TW201934745A - 可長期培養之細胞培養容器及其製造方法 - Google Patents

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広井佳臣
岩上昌史
西野泰斗
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Abstract

本發明係提供一種長期細胞非黏附培養用之細胞培養容器，其表面之至少一部分具備包含共聚物之塗覆，且該共聚物係含有包含下述式(a)所表示之基之重複單元、包含下述式(b)所表示之基之重複單元，及包含下述式(c)所表示之基之重複單元，其中，包含式(c)所表示之基之重複單元相對於共聚物全體之莫耳比率為1～50莫耳%。

[式中，Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 、Rc 以及An- 係如同說明書及申請專利範圍所規定。]

Description

可長期培養之細胞培養容器及其製造方法
本發明係關於長期細胞非黏附培養用之細胞培養容器及其製造方法，以及使用其之細胞凝集塊之製造方法。
近年來，用於使在動物或植物體內發揮不同作用的各種器官、組織、及細胞在活體外增殖或維持之技術逐漸發展。在活體外使此等器官、組織增殖或維持分別被稱為器官培養、組織培養，在活體外使從器官、組織分離的細胞增殖、分化或維持被稱為細胞培養。細胞培養係在培養基中使分離的細胞在活體外增殖、分化或維持之技術，對於詳細分析活體內的各種器官、組織、細胞的機能及結構而言是不可缺少的。另外，利用該技術培養之細胞及／或組織已在化學物質、醫藥品等的藥效及毒性評估、酵素、細胞增殖因子、抗體等的有用物質的大量生產、修復由於疾病、缺損而喪失之器官、組織、細胞之再生醫療、植物之品種改良、基因重組作物之製成等各種領域中被利用。
細胞之培養係一般可使用培養皿(schale)、培養盤(dish)、燒瓶、培養袋、培養板、細胞培養玻片、培養管、盤(tray)、瓶等的細胞培養容器，並依據細胞種類、培養方法、培養規模等的諸條件適宜選擇。細胞培養容器之材質僅為玻璃或樹脂，然而例如，在細胞培養容器為樹脂製，且其表面為疏水性之情況中，與細胞或細胞增殖有關之胜肽等的活體物質對於容器表面之附著產生，因此有細胞之增殖性或機能之顯現被損害之問題。
與以往的二次元的單層培養不同，作為在活體外構築細胞之三次元結構之培養法，使細胞凝集塊(亦稱為細胞橢球體或細胞塊等)形成之手法係被矚目。細胞凝集塊係以三次元的方式培養，且細胞之間集合・凝集化之細胞集合體，由於係被構築為活體樣結構，故有可長時間維持細胞的機能，且生理性機能提高之報導。因此，針對細胞凝集塊於藥物研發，或於細胞治療或再生治療中之利用之期待係正在提高。因此，對於細胞或細胞凝集塊對於容器表面之附著被抑制，且適於三次元的培養之細胞培養容器之要求亦正在提高。
例如，作為將細胞以非黏附狀態下培養之方法，係報導有將選自寒天、瓊脂糖，及聚(2-甲基丙烯酸羥乙酯)之材料作為基質，藉由在該基質上使癌細胞以最多12天於非黏附狀態下進行培養，以形成細胞凝集塊之方法(例如，參照專利文獻1)。另外，作為以細胞凝集塊培養情況之用途，有報導將自患者分離之癌細胞以細胞非黏附狀態下作為細胞凝集塊培養，藉此確定引起腫瘤形成之蛋白質之種類，並釐清癌化之機制(例如，參照非專利文獻1)。
另一方面，已知於表面具有於側鏈包含陽離子、陰離子之高分子材料，係藉由該靜電性的平衡，使該表面保持電性之中性，而有防止活體物質(蛋白質、細胞等)之吸附之作用。另外，亦提案有利用該等的機能之塗覆材料，關於對於玻璃或聚合物基板等之固著・固定化之方法已有各式各樣的報導。例如，本發明人等，係注目於作為具有各式各樣之活體物質之附著抑制能之塗覆材料而被期待之具有磷酸酯基之聚合物，並進行重複檢討。其結果，係報導包含含有特定之陰離子性基及陽離子性基之共聚物之塗覆劑，係無論基體之種類皆可強固地進行固著，此外，固著後成為對於水系溶劑之耐性優異之塗覆膜，且顯示優異之活體物質(例如，血小板或纖維蛋白原等)之附著抑制能(例如，參照專利文獻2、3)。另外，有報導以相同塗覆劑塗覆之細胞培養容器，其細胞之附著抑制能優異的同時，對於溶劑或放射線之耐性亦為優良(例如，參照專利文獻4)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2017-60498號公報
[專利文獻2] 國際公開第2014／196650號
[專利文獻3] 國際公開第2016／093293號
[專利文獻4] 國際公開第2014／196652號
[非專利文獻]
[非專利文獻1] Todaro M el al. Cell Stem Cell 4, 389-402 (2007)
[發明所欲解決之課題]
二次元的單層培養通常係於細胞外基質樣之支架材料上或經過物理性表面處理之培養容器上，以單層狀態播種細胞來進行。另一方面，用於形成細胞凝集塊之三次元的培養，通常係使用具有非黏附性表面之細胞培養容器，藉由將細胞進行浮遊培養來進行。特別是，為了大量、安定，且簡便地入手形狀或尺寸均一之細胞凝集塊，較佳係進行長時間之培養，然而並未有可以進行如此長期之細胞非黏附培養之細胞培養容器之報導。

[用於解決課題之手段]
本發明人等，係發現一種表面之至少一部分具備包含共聚物之塗覆，且該共聚物係包含特定之陰離子結構、特定之陽離子結構，及特定之疏水性結構，且該疏水性結構係以特定之比例存在之細胞培養容器，其係使長期間之細胞之非黏附培養成為可能，進而完成本發明。
本發明係如同下述。
[1] 一種長期細胞非黏附培養用之細胞培養容器，其表面之至少一部分具備包含共聚物之塗覆，且該共聚物係含有包含下述式(a)所表示之基之重複單元、包含下述式(b)所表示之基之重複單元，及包含下述式(c)所表示之基之重複單元：

[式中，
Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基；
Rc 係表示碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基、碳原子數3至10之脂環式烴基、碳原子數6至10之芳基、碳原子數7至15之芳烷基或碳原子數7至15之芳氧基烷基(此處，前述芳基部分可由可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基所取代)；
An- 係表示由鹵化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子所構成之群組所選出之陰離子]
其中，包含式(c)所表示之基之重複單元相對於共聚物全體之莫耳比率為1～50莫耳%。
[2] 如上述[1]所記載之細胞培養容器，其中，包含上述式(a)、(b)及(c)所表示之基之重複單元係分別為由下述式(A)、(B)及(C)所表示之單體所衍生之重複單元：

[式中，
Ta 、Tb 、Tc 、Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基；
Qa 及Qb 係各自獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Qc 係表示單鍵、醚鍵或酯鍵；
Ra 及Rb 係各自獨立表示可被鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或分支伸烷基，Rc 係表示碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基、碳原子數3至10之脂環式烴基、碳原子數6至10之芳基、碳原子數7至15之芳烷基或碳原子數7至15之芳氧基烷基(此處，前述芳基部分可由可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基所取代)；An- 係表示由鹵化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子所構成之群組所選出之陰離子；
m係表示0至6之整數]。
[3] 如上述[1]或[2]所記載之細胞培養容器，其中，上述共聚物係進一步包含由下述式(D)或(E)所表示之單體所衍生之交聯結構：

[式中，
Td 、Te 及Ue 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基，
Rd 及Re 係各自獨立表示可被鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或分支伸烷基；
n係表示1至6之整數]。
[4] 如上述[1]至[3]中任1項所記載之細胞培養容器，其係具有活體物質之附著抑制能。
[5] 一種長期細胞非黏附培養用之細胞培養容器之製造方法，其係包含將共聚物塗覆於容器之表面之至少一部分之步驟，且該共聚物係含有包含下述式(a)所表示之基之重複單元、包含下述式(b)所表示之基之重複單元，及包含下述式(c)所表示之基之重複單元：

[式中，
Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基；
Rc 係表示碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基、碳原子數3至10之脂環式烴基、碳原子數6至10之芳基、碳原子數7至15之芳烷基或碳原子數7至15之芳氧基烷基(此處，前述芳基部分可由可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基所取代)；
An- 係表示由鹵化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子所構成之群組所選出之陰離子]
其中，包含式(c)所表示之基之重複單元相對於共聚物全體之莫耳比率為1～50莫耳%。
[6] 如上述[5]所記載之製造方法，其中，包含上述式(a)、(b)及(c)所表示之基之重複單元係分別為由下述式(A)、(B)及(C)所表示之單體所衍生之重複單元：

[式中，
Ta 、Tb 、Tc 、Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基；
Qa 及Qb 係各自獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Qc 係表示單鍵、醚鍵或酯鍵；
Ra 及Rb 係各自獨立表示可被鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或分支伸烷基，Rc 係表示碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基、碳原子數3至10之脂環式烴基、碳原子數6至10之芳基、碳原子數7至15之芳烷基或碳原子數7至15之芳氧基烷基(此處，前述芳基部分可由可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基所取代)；An- 係表示由鹵化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子所構成之群組所選出之陰離子；
m係表示0至6之整數]。
[7] 如上述[5]或[6]所記載之製造方法，其中，塗覆步驟係使用包含共聚物之塗料來實施。
[8] 如上述[7]所記載之製造方法，其中，包含共聚物之塗料係預先經過pH調整。
[9] 如上述[5]至[8]中之任1項所記載之製造方法，其係進一步包含在乾燥步驟前及／或後，對經塗覆之細胞培養容器進行洗淨之步驟。
[10] 如上述[9]所記載之製造方法，其中，乾燥步驟後之洗淨係使用由水及包含電解質之水溶液所構成之群組所選出之至少1種溶劑來實施。
[11] 一種細胞凝集塊之製造方法，其特徵為使用如上述[1]至[4]中之任1項所記載之細胞培養容器或藉由上述[5]至[10]中之任1項所記載之製造方法所製造之細胞培養容器。

