JP2024044043A - 基板処理システム、基板処理装置、レシピ生成装置、基板処理方法およびレシピ生成方法 - Google Patents

基板処理システム、基板処理装置、レシピ生成装置、基板処理方法およびレシピ生成方法 Download PDF

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Abstract

【課題】検査レシピを生成するための煩雑な作業を要することなく、複数の基板を効率よく検査することが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】予め定められた露光処理に付随する付随処理が施される基板に対して当該露光処理で用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子が対応付けられる。基板処理装置１００は検査ユニット１０４を備える。検査ユニット１０４は、パイロットモードまたは検査モードで動作する。パイロットモードでは、複数の基板について検査レシピを生成するための複数のパイロットデータが生成される。複数のパイロットデータの各々には、当該パイロットデータが取得された基板のマスク識別子が対応付けられる。付随処理が行われる基板のマスク識別子に対応する検査レシピが生成されている場合、検査ユニット１０４は、検査モードで動作し、当該検査レシピに従って基板の欠陥の有無を判定する。【選択図】図１

Description

本発明は、基板に所定の処理を行う基板処理システム、基板処理装置、基板の検査レシピを生成するレシピ生成装置、基板処理方法およびレシピ生成方法に関する。
半導体デバイス、液晶ディスプレイ等の製造工程では、例えば半導体ウェハ、ガラス基板等の基板に対して各種処理が行われる。また、各種処理が行われた基板を検査するために検査装置が用いられる。検査装置は、例えば基板に処理を行う複数の処理ユニットとともに基板処理装置に設けられる。
特許文献１に記載された検査装置においては、所定の処理が施された基板の一面の外観検査が行われる。具体的には、検査対象の基板の一面が撮像部によって撮像されることにより表面画像データ（以下、検査画像データと呼ぶ。）が取得される。一方、外観上の欠陥がないサンプル基板が予め用意され、そのサンプル基板の表面画像データ（以下、基準画像データと呼ぶ。）が取得される。検査画像データの各画素の階調値と基準画像データの各画素の階調値との比較に基づいて、検査対象の基板の欠陥が検出される。
特開２０１６－２０６４５２号公報 特開２０２０－１２６６５号公報
上記のような基板の外観検査において、複数の基板の処理中に各基板を撮像し、撮像結果に基づいて基板の検査条件を示す検査レシピを生成する方法が提案されている。例えば、特許文献２に記載された基板処理装置においては、パイロットモードで、処理ユニットにより処理される複数の基板が撮像され、撮像により得られる複数のパイロットデータに基づいて検査レシピが生成される。その後、検査モードで、生成された検査レシピに基づく基板の検査が行われる。
一の基板を検査するために適切な検査レシピは、例えば当該一の基板の一面上に形成されるパターン（外観形状のパターン）に応じて定まる。そのため、一の基板の一面上に形成されるパターンに共通するパターンを有する他の基板には、一の基板に対応する検査レシピを用いることが可能である。したがって、一の基板に対応する検査レシピが生成されると、その後は、共通するパターンを有する複数の基板について共通する検査レシピを再利用することが可能となる。この場合、検査レシピを生成するための工程が省略され、複数の基板の検査の効率が向上する。
しかしながら、使用者は、基板処理装置における基板の処理が開始されるごとに、過去に生成されたどの検査レシピが再利用可能であるのかを確認する必要がある。このような確認作業は煩雑である。
本発明の目的は、検査レシピを生成するための煩雑な作業を要することなく、複数の基板を効率よく検査することが可能な基板処理システム、基板処理装置、レシピ生成装置、基板処理方法およびレシピ生成方法を提供することである。
本発明の一局面に従う基板処理システムは、基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う処理ユニットと、前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するマスク情報取得部と、前記処理ユニットによる前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成された検査部と、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で前記基板について生成されたパイロットデータに、前記マスク情報取得部により取得されかつ当該基板に対応するマスク情報を対応付ける対応付け部と、前記処理ユニットが前記基板を複数処理する場合に、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記複数の基板についてそれぞれ生成された複数のパイロットデータのうち共通するマスク情報が対応付けられた複数のパイロットデータに基づいて当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するレシピ生成部とを備え、前記検査部は、前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報取得部により取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが生成されている場合に前記検査モードで動作し、当該検査モードにある状態で、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定する。
本発明の他の局面に従う基板処理装置は、基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う処理ユニットと、前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するマスク情報取得部と、前記処理ユニットによる前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成された検査部と、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記マスク情報取得部により前記基板に対して取得された前記マスク情報と、のデータセットを、レシピ生成装置に送信するデータセット送信部と、前記データセットの送信後に、前記マスク情報に対応するように前記レシピ生成装置により生成された検査レシピを取得するレシピ取得部とを備え、前記検査部は、前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報取得部により取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが前記レシピ取得部により取得されている場合に前記検査モードで動作し、当該検査モードにある状態で、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定する。
本発明のさらに他の局面に従うレシピ生成装置は、基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う基板処理装置とともに用いられるレシピ生成装置であって、前記基板処理装置は、前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成され、前記レシピ生成装置は、前記基板処理装置が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報と、のデータセットを取得するデータセット取得部と、前記パイロットデータ取得部により取得された複数のデータセットの複数のパイロットデータのうちマスク情報が共通する複数のパイロットデータに基づいて、当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するレシピ生成部と、前記レシピ生成部により生成された検査レシピを当該検査レシピに対応するマスク情報とともに前記基板処理装置に送信するレシピ送信部とを備える。
