TW201937212A - 偏光板和包括所述偏光板的光學顯示器 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種偏光板以及一種包含偏光板的光學顯示器。偏光板包含：偏光片；結合層，形成於偏光片的上部表面上；以及抗反射膜，形成於結合層的上部表面上，其中抗反射膜包含基底層、高折射率層以及低折射率層，基底層、高折射率層以及低折射率層按所陳述次序依序形成於結合層上；結合層具有1.51到小於1.60的折射指數；且偏光片、結合層以及基底層滿足以下關係式1。

Description

偏光板和包括所述偏光板的光學顯示器
本發明涉及一種偏光板以及一種包含偏光板的光學顯示器。相關申請的交叉引用
本申請案主張2017年12月28日在韓國智慧財產權局提交的韓國專利申請案第10-2017-0183240號的權益，所述申請案的全部揭露內容以引用的方式併入本文中。
在光學顯示器的操作中，存在因外部光的反射或螢幕上的內部照明而導致的螢幕不清晰問題。為解決這類問題，於光學顯示器的最外表面上形成塗層。塗層的代表性實例是防眩光（anti-glare，AG）塗層或抗反射（anti-reflection，AR）塗層。AR塗層藉由基於塗層與其它層之間的折射指數差值使光偏移來抑制反射。降低反射率藉由在光學顯示器的操作期間更高效地抑制光反射來提供更好的螢幕品質。
一般來說，藉由改變構成AR塗層的高折射率層和低折射率層的折射指數或樹脂厚度來降低塗層的反射率。因為反射率涉及塗層的折射指數，所以通常藉由調節高折射率層和低折射率層的折射指數來降低塗層的反射率。然而，在具有高折射指數的膜（例如聚對苯二甲酸乙二酯（polyethylene terephthalate，PET）膜）用作AR塗層的基底層時，即使藉由減小低折射率層的折射指數，反射率的降低仍為有限的。具體地說，在將由具有高折射指數的膜作為基底層形成的AR塗層施加到偏光板時，難以使偏光板的反射率降低到低於0.4%。
韓國專利公開案第2011-0126921號等揭露了本發明的背景技術。
本發明的一態樣是提供一種包含抗反射膜的偏光板，所述抗反射膜包含具有高折射指數和低反射率的基底層。
本發明的另一態樣是提供一種偏光板，所述偏光板的反射率降低到0.4%或小於0.4%，以改善光學顯示器的螢幕品質。
本發明的又一態樣是提供包含根據本發明的偏光板的光學顯示器。
根據本發明的一個態樣，偏光板包含：偏光片；結合層，形成於偏光片的上部表面上；以及抗反射膜，形成於結合層的上部表面上，其中抗反射膜包含基底層、高折射率層以及低折射率層，所述基底層、所述高折射率層以及所述低折射率層按所陳述次序依序形成於結合層上；結合層具有1.51到小於1.60的折射指數；且偏光片、結合層以及基底層滿足以下關係式1： 偏光片的折射指數＜結合層的折射指數＜基底層的折射指數 ---（1）。
在一個實施例中，抗反射膜可具有0.3%或小於0.3%的反射率。
在一個實施例中，基底層與低折射率層相比可具有更高折射指數，且基底層與低折射率層之間的折射指數差值可為0.25或大於0.25。
在一個實施例中，基底層可具有1.60或大於1.60的折射指數。
在一個實施例中，基底層可包含由以下中的至少一者形成的膜：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯以及聚萘二甲酸丁二酯。
在一個實施例中，高折射率層可具有1.65或大於1.65的折射指數。
在一個實施例中，低折射率層可具有小於1.65的折射指數。
在一個實施例中，結合層可由包含環氧化合物和引發劑的結合層組成物形成。
在一個實施例中，結合層組成物可進一步包含（甲基）丙烯酸酯化合物和氧雜環丁烷化合物中的至少一者。
在一個實施例中，結合層可由結合層組成物形成，所述結合層組成物以固體含量計包含50重量%（wt%）到80重量%的脂環族環氧化合物、1重量%到20重量%的芳族環氧化合物、1重量%到20重量%的具有至少一者親水基的（甲基）丙烯酸酯化合物、1重量%到20重量%的不具有親水基的（甲基）丙烯酸酯化合物以及1重量%到10重量%的引發劑。
在一個實施例中，結合層可由結合層組成物形成，所述結合層組成物以固體含量計包含30重量%到70重量%的芳族環氧化合物、10重量%到50重量%的鏈型脂族環氧化合物、10重量%到40重量%的氧雜環丁烷化合物以及1重量%到10重量%的引發劑。
在一個實施例中，偏光片可具有1.3到1.5的折射指數；結合層可具有1.51到1.59的折射指數；基底層可具有1.60到1.75的折射指數；高折射率層可具有1.65到1.80的折射指數；以及低折射率層可具有1.1到1.5的折射指數。
在一個實施例中，偏光板可進一步包含在基底層與高折射率層之間的硬塗層。
在一個實施例中，抗反射膜可具有0.3%或小於0.3%的反射率。
在一個實施例中，基底層與硬塗層相比可具有更高折射指數，且基底層與硬塗層之間的折射指數差值可為0.05或大於0.05。
在一個實施例中，偏光片可具有1.3到1.5的折射指數；結合層可具有1.51到1.59的折射指數；基底層可具有1.60到1.75的折射指數；硬塗層可具有1.50到1.599的折射指數；高折射率層可具有1.65到1.80的折射指數；以及低折射率層可具有1.1到1.5的折射指數。
在一個實施例中，偏光板可進一步包含偏光片保護膜，其形成於偏光片的下部表面上。
在一個實施例中，偏光板可具有0.4%或小於0.4%的反射率，如在低折射率層的側面處所測量。
根據本發明的另一態樣，光學顯示器包含根據本發明的偏光板。
本發明提供一種包含抗反射膜的偏光板，所述抗反射膜包含具有高折射指數和低反射率的基底層。
本發明提供一種偏光板，所述偏光板的反射率降低到0.4%或小於0.4%，以改善光學顯示器的螢幕品質。
本發明提供包含根據本發明的偏光板的光學顯示器。
