TW202024200A - 偏光片、製備其的方法、偏光板以及照相機 - Google Patents

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Abstract

本申請案可提供一種對於可見光表現出低正交透射率且對於近紅外線表現出高正交透射率的偏光片以及一種包括所述偏光片的偏光板，其中此種偏光片或偏光板可用於使用可見光及近紅外線的各種裝置中。

Description

偏光片的製備方法
本申請案是有關於一種偏光片製備方法、一種偏光片、一種偏光板以及一種包括所述偏光片或所述偏光板的裝置。
本申請案主張基於2018年11月2日提出申請的韓國專利申請案第10-2018-0133681號的優先權權益，所述韓國專利申請案的揭露內容全文併入本案供參考。
強化實境（augmented reality，AR）裝置的照相機通常具有兩個感測部分。一者是辨識主體的影像的可見光感測器，且另一者是辨識與主體的距離的近紅外感測器（近紅外線（near infrared ray，NIR）感測器）。
液晶胞元用於調節進入在感測器地點中辨識影像的感測器的可見光的量，其中液晶胞元調節入射可見光的量，同時充當兩個交叉偏光板之間的快門。
NIR投影儀及NIR感測器用於感測以辨識與影像的距離，其中自NIR投影儀輻照的近紅外線（NIR）自主體反射，且所反射的近紅外線被感測器辨識以感測與主體的距離。
在強化實境裝置的照相機中，NIR感測器與可見光感測器被單獨地配置，乃因應用於可見光感測器的偏光板對於近紅外線的透射率（transmittance）低。
技術問題
本申請案提供一種偏光片製備方法、一種偏光片、一種偏光板以及一種包括所述偏光片或所述偏光板的裝置。
本申請案的目的是提供一種對於可見光表現出低正交透射率且對於近紅外線表現出高正交透射率的偏光片以及一種包括所述偏光片的偏光板。此種偏光片或偏光板可應用於使用近紅外線及可見光的各種裝置，且在一個實例中，此種偏光片或偏光板可用於藉由將可見光感測器部分及近紅外感測器部分整合於強化實境裝置的照相機中來配置一種裝置。技術解決方案
本申請案是有關於一種偏光片製備方法。在本說明書中，用語偏光片及偏光板具有不同的含義。用語偏光片意指例如展現出偏光功能的功能元件本身，例如聚(乙烯醇)（poly(vinyl alcohol)，PVA）系膜，且偏光板意指與偏光片一起包括其他組件的元件。與偏光片一起包括的其他組件可由偏光片保護膜、光學延遲膜、黏合層、壓敏黏合層、低反射層或減反射（anti-reflection，AR）層等例示，但不限於此。
本申請案的偏光片可為例如吸收性線性偏光片，其可為所謂的聚(乙烯醇)（PVA）系偏光片。即，偏光片可為包含吸附定向式各向異性吸收劑材料的PVA系膜。此處，各向異性吸收劑材料可由例如碘等二向色染料來例示。在本說明書中，此種偏光片可被稱為PVA系偏光片。
通常，PVA系偏光片藉由將PVA系膜應用於染色及拉伸製程來製備，且若需要，則亦可進一步執行溶脹、交聯、洗滌及/或乾燥製程作為附加製程。
因此，本申請案的偏光片製備方法可至少包括染色及拉伸製程。
染色製程可藉由將PVA系膜浸漬於包含例如碘化鉀或碘等各向異性吸收劑材料的染色浴中來執行。
作為在本申請案中應用的PVA系膜，可使用傳統上用於偏光片的PVA系膜。此種PVA系膜的材料可包括PVA或其衍生物。PVA的衍生物可包括聚乙烯縮甲醛（polyvinyl formal）或聚乙烯縮醛等，且此外，可包括藉由例如乙烯或丙烯等烯烴、例如丙烯酸、甲基丙烯酸或丁烯酸等不飽和羧酸以及烷基酯或其丙烯醯胺等改性的材料。PVA的聚合度（degree of polymerization）通常為100至10000左右，或1000至10000左右，且皂化度（degree of saponification）為80莫耳%（mol%）至100莫耳%左右，但不限於此。PVA系膜亦可藉由例如乙烯乙酸乙烯酯共聚物系列的部分皂化膜等親水聚合物膜、例如PVA的脫水產物或聚氯乙烯的脫氫氯酸處理產物（dehydrochloric acid-treated product）等多烯系配向膜等來例示。
