TW201930924A - 經塑形光學膜及塑形光學膜的方法 - Google Patents

經塑形光學膜及塑形光學膜的方法 Download PDF

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蕎 安 艾特
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Abstract

描述具有彎曲形狀的光學膜及塑形光學膜的方法。一種塑形一光學膜的方法包括以下步驟：將該光學膜設置成相鄰於第一輥與第二輥，該第一輥與該第二輥沿一第一方向間隔開；緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部；提供一彎曲模具表面；及藉由使該光學膜與該彎曲模具表面接觸，同時沿該第一方向拉伸該光學膜，並且保持接觸該第一輥與接觸該彎曲模具表面之該光學膜上的最接近的點之間的一臨限距離小於該光學膜的該寬度以減小該光學膜的翹曲，來塑形該光學膜。

Description

經塑形光學膜及塑形光學膜的方法
光學膜可熱成形為彎曲形狀。
在本說明書之一些態樣中，提供一種塑形一光學膜之方法。該方法包括以下步驟：將該光學膜設置成相鄰於第一輥與第二輥，使得該光學膜之一第一部分接觸該第一輥，且該光學膜之一第二部分接觸該第二輥，其中該第一輥與該第二輥沿一第一方向間隔開，且該光學膜之該第一部分具有沿一第二方向的一第一寬度，該第二方向與該第一方向正交；緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，其中該第一端部與該第二端部沿該第一方向間隔開，且該第一部分與該第二部分設置在該第一端部與該第二端部之間；提供一彎曲模具表面；及藉由使該光學膜與該彎曲模具表面接觸，同時沿該第一方向拉伸該光學膜，來塑形該光學膜。該塑形步驟包括保持最接近的第一點與第二點之間的一臨限距離小於約該第一寬度，其中該光學膜上的該第一點接觸該第一輥，且該光學膜上的該第二點接觸該彎曲模具表面。
在本說明書之一些態樣中，提供一種塑形一光學膜之方法。該方法包括以下步驟：將該光學膜設置成相鄰於第一輥與第二輥， 使得該光學膜之一第一部分接觸該第一輥，且該光學膜之一第二部分接觸該第二輥，其中該第一輥與該第二輥沿一第一方向間隔開，且該光學膜之該第一部分具有沿一第二方向的一第一寬度，該第二方向與該第一方向正交；緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，其中該第一端部與該第二端部沿該第一方向間隔開，且該第一部分與該第二部分設置在該第一端部與該第二端部之間；提供一彎曲模具表面；及藉由使該光學膜與該彎曲模具表面接觸，同時沿該第一方向拉伸該光學膜，來塑形該光學膜。該塑形步驟包括改變沿該第一方向之該第一輥與該第二輥之間的一分離距離，以減小該第一輥與該第二輥之間以及沿該第二方向之該光學膜的縱向邊緣之間且遠離縱向邊緣的該光學膜之翹曲。
在本說明書之一些態樣中，提供一種塑形一光學膜之方法。該方法包括以下步驟：緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，其中該第一端部與該第二端部沿一第一方向間隔開；緊固該光學膜的相對之第三端部與第四端部，其中該第三端部與該第四端部沿一第二方向間隔開，該第二方向與該第一方向正交；提供一彎曲模具表面；及藉由使該光學膜與該彎曲模具表面接觸，同時拉伸該光學膜，來塑形該光學膜，產生沿至少該第一方向彎曲之一彎曲光學膜。在該塑形步驟期間拉伸該光學膜包括沿該第一方向拉伸該光學膜大於沿該第二方向的任何拉伸3倍。
在本說明書之一些態樣中，提供一種彎曲光學膜，其包括沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層。該光學膜與一 第一平面的交點之一第一曲線具有一最佳擬合第一圓弧，該第一平面正交於該第二方向且正交於一參考平面，該最佳擬合第一圓弧在該第一圓弧的一曲率中心處對向大於180度的一第一角度，其中該光學膜在該參考平面中具有一最大投射面積。該光學膜與一第二平面的交點之一第二曲線具有一最佳擬合第二圓弧，該第二平面正交於該第一方向且正交於該參考平面，該最佳擬合第二圓弧在該第二圓弧的一曲率中心處對向至少30度的一第二角度。橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率且小於約2%的一透射率。
在本說明書之一些態樣中，提供一種彎曲光學膜，其包括沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層。該光學膜與一第一平面的交點之一第一曲線具有一最佳擬合第一圓弧，該第一平面正交於該第二方向且正交於一參考平面，該最佳擬合第一圓弧在該第一圓弧的一曲率中心處對向大於90度的一第一角度，其中該光學膜在該參考平面中具有一最大投射面積。該光學膜與一第二平面的交點之一第二曲線具有一最佳擬合第二圓弧，該第二平面正交於該第一方向且正交於該參考平面，該最佳擬合第二圓弧在該第二圓弧的一曲率中心處對向至少30度的一第二角度。橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率且小於約2%的一透射率。該第一曲線穿過該光學膜之一中心。該光學膜具有在沿該第一曲線的一第一部位處的一第一厚度及在沿該第一曲線的一第二部位處的一第二厚度， 其中該第二部位與該第一部位相隔沿該第一曲線的一距離，該距離係該最佳擬合第一圓弧的一半徑R1之至少0.7倍，沿該第一曲線從該光學膜之該中心至該第一部位的一距離不大於0.2 R1，且沿該第一曲線從該第二部位至該光學膜之一邊緣的一距離不大於0.2 R1。該第一厚度與該第二厚度相差不大於5%。
在本說明書之一些態樣中，提供一種彎曲光學膜，其包括沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層。該光學膜與一第一平面的交點之一第一曲線具有一最佳擬合第一圓弧，該第一平面正交於該第二方向且正交於一參考平面，該最佳擬合第一圓弧在該第一圓弧的一曲率中心處對向大於90度的一第一角度，其中該光學膜在該參考平面中具有一最大投射面積。該光學膜與一第二平面的交點之一第二曲線具有一最佳擬合第二圓弧，該第二平面正交於該第一方向且正交於該參考平面，該最佳擬合第二圓弧在該第二圓弧的一曲率中心處對向至少30度的一第二角度。橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率且小於約2%的一透射率。該第一曲線穿過該光學膜之一中心。該光學膜具有在沿該第一曲線的一第一部位處的一第一厚度及在沿該第一曲線的一第二部位處的一第二厚度，其中該第二部位與該第一部位相隔沿該第一曲線的一距離，該距離係該最佳擬合第一圓弧的一半徑R1之至少0.7倍，沿該第一曲線從該光學膜之該中心至該第一部位的一距離不大於0.2 R1，且沿該第一曲線 從該第二部位至該光學膜之一邊緣的一距離不大於0.2 R1。該第一長波長頻帶邊緣與該第二長波長頻帶邊緣相差不大於5%。
在本說明書之一些態樣中，提供一種光學膜，其包括複數個聚合層。橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率且小於約5%的一透射率。針對沿各別的第一曲線與第二曲線相交於光學膜之正交的第一平面與第二平面，其中該第一曲線與該第二曲線在該光學膜之一中心部位處彼此相交，該光學膜具有沿該第一曲線從該中心部位至該光學膜之一第一邊緣部位減小且沿該第二曲線從該中心部位至一第二邊緣部位増加之一厚度。
在本說明書之一些態樣中，提供一種光學膜，其包括複數個聚合層。橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率且小於約5%的一透射率。針對沿各別的第一曲線與第二曲線相交於光學膜之正交的第一平面與第二平面，其中該第一曲線與該第二曲線在該光學膜之一中心部位處彼此相交，該光學膜具有沿該第一曲線從該中心部位至該光學膜之一第一邊緣部位減小且沿該第二曲線從該中心部位至一第二邊緣部位増加之一長波長頻帶邊緣。
在本說明書之一些態樣中，提供一種光學膜，其包括複數個聚合層。橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相的預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率且小於約5%的一透射率。針對沿各別的第一曲線與第二曲 線相交於該光學膜之正交的第一平面與第二平面，該光學膜具有沿該第一曲線的一第一厚度分布，該第一厚度分布相對於該第二平面在反射下實質上對稱，且該光學膜具有沿該第二曲線的一第二厚度分布，該第二厚度分布相對於該第一平面在反射下實質上對稱，該第一厚度分布與該第二厚度分布不同。
在本說明書之一些態樣中，提供一種光學膜，其包括複數個聚合層。橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相的預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率且小於約5%的一透射率。針對沿各別的第一曲線與第二曲線相交於該光學膜之正交的第一平面與第二平面，該光學膜具有沿該第一曲線的一第一長波長頻帶邊緣分布，該第一長波長頻帶邊緣分布相對於該第二平面在反射下實質上對稱，且該光學膜具有沿該第二曲線的一第二長波長頻帶邊緣分布，該第二長波長頻帶邊緣分布相對於該第一平面在反射下實質上對稱，該第一長波長頻帶邊緣分布與該第二長波長頻帶邊緣分布不同。
在本說明書之一些態樣中，提供一種彎曲光學膜，其包括沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層。一第一最大垂度對沿該第一方向的一對應第一直徑之一第一比率係至少0.1，且一第二最大垂度對沿該第二方向的對應一第二直徑之一第二比率係至少0.05。對於一預定波長範圍中的法向入射光，該反射偏光器上的各部位針對一阻斷偏振狀態具有大於約80%的一最大平均反射率及小於約2%的一對應最小平均透射率，且針對一正交的通過偏振狀態具有大於 約80%的一最大平均透射率。在具有該反射偏光器的一總面積之至少80%的一面積之該反射偏光器的一區域中的各部位具有至少500的一對比率，該對比率係該最大平均透射率除以該最小平均透射率。