[發明之效果]
本發明之細胞培養容器係由於容器表面之至少一部分具備包含共聚物之塗覆，且該共聚物係包含式(a)所表示之陰離子性基，及式(b)所表示之陽離子性基，及式(c)所表示之疏水性基，且式(c)所表示之疏水性基係以特定之比例存在，因此可用於經過長期間(例如14日以上、例如21日以上)之非黏附培養。
≪用語說明≫
本發明中所使用之用語，若無其他特別指明，則具有以下定義。
本發明中，「鹵素原子」為氟原子、氯原子、溴原子或碘原子的意思。
本發明中，「烷基」為直鏈或者分支的飽和脂肪族烴之1價基的意思。作為「碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基」，可舉出例如，甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、s-丁基、t-丁基、n-戊基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、1,1-二甲基丙基、1,2-二甲基丙基、2,2-二甲基丙基或1-乙基丙基。作為「碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基」，除了「碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基」的例子以外，可舉出己基、庚基、辛基、壬基或癸基，或者該等的異構物。
此等之中，較佳為甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、s-丁基及t-丁基。
本發明中，「可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基」為上述碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基的意思，或者為被1個以上之上述鹵素原子取代之上述碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基的意思。「碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基」的例子係如同上述。另一方面，「被1個以上之鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基」為上述碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基之1個以上之任意的氫原子被鹵素原子取代的意思，作為例子，可舉出氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、溴甲基、碘甲基、2,2,2-三氟乙基、2,2,2-三氯乙基、全氟乙基、全氟丁基、或全氟戊基等。
本發明中，「酯鍵」為-C(=O)-O-或者
-O-C(=O)-的意思，「醯胺鍵」為-NHC(=O)-或者
-C(=O)NH-的意思，醚鍵為-O-的意思。
本發明中，「可被鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或者分支伸烷基」為碳原子數1至10之直鏈或者分支伸烷基，或者被1個以上之鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或者分支伸烷基的意思。此處，「伸烷基」為對應上述烷基之2價有機基的意思。作為「碳原子數1至10之直鏈或者分支伸烷基」的例子，可舉出伸甲基、伸乙基、伸丙基、三伸甲基、四伸甲基、1-甲基伸丙基、2-甲基伸丙基、二甲基伸乙基、乙基伸乙基、五伸甲基、1-甲基-四伸甲基、2-甲基-四伸甲基、1,1-二甲基-三伸甲基、1,2-二甲基-三伸甲基、2,2-二甲基-三伸甲基、1-乙基-三伸甲基、六伸甲基、八伸甲基及十伸甲基等，此等之中，伸乙基、伸丙基、八伸甲基及十伸甲基係較佳，例如，伸乙基、伸丙基、三伸甲基、四伸甲基等的碳原子數1至5之直鏈或者分支伸烷基係更佳，伸乙基或伸丙基係特佳。「被1個以上之鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或者分支伸烷基」為上述伸烷基之1個以上之任意的氫原子被鹵素原子取代的意思，特別是，較佳為伸乙基或伸丙基之氫原子的一部分或全部被鹵素原子取代者。
本發明中，「碳原子數3至10之脂環式烴基」為碳原子數3至10之單環式或者多環式之飽和或者部分不飽和之脂肪族烴之1價基的意思。其中，碳原子數3至10之單環式或者二環式之飽和脂肪族烴之1價基係較佳，可舉出例如，環丙基、環丁基或環己基等的碳原子數3至10之環烷基，或者二環[3.2.1]辛基、冰片基、異冰片基等的碳原子數4至10之二環烷基。
本發明中，「碳原子數6至10之芳基」為碳原子數6至1之單環式或者多環式之芳香族烴之1價之基的意思，可舉出例如，苯基、萘基或蒽基等。「碳原子數6至10之芳基」可被1個以上之上述「可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基」所取代。
本發明中，「碳原子數7至15之芳烷基」為基-R-R’(此處，R係表示上述「碳原子數1至5之伸烷基」，R’係表示上述「碳原子數6至10之芳基」)的意思，可舉出例如，苄基、苯乙基，或α-甲基苄基等。「碳原子數7至15之芳烷基」之芳基部分可被1個以上之上述「可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基」所取代。
本發明中，「碳原子數7至15之芳氧基烷基」為基-R-O-R’(此處，R係表示上述「碳原子數1至5之伸烷基」，R’係表示上述「碳原子數6至10之芳基」)的意思，可舉出例如，苯氧基甲基、苯氧基乙基、或苯氧基丙基等。「碳原子數7至15之芳氧基烷基」之芳基部分可被1個以上之上述「可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基」所取代。
本發明中，所謂「鹵化物離子」，為氟化物離子、氯化物離子、臭化物離子或碘化物離子的意思。
本發明中，所謂「無機酸離子」，為碳酸離子、硫酸離子、磷酸離子、磷酸氫離子、磷酸二氫離子、硝酸離子、過氯酸離子或硼酸離子的意思。
作為上述An- ，較佳者為鹵化物離子、硫酸離子、磷酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子，特佳為鹵化物離子。
本發明中，所謂(甲基)丙烯酸酯化合物，為丙烯酸酯化合物及甲基丙烯酸酯化合物之兩者的意思。例如(甲基)丙烯酸為丙烯酸及甲基丙烯酸的意思。
另外，本發明中，所謂「陰離子」或「陰離子性基」，為陰離子或陰離子性基的意思，包含可於水中解離成為陰離子或陰離子性基者。同樣地，本發明中，所謂「陽離子」或「陽離子性基」，為陽離子或陽離子性基的意思，包含可於水中解離成為陽離子或陽離子性基者。
本發明中，作為活體物質，可舉出胜肽、蛋白質、糖、核酸及細胞或該等的組合。可舉出例如作為胜肽或蛋白質，為纖維蛋白原、牛血清白蛋白(BSA)、人血白蛋白、各種球蛋白、β-脂蛋白、各種抗體(IgG、IgA、IgM)、過氧化酶、各種補體、各種凝集素、纖維連接蛋白、溶菌酶、溫韋伯氏凝血因子(vWF)、血清γ-球蛋白、胃蛋白酶、卵白白蛋白、胰島素、組蛋白、核糖核酸酶、膠原蛋白、細胞色素c，例如，作為糖，為葡萄糖、半乳糖、甘露糖、果糖、肝素、玻尿酸，例如作為核酸，為去氧核糖核酸(DNA)、核糖核酸(RNA)、例如作為細胞，為纖維母細胞、骨髓細胞、B淋巴球、T淋巴球、嗜中性球、紅血球、血小板、巨噬細胞、單核球、骨細胞、外被細胞、樹狀細胞、角質細胞、脂肪細胞、間葉細胞、上皮細胞、表皮細胞、內皮細胞、血管內皮細胞、肝實質細胞、軟骨細胞、卵丘細胞、神經系細胞、神經膠細胞、神經元、少突膠質細胞、小神經膠質細胞、星狀膠細胞、心臓細胞、食道細胞、肌肉細胞(例如，平滑肌細胞或骨格肌細胞)、胰臟β細胞、黑色素細胞、造血前驅細胞、單核細胞、胚胎幹細胞(ES細胞)、胚胎腫瘤細胞、胚胎生殖幹細胞、人工多能性幹細胞(iPS細胞)、神經幹細胞、造血幹細胞、間葉系幹細胞、肝幹細胞、胰腺幹細胞、肌肉幹細胞、生殖幹細胞、腸幹細胞、癌幹細胞、毛囊幹細胞、及各種細胞株(例如，HCT116、Huh7、HEK293(人類胎兒腎細胞)、HeLa(人類子宮頸癌細胞株)、HepG2(人類肝癌細胞株)、UT7／TPO(人類白血病細胞株)、CHO(中國倉鼠卵巢細胞株)、MDCK、MDBK、BHK、C-33A、HT-29、AE-1、3D9、Ns0／1、Jurkat、NIH3T3、PC12、S2、Sf9、Sf21、High Five、Vero)等。
所謂具有活體物質之附著抑制能，係例如，
活體物質為蛋白質的情況，為利用實施例中記載之方法進行的QCM-D測定中，與無塗覆膜的情況相比時之相對每單位面積之質量(%)((實施例之每單位面積之質量(ng／cm2 )／(比較例之每單位面積之質量(ng／cm2 )))為50%以下，較佳為30%以下，再更佳為20%以下的意思；或
活體物質為蛋白質的情況，為利用實施例中記載之方法進行之藉由平板讀數儀與無塗覆膜的情況相比時之相對光學濃度(450nm)(%)((實施例之光學濃度(450nm))／(比較例之光學濃度(450nm)))為50%以下，較佳為30%以下，再更佳為20%以下、再更佳為10%以下的意思；
活體物質為細胞之情況，為利用實施例中記載之方法進行之藉由螢光顯微鏡與無塗覆膜的情況相比時之相對吸光度(WST O.D.450nm)(%)((實施例之吸光度(WST O.D.450nm))／(比較例之吸光度(WST O.D.450nm)))為50%以下，較佳為30%以下，再更佳為20%以下，再更佳為10%以下，最佳為6%以下的意思。
本發明中，所謂長期細胞非黏附培養，為需要長(例如14日以上，或者21日以上)時間之細胞培養中，可將細胞直接以非黏附狀態培養的意思。另外，藉由此效果，相較於細胞對於容器之黏附力，細胞之間之黏附力係變得更強，依據細胞種的不同，可有效率地形成細胞凝集塊(橢球體)。
一般的培養容器中，係以使一般細胞對於基材之黏附力大於細胞間之黏附力的方式設計，因此可使細胞黏附於基材培養，然而藉由將本案之塗覆劑塗佈於基材，相較於細胞對於基材之黏附力，細胞之間之黏附力係變大，而可形成橢球體。
≪本發明之說明≫
本發明之長期細胞非黏附培養用之細胞培養容器，其特徵在於其表面之至少一部分具備包含共聚物之塗覆，且該共聚物係含有包含下述式(a)所表示之基之重複單元、包含下述式(b)所表示之基之重複單元，及包含下述式(c)所表示之基之重複單元：
[式中，Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基；Rc 係表示碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基、碳原子數3至10之脂環式烴基、碳原子數6至10之芳基、碳原子數7至15之芳烷基或碳原子數7至15之芳氧基烷基(此處，前述芳基部分可由可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基所取代)；An- 係表示由鹵化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子所構成之群組所選出之陰離子]，其中，包含式(c)所表示之基之重複單元相對於共聚物全體之莫耳比率為1～50莫耳%。
本發明之共聚物，若為含有包含上述式(a)所表示之基之重複單元，及上述包含式(b)所表示之基之重複單元，及上述包含式(c)所表示之基之重複單元，且包含式(c)所表示之基之重複單元之相對於共聚物全體之莫耳比率為1～50莫耳%之共聚物則無特別限制。此外，本發明中，上述包含式(c)所表示之基之重複單元，係與包含上述式(a)所表示之基之重複單元及上述包含式(b)所表示之基之重複單元相異。該聚合物較佳係由包含上述式(a)所表示之基之單體，及包含上述式(b)所表示之基之單體，及包含上述式(c)所表示之基之單體進行自由基聚合所獲得者，然而亦可使用使其經聚縮合、加成聚合反應者。作為共聚物的例子，可舉出烯烴進行反應而得到之乙烯基聚合聚合物、聚醯胺、聚酯、聚碳酸酯、聚胺基甲酸酯等，然而此等之中特佳係烯烴進行反應而得到之乙烯基聚合聚合物或使(甲基)丙烯酸酯化合物聚合而得到之(甲基)丙烯酸聚合物。
本發明之共聚物中之包含式(a)所表示之基之重複單元之比例為3莫耳%至80莫耳%，較佳為5莫耳%至60莫耳%，再更佳為7莫耳%至40莫耳%。最佳為10莫耳%至30莫耳%。此外，本發明之共聚物亦可包含2種以上之包含式(a)所表示之基之重複單元。
本發明之塗覆膜之共聚物中之包含式(b)所表示之基之重複單元之比例為3莫耳%至80莫耳%，較佳為10莫耳%至75莫耳%，再更佳為20莫耳%至70莫耳%。最佳為40莫耳%至65莫耳%。此外，本發明之共聚物亦可包含2種以上之包含式(b)所表示之基之重複單元。
本發明之共聚物中之包含式(c)所表示之基之重複單元之比例為1莫耳%至50莫耳%，較佳為3莫耳%至45莫耳%。再更佳為5莫耳%至40莫耳%。最佳為10莫耳%至35莫耳%。此外，本發明之共聚物亦可包含2種以上之包含式(c)所表示之基之重複單元。
本發明之共聚物中之上述式(a)、式(b)及包含式(c)所表示之基之重複單元之比例之組合係
較佳為，
式(a)：3莫耳%至80莫耳%、式(b)：3莫耳%至80莫耳%、式(c)：1莫耳%至50莫耳%，
更佳為，
式(a)：5莫耳%至60莫耳%、式(b)：10莫耳%至75莫耳%、式(c)：3莫耳%至45莫耳%，
再更佳為，
式(a)：7莫耳%至40莫耳%、式(b)：20莫耳%至70莫耳%、式(c)：5莫耳%至40莫耳%，
最佳為，
式(a)：10莫耳%至30莫耳%、式(b)：40莫耳%至65莫耳%、式(c)：10莫耳%至35莫耳%。
本發明之共聚物，特佳係使用包含下述式(a1)、(b1)及(c1)之重複單元之共聚物。
式中，Ta 、Tb 、Tc 、Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基，Qa 及Qb 係各自獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Qc 係表示單鍵、醚鍵或酯鍵，Ra 及Rb 係各自獨立表示可被鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或者分支伸烷基，Ra 及Rb 係各自獨立表示可被鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或者分支伸烷基，Rc 係表示碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基、碳原子數3至10之脂環式烴基、碳原子數6至10之芳基、碳原子數7至15之芳烷基或碳原子數7至15之芳氧基烷基(此處，前述芳基部分可由可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基所取代)、An- 係表示由鹵化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子所構成之群組所選出之陰離子，m係表示0至6之整數。