在PVA系膜中，可包括例如塑化劑或表面活性劑等添加劑。此處，塑化劑可藉由多元醇或其縮合物等來例示，且例如，可藉由甘油、二甘油、三甘油、乙二醇、丙二醇或聚乙二醇等來例示。當使用此種塑化劑時，比率並無特別限制，在PVA系膜中，比率通常可為約20重量%（wt%）或小於20重量%。
PVA系膜的厚度並無特別限制，其可在可滿足下述每一光學特性的範圍內適當選擇。
染色製程可藉由在含有各向異性吸收劑材料的染色浴中處理PVA系膜來執行。
適用於本申請案的各向異性吸收劑材料的種類並無特別限制。在本申請案中，在已知的各向異性吸收劑材料中，可適當選擇可滿足所期望光學性質的材料。作為各向異性吸收劑材料的實例，可以碘來例示。
當應用碘時，可藉由將PVA系膜浸漬於染色溶液中來執行染色，所述染色溶液是含有碘作為各向異性吸收劑材料的溶液。作為是染色溶液的碘溶液，舉例而言，可使用藉由作為助溶劑的碘化化合物而含有碘及碘離子的水溶液。此處，作為碘化化合物，例如，可使用碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫或碘化鈦等。
在本申請案的製備方法的一個態樣中，可藉由控制染色溶液中的碘濃度以執行染色來生產具有所期望特性的偏光片。在一個實例中，染色溶液中的碘濃度可為500 ppm（百萬分率（parts per million））或小於500 ppm。在另一實例中，濃度可為約480 ppm或小於480 ppm、460 ppm或小於460 ppm、440 ppm或小於440 ppm、420 ppm或小於420 ppm或者400 ppm或小於400 ppm，且可為約10 ppm或大於10 ppm、20 ppm或大於20 ppm、30 ppm或大於30 ppm、40 ppm或大於40 ppm、50 ppm或大於50 ppm、60 ppm或大於60 ppm、70 ppm或大於70 ppm、80 ppm或大於80 ppm、90 ppm或大於90 ppm、100 ppm或大於100 ppm、150 ppm或大於150 ppm、200 ppm或大於200 ppm、250 ppm或大於250 ppm、300 ppm或大於300 ppm或者350 ppm或大於350 ppm。
本申請案中所提及的染色溶液的碘濃度是I2 組分的濃度。量測此種I2 組分的濃度的方法是眾所習知的，I2 組分的濃度可例如使用例如RD-310（倉敷紡（KURABO））等量測儀器來證實。
相對於以傳統方式執行的染色製程中的碘濃度，本申請案中所應用的碘濃度是低濃度，且藉由在此範圍內調節碘濃度，可同時達成例如對於可見光的低正交透射率及對於近紅外線的高正交透射率等所期望光學性質。
在染色製程中，碘溶液的溫度通常為20℃至50℃，或25℃至40℃左右，且浸漬時間通常為10秒至300秒或20秒至240秒左右，而不限於此。
在本申請案的製備方法中，執行拉伸製程。此種拉伸製程可在染色製程之後與染色製程分開執行，或者染色製程與拉伸形成可藉由在染色溶液中執行拉伸而同時執行。拉伸一般是藉由單軸拉伸（uniaxial stretching）執行，但亦可執行雙軸拉伸（biaxial stretching）製程。拉伸方法並無特別限制，其可藉由例如濕拉伸方法（wet stretching method）來應用。舉例而言，在此種濕拉伸方法中，拉伸一般是在染色之後執行，但拉伸可與交聯一起執行，且亦可多次執行或以多個階段執行。
應用於濕拉伸方法的處理液體可含有例如碘化鉀等碘化化合物。在拉伸中，處理溫度通常在25℃或高於25℃、30℃至85℃或50℃至70℃左右的範圍內，且處理時間通常為10秒至800秒或30秒至500秒，而不限於此。若需要，亦可根據處理液體的濃度來控制處理液體中的碘濃度。