本発明のさらに他の局面に従う基板処理方法は、基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行うステップと、前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するステップと、前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で、検査部を動作させるステップと、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で前記基板について生成されたパイロットデータに、前記マスク情報取得部により取得されかつ当該基板に対応するマスク情報を対応付けるステップと、前記基板が複数処理される場合に、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記複数の基板についてそれぞれ生成された複数のパイロットデータのうち共通するマスク情報が対応付けられた複数のパイロットデータに基づいて当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するステップとを含み、前記検査部を動作させるステップは、前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報を取得するステップにより取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが生成されている場合に、前記検査部を前記検査モードで動作させ、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定することを含む。
本発明のさらに他の局面に従う基板処理方法は、基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行うステップと、前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するステップと、前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で、検査部を動作させるステップと、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記マスク情報を取得するステップにより前記基板に対して取得された前記マスク情報と、のデータセットを、レシピ生成装置に送信するステップと、前記データセットの送信後に、前記マスク情報に対応して前記レシピ生成装置により生成された検査レシピを取得するステップとを含み、前記検査部を動作させるステップは、前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報を取得するステップにより取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが取得されている場合に、前記検査部を前記検査モードで動作させ、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定することを含む。
本発明のさらに他の局面に従うレシピ生成方法は、基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う基板処理装置を用いたレシピ生成方法であって、前記基板処理装置は、前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成され、前記レシピ生成方法は、前記基板処理装置が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報と、のデータセットを取得するステップと、前記データセットを取得するステップにより取得された複数のデータセットの複数のパイロットデータのうちマスク情報が共通する複数のパイロットデータに基づいて、当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するステップと、前記検査レシピを生成するステップにより生成された検査レシピを当該検査レシピに対応するマスク情報とともに前記基板処理装置に送信するステップとを含む。
本発明によれば、検査レシピを生成するための煩雑な作業を要することなく、複数の基板を効率よく検査することが可能となる。
本発明の一実施の形態に係る基板処理システムの構成を示すブロック図である。 図１の検査ユニットの構成を説明するための図である。 図１の検査ユニットの構成を説明するための図である。 図１の検査ユニットおよびレシピ生成装置の機能的な構成を説明するためのブロック図である。 図４の制御部において行われる基板検査処理の一例を示すフローチャートである。 図４のレシピ生成装置において行われるレシピ生成処理の一例を示すフローチャートである。
以下、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置、レシピ生成装置、基板処理方法およびレシピ生成方法について図面を用いて説明する。以下の説明において、基板とは、半導体基板、液晶表示装置もしくは有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等をいう。
１．基板処理システムの構成
図１は、本発明の一実施の形態に係る基板処理システムの構成を示すブロック図である。図１に示すように、基板処理システム５００は、１または複数（本例では２つ）の基板処理装置１００、レシピ生成装置２００および１または複数（本例では１つ）の管理装置３００を含む。２つの基板処理装置１００、レシピ生成装置２００および管理装置３００は、互いに通信可能にネットワーク５１０に接続されている。
各基板処理装置１００は、制御装置１０１、１または複数の処理ユニット１０２、１または複数の搬送装置（搬送ロボット）１０３および１または複数の検査ユニット１０４を含む。なお、図１では、基板処理装置１００の構成として、１つの処理ユニット１０２、１つの搬送装置１０３および１つの検査ユニット１０４が示される。本実施の形態に係る基板処理装置１００は、当該基板処理装置１００に対応する露光装置９００とともに用いられる。
１または複数の処理ユニット１０２は、基板に対して、処理液の塗布処理、温度調整処理または現像処理等の所定の処理を行う。より具体的には、本実施の形態に係る１または複数の処理ユニット１０２は、塗布処理ユニット、温度調整ユニットおよび塗布処理ユニットを含む。塗布処理ユニットは、基板の一面にレジスト膜を形成するユニットである。本実施の形態においては、基板の一面とは、基板の主面（回路形成面）を意味する。温度調整ユニットは、基板を加熱または冷却することにより基板の温度を調整するユニットである。現像処理ユニットは、レジスト膜が形成されかつ当該レジスト膜に対する露光処理後の基板に現像処理を行うユニットである。
この場合、基板処理装置１００においては、例えば、塗布処理ユニットにより、搬入された未処理の基板にレジスト膜が形成される。レジスト膜が形成された基板は、図１に白抜きの矢印ａ１で示すように、露光装置９００に渡される。露光装置９００では、基板に露光処理が行われる。露光処理後の基板は、図１に白抜きの矢印ａ２で示すように、露光装置９００から基板処理装置１００に戻される。基板処理装置１００に戻された基板には、現像処理ユニットにより現像処理が行われる。
搬送装置１０３は、１または複数の処理ユニット１０２と、１または複数の検査ユニット１０４と、基板処理装置１００の外部装置（露光装置９００等）との間で基板を搬送する。
検査ユニット１０４は、パイロットモードおよび検査モードで動作可能に構成される。検査モードは、基板の検査条件を示す検査レシピに基づいて、１または複数の処理ユニット１０２による処理後（本例では現像処理後）の基板の外観検査を行う動作モードである。基板の外観検査では、基板の外観上の欠陥の有無が判定される。パイロットモードは、検査レシピを生成する動作モードである。パイロットモードにある検査ユニット１０４は、基板を撮像することにより得られる各種データを、検査レシピ（検査条件）を生成するためのパイロットデータとして取得する。検査ユニット１０４の構成および動作の詳細は後述する。
制御装置１０１は、例えばＣＰＵ（中央演算処理装置）およびメモリ、またはマイクロコンピュータを含み、当該制御装置１０１を含む基板処理装置１００の各構成要素（１０２～１０４）の動作を制御する。
制御装置１０１には、後述する管理装置３００から基板処理指令およびマスク情報が与えられる。基板処理指令は、例えば１ロットの複数の基板に対して一連の処理を行うべき開始指令であり、互いに対応する基板処理装置１００および露光装置９００に与えられる。
露光装置９００においては、例えば１ロットの複数の基板ごとに、予め定められたパターンのフォトマスクを用いて露光処理が行われる。マスク情報は、基板ごとに定められ、当該基板の露光処理で用いられるべきフォトマスクを他の種類のフォトマスクから識別するためのマスク識別子を含む。本実施の形態では、マスク情報は、マスク識別子である。
制御装置１０１に与えられる基板処理指令およびマスク情報は、さらに、１または複数の処理ユニット１０２、１または複数の搬送装置１０３および１または複数の検査ユニット１０４にそれぞれ与えられる。
レシピ生成装置２００は、例えば１または複数のサーバで構成され、ＣＰＵおよびメモリを含む。レシピ生成装置２００のメモリには、システムプログラムおよび後述するレシピ生成プログラムが記憶されている。レシピ生成装置２００は、パイロットモードにある検査ユニット１０４により取得されたパイロットデータを蓄積する。また、レシピ生成装置２００は、蓄積されたパイロットデータに基づいて検査レシピを生成し、生成された検査レシピをパイロットデータを取得した検査ユニット１０４に与える。レシピ生成装置２００の構成および動作の詳細については後述する。