將參考附圖詳細地描述本發明的實施例以向本領域的技術人員提供對本發明的透徹理解。應瞭解，本發明可以用不同方式體現並且不限於以下實施例。在圖式中，為清楚起見將省略與描述無關的部分。在本說明書通篇中，類似組件將由類似元件符號表示。
本文中，參考附圖定義例如「上部」和「下部」的空間相對術語。因此，將理解，術語「上部表面」可以與術語「下部表面」互換使用。
本文中，「平面內延遲（Re）」是在550奈米的波長下測量且由方程式2表示： Re = （nx - ny） × d ---（2）， 其中，nx和ny分別是在550奈米的波長下在保護膜（或基底層）的x軸方向和y軸方向上的折射指數，並且d是保護膜（或基底層）的厚度（單位：奈米）。
在下文中，將參考圖1描述根據本發明的一個實施例的偏光板。
參看圖1，偏光板10包含：偏光片100；偏光片保護膜400，其堆疊在偏光片100的下部表面上；以及結合層200和抗反射膜300A，所述結合層200和所述抗反射膜300A依序堆疊在偏光片100的上部表面上。
基底層310與低折射率層330相比具有更高折射指數，且基底層310與低折射率層330之間的折射指數差值可為0.25或大於0.25，例如0.25到0.50。根據本發明，結合層用以使抗反射膜結合到偏光片，且所述結合層形成為具有1.51到小於1.60的折射指數，並且將偏光片、結合層以及基底層的折射指數設定成滿足關係式1（Relation 1），藉此使得偏光板的反射率能夠實質上降低到0.4%或小於0.4%，如在低折射率層的側面處所測量。 偏光片的折射指數＜結合層的折射指數＜基底層的折射指數 ---（1）
根據本發明的偏光板包含基底層，其中基底層與低折射率層之間的折射指數差值設定成0.25或大於0.25，且在滿足關係式1時結合層的折射指數設定成1.51到小於1.60，藉此使得能夠顯著降低偏光板的反射率，即使在存在使得難以降低偏光板的反射率的抗反射膜存在的情況下也是如此。
接下來，將描述根據本發明的偏光板的元件中的每一者。抗反射膜
抗反射膜300A可經由結合層200堆疊在偏光片100的光出射表面上。抗反射膜300A可包含基底層310、高折射率層320以及低折射率層330，所述基底層310、所述高折射率層320以及所述低折射率層330按所陳述次序依序堆疊在結合層200上。抗反射膜可藉由使用高折射率層和低折射率層防止外部光的反射來防止眩光。
抗反射膜300A可具有0.30%或小於0.30%，例如0.15%到0.25%的反射率。在此範圍內，抗反射膜能夠藉由在外部光入射於其上時防止色散來提供良好外觀。
抗反射膜300A可具有20微米到150微米，例如50微米到120微米，或例如50微米到100微米的厚度。在此厚度範圍內，抗反射膜可用於偏光板。
基底層310支撐抗反射膜，同時改進抗反射膜的機械強度。
基底層310可包含具有1.60或大於1.60，例如1.60到1.75的折射指數的保護膜。在具有此範圍內的折射指數的基底層形成於具有上述範圍內的折射指數的結合層與高折射率層和低折射率層的堆疊之間的結構中，偏光板可具有0.4%或小於0.4%的低反射率，如在低折射率層的側面處所測量。
基底層310可包含由光學透明樹脂形成並在伸長之前或在伸長之後具有上述範圍內的折射指數的膜。舉例來說，樹脂可包含聚酯樹脂，例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯，以及類似物。
雖然基底層310可以是未拉伸的膜，但是可拉伸基底層310以提供預定範圍內的延遲，藉此提供額外光學效應予偏光板。
在一個實施例中，在550奈米的波長下，基底層可具有5,000奈米或大於5,000奈米，確切地說5,000奈米到12,000奈米的平面內延遲Re。在此範圍內，由聚酯膜形成的基底層能夠抑制彩虹式不均（rainbow mura）。
在另一實施例中，基底層可以是各向同性光學膜，所述各向同性光學膜在550奈米的波長下具有小於5,000奈米，例如60奈米或小於60奈米，或0奈米到60奈米，更確切地說40奈米到60奈米的平面內延遲Re。在此範圍內，基底層能夠藉由補償視角來改善圖像品質。本文中，術語「各向同性光學膜」意指具有實質上相同的nx、ny以及nz的膜，且表述「實質上相同」不僅包含其中nx、ny以及nz完全相同的情況，而且還包含其中nx、ny與nz之間存在可接受誤差容限的情況。
基底層310可以是單軸拉伸膜或雙軸拉伸膜。在一個實施例中，單軸拉伸膜可以是橫向（transverse direction，TD）單軸拉伸膜，且可具有上述範圍內的平面內延遲。單軸拉伸膜在TD單軸拉伸之後經歷張力鬆弛，藉此即使在高放大倍率的TD拉伸之後仍防止膜收縮。張力鬆弛可包含在無額外TD拉伸的情況下在預定溫度範圍中處理拉伸膜的工藝。在基底層是TD單軸拉伸膜時，基底層的折射指數意指基底層在縱向（machine direction，MD）的折射指數。
基底層310在可見範圍內可具有80%或大於80%，確切地說85%到95%的透光率。在此範圍內，基底層可以用於偏光板。
基底層310可包含基底膜以及形成於基底膜的至少一者表面上的底塗層。底塗層的折射指數與基底膜的折射指數的比（底塗層的折射指數/基底膜的折射指數）可為1.0或小於1.0，確切地說0.6到1.0，更確切地說0.69到0.95，又更確切地說0.7到0.9，又更確切地說0.72到0.88。在此範圍內，基底層可具有改進的透光率。基底膜可具有1.3到1.7，確切地說1.4到1.6的折射指數。在此範圍內，基底膜可用於基底層，使得易於控制底塗層的折射指數，並能夠改進基底層的透射率。基底膜可包含上文所描述的樹脂形成的膜。底塗層可具有1.0到1.6，確切地說1.1到1.6，更確切地說1.1到1.5的折射指數。在此範圍內，底塗層可相對於基底膜具有合適的折射指數，藉此改進基底層的透射率。底塗層的厚度可以是1奈米到200奈米，確切地說60奈米到200奈米。在此範圍內，底塗層可用於光學膜且可相對於基底膜具有合適的折射指數，藉此在不脆化基底層的情況下改進基底層的透射率。底塗層可以是不含胺基甲酸酯基的非胺基甲酸酯類底塗層。確切地說，底塗層可由包含樹脂或其單體的底塗層組成物形成，所述樹脂例如聚酯樹脂、丙烯酸樹脂以及類似物。藉由調節單體的混合比率（例如：莫耳比），底塗層可具有上述範圍內的折射指數。底塗層組成物可進一步包含由以下中選出的至少一種添加劑：紫外線（ultraviolet，UV）吸收劑、抗靜電劑、消泡劑、表面活性劑以及類似物。