在拉伸製程中，可慮及定向特性等來調節總牽拉比率，其中以PVA系膜的原始長度計，總牽拉比率可為3至10倍、4至8倍或5至7倍左右，但不限於此。此處，當拉伸甚至在除拉伸製程以外的溶脹製程等中伴隨進行時，總牽拉比率可意指包括每一製程中的拉伸的累積牽拉比率。可慮及定向、偏光片的可加工性或拉伸切割可能性等而將此種總牽拉比率調節至適當範圍。
在偏光片的製備製程中，除染色及拉伸以外，亦可在執行所述製程之前執行溶脹製程。藉由溶脹，可洗滌PVA系膜的表面上的污染物或抗結塊劑，由此亦存在能夠降低例如染色偏差等不均勻性的效果。
在溶脹製程中，可使用水、蒸餾水或純水等。相關處理液體的主要組分是水，且若需要，可少量含有例如碘化鉀等碘化化合物或例如表面活性劑等添加劑或者醇等。
在溶脹製程中，處理溫度通常為20℃至45℃或20℃至40℃左右，但不限於此。由於溶脹偏差可能導致染色偏差，因此可調節製程參數，以使得盡可能多地抑制此種溶脹偏差的發生。
若需要，亦可在溶脹製程中執行恰當拉伸。以PVA系膜的原始長度計，牽拉比率可為6.5倍或更小6.5倍、1.2至6.5倍、2至4倍或2至3倍左右。在溶脹製程中，拉伸可被控制成在溶脹製程之後執行的拉伸製程中進行少量拉伸，且可被控制成使得膜不會發生拉伸斷裂。
在偏光片的製備製程中，可進一步執行交聯製程。交聯製程可使用例如硼化合物等交聯劑來執行。此種交聯製程的次序並無特別限制，其中此種交聯製程可例如與染色及/或拉伸製程一起執行，或者可在所述製程之前或之後單獨地進行。交聯製程亦可多次執行。作為硼化合物，可使用硼酸或硼砂。硼化合物可一般以水溶液或水與有機溶劑的混合溶液的形式使用，且通常使用硼酸水溶液。硼酸水溶液中的硼酸濃度可慮及交聯度且因此慮及硼酸水溶液的耐熱性等選擇在適當範圍內。硼酸水溶液等亦可含有例如碘化鉀等碘化化合物。
交聯製程可藉由將PVA系膜浸漬於硼酸水溶液等中來執行，其中在此種製程中，處理溫度通常在25℃或高於25℃、30℃至85℃或30℃至60℃的範圍內，且處理時間通常為5秒至800秒或8秒至500秒左右，而不限於此。
作為偏光片製備製程中的附加可選製程，可執行金屬離子處理。此種處理是例如藉由將PVA系膜浸漬於含有金屬鹽的水溶液中來執行。藉由此種方式，偏光片中可含有金屬離子，其中亦可藉由在此種製程中調節金屬離子的類型或比率來調節PVA系偏光片的色調。適用的金屬離子可藉由例如鈷、鎳、鋅、鉻、鋁、銅、錳或鐵等過渡金屬的金屬離子來例示，且亦可藉由選擇金屬離子的適當種類來調節色調。
在偏光片的製備製程中，可在染色及拉伸之後執行洗滌製程。此種洗滌製程可藉由例如碘化鉀等碘化合物的溶液來執行，且可使用水來執行。當使用碘化合物的溶液執行洗滌製程時，亦可根據需要執行對碘濃度的控制。
利用水的洗滌與利用碘化合物溶液的洗滌亦可加以組合，且亦可使用配製例如甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇或丙醇等液體醇的溶液。
在偏光片的製備製程中，亦可執行乾燥製程。乾燥製程可例如慮及偏光片所需的水分百分率（moisture percentage）等而在適當溫度下執行適合的時間，且此種條件並無特別限制。
在本申請案的偏光片的製備製程中，可執行熱處理製程作為附加製程。本發明者已證實，藉由執行適當的熱處理製程來達成所期望光學性質（對於近紅外線為高正交透射率且對於可見光為低正交透射率）是有利的。執行熱處理製程的時間點並無特別限制，但熱處理製程可在偏光片的拉伸製程之後執行。舉例而言，熱處理可在拉伸製程之後在偏光片的乾燥步驟中執行，或者熱處理製程亦可在拉伸之後將保護膜等貼合至偏光片之後在層壓體（laminate）上執行。
熱處理製程中的熱處理溫度可為約90℃或大於90℃、約95℃或大於95℃或者約100℃或大於100℃。藉由處於此範圍內的熱處理，可生產具有所期望特性的偏光片。熱處理溫度的上限並無特別限制，但是例如，熱處理溫度可為約200℃或小於200℃、180℃或小於180℃、160℃或小於160℃、140℃或小於140℃或者120℃或小於120℃左右。
