TW202006473A - 基板處理裝置及基板處理方法 - Google Patents

Abstract

本發明係於基板處理裝置中，藉由處理單元依次處理複數個基板。於處理單元對基板之處理中，檢查單元以引導模式及檢查模式動作。於檢查單元處於引導模式之狀態下，引導資料獲得部獲得用以基於藉由拍攝由處理單元處理之複數個基板而獲得之複數個攝像資訊決定檢查條件之資料作為引導資料。製程產生裝置基於所獲得之引導資料產生檢查製程。於檢查單元處於檢查模式之狀態下，基於由處理單元處理之複數個基板之圖像資料及檢查製程進行基板之檢查。

Description

基板處理裝置及基板處理方法

本發明係關於一種進行基板之處理並且進行基板之檢查之基板處理裝置及基板處理方法。

於半導體元件、液晶顯示器等之製造步驟中，例如對半導體晶圓、玻璃基板等基板進行各種處理。又，為了檢測經各種處理之基板而使用檢查裝置。檢查裝置例如與對基板進行處理之複數個處理單元一同設置於基板處理裝置。於專利文獻1中記載之檢查裝置中，對形成有抗蝕劑膜之基板依次進行曝光處理及顯影處理後，進行基板之外觀檢查。具體而言，藉由攝像部拍攝檢查對象之基板之表面，藉此獲得表面圖像資料(以下稱為檢查圖像資料)。另一方面，預先準備外觀上無缺陷之樣品基板，獲得該樣品基板之表面圖像資料(以下稱為基準圖像資料)。基於檢查圖像資料之各像素之階調值與基準圖像資料之各像素之階調值之比較，檢測檢查對象之基板之缺陷。

[專利文獻1]日本專利特開2016-206452號公報

[發明所欲解決之問題]

於對基板之一連串處理中，若對例如於一處理中產生之不良基板進行後續之處理，則該後續之處理變得多餘。因此，於各處理步驟中，較理想為檢測該處理步驟中產生之不良基板之至少一部分。藉由自基板之生產線回收檢測所得之至少一部分不良基板，而減少對不良基板之多餘處理。

於上述檢查裝置中，必須對形成於成為檢查對象之基板之各晶粒圖案之每一種類準備樣品基板，獲得基準圖像資料。

於具備複數個處理單元並具備檢查裝置之基板處理裝置中，通常，複數個處理單元之處理及檢查裝置之檢查以一連串之流程進行。因此，若變更成為處理對象之基板之種類，則必須暫時停止該基板處理裝置中之基板之處理後，於檢查裝置中獲得新的基準圖像資料。於此情形時，基板之生產效率降低。

又，存在因樣品基板之個體差異而無法獲得適當之基準圖像資料之情形。於此情形時，檢查裝置所得之缺陷之檢測精度降低。因此，基準圖像資料較理想為例如於獲得多個樣品基板之表面圖像資料後，基於該等表面圖像資料而製作。然而，為了獲得多個樣品基板之表面圖像資料，必須使基板處理裝置中之基板之處理長時間停止。其結果，基板之生產效率進一步降低。

本發明之目的在於提供一種能夠不降低基板之生產效率而以高精度進行基板之檢查之基板處理裝置及基板處理方法。 [解決問題之技術手段]

(1)根據本發明之一態樣之基板處理裝置具備：處理單元，其依次處理複數個基板；檢查單元，其構成為能夠於處理單元對基板之處理中，以引導模式及檢查模式動作；切換裝置，其切換檢查單元之動作模式；及檢查製程產生裝置，其產生表示基板之檢查條件之檢查製程；檢查單元包括：引導資料獲得部，其於引導模式中，獲得用以基於藉由拍攝由處理單元處理之複數個基板而獲得之複數個攝像資訊決定檢查條件之資料作為引導資料；圖像資料獲得部，其於檢查模式中，藉由拍攝由處理單元處理之複數個基板而獲得複數個圖像資料；檢查部，其於檢查模式中，基於藉由圖像資料獲得部而獲得之各圖像資料及藉由檢查製程產生裝置而產生之檢查製程進行各基板之檢查；檢查製程產生裝置基於藉由引導資料獲得部而獲得之引導資料產生檢查製程。

於該基板處理裝置中，於處理單元對基板之處理中，檢查單元例如以引導模式動作。於引導模式中，拍攝由處理單元處理之複數個基板，且基於藉由拍攝而獲得之複數個攝像資訊獲得引導資料。基於所獲得之引導資料，產生檢查製程。

其後，檢查單元之動作模式由引導模式切換為檢查模式。於檢查模式中，拍攝由處理單元處理之複數個基板，獲得複數個圖像資料。基於所獲得之各圖像資料及產生之檢查製程進行各基板之檢查。

根據上述構成，於處理單元對基板之處理中，製作檢查製程。因此，無需為決定檢查條件而停止基板之處理。又，根據上述構成，檢查製程係基於複數個基板之複數個攝像資訊而產生。藉此，能夠與基於自1枚基板獲得之1個攝像資訊而產生之檢查製程相比，獲得適當之檢查製程。進而，根據上述構成，於檢查單元處於檢查模式時，能夠檢測處理單元中產生之不良基板。因此，藉由將檢測所得之不良基板回收，能夠減少對不良基板之多餘之處理。該等結果，可不降低基板之生產效率而以高精度進行基板之檢查。

(2)檢查製程產生裝置亦可包括：引導資料儲存部，其儲存藉由引導資料獲得部而獲得之引導資料；引導資料擷取部，其基於預先規定之擷取條件，擷取引導資料儲存部中儲存之引導資料中之至少一部分引導資料；代表資料產生部，其基於預先規定之代表產生條件，產生代表藉由引導資料擷取部擷取之引導資料之代表資料；及製程產生部，其基於產生之代表資料，產生檢查製程。

於此情形時，可基於擷取條件，將所儲存之引導資料中不適合產生檢查製程之引導資料排除。又，可基於代表產生條件，自擷取之引導資料中產生代表資料。因此，因可基於代表資料，獲得更適當之檢查製程，故可以更高之精度進行基板之檢查。