對於基底層310，x軸方向上的折射指數（即nx）和y軸方向上的折射指數（即ny）中的一個在550奈米的波長下可為1.65或大於1.65。如果基底層的nx和ny均小於1.65，或如果基底層的nx和ny均為1.65或大於1.65，那麼在基底層用作保護膜時，取決於入射角和波長藉由由延遲中的變化引起的雙折射可產生彩虹斑。在一個實施例中，基底層可具有1.65或大於1.65，確切地說1.67到1.75的nx，以及1.45到1.55的ny。在另一實施例中，基底層可具有1.65或大於1.65，確切地說1.67到1.72，更確切地說1.69到1.72的ny，以及1.45到1.55的nx。本文中，|nx-ny|可介於0.1到0.2，確切地說0.12到0.18範圍內。在此範圍內，基底層能夠進一步改進偏光板的視角並能夠防止產生彩虹斑。
基底層310可具有10微米到200微米，例如20微米到100微米的厚度。在此範圍內，基底層可用於偏光板。雖然基底層具有1.60或大於1.60的折射指數且與抗反射膜的高折射率層和低折射率層相比具有大得多的厚度，但是在滿足關係式1的關係的同時可將偏光板的結合層的折射指數設定成1.51到小於1.60，藉此使偏光板的反射率降低到0.4%或小於0.4%。
高折射率層320形成於基底層上以改進抗反射膜的硬度，同時與低折射率層一起降低抗反射膜的反射率。高折射率層可由單個層或具有不同折射指數的至少兩個層構成。
高折射率層320與低折射率層相比具有更高折射指數。高折射率層的折射指數可為1.65或大於1.65，例如1.65到1.80，例如1.70到1.80。在此範圍內，高折射率層能夠在低折射率層堆疊於其上時降低抗反射膜的反射率。
高折射率層320可具有0.05微米到0.5微米，確切地說0.05微米到0.3微米，更確切地說0.1微米到0.2微米的厚度。在此範圍內，高折射率層320可用於抗反射膜且能夠確保抗反射膜的硬度。
高折射率層320可由能夠在固化之後提供1.65或大於1.65的折射指數的高折射率層組成物形成。
在一個實施例中，高折射率層組成物可包含高折射率化合物、與高折射率化合物相比具有較低折射指數的UV可固化化合物、引發劑以及無機顆粒。
高折射率化合物是UV可固化化合物，且可包含以下中的至少一者：茀（fluorene）、聯苯（biphenyl）、雙酚（bisphenol）、苯硫基（thiophenyl）、苯甲硫基（thiobenzyl）、二苯硫醚（phenyl sulfide）、硫萘類（thionaphthalene-based）高折射率樹脂和高折射率單體。
UV可固化化合物與高折射率化合物相比具有較低折射指數。然而，UV可固化化合物形成高折射率層的基質並能夠改進高折射率層的硬度。由高折射率化合物組成的組成物使抗反射膜的硬度下降，藉此使得難以在光學顯示器中使用抗反射膜。UV可固化化合物可以是具有UV可固化基團（例如（甲基）丙烯酸酯基或環氧基）的化合物。UV可固化化合物可包含以下中的至少一者：雙官能（甲基）丙烯酸酯單體或更高官能（甲基）丙烯酸酯單體、由其形成的寡聚物以及由其形成的樹脂。舉例來說，UV可固化化合物可以是雙官能（甲基）丙烯酸酯化合物到十官能（甲基）丙烯酸酯化合物。
UV可固化化合物可包含以下中的至少一者：多官能（甲基）丙烯酸酯，例如多元醇和（甲基）丙烯酸的酯；以及由多元醇的羥基酯、異氰酸酯化合物、（甲基）丙烯酸的羥基酯製備的多官能胺基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯。
UV可固化化合物可包含雙官能（甲基）丙烯酸酯化合物或更高官能（甲基）丙烯酸酯化合物。雙官能（甲基）丙烯酸酯化合物的實例可包含二（甲基）丙烯酸酯，例如乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、丁二醇二（甲基）丙烯酸酯、己二醇二（甲基）丙烯酸酯、壬二醇二（甲基）丙烯酸酯、乙氧基化己二醇二（甲基）丙烯酸酯、丙氧基化己二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、三丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、乙氧基化新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、三丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、羥基特戊酸酯新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯以及類似物。三官能（甲基）丙烯酸酯化合物或更高官能（甲基）丙烯酸酯化合物的實例可包含：三（甲基）丙烯酸酯，例如三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯；參-2-羥乙基異氰脲酸酯三（甲基）丙烯酸酯，和丙三醇三（甲基）丙烯酸酯；三官能（甲基）丙烯酸酯化合物，例如季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、貳三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯；三官能（甲基）丙烯酸酯化合物或更高多官能（甲基）丙烯酸酯化合物，例如季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、貳三羥甲基丙烷四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、貳三羥甲基丙烷五（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇己（甲基）丙烯酸酯、貳三羥甲基丙烷己（甲基）丙烯酸酯；以及多官能（甲基）丙烯酸酯化合物，其藉由用ε-己內酯取代這些（甲基）丙烯酸酯中的一些而獲得。