熱處理時間可為例如約20秒或大於20秒。在另一實例中，熱處理時間可為約30秒或大於30秒、40秒或大於40秒、50秒或大於50秒、60秒或大於60秒、70秒或大於70秒、80秒或大於80秒、90秒或大於90秒、100秒或大於100秒、110秒或大於110秒、120秒或大於120秒、130秒或大於130秒、140秒或大於140秒或者150秒或大於150秒。熱處理可為例如約1,000秒或小於1,000秒、900秒或小於900秒、800秒或小於800秒、700秒或小於700秒、600秒或小於600秒、500秒或小於500秒、400秒或小於400秒或者約300秒或小於300秒左右。藉由執行此種熱處理製程，可更有效地生產具有所期望光學性質的偏光片。
在本申請案的偏光片的製備製程中，亦可執行引入構成偏光板的任何配置的製程作為附加製程。嚴格而言，執行此種附加製程的方法可為偏光板製備方法，但為方便起見，被稱為偏光片製備方法。
在一個實例中，所述製備方法可進一步執行在偏光片的一個側上形成近紅外減反射層的製程。
藉由進一步形成近紅外減反射層，可更有效地達成所期望光學性質（低可見光正交透射率及高近紅外正交透射率）。
形成此種近紅外減反射層的方法是眾所習知的，且可使用例如選自由Ta2 O5 、SiO2 、ZrO2 、TiO2 、Y2 O3 及Al2 O3 組成的群組的一或多種材料來形成近紅外減反射層。舉例而言，可藉由層壓由選自所述材料的任何材料製成的二或更多層來形成近紅外減反射層，且若需要，亦可應用其他已知的近紅外減反射層。
減反射層亦可直接形成於偏光片上，但通常形成於在偏光片的一或兩個側上形成的保護膜上。
因此，在所述製備方法中，可進一步執行在PVA系膜的至少一個側上形成保護膜的步驟，其中減反射層可形成於與保護膜的和PVA系膜接觸的表面相對的一側的表面上。
減反射層亦可預先形成於保護膜的表面上，且在保護膜貼合至偏光片的一個側之後，減反射層亦可形成於保護膜上。
作為可包括於偏光板中的保護膜，可使用由已知材料形成的膜。作為此種材料，例如，可使用具有優異透明度、機械強度、熱穩定性、水分隔離性質（moisture barrier property）或各向同性等的熱塑性樹脂。此種樹脂的實例可藉由以下材料來例示：例如三乙醯纖維素（triacetyl cellulose，TAC）等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、例如降冰片烯樹脂等環狀聚烯烴樹脂、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂或前述者的混合物等。舉例而言，保護膜可存在於偏光片的一個側或兩個側上，且當其存在於兩個側上時，相應的保護膜可相同或不同。此外，除呈膜形式的保護膜以外，亦可應用藉由固化例如(甲基)丙烯酸系列、胺基甲酸酯系列、丙烯酸胺基甲酸酯系列、環氧樹脂系列或矽酮系列等熱固性或可光固化樹脂而獲得的固化樹脂層作為保護膜。
可慮及例如強度等可加工性或者可處置性（handleability）、減薄（thinning）等適當地調節保護膜的厚度，保護膜的厚度可通常在1至500微米（μm）、1至300微米、5至200微米或5至150微米的範圍內調節。
上述保護膜可藉由黏合劑等貼合至偏光片，其中此種保護膜等可經曆例如電暈處理（corona treatment）、電漿處理（plasma treatment）、底漆處理（primer treatment）或皂化處理（saponification treatment）等簡易黏合處理。
用於偏光片與保護膜等之間的黏合的黏合劑可藉由異氰酸酯系黏合劑、聚乙烯醇系黏合劑、明膠系黏合劑、乙烯乳膠（vinylic latex）系列或水系聚酯等來例示，但不限於此。作為黏合劑，通常可使用水系黏合劑，但亦可根據欲貼合的膜的類型而使用無溶劑型可光固化黏合劑。