在本說明書之一些態樣中，提供一種彎曲光學膜，其包括沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層。該反射偏光器的一總曲率係至少0.25，其中該總曲率係整個該反射偏光器之一總面積的該反射偏光器之一高斯曲率的一表面積分。對於一預定波長範圍中的法向入射光，該反射偏光器上的各部位針對一阻斷偏振狀態具有大於約80%的一最大平均反射率及小於約2%的一對應最小平均透射率，且針對一正交的通過偏振狀態具有大於約80%的一最大平均透射率。在具有該反射偏光器的一總面積之至少80%的一面積之該反射偏光器的一區域中的各部位具有至少500的一對比率，該對比率係該最大平均透射率除以該最小平均透射率。
在本說明書之一些態樣中，提供一種彎曲光學膜，其包括沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層。一第一最大垂度對沿該第一方向的一對應第一直徑之一第一比率係至少約0.1，且一第二最大垂度對沿該第二方向的對應一第二直徑之一第二比率係至少約0.05。對於具有一預定波長之法向入射光，該反射偏光器之一總面積之至少80%上的各部位針對一阻斷偏振狀態具有大於約80%的一最大反射率小於約0.2%的一對應最小及透射率，且針對一正交的通過偏振狀態具有大於約80%的一最大透射率。
在本說明書之一些態樣中，提供一種彎曲光學膜，其包括沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層。該反射偏光器的一總曲率係至少0.25，其中該總曲率係整個該反射偏光器之一總面積的該反射偏光器之一高斯曲率的一表面積分。對於具有一預定波長之法向入射光，該反射偏光器之一總面積之至少80%上的各部位針對一阻斷偏振狀態具有大於約80%的一最大反射率小於約0.2%的一對應最小及透射率，且針對一正交的通過偏振狀態具有大於約80%的一最大透射率。
在本說明書之一些態樣中，提供一種用於處理光學膜的設備。該設備包括：第一輥與第二輥，其等沿一第一方向間隔開並設置在各別的第一載台與第二載台上，該第一載台與該第二載台經組態以沿該第一方向移動該第一輥與該第二輥，其中該第一輥與該第二輥沿正交於該第一方向的一第二方向具有各別的第一寬度與第二寬度；第一緊固構件與第二緊固構件，其等用於緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，其中該第一輥與該第二輥設置在該第一緊固構件與該第二緊固構件之間，且該設備經組態以使得當該光學膜的該第一端部與該第二端部緊固在該第一緊固構件與該第二緊固構件中時，該光學膜與該第一輥及該第二輥接觸；一模具，其具有一彎曲模具表面且設置在一模具載台上，該模具載台經組態以沿一第三方向移動該模具，該第三方向正交於該第一方向與該第二方向；一用於加熱該光學膜的構件；一張力測量構件，其用於測量該光學膜中的一張力；一控制器，其通訊地耦接至該張力測量構件、該第一載台與該第二載台、該第一 緊固構件與該第二緊固構件、以及該模具載台。該控制器經組態以同時沿該第三方向移動該模具且沿該第一方向移動該第一輥與該第二輥，同時控制該光學膜中的該張力。
20‧‧‧第一輥
25‧‧‧第二輥
30、35‧‧‧緊固構件
40、140‧‧‧中心區域
41、141‧‧‧第一端部區域
42、142‧‧‧第二端部區域
43‧‧‧第三端部區域
44‧‧‧第四端部區域
50、150、205、1016、3150‧‧‧第一方向
67、167、267、1017、3167‧‧‧第二方向
71、72、71b、72b、571、572‧‧‧縱向邊緣
73、73b‧‧‧區域
75‧‧‧第三方向
91‧‧‧加熱器
100、100b、600‧‧‧光學膜
101‧‧‧第一端部
102‧‧‧第二端部
111、211、620‧‧‧第一輥
112、212、625‧‧‧第二輥
120‧‧‧第一部分
123、223、653、753‧‧‧第三輥
124、224、654、754‧‧‧第四輥
125‧‧‧第二部分
130‧‧‧第一夾持構件
133‧‧‧第一點
134‧‧‧第二點
135‧‧‧第二夾持構件
135‧‧‧第三點
136‧‧‧第四點
143‧‧‧第三端部區域
144‧‧‧第四端部區域
165‧‧‧第五端部區域
166‧‧‧第六端部區域
200、300、400、555、600、700、900、1300、1400、3000‧‧‧光學膜
230、630、730‧‧‧第一緊固構件
235、635、735‧‧‧第二緊固構件
250、350、650、750、1250‧‧‧模具
253‧‧‧加熱元件
255、1255‧‧‧彎曲模具表面
257‧‧‧點
333‧‧‧第一厚度分布
334‧‧‧第一長波長頻帶邊緣分布
335‧‧‧第二厚度分布
336‧‧‧第二長波長頻帶邊緣分布
420、720‧‧‧第一輥
42l‧‧‧第一載台
425、725‧‧‧第二輥
426‧‧‧第二載台
430‧‧‧第一緊固構件
431‧‧‧第三載台
435‧‧‧第二緊固構件
436‧‧‧第四載台
450‧‧‧模具
550‧‧‧第一方向
633、733‧‧‧第三緊固構件
637、737‧‧‧第四緊固構件
640a‧‧‧第一法向向量
640d‧‧‧第二法向向量
641‧‧‧向量
763‧‧‧第五緊固構件
767‧‧‧第六緊固構件
775‧‧‧第五輥
776‧‧‧第六輥
873‧‧‧部分
888、888b‧‧‧翹曲
1000‧‧‧設備
1010‧‧‧預定區域
1012‧‧‧剩餘部分
1015‧‧‧頂點
1075‧‧‧投射
1110、1310、1410‧‧‧第一曲線
1110a‧‧‧第一端點
1110b‧‧‧第二端點
1112、1420‧‧‧第二曲線
1115‧‧‧中心
1120‧‧‧第一圓弧
1120a‧‧‧第一端點
1120b‧‧‧第二端點
1122‧‧‧第二圓弧
1130‧‧‧第一位置
1131‧‧‧第二位置
1177、1178‧‧‧曲率中心
1200‧‧‧光學膜
1224-1‧‧‧第一封包
1224-2‧‧‧第二封包
1233‧‧‧非干涉層
1234‧‧‧干涉層
1236、1237‧‧‧聚合層
1256‧‧‧部分
1322‧‧‧光學膜
1326a、1326b、1326c‧‧‧非干涉層
1415‧‧‧頂點
1430‧‧‧中心位置
1431‧‧‧第一邊緣位置
1432‧‧‧第二邊緣位置
1433‧‧‧第三邊緣位置
1434‧‧‧第四邊緣位置
1437‧‧‧軸
1441‧‧‧位置
1453‧‧‧平面
1455‧‧‧位置
1455b、1455p‧‧‧軸
1490‧‧‧區域
1630‧‧‧控制器
1650‧‧‧模具
1655‧‧‧模具表面
1656‧‧‧模具載台
1682‧‧‧張力測量構件
1682a‧‧‧第一張力測量單元
1682b‧‧‧第二張力測量單元
1691‧‧‧構件
1692‧‧‧構件
1693‧‧‧透鏡安裝座
1696‧‧‧載台
1800‧‧‧光學膜
1842‧‧‧透鏡總成
1844‧‧‧黏著劑層
1850‧‧‧模具
1890‧‧‧光學透鏡
1892‧‧‧彎曲主表面
1900‧‧‧光學膜
1942‧‧‧透鏡總成
1950‧‧‧透鏡安裝座
1990‧‧‧光學透鏡
1992‧‧‧彎曲主表面
3001‧‧‧第一平面
3002‧‧‧第二平面
3010‧‧‧第一曲線
3020‧‧‧第二曲線
3100‧‧‧參考平面
3110‧‧‧最大投射面積
3201、3202‧‧‧側
3888‧‧‧線
5000‧‧‧設備
5020‧‧‧第一輥
5021‧‧‧第一載台
5022、5027‧‧‧線性致動器
5025‧‧‧第二輥
5026‧‧‧第二載台
5030‧‧‧第一緊固構件
5031‧‧‧第三載台
5035‧‧‧第二緊固構件
5036‧‧‧第四載台
5050‧‧‧模具
5051‧‧‧模具安裝座
5052‧‧‧致動器杆
5056‧‧‧線性致動器
5075‧‧‧第三方向
5082a‧‧‧第一力規
5082b‧‧‧第二力規
5091‧‧‧構件
D1‧‧‧第一直徑
D2‧‧‧第二直徑
R1‧‧‧半徑
R2‧‧‧半徑
Rb‧‧‧阻斷狀態反射率
Rp‧‧‧通過狀態反射率
S1‧‧‧第一最大垂度
S2‧‧‧第二最大垂度
Tb‧‧‧阻斷狀態透射率；透射性
Tp‧‧‧通過狀態透射率；透射性
W1‧‧‧第一寬度
W2‧‧‧第二寬度
WR1‧‧‧第一寬度
WR2‧‧‧第二寬度
X‧‧‧正交座標
Y‧‧‧正交座標；阻斷軸
Z‧‧‧正交座標；法線
d1‧‧‧臨限距離；最小距離
d2‧‧‧臨限距離；最小距離
phi_x‧‧‧角度
phi_y‧‧‧角度
h‧‧‧分離距離；離距
r1‧‧‧曲率半徑
r2‧‧‧曲率半徑
t‧‧‧厚度
θ‧‧‧接觸角度
α1‧‧‧角度
α2‧‧‧角度
圖1A至圖1E係塑形光學膜之方法的示意圖；圖2至圖3係塑形光學膜之方法中的步驟的示意側視圖；圖4A係用於塑形光學膜的設備的示意側視圖；圖4B係設置在載台上的加熱構件及透鏡安裝座的示意側視圖；圖5A係用於塑形光學膜的設備的側視圖；圖5B係圖5A的設備的透視圖；圖6至圖7係設置於光學膜上的模具的示意俯視圖；圖8A係呈現翹曲光學膜之一部分的示意俯視圖；圖8B係通過圖8A的光學膜中的翹曲示意截面圖；圖8C係光學膜的示意前平面圖，其繪示光學膜的預定區域；圖9A至圖9B係在正交平面中的光學膜的示意截面圖；圖10A至圖10C係光學膜的示意透視圖；圖11A係第一曲線及最佳擬合第一圓弧的示意圖；圖11B係第二曲線及最佳擬合第二圓弧的示意圖；圖11C至圖11D係沿圖11A之第一曲線的一個可能厚度輪廓的示意標繪圖；圖11E係沿圖11B之第二曲線的一個可能厚度輪廓的示意標繪圖； 圖11F至圖11G係沿圖11A之第一曲線的可能長波長頻帶邊緣輪廓的示意標繪圖；圖11H係沿圖11B之第二曲線的一個可能長波長頻帶邊緣輪廓的示意標繪圖；圖12係一模具之示意側視圖；圖13係一光學膜的示意截面圖；圖14係光學膜的示意前平面圖；圖15A至圖15B係第一厚度分布及第二厚度分布的示意圖；圖15C至圖15D係第一長頻帶寬度邊緣分布及第二長頻帶寬度邊緣分布的示意圖；圖16係反射偏光器對於通過狀態及阻斷狀態的透射率的示意圖；圖17係反射偏光器對於通過狀態及阻斷狀態的反射率的示意圖；圖18A至圖18B係光學膜的示意截面圖；圖19係光學膜的層厚度對層數量的標繪圖；圖20A係設置在靠近光學透鏡的彎曲模具表面上的光學膜之一部分的示意截面圖；圖20B係透鏡總成之示意截面圖；圖21A係固持光學透鏡的透鏡安裝座的示意圖，其中光學膜設置於光學透鏡上；圖21B係透鏡總成之示意截面圖；圖22A至圖22B係使用下拉及加壓程序經塑形膜的厚度分布的標繪圖； 圖23A至圖23B係模具的影像；圖24係一反射偏光器的示意俯視圖；圖25係反射偏光器的平均阻斷狀態透射性的標繪圖；圖26係反射偏光器的平均通過狀態透射性的標繪圖；圖27係反射偏光器的對比率的標繪圖；圖28係反射偏光器的長波長頻帶邊緣的標繪圖；圖29係反射偏光器的平均阻斷狀態透射性的輪廓圖；圖30係反射偏光器的平均通過狀態透射性的輪廓圖；圖31係反射偏光器的對比率的輪廓圖；圖32係在用於各種程序條件的塑形程序期間隨時間而變動之模具上的光學膜的半纏繞長度的標繪圖；圖33係在用於各種程序條件的塑形程序期間隨時間而變動之模具上的接觸點與輥上的接觸點之間的光學膜的跨度長度的標繪圖；圖34係在用於各種程序條件的塑形程序期間隨時間而變動之沿光學膜的長度的張力的標繪圖；圖35至圖38係各種程序條件的經塑形光學膜的厚度分布的標繪圖。