(3)檢查製程產生裝置更包括基於預先規定之儲存條件，開始對引導資料儲存部儲存引導資料後，判定是否應結束該儲存之結束判定部，製程產生部回應結束判定部進行之應結束儲存之判定，基於引導資料之儲存開始至結束之間所儲存之引導資料，產生檢查製程，切換裝置亦可回應結束判定部進行之應結束儲存之判定，將檢查單元之動作模式由引導模式切換為檢查模式。

於此情形時，基於儲存條件，於已儲存產生檢查製程所需之引導資料之時間點，基於所儲存之引導資料，產生檢查製程。又，檢查單元之動作模式由引導模式切換為檢查模式。藉此，於結束引導模式後，無需使用者之指令而開始基於產生之檢查製程之基板之檢查。

(4)檢查製程包括表示相對於由處理單元處理之複數個基板之圖像成為基準圖像之基準圖像資料，引導資料獲得部於引導模式中，基於複數個攝像資訊，獲得由處理單元處理之複數個基板之圖像資料作為引導資料，檢查製程產生裝置於引導模式中，基於藉由引導資料獲得部而獲得之引導資料產生基準圖像資料，檢查部於檢查模式中，亦可基於藉由圖像資料獲得部而獲得之各圖像資料及藉由檢查製程產生裝置而產生之基準圖像資料進行基板之檢查。

於此情形時，基於複數個基板之圖像資料產生適當之基準圖像資料。因此，於檢查模式中，以高精度進行基板之檢查。

(5)檢查製程包括表示用以對於由處理單元處理之複數個基板判定有無缺陷之判定條件之判定資訊，引導資料獲得部於引導模式中，獲得用以基於複數個攝像資訊決定判定條件之資料作為引導資料，檢查製程產生裝置於引導模式中，基於藉由引導資料獲得部而獲得之引導資料產生判定資訊，檢查部於檢查模式中，亦可基於藉由圖像資料獲得部而獲得之各圖像資料及藉由檢查製程產生裝置而產生之判定資訊判定基板上有無缺陷。

於此情形時，基於藉由拍攝複數個基板而獲得之複數個攝像資訊，產生適當之判定資訊。因此，於檢查模式中，以高精度判定基板上有無缺陷。

(6)檢查製程包括與圖像資料獲得部之複數個基板之攝像條件相關之設定資訊，引導資料獲得部於引導模式中，獲得用以基於複數個攝像資訊決定攝像條件之資料作為引導資料，檢查製程產生裝置於引導模式中，基於藉由引導資料獲得部而獲得之引導資料產生設定資訊，圖像資料獲得部於檢查模式中，亦可基於藉由檢查製程產生裝置而產生之設定資訊，設定複數個基板之攝像條件。

於此情形時，基於藉由拍攝複數個基板而獲得之複數個攝像資訊，產生適當之設定資訊。因此，於檢查模式中，於適當之攝像條件下拍攝成為檢查對象之基板。藉此，可獲得適於檢查之圖像資料。

(7)根據本發明之另一態樣之基板處理方法包括如下步驟：藉由處理單元依次處理複數個基板；於處理單元對基板之處理中，獲得用以基於藉由拍攝由處理單元處理之複數個基板而獲得之複數個攝像資訊決定檢查條件之資料作為引導資料；於處理單元對基板之處理中，基於所獲得之引導資料，產生表示基板之檢查條件之檢查製程；於處理單元對基板之處理中且檢查製程之產生後，藉由拍攝由處理單元處理之複數個基板而獲得複數個圖像資料；及於處理單元對基板之處理中，基於所獲得之各圖像資料及產生之檢查製程進行各基板之檢查。

於該基板處理方法中，於處理單元對基板之處理中，拍攝由處理單元處理之複數個基板，且基於藉由拍攝所得之複數個攝像資訊獲得引導資料。基於所獲得之引導資料產生檢查製程。

其後，拍攝由處理單元處理之複數個基板，獲得複數個圖像資料。基於所獲得之各圖像資料及產生之檢查製程進行各基板之檢查。

藉由上述方法，於處理單元對基板之處理中製作檢查製程。因此，無需為了決定檢查條件而停止基板之處理。又，藉由上述方法，檢查製程基於複數個基板之複數個攝像資訊而產生。藉此，能夠獲得相較於基於自1枚基板獲得之1個攝像資訊而產生之檢查製程而言適當之檢查製程。進而，藉由上述方法，於基於檢查製程之基板之檢查時，能夠檢測出處理單元中產生之不良基板。因此，藉由回收檢測出之不良基板，能夠減少對不良基板之多餘之處理。該等結果，可不降低基板之生產效率而以高精度進行基板之檢查。

(8)產生檢查製程之步驟亦可包括如下步驟：儲存所獲得之引導資料；基於預先規定之擷取條件，將所儲存之引導資料中之至少一部分引導資料擷取；基於預先規定之代表產生條件，產生代表擷取之引導資料之代表資料；及基於產生之代表資料，產生檢查製程。

於此情形時，基於擷取條件，能夠將所儲存之引導資料中不適合產生檢查製程之引導資料排除。又，基於代表產生條件，能夠自擷取之引導資料產生代表資料。因此，基於代表資料，由於能夠獲得更適當之檢查製程，故可以更高之精度進行基板之檢查。

(9)基板處理方法更包括如下步驟：基於預先規定之儲存條件，於開始引導資料之儲存後，判定是否應結束該儲存；產生檢查製程之步驟包括如下步驟：回應應結束儲存之判定，基於引導資料之儲存開始至結束之間所儲存之引導資料產生檢查製程；基板處理方法可更包括如下步驟：回應應結束於獲得引導資料時之儲存之判定，結束引導資料之獲得而開始基板之檢查。

於此情形時，基於儲存條件，於已儲存產生檢查製程所需之引導資料之時間點，基於所儲存之引導資料產生檢查製程。又，於結束引導資料之儲存後，無需使用者之指令，開始基於產生之檢查製程之基板之檢查。

(10)檢查製程包括基準圖像資料，該基準圖像資料表示相對於由處理單元處理之複數個基板之圖像成為基準之圖像；獲得引導資料之步驟包括如下步驟：基於複數個攝像資訊而獲得由處理單元之處理之複數個基板之圖像資料作為引導資料；產生檢查製程之步驟包括如下步驟：基於所獲得之引導資料產生基準圖像資料；進行檢查之步驟亦可包括如下步驟：基於所獲得之各圖像資料及產生之基準圖像資料進行基板之檢查。