在偏光片或偏光板的製備製程中，亦可執行應用構成偏光板的除保護膜或減反射層以外的各種配置的製程。此種配置可藉由延遲膜、反射板、硬塗層、壓敏黏合層或半透射板（semi-transmissive plate）等來例示，但不限於此，且應用所述配置的方法亦遵循已知的方法。
本申請案亦有關於一種偏光片。本申請案的偏光片可為前述PVA系偏光片。
因此，偏光片可為包含吸附定向式各向異性吸收劑材料的PVA系膜。此處，各向異性吸收劑材料可藉由例如碘等二向色染料來例示。
偏光片是吸收性線性偏光片，其可包括在至少一個面內方向上形成的光吸收軸及近似垂直於光吸收軸形成的光透射軸。
偏光片可藉由如上所述的本申請案的方法製備。
偏光片對於可見光區域中的光具有約1%或小於1%、約0.9%或小於0.9%、約0.8%或小於0.8%、約0.7%或小於0.7%、約0.6%或小於0.6%、約0.5%或小於0.5%、約0.4%或小於0.4%、約0.3%或小於0.3%、約0.2%或小於0.2%、約0.1%或小於0.1%、約0.09%或小於0.09%、約0.08%或小於0.08%、約0.07%或小於0.07%、約0.06%或小於0.06%、約0.05%或小於0.05%、約0.04%或小於0.04%、約0.03%或小於0.03%、約0.02%或小於0.02%、約0.01%或小於0.01%、約0.009%或小於0.009%、約0.006%或小於0.006%、約0.005%或小於0.005%、約0.004%或小於0.004%、約0.001%或小於0.001%或者約0.0009%或小於0.0009%的正交透射率（Tc）。透射率（Tc）可為約0.0001%或大於0.0001%。
在本說明書中，正交透射率（Tc）可意指透射率（Tc），其示出當在兩個偏光片疊置的狀態下、在有角度地掃描疊置狀態以使每一偏光片的光吸收軸形成0至360度範圍內的角度的同時量測透射率時透射率的最小值。此處，在欲疊置的兩個偏光片中，至少一個偏光片可為根據本申請案的偏光片，且另一偏光片可為根據本申請案的偏光片或例如設置於量測設備中的偏光片等另一種偏光片。
此外，本說明書中所提及的對於可見光的透射率可為對於具有處於近似380奈米至780奈米範圍內的任何波長的光的透射率、所述波長範圍內的透射率中的最小或最大透射率或者所述波長範圍內的平均透射率，或者可為對於波長為約550奈米的光的透射率。
偏光片可對於近紅外區域的光展現出高正交透射率（Tc）。此處，正交透射率（Tc）的含義如上所述，且僅量測參考光是近紅外線。在一個實例中，偏光片可對於波長為近似850奈米的光具有約70%或大於70%、約71%或大於71%、約72%或大於72%、約73%或大於73%、約74%或大於74%或者約75%或大於75%的正交透射率（Tc）。正交透射率（Tc）可為約99%或小於99%、95%或小於95%或者約90%或小於90%左右。
偏光片亦可對於波長為近似860奈米的光具有約70%或大於70%、約71%或大於71%、約72%或大於72%、約73%或大於73%、約74%或大於74%或者約75%或大於75%的正交透射率（Tc）。正交透射率（Tc）可為約99%或小於99%、95%或小於95%或者約90%或小於90%左右。
偏光片亦可滿足偏光片所需的其他功能，同時展現出上述光學特性。
舉例而言，偏光片可具有單一透射率（Ts），即對於非偏光（unpolarized light）的透射率（Ts）為約35%或大於35%或者約40%或大於40%。單一透射率（Ts）可為約60%或小於60%、約55%或小於55%、約50%或小於50%或者約45%或小於45%。單一透射率（Ts）可為例如相對於一個偏光片量測的透射率。
此外，偏光片可具有約99.9%或大於99.9%或者約99.99%或大於99.99%的偏光度。在本申請案中，偏光度是根據以下方程式1計算的數值。
[方程式1]