管理装置３００は、例えばパーソナルコンピュータであり、ＣＰＵおよびメモリを含むとともに表示部３１０および操作部３２０を備える。管理装置３００は、使用者による操作部３２０の操作に基づいて、互いに対応する基板処理装置１００および露光装置９００の各々に、例えば基板処理の開始を指令する。すなわち、管理装置３００は、基板処理装置１００および露光装置９００に基板処理指令およびマスク情報を与える。
２．検査ユニット１０４の構成
図２および図３は、図１の検査ユニット１０４の構成を説明するための図である。図２に示すように、検査ユニット１０４は、主として、制御部１１０、検査部１２０およびレシピ記憶部１３０から構成される。図２および図３では、制御部１１０およびレシピ記憶部１３０がブロックにより示される。また、図２では、検査部１２０の外観斜視図が示される。図３では、検査部１２０の内部構成を示す模式的側面図が示される。検査部１２０は、筐体１０、投光部２０、反射部３０、撮像部４０、基板保持装置５０、移動部６０およびノッチ検出部７０を含む。
まず、検査部１２０について説明する。投光部２０、反射部３０、撮像部４０、基板保持装置５０、移動部６０およびノッチ検出部７０は、筐体１０内に収容されている。筐体１０の側部には基板Ｗを搬送するためのスリット状の開口部１６が形成されている。
投光部２０は、例えば１または複数の光源を含み、基板Ｗの直径よりも大きい帯状の光を斜め下方に出射する。反射部３０は、例えばミラーを含む。撮像部４０は、複数の画素が直線状に並ぶように配置された撮像素子、ならびに１または複数の集光レンズを含む。
図３に示すように、基板保持装置５０は、例えばスピンチャックであり、駆動装置５１および回転保持部５２を含む。駆動装置５１は、例えば電動モータであり、回転軸５１ａを有する。回転保持部５２は、駆動装置５１の回転軸５１ａの先端に取り付けられ、検査対象の基板Ｗを保持した状態で鉛直軸の周りで回転駆動される。
移動部６０は、一対のガイド部材６１（図２）および移動保持部６２を含む。一対のガイド部材６１は、互いに隣り合うようにかつ互いに平行に延びるように設けられる。一対のガイド部材６１が延びる方向と、撮像部４０の複数の画素が並ぶ方向とは直交する。移動保持部６２は、基板保持装置５０を保持しつつ一対のガイド部材６１に沿って移動可能に構成される。基板保持装置５０が基板Ｗを保持する状態で移動保持部６２が一対のガイド部材６１に沿って移動することにより、基板Ｗが投光部２０および反射部３０の下方を通過する。
ノッチ検出部７０は、例えば投光素子および受光素子を含む反射型光電センサであり、検査対象の基板Ｗが基板保持装置５０により回転される状態で、基板Ｗの外周部に向けて光を出射するとともに基板Ｗからの反射光を受光する。ノッチ検出部７０は、基板Ｗからの反射光の受光量に基づいて基板Ｗのノッチを検出する。ノッチ検出部７０として透過型光電センサが用いられてもよい。
制御部１１０は、例えばＣＰＵおよびメモリ、またはマイクロコンピュータを含み、投光部２０、撮像部４０、基板保持装置５０、移動部６０およびノッチ検出部７０を制御する。制御部１１０のメモリまたはマイクロコンピュータには、後述する基板検査プログラムが記憶されている。レシピ記憶部１３０は、ハードディスクまたは不揮発性半導体メモリ等の記憶媒体を含み、上記のレシピ生成装置２００により生成された検査レシピを記憶する。制御部１１０およびレシピ記憶部１３０の詳細は後述する。
検査ユニット１０４は、パイロットモードおよび検査モードの各モードで基板Ｗの撮像動作を行う。検査モードにおける基板Ｗの撮像動作について説明する。検査対象の基板Ｗは、開口部１６を通して筐体１０内に搬入され、基板保持装置５０により保持される。続いて、基板保持装置５０により基板Ｗが回転されつつノッチ検出部７０により基板Ｗの周縁部に光が出射され、その反射光がノッチ検出部７０により受光される。これにより、基板Ｗのノッチが検出され、基板Ｗの向きが判定される。その後、基板保持装置５０により基板Ｗのノッチが一定の方向を向くように基板Ｗの回転位置が調整される。
次に、投光部２０から斜め下方に帯状の光が出射されつつ移動部６０により基板Ｗが投光部２０の下方を通るように移動される。投光部２０からの光の照射範囲は基板Ｗの直径よりも大きい。これにより、基板Ｗの一面の全体に投光部２０からの光が順次照射される。基板Ｗから反射される光は反射部３０によりさらに反射されて撮像部４０に導かれる。撮像部４０の撮像素子は、基板Ｗの一面から反射される光を所定のサンプリング周期で受光することにより、基板Ｗの一面上の複数の部分を順次撮像する。撮像素子を構成する各画素は受光量に応じた値を示す画素データを出力する。撮像部４０から出力される複数の画素データに基づいて、基板Ｗの一面上の全体の画像を表す画像データ（以下、検査画像データと呼ぶ。）が生成される。その後、移動部６０により基板Ｗが搬入時の位置に戻され、基板Ｗが開口部１６を通して筐体１０の外部に搬出される。
パイロットモードにおける基板Ｗの撮像動作は、以下に示す点を除いて検査モード時における基板Ｗの撮像動作と同じである。パイロットモードでは、筐体１０内に基板Ｗが搬入され、基板Ｗの回転位置が調整された後、投光部２０から出射される光の明るさ（光の出力）が調整される。
具体的には、基板Ｗの中心を通る直線上の領域に投光部２０から出射される帯状の光が入射するように、移動部６０により基板Ｗが投光部２０の下方まで移動される。この状態で、投光部２０から基板Ｗに光が照射され、基板Ｗの一面で反射される光が撮像部４０の撮像素子により受光される。
そこで、撮像素子から出力される複数の画素データに基づく値（例えば複数の画素データの値の合計値または平均値等）が予め定められた目標値に近づくように、投光部２０の光の明るさが調整される。この動作は、基板Ｗを撮像する際に、適切な画素値を示す画像データを得るため、すなわち撮像により得られる基板Ｗの画像の明るさを適切な明るさに調整するために行われる。
その後、投光部２０から調整された明るさの光が出射されつつ移動部６０により基板Ｗが投光部２０の下方を通るように移動される。それにより、基板Ｗの一面の全体に投光部２０からの光が順次照射され、基板Ｗの一面上の全体の画像を表す画像データ（以下、パイロット画像データと呼ぶ。）が生成される。
パイロットモードにおける基板Ｗの撮像動作時に、基板Ｗごとに調整される投光部２０の光の明るさおよび基板Ｗごとに生成されるパイロット画像データは、上記のパイロットデータの例である。
３．検査ユニット１０４における基板Ｗの検査の概略
露光処理後の基板Ｗの一面には、当該露光処理で用いられたフォトマスクに対応するパターンが現れる。そのため、複数の基板Ｗに共通のフォトマスクを用いた露光処理が行われる場合、露光処理後の複数の基板Ｗの一面を検査する際には、共通の検査レシピを用いることができる。この点を考慮して、本実施の形態に係る基板処理装置１００においては、検査ユニット１０４では、以下のようにして基板Ｗの検査が行われる。
基板処理装置１００の稼働時において、例えば、検査ユニット１０４がパイロットモードにある状態で、マスク情報が共通する複数の基板Ｗの撮像が行われる。それにより、一のマスク情報に対応する複数のパイロットデータが取得される。そこで、レシピ生成装置２００は、検査ユニット１０４で取得された複数の複数のパイロットデータに基づいて検査レシピを生成する。このとき、当該検査レシピを生成するために用いられた複数の基板Ｗの一のマスク情報が、当該検査レシピに固有のマスク情報として対応付けられる。
検査ユニット１０４のレシピ記憶部１３０には、レシピ生成装置２００により生成された検査レシピがマスク情報と対応付けられた状態で記憶される。検査ユニット１０４は、処理対象となる基板Ｗのマスク情報（以下、対象マスク情報と呼ぶ。）に対応する検査レシピがレシピ記憶部１３０に記憶されている場合に、検査モードで動作する。それにより、対象マスク情報に対応する検査レシピを用いて基板Ｗの検査が行われる。
一方、検査ユニット１０４は、対象マスク情報に対応する検査レシピがレシピ記憶部１３０に記憶されていない場合に、上記のように、パイロットモードで動作する。それにより、検査ユニット１０４で取得される複数のパイロットデータに基づいて、対象マスク情報に対応する新たな検査レシピが生成される。
４．検査ユニット１０４およびレシピ生成装置２００の機能的な構成
図４は、図１の検査ユニット１０４およびレシピ生成装置２００の機能的な構成を説明するためのブロック図である。図４に示すように、検査ユニット１０４の制御部１１０は、機能部として、マスク情報取得部１１１、動作モード設定部１１２、パイロットデータ取得部１１３、対応付け部１１４、データセット送信部１１５、欠陥判定部１１６およびレシピ取得部１１７を含む。これらの機能部は、制御部１１０のＣＰＵがメモリに記憶された基板検査プログラムを実行することにより実現される。あるいは、制御部１１０のマイクロコンピュータが当該マイクロコンピュータに記憶された基板検査プログラムを実行することにより実現される。制御部１１０における上記の構成の一部または全ては、電子回路等のハードウェアにより実現されてもよい。
なお、基板検査プログラムは、制御部１１０のメモリまたはマイクロコンピュータに代えて、コンピュータが読み取り可能なＣＤ（コンパクト ディスク）－ＲＯＭ等の記憶媒体１０９に記憶されていてもよい。あるいは、基板検査プログラムは、記憶媒体１０９に格納された形態で提供され、制御部１１０にインストールされてもよい。