式(a1)中，m係表示0至6之整數，然而較佳為表示1至6之整數，更佳為表示1至5之整數，特佳為1。
本發明之共聚物中所包含之式(a1)所表示之重複單元之比例為3莫耳%至80莫耳%，較佳為5莫耳%至60莫耳%，再更佳為7莫耳%至40莫耳%，最佳為10莫耳%至30莫耳%。此外，本發明之共聚物中亦可包含2種以上之式(a1)所表示之重複單元。
本發明之共聚物所包含之式(b1)所表示之重複單元之比例為3莫耳%至80莫耳%，較佳為10莫耳%至75莫耳%，再更佳為20莫耳%至70莫耳%，最佳為40莫耳%至65莫耳%。此外，本發明之共聚物中亦可包含2種以上之式(b1)所表示之重複單元。
本發明之共聚物所包含之式(c1)所表示之重複單元之比例為1莫耳%至50莫耳%，較佳為3莫耳%至45莫耳%，再更佳為5莫耳%至40莫耳%，最佳為10莫耳%至35莫耳%。此外，本發明之共聚物中亦可包含2種以上之式(c1)所表示之重複單元。
本發明之共聚物中之上述式(a1)、式(b1)及式(c1)所表示之重複單元之比例之組合係
較佳為，
式(a1)：3莫耳%至80莫耳%、式(b1)：3莫耳%至80莫耳%、式(c1)：1莫耳%至50莫耳%，
更佳為，
式(a1)：5莫耳%至60莫耳%、式(b1)：10莫耳%至75莫耳%、式(c1)：3莫耳%至45莫耳%，
再更佳為，
式(a1)：7莫耳%至40莫耳%、式(b1)：20莫耳%至70莫耳%、式(c1)：5莫耳%至40莫耳%，
最佳為，
式(a1)：10莫耳%至30莫耳%、式(b1)：40莫耳%至65莫耳%、式(c1)：10莫耳%至35莫耳%。
本發明之共聚物係亦可藉由使包含下述式(A)、(B)及(C)所表示之化合物之單體混合物於溶劑中反應(聚合)而獲得：
[式中，
Ta 、Tb 、Tc 、Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基；
Qa 及Qb 係各自獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Qc 係表示單鍵、醚鍵或酯鍵；
Ra 及Rb 係各自獨立表示可被鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或者分支伸烷基，Rc 係表示碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基、碳原子數3至10之脂環式烴基、碳原子數6至10之芳基、碳原子數7至15之芳烷基或碳原子數7至15之芳氧基烷基(此處，前述芳基部分可被碳鹵素原子取代，亦可被碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基取代)；
An- 係表示由鹵化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子所構成之群組所選出之陰離子；
m係表示0至6之整數]。
作為Ta 、Tb 及Tc ，較佳為氫原子、甲基或乙基，更佳為氫原子或甲基。作為Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 ，較佳為氫原子、甲基、乙基或t-丁基，於式(a)之Ua1 及Ua2 中氫原子係更佳，於式(b)之Ub1 、Ub2 及Ub3 中氫原子、甲基、乙基或t-丁基係更佳。
作為上述式(A)之具體例，可舉出乙烯基膦酸、酸性磷醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-氯-2-酸性磷醯氧基乙基丙基(甲基)丙烯酸酯、酸性磷醯氧基乙基丙基(甲基)丙烯酸酯、酸性磷醯氧基乙基甲基(甲基)丙烯酸酯、酸性磷醯氧基聚氧乙二醇單(甲基)丙烯酸酯及酸性磷醯氧基乙基聚氧丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等，然而其中較佳係使用乙烯基膦酸、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(=磷酸2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯)、酸性磷醯氧基乙基聚氧乙二醇單甲基丙烯酸酯及酸性磷醯氧基乙基聚氧丙二醇單甲基丙烯酸酯。
乙烯基膦酸、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(=磷酸2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯)、酸性磷醯氧基乙基聚氧乙二醇單甲基丙烯酸酯及酸性磷醯氧基乙基聚氧丙二醇單甲基丙烯酸酯之結構式係分別由下述式(A-1)～式(A-4)表示。
例如，酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(=磷酸2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯)係製品名；Phosmer M(Uni-Chemical(股)製)或輕酯P-1M(共榮社化學(股)製)中所包含之化合物。
例如，酸性磷醯氧基乙基聚氧乙二醇單甲基丙烯酸酯係製品名；Phosmer PE(Uni-Chemical(股)製)中所包含之化合物。
例如，酸性磷醯氧基乙基聚氧丙二醇單甲基丙烯酸酯係製品名；Phosmer PP(Uni-Chemical(股)製)中所包含之化合物。
此等的化合物於合成時，有如同後述之一般式(D)或(E)所表示之，包含具有2個官能基之(甲基)丙烯酸酯化合物之情況。
作為上述式(B)之具體例，可舉出二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、二乙基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、二甲基氨基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(t-丁基氨基)乙基(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯醯膽鹼氯化物等，然而其中較佳係使用二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯醯膽鹼氯化物或2-(t-丁基氨基)乙基(甲基)丙烯酸酯。
二甲基氨基乙基丙烯酸酯(=丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯)、二乙基氨基乙基甲基丙烯酸酯(=甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯)、二甲基氨基乙基甲基丙烯酸酯(=甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯)、甲基丙烯醯膽鹼氯化物及2-(t-丁基氨基)乙基甲基丙烯酸酯(=甲基丙烯酸2-(t-丁基氨基)乙基之結構式係分別由下述式(B-1)～式(B-5)表示。
上述式(C)之具體作為例子，可舉出甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、n-丙基(甲基)丙烯酸酯、異丙基(甲基)丙烯酸酯、n-丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、s-丁基(甲基)丙烯酸酯、t-丁基(甲基)丙烯酸酯、己基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸之直鏈或者分支烷基酯類；環己基(甲基)丙烯酸酯、異莰基(甲基)丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸之環狀烷基酯類；芐基(甲基)丙烯酸酯、苯乙基(甲基)丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸之芳烷基酯類；苯乙烯、甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯等的苯乙烯系單體；甲基乙烯基醚、丁基乙烯基醚等的乙烯基醚系單體；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等的乙烯基酯系單體。其中，甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丁基(甲基)丙烯酸酯、己基(甲基)丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸之碳原子數1至6之直鏈或者分支烷基酯、或環己基(甲基)丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸之碳原子數3至6之環烷基酯係較佳，特別是，甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、n-丙基(甲基)丙烯酸酯、異丙基(甲基)丙烯酸酯、n-丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、s-丁基(甲基)丙烯酸酯、t-丁基(甲基)丙烯酸酯及n-己基(甲基)丙烯酸酯係較佳，甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、n-丙基(甲基)丙烯酸酯、異丙基(甲基)丙烯酸酯、n-丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、s-丁基(甲基)丙烯酸酯及t-丁基(甲基)丙烯酸酯係更佳。
例如，n-丁基甲基丙烯酸酯(=甲基丙烯酸n-丁酯)及環己基甲基丙烯酸酯(=甲基丙烯酸環己基)之結構式係分別由下述式(C-1)及式(C-2)表示。
本發明之共聚物中可共聚有任意的第4成分。例如，共聚具有2個以上官能基之(甲基)丙烯酸酯化合物作為第4成分，聚合物的一部分可部分以3次元交聯。作為如此之第4成分，可舉出例如，下述式(D)或(E)：
[式中，Td 、Te 及Ue 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基，Rd 及Re 係各自獨立表示可被鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或者分支伸烷基；n係表示1至6之整數]所表示之2官能性單體。亦即本發明之共聚物較佳係包含由此種2官能性單體所衍生之交聯結構。
式(D)及(E)中，Td 及Te 較佳係各自獨立為氫原子、甲基或乙基，更佳係各自獨立為氫原子或甲基。
式(E)中，Ue 較佳為氫原子、甲基或乙基，更佳為氫原子。
式(D)中，Rd 較佳為可被鹵素原子取代之碳原子數1至3之直鏈或者分支伸烷基，更佳係各自獨立為伸乙基或者伸丙基，或者為被1個氯原子取代之伸乙基或者伸丙基，特佳為伸乙基或者伸丙基。又，式(D)中，n較佳為表示1至5之整數，特佳為1。
式(E)中，Re 較佳為可被鹵素原子取代之碳原子數1至3之直鏈或者分支伸烷基，更佳係各自獨立為伸乙基或者伸丙基，或者為被1個氯原子取代之伸乙基或者伸丙基，特佳為伸乙基或者伸丙基。又，式(E)中，n較佳為表示1至5之整數，特佳為1。
式(D)及(E)中，較佳者為式(E)。
式(D)所表示之2官能性單體較佳係可舉出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯，或者源自上述式(A-3)或(A-4)之2官能性單體等。
式(E)所表示之2官能性單體較佳係可舉出磷酸雙(甲基丙烯醯氧基甲基)、磷酸雙[(2-甲基丙烯醯氧基)乙酯]、磷酸雙[3-(甲基丙烯醯氧基)丙酯]，或者源自上述式(A-3)或(A-4)之2官能性單體。
另外，作為3官能(甲基)丙烯酸酯化合物，可舉出三丙烯酸氧次膦基三(氧基-2,1-乙烷二基)酯。
此等第4成分之中，尤其是，乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯]、磷酸雙[3-(甲基丙烯醯氧基)丙酯]以及源自上述式(A-3)及(A-4)之2官能性單體之中，透過具有乙二醇或丙二醇之重複單元之二(甲基)丙烯酸酯及磷酸酯基，而具有乙二醇或丙二醇之重複單元之二(甲基)丙烯酸酯係較佳，該結構式，係各自由下述式(D-1)～(D-3)及式(E-1)～(E-3)表示。特佳為式(E-1)～(E-3)。
共聚物中可包含此等第4成分之1種或2種以上。
上述共聚物中之第4成分，例如，由上述式(D)或(E)所表示之2官能性單體所衍生之交聯結構之比例為0莫耳%至50莫耳%。
式(A)所表示之化合物相對於形成上述共聚物之單體全體之比例為3莫耳%至80莫耳%，較佳為5莫耳%至60莫耳%，再更佳為7莫耳%至40莫耳%，最佳為10莫耳%至30莫耳%。另外，式(A)所表示之化合物可為2種以上。
式(B)所表示之化合物相對於形成上述共聚物之單體全體之比例為3莫耳%至80莫耳%，較佳為10莫耳%至75莫耳%，再更佳為20莫耳%至70莫耳%，最佳為40莫耳%至65莫耳%。另外，式(B)所表示之化合物可為2種以上。
式(C)所表示之化合物相對於形成上述共聚物之單體全體之比例為1莫耳%至50莫耳%，較佳為3莫耳%至45莫耳%，再更佳為5莫耳%至40莫耳%，最佳為10莫耳%至35莫耳%。另外，式(C)所表示之化合物可為2種以上。
本發明之共聚物中可進一步共聚有乙烯性不飽和單體、或多糖類或者其衍生物作為任意的第5成分。作為乙烯性不飽和單體的例子，可舉出選自由(甲基)丙烯酸及其酯；乙酸乙烯酯；乙烯基吡咯烷酮；乙烯；乙烯醇；以及該等的親水性的官能性衍生物所構成之群組中的1種或2種以上之乙烯性不飽和單體。作為多糖類或其衍生物的例子，可舉出羥基烷基纖維素(例如，羥乙基纖維素或羥丙基纖維素)等的纖維素系高分子、澱粉、葡聚糖、卡特蘭多醣。
所謂親水性的官能性衍生物，為具有親水性的官能基或結構之乙烯性不飽和單體。作為親水性的官能性基或結構的例子，可舉出甜菜鹼結構；醯胺結構；亞烷基二醇殘基；氨基；以及亞磺醯基等。
甜菜鹼結構為具有第4級銨型之陽離子結構及酸性之陰離子結構之兩性中心之化合物之一價或二價之基，例如，可舉出磷醯膽鹼基：