偏光度（P）（%）= {(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2 ×100
在方程式1中，Tp是偏光片對於平行於偏光片的光吸收軸而線性偏光的光的透射率，且Tc是正交透射率。
在另一實例中，方程式1中的透射率（Tp）可為當在兩個偏光片疊置的狀態下、在有角度地掃描疊置狀態以使每一偏光片的光吸收軸形成0至360度範圍內的角度的同時量測透射率時顯示最大值時的透射率，且透射率（Tc）可為如上所述在有角度地掃描時顯示最小透射率時的透射率。
上述單一透射率及偏光度是對於可見光而言的物理量，且因此可為對於具有處於近似380奈米至780奈米範圍內的任何波長的光而言的物理量、所述波長範圍內的最小或最大物理量、所述波長範圍內的平均值，或者對於波長為約550奈米的光而言的數值。
本申請案亦有關於一種偏光板，其中所述偏光板可包括至少所述偏光片。
可包括於本申請案的偏光板中的其他組件可藉由偏光片保護膜、壓敏黏合層、黏合層、延遲膜或低反射層等來例示。若需要，可藉由調節其他組件來調節整個偏光板的性質，藉此提高在本申請案中使用的相容性。
舉例而言，如上所述，藉由在偏光板（即偏光片的至少一個側處）包括上述近紅外減反射層，可更有效地達成所期望光學性質。如所提及，減反射層可直接形成於偏光片的一個側上，或者可形成於在偏光片的一個側上形成的保護膜的外部等。
本申請案亦有關於一種包括所述偏光片或所述偏光板的裝置。本申請案的偏光片或偏光板可應用於的裝置的類型並無特別限制，且本申請案的偏光片或偏光板可應用於使用可見光及近紅外線的各種裝置。
本申請案的偏光片或偏光板可應用於的一種應用包括強化實境裝置或強化實境裝置的照相機。
如上所述，在強化實境裝置或照相機中，可見光感測部分與近紅外線感測部分是單獨地形成，乃因應用於作為光量控制單元應用於可見光感測部分的液晶胞元的偏光板對於近紅外線的透射率低。
然而，由於本申請案的偏光片及偏光板在可見光區域中表現出低正交透射率，且在近紅外區域中表現出高正交透射率，因此可實施其中整合有可見光感測部分及近紅外線感測部分的結構，由此可提供緊湊且重量輕並且具有高內部空間利用率的照相機及裝置。
除應用本申請案的偏光片或偏光板以外，強化實境裝置或照相機可藉由已知的配置及方法來配置，而無任何特別限制，由此可整合可見光感測部分及近紅外線感測部分。
在一個實例中，強化實境裝置或照相機可包括感測器部分、光量控制部分及近紅外投影儀。
此處，所應用的感測器部分、光量控制部分及近紅外投影儀的類型並無特別限制，且可應用已知的配置。
舉例而言，感測器部分至少包括辨識主體的影像的可見光感測部分及/或辨識與主體的距離的近紅外感測部分，或者與辨識主體的影像的可見光感測部分及辨識與主體的距離的近紅外感測部分進行整合，所述感測器部分可為執行辨識主體的影像的可見光感測及辨識與主體的距離的近紅外感測的感測器部分。
光量控制部分可至少包括液晶胞元及設置於液晶胞元的兩個側上以使其光吸收軸彼此垂直的偏光板。
此時，偏光板中的兩者或至少一者可各自為包括本申請案的偏光片的偏光板，或者可為本申請案的偏光板。
在此種配置中，例如，當應用經整合的感測器部分作為所述感測器部分時，所述裝置可被配置成使得自近紅外投影儀發射的近紅外線自主體反射，且接著穿過光量控制部分以被感測器部分感測。有益效果
本申請案可提供一種對於可見光表現出低正交透射率且對於近紅外線表現出高正交透射率的偏光片以及一種包括所述偏光片的偏光板，其中此種偏光片或偏光板可用於使用可見光及近紅外線的各種裝置中。
在下文中，將藉由根據本申請案的實例等更詳細地闡述所述偏光片等，但本申請案的範圍不限於以下內容。
1. 物理性質的量測
在以下實例及比較例中，使用UV-3150儀器（島津（Shimadzu）），根據製造商手冊量測了正交透射率。在量測時，對於可見光的正交透射率的參考波長為約550奈米，且對於近紅外線的正交透射率的參考波長為850奈米或860奈米。
實例 1.