以下說明係參照所附圖式進行，該等圖式構成本文一部分且在其中係以圖解說明方式展示各種實施例。圖式非必然按比例繪製。要理解的是，其他實施例係經設想並可加以實現而不偏離本說明的範疇或精神。因此，以下之詳細敘述並非作為限定之用。
根據本說明書之一些態樣，提供塑形一光學膜之方法。在一些實施例中，本說明書之方法允許光學膜形成為使用習知的熱成形技術難以實現的形狀，同時維持在大部分或所有的光學膜上的所欲光學特性。例如，光學膜可係彎曲的，以在光學膜的曲率中心處對向大於180度的角度。在一些實施例中，本說明書之方法提供光學膜的厚度變異，其不同於藉由習知方法熱成形的光學膜的厚度變異。例如，該厚度可沿一軸從光學膜的中心增加，且沿一正交軸從中心減小。作為另一實例，該厚度可沿至少一方向從光學膜的中心至光學膜的邊緣非單調地改變。在一些實施例中，該光學膜係反射偏光器，且本說明書之方法實質上允許在反射偏光器的塑形期間，反射偏光器沿一阻斷軸的拉伸多於沿一通過軸的拉伸，且已發現這可減小沿阻斷軸偏振的光的透射率並且增加反射偏光器的對比率。
本說明書之光學膜可包括複數個交替的聚合層，並且可主要藉由光學干涉來透射及反射光。在一些實施例中，該光學膜係鏡膜，且在一些實施例中，該光學膜係反射偏光器。在任一種情況下，該經塑形光學膜的一總面積之至少80%上的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光可具有大於約80%的一反射率。在反射偏光器的情況下，在該經塑形光學膜的總面積之至少80%、或至少85%、或至少90%、或至少95%上的各部位處，具有預定波長及相同正交第二偏振狀態之法向入射光的透射率可大於80%。在一些實施例中，該預定波長係預定波長範圍內的波長。
該預定波長範圍可係包括該光學膜的光學系統經設計操作的波長範圍。例如，預定波長範圍可係可見光範圍(400nm至700nm)或可見光範圍的實質上子集(例如，450nm至650nm)。舉另一實例而言，該預定波長範圍可包括一或多個可見光波長範圍。例如，該預定波長範圍可係多於一個窄波長範圍之聯集(例如，對應於一顯示面板之光發射顏色的斷續之紅色波長範圍、綠色波長範圍及藍色波長範圍之聯集)。此類波長範圍係進一步描述在美國專利申請公開案第2017/0068100號(Ouderkirk等人)中，該案以引用形式且不與本說明書牴觸之程度併入本文中。在一些實施例中，該等預定波長範圍包括其他波長範圍(例如，紅外光(例如，近紅外光(約700nm至約2500nm))、或紫外光(例如，近紫外光(約300nm至約400nm))以及可見光波長範圍。例如，光學膜可係紅外光反射器，且預定波長範圍可係近紅外光範圍。預定波長可係預定波長範圍內的任何波長。例如，預定波長範圍可係400nm至700nm，且預定波長可係500nm或550nm，舉例來說。
圖1A至圖1E繪示根據本說明書之一種塑形光學膜之方法。圖1A係光學膜100的示意橫截面圖，該光學膜經設置相鄰於第一輥20與第二輥25，使得光學膜100之第一部分120接觸第一輥20，且光學膜100之第二部分125接觸第二輥25。圖1B係圖1A的系統的示意俯視圖。第一輥20與第二輥25沿第一方向50(平行於x方向)間隔開。光學膜100之第一部分120具有沿正交於第一方向50的第二方向67(平行於y方向)的第一寬度W1。第一輥20具有沿第二方向 67的第一寬度WR1。在一些實施例中，寬度WR1大於寬度W1。光學膜100之第二部分125沿第二方向67具有第二寬度W2。第二輥25具有沿第二方向67的第二寬度WR2。在一些實施例中，寬度WR2大於寬度W2。在一些實施例中，W1與W2相等或約相等。在一些實施例中，光學膜具有實質上恆定的寬度(例如，不超過10%的變異)，該寬度約等於W1與W2。在一些實施例中，WR1與WR2相等或約相等。
該方法包含緊固光學膜100的第一端部101與第二端部102。在繪示的實施例中，緊固構件30與35用於緊固第一端部101與第二端部102。緊固構件30與35可係或包括夾具、夾持件、或輥(例如，絞盤輥)，且可經組態以沿第一方向50移動。第一端部101與第二端部102沿第一方向50間隔開，其中第一部分120與第二部分125設置在第一端部101與第二端部102之間。
模具250具有彎曲模具表面255。模具250具有沿第一方向50的長度L1與沿第二方向67的長度L2。彎曲模具表面可沿第一方向與第二方向具有相同或相似的長度。光學膜100可具有大於L2之寬度(例如，W1及/或W2)，如圖1B所繪示。在此情況下，光學膜100之一部分在成形為所欲形狀之後可被切除，以移除未成形的邊緣。在其他實施例中，可用於取代光學膜100的光學膜100b可具有小於L2之寬度(例如，W1及/或W2)，如圖1C所繪示。在一些實施例中，光學膜片的寬度約等於沿第二方向67之模具250的長度L2。模具250包括可用於加熱模具的選用之加熱元件253。例如，選用之加 熱元件253可設置在模具250內或模具之一個表面上。在一些實施例中，加熱模具250至高於環境溫度的溫度。例如，在一些實施例中，加熱模具250至大於30℃、或大於40℃的溫度。在一些實施例中，在塑形光學膜100之前加熱光學膜100至預定溫度。在一些實施例中，加熱模具250至低於此預定溫度的溫度。
在一些實施例中，藉由使光學膜100與彎曲模具表面255接觸，同時沿第一方向50拉伸光學膜100，來塑形光學膜100。這可如此完成：藉由使模具250沿正交於第一方向50與第二方向67的第三方向75(平行於z方向)移動朝向光學膜100，直到彎曲模具表面255接觸光學膜，並且繼續移動模具250直到光學膜100適形於彎曲模具表面255之至少一部分。這可描述為沿第三方向75改變光學膜100與彎曲模具表面255的邊界上的點257之間的分離距離h。彎曲模具表面255的邊界可視為實體邊界，其中當存在此類邊界時，曲率突然改變，或邊界可視為是在光學膜100的塑形期間彎曲模具表面與光學膜100接觸的最大面積的邊界。圖1D係塑形方法中的一個步驟的示意截面圖，其中模具250開始接觸到光學膜100，且圖1E係在光學膜100的連續部分已接觸彎曲模具表面255之後的塑形方法中的時間的示意截面圖。在繪示的實施例中，緊固構件30與35經定位低於(較小的z座標)第一輥20與第二輥25。在其他實施例中，當模具250最初接觸光學膜100時，緊固構件30與35經定位使得緊固構件30與模具250之間的膜的跨度、緊固構件35與模具250之間的膜的跨度、以及第一輥20與第二輥25之間的膜的跨度彼此平行。
在一些實施例中，光學膜在光學膜接觸彎曲模具表面的第一點(例如，點134或點135)處的溫度低於光學膜未接觸彎曲模具表面的第二點(例如，點135與點136之間一半的點，或點133與點134之間一半的點)處的溫度。
光學膜100的塑形較佳地包含保持最接近的第一點133與第二點134之間的一臨限距離d1小於約第一寬度W1，其中光學膜100上的第一點133接觸第一輥20，且光學膜100上的第二點134接觸彎曲模具表面255。換言之，d1係接觸第一輥20的光學膜100上之任何點與接觸彎曲模具表面255的光學膜100上之任何點之間的最小距離，且塑形光學膜100的該方法包括保持d1小於約W1。在一些實施例中，光學膜100的塑形進一步包含保持最接近的第三點135與第四點136之間的一臨限距離d2小於約第二寬度W2，其中光學膜100上的第三點135接觸彎曲模具表面255，且光學膜100上的第四點136接觸第二輥25。換言之，d2係接觸彎曲模具表面255之光學膜100上的任何點與接觸第二輥25之光學膜100上的任何點之間的最小距離，且塑形光學膜100的該方法包括保持d2小於約W2。保持d1及/或d2在所欲範圍內通常包含沿第一方向50移動第一輥20及/或第二輥25。在較佳實施例中，第一輥20與第二輥25沿第一方向50移動，使得第一輥20與第二輥25之間的距離d在光學膜100的塑形期間改變，以保持d1與d2都在所欲範圍內。在一些實施例中，第一、第二、第三、與第四點133、134、135、與136之一或多者或全部在塑形光學膜100時沿第一方向50移動。
在沒有第一輥20與第二輥25的情況下，光學膜100(或100b)通常將沿第二方向67在區域73(或73b)中翹曲。已發現，包括第一輥20與第二輥25且保持d1及/或d2在所欲範圍內可減小或避免光學膜在第二方向上的翹曲。光學膜100(或100b)與第一輥20及第二輥25之間的摩擦可導致光學膜100(或100b)中沿第二方向的正張力，且此張力可防止翹曲。在一些實施例中，第一輥20與第二輥25具有平滑表面。在一些實施例中，第一輥20與第二輥25係延輾機輥。延輾機輥包括溝槽，例如，其可導致光學膜100(或100b)中沿第二方向67増加的張力。延輾機輥係本領域中已知的，且例如，描述在美國專利第6,843,762號中(Munche等人)。
在一些實施例中，臨限距離d1保持不大於W1、或不大於0.9 W1、或不大於0.8 W1、或不大於0.7 W1、或不大於0.6 W1、或不大於0.5 W1、或不大於0.4 W1、或不大於0.3 W1。在一些實施例中，臨限距離d1保持至少0.001 W1、或至少0.01 W1、或至少光學膜100(或100b)的厚度t的兩倍、或至少該厚度的5倍、或至少該厚度的10倍。在一些實施例中，臨限距離d2保持不大於W2、或不大於0.9 W2、或不大於0.8 W2、或不大於0.7 W2、或不大於0.6 W2、或不大於0.5 W2、或不大於0.4 W2、或不大於0.3 W2。在一些實施例中，臨限距離d1保持至少0.001 W2、或至少0.01 W2、或至少光學膜100(或100b)的厚度的兩倍、或至少該厚度的5倍、或至少該厚度的10倍。
在一些實施例中，獨立地控制臨限距離d1與d2。在一些實施例中，第一輥20與第二輥25實質上圍繞模具250對稱設置，使得d1等於或約等於d2。在其他實施例中，第一輥20與第二輥25圍繞模具250非對稱設置，使得d1與d2不同。在一些情況下，做此設計可促進塑形光學膜100為非對稱形狀(例如，淚珠形狀)。
在一些實施例中，光學膜100(或100b)的塑形包含改變沿第一方向50之第一輥20與第二輥25之間的分離距離d，以減小光學膜100(或100b)在第一輥20與第二輥25之間以及沿第二方向67之光學膜100(或100b)的縱向邊緣71與72(或71b與72b)之間且遠離該等縱向邊緣之區域73(或73b)中的光學膜100(或100b)之翹曲。在一些情況下，沿縱向邊緣71與72的翹曲可係可接受的，因為例如在使用光學系統中的塑形光學膜之前，該翹曲可隨後移除及/或沿縱向邊緣71與72之光學膜之部分可移除。