。作為具有如此結構之乙烯性不飽和單體的例子，可舉出2-甲基丙烯醯氧基乙基磷醯膽鹼(MPC)等。
醯胺結構為下述式所表示之基：

[此處，R16 、R17 及R18 係互相獨立為氫原子或有機基(例如，甲基、羥基甲基或羥基乙基等)]。作為具有如此結構之乙烯性不飽和單體的例子，可舉出(甲基)丙烯醯胺、N-(羥基甲基)(甲基)丙烯醯胺等。此外，具有如此結構之單體或聚合物，例如，已揭示於日本特開2010-169604號公報等。
亞烷基二醇殘基，為亞烷基二醇(HO-Alk-OH；此處，Alk為碳原子數1至10之伸烷基)之片側末端或兩末端之羥基與其他的化合物進行縮合反應後，剩下之亞烷基氧基(-Alk-O-)的意思，亦包含亞烷基氧基單元被重複之聚(亞烷基氧基)基。作為具有如此結構之乙烯性不飽和單體的例子，可舉出2-羥乙基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等。此外，具有如此結構之單體或聚合物，例如，已揭示之日本特開2008-533489號公報等。
氨基為式：-NH2 、-NHR19 或-NR20 R21 [此處，R19 、R20 及R21 係互相獨立為有機基(例如，碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基等)]所表示之基。本發明中之氨基包含經4級化或氯化之氨基。作為具有如此結構之乙烯性不飽和單體的例子，可舉出二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(t-丁基氨基)乙基(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯醯基膽鹼氯化物等。
亞磺醯基為下述式所表示之基：