藉由對作為盤膜（disc film）的聚(乙烯醇)（PVA）膜執行以下溶脹、染色、交聯、拉伸及洗滌製程而生產了偏光片，PVA膜具有約2600左右的平均聚合度及約60微米左右的厚度。藉由使用純水作為處理液體在25℃下將PVA膜浸漬於溶脹浴中約1分鐘而執行了溶脹。隨後，藉由在約28℃下將PVA膜浸漬於碘及碘化鉀濃度經調節的染色溶液中約1分鐘而執行了染色製程。此處，染色溶液是藉由將碘（I2 ）及碘化鉀（KI）以約1:10（I2 :KI）的重量比率溶解於純水中而製備，且作為利用量測儀器（RD-310，倉敷紡）證實藉由以上製程所製備的染色溶液的碘（I2 ）濃度的結果，所述碘（I2 ）濃度為約400 ppm左右。在染色製程之後，執行了交聯製程。交聯製程是藉由將PVA膜浸漬於作為交聯浴處理溶液、含有比率為約1重量%的硼酸的水溶液中並在約38℃的溫度下將PVA膜拉伸約0.9倍而執行，且亦在作為拉伸浴處理液體、含有濃度為4重量%的硼酸的處理液體中執行了拉伸製程。拉伸製程是在約58℃的溫度下執行，其中牽拉比率為約2.7倍左右。隨後，利用水溶液對偏光片進行了洗滌以製備PVA系偏光片。隨後，將眾所習知的三乙醯纖維素（TAC）膜附著於偏光片的兩個側上，並量測了正交透射率。
實例 2.
在實例1的洗滌製程之後進一步對在實例1中製備的偏光片進行了熱處理以製備偏光片。在洗滌製程之後，在適當條件下對偏光片進行了乾燥，且接著利用黏合劑將已知的三乙醯纖維素（TAC）膜貼合至偏光片的兩個側，隨後進行了熱處理。熱處理是藉由將偏光片維持在約90℃的溫度下約1分鐘左右而執行。
實例 3.
在實例1的洗滌製程之後進一步對在實例1中製備的偏光片進行了熱處理以製備偏光片。在洗滌製程之後，在適當條件下對偏光片進行了乾燥，且接著利用黏合劑將已知的三乙醯纖維素（TAC）膜貼合至偏光片的兩個側，隨後進行了熱處理。熱處理是藉由將偏光片維持在約90℃的溫度下約90秒左右而執行。
實例 4.
在實例1的洗滌製程之後進一步對在實例1中製備的偏光片進行了熱處理以製備偏光片。在洗滌製程之後，在適當條件下對偏光片進行了乾燥，且接著利用黏合劑將已知的三乙醯纖維素（TAC）膜貼合至偏光片的兩個側，隨後進行了熱處理。熱處理是藉由將偏光片維持在約90℃的溫度下約120秒左右而執行。
實例 5.
在實例1的洗滌製程之後進一步對在實例1中製備的偏光片進行了熱處理以製備偏光片。在洗滌製程之後，在適當條件下對偏光片進行了乾燥，且接著利用黏合劑將已知的三乙醯纖維素（TAC）膜貼合至偏光片的兩個側，隨後進行了熱處理。熱處理是藉由將偏光片維持在約90℃的溫度下約150秒左右而執行。
實例 6.
在實例1的洗滌製程之後進一步對在實例1中製備的偏光片進行了熱處理以製備偏光片。在洗滌製程之後，在適當條件下對偏光片進行了乾燥，且接著利用黏合劑將已知的三乙醯纖維素（TAC）膜貼合至偏光片的兩個側，隨後進行了熱處理。熱處理是藉由將偏光片維持在約100℃的溫度下約30秒左右而執行。
實例 7.
在實例1的洗滌製程之後進一步對在實例1中製備的偏光片進行了熱處理以製備偏光片。在洗滌製程之後，在適當條件下對偏光片進行了乾燥，且接著利用黏合劑將已知的三乙醯纖維素（TAC）膜貼合至偏光片的兩個側，隨後進行了熱處理。熱處理是藉由將偏光片維持在約100℃的溫度下約45秒左右而執行。
實例 8.