第一緊固構件30與第二緊固構件35可經組態以沿第一方向50移動。在一些實施例中，第一端部101與第二端部102的位置被改變，以控制光學膜100(或100b)中沿第一方向50的張力。第一端部101與第二端部102的位置可藉由沿第一方向50移動第一緊固構件30與第二緊固構件35而改變。替代地，第一緊固構件30與第二緊固構件35可係輥，其中膜的端部緊固在輥上或輥中，且可藉由旋轉輥來改變第一方向50的張力。在此情況下，第一端部101與第二端部102的位置可由於輥的旋轉而改變。在一些實施例中，光學膜100(或100b)中沿第一方向50的張力在膜被拉伸時實質上恆定。如果張力在 塑形光學膜的時間之至少90%改變不大於10%，則張力可被描述為實質上恆定或實質上不變。在一些實施例中，光學膜100中沿第一方向50的張力在光學膜100的拉伸期間逐漸増大。在一些實施例中，控制該張力以產生在光學膜中的所欲厚度變異。例如，所欲厚度可沿第一方向50實質上恆定。作為另一實例，所欲厚度分布通常可沿第一方向50從光學膜之中心至相對邊緣中之各者減小。光學膜的反射頻帶邊緣通常及厚度成正比。所欲頻帶邊緣分布可例如判定所欲厚度分布。
在一些實施例中，加熱光學膜100(或100b)。在一些實施例中，可在光學膜100的拉伸之前且選用地在拉伸期間進行加熱。加熱可利用紅外線(IR)加熱、對流加熱、及輻射加熱之一或多者。圖1A示意地展示經設置以加熱光學膜100的加熱器91。加熱器91設置在光學膜100相對於彎曲模具表面255之側上。在一些實施例中，加熱器91係紅外線加熱器。在一些實施例中，紅外線反射表面經設置鄰近於光學膜而與紅外線加熱器相對。例如，在一些實施例中，彎曲模具表面255係紅外線反射表面，其在光學膜100的加熱期間經定位鄰近光學膜100。在其他實施例中，在光學膜100的加熱期間，將分開之紅外線反射器設置在彎曲模具表面255與光學膜100之間。然後，在光學膜100的塑形之前，移除分開之紅外線反射器。
在一些實施例中，加熱光學膜100(或100b)至120℃至200℃之範圍內，或160℃至200℃之範圍內。在一些實施例中在，加熱光學膜100至大於光學膜100的玻璃化轉變溫度的溫度。在一些實施例中，在光學膜100的塑形之前及/或期間加熱模具250。例如， 可加熱模具250至大於30℃的溫度。在塑形之前，模具250的溫度可低於光學膜100的溫度。在一些實施例中，光學膜100的溫度在塑形步驟期間在光學膜接觸彎曲模具表面255的頂點之點處最低，且在光學膜100未接觸彎曲模具表面255之部分中較高。在一些實施例中，在塑形步驟期間，光學膜100的溫度從第一輥與第二輥之間的光學膜100的中點朝向第一輥與第二輥之各者改變。在一些實施例中，在塑形步驟期間，光學膜100的溫度從縱向邊緣71與72之間以及第一輥20與第二輥25之間的中點朝向各縱向邊緣改變。光學膜100的中點可係接觸彎曲模具表面255之頂點的點。在一些實施例中，也加熱第一輥20與第二輥25(例如，至大於30℃的溫度)。也可加熱本文別處所述的第三輥與第四輥。
光學膜的玻璃化轉變溫度可指光學膜之任何層的玻璃化轉變溫度。例如，光學膜的玻璃化轉變溫度：可係光學膜的任何層的最高玻璃化轉變溫度；可係光學膜的任何層的最低玻璃化轉變溫度；當光學膜包括交替的非雙折射與雙折射層時，可係光學膜的雙折射干涉層的玻璃化轉變溫度；或當光學膜300包括交替的較高折射率干涉層與較低折射率干涉層時，可係光學膜300的較高折射率干涉層的玻璃化轉變溫度。可藉由微差掃描熱量法來判定玻璃化轉變溫度。
在一些實施例中，在塑形光學膜之前，加熱光學膜至低於光學膜的熔融溫度的溫度。熔融溫度可指光學膜之任何層的熔融溫度。在一些實施例中，熔融溫度係較高折射率層或雙折射層的熔融溫 度。在一些實施例中，在塑形光學膜之前，加熱光學膜至大於光學膜的最大玻璃化轉變溫度並低於光學膜的最低熔融溫度之溫度。
在一些實施例中，光學膜100(或100b)係具有實質上沿第一方向的阻斷軸之反射偏光器。如果第一方向與阻斷軸之間的角度小於30度，則阻斷軸可描述為實質上沿第一方向。在一些實施例中，介於第一方向與阻斷軸之間之角度小於20度、或小於10度、或小於5度。
在一些實施例中，光學膜100係反射偏光器，且該程序包括在使用模具250塑形光學膜之前沿第一方向50拉伸反射偏光器。已發現這減少反射偏光器的阻斷狀態的洩漏，且增加反射偏光器的對比率。在一些情況下，翹曲係藉由此拉伸而引入至光學膜中，但此翹曲在塑形期間藉由定位第一輥20與第二輥25足夠靠近模具250而隨後移除。
在一些實施例中，該方法進一步包含將光學膜設置為相鄰於第三輥與第四輥。在一些實施例中，塑形光學膜包括沿第一方向移動第三輥與第四輥。在一些實施例中，第三輥經設置以増加光學膜與第一輥的接觸角度。在一些實施例中，第四輥經設置以増加光學膜與第二輥的接觸角度。在一些實施例中，在塑形步驟期間，第一輥與第三輥之間的離距變化不超過10%，且在塑形步驟期間，第二輥與第四輥之間的離距變化不超過10%。例如，在一些實施例中，第一輥與第三輥設置在共同的線性載台上，並且因此在光學膜的塑形期間一起移動。類似地，在一些實施例中，第二輥與第四輥設置在共同的線性 載台上，並且因此在光學膜的塑形期間一起移動。在其他實施例中，第一輥、第二輥、第三輥、與第四輥之各者可設置在獨立的載台上，使得可獨立地控制分離距離。在一些實施例中，第三輥靠近第一輥比靠近第二輥更近，且第四輥靠近第二輥比靠近第一輥更近。圖2至圖3繪示包括第三輥與第四輥的兩個實施例。
圖2係示意截面圖，其繪示在塑形程序中模具350最初接觸光學膜200的時間。光學膜200經設置相鄰於第一輥111與第二輥112以及相鄰於第三輥123與第四輥124，其中第三輥123鄰近第一輥111而與第二輥112相對，且第四輥124鄰近第二輥112而與第一輥111相對。圖2中繪示的塑形程序中的時間在許多方面相似於圖1D中繪示的圖1A至圖1E的塑形程序中的時間，惟包括第三輥123與第四輥124、以及第一夾持構件130與第二夾持構件135係示意繪示為輥除外。塑形方法如圖1A至圖1E的塑形程序所繪示與所述而進行。第一輥111與第二輥112之間的離距d通常會改變，以保持臨限距離d1與d2(見圖1D至圖1E)在所欲範圍中，如本文其他地方進一步描述。第三輥123經設置以増加光學膜200與第一輥111的接觸角度θ。類似地，第四輥124經設置以増加光學膜200與第二輥112的接觸角度。已發現，増加與第一輥111與第二輥112的接觸角度以減小光學膜200沿輥在第二方向中的任何滑動，且已發現這進一步減小光學膜200的任何翹曲。
在一些實施例中，在光學膜200的塑形之前及/或期間加熱第一輥111與第二輥112。在一些實施例中，也加熱第三輥123與第 四輥124。在一些實施例中，在塑形步驟期間，第一輥111與第二輥112各自比第三輥123與第四輥124之各者的溫度更高。
圖3係示意截面圖，其繪示在塑形程序中模具450最初接觸光學膜400的時間。光學膜300經設置相鄰於第一輥211與第二輥212以及相鄰於第三輥223與第四輥224。第三輥223靠近第一輥211，且第四輥224靠近第二輥212。光學膜300的端部分別設置在第一緊固構件230與第二緊固構件235中，第一緊固構件230與第二緊固構件235可係或包括夾具、夾持件、或圓筒，舉例來說。圖3可係如針對圖2所述，惟第三輥223與第四輥224以及第一緊固構件230與第二緊固構件235的位置除外。第三輥223經設置以増加光學膜300與第一輥211的接觸角度θ。類似地，第四輥224經設置以増加光學膜300與第二輥212的接觸角度。第一輥111與第二輥112之間的離距d通常會改變，以保持臨限距離d1與d2(見圖1D至圖1E)在所欲範圍中，如本文其他地方進一步描述。
圖4A係用於處理光學膜400的設備1000的示意截面圖。設備1000包括沿第一方向(平行於x方向)間隔開並且設置在各別的第一載台421與第二載台426上的第一輥420與第二輥425，第一載台421與第二載台426經組態以沿第一方向移動第一輥420與第二輥425。第一輥420與第二輥425具有沿正交於第一方向的第二方向(平行於y方向)的各別的第一寬度與第二寬度(例如，對應於在圖1B中所描繪的WR1與WR2)。設備1000進一步包括：第一緊固構件430與第二緊固構件435．其等用於緊固光學膜400的相對之第一端 部與第二端部；一模具1650，其具有一彎曲模具表面1655且設置在一模具載台1656上，模具載台經組態以沿一第三方向(平行於z方向)移動該模具，該第三方向正交於該第一方向與該第二方向；一用於加熱光學膜400的構件1691；一張力測量構件1682，其用於測量該光學膜中的一張力；及控制器1630。在繪示的實施例中，張力測量構件1682包括第一張力測量單元1682a與第二張力測量單元1682b。第一緊固構件430與第二緊固構件435分別包括第一張力測量單元1682a與第二張力測量單元1682b。
第一輥420與第二輥425設置在第一緊固構件430與第二緊固構件435之間。在一些實施例中，該設備經組態以使得當光學膜400的第一端部與第二端部緊固在第一緊固構件430與第二緊固構件435中時，光學膜400接觸第一輥420與第二輥425。
在一些實施例中，用於加熱光學膜400的構件1691包含加熱器，其可係或包括紅外線加熱器、對流加熱器、以及輻射加熱器之一或多者。在一些實施例中，用於加熱光學膜的構件進一步包含設置在模具1650中或上的加熱元件。在一些實施例中，用於加熱光學膜400的構件1691設置在載台1696上，該載台經組態以沿第二方向(平行於y方向)移動構件1691。這可用於使構件1692在接近程序的結束時移動更遠離光學膜400，使得光學膜400可冷卻。在一些實施例中，透鏡安裝座1693設置在載台1696上，如圖4B示意繪示。可在經塑形膜仍接觸模具1650時(例如，使用光學清透黏著劑接合)附接光學透鏡至經塑形膜，如本文其他地方進一步描述。
控制器1630通訊地耦接至張力測量構件1682、第一載台421與第二載台426、第一緊固構件430與第二緊固構件435、以及模具載台1656。通訊耦接可係有線的或無線的。在一些實施例中，該控制器經組態以同時沿該第三方向移動該模具且沿該第一方向移動該第一輥與該第二輥，同時控制光學膜400中的張力。