於此情形時，基於複數個基板之圖像資料產生適當之基準圖像資料。因此，以高精度進行基板之檢查。

(11)檢查製程包括判定資訊，該判定資訊表示用以判定關於由處理單元處理之複數個基板有無缺陷之判定條件；獲得引導資料之步驟包括如下步驟：獲得用以基於複數個攝像資訊決定判定條件之資料作為引導資料；產生檢查製程之步驟包括如下步驟：基於所獲得之引導資料產生判定資訊；進行檢查之步驟亦可包括如下步驟：基於所獲得之各圖像資料及產生之判定資訊判定基板上有無缺陷。

於此情形時，基於藉由拍攝複數個基板而獲得之複數個攝像資訊產生適當之判定資訊。因此，以高精度判定基板上有無缺陷。

(12)檢查製程包括設定資訊，該設定資訊與獲得複數個圖像資料之步驟中之複數個基板之攝像條件相關；獲得引導資料之步驟包括如下步驟：獲得用以基於複數個攝像資訊決定攝像條件之資料作為引導資料；產生檢查製程之步驟包括如下步驟：基於所獲得之引導資料產生設定資訊；獲得複數個圖像資料之步驟亦可包括如下步驟：基於產生之設定資訊設定複數個基板之攝像條件。

於此情形時，基於藉由拍攝複數個基板而獲得之複數個攝像資訊產生適當之設定資訊。因此，於適當之攝像條件下拍攝成為檢查對象之基板。藉此，可獲得適於檢查之圖像資料。

以下，使用圖式對本發明之一實施形態之基板處理裝置及基板處理方法進行說明。於以下說明中，基板係指半導體基板、液晶顯示裝置或者有機EL(Electro Luminescence，電致發光)顯示裝置等之FPD(Flat Panel Display，平板顯示器)用基板、光碟用基板、磁碟用基板、磁光碟用基板、光罩用基板、陶瓷基板或太陽電池用基板等。

又，於以下說明中，作為本發明之基板處理裝置之一例，對基板處理系統進行說明。於本例之基板處理系統中，產生表示基板之檢查條件之檢查製程後，對已實施特定之處理之基板進行基於產生之檢查製程之外觀檢查。成為檢查對象之基板具有一面(主面)及另一面(背面)，於該一面上二維排列有用以分別形成成為製品之複數個晶片之複數個圖案。複數個圖案係與能夠於曝光該基板之曝光裝置中以1次照射進行曝光之區域之大小對應地週期性地排列。於以下說明中，將形成於能夠於曝光裝置中以1次照射進行曝光之區域內之1個或複數個圖案稱為晶粒圖案。晶粒圖案包含例如抗蝕劑膜、抗反射膜、抗蝕覆蓋膜等至少1種膜。

[1]基板處理系統之構成 圖1係表示本發明之一實施形態之基板處理系統之構成之方塊圖。如圖1所示，基板處理系統500包括1個或複數個(本例中為2個)基板處理裝置100、製程產生裝置200及1個或複數個(本例中為1個)管理裝置300。2個基板處理裝置100、製程產生裝置200及管理裝置300係可相互通信地連接於網路510。

各基板處理裝置100包括控制裝置110、1個或複數個處理單元120、1個或複數個檢查單元130及1個或複數個搬送裝置(搬送機器人)140。再者，於圖1中，作為基板處理裝置100之構成，示出1個處理單元120、1個檢查單元130、及1個搬送裝置140。

處理單元120係對基板進行處理液之塗佈處理、溫度調整處理或顯影處理等特定之處理。檢查單元130構成為能夠以引導模式及檢查模式動作。

引導模式係用以產生檢查製程之動作模式。處於引導模式之檢查單元130獲得用以基於藉由拍攝基板而獲得之攝像資訊決定檢查條件之資料作為引導資料。

檢查模式用以係基於檢查製程進行經處理單元120處理後之基板之外觀檢查之動作模式。於基板之外觀檢查中，判定基板有無外觀上之缺陷。下文對檢查單元130之構成及動作之詳情進行敍述。搬送裝置140於處理單元120、檢查單元130、及基板處理裝置100之外部裝置之間搬送基板。

控制裝置110例如包括CPU(中央運算處理裝置)及記憶體、或微電腦，且控制處理單元120、檢查單元130及搬送裝置140之動作。又，控制裝置110對檢查單元130之控制部90(圖2)提供自下述管理裝置300提供之指令。該指令中包含檢查單元130之動作模式之切換指令。

製程產生裝置200例如為伺服器且，包括CPU及記憶體、或微電腦。製程產生裝置200儲存藉由處於引導模式之檢查單元130而獲得之引導資料。又，製程產生裝置200基於所儲存之引導資料及下述製程產生資訊產生檢查製程，向獲得引導資料之檢查單元130提供所產生之檢查製程。下文對製程產生裝置200之構成及動作之詳情進行敍述。

管理裝置300例如為個人電腦，且包括CPU及記憶體、或微電腦，並且具備顯示部310及操作部320。管理裝置300基於使用者對操作部320之操作，向製程產生裝置200提供製程產生資訊。又，管理裝置300基於使用者對操作部320之操作、或來自製程產生裝置200之檢查製程之製作完成通知，指示基板處理裝置100之檢查單元130切換動作模式。下文對管理裝置300之構成及動作之詳情進行敍述。

[2]檢查單元130之構成 圖2係圖1之檢查單元130之外觀立體圖，圖3係表示圖1之檢查單元130之內部構成之模式性之側視圖。如圖2所示，檢查單元130包括殼體10、投光部20、反射部30、攝像部40、基板保持裝置50、移動部60、凹口檢測部70及控制部90。

於殼體10之側部形成有用以搬送基板W之狹縫狀開口部16。投光部20、反射部30、攝像部40、基板保持裝置50、移動部60及凹口檢測部70係收容於殼體10內。

投光部20例如包括1個或複數個光源，將大於基板W之直徑之帶狀之光向斜下方出射。反射部30例如包括反射鏡。攝像部40包括以直線狀排列之方式配置有複數個像素之攝像元件、及1個或複數個聚光透鏡。於本例中，使用CCD(電荷耦合元件)線感測器作為攝像元件。再者，亦可使用CMOS(互補性金屬氧化膜半導體)線感測器作為攝像元件。

