向的距離、前述至少一個標定點至待測光罩上第二檢測點沿前述第一方向的距離，及前述至少一個標定點至待測光罩上第三檢測點沿前述第一方向的距離，其中，前述第一檢測點與前述第二檢測點在前述標準面內的投影沿第二方向排布，前述第一檢測點與前述第三檢測點在前述標準面內的投影沿第三方向排布，前述第一方向、第二方向及第三方向互相垂直，前述標準面垂直於前述第一方向；
    根據前述第一檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離、前述第一檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離、前述第二檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離、前述第二檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離，以及前述第一檢測點與前述第二檢測點沿前述第二方向的距離，計算前述待測光罩相對於前述標準面繞前述第三方向的偏轉角度；
    根據前述第一檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離、前述第一檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離、前述第三檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離、前述第三檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離，以及前述第一檢測點與前述第三檢測點沿前述第三方向的距離，計算前述待測光罩相對於前述標準 面繞前述第二方向的偏轉角度。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之光罩姿態監測方法，在前述獲取至少一個標定點至標準面沿第一方向的距離之前，進一步包含：
    對標定光罩進行調平，以使前述標定光罩垂直於前述第一方向，前述標定光罩的表面為前述標準面。
  3. 如申請專利範圍第1項所記載之光罩姿態監測方法，其中，前述標定點包含第一標定點及第二標定點，前述第一標定點及第二標定點沿前述第二方向排布，分別獲取前述至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點沿前述第一方向的距離、前述至少一個標定點至待測光罩上第二檢測點沿前述第一方向的距離，及前述至少一個標定點至待測光罩上第三檢測點沿前述第一方向的距離，包含：
    獲取前述第一標定點至前述第一檢測點沿前述第一方向的距離，以及前述第二標定點至前述第二檢測點沿前述第一方向的距離；
    沿前述第三方向移動前述待測光罩，獲取前述第一標定點至前述第三檢測點沿前述第一方向的距離，其中，前述待測光罩沿前述第三方向移動的距離為前述第一檢測點與第三檢測點沿前述第三方向的距離。
  4. 如申請專利範圍第3項所記載之光罩姿態監測方法，其中，前述第一標定點與前述第二標定點位於前述待測光罩的同側或異側。
  5. 如申請專利範圍第1項所記載之光罩姿態監測方法，其中，前述標定點包含第三標定點及第四標定點，前述第三標定點及第四標定點沿前述第三方向排布，分別獲取前述至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點沿前述第一方向的距離、前述至少一個標定點至待測光罩上第二檢測點沿 前述第一方向的距離，及前述至少一個標定點至待測光罩上第三檢測點沿前述第一方向的距離，包含：
    獲取前述第三標定點至前述第一檢測點沿前述第一方向的距離，以及前述第四標定點至前述第三檢測點沿前述第一方向的距離；
    沿前述第二方向移動前述待測光罩，獲取前述第三標定點至前述第二檢測點沿前述第一方向的距離，其中，前述待測光罩沿前述第二方向移動的距離為前述第一檢測點與前述第二檢測點沿前述第二方向的距離。
  6. 如申請專利範圍第5項所記載之光罩姿態監測方法，其中，前述第三標定點與前述第四標定點位於前述待測光罩的同側或異側。
  7. 如申請專利範圍第1項所記載之光罩姿態監測方法，其中，前述標定點包含第五標定點，分別獲取前述至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點沿前述第一方向的距離、前述至少一個標定點至待測光罩上第二檢測點沿前述第一方向的距離，及前述至少一個標定點至待測光罩上第三檢測點沿前述第一方向的距離，包含：
    沿前述第二方向及第三方向中的至少一個方向移動前述待測光罩，分別獲取前述第五標定點至前述第一檢測點沿前述第一方向的距離、前述第五標定點至前述第二檢測點沿前述第一方向的距離，以及前述第五標定點至前述第三檢測點沿前述第一方向的距離，其中，前述待測光罩沿前述第二方向移動的距離為前述第一檢測點與前述第二檢測點沿前述第二方向的距離，前述待測光罩沿前述第三方向移動的距離為前述第一檢測點與前述第三檢測點沿前述第三方向的距離。
  8. 如申請專利範圍第1項所記載之光罩姿態監測方法，其中，計算前述待 測光罩相對於前述標準面繞前述第三方向的偏轉角度，包含：
    根據以下公式計算前述待測光罩相對於前述標準面繞前述第三方向的偏轉角度，
    Figure 108147934-A0202-13-0004-5
    其中，θ1為前述待測光罩相對於前述標準面繞前述第三方向的偏轉角度，H1'為前述第一檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離，H1為前述第一檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離，H2'為前述第二檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離，H2為前述第二檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離，L1為前述第一檢測點與第二檢測點沿前述第二方向的距離。
  9. 如申請專利範圍第1項所記載之光罩姿態監測方法，其中，計算前述待測光罩相對於前述標準面繞前述第二方向的偏轉角度，包含：
    根據以下公式計算前述待測光罩相對於前述標準面繞前述第二方向的偏轉角度，
    Figure 108147934-A0202-13-0004-6
    其中，θ2為前述待測光罩相對於前述標準面繞前述第二方向的偏轉角度，H1'為前述第一檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離，H1為前述第一檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離，H3'為前述第三檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離，H3為前述第三檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離，L2為前述第一檢測點與第三檢測點沿前述第三方向的距離。
  10. 一種光罩姿態監測裝置，其特徵係，其包含：
    至少一個距離感測器，設置於待測光罩的上方，設置為獲取至少一個標定點至標準面沿第一方向的距離，以及，分別獲取前述至少一個標定點至待測光罩上第一檢測點沿前述第一方向的距離、前述至少一個標定點至待測光罩上第二檢測點沿前述第一方向的距離，及前述至少一個標定點至待測光罩上第三檢測點沿前述第一方向的距離，其中，前述第一方向、第二方向及第三方向互相垂直，前述標準面垂直於前述第一方向，前述第一檢測點與前述第二檢測點在前述標準面內的投影沿前述第二方向排布，前述第一檢測點與前述第三檢測點在前述標準面內的投影沿前述第三方向排布；
    移動機構，設置為帶動前述待測光罩在沿前述第二方向及前述第三方向中的至少一個方向移動；
    控制計算單元，設置為根據前述第一檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離、前述第一檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離、前述第二檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離、前述第二檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離，以及第一檢測點與前述第二檢測點沿前述第二方向的距離，計算前述待測光罩相對於前述標準面繞前述第三方向的偏轉角度；以及，
    根據前述第一檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離、前述第一檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離、前述第三檢測點至對應的標定點沿前述第一方向的距離、前述第三檢測點對應的標定點至前述標準面沿前述第一方向的距離，以及第一檢測點與前述第三檢測點沿前述第三方向的距離，計算前述待測光罩相對於前述標準面繞 前述第二方向的偏轉角度。
  11. 如申請專利範圍第10項所記載之光罩姿態監測裝置，其中，前述光罩姿態檢測裝置包含兩個距離感測器，前述兩個距離感測器沿前述第二方向排布。
  12. 如申請專利範圍第10項所記載之光罩姿態監測裝置，其中，前述光罩姿態檢測裝置包含兩個距離感測器，前述兩個距離感測器沿前述第三方向排布。
  13. 如申請專利範圍第11或12項所記載之光罩姿態監測裝置，其中，前述兩個距離感測器位於前述待測光罩的同側或異側。
  14. 一種光罩顆粒度檢測設備，其特徵係，包含如申請專利範圍第10至13項中任一項所記載之光罩姿態監測裝置。
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