CN206282833U - 一种掩膜板对位系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例公开了一种掩膜板对位系统。该掩膜板对位系统包括：待对位掩膜板，待对位掩膜板包括分离的多张子掩膜板；对位参考板，与待对位掩膜板相对设置，其中，对位参考板上包括根据待蒸镀基板的待蒸镀区域设定的多个第一对位标记，子掩膜板包括与第一对位标记对应设置的第二对位标记；对位传感器，用于监测任一第二对位标记与对应的第一对位标记的相对位置关系，并将相对位置关系数据反馈至控制设备；控制设备，连接于对位传感器，用于移动所述对位传感器，根据相对位置关系数据，调整任一第二对位标记所在的子掩膜板的位置，以使待对位掩膜板的蒸镀图案与待蒸镀区域对应。本实用新型实施例实现了对掩膜板本身的高精度对位。

Description

一种掩膜板对位系统

技术领域

本实用新型实施例涉及掩膜板领域，尤其涉及一种掩膜板对位系统。

背景技术

在有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)技术中，真空蒸镀用的掩膜板技术是一项至关重要的技术，掩膜板的质量直接影响着生产制造成本和产品质量。OLED蒸镀用的掩膜板中精密金属掩模板(Fine Metal Mask，FMM)是最关键的掩膜板，FMM用于蒸镀发光层材料，因此FMM质量的好坏直接关系到屏幕的显示效果。

目前，OLED蒸镀用的掩膜板一般由多条子掩膜板张网而成。在对每条子掩膜板进行引张时，可能会由于张力不到位、子掩膜板自身重力影响或子掩膜板稍微倾斜等因素，导致部分蒸镀图案位置出现偏差，掩膜板自对位不准确，造成对OLED进行蒸镀时，掩膜板上的部分蒸镀图案无法与OLED上的待蒸镀区域精准对位，降低了产品良率，增加了生产制造成本。

实用新型内容

本实用新型提供一种掩膜板对位系统，以实现对掩膜板本身的高精度对位，提高产品良率，减小生产制造成本。

本实用新型实施例提供了一种掩膜板对位系统，包括：

待对位掩膜板，所述待对位掩膜板包括分离的多张子掩膜板；

对位参考板，与所述待对位掩膜板相对设置，其中，所述对位参考板上包括根据待蒸镀基板的待蒸镀区域设定的多个第一对位标记，所述子掩膜板包括与所述第一对位标记对应设置的第二对位标记；

对位传感器，用于监测任一第二对位标记与对应的第一对位标记的相对位置关系，并将相对位置关系数据反馈至控制设备；

控制设备，连接于所述对位传感器，用于移动所述对位传感器，根据所述相对位置关系数据，调整所述任一第二对位标记所在的子掩膜板的位置，以使待对位掩膜板的蒸镀图案与所述待蒸镀区域对应。

本实用新型实施例根据待蒸镀基板的待蒸镀区域在对位参考板上设定多个第一对位标记，并在各子掩膜板上设置与第一对位标记对应的第二对位标记；在对各子掩膜板进行引张时，通过对位传感器实时监测任一第二对位标记与对应的第一对位标记的相对位置关系，控制设备根据相对位置关系调整子掩膜板的位置，直至各第二对位标记与对应的第一对位标记相对，完成整张掩膜板(待对位掩膜板)本身的对位，以使待对位掩膜板的蒸镀图案与待蒸镀基板的待蒸镀区域完全对位。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的一种掩膜板对位系统的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的待对位掩膜板的平面结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的另一种掩膜板对位系统的结构示意图；

图4为本实用新型实施例提供的另一种待对位掩膜板的平面结构示意图；

图5为本实用新型实施例提供的另一种掩膜板对位系统的结构示意图；

图6为本实用新型实施例提供的另一种待对位掩膜板的平面结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。

图1为本实用新型实施例提供的一种掩膜板对位系统的结构示意图。如图1所示，该掩膜板对位系统包括待对位掩膜板1、对位参考板2、对位传感器3和控制设备4。

其中，待对位掩膜板1包括分离的多张子掩膜板11；

对位参考板2与待对位掩膜板1相对设置，其中，对位参考板2上包括根据待蒸镀基板的待蒸镀区域设定的多个第一对位标记211，子掩膜板11包括与第一对位标记211对应设置的第二对位标记111；