[此處，R22 為有機基(例如，碳原子數1至10之有機基，較佳為，具有1個以上之羥基之碳原子數1至10之烷基等)]。作為具有如此結構之聚合物，可舉出日本特開2014-48278號公報等所揭示之共聚物。
作為本發明之共聚物之合成方法，可藉由一般丙烯酸聚合物或甲基丙烯酸聚合物等的合成方法之自由基聚合、陰離子聚合、陽離子聚合等的方法來合成。該形態可為溶液聚合、懸濁聚合、乳化聚合、塊狀聚合等種種方法。
作為聚合反應中之溶劑，可為水、磷酸緩衝液或乙醇等的醇或以此等組合後之混合溶劑，然而較佳係包含水或乙醇。包含10質量%以上100質量%以下之水或乙醇係更佳。包含50質量%以上100質量%以下之水或乙醇係更佳。包含80質量%以上100質量%以下之水或乙醇係更佳。包含90質量%以上100質量%以下之水或乙醇係更佳。較佳為水與乙醇之合計為100質量%。
作為反應濃度，例如將上述式(A)或式(B)所表示之化合物於反應溶劑中之濃度設定在0.01質量%至4質量%係較佳。濃度若為4質量%以上，則例如藉由式(A)所表示之磷酸基所具有之強締合性，而有共聚物於反應溶劑中凝膠化之情況。濃度0.01質量%以下時，所獲得之塗料之濃度過低，故難以製成用於得到具有充分膜厚之塗覆膜之塗覆劑。濃度為0.01質量%至3質量%，例如3質量%、2質量%或1質量%係更佳。
此外，本發明之共聚物之合成中，例如，作成式(1)中記載之酸性磷酸酯單體(半鹽)後，亦可與式(C)所表示之化合物共同聚合，製作共聚物。
由於含有磷酸基之單體係容易締合之單體，故將其滴加至反應系中時，為了能快速地分散，亦可每次少量地滴加於反應溶劑中。
此外，對於反應溶劑而言，為了提高單體及聚合物之溶解性，亦可進行加溫(例如40℃至100℃)。
為了使聚合反應有效率地進行，較佳係使用聚合起始劑。作為聚合起始劑的例子，可使用2,2’-偶氮二(異丁腈)、2,2’-偶氮二(2-甲基丁腈)、2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)(和光純藥工業(股)製；V-65、10小時半衰期溫度；51℃)、4,4’-偶氮二(4-氰基戊酸)、2,2’-偶氮二(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、1,1’-偶氮二(環己烷-1-甲腈)、1-[(1-氰基-1-甲基乙基)偶氮]甲醯胺、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽(和光純藥工業(股)製；VA-044、10小時半衰期溫度；44℃)、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷](和光純藥工業(股)製；VA-061、10小時半衰期溫度；61℃)、2,2’-偶氮二(2-甲基丙脒)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥乙基)丙醯胺(和光純藥工業(股)製；VA-086、10小時半衰期溫度；86℃)、過氧化苯甲醯(BPO)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057、10小時半衰期溫度；57℃)、4,4’-偶氮二(4-氰基戊酸)(和光純藥工業(股)製；VA-501)、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二硫酸鹽二水合物(和光純藥工業(股)製；VA-046B、10小時半衰期溫度；46℃)、2,2’-偶氮二(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽(和光純藥工業(股)製；V-50、10小時半衰期溫度；56℃)、過氧二硫酸或t-丁基過氧化氫等。
對於水之溶解性，於考慮離子平衡及與單體之相互作用之情況下，較佳係選自2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥乙基)丙醯胺、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物、4,4’-偶氮二(4-氰基戊酸)、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二硫酸鹽二水合物、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]、2,2’-偶氮二(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽及過氧二硫酸。
對於有機溶劑之溶解性，於考慮離子平衡及與單體之相互作用之情況下，較佳係使用2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)或2,2’-偶氮二(異丁腈)。
作為聚合起始劑之添加量，係相對於聚合中所使用之單體之合計重量，為0.05質量%～10質量%。
反應條件係將反應容器以油浴等於50℃至200℃加熱，並藉由進行1小時至48小時，更佳為80℃至150℃、5小時至30小時之攪拌，使聚合反應進行並獲得本發明之共聚物。反應環境較佳為氮氣環境。
作為反應順序，可將全反應物質全部加入室溫之反應溶劑後，加熱至上述溫度使其聚合，或亦可於預先加溫的溶劑中，將反應物質的混合物之全部或一部分徐徐地滴入。
根據後者之反應順序，本發明之含有共聚物之塗料，係可藉由包含將包含上述式(A)、(B)及(C)所表示之化合物、溶劑及聚合起始劑之混合物，滴加至保持於比聚合起始劑之10小時半衰期溫度更高之溫度之溶劑中使其反應(聚合)之步驟之製造方法來製備。
此實施態樣中，藉由採用上述的反應順序與溫度條件，可將上述式(A)或式(B)所表示之化合物於反應溶劑中之濃度設定在例如，0.01質量%至10質量%。此實施態樣中，濃度即使超過4質量%，在反應前滴下相及反應相亦成為透明均勻的溶液，且可抑制反應後共聚物於反應溶劑中之凝膠化。此實施態樣中之其他條件，係與上述相同。
本發明之共聚物之重量分子量若為數千至數百萬之程度即可，較佳為5,000至5,000,000。再更佳為10,000至2,000,000。另外，可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物中之任一種，用於製造該共聚物之共聚合反應本身並無特別限制，可使用利用自由基聚合或離子聚合或光聚合、大分子單體、乳化聚合之聚合等在已知的溶液中合成之方法。依據這些目的的用途，可單獨使用本發明之共聚物中任一種，亦可混合複數共聚物，且改變其比率後使用。
另外，如此所製造之各種共聚物可為2次元聚合物亦可為3次元聚合物，於含有水或醇之溶液中分散之狀態。換言之，在包含此等聚合物之塗料中，會產生不均勻凝膠化或白濁沉澱者為不佳，以成為透明的塗料、分散膠體狀之塗料或者溶膠者為較佳。
本發明之用於在細胞培養容器形成塗覆之塗覆劑，亦可藉由將所期望之共聚物依據情況以所期望之溶劑稀釋於特定的濃度來製備。
作為如此之溶劑，可舉出水、磷酸緩衝生理食鹽水(PBS)、醇。作為醇，可舉出碳數2至6之醇，例如，乙醇、丙醇、異丙醇、1-丁醇、2-丁醇、異丁醇、t-丁醇、1-戊醇、2-戊醇、3-戊醇、1-庚醇、2-庚醇、2,2-二甲基-1-丙醇(=新戊醇)、2-甲基-1-丙醇、2-甲基-1-丁醇、2-甲基-2-丁醇(=t-戊醇)、3-甲基-1-丁醇、3-甲基-3-戊醇、環戊醇、1-己醇、2-己醇、3-己醇、2,3-二甲基-2-丁醇、3,3-二甲基-1-丁醇、3,3-二甲基-2-丁醇、2-乙基-1-丁醇、2-甲基-1-戊醇、2-甲基-2-戊醇、2-甲基-3-戊醇、3-甲基-1-戊醇、3-甲基-2-戊醇、3-甲基-3-戊醇、4-甲基-1-戊醇、4-甲基-2-戊醇、4-甲基-3-戊醇及環己醇，可單獨使用或使用組合這些的混合溶劑，然而共聚物之溶解之觀點來看，由水、PBS、乙醇、丙醇及該等的混合溶劑所選出者係較佳，由水、乙醇及該等的混合溶劑所選出者係更佳。
此外，塗覆劑亦可由含有共聚物之塗料來製備。含有共聚物之塗料係可藉由下述製造方法來製備，例如，包含將上述式(A)、(B)及(C)所表示之化合物於溶劑中，以化合物之合計濃度0.01質量%至20質量%使其反應(聚合)之步驟之製造方法。
作為塗覆劑中之固體成分之濃度，為了使塗覆膜均勻地形成，較佳為0.01至50質量%。另外，作為塗覆劑中之共聚物之濃度，較佳為0.01至4質量%，更佳為0.01至3質量%，特佳為0.01至2質量%，再更佳為0.01至1質量%。共聚物之濃度若未滿0.01質量%，則塗覆劑中之共聚物之濃度過低，而無法形成具有充分膜厚之塗覆膜，若超過4質量%，則塗覆劑之保存安定性變差，而有溶解物析出或產生凝膠化之可能性。
此外，塗覆劑，除了上述共聚物與溶劑以外，依據需要並在不損害所獲得之塗覆膜之性能之範圍內，亦可添加其他物質。作為其他物質，可舉出防腐劑、界面活性劑、抗氧化劑、還原劑、提高與基材之密著性之底漆、防霉劑及糖類等。
為了調節塗覆劑中之共聚物之離子平衡，亦可進一步包含將塗覆劑之pH預先調整之步驟。pH調整，係例如亦可藉由在包含上述共聚物與溶劑之塗覆劑中添加pH調整劑，將該劑之pH設定為3.5至9.0、較佳為3.5至8.5、再更佳為4.0至8.0來實施。可使用之pH調整劑之種類及其量，係可依據上述共聚物之濃度，或該陰離子與陽離子之存在比等適宜選擇。
作為pH調整劑的例子，可舉出氨、二乙醇胺、吡啶、N-甲基-D-葡糖胺、三(羥基甲基)氨基甲烷等的有機胺；氫氧化鉀、氫氧化鈉等的鹼金屬氫氧化物；氯化鉀、氯化鈉等的鹼金屬鹵化物；硫酸、磷酸、鹽酸、碳酸等的無機酸或該鹼金屬鹽；膽鹼等的4級銨陽離子，或者此等的混合物(例如，磷酸緩衝生理食鹽水等的緩衝液)。此等之中，氨、二乙醇胺、氫氧化鈉、膽鹼、N-甲基-D-葡糖胺、三(羥基甲基)氨基甲烷係較佳，特佳為氨、二乙醇胺、氫氧化鈉及膽鹼。
為了提高細胞非黏附性，亦可進一步於塗覆劑中添加磷酸。磷酸之添加量通常為將該劑全體設為100重量%的情況下，為例如0.01重量%～10重量%。
本發明之細胞培養容器係於細胞培養容器表面之至少一部分具有藉由上述塗覆劑形成之塗覆。具體而言，可與包含與細胞及細胞增殖有關之胜肽等的活體物質之培養液接觸之容器內部及／或外部表面之至少一部上具有該塗覆。特別是，可與包含與細胞及細胞增殖有關之胜肽等的活體物質之培養液接觸之容器之內部表面之表面積之中，較佳為50%以上、更佳為80%以上、再更佳為90%以上、特佳為100%具有塗覆。
構成本發明之細胞培養容器之經共聚物塗覆之容器，若為在該技術領域中可使用之任意的形態之容器類即可，可舉出例如，於一般細胞之培養中所使用之皮氏培養皿(petri-dish)、組織培養用培養盤、多孔培養盤等的培養皿或培養盤、細胞培養燒瓶、攪拌式燒瓶等的燒瓶、塑膠培養袋、鐵氟龍(註冊商標)培養袋、培養袋等的袋、微量培養板、微量孔培養板、多孔培養板、多孔培養板等的培養板、細胞培養玻片、培養管、盤(tray)、滾瓶等的瓶等。較佳係可舉出6～1536孔之多孔培養板及培養皿。
另外，容器之材質可舉出例如，玻璃、金屬、含有金屬之化合物或者含有類金屬之化合物、活性碳或樹脂。金屬係可舉出典型金屬：(鹼金屬：Li、Na、K、Rb、Cs；鹼土類金屬：Ca、Sr、Ba、Ra)、鎂族元素：Be、Mg、Zn、Cd、Hg；鋁族元素：Al、Ga、In；希土類元素：Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu；錫族元素：Ti、Zr、Sn、Hf、Pb、Th；鐵族元素：Fe、Co、Ni；釩族(vanadium)元素：V、Nb、Ta、鉻族元素：Cr、Mo、W、U；錳族元素：Mn、Re；貴金屬：Cu、Ag、Au；鉑族元素：Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt等。含有金屬之化合物或者含有類金屬之化合物，係可舉出例如基本成分為金屬氧化物，藉由高溫下之熱處理燒成固定之燒結體之陶瓷、如同矽之半導體、金屬氧化物或者類金屬氧化物(矽氧化物、氧化鋁等)、金屬碳化物或者類金屬碳化物、金屬氮化物或者類金屬氮化物(矽氮化物等)、金屬硼化物或者類金屬硼化物等的無機化合物之成形體等的無機固體材料、鋁、鎳鈦、不銹鋼(SUS304、SUS316、SUS316L等)。
作為樹脂，可為天然樹脂或者其衍生物，或合成樹脂中任一者，作為天然樹脂或者其衍生物，較佳係使用纖維素、三乙酸纖維素(CTA)、硝化纖維素(NC)、將葡聚糖硫酸固定化之纖維素等，作為合成樹脂較佳係使用聚丙烯腈(PAN)、聚酯系聚合物合金(PEPA)、聚苯乙烯(PS)、聚碸(PSF)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚甲基甲基丙烯酸酯(PMMA)、聚乙烯醇(PVA)、聚胺基甲酸酯(PU)、乙烯乙烯醇(EVAL)、聚乙烯(PE)、聚酯、聚丙烯(PP)、聚氟化亞乙烯酯(PVDF)、聚醚碸(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚氯化乙烯基(PVC)、聚四氟乙烯(PTFE)、超高分子量聚乙烯(UHPE)、聚二甲基矽氧烷(PDMS)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯樹脂(ABS)或鐵氟龍(註冊商標)。本發明之細胞培養容器之製造中，將共聚物以在該容器表面之至少一部分上存在之方式塗覆時，由於不需要以高溫處理，故耐熱性低之樹脂等亦可適用。
容器之材質可為1種類或組合2種類以上之組合。此等材質中，為玻璃、矽、矽氧化物、聚苯乙烯(PS)、聚丙烯(PP)、聚醚碸(PES)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚氯化乙烯基(PVC)、鐵氟龍(註冊商標)、環烯烴聚合物(COP)、聚二甲基矽氧烷(PDMS)或者不銹鋼(SUS304、SUS316、SUS316L等)單獨，或為由此等所選出之組合係較佳，玻璃、聚苯乙烯(PS)、聚丙烯(PP)、不銹鋼(SUS304、SUS316、SUS316L等)係特佳。
本發明係關於一種容器之部表面之至少一部分具備塗覆之細胞培養容器之製造方法，其係包含使如同上述之塗覆劑與容器表面之至少一部分接觸之步驟。塗覆劑與容器的表面之接觸係無特別限制，可使用將容器浸漬於塗覆劑、將塗覆劑添加於容器中，並進行特定時間之靜置，或將塗覆劑塗佈於容器的表面等的方法，然而將塗覆劑添加於容器中，進行特定時間之靜置之方法係較佳。添加係可藉由例如，將容器之全容積之0.5至1倍量之塗覆劑，使用注射器等添加來進行。靜置係可依據容器之材質或塗覆劑之種類，適當地選擇時間及溫度來實施，然而例如以5分鐘至24小時，較佳為30分鐘至3小時，10至35℃，較佳為20至30℃，最佳為於25℃下實施。藉此，可製造容器表面之至少一部分，較佳為遍及全體具有塗覆之細胞培養容器。
另外，藉由所述方法獲得之容器的表面之塗覆，係於上述與容器表面之至少一部分接觸之步驟後，較佳為添加塗覆劑，並進行特定的時間靜置之步驟後，不經過乾燥步驟而直接，或者使用水或用於細胞培養之試料之介質(例如，水、緩衝液、培養基等)洗淨後，可作為細胞培養容器使用。
亦即，上述與容器表面之至少一部分接觸之步驟後，較佳為添加塗覆劑，並進行特定的時間靜置之步驟後，48小時以內，較佳為24小時以內，再更佳為12小時以內，再更佳為6小時以內，再更佳為3小時以內，再更佳為1小時以內，不經過乾燥步驟而直接，或者使用附於水或用於細胞培養之試料之介質(例如，水、緩衝液、培養基等、特佳為培養基(例如，DMEM培養基(Dulbecco改進之Eagle培養基))洗淨後，可作為細胞培養容器使用。
容器亦可進行乾燥步驟。乾燥步驟係於大氣下或真空下，較佳為在溫度-200℃至200℃之範圍內進行。藉由乾燥步驟，去除上述塗覆劑中之溶劑的同時，本發明之共聚物之式(a)及式(b)彼此間形成離子鍵，完全固著於基體。
塗覆例如亦可利用室溫(10℃至35℃、較佳為20℃至30℃、例如25℃)下之乾燥來形成，然而為了更迅速地形成塗覆，亦可於例如40℃至50℃下進行乾燥。此外，亦可使用藉由冷凍乾燥法之極低溫至低溫(-200℃至-30℃前後)下之乾燥步驟。冷凍乾燥亦被稱為真空凍結乾燥，通常係利用冷媒將欲乾燥之物質冷卻，在真空狀態下利用昇華去除溶劑之方法。作為可在冷凍乾燥中使用之一般冷媒，可舉出乾冰及甲醇之混合介質(-78℃)、液態氮(-196℃)等。
乾燥溫度若為未滿-200℃，則必須使用非一般的冷媒，缺乏通用性，且為了使溶劑昇華故需要長時間之乾燥，效率差。乾燥溫度若超過200℃，則塗覆表面之離子鍵反應係過度進行，該表面喪失親水性，與細胞及細胞增殖有關之胜肽等的活體物質之附著抑制能係無法發揮。更佳之乾燥溫度為10℃至180℃，更佳之乾燥溫度為25℃至150℃。
本案之塗覆，係經過以上簡便之步驟而製造。
另外，為了去除塗覆上殘存之雜質、未反應單體等，進而為了調節塗覆中之共聚物之離子平衡，亦可實施藉由由水及包含電解質之水溶液所選出之至少1種溶劑進行洗淨之步驟。洗淨較佳為流水洗淨或超音波洗淨等。上述水及包含電解質之水溶液亦可在例如40℃至95℃之範圍內被加溫。包含電解質之水溶液為PBS、生理食鹽水(僅含有氯化鈉者)、Dulbecco磷酸緩衝生理食鹽水、Tris緩衝生理食鹽水、HEPES緩衝生理食鹽水及veronal緩衝生理食鹽水係較佳，PBS係特佳。固著後，即使用水、PBS及醇等洗淨，塗覆膜亦不溶出，強固地固著於基體。對於形成之塗覆而言，即使細胞或蛋白質附著，亦可隨後利用水洗等容易地將其去除，形成有本發明之塗覆之容器的表面，具有與細胞及細胞增殖有關之胜肽等的活體物質之附著抑制能，係適用於長期非黏附培養者。
賦予於本發明之容器的表面之塗覆之膜厚，係可依據容器之形狀或試料的種類等適宜調整，又，可為幾乎均勻地遍及容器表面全體，亦可為部分不均勻，無特別限定，然而較佳為10至1000Å，再更佳為10至500Å，最佳為10至300Å。
本發明亦關於一種細胞凝集塊之製造方法，其特徵在於其係使用上述的細胞培養容器。藉由於細胞培養容器表面之至少一部分進行上述的塗覆，即使進行培養期間為長期，亦由於對於細胞之容器表面之黏附係被抑制，而可藉由浮遊培養等，效率良好地製造細胞凝集塊。所述之方法中，細胞、細胞凝集塊、塗覆及容器等的意思係如同上述。