如圖3所示，基板保持裝置50例如為旋轉夾頭，且包括驅動裝置51及旋轉保持部52。驅動裝置51例如為電動馬達，且具有旋轉軸51a。旋轉保持部52安裝於驅動裝置51之旋轉軸51a之前端，於保持檢查對象之基板W之狀態下繞鉛直軸旋轉驅動。

移動部60包括一對導向構件61(圖2)及移動保持部62。一對導向構件61以彼此相鄰之方式且以相互平行延伸之方式設置。一對導向構件61延伸之方向與攝像部40之複數個像素排列之方向正交。移動保持部62構成為能夠一面保持基板保持裝置50一面沿著一對導向構件61移動。於基板保持裝置50保持基板W之狀態下，移動保持部62沿著一對導向構件61移動，藉此，基板W通過投光部20及反射部30之下方。

凹口檢測部70係例如包括投光元件及受光元件之反射型光電感測器，於檢查對象之基板W藉由基板保持裝置50而旋轉之狀態下，向基板W之外周部出射光，並接收來自基板W之反射光。凹口檢測部70基於來自基板W之反射光之受光量，檢測基板W之凹口。亦可使用透過型光電感測器作為凹口檢測部70。

控制部90(圖2)例如包括CPU及記憶體、或微電腦，且控制投光部20、攝像部40、基板保持裝置50、移動部60及凹口檢測部70。下文對控制部90之詳情進行敍述。

檢查單元130於引導模式及檢查模式之各模式中進行基板W之攝像動作。對檢查模式中之基板W之攝像動作進行說明。檢查對象之基板W通過開口部16搬入至殼體10內，藉由基板保持裝置50保持。繼而，一面藉由基板保持裝置50旋轉基板W，一面藉由凹口檢測部70向基板W之周緣部出射光，該光之反射光由凹口檢測部70接收。藉此，檢測基板W之凹口，判定基板W之方向。其後，藉由基板保持裝置50調整基板W之旋轉位置，以使基板W之凹口朝向固定之方向。

繼而，一面自投光部20向斜下方出射帶狀之光，一面藉由移動部60使基板W以通過投光部20之下方之方式移動。來自投光部20之光之照射範圍大於基板W之直徑。藉此，來自投光部20之光依次照射至基板W之一面之整體。自基板W反射之光被反射部30進一步反射而導向攝像部40。攝像部40之攝像元件藉由以特定之取樣週期接收自基板W之一面反射之光，而依次拍攝基板W之一面上之複數個部分。構成攝像元件之各像素輸出表示與受光量對應之值之像素資料。基於自攝像部40輸出之複數個像素資料，產生表示基板W之一面上之整體圖像之圖像資料。其後，基板W藉由移動部60返回搬入時之位置，且基板W通過開口部16搬出至殼體10之外部。

引導模式中之基板W之攝像動作除了以下所示之方面，與檢查模式時之基板W之攝像動作相同。於引導模式中，將基板W搬入殼體10內，且調整基板W之旋轉位置後，自投光部20出射之光之亮度(光之輸出)得到調整。

具體而言，藉由移動部60使基板W移動至投光部20之下方，以使自投光部20出射之帶狀之光入射至通過基板W之中心之直線上之區域。於該狀態下，自投光部20向基板W照射光，被基板W之一面反射之光由攝像部40之攝像元件接收。

因此，調整投光部20之光之亮度，以使基於自攝像元件輸出之複數個像素資料之值(例如複數個像素資料之值之合計值或平均值等)接近預先規定之目標值。該動作係於拍攝基板W時為了獲得表示適當之像素值之圖像資料、即為了將藉由攝像而獲得之基板W之圖像之亮度調整為適當之亮度而進行。

其後，一面自投光部20出射經調整之亮度之光，一面藉由移動部60使基板W以通過投光部20之下方之方式移動。藉此，將來自投光部20之光依次照射至基板W之一面之整體上，產生表示基板W之一面上之整體圖像之圖像資料。

於引導模式中之基板W之攝像動作時，每個基板W中經調整之投光部20之光之亮度及每個基板W中產生之圖像資料係上述攝像資訊之例。

[3]基板處理系統500之功能性構成 圖4係表示圖1之基板處理系統500之功能性構成之方塊圖。於圖4中，與管理裝置300及製程產生裝置200之功能性構成一同地示出設置於基板處理裝置100之檢查單元130之功能性構成。

如圖4所示，管理裝置300包括動作模式指令部350及產生資訊設定部360作為功能部。該等功能部藉由管理裝置300之CPU執行記憶於記憶體之電腦程式而實現。再者，上述構成之一部分或全部亦可藉由電子電路等硬體而實現。

於管理裝置300中，基於使用者對圖1之操作部320之操作指定成為檢查製程之產生對象之基板處理裝置100及檢查單元130。動作模式指令部350對被指定之基板處理裝置100提供應將被指定之檢查單元130之動作模式切換為引導模式之切換指令。又，動作模式指令部350自製程產生裝置200接收與被指定之檢查單元130對應之檢查製程之製作完成通知。於此情形時，動作模式指令部350向被指定之基板處理裝置100提供應將被指定之檢查單元130之動作模式切換為檢查模式之切換指令。

產生資訊設定部360基於使用者對圖1之操作部320之操作，向製程產生裝置200提供用以產生檢查製程之製程產生資訊。對製程產生資訊之具體例進行說明。圖5係表示製程產生資訊之構成之一例之圖。如圖5所示，本例之製程產生資訊包括資料儲存條件、資料擷取條件及代表產生條件。

資料儲存條件係用以於製程產生裝置200中儲存用以產生檢查製程之引導資料之條件，包括「結束日期時間或資料數」、「成為對象之基板處理裝置」、「成為對象之檢查單元」及「基板資訊」。