对位传感器3用于监测任一第二对位标记111与对应的第一对位标记211的相对位置关系，并将相对位置关系数据反馈至控制设备4；

控制设备4连接于对位传感器，用于移动所述对位传感器，根据相对位置关系数据，调整任一第二对位标记111所在的子掩膜板11的位置，以使待对位掩膜板1的蒸镀图案与待蒸镀区域对应。

示例性的，本实施例的掩膜板对位系统适用于对OLED蒸镀用的掩膜板本身进行对位。可选的，上述对位参考板2可以为对位参考掩膜板，该对位参考掩膜板可以是制备液晶显示面板时使用的掩膜板，且掩膜板的开口图案的位置与本实用新型待蒸镀基板的待蒸镀区域的位置相同；另外，上述对位参考板2也可以为对位参考基板，该对位参考基板可以为本实用新型OLED阵列基板前段制程中的玻璃基板，该玻璃基板上具有待蒸镀区域和多个第一对位标记211。需要说明的是，上述对位参考板2可通过夹具夹持固定。

本实施例中，每张子掩膜板11对应待蒸镀区域或对位参考板2中的一片区域，各子掩膜板11上标有与对位参考板2对应区域中的第一对位标记211相对应的第二对位标记111，在子掩膜板11与对位参考板2完全对位时，各第一对位标记211与对应的第二对位标记111在子掩膜板11上的正投影重合。

可选的，上述对位传感器3包括光学镜头，用于采集待对位掩膜板1和对位参考板2的对位图像，该光学镜头可以为CCD摄像头。对位传感器3实时采集对位图像并将对位图像数据反馈给控制设备4，控制设备4可控制对位传感器3精密移动，并根据对位图像数据，调整任一第二对位标记111所在的子掩膜板的位置，以此逐一调整各子掩膜板11的位置，直至所有子掩膜板11上的所有第二对位标记111与对应的第一对位标记211相对应，完成待对位掩膜板1本身的对位。

如图1所示，本实施例的掩膜板对位系统还包括支撑体5，用于支撑待对位掩膜板1。结合图1和图2，该支撑体5上设置有沿第一方向延伸沿第二方向排布的多个定位柱51，用于拉伸子掩膜板11，其中，第一方向与第二方向垂直；子掩膜板11沿第一方向延伸沿第二方向设置于定位柱51上。其中，定位柱51受到张力拉伸变形，设置在定位柱51上的子掩膜板11随着定位柱51的拉伸而拉伸，以此，通过拉伸定位柱51可对子掩膜板11的位置进行微调。另外，定位柱51可位于相邻子掩膜板11之间的区域，以避免遮挡蒸镀图案。

图3为本实用新型实施例提供的另一种掩膜板对位系统的结构示意图。基于图1对应的实施例，本实施例的支撑体5上还设置有沿第二方向延伸沿第一方向排布的多个支撑柱52。

参考图3和图4，可选的，支撑柱52支撑于子掩膜板11的中部区域。由于子掩膜板11的长边相对短边较长，且厚度很薄，子掩膜板11受自身重力作用，其中部区域容易发生凹陷，导致子掩膜板11上蒸镀图案的位置出现偏差。因此，在子掩膜板11的中部区域设置支撑柱52，可防止子掩膜板11的中部区域发生凹陷，进一步提高了对待对位掩膜板本身进行对位的精确度。

图5为本实用新型实施例提供的另一种掩膜板对位系统的结构示意图。基于图3对应的实施例，本实施例的子掩膜板11还包括多个可熔融定位点112，可熔融定位点112的垂直投影位于51定位柱和支撑柱52上；且掩膜板对位系统还包括熔融设备6，熔融设备6连接于控制设备4，用于在多张子掩膜板11完成对位后，熔融可熔融定位点112，以将子掩膜板11固定于支撑体5上。

参考图5和图6，可选的，熔融设备6为激光器，上述支撑体5、支撑架52和可熔融定位点112可以为金属材料，通过激光熔融将各子掩膜板11焊接在支撑体5上，完成整张待对位掩膜板的制作。本实施例中，控制设备4可控制熔融设备移动到设定可熔融定位点112，由此可进一步检测子掩膜板11是否对位准确，在确定对位准确后，通过熔融可熔融定位点112将子掩膜板11焊接在支撑体5上，以固定子掩膜板11，防止在后续工艺中子掩膜板11移动。