マスク情報取得部１１１は、管理装置３００から制御装置１０１に基板処理指令およびマスク情報が与えられると、そのマスク情報を対象マスク情報として取得する。これにより、検査ユニット１０４において、例えば現時点以降で処理される基板Ｗの露光処理に用いられるフォトマスクが把握される。
上記のように、レシピ記憶部１３０には、レシピ生成装置２００により生成された検査レシピがマスク情報と対応付けられた状態で記憶される。動作モード設定部１１２は、レシピ記憶部１３０に対象マスク情報に対応する検査レシピが記憶されているか否かを判定する。
そこで、動作モード設定部１１２は、レシピ記憶部１３０に対象マスク情報に対応する検査レシピが記憶されていない場合に、検査部１２０がパイロットモードで動作するように検査部１２０の動作を制御する。すなわち、動作モード設定部１１２は、検査ユニット１０４の動作モードをパイロットモードに設定する。なお、検査ユニット１０４がパイロットモードにあるときの検査部１２０の各部の動作条件は、制御部１１０の図示しないメモリまたはマイクロコンピュータに記憶されているものとする。
一方、動作モード設定部１１２は、レシピ記憶部１３０に対象マスク情報に対応する検査レシピが記憶されている場合に、検査部１２０が当該検査レシピに従って検査モードで動作するように検査部１２０の動作を制御する。すなわち、動作モード設定部１１２は、検査ユニット１０４の動作モードを検査モードに設定する。
パイロットデータ取得部１１３は、検査ユニット１０４がパイロットモードにあるときに、検査部１２０から出力される各種データをパイロットデータとして取得する。上記のように、パイロットデータには、パイロット画像データが含まれる。
対応付け部１１４は、パイロットデータ取得部１１３により取得されたパイロットデータにマスク情報取得部１１１により取得された対象マスク情報を対応付ける。また、データセット送信部１１５は、対応付け部１１４により互いに対応付けられたパイロットデータおよび対象マスク情報を含むデータセットを、レシピ生成装置２００に送信する。
欠陥判定部１１６は、検査ユニット１０４が検査モードにあるときに、検査部１２０から出力される検査画像データと対象マスク情報に対応する検査レシピとに基づいて、基板Ｗにおける欠陥の有無を判定する。
レシピ取得部１１７は、レシピ生成装置２００から新たな検査レシピとその検査レシピに対応するマスク情報が送信された場合に、当該新たな検査レシピをマスク情報とともに取得する。また、レシピ取得部１１７は、取得した新たな検査レシピを、取得したマスク情報に対応付けてレシピ記憶部１３０に記憶させる。
レシピ生成装置２００は、機能部として、データセット取得部２１１、データ分類部２１２、データ蓄積部２１３、レシピ生成部２１４およびレシピ送信部２１５を含む。これらの機能部は、レシピ生成装置２００のＣＰＵがメモリに記憶されたレシピ生成プログラムを実行することにより実現される。レシピ生成装置２００における上記の構成の一部または全ては電子回路等のハードウェアにより実現されてもよい。
なお、レシピ生成プログラムは、レシピ生成装置２００のメモリに代えて、コンピュータが読み取り可能なＣＤ－ＲＯＭ等の記憶媒体２０９に記憶されていてもよい。あるいは、レシピ生成プログラムは、記憶媒体２０９に格納された形態で提供され、レシピ生成装置２００にインストールされてもよい。
データセット取得部２１１は、検査ユニット１０４のデータセット送信部１１５からデータセットが送信された場合に、当該データセットを取得する。データ分類部２１２は、データセット取得部２１１により取得された複数のデータセットに含まれる複数のパイロットデータの各々を、当該パイロットデータに対応付けられたマスク情報に基づいて分類する。
すなわち、データ分類部２１２は、複数種類のマスク情報を含む複数のデータセットが取得される場合に、共通のマスク情報が対応付けられた複数のパイロットデータのグループが形成されるように、パイロットデータの分類を行う。
データ蓄積部２１３は、マスク情報ごとに分類された複数のパイロットデータを蓄積する。レシピ生成部２１４は、データ蓄積部２１３において、マスク情報に基づいて分類された複数のパイロットデータに基づいて、各マスク情報に対応する検査レシピを生成する。
ここで、レシピ生成装置２００においては、予め定められたレシピ生成条件が、レシピ生成プログラムの一部またはレシピ生成プログラムに付随する情報として、メモリ内に記憶されている。レシピ生成条件は、対応するマスク情報が共通する複数のパイロットデータから新たな検査レシピを生成するための条件である。
レシピ生成条件には、複数のパイロットデータから新たな検査レシピを生成するための複数のパイロットデータの蓄積条件が含まれる。したがって、本実施の形態に係るレシピ生成部２１４は、データ蓄積部２１３に蓄積された複数のパイロットデータが蓄積条件を満たしたか否かに応じて検査レシピの生成を開始する。
蓄積条件は、検査レシピを生成するために必要なパイロット画像データの数を含んでもよい。この場合、レシピ生成部２１４は、一のマスク情報に対応する複数のパイロット画像データの数が蓄積条件で定められた数を超えた場合に、一のマスク情報に対応する検査レシピの生成を開始する。一方、レシピ生成部２１４は、一のマスク情報に対応する複数のパイロット画像データの数が蓄積条件で定められた数を超えない場合に、一のマスク情報に対応する検査レシピの生成を開始しない。
また、蓄積条件は、上記のパイロット画像データの数に加えて、検査レシピを生成するために必要なパイロット画像データの取得期間を含んでもよい。この場合、レシピ生成部２１４は、一のマスク情報に対応する複数のパイロット画像データの数が蓄積条件で定められた数を超えかつそれらの取得日時が予め定められた取得期間にある場合にのみ、一のマスク情報に対応する検査レシピの生成を開始する。一方、レシピ生成部２１４は、一のマスク情報に対応する複数のパイロット画像データの数が蓄積条件で定められた数を超えない場合に、一のマスク情報に対応する検査レシピの生成を開始しない。また、レシピ生成部２１４は、一のマスク情報に対応する複数のパイロット画像データの取得日時が予め定められた取得期間にない場合に、一のマスク情報に対応する検査レシピの生成を開始しない。
また、レシピ生成条件には、複数のパイロットデータから新たな検査レシピを生成する際に、複数のパイロットデータについて行われるべき統計処理の方法が含まれる。したがって、本実施の形態に係るレシピ生成部２１４は、マスク情報ごとに分類された複数のパイロットデータについて、少なくとも統計処理を行うことにより検査レシピを生成する。
統計処理は、一の検査レシピを生成するために、蓄積された複数のパイロットデータから適切なパイロットデータを抽出する処理を含んでもよい。ここで、蓄積された複数のパイロットデータが正規分布に従うものとし、それらの複数のパイロットデータの平均をμとし、複数のパイロットデータの標準偏差をσとする。この場合、抽出されるべきパイロットデータの区間は、例えば「μ－σからμ＋σまでの１σ区間」、「μ－２σからμ＋２σまでの２σ区間」または「μ－３σからμ＋３σまでの３σ区間」のいずれかで規定されてもよい。
また、統計処理には、複数のパイロット画像データから欠陥の有無を検出するための基準となる画像データ（以下、基準画像データ）を検査レシピとして生成するための演算処理を含んでもよい。この場合、演算処理は、例えば基準画像データの各画素の値を定めるために、例えば複数のパイロット画像データの互いに対応する各画素の値を用いて代表値（平均値、最大値および最小値等）を算出することであってもよい。
レシピ送信部２１５は、レシピ生成部２１４により生成された新たな検査レシピを、当該検査レシピに対応するマスク情報とともに検査ユニット１０４のレシピ取得部１１７に送信する。
５．基板検査処理
図５は、図４の制御部１１０において行われる基板検査処理の一例を示すフローチャートである。基板検査処理は、制御部１１０に記憶された基板処理プログラムが実行されることにより、基板処理装置１００がオン状態にある間、所定周期で繰り返し行われる。
まず、図４のマスク情報取得部１１１は、管理装置３００から制御装置１０１にマスク情報が与えられたか否かを判定する（ステップＳ１０１）。制御装置１０１にマスク情報が与えられない場合、マスク情報取得部１１１は、制御装置１０１にマスク情報が与えられるまでステップＳ１０１の処理を繰り返す。一方、マスク情報取得部１１１は、制御装置１０１にマスク情報が与えられると、そのマスク情報を対象マスク情報として取得する（ステップＳ１０２）。
次に、図４の動作モード設定部１１２は、取得された対象マスク情報に対応する検査レシピが図４のレシピ記憶部１３０に記憶されているか否かを判定する（ステップＳ１０３）。対象マスク情報に対応する検査レシピがレシピ記憶部１３０に記憶されていない場合、図４の動作モード設定部１１２は、検査ユニット１０４の動作モードをパイロットモードに設定する（ステップＳ１０４）。
次に、図４のパイロットデータ取得部１１３は、図４の検査部１２０から出力される各種データをパイロットデータとして取得する（ステップＳ１０５）。また、図４の対応付け部１１４は、取得されたパイロットデータにマスク情報取得部１１１により取得された対象マスク情報を対応付ける（ステップＳ１０６）。さらに、図４のデータセット送信部１１５は、対応付け部１１４により互いに対応付けられたパイロットデータおよび対象マスク情報を含むデータセットを、レシピ生成装置２００に送信する（ステップＳ１０７）。