[實施例]
以下，以合成例、製備例、實施例、試驗例等為基礎，進一步詳細地說明本發明，然而本發明並不受此等之限定。
＜合成例1＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)7.00g中添加純水32.10g，將其充分地溶解。接著，將乙醇32.10g、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯9.41g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸n-丁酯1.34g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.09g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水96.31g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.74質量%之含有共聚物之塗料178.35g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約210,000。
＜合成例2＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)7.00g中添加純水16.05g將其充分地溶解。接著，將乙醇48.16g、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯9.41g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸n-丁酯1.34g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.09g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水96.31g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.61質量%之含有共聚物之塗料178.35g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約220,000。
＜合成例3＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)7.00g中添加純水15.81g將其充分地溶解。接著，將乙醇47.44g、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯9.41g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸乙酯1.07g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.09g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水94.88g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.75質量%之含有共聚物之塗料175.71g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約280,000。
＜合成例4＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)7.00g中添加純水17.03g將其充分地溶解。接著，將乙醇51.08g、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯9.41g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸乙酯2.42g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.09g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水102.17g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.52質量%之含有共聚物之塗料189.20g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約250,000。
＜合成例5＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)7.00g中添加純水18.59g將其充分地溶解。接著，將乙醇55.77g、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯9.41g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸乙酯4.14g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.10g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水111.53g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.49質量%之含有共聚物之塗料185.88g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約200,000。
＜合成例6＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水11.64g將其充分地溶解。接著，將乙醇34.91g、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯6.72g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸n-己基1.14g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.06g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水69.82g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.80質量%之含有共聚物之塗料129.29g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約210,000。
＜合成例7＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水21.13g將其充分地溶解。接著，將乙醇21.13g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯5.72g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸n-丁酯0.96g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.06g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水63.40g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.56質量%之含有共聚物之塗料117.41g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約380,000。
＜合成例8＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水12.38g將其充分地溶解。接著，將乙醇37.15g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯5.72g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸乙酯2.97g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.07g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水74.31g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約8.89質量%之含有共聚物之塗料137.41g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約540,000。
＜合成例9＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水20.24g將其充分地溶解。接著，將乙醇20.24g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯3.82g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸乙酯2.37g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.06g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水60.73g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.34質量%之含有共聚物之塗料112.47g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約580,000。
＜合成例10＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水24.81g將其充分地溶解。接著，將乙醇24.81g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯5.72g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸乙酯2.97g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.09g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水74.42g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.38質量%之含有共聚物之塗料137.81g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約280,000。
＜合成例11＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水19.58g將其充分地溶解。接著，將乙醇19.58g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯2.29g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯2.69g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸n-丁酯0.84g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.05g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水58.73g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.82質量%之含有共聚物之塗料108.75g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約330,000。
＜合成例12＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水20.54g將其充分地溶解。接著，將乙醇20.54g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯1.64g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯3.84g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸n-丁酯0.88g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.06g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水61.61g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.81質量%之含有共聚物之塗料114.09g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約320,000。
＜合成例13＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水18.74g將其充分地溶解。接著，將乙醇18.74g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯2.86g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯1.68g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸乙酯0.68g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.05g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行純水向附有冷凝管之3口燒瓶中添加56.21g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.75質量%之含有共聚物之塗料104.09g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約370,000。
＜合成例14＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水20.22g將其充分地溶解。接著，將乙醇20.22g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯1.64g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯3.84g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸乙酯0.70g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.06g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水60.67g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.71質量%之含有共聚物之塗料112.36g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約410,000。
＜合成例15＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水18.45g將其充分地溶解。接著，將乙醇18.45g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯2.86g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯1.68g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸乙酯0.65g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.05g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水57.83g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.70質量%之含有共聚物之塗料107.09g。
所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約490,000。
＜比較合成例1＞
一邊將酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)25.00g冷卻至35℃以下，一邊添加膽鹼(48-50%水溶液：東京化成工業(股)製)29.95g，並攪拌至均勻為止。一邊保持35℃以下，一邊於此混合液中依序添加甲基丙烯醯膽鹼氯化物80%水溶液(東京化成工業(股)製)20.95g、甲基丙烯酸n-丁酯(東京化成工業(股)製)28.67g、2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)(和光純藥工業(股)製；V-65)0.70g、乙醇110.84g。此外，將使2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.70g溶解於純水27.71g之水溶液一邊保持於35℃以下，一邊添加於上述的溶液中，並將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中裝入純水56.81g及乙醇131.62g，於其中流通氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費1小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境24小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約19.86質量%之含有共聚物之塗料432.97g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約19,000。
＜比較合成例2＞
一邊將酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g冷卻至35℃以下，一邊添加膽鹼(48-50%水溶液：東京化成工業(股)製)5.99g，並攪拌至均勻為止。一邊保持35℃以下，一邊於此混合液中依序添加甲基丙烯醯膽鹼氯化物80%水溶液(東京化成工業(股)製)4.19g、甲基丙烯酸甲基(東京化成工業(股)製)16.16g、2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)(和光純藥工業(股)製；V-65)0.25g、乙醇35.78g。此外，將使2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.25g溶解於純水8.95g之水溶液一邊保持於35℃以下，一邊添加於上述的溶液中，並將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中裝入純水20.72g及乙醇42.49g，於其中流通氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費1小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約20.34質量%之含有共聚物之塗料112.16g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約26,000。
＜比較合成例3＞
一邊將酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g冷卻至35℃以下，一邊添加膽鹼(48-50%水溶液：東京化成工業(股)製)5.99g，並攪拌至均勻為止。一邊保持35℃以下，一邊於此混合液中依序添加甲基丙烯醯膽鹼氯化物80%水溶液(東京化成工業(股)製)4.19g、甲基丙烯酸乙酯(東京化成工業(股)製)10.75g、2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)(和光純藥工業(股)製；V-65)0.19g、乙醇28.71g。此外，將使2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.19g溶解於純水7.18g之水溶液一邊保持於35℃以下，一邊添加於上述的溶液中，並將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中裝入純水15.86g及乙醇34.10g，於其中流通氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費1小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約20.02質量%之含有共聚物之塗料168.47g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約37,000。
＜比較合成例4＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)8.00g中添加純水30.32g將其充分地溶解。接著，將乙醇30.32g、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯8.76g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.08g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水90.97g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.61質量%之含有共聚物之塗料168.47g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約290,000。
＜比較合成例5＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水18.05g將其充分地溶解。接著，將乙醇18.05g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯2.29g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯2.69g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.05g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水54.15g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.70質量%之含有共聚物之塗料100.28g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約950,000。
＜比較合成例6＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水18.95g將其充分地溶解。接著，將乙醇18.95g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯1.64g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯3.84g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.05g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水56.85g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.98質量%之含有共聚物之塗料105.29g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約500,000。
＜比較合成例7＞
於酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(製品名；Phosmer M、Uni-Chemical(股)公司製、乾固法100℃・1小時時之不揮發成分：91.8%、酸性磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯](28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)之混合物)5.00g中添加純水17.26g將其充分地溶解。接著，將乙醇17.26g、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯2.86g(東京化成工業(股)公司製)、甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯1.68g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮二(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥工業(股)製；VA-057)0.05g，保持在20℃以下的同時，依序添加於Phosmer M之水溶液中。將充分地攪拌而變得均勻之包含上述全部物質的混合液導入至滴液漏斗中。另一方面，另行向附有冷凝管之3口燒瓶中添加純水51.79g並通過氮氣流，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持此狀態的同時，將導入上述混合液之滴液漏斗設置於3口燒瓶，花費2小時將混合液滴加至純水與乙醇之沸騰液內。滴加後，在維持了上述環境4小時的狀態下，加熱攪拌藉此獲得固體成分約9.98質量%之含有共聚物之塗料95.90g。所獲得之透明液體之GFC之重量平均分子量為約600,000。
(矽晶圓之準備)
直接使用半導體評估用之市售矽晶圓。
(QCM感測器(PS)之作成)
將經Au蒸鍍的水晶振動子(Q-Sense，QSX304)，使用UV／臭氧洗淨裝置(UV253E、Filgen,Inc.(股)製)進行10分鐘之洗淨後，立即在將2-氨基乙烷硫醇(東京化成工業(股)製)0.0772g溶解於乙醇1000mL之溶液中浸漬24小時。以乙醇洗淨感測器表面後自然乾燥，將溶解聚苯乙烯(Aldrich公司製)1.00g於甲苯99.00g之塗料藉由旋轉塗佈機以3500rpm／30sec於膜感測器側進行旋轉塗佈，經120℃／1分乾燥後製成QCM感測器(PS)。
＜製備例1＞
於上述合成例1所獲得之含有共聚物之塗料4.00g中添加純水24.0g、乙醇10.88g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)製)0.27g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.5。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為79Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例2＞
於上述合成例1所獲得之含有共聚物之塗料3.60g中添加純水14.28g、乙醇17.03g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.15g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為51Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例3＞
於上述合成例1所獲得之含有共聚物之塗料3.60g中添加純水14.43g、乙醇17.05g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為6.7。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為39Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例4＞
於上述合成例2所獲得之含有共聚物之塗料3.80g中添加純水22.19g、乙醇9.82g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.34g、以純水稀釋為5%之磷酸水溶液(關東化學(股)公司製)0.18g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為62Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例5＞
於上述合成例3所獲得之含有共聚物之塗料3.49g中添加純水21.34g、乙醇9.19g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.18g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.5。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為59Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例6＞
於上述合成例4所獲得之含有共聚物之塗料3.50g中添加純水20.71g、乙醇8.95g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.19g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.5。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為72Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例7＞
於上述合成例5所獲得之含有共聚物之塗料3.51g中添加純水20.66g、乙醇8.88g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.18g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.5。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為99Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例8＞
於上述合成例5所獲得之含有共聚物之塗料3.51g中添加純水13.52g、乙醇16.16g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.11g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為62Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例9＞
於上述合成例5所獲得之含有共聚物之塗料3.51g中添加純水13.63g、乙醇16.16g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為6.8。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為51Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例10＞
於上述合成例6所獲得之含有共聚物之塗料3.51g中添加純水21.43g、乙醇9.28g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.19g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為110Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例11＞
於上述合成例7所獲得之含有共聚物之塗料3.51g中添加純水19.17g、乙醇8.30g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.22g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為75Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例12＞
於上述合成例7所獲得之含有共聚物之塗料3.60g中添加純水20.93g、乙醇9.52g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.19g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.2。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為98Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例13＞