「結束日期時間」係表示為了產生一檢查製程而自開始引導資料之儲存起至應結束該儲存之日期時間之資訊。「資料數」係表示為了產生一檢查製程而應作為引導資料儲存之資料數之資訊。「成為對象之基板處理裝置」係表示成為檢查製程之產生對象之基板處理裝置100之識別資訊。「成為對象之檢查單元」係表示成為檢查製程之產生對象之檢查單元130之識別資訊。「基板資訊」係表示形成於成為使用檢查製程之檢查對象之基板W上的晶粒圖案之種類及尺寸之資訊。

資料擷取條件係用以為產生一檢查製程而自儲存之複數個引導資料中擷取適當之引導資料之資訊。此處，假定根據儲存條件儲存之複數個引導資料遵循常態分佈，且將該等複數個引導資料之平均設為μ，將複數個引導資料之標準偏差設為σ。於此情形時，應擷取之引導資料之區間例如可以「自μ－σ至μ＋σ之1σ區間」、「自μ－2σ至μ＋2σ之2σ區間」或「自μ－3σ至μ＋3σ之3σ區間」中之任一者規定。

代表產生條件係用以自基於資料擷取條件擷取之複數個引導資料產生代表資料之資訊，例如可基於「平均值」、「眾數」、「中央值」、「最大值」或「最小值」等代表值之種類來規定。

於圖4之基板處理裝置100中，控制裝置110向檢查單元130之控制部90提供自管理裝置300提供之動作模式之切換指令。檢查單元130之控制部90作為功能部包括控制部90、指令接收部91、移動控制部92、光調整部93、亮度決定部94、引導資料獲得部95、圖像資料獲得部96、缺陷判定部97及檢查製程記憶部98。該等功能部藉由控制部90之CPU執行記憶於記憶體之電腦程式而實現。再者，上述構成之一部分或全部亦可藉由電子電路等硬體而實現。

於控制部90中，指令接收部91接收自管理裝置300提供之切換指令。移動控制部92、光調整部93、亮度決定部94、引導資料獲得部95及圖像資料獲得部96之各者基於藉由指令接收部91接收之切換指令，進行與被指令之動作模式對應之動作。

移動控制部92於引導模式中，於調整投光部20之亮度時，以使基板W之中心位於投光部20之下方之方式控制移動部60。又，移動控制部92於引導模式及檢查模式中，於產生基板W之一面整體之圖像資料時，以使基板W之一面整體於投光部20之下方移動之方式控制移動部60。

亮度決定部94於引導模式中，基於自攝像部40輸出之複數個像素資料決定應自投光部20出射之光之亮度。又，亮度決定部94於檢查模式中，基於記憶於檢查製程記憶部98之檢查製程決定於檢查基板W之外觀時應自投光部20出射之光之亮度。光調整部93於引導模式及檢查模式中，以使光以由亮度決定部94決定之亮度出射之方式調整投光部20之亮度。

圖像資料獲得部96於引導模式及檢查模式中，基於自攝像部40輸出之複數個像素資料，產生表示基板W之一面上之整體圖像之圖像資料。

引導資料獲得部95於引導模式中獲得1種或複數種引導資料。具體而言，本例之引導資料獲得部95於引導模式中獲得藉由亮度決定部94對每個基板W決定之投光部20之亮度作為引導資料。於以下說明中，將投光部20之亮度之引導資料稱為第1引導資料。

又，本例之引導資料獲得部95於引導模式中獲得藉由圖像資料獲得部96產生之基板W之圖像資料作為引導資料。於以下說明中，將圖像資料之引導資料稱為第2引導資料。

又，本例之引導資料獲得部95於引導模式中對藉由圖像資料獲得部96產生之各基板W之圖像資料進行以下處理。

首先，引導資料獲得部95對於所產生之圖像資料之預先規定之複數個對象像素之各者，運算該對象像素與包含該對象像素之固定區域內之複數個像素之間之像素值(像素資料之值)之差值。於本實施形態中，複數個對象像素例如為構成基板W之圖像資料之全部像素。再者，複數個對象像素可為位於形成有晶粒圖案之基板W之中央部之像素，亦可為位於基板W之外周端部附近之像素。

進而，引導資料獲得部95獲得運算所得之複數個差值之最大值及最小值分別作為引導資料。於以下說明中，將表示每個圖像資料中運算所得之複數個差值之最大值之引導資料稱為第3引導資料，將表示複數個差值之最小值之引導資料稱為第4引導資料。

於檢查製程記憶部98記憶有自製程產生裝置200提供之檢查製程。本實施形態之檢查製程中包括檢查基板W之外觀時應自投光部20出射之光之亮度。該亮度係基於引導模式中獲得之複數個第1引導資料而產生。

又，本實施形態之檢查製程中包括用於基板W之外觀檢查之基準圖像資料。基準圖像資料係基於引導模式中獲得之複數個第2引導資料而產生。基準圖像資料係虛擬地表示無外觀上缺陷之基板W之圖像資料之圖像資料。

進而，本實施形態之檢查製程中包括檢查基板W之外觀時用以判定成為檢查對象之基板W中是否有缺陷之判定資訊。判定資訊係基於引導模式中獲得之複數個第3及第4引導資料而產生。

缺陷判定部97於檢查模式中，基於成為藉由圖像資料獲得部96產生之檢查對象的基板W之圖像資料與檢查製程之基準圖像資料及判定資訊，判定基板W有無外觀上之缺陷。

具體而言，缺陷判定部97對於成為檢查對象之基板W之圖像資料及基準圖像資料之相互對應之像素運算像素值之差值。又，缺陷判定部97於該差值在預先規定之容許範圍內之情形時，判定為無缺陷，於該差值在預先規定之容許範圍外之情形時，判定為有缺陷。該容許範圍係上述判定資訊。容許範圍之上限值係基於上述第3引導資料規定，容許範圍之下限值係基於上述第4引導資料規定。

如圖4所示，製程產生裝置200作為功能部包括結束判定部210、引導資料儲存部220、資料擷取部230、代表資料決定部240、檢查製程產生部250及產生資訊記憶部260。該等功能部藉由製程產生裝置200之CPU執行記憶於記憶體之電腦程式而實現。再者，上述構成之一部分或全部亦可藉由電子電路等硬體而實現。

於產生資訊記憶部260記憶有自管理裝置300之產生資訊設定部360提供之製程產生資訊。引導資料儲存部220儲存藉由檢查單元130之引導資料獲得部95而獲得之複數個引導資料(於上述例中為複數個第1～第4引導資料)。