引發劑藉由固化高折射率化合物和UV可固化化合物來形成高折射率層。引發劑可包含本領域的技術人員已知的典型光自由基引發劑和光陽離子引發劑中的至少一者。引發劑可具有400奈米或小於400奈米的吸收波長，以允許經由光固化單獨形成高折射率層，但不限於此。
光自由基引發劑藉由由光輻射產生自由基來促進固化，且可包含以下中的至少一者：磷、三嗪、苯乙酮、苯甲酮、噻吨酮、安息香（benzoin）、肟以及苯基酮化合物。光陽離子引發劑可包含陽離子和陰離子的鹽。陽離子的實例可包含：二芳基碘鎓，例如二苯基碘鎓、4-甲氧基二苯基碘鎓、雙（4-甲基苯基）碘鎓、（4-甲基苯基）[（4-（2-甲基丙基））苯基]碘鎓、雙（4-三級丁基苯基）碘鎓以及雙（十二烷基苯基）碘鎓；三芳基硫鎓，例如三苯基硫鎓和二苯基-4-硫代苯氧基苯基硫鎓；雙[4-（二苯基二氫硫基）苯基]硫醚、雙[4-（二（4-（2-羥乙基）苯基）二氫硫基）-苯基]硫醚、（η5-2,4-環戊二烯-1-醇）[（1,2,3,4,5,6-η）-（1-甲基乙基）苯]鐵（1+）以及類似物。陰離子的實例可包含四氟硼酸根（BF4 - ）、六氟磷酸根（PF6 - ）、六氟銻酸根（SbF6 - ）、六氟砷酸根（AsF6 - ）、六氯銻酸根（SbCl6 - ）以及類似物。
無機顆粒能夠使高折射率層的折射指數和硬度增大。無機顆粒可不經受表面處理或可以經受表面處理（例如含有（甲基）丙烯酸酯基的化合物）以改進與組成物的其它成分的相容性，同時改進高折射率層的硬度。表面處理可相對於無機顆粒的總表面面積的5%到50%執行。在此範圍內，無機顆粒能夠經由與UV可固化化合物和高折射率樹脂偶合而使高折射率層的硬度增大。無機顆粒可包含氧化鋯、二氧化鈦以及氧化鋁中的至少一者，較佳為氧化鋯。無機顆粒可具有1奈米到50奈米，確切地說5奈米到20奈米的平均粒徑D50。在粒徑的此範圍內，高折射率層組成物能夠在不劣化其光學性質的情況下使抗反射膜的硬度增大。
高折射率層組成物可進一步包含本領域的技術人員熟知的典型添加劑。舉例來說，高折射率層組成物可進一步包含消泡劑、抗氧化劑、UV吸收劑、光穩定劑、流平劑以及抗靜電劑，但不限於此。高折射率層組成物可進一步包含溶劑以進一步改進高折射率層組成物的可塗布性。溶劑可包含丙二醇醚和甲基乙基酮中的至少一者。
低折射率層330可形成於高折射率層上且與高折射率層相比具有較低折射指數，以使抗反射膜的反射率降低。高折射率層和與低折射率層之間的折射指數差值（高折射率層的折射指數-低折射率層的折射指數）可為0.4或大於0.4，例如0.4到1.0。在此範圍內，偏光板能夠降低抗反射膜的反射率同時改進光學性質，例如霧度（haze）以及類似者。
低折射率層330可具有小於1.65，例如1.5或小於1.5，或例如1.1到1.5的折射指數。在此範圍內，低折射率層330能夠降低抗反射膜的反射率。
低折射率層330的厚度可以是0.01微米到0.5微米，確切地說0.01微米到0.3微米。在此厚度範圍內，低折射率層330可用於抗反射膜。
低折射率層330可由低折射率層組成物形成，所述低折射率層組成物在固化之後可具有小於1.65的折射指數。
低折射率層組成物可包含：無機顆粒、含氟單體或其寡聚物、無氟單體或其寡聚物、引發劑以及含氟添加劑。
無機顆粒具有中空結構以具有低折射指數，藉此減小低折射率層的折射指數。無機顆粒可具有1.4或小於1.4，例如1.2到1.4的折射指數。無機顆粒可以是中空二氧化矽顆粒。無機顆粒可以是不經受表面處理的未處理中空顆粒，或可以用UV固化官能團經受表面處理。無機顆粒可具有與低折射率層的厚度相比相同的或更小的平均粒徑D50，且可具有30奈米到150奈米，例如50奈米到100奈米的平均粒徑D50。在此範圍內，低折射率層中可含有無機顆粒，且所述無機顆粒能夠改進光學性質，例如霧度和透射率。
含氟單體或其寡聚物與無機顆粒一起減小低折射率層的折射指數，且與無氟單體或其寡聚物一起形成低折射率層的基質。含氟單體可包含含氟（甲基）丙烯酸酯化合物。含氟單體可包含本領域的技術人員熟知的典型化合物。
無氟單體或其寡聚物形成低折射率層的基質，且可包含UV可固化化合物。無氟單體或其寡聚物可以是雙官能（甲基）丙烯酸酯化合物或更高官能（甲基）丙烯酸酯化合物，例如雙官能（甲基）丙烯酸酯化合物到十官能（甲基）丙烯酸酯化合物。確切地說，無氟單體可包含多官能（甲基）丙烯酸酯，例如多元醇和（甲基）丙烯酸的酯，如上文所描述。
所述引發劑可與用於高折射率層組成物的引發劑相同或不同。
添加劑賦予低折射率層防汙功能和纖薄性，且可由本領域的技術人員熟知的典型添加劑中選出。添加劑可包含含氟添加劑和矽酮類添加劑中的至少一者。
低折射率層組成物可進一步包含本領域的技術人員熟知的典型添加劑。舉例來說，低折射率層組成物可進一步包含消泡劑、抗氧化劑、UV吸收劑、光穩定劑以及流平劑，但不限於此。
低折射率層組成物可進一步包含溶劑以進一步改進低折射率層組成物的可塗布性。溶劑可包含丙二醇醚、甲基乙基酮以及乙二醇二甲醚中的至少一者。結合層
結合層200直接形成於偏光片和抗反射膜中的每一者上，具體地說，形成於抗反射膜的基底層上以使偏光片和抗反射膜彼此結合。在根據本發明的偏光板中，結合層使偏光片和抗反射膜彼此結合，並在滿足關係式1的同時具有1.51到小於1.60的折射指數，藉此降低偏光板的反射率，即使在具有因與偏光板中的基底層的低折射率層相比更高的折射指數而導致相對較高反射率的抗反射膜存在的情況下也是如此。較佳地，結合層具有1.51到1.59，例如1.51到1.55的折射指數。舉例來說，結合層可具有1.51、1.52、1.53、1.54、1.55、1.56、1.57、1.58或1.59的折射指數。