在繪示的實施例中，第一緊固構件430與第二緊固構件435包含各別的第三載台431與第四載台436。替代地，第一緊固構件430與第二緊固構件435可描述為緊固夾持件、夾具、或輥，其等設置在通訊地耦接至控制器1630之各別的獨立載台上。在一些實施例中，第三載台431與第四載台436經組態以沿第一方向移動。在一些實施例中，第三載台431與第四載台436通訊地耦接至控制器1630。在其他實施例中，第一緊固構件430與第二緊固構件435之至少一者包含用於緊固光學膜400的輥，並且包括旋轉載台以使輥旋轉，以控制膜中的張力。在此情況下，張力測量構件可係或可包括附接至輥的扭矩計。
圖5A至圖5B係設備5000的側視圖及透視圖，該設備包括設置在各別的第一載台5021與第二載台5026上的第一輥5020與第二輥5025。第一載台5021與第二載台5026包括各別的線性致動器5022與5027，該等線性致動器經組態以沿第一方向550移動第一輥5020與第二輥5025。設備5000包括第一緊固構件5030與第二緊固構件5035，其等在繪示的實施例中包括緊固輥。在其他實施例中，可使用緊固夾持件或夾具來代替緊固輥。設備5000經組態使得當光學膜的 第一端部與第二端部緊固在第一緊固構件5030與第二緊固構件5035中時，光學膜接觸第一輥5020與第二輥5025。設備5000包括用於加熱光學膜的構件5091，在繪示的實施例中，該用於加熱光學膜的構件係紅外線加熱器。設備5000包括用於測量光學膜中的張力之張力測量構件，其包括第一力規5082a與第二力規5082b。在繪示的實施例中，力規5082a與5082b係S型張力力規。可替代地使用其他類型的力規。在一些實施例中，第一固定構件5030與第二固定構件5035包含各別的第三載台5031與第四載台5036，第三載台5031與第四載台5036經組態以沿第一方向550移動光學膜的第一端部與第二端部。在一些實施例中，第三載台5031與第四載台5036通訊地耦接至控制器。例如，第三載台5031與第四載台5036可包括有線地連接至控制器的線性致動器。設備5000包括具有彎曲模具表面並且設置在模具安裝座5051上的模具5050，該模具安裝座透過致動器桿5052附接至線性致動器5056。模具安裝座5051與包括致動器桿5052的線性致動器5056的組合可描述為模具載台。此模具載台經組態以沿第三方向5075移動模具5050。通常包括框架(為了容易說明，圖中未展示)，以支撐線性致動器5056與其他組件。
在一些實施例中，塑形光學膜之方法包含在拉伸光學膜的同時使光學膜與彎曲模具表面接觸，產生沿至少第一方向以及在一些情況中沿正交的第一方向與第二方向彎曲的彎曲光學膜，其中在塑形步驟期間拉伸光學膜包含沿第一方向拉伸光學膜大於沿第二方向的任何拉伸的3倍。這可使用第一輥與第二輥來實現，第一輥與第二輥 可移動以保持沿輥與模具之間的膜的跨度之臨限距離在所欲範圍內。這也可藉由分別在光學膜中沿第一方向與第二方向施加受控的第一張力與第二張力而實現。在一些實施例中，光學膜具有沿第一方向間隔開的第一端部與第二端部，並且具有沿第二方向間隔開的第三端部與第四端部。第一端與第二端可緊固在第一緊固構件與第二緊固構件中，第一緊固構件與第二緊固構件經組態以沿第一方向移動第一端部與第二端部，且第三端部與第四端部可緊固在第三緊固構件與第四緊固構件中，第三緊固構件與第四緊固構件經組態以沿第二方向移動。
圖6係設置在光學膜600上的模具650的示意俯視圖，其具有大致十字形狀且包括設置在第一端部與第二端部之間以及第三端部與第四端部之間的中心區域40。第一、第二、第三、與第四端部分別緊固在第一、第二、第三、與第四緊固構件630、635、633、與637中，其等可係或包括夾具、夾持件、或輥，如本文其他地方進一步描述。光學膜600包括第一端部區域41與第二端部區域42，其等分別從中心區域40延伸至第一端部與第二端部；並且包括第三端部區域43與第四端部區域44，其等分別從中心區域40延伸至第三端部與第四端部。在一些實施例中，第一端部區域41與第二端部區域42沿第二方向167(平行於y方向)具有實質上恆定的第一寬度與第二寬度，第一寬度與第二寬度可約相等。在一些實施例中，第三端部區域43與第四端部區域44沿第一方向150(平行於x方向)具有實質上恆定的第三寬度與第四寬度，第三寬度與第四寬度可約相等。在一些實施例中，第一寬度、第二寬度、第三寬度、與第四寬度約相等。
在一些實施例中，光學膜600分別設置為相鄰於第一輥620、第二輥625、第三輥653、與第四輥654。在其他實施例中，省略第一輥620、第二輥625、第三輥653、與第四輥654。第一輥620與第二輥625可經組態以沿第一方向150移動，並且可移動使得在光學膜600上接觸各別輥的點與接觸模具650的彎曲模具表面的點之間的各別的最短距離維持在較佳範圍內，該範圍可係本文別處所述的d1與d2的任何範圍。類似地，第三輥653與第四輥654可經組態以沿第二方向167移動，並且可移動使得在光學膜600上接觸各別輥的點與接觸模具650的彎曲模具表面的點之間的各別的最短距離維持在較佳的範圍內，該範圍可係本文別處所述的d1與d2的任何範圍。
例如，可用圖2至圖3所繪示的成對的輥取代第一輥620與第二輥625。在此情況下，第三輥653與第四輥654可稱為第五輥與第六輥。例如，也可用圖2至圖3所繪示的成對的輥取代第三輥653與第四輥654。
在一些實施例中，在該塑形步驟期間拉伸光學膜600包含沿第一方向150拉伸光學膜大於沿第二方向167的任何拉伸3倍、或大於5倍、或大於7倍。在一些實施例中，該塑形步驟包含改變光學膜600的第一端部與第二端部的位置，以控制沿第一方向150之光學膜600中的第一張力。在一些實施例中，此係藉由沿第一方向150移動第一緊固構件630與第二緊固構件635而實現。在其他實施例中，第一緊固構件630與第二緊固構件635之至少一者包含用於緊固光學膜600的輥，並且包括旋轉載台以使輥旋轉，以控制第一張力。在一 些實施例中，該塑形步驟包含改變光學膜600的第三端部與第四端部的位置，以控制沿第二方向167之光學膜600中的第二張力。在一些實施例中，此係藉由沿第二方向167移動第三緊固構件633與第四緊固構件637而實現。在其他實施例中，第三緊固構件633與第四緊固構件637包含用於緊固光學膜600的輥，並且包括旋轉載台以使輥旋轉，以控制第二張力。在一些實施例中，第一張力大於2倍、或大於3倍、或大於5倍的第二張力。
在一些實施例中，該塑形步驟包含改變光學膜600的第三端部與第四端部(其等係在第三緊固構件633與第四緊固構件637中)的位置，以減小或消除光學膜600在第二方向167的翹曲。在一些實施例中，光學膜600沿第二方向167實質上沒有拉伸。例如，可施加在第二方向167的張力，以保持光學膜600在第二方向167不收縮，但在光學膜600的塑形期間，沿第二方向的曲線測得的膜長度可不改變，或改變少於5%。
在一些實施例中，在塑形之前，將光學膜沿第一方向150預拉伸超過第二方向167的拉伸(例如，至少2倍、或至少3倍、或至少5倍更多)。在一些實施例中，緊固、預拉伸、及塑形的步驟按順序進行。
在一些實施例中，光學膜被切割成一個形狀，其具有中心區域與第一至第六端部區域。這可用於將光學膜塑形為具有第一方向比正交的第二方向實質上較大直徑的形狀，如圖7所繪示。
圖7係設置在光學膜700上的模具750的示意俯視圖，其包括設置在第一端部與第二端部之間、第三端部與第四端部之間、以及第五端部與第六端部之間的中心區域140。第一、第二、第三、第四、第五、與第六端部分別緊固在第一、第二、第三、第四、第五、與第六緊固構件730、735、733、737、763、與767中，其等可係夾持件或輥，如本文其他地方進一步描述。光學膜700：包括第一端部區域141與第二端部區域142，其等分別從中心區域140延伸至第一端部與第二端部；包括第三端部區域143與第四端部區域144，其等分別從中心區域40延伸至第三端部與第四端部；並且包括第五端部區域165與第六端部區域166，其等分別從中心區域40延伸至第三端部與第四端部。在一些實施例中，第一端部區域141與第二端部區域142沿第二方向267(平行於y方向)具有實質上恆定的第一寬度與第二寬度，第一寬度與第二寬度可約相等。在一些實施例中，第三端部區域143與第四端部區域144沿第一方向205(平行於x方向)具有實質上恆定的第三寬度與第四寬度，第三寬度與第四寬度可約相等。在一些實施例中，第五端部區域165與第六端部區域166沿第一方向205具有實質上恆定的第五寬度與第六寬度，第五寬度與第六寬度可約相等。在一些實施例中，第一寬度、第二寬度、第三寬度、第四寬度、第五寬度、與第六寬度約相等。
在一些實施例中，光學膜700經設置分別相鄰於第一輥720、第二輥725、第三輥753、第四輥754、第五輥775、與第六輥776。在其他實施例中，省略第一輥720、第二輥725、第三輥753、 第四輥754、第五輥775、與第六輥776。第一輥720，第二輥725、第三輥753、與第四輥754可經組態以移動(針對第一輥720與第二輥725係沿第一方向205，且針對第三輥753與第四輥754係沿第二方向267)，以維持光學膜700上接觸各別的輥的點與接觸模具750的彎曲模具表面的點之間的各別的最短距離，如針對第一輥620，第二輥625、第三輥653、與第四輥654所述。類似地，第五輥775與第六輥776可經組態以沿第二方向267移動，並且可移動使得在光學膜700上接觸各別的輥的點與接觸模具750的彎曲模具表面的點之間的各別的最短距離維持在較佳的範圍內，該範圍可係本文別處所述的d1與d2的任何範圍。
光學膜600或光學膜700可在塑形步驟之前(與選用地在塑形期間)加熱，如針對光學膜100所述。模具與輥也可在塑形步驟之前與選用地在塑形期間加熱。
圖6至圖7之方法也可用於改變光學膜600或700的厚度分布，而不將光學膜塑形為彎曲形狀。這可在拉伸光學膜時藉由合適地選擇第一方向與第二方向中的張力來實現。
圖8A係呈現翹曲的光學膜之一部分873的示意俯視圖。繪示翹曲888。圖8B中示意地繪示穿過光學膜中的翹曲888b之截面圖。彎曲888b可對應於翹曲888。圖8A至圖8B中呈現的翹曲係沿y方向。翹曲的特徵在於改變正負號的曲率。翹曲888b在圖8B的橫截面中具有正曲率區域與負曲率區域，具有曲率改變正負號的點。部分873：可係沿x方向間隔開的第一輥與第二輥(例如，第一輥20與第 二輥25)之間的光學膜的任何部分；可係沿y方向間隔開的第三輥與第四輥(例如，第三輥653與第四輥654)之間的光學膜的任何部分；可係在光學膜的塑形期間具有或將與彎曲模具表面接觸的光學膜之任何部分。當翹曲的膜形成至模具上時，可存在負高斯曲率區域，其中局部鞍形形狀產生自沿一個方向之翹曲、同時沿正交方向彎曲。在此情況下，有高斯曲率改變正負號的部位。在一些實施例中，本說明書之方法產生遍及經塑形光學膜具有非負之高斯曲率的經塑形光學膜。在一些實施例中，高斯曲率遍及經塑形光學膜中係正的。