於上述合成例7所獲得之含有共聚物之塗料5.80g中添加純水34.23g、乙醇15.42g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為6.2。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為52Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例14＞
於上述合成例8所獲得之含有共聚物之塗料3.51g中添加純水19.17g、乙醇8.30g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.22g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為50Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例15＞
於上述合成例8所獲得之含有共聚物之塗料3.60g中添加純水21.36g、乙醇9.22g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.17g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.3。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為72Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例16＞
於上述合成例8所獲得之含有共聚物之塗料3.60g中添加純水21.12g、乙醇9.22g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.41g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為8.0。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為60Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例17＞
於上述合成例9所獲得之含有共聚物之塗料4.00g中添加純水22.6g、乙醇10.40g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.47g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.5。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為65Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例18＞
於上述合成例10所獲得之含有共聚物之塗料3.70g中添加純水21.10g、乙醇9.70g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.23g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為69Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例19＞
於上述合成例10所獲得之含有共聚物之塗料3.61g中添加純水20.93g、乙醇9.26g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.13g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.0。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為45Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例20＞
於上述合成例10所獲得之含有共聚物之塗料3.60g中添加純水7.12g、乙醇22.77g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.30g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為8.0。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為61Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例21＞
於上述合成例10所獲得之含有共聚物之塗料3.60g中添加純水6.76g、乙醇22.87g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.75g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為9.0。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為170Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例22＞
於上述合成例10所獲得之含有共聚物之塗料3.60g中添加純水6.76g、乙醇22.87g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.75g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.5。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為63Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例23＞
於上述合成例10所獲得之含有共聚物之塗料3.60g中添加純水13.63g、乙醇16.19g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.54g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為8.5。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為140Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例24＞
於上述合成例10所獲得之含有共聚物之塗料3.61g中添加純水14.19g、乙醇16.04g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.23g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.5。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為84Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例25＞
於上述合成例10所獲得之含有共聚物之塗料3.60g中添加純水20.77g、乙醇9.37g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.27g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.6。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為52Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例26＞
於上述合成例10所獲得之含有共聚物之塗料3.60g中添加純水13.76g、乙醇16.00g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.25g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.7。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為44Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例27＞
於上述合成例11所獲得之含有共聚物之塗料3.70g中添加純水21.98g、乙醇10.13g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.34g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為149Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例28＞
於上述合成例12所獲得之含有共聚物之塗料3.70g中添加純水21.99g、乙醇10.11g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.31g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為101Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例29＞
於上述合成例13所獲得之含有共聚物之塗料3.70g中添加純水21.74g、乙醇10.05g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.39g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為136Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例30＞
於上述合成例14所獲得之含有共聚物之塗料3.70g中添加純水21.72g、乙醇10.00g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.30g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為40Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜製備例31＞
於上述合成例15所獲得之含有共聚物之塗料3.70g中添加純水21.62g、乙醇10.00g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)0.39g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。將所獲得之塗覆劑以1500rpm／60sec於上述矽晶圓上旋轉塗佈，並以烤箱於50℃使其乾燥24小時。之後，將附著於塗覆膜上之未硬化之塗覆劑以PBS及純水充分的進行洗淨，獲得形成有塗覆膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為73Å。
另外，將上述塗覆劑以3500rpm／30sec於QCM感測器(PS)上旋轉塗佈，並以50℃之烤箱烘烤24小時作為乾燥步驟。之後，作為洗淨步驟，對於過剩未硬化之塗覆劑以PBS及超純水進行各2次之洗淨，獲得經表面處理之QCM感測器(PS)。
＜比較製備例1＞
直接使用上述QCM感測器(PS)。
＜比較製備例2＞
於上述比較合成例1所獲得之含有共聚物之塗料3.30g中添加純水8.28g、乙醇20.22g、1mol／L鹽酸(1N)(關東化學(股)公司製)0.41g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為3.4。以與製備例1相同之方法，獲得形成塗覆膜之矽晶圓，及經表面處理之QCM感測器(PS)。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為584Å。
＜比較製備例3＞
於上述比較合成例2所獲得之含有共聚物之塗料7.01g中添加純水18.66g、乙醇45.03g、1mol／L鹽酸(1N)(關東化學(股)公司製)0.78g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為3.3。以與製備例1相同之方法，獲得形成塗覆膜之矽晶圓，及經表面處理之QCM感測器(PS)。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為715Å。
＜比較製備例4＞
於上述比較合成例3所獲得之含有共聚物之塗料7.00g中添加純水18.10g、乙醇44.17g、1mol／L鹽酸(1N)(關東化學(股)公司製)0.88g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為3.3。以與製備例1相同之方法，獲得形成塗覆膜之矽晶圓，及經表面處理之QCM感測器(PS)。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為659Å。
＜比較製備例5＞
於上述比較合成例4所獲得之含有共聚物之塗料380.10g中添加純水2229.37g、乙醇1079.67g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)64.02g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。以與製備例1相同之方法，獲得形成塗覆膜之矽晶圓，及經表面處理之QCM感測器(PS)。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為187Å。
＜比較製備例6＞
於上述比較合成例5所獲得之含有共聚物之塗料380.10g中添加純水2229.37g、乙醇1079.67g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)64.02g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。以與製備例1相同之方法，獲得形成塗覆膜之矽晶圓，及經表面處理之QCM感測器(PS)。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為255Å。
＜比較製備例7＞
於上述比較合成例6所獲得之含有共聚物之塗料380.10g中添加純水2229.37g、乙醇1079.67g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)64.02g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。以與製備例1相同之方法，獲得形成塗覆膜之矽晶圓，及經表面處理之QCM感測器(PS)。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為47Å。
＜比較製備例8＞
於上述比較合成例7所獲得之含有共聚物之塗料380.10g中添加純水2229.37g、乙醇1079.67g、1mol／L氫氧化鈉水溶液(1N)(關東化學(股)公司製)64.02g，並充分地攪拌，製備塗覆劑。pH為7.4。以與製備例1相同之方法，獲得形成塗覆膜之矽晶圓，及經表面處理之QCM感測器(PS)。使用上述矽晶圓，以分光橢圓偏光儀確認塗覆膜之膜厚之結果為64Å。
＜試驗例1＞
[蛋白質附著試驗；QCM-D測定]
將藉由各製備例及比較例得到之經表面處理之QCM感測器(PS)安裝於散逸型水晶振動子微天秤QCM-D(E4、Q-Sense)，流通PBS，直到確立了頻率的變化在1小時內成為1Hz以下之穩定的基線。接下來，將穩定的基線的頻率作為0Hz，流通約10分鐘PBS。接著，流通在41010 - Basal Medium Eagle (BME), no Glutamine(Thermo Fisher Scientific股份公司製)中添加15wt%之牛血清(FBS)、L-Glutamine、作為抗生物質之青黴素及鏈黴素而獲得之溶液約30分鐘，然後再次流通PBS約20分鐘，然後讀取9次泛音之吸附誘導頻率的位移(Δf)。為了進行分析，使用Q-Tools(Q-Sense)，針對吸附誘導頻率的位移(Δf)，將由Sauerbrey式說明之吸附誘導頻率的位移(Δf)換算為每單位面積之質量(ng／cm2 )，將所得值作為活體物質之附著量示於表1。製備例係顯示低1個位數之各種蛋白質吸附量。
＜實施例1＞
依序實施以下各處理步驟，製備本發明中之細胞培養容器。
處理1：將上述製備例7中所製備之含有共聚物之塗料使用篩孔尺寸為0.22μm之過濾器過濾後，以成為200μL(固體成分1質量%)／孔的方式添加至96孔細胞培養板(BD BIOSCIENCES公司製、＃351172)中，於室溫靜置1小時後，去除過量的塗料。
處理2：使用烤箱(Advantech東洋股份公司製、乾燥機FC-612)於50℃下使其乾燥1晩。之後，每1孔添加200μL之滅菌水，然後去除並進行洗淨。同樣地，進一步進行2次洗淨，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例2＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例8中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例3＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例9中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例4＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例10中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例5＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例11中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例6＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例14中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例7＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例15中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例8＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例16中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例9＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例18中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例10＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例19中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例11＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例20中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例12＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例21中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例13＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例22中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例14＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例23中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜實施例15＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為製備例24中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜比較例1＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為比較製備例2中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜比較例2＞
依序實施以下各處理步驟，製備本發明中之細胞培養容器。
處理1：將上述比較製備例3中製備之含有共聚物之塗料使用篩孔尺寸為0.22μm之過濾器過濾後，以成為200μL (固體成分2質量%)／孔的方式添加至96孔細胞培養板(BD BIOSCIENCES公司製、＃351172)中，於室溫靜置1小時後，去除過量的塗料。
處理2：使用烤箱(Advantech東洋股份公司製、乾燥機FC-612)於50℃下使其乾燥1晩。之後，每1孔添加200μL之滅菌水，然後去除並進行洗淨。同樣地，進一步進行2次洗淨，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜比較例3＞
將比較例2中使用之比較製備例3中製備之含有共聚物之塗料置換為比較製備例4中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與比較例2進行同樣的操作獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜比較例4＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為比較製備例5中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜比較例5＞
將實施例1中使用之製備例7中所製備之含有共聚物之塗料置換為比較製備例6中製備之含有共聚物之塗料，除此之外，與實施例1進行同樣的操作，獲得經塗覆之細胞培養容器。
＜試驗例2：纖維母細胞附著抑制試驗＞
(塗覆培養板之製備)
使用實施例1～15及比較例1～5所獲得之經塗覆之細胞培養容器。作為陽性對照之試樣，係使用市售之細胞低黏附培養板(康寧公司製、＃3474)。作為陰性對照，係使用未施以塗覆之96孔細胞培養板(BD BIOSCIENCES公司製、＃351172)。
(細胞之製備)
細胞係使用小鼠胚纖維母細胞C3H10T1／2(DS Pharma Biomedical公司製)。細胞之培養中所使用之培養基，係使用含有10(v／v)%FBS(Corning公司製)及L-谷氨醯胺-青黴素-鏈黴素安定化溶液(Sigma-Aldrich公司製)之BME培養基(Thermo Fisher Scientific公司製)。細胞在37℃／CO2 培養箱內保持5(v／v)%二氧化碳濃度之狀態下，使用直徑10cm之培養皿(培養基8mL)進行2天以上靜置培養。接著，將本細胞以PBS5mL洗淨後，添加胰蛋白酶-EDTA溶液(Invitrogen公司製)1mL，剝離細胞，將其分別懸浮於上述之培養基10mL中。將該懸濁液離心分離(TOMY SEIKO CO.,LTD.製、型號LC-200、1000rpm／3分鐘、室溫)後，去除上清液，添加上述之培養基，製備細胞懸濁液。
(細胞附著實驗)
對上述製備之培養板中，以使其成為2×103 cells／well之方式各自添加細胞懸濁液各100μL。之後，於保持5%二氧化碳濃度之狀態下，於37℃下於CO2 培養箱內靜置4天。
(細胞附著之觀察)
培養4天後，使用倒立型顯微鏡(Olympus公司製、IX73)對細胞在各實施例及比較例之培養板、陽性對照、及陰性對照之培養板上之附著進行觀察(倍率：4倍)，以該觀察為基礎進行比較。各培養板之結果(培養4天後)顯示於圖1。另外，每1孔添加10μL之Cell Counting Kit-8溶液(同仁化學研究所製)，於37℃下於CO2 培養箱內靜置2小時。之後，以吸光度計(MolecularDevices公司製、SpectraMax)測定450nm之吸光度。各測定值為減去僅添加各培養基之孔之測定值所獲得之值。其結果表示於表2。
如同上述，比較例1～5及陰性對照培養板中，細胞係附著，然而實施例5～7、9～11、13、15及陽性對照培養板中，細胞係顯示未附著之情況。此時，未附著之細胞係形成細胞凝集塊(橢球體)。
＜試驗例3：癌細胞附著抑制試驗＞
(塗覆培養板之製備)
使用實施例1～15及比較例1～5所獲得之經塗覆之細胞培養容器。作為陽性對照之試樣，係使用市售之細胞低黏附培養板(康寧公司製、＃3474)。作為陰性對照，係使用未施以塗覆之96孔細胞培養板(BD BIOSCIENCES公司製、＃351172)。
(細胞之製備)
細胞係使用人類肺胞基底上皮腺癌細胞株A549(DS Pharma Biomedical股份公司製)。細胞之培養所使用之培養基係使用包含10(v／v)%FBS(Corning公司製)之DMEM(和光純藥工業(股)製)。細胞在37℃／CO2 培養箱內保持5(v／v)%二氧化碳濃度之狀態下，使用直徑10cm之培養皿(培養基8mL)進行2天以上靜置培養。接著，將本細胞以PBS5mL洗淨後，添加胰蛋白酶-EDTA溶液(Invitrogen公司製)1mL，剝離細胞，將其分別懸浮於上述之培養基10mL中。將該懸濁液離心分離(TOMY SEIKO CO.,LTD.製、型號LC-200、1000rpm／3分鐘、室溫)後，去除上清液，添加上述之培養基，製備細胞懸濁液。
(細胞附著實驗)
對上述製備之培養板中，以使其成為2×103 cells／well之方式各自添加細胞懸濁液各100μL。之後，於保持5%二氧化碳濃度之狀態下，於37℃下於CO2 培養箱內靜置21天。
(細胞附著之觀察)
培養21天後，使用倒立型顯微鏡(Olympus公司製、IX73)對細胞在各培養板中之附著進行觀察(倍率：4倍)，以該觀察為基礎進行比較。各培養板之結果(培養21天後)示於圖2。觀察後，去除培養基，以成為0.5(w／v)%結晶紫(和光純藥工業(股)製)、20(v／v)%甲醇(和光純藥工業(股)製)之方式於各孔添加溶解於滅菌水之染色液50μL，進行10分鐘染色。之後，每1孔添加200μL之滅菌水，然後去除並進行洗淨。同樣地，進一步進行2次洗淨。使用倒立型顯微鏡(Olympus公司製、IX73)對各培養板中之染色後之附著細胞進行觀察(倍率：4倍)，以該觀察為基礎進行比較。各培養板之結果示於圖3。
於染色前，實施例5～7、9～11、13、15及陽性對照之培養板係形成橢球體，然而比較例1～5、及陰性對照之培養板上係可看見細胞之附著，未形成橢球體。於染色後，實施例5～7、9～11、13、15及陽性對照之培養板上幾乎無法看見被染色之附著細胞，然而比較例1～5、及陰性對照之培養板上，可見被染色之附著細胞。
＜實施例16～20、比較例6＞
將實施例2、7、9、11、13及比較例1中使用之96孔細胞培養板(BD BIOSCIENCES公司製、＃351172)置換為96孔培養板(Corning公司製、＃3363(材質：聚丙烯))，除此之外，與實施例2、7、9、11、13及比較例1進行同樣的操作，分別獲得實施例16～20及比較例6之經塗覆之培養板。作為陰性對照，使用未施予塗覆之96孔培養板。
＜實施例21～25、比較例7＞
將實施例2、7、9、11、13及比較例1中使用之96孔細胞培養板(BD BIOSCIENCES公司製、＃351172)置換為96孔培養板(Corning公司製、＃9017(材質：聚苯乙烯))，除此之外，與實施例2、7、9、11、13及比較例1進行同樣的操作，分別獲得實施例21～25及比較例7之經塗覆之培養板。作為陰性對照，使用未施予塗覆之96孔培養板。
＜試驗例4：蛋白質吸附抑制試驗＞
(塗覆培養板之製備)
使用藉由實施例16～25及比較例6～7獲得之經塗覆之培養板。作為陰性對照，使用未施予塗覆之96孔培養板。
(蛋白質吸附實驗)
將Horseradish peroxidase(簡記為HRP)標識Goat Anti-Mouse IgG(SoutherBioteck公司製)以D-PBS(-)(和光純藥工業(股)製)進行稀釋，置入經上述塗覆之孔，於室溫下靜置30分鐘。以D-PBS(-)洗淨後，添加TMB 1-Component Microwell Peroxidase Substrate, SureBlue(Kirkegaard ＆ Perry Laboratories, Inc.製、簡記為TMB)使其與HRP反應，添加TMB Stop Solution(Kirkegaard ＆ Perry Laboratories, Inc.製)使反應停止。藉由平板讀數儀(SPECTRAMAX 190, Molecular Devices)測定此時之TMB溶液之光學濃度(450nm)，作為蛋白質吸附量進行評估。其結果示於表3。
確認實施例16～25及比較例6～7之經塗覆之聚丙烯製培養板及聚苯乙烯製培養板係具有蛋白質之附著抑制能。
＜試驗例5：對於PDMS之細胞附著抑制試驗＞
(PDMS培養板之製作)
將圖4之形狀作成可轉印之模具。以SYLGARD 184聚矽氧・彈性體(Dow Corning Corp.製)之主劑10.00g及硬化劑1.00g之比率進行混合・攪拌，流入作成之模具中。以減壓泵消泡後，於80℃下以烤箱乾燥1小時。冷卻至室溫後，自模具將PDMS之硬化物取出。使硬化物浸漬於純水中，於120℃進行60分鐘高壓釜滅菌處理。將亞疏連培養皿：φ40×13.5mm(AS ONE Corporation.製)之底與圖5之凹陷領域對齊，切成20mm見方，將以70%乙醇洗淨後之PDMS硬化物放入培養皿並蓋上蓋子。作為直徑1mm(凹陷間距離0.3mm)、深度0.5mm、每1凹陷之容積約0.3μL之具有凹陷數為203個之PDMS培養板(參照圖6)。
(塗覆培養板之製備)
於藉由上述方法作成之PDMS培養板中，各別將實施例9、11中使用之塗覆劑及3%pHEMA(聚甲基丙烯酸羥乙酯)溶液各1mL注入各別之孔中。使該等靜置1小時後，去除，並於烤箱以50℃、乾燥24小時。其後，將經塗覆之孔以1mL之純水各進行3次洗淨，各自作為實施例26、27及比較例8使用於試驗中。作為陰性對照，係使用未施予塗覆之孔。
(細胞之製備)
細胞係使用小鼠胚纖維母細胞C3H10T1／2(DS Pharma Biomedical公司製)。細胞之培養中所使用之培養基，係使用含有10(v／v)%FBS(Corning公司製)及L-谷氨醯胺-青黴素-鏈黴素安定化溶液(Sigma-Aldrich公司製)之BME培養基(Thermo Fisher Scientific公司製)。細胞在37℃／CO2 培養箱內保持5(v／v)%二氧化碳濃度之狀態下，使用直徑10cm之培養皿(培養基8mL)進行2天以上靜置培養。接著，將本細胞以PBS5mL洗淨後，添加胰蛋白酶-EDTA溶液(Invitrogen公司製)1mL，剝離細胞，將其分別懸浮於上述之培養基10mL中。將該懸濁液離心分離(TOMY SEIKO CO.,LTD.製、型號LC-200、1000rpm／3分鐘、室溫)後，去除上清液，添加上述之培養基，製備細胞懸濁液。
(細胞附著實驗)
對上述製備之培養板中，以使其成為30×104 cells／培養板之方式各自添加細胞懸濁液各1mL。之後，於保持5%二氧化碳濃度之狀態下，於37℃下於CO2 培養箱內靜置2天。
(細胞附著之觀察)
培養1天後，使用倒立型顯微鏡(Olympus公司製、IX73)對細胞在各實施例及比較例之培養板、及陰性對照之培養板上之附著進行觀察(倍率：4倍)，以該觀察為基礎進行比較。各培養板之結果(培養1天後)示於圖7。關於膜之塗佈性與細胞附著、培養基添加後之氣泡之有無，將其結果示於表4。關於細胞附著抑制，係將細胞附著之情況記載為×、未附著之情況記載為○。針對塗佈性，係將在細胞或氣泡以外，於觀察領域有被確認為源自塗膜物之影像之情況認定為塗佈不良，記載為×，與陰性對象維持相同影像之情況係記載為○。
pHEMA及陰性對照之培養板係附著細胞。實施例26、27係可確認有良好之塗佈性，且確認為無細胞之附著，良好的橢球體。
[圖1] 為顯示試驗例2之纖維母細胞附著抑制試驗中各實施例及比較例之培養板，以及陽性對照及陰性對照之培養板之培養4天後之細胞附著的情形之顯微鏡照片。
[圖2] 為顯示試驗例3之癌細胞附著抑制試驗中各實施例及比較例之培養板，以及陽性對照及陰性對照之培養板之培養21天後，培養基去除前之細胞附著的情形之顯微鏡照片。
[圖3] 為顯示試驗例3之癌細胞附著抑制試驗中各實施例及比較例之培養板，以及陽性對照及陰性對照之培養板之培養21天後，進行培養基去除及染色後，細胞附著的情形之顯微鏡照片。
[圖4] 為試驗例5中使用之PDMS塗覆培養板之概略圖。
[圖5] 為試驗例5中使用之PDMS塗覆培養板之凹陷部分及斷面之放大圖。
[圖6] 為試驗例5中使用之PDMS塗覆培養板製作流程之概略圖。
[圖7] 為顯示試驗例5之細胞附著抑制試驗中各實施例及比較例之培養板，以及陰性對照之培養板之培養1天後之細胞附著的情形之顯微鏡照片。