結合層200可由結合層組成物形成，所述結合層組成物具有上述範圍內的折射指數且在固化之後滿足關係式1。結合層組成物可包含環氧化合物和引發劑。結合層組成物可進一步包含（甲基）丙烯酸酯化合物和氧雜環丁烷化合物中的至少一者。可經由調節結合層組成物的每種成分的種類及/或含量來確定結合層的折射指數，如本領域的技術人員所熟知。
環氧化合物可包含鏈型脂族環氧化合物、脂環族環氧化合物、芳族環氧化合物以及氫化環氧化合物中的至少一者。
鏈型脂族環氧化合物可以是脂族多元醇或其環氧烷加成物的聚縮水甘油醚。舉例來說，鏈型脂族環氧化合物可包含藉由將至少一類的環氧烷添加到脂族多元醇而獲得的聚醚多元醇的聚縮水甘油醚，例如新戊二醇二縮水甘油醚、1,4-丁二醇的二縮水甘油醚、1,6-己二醇的二縮水甘油醚、丙三醇的三縮水甘油醚、三羥甲基丙烷的三縮水甘油醚、聚乙二醇的二縮水甘油醚、丙二醇、乙二醇、以及丙二醇或丙三醇的二縮水甘油醚。
脂環族環氧化合物可包含以下中的至少一者：3,4-環氧環己基甲基3,4-環氧環己烷羧酸酯、3,4-環氧基-6-甲基環己基甲基3,4-環氧基-6-甲基環己烷羧酸酯、伸乙基雙（3,4-環氧環己烷羧酸酯）、雙（3,4-環氧基-6-甲基環己基甲基）己二酸酯、二乙二醇雙（3,4-環氧環己基甲醚）、乙二醇雙（3,4-環氧環己基甲醚）、2,3,14,15-二環氧基-7,11,18,21-四氧雜螺[5.2.2.5.2.2]二十一烷酸、3-（3,4-環氧環己基）-8,9-環氧基-1,5-二氧雜螺[5.5]十一烷、4-乙烯基環己烷二氧化物、檸檬烯二氧化物、雙（2,3-環氧環戊基）醚，以及二環戊二烯二氧化物。
芳族環氧化合物可包含以下中的至少一者：雙酚型環氧樹脂，例如苯基縮水甘油醚、雙酚A的二縮水甘油醚、雙酚F的二縮水甘油醚以及雙酚S的二縮水甘油醚；酚醛型環氧樹脂，例如苯酚酚醛環氧樹脂、甲酚酚醛環氧樹脂以及羥基苯甲醛苯酚酚醛環氧樹脂；以及多官能環氧樹脂，例如四羥基二苯基甲烷的縮水甘油醚、四羥基苯甲酮的縮水甘油醚以及環氧化聚乙烯基苯酚。
藉由在壓力下在催化劑存在下對芳族環氧化合物進行選擇性氫化而獲得氫化環氧化合物。本文中，芳族環氧化合物可包含例如：雙酚型環氧樹脂，例如雙酚A的二縮水甘油醚、雙酚F的二縮水甘油醚以及雙酚S的二縮水甘油醚；酚醛型環氧樹脂，例如苯酚酚醛環氧樹脂、甲酚酚醛環氧樹脂以及羥基苯甲醛苯酚酚醛環氧樹脂；以及多官能環氧樹脂，例如四羥基二苯基甲烷的縮水甘油醚、四羥基苯甲酮的縮水甘油醚以及環氧化聚乙烯苯酚。
引發劑可包含光陽離子引發劑和光自由基引發劑中的至少一者。這些引發劑可單獨使用或以其混合物形式使用。
光陽離子引發劑可由本領域的技術人員熟知的任何典型光陽離子引發劑中選出。確切地說，光陽離子引發劑可包含含有陽離子和陰離子的鎓鹽。陽離子的實例可包含：二芳基碘鎓，例如二苯基碘鎓、4-甲氧基二苯基碘鎓、雙（4-甲基苯基）碘鎓、雙（4-三級丁基苯基）碘鎓、雙（十二烷基苯基）碘鎓以及（4-甲基苯基）[（4-（2-甲基丙基））苯基]碘鎓；三芳基硫鎓，例如三苯基硫鎓和二苯基-4-硫代苯氧基苯基硫鎓；雙[4-（二苯基二氫硫基）苯基]硫醚，以及類似物。陰離子的實例可包含六氟磷酸根（PF6 - ）、四氟硼酸根（BF4 - ）、六氟銻酸根（SbF6 - ）、六氟砷酸根（AsF6 - ）、六氯銻酸根（SbCl6 - ）以及類似物。
光自由基引發劑可由本領域的技術人員熟知的任何典型光自由基引發劑中選出。確切地說，光自由基引發劑可包含以下中的至少一者：噻吨酮、磷、三嗪、苯乙酮、苯甲酮、安息香、肟以及苯基酮化合物。
（甲基）丙烯酸酯化合物可包含其中具有至少一者（甲基）丙烯酸酯基的（甲基）丙烯酸酯化合物。（甲基）丙烯酸酯化合物可包含具有至少一者親水基（例如：羥基）的（甲基）丙烯酸酯化合物和不具有親水基的（甲基）丙烯酸酯化合物中的至少一者，但不限於此。
具有至少一者親水基的（甲基）丙烯酸酯化合物可包含以下中的至少一者：（甲基）丙烯酸2-羥乙酯、（甲基）丙烯酸2-羥丙酯或（甲基）丙烯酸3-羥丙酯、（甲基）丙烯酸2-羥丁酯、（甲基）丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯以及（甲基）丙烯酸4-羥丁酯，但不限於此。
不具有親水基的（甲基）丙烯酸酯化合物可包含以下中的至少一者：（甲基）丙烯酸異丁酯、（甲基）丙烯酸三級丁酯、（甲基）丙烯酸2-乙基己酯、（甲基）丙烯酸環己酯、（甲基）丙烯酸二環戊烯酯、（甲基）丙烯酸苯甲酯、（甲基）丙烯酸異冰片酯、（甲基）丙烯酸苯氧基乙酯、（甲基）丙烯酸（二環戊基氧基）乙酯以及（甲基）丙烯酸（二甲基胺基）乙酯，但不限於此。
氧雜環丁烷化合物可包含以下中的至少一者：3,7-雙（3-氧雜環丁基）-5-氧雜-壬烷、1,4-雙[（3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基）甲基]苯、1,2-雙[（3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基）甲基]乙烷、1,3-雙[（3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基）甲基]丙烷、乙二醇雙（3-乙基-3-氧雜環丁基甲基）醚、三乙二醇雙（3-乙基-3-氧雜環丁基甲基）醚、四-乙二醇雙（3-乙基-3-氧雜環丁基甲基）醚、1,4-雙（3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基）丁烷、1,6-雙（3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基）己烷、3-乙基-3-[（苯氧基）甲基]氧雜環丁烷、3-乙基-3-（己氧基甲基）氧雜環丁烷、3-乙基-3-（2-乙基己氧基甲基）氧雜環丁烷、3-乙基-3-（羥甲基）氧雜環丁烷、3-乙基-3-（氯甲基）氧雜環丁烷，以及（3-乙基-3[[（3-乙基氧環丁烷-3-基）甲氧基]甲基]）氧雜環丁烷，但不限於此。