その後、レシピ取得部１１７は、レシピ生成装置２００からマスク情報が対応付けられた検査レシピを受信したか否かを判定する（ステップＳ１０８）。検査レシピを受信しない場合、レシピ取得部１１７は、基板検査処理を終了する。一方、検査レシピを受信した場合、レシピ取得部１１７は、マスク情報が対応付けられた検査レシピをレシピ記憶部１３０に記憶させ（ステップＳ１０９）、基板検査処理を終了する。
上記のステップＳ１０４において、対象マスク情報に対応する検査レシピがレシピ記憶部１３０に記憶されている場合、動作モード設定部１１２は、検査ユニット１０４の動作モードを検査モードに設定する（ステップＳ１１１）。
次に、図４の欠陥判定部１１６は、検査部１２０から出力される検査画像データと対象マスク情報に対応する検査レシピとに基づいて、基板Ｗにおける欠陥の有無を判定し（ステップＳ１２２）、基板検査処理を終了する。なお、ステップＳ１２２において、欠陥判定部１１６は、欠陥の有無の判定結果を、予め定められた記憶装置に記憶させてもよいし、表示装置または音声出力装置で使用者に提示できるように出力してもよい。
６．レシピ生成処理
図６は、図４のレシピ生成装置２００において行われるレシピ生成処理の一例を示すフローチャートである。レシピ生成処理は、レシピ生成装置２００に記憶されたレシピ生成プログラムが実行されることにより、レシピ生成装置２００がオン状態にある間、所定周期で繰り返し行われる。
まず、図４のデータセット取得部２１１は、基板処理装置１００のデータセット送信部１１５からデータセットが与えられたか否かを判定する（ステップＳ２０１）。データセットが与えられない場合、データセット取得部２１１は、データセットが与えられるまでステップＳ２０１の処理を繰り返す。一方、データセット取得部２１１は、データセットが与えられると、そのデータセットを取得する（ステップＳ２０２）。
次に、図４のデータ分類部２１２は、データセットに含まれるマスク情報に基づいてパイロットデータを分類し（ステップＳ２０３）、図４のデータ蓄積部２１３に蓄積する（ステップＳ２０４）。
次に、図４のレシピ生成部２１４は、データ蓄積部２１３に蓄積された複数のパイロットデータが一のマスク情報に対応する検査レシピを生成するための蓄積条件を満たしたか否かを判定する（ステップＳ２０５）。蓄積条件が満足されない場合、レシピ生成部２１４は、検査レシピ生成処理を終了する。一方、蓄積条件が満足された場合、レシピ生成部２１４は、一のマスク情報に対応する複数のパイロットデータについて予め定められた統計処理を行う（ステップＳ２０６）。
次に、レシピ生成部２１４は、統計処理により得られる各種データに基づいて一のマスク情報に対応する検査レシピを生成する（ステップＳ２０７）。また、図４のレシピ送信部２１５は、生成された新たな検査レシピを、当該検査レシピに対応するマスク情報とともに検査ユニット１０４のレシピ取得部１１７に送信する（ステップＳ２０８）。その後、検査レシピ生成処理が終了する。
７．効果
（ａ）上記の基板処理装置１００においては、処理対象となる基板Ｗの対象マスク情報に対応する検査レシピがレシピ記憶部１３０に記憶されている場合に、検査ユニット１０４が検査モードで動作する。それにより、処理対象となる基板Ｗに対応する検査レシピに従って基板Ｗの欠陥の有無が判定される。このように、基板Ｗの検査に適用可能な検査レシピが生成されている場合には、パイロットデータを収集することなく基板Ｗの検査が行われる。
一方、処理対象となる基板Ｗの対象マスク情報に対応する検査レシピがレシピ記憶部１３０に記憶されていない場合に、検査ユニット１０４がパイロットモードで動作する。それにより、処理対象となる基板Ｗの検査レシピを生成するためのパイロットデータが収集される。
そのため、使用者は、基板処理装置１００に処理対象となる基板Ｗが搬入されるごとに、過去に生成された検査レシピが再利用可能であるかどうかを確認する必要がない。したがって、検査レシピを生成するための煩雑な作業を要することなく、複数の基板Ｗを効率よく検査することが可能になる。
（ｂ）レシピ生成装置２００においては、複数のマスク情報にそれぞれ対応する複数のパイロットデータが、マスク情報ごとに分類され、データ蓄積部２１３に蓄積される。また、各マスク情報に分類された複数のパイロットデータが統計処理されることにより当該マスク情報に対応する検査レシピが生成される。これにより、マスク情報ごとに信頼性の高い検査レシピが生成される。その結果、基板Ｗの検査の信頼性が向上する。
８．他の実施の形態
（ａ）上記実施の形態で用いられるマスク情報はマスク識別子であるが、本発明はこれに限定されない。通常、基板Ｗの一面上に回路を形成する際には、当該回路を形成するための複数の層が積層形成される。そのため、基板Ｗの一面の外観は、層が形成されるごとに変化する。例えば、積層形成される複数の層のうち一の層が一のフォトマスクを用いて形成された後、当該一の層上に積層される他の層も一のフォトマスクを用いて形成される場合を想定する。この場合、一の層が平坦な面上に形成されていても、他の層は一の層のパターンを含む凹凸面上に形成される。そのため、他の層が形成された時点の基板Ｗの一面の外観は、一の層が形成された時点の基板Ｗの一面の外観から変化する。
この点を考慮して、マスク情報は、マスク識別子に加えて、基板Ｗの処理工程に関する情報（以下、工程情報と呼ぶ。）を含んでもよい。この場合、工程情報は、処理対象となる基板Ｗにおける何度目の露光処理であるのかを示す情報であってもよい。あるいは、工程情報は、処理対象となる基板Ｗに一のフォトマスクを用いた複数の露光処理が行われる場合に、当該一のフォトマスクの使用回数を示す情報であってもよい。
これらの場合、検査ユニット１０４により取得されるパイロットデータが、マスク識別子と工程情報との組み合わせごとに分類される。マスク識別子と工程情報との組み合わせに対応する検査レシピが生成される。それにより、基板Ｗの検査に、より適切な検査レシピを用いることが可能になる。したがって、基板Ｗの検査の信頼性が向上する。
（ｂ）上記実施の形態に係る基板処理システム５００においては、複数の基板処理装置１００および複数の露光装置９００がそれぞれ個別にネットワーク５１０に接続されているが、本発明はこれに限定されない。互いに対応する基板処理装置１００および露光装置９００は、例えば基板処理装置１００および露光装置９００の相互間の処理を制御するための共通の中継装置を介してネットワーク５１０に接続されていてもよい。
（ｃ）上記実施の形態に係る検査ユニット１０４においては、レシピ記憶部１３０に、マスク情報が対応付けられた１または複数の検査レシピが記憶される。それにより、処理対象となる基板Ｗのマスク情報に対応する検査レシピがレシピ記憶部１３０に記憶されているか否かに基づいて、過去に生成された検査レシピを使用するか否かが判定される。本発明は、この例に限定されない。
例えば、レシピ生成部２１４による検査レシピの生成時に、生成される検査レシピに、マスク情報に加えて、当該検査レシピを使用可能な有効期限を対応付ける。この場合、動作モード設定部１１２は、管理装置３００からマスク情報が送信される場合に、レシピ記憶部１３０に対象マスク情報に対応する検査レシピが記憶されているか否かを判定する。また、動作モード設定部１１２は、対象マスク情報に対応する検査レシピが記憶されている場合に、現在の日時がその検査レシピに対応付けられた有効期限内にあるか否かを判定する。
その上で、動作モード設定部１１２は、現在の日時がその検査レシピに対応付けられた有効期限内にある場合に、検査ユニット１０４を検査モードに設定してもよい。一方、動作モード設定部１１２は、現在の日時がその検査レシピに対応付けられた有効期限内から外れている場合に、検査ユニット１０４をパイロットモードに設定してもよい。さらに、この場合、動作モード設定部１１２は、レシピ記憶部１３０内の当該検査レシピを削除してもよい。
これにより、一のマスク情報に対応する検査レシピが、所定期間ごとに自動的に更新されるので、煩雑な作業を要することなく、長期に渡って基板の検査の高い信頼性が維持される。
（ｄ）上記実施の形態では、基板処理システム５００は、基板処理装置１００、レシピ生成装置２００および管理装置３００を含み、露光装置９００を含まないが、本発明はこれに限定されない。基板処理システム５００は、基板処理装置１００およびレシピ生成装置２００を含み、管理装置３００を含まなくてもよい。また、基板処理システム５００は、基板処理装置１００、レシピ生成装置２００および管理装置３００とともに、露光装置９００を含んでもよい。
（ｅ）上記実施の形態では、基板処理装置１００、レシピ生成装置２００および管理装置３００がそれぞれ個別に設けられるが、本発明はこれに限定されない。レシピ生成装置２００および管理装置３００のうち少なくとも一部の内部構成が１つの基板処理装置１００に設けられてもよい。この場合、レシピ生成装置２００および管理装置３００のうち少なくとも一部の内部構成は、例えばレシピ生成装置２００の各種機能部であってもよい。