結束判定部210基於記憶於產生資訊記憶部260之製程產生資訊之資料儲存條件，判定是否應結束引導資料之儲存。若藉由結束判定部210判定應結束引導資料之儲存，則引導資料儲存部220結束引導資料之儲存。

於此情形時，資料擷取部230按照所獲得之複數個引導資料之每一種類，進行基於資料擷取條件之引導資料之擷取。再者，如上述第2引導資料般，於包括複數個像素資料之圖像資料成為引導資料之情形時，例如於對每個基板運算與圖像資料相關之評價值(例如全部像素之像素值之平均值等)後，基於該評價值規定資料擷取條件。

代表資料決定部240按照引導資料之每一種類，自藉由資料擷取部230擷取之引導資料中進行基於代表產生條件之代表資料之決定。此處，於產生基於複數個第2引導資料之代表資料時，例如對於被擷取之複數個第2引導資料之相互對應之像素，產生表示符合代表產生條件之值(平均值或眾數等)之像素資料。包括所產生之複數個像素資料之圖像資料被決定為代表資料。被決定之代表資料成為基準圖像資料。

檢查製程產生部250產生包含代表資料決定部240中決定之各種代表資料之檢查製程。若產生檢查製程，則檢查製程產生部250向成為對象之檢查單元130之檢查製程記憶部98提供所產生之檢查製程。又，檢查製程產生部250將表示檢查製程之產生已完成之信號通知管理裝置300之動作模式指令部350(檢查製程之製作完成通知)。因此，動作模式指令部350向基板處理裝置100提供應將檢查單元130之動作模式切換為檢查模式之切換指令，以便使用所產生之檢查製程進行外觀檢查。

[4]引導資料之獲得處理 圖6係表示圖4之控制部90中進行之引導資料之獲得處理之流程圖。引導資料之獲得處理例如回應來自管理裝置300之切換為引導模式之指令而開始。

若開始引導資料之獲得處理，則圖4之移動控制部92進行基板W之搬入處理(步驟S11)。移動控制部92對基板W之搬入處理係以搬入至圖2之殼體10內之基板W被基板保持裝置50接收之方式，使圖2之移動保持部62移動之處理。

其後，於基板W由基板保持裝置50保持之狀態下，圖4之引導資料獲得部獲得對該基板W預先規定之1種或複數種引導資料，並將獲得之各引導資料輸出至圖4之製程產生裝置200(步驟S12)。

繼而，圖4之移動控制部92進行基板W之搬出處理(步驟S13)。移動控制部92對基板W之搬出處理係以於圖2之殼體10內由基板保持裝置50保持之基板W傳遞至檢查單元130之外部之搬送裝置140之方式，使圖2之移動保持部62移動之處理。

其後，圖4之指令接收部91判定是否有來自管理裝置300之向檢查模式之切換指令(步驟S14)。指令接收部91於有向檢查模式之切換指令時，將檢查單元130之動作模式由引導模式切換為檢查模式，結束引導資料之獲得處理。另一方面，指令接收部91於無切換為檢查模式之指令時，返回步驟S11之處理。

[5]檢查製程之產生處理 圖7係表示圖4之製程產生裝置200中進行之檢查製程之產生處理之流程圖。於本例中，設為於初始狀態下，圖4之產生資訊記憶部260中記憶有製程產生資訊。檢查製程之產生處理藉由自基板處理裝置100輸入引導資料而開始。

首先，圖4之引導資料儲存部220儲存被輸入之1個或複數個引導資料(步驟S21)。繼而，圖4之結束判定部210基於製程產生資訊中之資料儲存條件，判定是否應結束引導資料之儲存(步驟S22)。

於不應結束引導資料之儲存之情形時，引導資料儲存部220返回步驟S21之處理。另一方面，於應結束引導資料之儲存之情形時，引導資料儲存部220結束引導資料之儲存(步驟S23)。

又，圖4之資料擷取部230進行基於資料擷取條件之引導資料之擷取(步驟S24)。其後，圖4之代表資料決定部240基於代表產生條件及被擷取之1個或複數個引導資料，進行代表資料之產生(步驟S25)。

繼而，圖4之檢查製程產生部250基於產生之代表資料產生檢查製程(步驟S26)。又，檢查製程產生部250向基板處理裝置100提供所產生之檢查製程，並且向管理裝置300通知檢查製程之產生已完成(步驟S27)。其後，檢查製程產生部250結束檢查製程之產生處理。

[6]效果 (a)於上述基板處理裝置100中，於處理單元120對基板W之處理中，檢查單元130例如以引導模式動作。於引導模式中，拍攝由檢查單元130處理之複數個基板W，基於藉由拍攝而獲得之複數個攝像資訊獲得引導資料。基於所獲得之引導資料產生檢查製程。

其後，將檢查單元130由引導模式切換為檢查模式。於檢查模式中，拍攝由檢查單元130處理之複數個基板W，獲得複數個圖像資料。基於所獲得之各圖像資料及產生之檢查製程進行各基板W之檢查。

根據上述構成，於處理單元120對複數個基板W之處理中，製作檢查製程。因此，無需為了產生檢查製程而停止基板W之處理。又，根據上述構成，檢查製程基於複數個基板W之複數個攝像資訊而產生。藉此，能夠獲得較基於自1枚基板W獲得之1個攝像資訊而產生之檢查製程更適當之檢查製程。進而，根據上述構成，於檢查單元130處於檢查模式時能夠檢測處理單元120中產生之不良基板。因此，藉由回收被檢測之不良基板，能夠減少對不良基板之多餘之處理。該等結果，可不降低基板W之生產效率而以高精度進行基板W之檢查。

(b)進而，根據上述構成，即便例如於檢查單元130對複數個基板W之檢查中確認到缺陷之誤檢測之情形時，使用者亦可一面參照過去設定之製程產生資訊，一面產生新的製程產生資訊。於製程產生裝置200中設定新的製程產生資訊之狀態下，藉由將檢查單元130之動作模式切換為引導模式，而自動製作適當之檢查製程。因此，使用者可根據檢查結果，容易地獲得更適當之檢查製程。