在一個實施例中，結合層組成物以固體含量計可包含：50重量%到80重量%的環氧化合物；10重量%到40重量%的（甲基）丙烯酸酯化合物和氧雜環丁烷化合物中的至少一者；以及1重量%到10重量%的引發劑。在此範圍內，結合層組成物能夠確保根據本發明的結合強度和折射指數。
在另一實施例中，結合層組成物以固體含量計可包含：50重量%到80重量%的脂環族環氧化合物；1重量%到20重量%的芳族環氧化合物；1重量%到20重量%的具有至少一者親水基的（甲基）丙烯酸酯化合物；1重量%到20重量%的不具有親水基的（甲基）丙烯酸酯化合物；以及1重量%到10重量%的引發劑。在此範圍內，結合層組成物能夠確保根據本發明的結合強度和折射指數。
在另一實施例中，結合層組成物以固體含量計可包含：30重量%到70重量%的芳族環氧化合物；10重量%到50重量%的鏈型脂族環氧化合物；10重量%到40重量%的氧雜環丁烷化合物；以及1重量%到10重量%的引發劑。在此範圍內，結合層組成物能夠確保根據本發明的結合強度和折射指數。
在另一實施例中，結合層組成物可包含環氧化合物、（甲基）丙烯酸酯化合物以及氧雜環丁烷化合物中的至少一者，其中芳族環氧化合物在結合層組成物中可以按10重量%到50重量%，例如15重量%到45重量%的量存在。在此範圍內，結合層組成物能夠確保根據本發明的結合強度和折射指數。
結合層200的厚度可以是1微米到10微米，確切地說1微米到5微米。在此厚度範圍內，結合層可用於偏光板，且能夠經由改進結合性質而提高可靠性。偏光片
偏光片100形成於偏光片保護膜的上部表面上以偏振和傳輸經由偏光片保護膜接收到的光。
偏光片100可具有小於1.51，例如1.5或小於1.5，確切地說1.3到1.5的折射指數。在此範圍內，與結合層和基底層的折射指數相比，偏光片具有合適的折射指數，藉此使偏光板的反射率降低到0.4%或小於0.4%。
偏光片100可包含由聚乙烯醇膜製備的偏光片。偏光片可包含用碘染色的聚乙烯醇膜或經由使聚乙烯醇膜脫水而獲得的多烯類偏光片。可藉由調節構成聚乙烯醇膜的聚乙烯醇樹脂的重量平均分子量、製備偏光片的碘的含量以及類似者來獲得偏光片的折射指數。
偏光片100可具有5微米到50微米，確切地說10微米到30微米的厚度。在此範圍內，偏光片可用於光學顯示器。偏光片保護膜
偏光片保護膜400形成於偏光片的下部表面上以支撐偏光片同時提供額外光學功能予偏光板。
偏光片保護膜400可包含由光學透明樹脂形成的膜。可以藉由熔融和擠壓樹脂形成保護膜。可根據需要進一步拉伸保護膜。光學透明樹脂可包含由以下中選出的至少一者：纖維素酯樹脂，例如三乙醯纖維素；環狀聚烯烴樹脂，包含非晶形環烯烴聚合物（cyclic olefin polymer，COP）；聚碳酸酯樹脂；聚酯樹脂，包含聚對苯二甲酸乙二酯（PET）；聚醚碸樹脂；聚碸樹脂；聚醯胺樹脂；聚醯亞胺樹脂；非環狀聚烯烴樹脂；聚丙烯酸酯樹脂，包含聚（甲基丙烯酸甲酯）；聚乙烯醇樹脂；聚氯乙烯樹脂；以及聚偏二氯乙烯樹脂。
偏光片保護膜400可具有10微米到200微米，例如20微米到100微米的厚度。在此厚度範圍內，偏光片可用於偏光板。
雖然圖1中未示出，但是粘合劑層可形成於偏光片保護膜400的下部表面上以使偏光板附接到粘合體。粘合劑層可由典型壓敏粘合劑形成，但不限於此。此外，雖然圖1中未示出，但是偏光片可經由典型結合層堆疊在偏光片保護膜上。
接下來，將參考圖2描述根據本發明的另一實施例的偏光板。
參看圖2，根據另一實施例的偏光板20與根據上述實施例的偏光板實質上相同，不同之處在於偏光板20包含依序形成於偏光片100的上部表面上的結合層200和抗反射膜300B，且抗反射膜300B包含基底層310、硬塗層340、高折射率層320以及低折射率層330，所述基底層310、所述硬塗層340、所述高折射率層320以及所述低折射率層330依序堆疊在結合層200上。硬塗層進一步形成在基底層與高折射率層之間。
抗反射膜300B可具有0.3%或小於0.3%，例如0.15%到0.25%的反射率。
硬塗層340直接形成於基底層的上部表面上，且提供硬塗布功能予基底層。在根據本發明的偏光板中，基底層與低折射率層和硬塗層中的每一者相比具有高得多的折射指數。基底層與低折射率層之間的折射指數差值可為0.25或大於0.25，例如0.25到0.5，且基底層與硬塗層之間的折射指數差值可為0.05或大於0.05，例如0.05到0.2。根據本發明，結合層具有1.51到小於1.60的折射指數，且偏光片、結合層以及基底層的折射指數設定成滿足關係式1，藉此使偏光板的反射率降低到0.4%或小於0.4%，如在其低折射率層的側面處所測量。
硬塗層340可具有1.50到小於1.60，例如1.50到1.599的折射指數。在此範圍內，可經由調節結合層、基底層、高折射率層以及低折射率層的折射指數來使偏光板的反射率降低到0.4%或小於0.4%。
硬塗層340可由樹脂形成，所述樹脂例如聚胺基甲酸酯樹脂、胺基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯樹脂、環氧樹脂、矽酮樹脂以及類似物，但不限於此。
硬塗層340具有3微米到20微米，例如5微米到15微米的厚度。在此範圍內，硬塗層可用於偏光板。
接下來，將參考圖3描述根據本發明的另一實施例的偏光板。
參看圖3，根據又一實施例的偏光板30與根據上述實施例的偏光板實質上相同，不同之處在於偏光板30包含依序形成於偏光片100的上部表面上的結合層200和抗反射膜300C，且抗反射膜300C包含基底層310、支撐層350、高折射率層320以及低折射率層330，所述基底層310、所述支撐層350、所述高折射率層320以及所述低折射率層330依序堆疊在結合層200上。支撐層進一步形成在基底層310與高折射率層320之間。