９．請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
上記実施の形態では、基板Ｗに対する処理液の塗布処理、温度調整処理および現像処理が付随処理の例であり、処理ユニット１０２が処理ユニットの例であり、マスク情報取得部１１１がマスク情報取得部の例であり、検査部１２０、動作モード設定部１１２、パイロットデータ取得部１１３および欠陥判定部１１６を含む構成が検査部の例であり、レシピ生成部２１４がレシピ生成部の例である。
また、基板処理システム５００が基板処理システムの例であり、基板処理装置１００が基板処理装置の例であり、対応付け部１１４が対応付け部の例であり、データ分類部２１２がデータ分類部の例であり、データセット送信部１１５がデータセット送信部の例であり、レシピ取得部１１７がレシピ取得部の例であり、データセット取得部２１１がデータセット取得部の例であり、レシピ送信部２１５がレシピ送信部の例である。
１０．実施の形態の総括
（第１項） 第１項に係る基板処理システムは、
基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う処理ユニットと、
前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するマスク情報取得部と、
前記処理ユニットによる前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成された検査部と、
前記検査部が前記パイロットモードにある状態で前記基板について生成されたパイロットデータに、前記マスク情報取得部により取得されかつ当該基板に対応するマスク情報を対応付ける対応付け部と、
前記処理ユニットが前記基板を複数処理する場合に、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記複数の基板についてそれぞれ生成された複数のパイロットデータのうち共通するマスク情報が対応付けられた複数のパイロットデータに基づいて当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するレシピ生成部とを備え、
前記検査部は、前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報取得部により取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが生成されている場合に前記検査モードで動作し、当該検査モードにある状態で、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定する。
露光処理後の基板の表面には、当該露光処理で用いられたフォトマスクに対応するパターンが現れる。そのため、複数の基板に共通のフォトマスクを用いた露光処理が行われる場合、露光処理後の複数の基板の表面を検査する際には、共通の検査レシピを用いることができる。
上記の基板処理装置においては、付随処理の対象となる基板のマスク情報に対応する検査レシピが生成されている場合に、検査部が検査モードで動作し、当該基板に対応する検査レシピに従って基板の欠陥の有無が判定される。このように、基板の検査に適用可能な検査レシピが生成されている場合には、パイロットデータを収集することなく基板の検査が行われる。
そのため、使用者は、基板の付随処理が行われるごとに、過去に生成された検査レシピが再利用可能であるかどうかを確認する必要がない。したがって、検査レシピを生成するための煩雑な作業を要することなく、複数の基板を効率よく検査することが可能になる。
（第２項）第１項に記載の基板処理システムにおいて、
前記検査部は、前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報取得部により取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが生成されていない場合に前記パイロットモードで動作してもよい。
この場合、付随処理の対象となる基板のマスク情報に対応する検査レシピが生成されていない場合に、検査部がパイロットモードで動作し、当該検査レシピを生成するためのパイロットデータが収集される。したがって、検査レシピを生成するための煩雑な作業を要することなく、複数の基板を効率よく検査することが可能になる。
（第３項）第１項または第２項に記載の基板処理システムにおいて、
前記基板処理装置は、
前記処理ユニットが前記基板を複数処理する場合に、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で前記複数の基板についてそれぞれ生成された複数のパイロットデータを各パイロットデータに対応付けられたマスク情報に基づいて分類するデータ分類部をさらに備え、
前記レシピ生成部は、マスク情報ごとに分類された複数のパイロットデータを統計処理することにより、前記マスク情報に対応する検査レシピを生成してもよい。
この場合、マスク情報ごとに信頼性の高い検査レシピが生成される。その結果、基板の検査の信頼性が向上する。
（第４項）第１項～第３項に記載の基板処理システムにおいて、
前記マスク情報は、前記マスク識別子に加えて前記露光処理が当該基板における何度目の露光処理であるのかを示す工程情報を含んでもよい。
この場合、基板の検査に、より適切な検査レシピを用いることが可能になる。したがって、基板の検査の信頼性が向上する。
（第５項）第１項～第３項に記載の基板処理システムにおいて、
前記工程情報は、一の基板に対して一のフォトマスクを用いた複数の露光処理が行われる場合に、当該一のフォトマスクの使用回数であってもよい。
この場合、基板の検査に、より適切な検査レシピを用いることが可能になる。したがって、基板の検査の信頼性が向上する。
（第６項）第６項に係る基板処理装置は、
基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う処理ユニットと、
前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するマスク情報取得部と、
前記処理ユニットによる前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成された検査部と、
前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記マスク情報取得部により前記基板に対して取得された前記マスク情報と、のデータセットを、レシピ生成装置に送信するデータセット送信部と、
前記データセットの送信後に、前記マスク情報に対応するように前記レシピ生成装置により生成された検査レシピを取得するレシピ取得部とを備え、
前記検査部は、前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報取得部により取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが前記レシピ取得部により取得されている場合に前記検査モードで動作し、当該検査モードにある状態で、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定する。
その基板処理装置においては、付随処理の対象となる基板のマスク情報に対応する検査レシピが取得されている場合に、検査部が検査モードで動作し、当該基板に対応する検査レシピに従って基板の欠陥の有無が判定される。このように、基板の検査に適用可能な検査レシピが生成されている場合には、パイロットデータを収集することなく基板の検査が行われる。
そのため、使用者は、基板の付随処理が行われるごとに、過去に生成された検査レシピが再利用可能であるかどうかを確認する必要がない。したがって、検査レシピを生成するための煩雑な作業を要することなく、複数の基板を効率よく検査することが可能になる。
（第７項）第７項に係るレシピ生成装置は、
基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う基板処理装置とともに用いられるレシピ生成装置であって、
前記基板処理装置は、前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成され、
前記レシピ生成装置は、
前記基板処理装置が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報と、のデータセットを取得するデータセット取得部と、
前記パイロットデータ取得部により取得された複数のデータセットの複数のパイロットデータのうちマスク情報が共通する複数のパイロットデータに基づいて、当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するレシピ生成部と、
前記レシピ生成部により生成された検査レシピを当該検査レシピに対応するマスク情報とともに前記基板処理装置に送信するレシピ送信部とを備える。
そのレシピ生成装置においては、パイロットモードにある基板処理装置からパイロットデータとマスク情報とを含むデータセットが取得される。複数のデータセットの複数のパイロットデータのうち、マスク情報が共通する複数の基板の複数のパイロットデータに基づいて、当該マスク情報に対応する検査レシピが生成される。生成された検査レシピが、基板処理装置に送信される。