(c)於上述製程產生裝置200中，於產生檢查製程時進行基於資料擷取條件之引導資料之擷取。於此情形時，能夠將所儲存之複數個引導資料中不適合產生檢查製程之一部分引導資料排除。

其後，基於代表產生條件，自被擷取之引導資料產生代表資料。因此，可基於代表資料，獲得更適當之檢查製程，故可以更高之精度進行基板之檢查。

(d)於上述製程產生裝置200中，基於資料儲存條件，於已儲存產生檢查製程所需之引導資料之時間點，基於所儲存之引導資料產生檢查製程。

藉由產生檢查製程，而將檢查單元130之移動模式由引導模式切換為檢查模式。藉此，於結束引導模式後，無需使用者之指令便可順利地開始基於所產生之檢查製程之基板W之檢查。

[7]其他實施形態 (a)於上述實施形態中，設置於攝像部40之攝像元件中之各像素亦可包含接收紅光之R像素、接收綠光之G像素及接收藍光之B像素。於此情形時，於引導模式中，亦可於像素之每一種類中產生上述第3及第4引導資料。藉此，於檢查製程中，可於像素之每一種類中規定用於外觀檢查時之容許範圍。因此，能夠以更高之精度進行基板W之檢查。

(b)於上述實施形態中，基板處理裝置100、製程產生裝置200及管理裝置300係分別個別地設置，但本發明並不限定於此。製程產生裝置200及管理裝置300亦可設置於1個基板處理裝置100。

(c)於上述基板處理裝置100中，亦可代替於檢查單元130之控制部90設置用以獲得引導資料之各種功能部而於基板處理裝置100之控制裝置110設置用以獲得引導資料之各種功能部。

[8]技術方案之各構成要素與實施形態之各要素之對應 以下，對技術方案之各構成要素與實施形態之各要素之對應之例進行說明，但本發明並不限定於下述之例。

於上述實施形態中，基板處理系統500係基板處理裝置之例，管理裝置300係切換裝置之例，製程產生裝置200係檢查製程產生裝置之例，引導資料獲得部95係引導資料獲得部之例，圖像資料獲得部係圖像資料獲得部之例，缺陷判定部97係檢查部之例，引導資料儲存部220係引導資料儲存部之例。

又，資料擷取部230係引導資料擷取部之例，代表資料決定部240係代表資料產生部之例，檢查製程產生部250係製程產生部之例，結束判定部210係結束判定部之例，於檢查基板W之外觀時應自投光部20出射之光之亮度係設定資訊之例。

作為技術方案之各構成要素，亦可使用具有技術方案中記載之構成或功能之其他各種要素。

10‧‧‧殼體 16‧‧‧開口部 20‧‧‧投光部 30‧‧‧反射部 40‧‧‧攝像部 50‧‧‧基板保持裝置 51‧‧‧驅動裝置 51a‧‧‧旋轉軸 52‧‧‧旋轉保持部 60‧‧‧移動部 61‧‧‧導向構件 62‧‧‧移動保持部 70‧‧‧凹口檢測部 90‧‧‧控制部 91‧‧‧指令接收部 92‧‧‧移動控制部 93‧‧‧光調整部 94‧‧‧亮度決定部 95‧‧‧引導資料獲得部 96‧‧‧圖像資料獲得部 97‧‧‧缺陷判定部 98‧‧‧檢查製程記憶部 100‧‧‧基板處理裝置 110‧‧‧控制裝置 120‧‧‧處理單元 130‧‧‧檢查單元 140‧‧‧搬送裝置 200‧‧‧製程產生裝置 210‧‧‧結束判定部 220‧‧‧引導資料儲存部 230‧‧‧資料擷取部 240‧‧‧代表資料決定部 250‧‧‧檢查製程產生部 260‧‧‧產生資訊記憶部 300‧‧‧管理裝置 310‧‧‧顯示部 320‧‧‧操作部 350‧‧‧動作模式指令部 360‧‧‧產生資訊設定部 510‧‧‧網路 S11～S14‧‧‧步驟 S21～S27‧‧‧步驟 W‧‧‧基板

圖1係表示本發明之一實施形態之基板處理系統之構成之方塊圖。 圖2係圖1之檢查單元之外觀立體圖。 圖3係表示圖1之檢查單元之內部構成之模式性之側視圖。 圖4係表示圖1之基板處理系統之功能性之構成之方塊圖。 圖5係表示製程產生資訊之構成之一例之圖。 圖6係表示於圖4之控制部中進行之引導資料之獲得處理之流程圖。 圖7係表示於圖4之製程產生裝置中進行之檢查製程之產生處理之流程圖。

10‧‧‧殼體

16‧‧‧開口部

20‧‧‧投光部

30‧‧‧反射部

40‧‧‧攝像部

50‧‧‧基板保持裝置

60‧‧‧移動部

61‧‧‧導向構件

62‧‧‧移動保持部

70‧‧‧凹口檢測部

90‧‧‧控制部

130‧‧‧檢查單元

W‧‧‧基板

Claims (12)