支撐層350形成在基底層與高折射率層之間，以改進抗反射膜的機械強度。另外，在抗反射膜的基底層由未拉伸膜或各向同性光學膜形成的結構中，使用相位延遲膜作為支撐層以提供額外功能予偏光板。
支撐層350可具有1.50到小於1.60，例如1.50到1.599的折射指數。在此範圍內，可經由調節結合層、基底層、高折射率層以及低折射率層的折射指數來使偏光板的反射率降低到0.4%或小於0.4%。
支撐層350可由與用於上文所描述的基底層的樹脂不同的樹脂形成。支撐層可具有與上文所描述的基底層相同的厚度或與上文所描述的基底層不同的厚度。支撐層可具有與上文所描述的基底層相同的延遲或與上文所描述的基底層不同的延遲。較佳地，支撐層在550奈米的波長下可具有8,000奈米或大於8,000奈米，確切地說10,000奈米或大於10,000奈米，更確切地說大於10,000奈米，更確切地說10,100奈米到15,000奈米的平面內延遲Re。
支撐層350可直接形成於基底層上。雖然圖3中未示出，但是支撐層可經由結合層的粘合劑層形成於基底層上。
根據本發明的光學顯示器可包含根據本發明的偏光板。光學顯示器可包含液晶顯示器、發光二極體顯示器以及類似顯示器。在一個實施例中，可在液晶顯示器中的觀察者側偏光板處使用根據本發明的偏光板。
接下來，將參考一些實例更詳細地描述本發明。然而，應注意，提供這些實例僅為了說明，並且不應以任何方式理解為限制本發明。實例 1
藉由以下製備偏光片（厚度：22微米，折射指數：1.5）：在60℃下將聚乙烯醇膜（PS60，可樂麗株式會社（Kuraray Co., Ltd.））拉伸到其初始長度的三倍，用碘染色拉伸膜，且在40℃下在硼酸溶液中將染色膜拉伸到拉伸膜的長度的2.5倍。
抗反射膜是DSG-17（Z）PET膜（大日本印刷株式會社（DAI Nippon Printing Co., Ltd.））（反射率：0.2%），其中硬塗層、高折射率層以及低折射率層依序堆疊在聚對苯二甲酸乙二酯（PET）膜的一個表面上。在DSG-17（Z）PET膜中，PET膜是單軸拉伸膜且厚度為80微米，所述單軸拉伸膜具有1.60的MD折射指數和1.72的TD折射指數。在DSG-17（Z）PET膜中，硬塗層具有1.54的折射指數和8微米的厚度；高折射率層具有1.72的折射指數和0.15微米的厚度，並含有氧化鋯。在DSG-17（Z）PET膜中，低折射率層具有1.29的折射指數和0.1微米的厚度，並含有中空二氧化矽。
藉由以下形成結合層：在DSG-17（Z）PET膜（大日本印刷株式會社）的PET膜表面上使結合劑（HE-82MS，三元公司（Samwon Co., Ltd.））沉積到預定厚度，所述結合層繼而經由結合劑結合到所製備的偏光片的一個表面。結合劑（HE-82MS，三元公司）含有70重量%的3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己烷甲酸酯、9重量%的苯基縮水甘油醚、10重量%的丙烯酸4-羥丁酯、10重量%的丙烯酸苯氧基乙酯以及1重量%的引發劑（二乙基噻噸酮）。
藉由以下形成另一結合層：在環烯（cycloolefin，COP）膜（ZB系列，折射指數：1.53，瑞翁株式會社（Zeon Co., Ltd.））的一個表面上使結合劑（HE-82MS，三元公司）沉積到預定厚度，所述結合層繼而經由結合劑結合到所製備的偏光片的另一表面。隨後，用UV光照射所得產物以固化結合層，藉此製備偏光板。結合層中的每一者的厚度為3微米。實例 2
以與實例1相同的方式製備偏光板，不同之處在於使用KRX-4024（艾迪科公司（ADEKA Co., Ltd.））替代HE-82MS（三元公司）。KRX-4024（艾迪科公司）含有40重量%的雙酚A二縮水甘油醚、30重量%的新戊二醇二縮水甘油醚、23重量%的（3-乙基-3[[（3-乙基氧環丁烷-3-基）甲氧基]甲基]氧雜環丁烷），以及7重量%的引發劑。實例 3
以與實例1相同的方式製備偏光板，不同之處在於具有如表中所示的折射指數的結合層是使用經由調節3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧基環己烷甲酸酯、苯基縮水甘油醚、丙烯酸4-羥丁酯、丙烯酸苯氧酯乙酯以及引發劑的含量而獲得的組成物替代HE-82MS（三元公司）形成的。比較例 1
以與實例1相同的方式製備偏光板，不同之處在於使用UV-2G（三元公司）替代HE-82MS（三元公司）。UV-2G（三元公司）含有77重量%的3,4-環氧環己烷甲基-3,4-環氧環己基羧酸酯、16重量%的二丙二醇二丙烯酸酯、5重量%的苯基縮水甘油醚以及2重量%的引發劑（1-羥基-環己基苯基酮）。比較例 2
以與實例1相同的方式製備偏光板，不同之處在於具有如表中所示的折射指數的結合層是使用經由調節3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧基環己烷甲酸酯、苯基縮水甘油醚、丙烯酸4-羥丁酯、丙烯酸苯氧酯乙酯以及引發劑的含量而獲得的組成物替代HE-82MS（三元公司）形成的。比較例 3
以與實例1相同的方式製備偏光板，不同之處在於具有如表中所示的折射指數的結合層是使用經由調節3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧基環己烷甲酸酯、苯基縮水甘油醚、丙烯酸4-羥丁酯、丙烯酸苯氧酯乙酯以及引發劑的含量而獲得的組成物替代HE-82MS（三元公司）形成的。
藉由以下製備樣本：將粘合劑（ZB12系列，瑞翁公司）沉積在實例（Example）和比較例（Comparative Example）中製備的偏光板中的每一者的COP膜的一個表面上，繼之以層壓黑色丙烯基板（PH10丙烯基板）。在550奈米的波長下使用分光光度計（分光光度計（Spectrophotometer），柯尼卡美能達有限公司（Konica Minolta Co., Ltd.），CM-3700A）以SCU反射模式（光源：C光源，光源直徑Φ：4毫米，測量視角：2°，SAV）測量各個樣本的反射率。表 1