これにより、基板処理装置においては、基板の付随処理が行われるごとに、当該基板のマスク情報に基づいて、新たな検査レシピの生成が必要か否かを判定することができる。例えば、付随処理の対象となる基板のマスク情報に対応する検査レシピを受信している場合には、新たな検査レシピの生成が不要である。一方、付随処理の対象となる基板のマスク情報に対応する検査レシピを受信していない場合には、新たな検査レシピの生成が必要である。
それにより、使用者は、基板の付随処理が行われるごとに、過去に生成された検査レシピが再利用可能であるかどうかを確認する必要がない。したがって、検査レシピを生成するための煩雑な作業を要することなく、複数の基板を効率よく検査することが可能になる。
（第８項）第８項に係る基板処理方法は、
基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行うステップと、
前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するステップと、
前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で、検査部を動作させるステップと、
前記検査部が前記パイロットモードにある状態で前記基板について生成されたパイロットデータに、前記マスク情報取得部により取得されかつ当該基板に対応するマスク情報を対応付けるステップと、
前記基板が複数処理される場合に、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記複数の基板についてそれぞれ生成された複数のパイロットデータのうち共通するマスク情報が対応付けられた複数のパイロットデータに基づいて当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するステップとを含み、
前記検査部を動作させるステップは、前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報を取得するステップにより取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが生成されている場合に、前記検査部を前記検査モードで動作させ、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定することを含む。
上記の基板処理方法においては、付随処理の対象となる基板のマスク情報に対応する検査レシピが生成されている場合に、検査部が検査モードで動作し、当該基板に対応する検査レシピに従って基板の欠陥の有無が判定される。このように、基板の検査に適用可能な検査レシピが生成されている場合には、パイロットデータを収集することなく基板の検査が行われる。
そのため、使用者は、基板の付随処理が行われるごとに、過去に生成された検査レシピが再利用可能であるかどうかを確認する必要がない。したがって、検査レシピを生成するための煩雑な作業を要することなく、複数の基板を効率よく検査することが可能になる。
（第９項）第９項に係る基板処理方法は、
基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行うステップと、
前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するステップと、
前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で、検査部を動作させるステップと、
前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記マスク情報を取得するステップにより前記基板に対して取得された前記マスク情報と、のデータセットを、レシピ生成装置に送信するステップと、
前記データセットの送信後に、前記マスク情報に対応して前記レシピ生成装置により生成された検査レシピを取得するステップとを含み、
前記検査部を動作させるステップは、前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報を取得するステップにより取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが取得されている場合に、前記検査部を前記検査モードで動作させ、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定することを含む。
その基板処理方法においては、付随処理の対象となる基板のマスク情報に対応する検査レシピが取得されている場合に、検査部が検査モードで動作し、当該基板に対応する検査レシピに従って基板の欠陥の有無が判定される。このように、基板の検査に適用可能な検査レシピが生成されている場合には、パイロットデータを収集することなく基板の検査が行われる。
そのため、使用者は、基板の付随処理が行われるごとに、過去に生成された検査レシピが再利用可能であるかどうかを確認する必要がない。したがって、検査レシピを生成するための煩雑な作業を要することなく、複数の基板を効率よく検査することが可能になる。
（第１０項）第１０項に係るレシピ生成方法は、
基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う基板処理装置を用いたレシピ生成方法であって、
前記基板処理装置は、前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成され、
前記レシピ生成方法は、
前記基板処理装置が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報と、のデータセットを取得するステップと、
前記データセットを取得するステップにより取得された複数のデータセットの複数のパイロットデータのうちマスク情報が共通する複数のパイロットデータに基づいて、当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するステップと、
前記検査レシピを生成するステップにより生成された検査レシピを当該検査レシピに対応するマスク情報とともに前記基板処理装置に送信するステップとを含む。
そのレシピ生成方法においては、パイロットモードにある基板処理装置からパイロットデータとマスク情報とを含むデータセットが取得される。複数のデータセットの複数のパイロットデータのうち、マスク情報が共通する複数の基板の複数のパイロットデータに基づいて、当該マスク情報に対応する検査レシピが生成される。生成された検査レシピが、基板処理装置に送信される。
これにより、基板処理装置においては、基板の付随処理が行われるごとに、当該基板のマスク情報に基づいて、新たな検査レシピの生成が必要か否かを判定することができる。例えば、付随処理の対象となる基板のマスク情報に対応する検査レシピを受信している場合には、新たな検査レシピの生成が不要である。一方、付随処理の対象となる基板のマスク情報に対応する検査レシピを受信していない場合には、新たな検査レシピの生成が必要である。
それにより、使用者は、基板の付随処理が行われるごとに、過去に生成された検査レシピが再利用可能であるかどうかを確認する必要がない。したがって、検査レシピを生成するための煩雑な作業を要することなく、複数の基板を効率よく検査することが可能になる。
１０…筐体，１６…開口部，２０…投光部，３０…反射部，４０…撮像部，５０…基板保持装置，５１…駆動装置，５１ａ…回転軸，５２…回転保持部，６０…移動部，６１…ガイド部材，６２…移動保持部，７０…ノッチ検出部，１００…基板処理装置，１０１…制御装置，１０２…処理ユニット，１０３…搬送装置，１０４…検査ユニット，１０９，２０９…記憶媒体，１１０…制御部，１１１…マスク情報取得部，１１２…動作モード設定部，１１３…パイロットデータ取得部，１１４…対応付け部，１１５…データセット送信部，１１６…欠陥判定部，１１７…レシピ取得部，１２０…検査部，１３０…レシピ記憶部，２００…レシピ生成装置，２１１…データセット取得部，２１２…データ分類部，２１３…データ蓄積部，２１４…レシピ生成部，２１５…レシピ送信部，３００…管理装置，３１０…表示部，３２０…操作部，５００…基板処理システム，５１０…ネットワーク，９００…露光装置，Ｗ…基板

Claims (10)

  1. 基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う処理ユニットと、
    前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するマスク情報取得部と、
    前記処理ユニットによる前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成された検査部と、
    前記検査部が前記パイロットモードにある状態で前記基板について生成されたパイロットデータに、前記マスク情報取得部により取得されかつ当該基板に対応するマスク情報を対応付ける対応付け部と、