減小圖8B中所示的振盪的振幅及/或減小翹曲888b的數量可描述為減小光學膜中的翹曲。在一些實施例中，本文所述之方法減小或消除光學膜的翹曲。
圖8C係光學膜555的示意前平面圖，其繪示預定區域1010。在從光學膜剩餘部分1012移除預定區域1010之前，光學膜555可對應於本說明書之任何光學膜(例如，光學膜100、光學膜100b、光學膜200、光學膜300、光學膜400)。光學膜555可被理解為已經塑形，但在圖8C的示意前平面圖中未展示曲率。在一些實施例中，在塑形光學膜555之後，在光學膜555之預定區域1010外的光學膜555之部分1012被移除(例如，藉由切割)。例如，預定區域1010可對應於光學透鏡的主表面。在一些實施例中，經塑形光學膜在預定區域1010中不具有曲率改變正負號的點。在一些實施例中，經塑形光學膜在預定區域1010中不具有翹曲。在一些實施例中，本說明書之方法包括移除部分1012的步驟，使得所得的塑形光學膜對應於預定區域1010。 在一些實施例中，在塑形期間與之後但在移除部分1012之前的光學膜，光學膜不具有翹曲，惟可能沿預定區域1010之外的縱向邊緣571及/或572除外。在一些實施例中，在塑形步驟期間光學膜沿縱向邊緣571及/或572具有翹曲，其隨後由於沿縱向邊緣571及/或572的光學膜的熱致收縮而被移除。
光學膜可描述為具有沿第一方向的一些特定變異以及沿正交的第二方向的一些特定變異。第一方向與第二方向可係相對於光學膜的任何正交的方向，其中保持特定的變異。在一些情況下，可能希望指定特定的第一方向與第二方向，如本文別處進一步所述。用於描述光學膜的第一方向與第二方向可或可不對應於描述塑形光學膜之方法中所指的第一方向與第二方向。光學膜沿第一方向的最大垂度可描述為沿正交於第一方向與第二方向的第三方向在含有第一方向與第三方向的平面中的光學膜的最大位移。類似地，光學膜沿第二方向的最大垂度可描述為沿第三方向在含有第二方向與第三方向的平面中的光學膜的最大位移。這示意繪示在圖9A至圖9B中。第一方向、第二方向、與第三方向分別係x'、y'、與z'方向。光學膜900具有第一最大垂度S1與沿第一方向的對應第一直徑D1，且具有第二最大垂度S2與沿第二方向的對應第二直徑D2。
在一些實施例中，第一最大垂度S1對沿第一方向的對應第一直徑D1之第一比率S1/D1係至少0.05、或至少0.1、或至少0.15、或至少0.2、或至少0.3、或至少0.4、或至少0.5、或至少0.7。在一些實施例中，第一比率小於1、或小於0.9、或小於0.8。在一些 實施例中，第二最大垂度S2對沿第二方向的對應第二直徑D2之第一比率S2/D2係至少0.05、或至少0.1、或至少0.15、或至少0.2、或至少0.3、或至少0.4。在一些實施例中，第二比率小於0.8、或小於0.7、或小於0.6、或小於0.5。在一些實施例中，第二比率小於第一比率。在一些實施例中，第一比率實質上大於第二比率(例如，大1.5倍，或大2倍)。在一些實施例中，第二比率約等於第一比率。
圖10A至圖10C係光學膜3000的示意性透視圖。參考平面3100經界定使得光學膜3000在參考平面3100中具有最大投射面積3110，光學膜3000與參考平面3100不相交，且光學膜3000的總面積之至少大部分(例如，至少60%，或至少80%，或全部)朝向參考平面3100凹入。光學膜3000具有頂點1015，頂點1015係光學膜3000上離參考平面3100最遠的點。繪示頂點1015至參考平面3100上的投射1075。繪示參考平面3100中的第一方向3150與第二方向3167。第一方向3150與第二方向3167之各者均在參考平面3100中並且穿過頂點1015至參考平面3100上的投射1075。也繪示在頂點1015處的切線平面中的第一方向1016與第二方向1017。第一方向1016可平行於第一方向3150，且第二方向1017可平行於第二方向3167。通常，可根據參考平面中的第一方向與第二方向以及切線平面中的第一方向與第二方向均等地指定光學膜3000的特性。
通常，當光學膜3000沿正交的第一方向與第二方向具有一些指定的變異時，第一方向3150與第二方向3167可被認為是光學膜3000具有指定變異的任何正交方向。在一些情況下，便利的是， 根據光學膜3000的特性具體地界定第一方向3150與第二方向3167。第一方向3150與第二方向3167具有至少兩個有用的界定。
在一些實施例中，相對於第一方向3150與第二方向3150指定光學膜3000的特性(例如，第一垂度直徑比與第二垂度直徑比，如本文中別處進一步所述)，其中第二方向3167係沿通過頂點1015的投射1075的投射面積3110的相對側3201與3202之間的最短距離，且第一方向3150係沿通過頂點1015的投射1075的參考平面3100中的正交方向。
在一些實施例中，光學膜3000係反射偏光器。在一些實施例中，相對於第一方向1016與第二方向1017指定反射偏光器的特性(例如，第一垂度直徑比與第二垂度直徑比，如本文中別處進一步所述)，其中第一方向1016係沿在頂點1015處的反射偏光器的阻斷軸，且第二方向1017係沿在頂點1015處的反射偏光器的通過軸。
平行於參考平面3100的平面(其滿足光學膜與該平面不相交的條件，且光學膜的總面積之至少大部分朝向該平面凹入)產生第一方向與第二方向的相等界定。如果存在具有相同最大投射面積且滿足這些條件之多於一個非平行平面，則第一方向與第二方向可視為正交方向，其中指定的變異(例如，垂度比率)保持，且第一方向與第二方向係在平行於具有最大投射面積的平面的一者之平面中。如果這些平面中之一者產生比具有最大投射面積的其它平面較靠近如沿相對於該平面所界定的第一方向與第二方向之各者的膜的中心之頂點，則該平面可用於界定第一方向與第二方向。
在一些實施例中，光學膜的特性係針對第一曲線與第二曲線或沿第一曲線與第二曲線指定。第一曲線可給定為光學膜與正交於第二方向及參考平面的第一平面之交點。第一平面可含有第一方向且可含有光學膜的頂點。類似地，第二曲線可係光學膜與正交於第一方向及參考平面的第二平面之交點。第二平面可含有第二方向且可含有光學膜的頂點。在此，第一方向與第二方向可對應於第一方向3150與第二方向3167，或可對應於第一方向1016與第二方向1017。
圖10B展示正交於第二方向3167且正交於參考平面3100的第一平面3001。在繪示的實施例中，第一平面3001含有第一方向3150與頂點1015。繪示光學膜3000與第一平面3001的交點之第一曲線3010。
圖10C展示正交於第一方向3150且正交於參考平面3100的第二平面3002。在繪示的實施例中，第二平面3002含有第二方向3167與頂點1015。繪示光學膜3000與第二平面3002的交點之第二曲線3020。在一些實施例中，第一平面3001與第二平面3002的交點界定線3888，線3888在第一曲線3010與第二曲線3020的交點處法向於光學膜3000。
在一些情況下，有用的是根據高斯曲率及/或總曲率特徵化光學膜的形狀。高斯曲率係基本曲率的乘積。例如，如果光學膜3000的頂點1015處的基本曲率發生在第一平面3001與第二平面3002中，則頂點處的高斯曲率可表示為在第一曲線3010與第二曲線3020的頂點1015處的曲率的乘積。此外，如果第一曲線3010與第二曲線 3020具有在頂點1015處的曲率半徑r1與r2，則頂點處的高斯曲率可表示為1/(r1*r2)。在一些實施例中，光學膜的總面積之至少80%、或至少90%、或至少95%上的各部位具有至少0.0001cm-2、或至少0.001cm-2、或至少0.005cm-2的高斯曲率。在一些實施例中，光學膜的總面積之至少80%、或至少90%、或至少95%上的各部位具有不大於100cm-2、或不大於1cm-2、或不大於0.2cm-2的高斯曲率。光學膜的曲率也可根據總曲率來特徵化，該總曲率係整個光學膜的總面積的在光學膜之高斯曲率的表面積分。在一些實施例中，光學膜具有至少0.25、或至少0.5、或至少1、或至少2、或至少3之總曲率。在一些實施例中，總曲率係不大於10、或不大於9、或不大於8。
圖11A係第一曲線1110與最佳擬合第一圓弧1120的示意圖。例如，第一曲線1110可對應於第一曲線3010。最佳擬合第一圓弧1120在第一圓弧1120的曲率中心1177處對向角度α1。角度α1由第一曲線1110判定，因為較長與較短的圓弧兩者將提供至第一曲線1110的較差擬合。第一圓弧1120具有半徑R1，半徑R1係最佳擬合第一圓弧1120上的任何點(例如，第一端點1120a)至曲率中心1177的距離。在一些實施例中，最佳擬合第一圓弧1120係最小化沿法向向量從第一圓弧1120至第一曲線1110上的點的平方距離(例如，沿向量640a至640d的距離)的總和之圓弧。在一些實施例中，第一曲線1110的第一端點1110a係沿第一圓弧1120的第一端點1120a處之至第一圓弧1120的第一法向向量640a，且第一圓弧1120的相對之第二端點1110b係沿第一圓弧1120的相對之第二端點1120b處之至第一圓弧 1120的第二法向向量640d。在一些實施例中，用於最佳擬合最小化的第一曲線1110上的點選自均勻分布在第一曲線1110上的一組預定的點。在一些實施例中，用於最小化的第一圓弧1120上的點選自均勻分布在第一圓弧1120上的一組預定的點。在一些實施例中，該組預定的點係一組10至500個點。
圖11B係第二曲線1112與最佳擬合第二圓弧1122的示意圖。例如，第二曲線1112可對應於第二曲線3020。最佳擬合圓弧在第二圓弧1122的曲率中心1178處對向角度α2。角度α2由第二曲線1112判定，因為較長與較短的圓弧兩者將提供至第二曲線1112的較差擬合。第二圓弧1122具有半徑R2，半徑R2係最佳擬合第二圓弧1122上的任何點至曲率中心1178的距離。最佳擬合可如針對第一曲線1110所述地來判定。在一些實施例中，最佳擬合第二圓弧1122係最小化沿法向向量從第一圓弧1122至第二曲線1112上的點的平方距離(例如，沿向量641的距離)的總和之圓弧。在一些實施例中，第二曲線1112的第一端點係沿第二圓弧1122的第一端點1120a處之至第二圓弧1122的第一法向向量，且第二圓弧1122的相對之第二端點係沿第二圓弧1122的相對之第二端點處之至第二圓弧1122的第二法向向量。在一些實施例中，用於最佳擬合最小化的第二曲線1112上的點選自均勻分布在第二曲線1112上的一組預定的點。在一些實施例中，用於最小化的第二圓弧1122上的點選自均勻分布在第二圓弧1122上的一組預定的點。在一些實施例中，該組預定的點係一組10至500個點。