如表1中所示，根據本發明的偏光板可使反射率降低到0.4%或小於0.4%，即使在抗反射膜包含具有高折射指數的基底層的情況下也是如此。
相反地，未能滿足關係式1的比較例1的偏光板以及未能滿足關係式1和結合層的折射指數的比較例2和比較例3的偏光板具有大於0.4%的反射率。
應理解，本領域的技術人員可以在不脫離本發明的精神和範圍的情況下進行各種修改、變化、更改以及等效實施例。
10、20、30‧‧‧偏光板
100‧‧‧偏光片
200‧‧‧結合層
300A、300B、300C‧‧‧抗反射膜
310‧‧‧基底層
320‧‧‧高折射率層
330‧‧‧低折射率層
340‧‧‧硬塗層
350‧‧‧支撐層
400‧‧‧偏光片保護膜
圖1是根據本發明的一個實施例的偏光板的截面圖。 圖2是根據本發明的另一實施例的偏光板的截面圖。 圖3是根據本發明的又一實施例的偏光板的截面圖。

Claims (19)

  1. 一種偏光板，包括： 偏光片； 結合層，形成於所述偏光片的上部表面上；以及 抗反射膜，形成於所述結合層的上部表面上， 其中所述抗反射膜包括基底層、高折射率層以及低折射率層，所述基底層、所述高折射率層以及所述低折射率層以所陳述次序依序形成於所述結合層上， 所述結合層具有1.51到小於1.60的折射指數， 所述偏光片、所述結合層以及所述基底層滿足關係式1： ＜關係式1＞ 偏光片的折射指數＜結合層的折射指數＜基底層的折射指數。
  2. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述抗反射膜具有0.3%或小於0.3%的反射率。
  3. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述基底層與所述低折射率層相比具有更高折射指數，且所述基底層與所述低折射率層之間的折射指數差值為0.25或大於0.25。
  4. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述基底層具有1.60或大於1.60的折射指數。
  5. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述基底層包括由以下中的至少一者形成的膜：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯以及聚萘二甲酸丁二酯。
  6. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述高折射率層具有1.65或大於1.65的折射指數。
  7. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述低折射率層具有小於1.65的折射指數。
  8. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述結合層由包括環氧化合物以及引發劑的結合層組成物形成。
  9. 根據請求項8所述的偏光板，其中所述結合層組成物進一步包括（甲基）丙烯酸酯化合物以及氧雜環丁烷化合物中的至少一者。
  10. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述結合層由結合層組成物形成，所述結合層組成物以固體含量計包括50重量%到80重量%的脂環族環氧化合物、1重量%到20重量%的芳族環氧化合物、1重量%到20重量%的具有至少一者親水基的（甲基）丙烯酸酯化合物、1重量%到20重量%的不具有親水基的（甲基）丙烯酸酯化合物以及1重量%到10重量%的引發劑。
  11. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述結合層由結合層組成物形成，所述結合層組成物以固體含量計包括30重量%到70重量%的芳族環氧化合物、10重量%到50重量%的鏈型脂族環氧化合物、10重量%到40重量%的氧雜環丁烷化合物以及1重量%到10重量%的引發劑。
  12. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述偏光片具有1.3到1.5的折射指數，所述結合層具有1.51到1.59的折射指數，所述基底層具有1.60到1.75的折射指數，所述高折射率層具有1.65到1.80的折射指數，以及所述低折射率層具有1.1到1.5的折射指數。
  13. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述抗反射膜進一步包括在所述基底層與所述高折射率層之間的硬塗層。
  14. 根據請求項13所述的偏光板，其中所述抗反射膜具有0.3%或小於0.3%的反射率。
  15. 根據請求項13所述的偏光板，其中所述基底層與所述硬塗層相比具有更高折射指數，且所述基底層與所述硬塗層之間的折射指數差值為0.05或大於0.05。
  16. 根據請求項13所述的偏光板，其中所述偏光片具有1.3到1.5的折射指數，所述結合層具有1.51到1.59的折射指數，所述基底層具有1.60到1.75的折射指數，所述硬塗層具有1.50到1.599的折射指數，所述高折射率層具有1.65到1.80的折射指數，以及所述低折射率層具有1.1到1.5的折射指數。
  17. 根據請求項1所述的偏光板，進一步包括：偏光片保護膜，形成於所述偏光片的下部表面上。
  18. 根據請求項1所述的偏光板，其中所述偏光板具有0.4%或小於0.4%的反射率，如在所述低折射率層的側面處所測量。
  19. 一種光學顯示器，包括根據請求項1到請求項18中任一項所述的偏光板。
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