Claims (11)

  1. 一種長期細胞非黏附培養用之細胞培養容器，其表面之至少一部分具備包含共聚物之塗覆，且該共聚物係含有包含下述式(a)所表示之基之重複單元、包含下述式(b)所表示之基之重複單元，及包含下述式(c)所表示之基之重複單元： [式中， Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基； Rc 係表示碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基、碳原子數3至10之脂環式烴基、碳原子數6至10之芳基、碳原子數7至15之芳烷基或碳原子數7至15之芳氧基烷基(此處，前述芳基部分可由可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基所取代)； An- 係表示由鹵化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子所構成之群組所選出之陰離子] 其中，包含式(c)所表示之基之重複單元相對於共聚物全體之莫耳比率為1～50莫耳%。
  2. 如請求項1所記載之細胞培養容器，其中，包含上述式(a)、(b)及(c)所表示之基之重複單元係分別為由下述式(A)、(B)及(C)所表示之單體所衍生之重複單元： [式中， Ta 、Tb 、Tc 、Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基； Qa 及Qb 係各自獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Qc 係表示單鍵、醚鍵或酯鍵； Ra 及Rb 係各自獨立表示可被鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或分支伸烷基，Rc 係表示碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基、碳原子數3至10之脂環式烴基、碳原子數6至10之芳基、碳原子數7至15之芳烷基或碳原子數7至15之芳氧基烷基(此處，前述芳基部分可由可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基所取代)；An- 係表示由鹵化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子所構成之群組所選出之陰離子； m係表示0至6之整數]。
  3. 如請求項1或2所記載之細胞培養容器，其中，上述共聚物係進一步包含由下述式(D)或(E)所表示之單體所衍生之交聯結構： [式中， Td 、Te 及Ue 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基， Rd 及Re 係各自獨立表示可被鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或分支伸烷基； n係表示1至6之整數]。
  4. 如請求項1至3中任1項所記載之細胞培養容器，其係具有活體物質之附著抑制能。
  5. 一種長期細胞非黏附培養用之細胞培養容器之製造方法，其係包含將共聚物塗覆於容器之表面之至少一部分之步驟，且該共聚物係含有包含下述式(a)所表示之基之重複單元、包含下述式(b)所表示之基之重複單元，及包含下述式(c)所表示之基之重複單元： [式中， Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基； Rc 係表示碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基、碳原子數3至10之脂環式烴基、碳原子數6至10之芳基、碳原子數7至15之芳烷基或碳原子數7至15之芳氧基烷基(此處，前述芳基部分可由可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基所取代)； An- 係表示由鹵化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子所構成之群組所選出之陰離子] 其中，包含式(c)所表示之基之重複單元相對於共聚物全體之莫耳比率為1～50莫耳%。
  6. 如請求項5所記載之製造方法，其中，包含上述式(a)、(b)及(c)所表示之基之重複單元係分別為由下述式(A)、(B)及(C)所表示之單體所衍生之重複單元： [式中， Ta 、Tb 、Tc 、Ua1 、Ua2 、Ub1 、Ub2 及Ub3 係各自獨立表示氫原子或碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基； Qa 及Qb 係各自獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Qc 係表示單鍵、醚鍵或酯鍵； Ra 及Rb 係各自獨立表示可被鹵素原子取代之碳原子數1至10之直鏈或分支伸烷基，Rc 係表示碳原子數1至10之直鏈或者分支烷基、碳原子數3至10之脂環式烴基、碳原子數6至10之芳基、碳原子數7至15之芳烷基或碳原子數7至15之芳氧基烷基(此處，前述芳基部分可由可被鹵素原子取代之碳原子數1至5之直鏈或者分支烷基所取代)；An- 係表示由鹵化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子所構成之群組所選出之陰離子； m係表示0至6之整數]。
  7. 如請求項5或6所記載之製造方法，其中，塗覆步驟係使用包含共聚物之塗料來實施。
  8. 如請求項7所記載之製造方法，其中，包含共聚物之塗料係預先經過pH調整。
  9. 如請求項5至8中之任1項所記載之製造方法，其係進一步包含在乾燥步驟前及／或後，對經塗覆之細胞培養容器進行洗淨之步驟。
  10. 如請求項9所記載之製造方法，其中，乾燥步驟後之洗淨係使用由水及包含電解質之水溶液所構成之群組所選出之至少1種溶劑來實施。
  11. 一種細胞凝集塊之製造方法，其特徵為使用如請求項1至4中之任1項所記載之細胞培養容器或藉由請求項5至10中之任1項所記載之製造方法所製造之細胞培養容器。
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