圖11A中繪示第一曲線1110上的第一部位1130與第二部位1131以及光學膜的中心1115。中心1115可係第一曲線1110與第二曲線1112交叉之處，且可係本文其他地方進一步描述的光學膜的頂點處。第二部位1131沿第一曲線而與第一部位1130分離達至少0.6 R1、或至少0.7 R1、或至少0.8 R1、或至少R1、或至少1.2 R1的距離。沿第一曲線從光學膜的中心1115至第一部位1130的距離不大於0.2 R1，或不大於0.1 R1。沿第一曲線1110從第二部位1131至光學膜的邊緣(端點1110b)的距離不大於0.2 R1，或不大於0.1 R1。在一些實施例中，光學膜具有在第一部位1130處的第一厚度與在第二部位1131處的第二厚度，其中第一厚度與第二厚度相差不大於5%、或不大於3%、或不大於2%。在一些實施例中，光學膜具有在第一部位1130處的第一長波長頻帶邊緣與在第二部位1131處的第二長波長頻帶邊緣，其中第一長波長頻帶邊緣與第二長波長頻帶邊緣相差不大於5%、或不大於3%、或不大於2%。
圖11C係沿第一曲線1110的一個可能厚度輪廓的示意標繪圖。圖11G係沿第一曲線1110的一個可能長波長頻帶邊緣輪廓的對應示意標繪圖。長波長頻帶邊緣可與厚度成正比或近似成正比，且因此可具有相同或相似的形狀輪廓。厚度(及/或長波長頻帶邊緣)可係中心1115處的局部極值(局部最大值，或局部最小值，如所繪示實施例中所示)。在第一部位1130處的厚度(及/或長波長頻帶邊緣)可約等於第二部位1131處的厚度(及/或長波長頻帶邊緣)。厚度(及/或長波長頻帶邊緣)可從第一部位1130至第二部位1131非單調地改 變。圖11D示意地繪示沿第一曲線1110的另一可能的厚度變異，且圖11G示意地繪示沿第一曲線1110的對應可能長波長頻帶邊緣變異。在此情況下，該厚度(及/或長波長頻帶邊緣)沿第一曲線1110從中心1115至端點1110a與1110b非單調地減小。圖11E繪示沿第二曲線1112的另一可能的厚度變異，且圖11H繪示沿第二曲線1112的對應可能長波長頻帶邊緣變異。在此情況下，該厚度(及/或長波長頻帶邊緣)沿第二曲線1112從中心1115至端點非單調地增加。厚度(及/或長波長頻帶邊緣)分布可藉由在光學膜的成形中沿第一方向施加適當的張力來判定。該分布可係從光學膜的中心非單調的或單調的(參見，例如，圖15A至圖15D)。在一些情況下，已發現，如果允許厚度(及/或長波長頻帶邊緣)在至少一個方向上非單調地變異，則可實現較小的總體厚度變異(及/或較小的總體長波長頻帶邊緣變異)。在一些實施例中，光學膜的最大厚度變異((最大厚度-最小厚度)/最大厚度)小於12%、或小於10%、或小於8%、或小於6%、或小於5%、或小於4%。在一些實施例中，光學膜的最大長波長頻帶邊緣變異小於12%、或小於10%、或小於8%、或小於6%、或小於5%、或小於4%。
藉由本說明書之方法可達成的最大角度α1與α2高於習知熱成型方法中可達成的最大角度。例如，在一些實施例中，α1大於180度、或大於185度、或大於190度、或大於195度、或大於200度。例如，此類大角度可用於頭戴式顯示器應用。在一些實施例中，α1小於或等於180度。在一些實施例中，α1係至少90度、或至少100度、或至少110度、或至少120度、或至少130度、或至少140度、 或至少150度、或至少160度、或至少170度、或至少180度。在一些實施例中，α2係至少30度、或至少40度、或至少50度、或至少60度、或至少70度、或至少80度、或至少90度、或至少100度、或至少110度、或至少120度。在一些實施例中，α1不大於350度、或不大於320度、或不大於300度、或不大於280度。在一些實施例中，α2不大於220度、或不大於200度、或不大於180度、或不大於160度、或不大於140度。在一些實施例中，α1大於或等於α2。
圖12係模具1250的示意側視圖，其可用於塑形光學膜至大於180度的對向角度(例如，α1與選用地α2)。模具1250包括彎曲模具表面1255，在繪示的實施例中，模具表面1255大於球體的表面的一半。模具1250包括用於安裝至模具致動器之部分1256。在一些實施例中，使用模具1250塑形光學膜，且光學膜係足夠可撓與可拉伸，以允許在塑形之後從模具1250移除光學膜。
圖13係在一平面中的光學膜1300的示意截面圖，該平面含有第一曲線1310。在繪示的實施例中，第一曲線1310係圓弧，其對向大於180度的角度α。在其他實施例中，第一曲線1310可不是圓形的，但可界定最佳擬合圓弧，其對向大於180度的角度α。在一些情況下，角度α可接近360度(例如，約350度)。在正交方向中沿第二曲線的弧角可小於或等於角度α。
圖14係光學膜1400的示意前平面圖。繪示第一曲線1410與第二曲線1420。第一曲線1410與第二曲線1420在中心部位1430處相交。如本文中所用，中心部位係遠離光學膜的最靠近邊緣比 遠離光學膜的中心更遠至少兩倍的部位，且邊緣部位係遠離光學膜的中心比遠離光學膜的最靠近邊緣更遠至少兩倍的部位。該中心可理解為頂點(離參考平面最遠的點)，如本文別處進一步描述。在一些實施例中，第一曲線1410與第二曲線1420在頂點1415處彼此相交。
在一些實施例中，第一曲線1410與第二曲線1420由光學膜1400與彼此正交且正交於參考平面(例如，x-y平面)的各別的第一平面與第二平面的交點界定，在參考平面中光學膜1400具有最大投射面積。在一些實施例中，光學膜具有沿第一曲線1410的一第一厚度分布，該第一厚度分布相對於該第二平面在反射下實質上對稱，且該光學膜具有沿第二曲線1420的一第二厚度分布，該第二厚度分布相對於該第一平面在反射下實質上對稱，其中該第一厚度分布與該第二厚度分布不同。例如，第一厚度分布可如圖15A所繪示，且第二厚度分布可如圖15B所繪示。如果曲線的長度之至少70%上的各點處的厚度與反射點處的對應厚度相差不大於20%，則沿曲線的厚度分布可描述為相對於平面在反射下實質上對稱。在一些實施例中，曲線的長度之至少80%上的各點處的厚度與反射點處的對應厚度相差不大於15%。在一些實施例中，曲線的長度之至少90%上的各點處的厚度與反射點處的對應厚度相差不大於10%。
在一些實施例中，光學膜具有沿第一曲線1410的一第一長波長頻帶邊緣分布，該第一長波長頻帶邊緣分布相對於該第二平面在反射下實質上對稱，且該光學膜具有沿第二曲線1420的一第二長波長頻帶邊緣分布，該第二長波長頻帶邊緣分布相對於該第一平面在 反射下實質上對稱，其中該第一長波長頻帶邊緣分布與該第二長波長頻帶邊緣分布不同。例如，第一長波長頻帶邊緣分布可如圖15C所繪示，且第二長波長頻帶邊緣分布可如圖15D所繪示。如果曲線的長度之至少70%上的各點處的長波長頻帶邊緣與反射點處的對應長波長頻帶邊緣相差不大於20%，則沿曲線的長波長頻帶邊緣分布可描述為相對於平面在反射下實質上對稱。在一些實施例中，曲線的長度之至少80%上的各點處的長波長頻帶邊緣與反射點處的長波長頻帶邊緣相差不大於15%。在一些實施例中，曲線的長度之至少90%上的各點處的長波長頻帶邊緣與反射點處的對應長波長頻帶邊緣相差不大於10%。
在一些實施例中，光學膜1400具有沿第一曲線1410從中心部位1430至光學膜1400的第一邊緣部位1431減小且沿第二曲線從中心部位1430至第二邊緣部位1432増加之厚度。在一些實施例中，該厚度沿第一曲線1410從中心部位1430至第一邊緣部位1431非單調地減小。在一些實施例中，該厚度沿第一曲線1410從中心部位1430至第一邊緣部位1430實質上單調地減小。在一些實施例中，該厚度沿第二曲線1420從中心部位1430至第二邊緣部位1432非單調地增加。在一些實施例中，該厚度沿第二曲線1420從中心部位1430至第二邊緣部位1432實質上單調地增加。在一些實施例中，該厚度沿第一曲線1410從中心部位1430至相對於第一邊緣部位1431的第三邊緣部位1433減小(例如，非單調地或實質上單調地)。在一些實施例中，該厚度沿第二曲線1420從中心部位1430至相對於第二邊緣部位1432的第四邊緣部位1434增加(例如，非單調地或實質上單調地)。在一些 實施例中，中心部位1430處的厚度大於第一邊緣部位1431處的厚度至少1%、或至少2%、或至少3%、或至少4%、或至少5%。在一些實施例中，中心部位1430處的厚度大於第三邊緣部位1433處的厚度至少1%、或至少2%、或至少3%、或至少4%、或至少5%。在一些實施例中，第二邊緣部位1432處的厚度大於中心部位1430處的厚度至少1%、或2%、或3%、或至少4%、或至少5%。在一些實施例中，第四邊緣部位1434處的厚度大於中心部位1430處的厚度至少1%、或2%、或3%、或至少4%、或至少5%。
圖15A至圖15B係沿各別的第一曲線與第二曲線的第一厚度分布333與第二厚度分布335的示意圖。圖15C至圖15D係沿各別的第一曲線與第二曲線的第一長波長頻帶邊緣分布334與第二長波長頻帶邊緣分布336的示意圖。第一曲線與第二曲線可由光學膜與第一平面及第二平面的交點來界定，如本文其他地方進一步描述。在一些實施例中，第一厚度分布333相對於第二平面在反射下實質上對稱，且第二厚度分布335相對於第一平面在反射下實質上對稱。第一厚度分布333與第二厚度分布335不同。第一厚度分布333包含沿第一曲線從中心部位至相對邊緣部位之各者減小之厚度。第二厚度分布335包含沿第二曲線從中心部位至相對邊緣部位之各者增加之厚度。在繪示的實施例中，該厚度沿第一曲線從中心部位至相對邊緣部位之各者單調地減小，且沿第二曲線從中心部位至相對邊緣部位之各者單調地增加。在其他實施例中，厚度變異可沿第一曲線與第二曲線之任一者係非單調的。
在一些實施例中，第一長波長頻帶邊緣分布334相對於第二平面在反射下實質上對稱，且第二長波長頻帶邊緣分布336相對於第一平面在反射下實質上對稱。第一長波長頻帶邊緣分布334與第二長波長頻帶邊緣分布336不同。第一長波長頻帶邊緣分布334包含沿第一曲線從中心部位至相對邊緣部位之各者減小之長波長頻帶邊緣。第二長波長頻帶邊緣分布336包含沿第二曲線從中心部位至相對邊緣部位之各者增加之長波長頻帶邊緣。在繪示的實施例中，該長波長頻帶邊緣沿第一曲線從中心部位至相對邊緣部位之各者單調地減小，且沿第二曲線從中心部位至相對邊緣部位之各者單調地增加。在其他實施例中，長波長頻帶邊緣變異可沿第一曲線與第二曲線之任一者係非單調的。第一長波長頻帶邊緣分布334與第二長波長頻帶分布336可分別與第一厚度分布333與第二厚度分布335成正比。
如果在一範圍內的任何較大中間點處的量(諸如，光學膜的的厚度或長波長頻帶邊緣)小於或約等於在該範圍內的任何較小的中間點處的量，則該量可聲稱從該範圍的第一端點(例如，光學膜的中心部位)至該範圍的第二端點(例如，光學膜的邊緣部位)之該範圍內實質上單調地減小。類似地，如果在該範圍內的任何較大中間點處的量大於或約等於在該範圍內的任何較小的中間點處的量，則該量可聲稱從該範圍的第一端點至該範圍的第二端點之範圍內實質上單調地增加。對於隨範圍內的部位改變的量(例如，從中心部位至邊緣部位的部位範圍內的厚度或長波長頻帶邊緣)，如果在一點處的量等於一值或如果在該點處的量係在範圍內的量的最大值減去最小值的正 或負5%的值的範圍內，則在該點處的量可聲稱等於該值(例如，另一點處的量)。