具体的，上述实施例中的待蒸镀区域包括多个子像素单元，待对位掩膜板用于蒸镀子像素单元中的发光层材料，本实用新型中的待对位掩膜板为精密金属掩膜板。上述第一对位标记可以包括待蒸镀区域的边缘位置标记和任一子像素单元的位置标记。示例性的，待蒸镀区域的边缘位置标记可以为十字形标记，任一子像素单元的位置标记可以为子像素单元对应位置处的符号标记，也可以为子像素单元对应的蒸镀图案。

可选的，本实用新型中的控制设备可包括控制主机和张网机，控制主机通过线路分别连接于对位传感器和张网机；

张网机可包括移动机构和张网机构，移动机构连接对位传感器，用于移动对位传感器，张网机的张网机构连接定位柱的两端，用于拉伸定位柱；

控制主机用于根据相对位置关系数据，向张网机发送位置调整指令；

张网机用于根据位置调整指令，调整任一第二对位标记所在的子掩膜板的位置。

本实用新型实施例根据待蒸镀基板的待蒸镀区域在对位参考板上设定多个第一对位标记，并在各子掩膜板上设置与第一对位标记对应的第二对位标记；在对各子掩膜板进行引张时，通过对位传感器实时监测任一第二对位标记与对应的第一对位标记的相对位置关系，控制设备根据相对位置关系调整子掩膜板的位置，直至各第二对位标记与对应的第一对位标记相对，完成整张掩膜板本身的对位，以使待对位掩膜板的蒸镀图案与待蒸镀基板的待蒸镀区域完全对位。

注意，上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (11)

1.一种掩膜板对位系统，其特征在于，包括：

待对位掩膜板，所述待对位掩膜板包括分离的多张子掩膜板；

对位参考板，与所述待对位掩膜板相对设置，其中，所述对位参考板上包括根据待蒸镀基板的待蒸镀区域设定的多个第一对位标记，所述子掩膜板包括与所述第一对位标记对应设置的第二对位标记；

对位传感器，用于监测任一第二对位标记与对应的第一对位标记的相对位置关系，并将相对位置关系数据反馈至控制设备；

控制设备，连接于所述对位传感器，用于移动所述对位传感器，根据所述相对位置关系数据，调整所述任一第二对位标记所在的子掩膜板的位置，以使待对位掩膜板的蒸镀图案与所述待蒸镀区域对应。

2.根据权利要求1所述的掩膜板对位系统，其特征在于，还包括支撑体，用于支撑所述待对位掩膜板。

3.根据权利要求2所述的掩膜板对位系统，其特征在于，所述支撑体上设置有沿第一方向延伸沿第二方向排布的多个定位柱，用于拉伸所述子掩膜板，所述第一方向与所述第二方向垂直；

所述子掩膜板沿第一方向延伸沿第二方向设置于所述定位柱上。

4.根据权利要求3所述的掩膜板对位系统，其特征在于，所述支撑体上还设置有沿第二方向延伸沿第一方向排布的多个支撑柱。

5.根据权利要求3所述的掩膜板对位系统，其特征在于，所述子掩膜板还包括多个可熔融定位点，所述可熔融定位点的垂直投影位于所述定位柱和所述支撑柱上；

所述掩膜板对位系统还包括熔融设备，所述熔融设备连接于所述控制设备，用于在所述多张子掩膜板完成对位后，熔融所述可熔融定位点，以将所述子掩膜板固定于所述支撑体上。

6.根据权利要求1所述的掩膜板对位系统，其特征在于，待蒸镀区域包括多个子像素单元。

7.根据权利要求6所述的掩膜板对位系统，其特征在于，所述第一对位标记包括所述待蒸镀区域的边缘位置标记和任一子像素单元的位置标记。

8.根据权利要求1所述的掩膜板对位系统，其特征在于，所述对位参考板为对位参考掩膜板。

9.根据权利要求1所述的掩膜板对位系统，其特征在于，所述对位参考板为对位参考基板。

10.根据权利要求3所述的掩膜板对位系统，其特征在于，所述控制设备包括控制主机和张网机，所述控制主机通过线路分别连接于所述对位传感器和所述张网机；

所述张网机包括移动机构和张网机构，所述移动机构连接所述对位传感器，用于移动所述对位传感器，所述张网机的张网机构连接所述定位柱的两端，用于拉伸所述定位柱；

所述控制主机用于根据所述相对位置关系数据，向所述张网机发送位置调整指令；

所述张网机用于根据所述位置调整指令，调整所述任一第二对位标记所在的子掩膜板的位置。

11.根据权利要求1-10任一所述的掩膜板对位系统，其特征在于，所述待对位掩膜板为精密金属掩膜板。