在實例1的洗滌製程之後進一步對在實例1中製備的偏光片進行了熱處理以製備偏光片。在洗滌製程之後，在適當條件下對偏光片進行了乾燥，且接著利用黏合劑將已知的三乙醯纖維素（TAC）膜貼合至偏光片的兩個側，隨後進行了熱處理。熱處理是藉由將偏光片維持在約100℃的溫度下約60秒左右而執行。
比較例 1.
以與實例1中相同的方式製備了偏光片，但染色溶液中的碘濃度被維持在約600 ppm左右以製備偏光片。
在實例及比較例中製備的偏光片的正交透射率總結於下表1中。
[表1]
  可見光正交透射率（Tc） 對於850 nm波長的正交透射率（Tc） 對於860 nm波長的正交透射率（Tc）
實例1 1%或小於1% 70.65% 73.54%
實例2 1%或小於1% 74.14% 76.65%
實例3 1%或小於1% 75.84% 77.91%
實例4 1%或小於1% 76.13% 78.38%
實例5 1%或小於1% 77.42% 79.34%
實例6 1%或小於1% 74.05% 76.50%
實例7 1%或小於1% 76.12% 78.38%
實例8 1%或小於1% 76.54% 78.68%
比較例1 1%或小於1% 56.62% 62.72%
自上表1的結果可看出，根據本申請案，可生產一種具有高近紅外正交透射率及低可見光正交透射率的偏光片，且可藉由熱處理條件的改變等自由地控制透射率。
無
無

Claims (13)

  1. 一種偏光片製備方法，包括以下步驟： 在碘濃度為500 ppm或小於500 ppm的染色浴中對聚乙烯醇系膜進行染色；以及 對所述聚乙烯醇系膜進行拉伸。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的偏光片製備方法，其中所述染色浴中的所述碘濃度為400 ppm或小於400 ppm。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的偏光片製備方法，進一步執行對所述聚乙烯醇系膜進行熱處理的步驟。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的偏光片製備方法，其中所述熱處理是在90℃或高於90℃的溫度下執行。
  5. 如申請專利範圍第3項所述的偏光片製備方法，其中所述熱處理執行20秒或大於20秒。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的偏光片製備方法，進一步執行在所述聚乙烯醇系膜的至少一個側上形成紅外減反射層的步驟。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的偏光片製備方法，進一步執行在所述聚乙烯醇系膜的至少一個側上形成保護膜的步驟，其中所述紅外減反射層形成於與所述保護膜的和所述聚乙烯醇系膜接觸的表面相對的一側的表面上。
  8. 如申請專利範圍第6項所述的偏光片製備方法，其中所述紅外減反射層是使用選自由Ta2 O5 、SiO2 、ZrO2 、TiO2 、Y2 O3 及Al2 O3 組成的群組的一或多者形成。
  9. 一種偏光片，對於可見光區域中的光具有1%或小於1%的正交透射率（Tc），且對於波長為850奈米的光具有70%或大於70%的正交透射率（Tc）。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的偏光片，其中對於波長為860奈米的光的所述正交透射率（Tc）為70%或大於70%。
  11. 一種偏光板，包括如申請專利範圍第9項所述的偏光片及形成於所述偏光片的至少一個側上的紅外減反射層。
  12. 一種用於強化實境裝置的照相機，包括： 感測器部分，用於執行用於辨識主體的影像的可見光感測及用於辨識與主體的距離的近紅外感測； 光量控制部分，包括液晶胞元及偏光板，所述偏光板設置於所述液晶胞元的兩側上以使光吸收軸彼此垂直；以及 近紅外投影儀， 其中所述近紅外投影儀被配置成使得自所述近紅外投影儀發射的近紅外線自所述主體反射，且接著穿過所述光量控制部分以被所述感測器部分感測，且 所述偏光板包括如申請專利範圍第9項所述的偏光片。
  13. 一種用於強化實境裝置的照相機，包括： 感測器部分，用於執行用於辨識主體的影像的可見光感測及用於辨識與主體的距離的近紅外感測； 光量控制部分，包括液晶胞元及偏光板，所述偏光板設置於所述液晶胞元的兩側上以使光吸收軸彼此垂直；以及 近紅外投影儀， 其中所述近紅外投影儀被配置成使得自所述近紅外投影儀發射的近紅外線自所述主體反射，且接著穿過所述光量控制部分以被所述感測器部分感測，且 所述偏光板是如申請專利範圍第11項所述的偏光板。
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