1. 一種基板處理裝置，其具備： 處理單元，其依次處理複數個基板； 檢查單元，其構成為能夠於上述處理單元對基板之處理中，以引導模式及檢查模式動作； 切換裝置，其切換上述檢查單元之動作模式；及 檢查製程產生裝置，其產生表示基板之檢查條件之檢查製程； 上述檢查單元包括： 引導資料獲得部，其於上述引導模式中，獲得用以基於藉由拍攝由上述處理單元處理之複數個基板而獲得之複數個攝像資訊決定檢查條件之資料作為引導資料； 圖像資料獲得部，其於上述檢查模式中，藉由拍攝由上述處理單元處理之複數個基板而獲得複數個圖像資料；及 檢查部，其於上述檢查模式中，基於藉由上述圖像資料獲得部而獲得之各圖像資料及藉由上述檢查製程產生裝置而產生之上述檢查製程進行各基板之檢查； 上述檢查製程產生裝置基於藉由上述引導資料獲得部而獲得之引導資料產生上述檢查製程。
2. 如請求項1之基板處理裝置，其中上述檢查製程產生裝置包括： 引導資料儲存部，其儲存藉由上述引導資料獲得部而獲得之引導資料； 引導資料擷取部，其基於預先規定之擷取條件，擷取上述引導資料儲存部中儲存之引導資料中之至少一部分引導資料； 代表資料產生部，其基於預先規定之代表產生條件，產生代表藉由上述引導資料擷取部擷取之引導資料之代表資料；及 製程產生部，其基於上述產生之代表資料，產生上述檢查製程。
3. 如請求項2之基板處理裝置，其中上述檢查製程產生裝置更包括基於預先規定之儲存條件，開始對上述引導資料儲存部儲存引導資料後，判定是否應結束該儲存之結束判定部， 上述製程產生部回應上述結束判定部進行之應結束上述儲存之判定，基於上述引導資料之儲存開始至結束之間所儲存之引導資料，產生上述檢查製程， 上述切換裝置回應上述結束判定部進行之應結束上述儲存之判定，將上述檢查單元之動作模式由上述引導模式切換為上述檢查模式。
4. 如請求項1至3中任一項之基板處理裝置，其中上述檢查製程包括表示對於由上述處理單元處理之複數個基板之圖像成為基準之圖像之基準圖像資料， 上述引導資料獲得部於上述引導模式中，基於上述複數個攝像資訊獲得由上述處理單元處理之複數個基板之圖像資料作為上述引導資料， 上述檢查製程產生裝置於上述引導模式中，基於藉由上述引導資料獲得部而獲得之引導資料產生上述基準圖像資料， 上述檢查部於上述檢查模式中，基於藉由上述圖像資料獲得部而獲得之各圖像資料及藉由上述檢查製程產生裝置而產生之上述基準圖像資料進行基板之檢查。
5. 如請求項1至3中任一項之基板處理裝置，其中上述檢查製程包括表示用以對由上述處理單元處理之複數個基板判定有無缺陷之判定條件之判定資訊， 上述引導資料獲得部於上述引導模式中，獲得用以基於上述複數個攝像資訊決定上述判定條件之資料作為上述引導資料, 上述檢查製程產生裝置於上述引導模式中，基於藉由上述引導資料獲得部而獲得之引導資料產生上述判定資訊, 上述檢查部於上述檢查模式中，基於藉由上述圖像資料獲得部而獲得之各圖像資料及藉由上述檢查製程產生裝置而產生之上述判定資訊判定基板上有無缺陷。
6. 如請求項1至3中任一項之基板處理裝置，其中上述檢查製程包括與上述圖像資料獲得部之複數個基板之攝像條件相關之設定資訊， 上述引導資料獲得部於上述引導模式中，獲得用以基於上述複數個攝像資訊決定上述攝像條件之資料作為上述引導資料， 上述檢查製程產生裝置於上述引導模式中，基於藉由上述引導資料獲得部而獲得之引導資料產生上述設定資訊， 上述圖像資料獲得部於上述檢查模式中，基於藉由上述檢查製程產生裝置產生之上述設定資訊，設定複數個基板之攝像條件。
7. 一種基板處理方法，其包括如下步驟： 藉由處理單元依次處理複數個基板； 於上述處理單元對基板之處理中，獲得用以基於藉由拍攝由上述處理單元處理之複數個基板而獲得之複數個攝像資訊決定檢查條件之資料作為引導資料； 於上述處理單元對基板之處理中，基於上述獲得之引導資料，產生表示基板之檢查條件之檢查製程； 於上述處理單元對基板之處理中且上述檢查製程之產生後，藉由拍攝由上述處理單元處理之複數個基板而獲得複數個圖像資料；及 於上述處理單元對基板之處理中，基於上述獲得之各圖像資料及上述產生之上述檢查製程進行各基板之檢查。
8. 如請求項7之基板處理方法，其中產生上述檢查製程之步驟包括如下步驟： 儲存上述獲得之引導資料； 基於預先規定之擷取條件，擷取上述儲存之引導資料中之至少一部分引導資料； 基於預先規定之代表產生條件，產生代表上述被擷取之引導資料之代表資料；及 基於上述產生之代表資料，產生上述檢查製程。
9. 如請求項8之基板處理方法，其更包括基於預先規定之儲存條件，於開始上述引導資料之儲存後，判定是否應結束該儲存之步驟， 產生上述檢查製程之步驟包括回應應結束上述儲存之判定，基於上述引導資料之儲存開始至結束之間所儲存之引導資料產生上述檢查製程之步驟， 上述基板處理方法更包括回應應結束上述引導資料之獲得時之上述儲存之判定，結束上述引導資料之獲得而開始上述基板之檢查之步驟。
10. 如請求項7至9中任一項之基板處理方法，其中上述檢查製程包括表示相對於由上述處理單元處理之複數個基板之圖像成為基準之圖像之基準圖像資料， 獲得上述引導資料之步驟包括基於上述複數個攝像資訊獲得由上述處理單元處理之複數個基板之圖像資料作為上述引導資料之步驟， 產生上述檢查製程之步驟包括基於上述獲得之引導資料產生上述基準圖像資料之步驟， 進行上述檢查之步驟包括基於上述獲得之各圖像資料及上述產生之上述基準圖像資料進行基板之檢查之步驟。
11. 如請求項7至9中任一項之基板處理方法，其中上述檢查製程包括表示用以對由上述處理單元處理之複數個基板判定有無缺陷之判定條件之判定資訊， 獲得上述引導資料之步驟包括獲得用以基於上述複數個攝像資訊決定上述判定條件之資料作為上述引導資料之步驟， 產生上述檢查製程之步驟包括基於上述獲得之引導資料產生上述判定資訊之步驟， 進行上述檢查之步驟包括基於上述獲得之各圖像資料及上述產生之上述判定資訊判定基板上有無缺陷之步驟。
12. 如請求項7至9中任一項之基板處理方法，其中上述檢查製程包括與獲得上述複數個圖像資料之步驟中之複數個基板之攝像條件相關之設定資訊， 獲得上述引導資料之步驟包括獲得用以基於上述複數個攝像資訊決定上述攝像條件之資料作為上述引導資料之步驟， 產生上述檢查製程之步驟包括基於上述獲得之引導資料產生上述設定資訊之步驟， 獲得上述複數個圖像資料之步驟包括基於上述產生之上述設定資訊設定複數個基板之攝像條件之步驟。

Images