    前記処理ユニットが前記基板を複数処理する場合に、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記複数の基板についてそれぞれ生成された複数のパイロットデータのうち共通するマスク情報が対応付けられた複数のパイロットデータに基づいて当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するレシピ生成部とを備え、
    前記検査部は、前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報取得部により取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが生成されている場合に前記検査モードで動作し、当該検査モードにある状態で、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定する、基板処理システム。
  2. 前記検査部は、前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報取得部により取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが生成されていない場合に前記パイロットモードで動作する、請求項１記載の基板処理システム。
  3. 前記処理ユニットが前記基板を複数処理する場合に、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で前記複数の基板についてそれぞれ生成された複数のパイロットデータを各パイロットデータに対応付けられたマスク情報に基づいて分類するデータ分類部をさらに備え、
    前記レシピ生成部は、マスク情報ごとに分類された複数のパイロットデータを統計処理することにより、前記マスク情報に対応する検査レシピを生成する、請求項１または２記載の基板処理システム。
  4. 前記マスク情報は、前記マスク識別子に加えて前記露光処理が当該基板における何度目の露光処理であるのかを示す工程情報を含む、請求項１または２記載の基板処理システム。
  5. 前記工程情報は、一の基板に対して一のフォトマスクを用いた複数の露光処理が行われる場合に、当該一のフォトマスクの使用回数である、請求項１または２記載の基板処理システム。
  6. 基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う処理ユニットと、
    前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するマスク情報取得部と、
    前記処理ユニットによる前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成された検査部と、
    前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記マスク情報取得部により前記基板に対して取得された前記マスク情報と、のデータセットを、レシピ生成装置に送信するデータセット送信部と、
    前記データセットの送信後に、前記マスク情報に対応するように前記レシピ生成装置により生成された検査レシピを取得するレシピ取得部とを備え、
    前記検査部は、前記処理ユニットにより前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報取得部により取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが前記レシピ取得部により取得されている場合に前記検査モードで動作し、当該検査モードにある状態で、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定する、基板処理装置。
  7. 基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う基板処理装置とともに用いられるレシピ生成装置であって、
    前記基板処理装置は、前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成され、
    前記レシピ生成装置は、
    前記基板処理装置が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報と、のデータセットを取得するデータセット取得部と、
    前記パイロットデータ取得部により取得された複数のデータセットの複数のパイロットデータのうちマスク情報が共通する複数のパイロットデータに基づいて、当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するレシピ生成部と、
    前記レシピ生成部により生成された検査レシピを当該検査レシピに対応するマスク情報とともに前記基板処理装置に送信するレシピ送信部とを備えた、レシピ生成装置。
  8. 基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行うステップと、
    前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するステップと、
    前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で、検査部を動作させるステップと、
    前記検査部が前記パイロットモードにある状態で前記基板について生成されたパイロットデータに、前記マスク情報取得部により取得されかつ当該基板に対応するマスク情報を対応付けるステップと、
    前記基板が複数処理される場合に、前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記複数の基板についてそれぞれ生成された複数のパイロットデータのうち共通するマスク情報が対応付けられた複数のパイロットデータに基づいて当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するステップとを含み、
    前記検査部を動作させるステップは、前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報を取得するステップにより取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが生成されている場合に、前記検査部を前記検査モードで動作させ、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定することを含む、基板処理方法。
  9. 基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行うステップと、
    前記付随処理が行われる前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報を取得するステップと、
    前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で、検査部を動作させるステップと、
    前記検査部が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記マスク情報を取得するステップにより前記基板に対して取得された前記マスク情報と、のデータセットを、レシピ生成装置に送信するステップと、
    前記データセットの送信後に、前記マスク情報に対応して前記レシピ生成装置により生成された検査レシピを取得するステップとを含み、
    前記検査部を動作させるステップは、前記付随処理が行われる前記基板について前記マスク情報を取得するステップにより取得された前記マスク情報に対応する検査レシピが取得されている場合に、前記検査部を前記検査モードで動作させ、前記検査レシピに従って前記基板の欠陥の有無を判定することを含む、基板処理方法。
  10. 基板について予め定められた露光処理に付随する付随処理を行う基板処理装置を用いたレシピ生成方法であって、
    前記基板処理装置は、前記基板の前記付随処理中に、前記基板に対応する検査レシピを生成するためのデータをパイロットデータとして生成するパイロットモード、および前記基板の欠陥の有無を判定する検査モードのいずれか一方で動作可能に構成され、
    前記レシピ生成方法は、
    前記基板処理装置が前記パイロットモードにある状態で、前記基板について生成された前記パイロットデータと、前記基板に対して前記露光処理に用いられるフォトマスクを識別するためのマスク識別子を含むマスク情報と、のデータセットを取得するステップと、
    前記データセットを取得するステップにより取得された複数のデータセットの複数のパイロットデータのうちマスク情報が共通する複数のパイロットデータに基づいて、当該マスク情報に対応する検査レシピを生成するステップと、
    前記検査レシピを生成するステップにより生成された検査レシピを当該検査レシピに対応するマスク情報とともに前記基板処理装置に送信するステップとを含む、レシピ生成方法。
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