將光學膜熱成形為大致圓頂形狀的其它方法提供在膜的中心處大且在所有方向上朝向邊緣減小之厚度(或長波長頻帶邊緣)，或提供在中心附近小且在所有方向上朝向邊緣増加之厚度(或長波長頻帶邊緣)。圖22A與圖22B標繪成形為球形罩蓋的光學膜的厚度分布，光學膜在加壓程序與下拉程序中分別對向120度與180度的角度。這些標繪圖中的角度θ係相對於膜的中心之角位置。膜的邊緣在圖22A至圖22B中分別具有60度與90度的θ。在這些情況下，該厚度相對於通過膜的頂點之光學軸旋轉地對稱。在判定這些厚度輪廓時，假定光學膜係等向性的並且不可壓縮，假定周向拉伸在下拉程序中恆定，並且假定徑向拉伸在加壓程序中恆定。曲線展示針對下拉熱成形程序所預期的大致厚度輪廓，其中膜被拉伸使得周向拉伸(但不是徑向拉伸)實質上係恆定的；以及針對加壓程序所預期的大致厚度輪廓，其中膜被拉伸使得徑向拉伸(但不是周向拉伸)實質上恆定。此處拉伸係指1加應變，因此當應變恆定時拉伸恆定。下拉程序可實施在MAAC真空熱成形機(可購自MAAC Machinery Corporation(Carol Stream,IL))上，如美國臨時專利申請案第62/577474號(2017年10月26日申請，且標題為「SHAPED OPTICAL FILMS AND METHODS OF SHAPING OPTICAL FILMS」)所述，且加壓程序可實施在Hy-Tech成形機(可購自Hy-Tech Forming Systems(USA),Inc.(Phoenix,AZ))上，如美國臨時專利申請案第62/577474號所述。針 對下拉程序，厚度在具有180度對向角度的膜的邊緣處下降至零表示：在下拉程序中嘗試形成膜至此大的對向角度將導致膜的局部變形。本說明書之方法允許在將膜塑形為大的對向角度時實質上較小的整體厚度變異(及/或實質上較小的體厚長波長頻帶邊緣變異)，及/或允許厚度在不同方向上不同地變化及/或被控制以具有所欲厚度分布，其可或可不實質上單調的。
本說明書之光學膜可係例如鏡膜或反射偏光器。在一些實施例中，該經塑形光學膜的總面積之至少80%、或至少85%、或至少90%、或至少95%上的各部位對於具有一相同預定波長與一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率。偏振狀態可特徵在於電場向量的方向，對於法向入射光，電場向量的方向界定正切於光學膜的軸。如果沿在光學膜上的兩個不同部位處的法向入射光的電場正切於光學膜之軸係在平行的平面(各自沿曲線相交於光學膜(使得兩個平面在各別的第一部位與第二部位處皆不正切於光學膜))中，則偏振狀態可視為相同。如果正切於光學膜且垂直於光學膜上的兩個不同部位處的法向入射光的電場之軸係在平行的平面(各自沿曲線相交於光學膜)中，則偏振狀態也可視為相同。例如，再次參見圖14，第一偏振狀態可係中心部位1430處的狀態，其中法向入射光的電場沿第一平面(例如，平行於x-z平面的平面，其可對應於第一平面3001)中的軸1437，第一平面界定中心部位1430處的第一曲線1410。如果正切於光學膜且沿不同部位處的法向入射光的電場之軸係在平行於第一平面的平面中，則在不同部位處法向入射的光的偏振狀態係相 同的第一偏振狀態。例如，部位1441處的法向入射光在部位1441處入射時可具有沿軸1443的電場，且此軸在平行於第一平面的平面1453中。法向入射光的相同第二偏振狀態可在各部位處界定為正交於第一偏振狀態的偏振狀態。在一些實施例中，光學膜係鏡膜並且具有對於第一偏振狀態及第二偏振狀態約相同的反射率。在一些實施例中，光學膜係反射偏光器，其對於第一偏振狀態比第二偏振狀態具有實質上較高的反射率。
在一些實施例中，光學膜1400係反射偏光器。在一些實施例中，反射偏光器上的各部位對於沿阻斷軸偏振的法向入射光具有最大反射率與對應最小透射率，且對於沿正交的通過軸偏振的法向入射光具有最大透射率。例如，在部位1455處的軸1455b與1455p可分別係阻斷軸與通過軸。法向入射光可具有預定波長(例如，約550nm)，或可具有預定波長範圍(例如，450nm至650nm，或400nm至700nm)內的波長。
圖16係反射偏光器對於法向入射在反射偏光器上的光之反射偏光器的通過狀態與阻斷狀態之透射率的示意標繪圖。對波長的透射率的平均值對於具有通過偏振狀態(沿通過軸偏振)的法向入射光係最大值，且對波長的透射率的平均值對於具有阻斷偏振狀態(沿阻斷軸偏振)的法向入射光係最小值。對從λ1至λ2的預定波長範圍內的波長的透射率的平均值在通過狀態中係Tp且在阻斷狀態中係Tb。在一些實施例中，λ1係約450nm，且λ2係約650nm。在一些實施例中，λ1係約400nm，且λ2係約700nm。在一些實施例中，Tp大 於約80%、或大於約85%、或大於88%。在一些實施例中，Tb不大於約10%、或不大於約5%、或不大於約2%、或不大於約1%、或不大於約0.5%、或不大於0.2%、或不大於0.15%，或不大於0.1%、或不大於0.05%、或不大於0.04%、或不大於0.03%。在一些實施例中，在經塑形光學膜的總面積之至少80%、或至少85%、或至少90%、或至少95%上的經塑形光學膜上的各部位處．Tp及/或Tb在這些範圍之任一者中。
反射偏光器上的一部位處的對比率可定義為Tp/Tb。在一些實施例中，在具有該反射偏光器的一總面積之至少80%的一面積之該反射偏光器的一區域中的各部位具有至少500的一對比率，該對比率係該最大平均透射率(Tp)除以該最小平均透射率(Tb)。在一些實施例中，該區域具有總面積之至少85%、或至少90%、或至少95%的面積。例如，該區域可係反射偏光器的全部，惟邊緣附近的小部分除外。圖14繪示光學膜1400的區域1490。區域1490係光學膜1400的全部，惟沿邊緣的小部分除外。在一些實施例中，該區域係在包括反射偏光器的光學系統中所利用的反射偏光器之部分。在一些實施例中，該區域係整個反射偏光器。在一些實施例中，在該區域的各部位處的對比率Tp/Tb係至少1000、或至少1100、或至少1200、或至少1300、或至少1500、或至少1600、或至少1700、或至少1800、或至少1900、或至少2000。在一些實施例中，反射偏光器具有至少2000(即，反射偏光器上之至少一部位具有至少2000的對比率)、或至少2500的最大對比率。
在反射偏光器上的一部位處的另一對比率可定義為預定波長處的最大透射率除以預定波長處的最小透射率。預定波長可係從λ1至λ2的預定波長範圍內的一波長。例如，預定波長可係(λ1+λ2)/2。在一些實施例中，該預定波長係約550nm。定義在預定波長的對比率可滿足根據預定波長範圍的平均值之Tp與Tb所定義的對比率的任何上述狀況。例如，在一些實施例中，反射偏光器的總面積之至少80%內的各部位具有至少500的一對比率，該對比率係在預定波長處的法向入射光的最大透射率除以在預定波長處的法向入射光的最小透射率。
在一些實施例中，反射偏光器包括複數個聚合干涉層。可藉由在給定範圍內包括多個干涉層來増加反射偏光器的對比率。這可如此完成：藉由在給定厚度範圍內在交替聚合層之單封包中包括多個層；或藉由包括具有重疊厚度範圍的交替聚合層之多於一個封包，如本文別處進一步所述。此類技術可用於提供低Tb(例如，小於0.2%)。本說明書之方法允許反射偏光器沿阻斷軸的拉伸實質上大於沿正交的通過軸的拉伸，且已發現，相對於初始未經塑形反射偏光器，這可増加經塑形反射偏光器的對比率。在一些實施例中，初始未經塑形膜具有第一對比率，且經塑形反射偏光器具有第二對比率。在一些實施例中，對於反射偏光器的總面積之至少60%、或至少70%、或至少80%、或至少90%、或100%上的各部位，第二對比率大於第一對比率、或大於1.2倍的第一對比率、或大於1.5倍的第一對比率、或大於2倍的第一對比率。
圖17係反射偏光器用於法向入射在反射偏光器上的光之反射偏光器的通過狀態與阻斷狀態之反射率的示意標繪圖。對波長的反射率的平均值對於具有阻斷偏振狀態的法向入射光係最大值，且對波長的反射率的平均值對於具有通過偏振狀態的法向入射光係最小值。對從λ1至λ2的預定波長範圍內的波長的反射率的平均值在通過狀態中係Rp且在阻斷狀態中係Rb。在一些實施例中，Rb大於約75%、或大於約80%、或大於約85%、或大於約90%。在一些實施例中，Rp不大於約20%、或不大於約15%、或不大於約10%、或不大於約5%。在一些實施例中，Rp及/或Rb在經塑形光學膜上的各部位處的這些範圍在任一者中係經塑形光學膜的總面積之至少80%、或至少85%、或至少90%、或至少95%。
圖16至圖17繪示長波長頻帶邊緣λ3，且在圖17中指示短波長頻帶邊緣λ0。反射頻帶通常具有長與短波長頻帶邊緣，其中反射率快速下降。在繪示的實施例中，短波長頻帶邊緣λ0小於λ1，且長波長頻帶邊緣λ3大於λ2。頻帶邊緣可針對法向入射光來判定，其中反射偏光器朝向入射光凸出。在一些實施例中，光學膜具有長波長頻帶邊緣λ3(及/或短波長頻帶邊緣λ0)，其隨著部位以正比於本文別處針對厚度變異所述之型樣的型樣改變。在本說明書之任何光學膜中，其中在指定厚度變異的情況下，光學膜可具有長波長頻帶邊緣，該長波長頻帶邊緣具有與厚度變異成正比的變異。在一些實施例中，光學膜具有隨位置而變動的長波長頻帶邊緣，其正比於圖11C至圖11E或圖15A至圖15B之任一者中所繪的厚度變異。
可使用若干不同的準則來界定頻帶邊緣的精確波長。頻帶邊緣所表現出的空間變異型樣通常不取決於所使用的精確準則。頻帶邊緣的波長可視為是其中具有阻斷偏振狀態的法向入射光的反射率下降至½ Rb之波長，或其中具有阻斷偏振狀態的法向入射光的透射率増加至10%之波長，舉例來說。除非另外指明，頻帶邊緣可理解為是指其中具有阻斷偏振狀態的法向入射光的透射率増加至10%之波長。
可針對法向入射在光學膜的任一側上的光來判定反射率與透射率。通常，針對任一測量獲得類似的結果。光學膜可被塑形用於其中光入射在光學膜之一側上的特定應用。在此情況下，指定的反射率與透射率係針對入射在此側上的光。在其中使用任一定向之經塑形光學膜可的情況下，可理解，指定的反射率與透射率可係針對入射在經塑形光學膜的該側上的光，使得經塑形光學膜朝向入射光凸出。
圖18A係光學膜1200之示意截面圖，其包括複數個干涉層1234與非干涉層1233。在一些實施例中，該複數個干涉層包括交替的聚合層1236與1237。在繪示的實施例中，包括單個非干涉層1233。干涉層可描述為當干涉層的反射率與透射率可藉由光學干涉來合理描述或合理準確模型化為產生自光學干涉時，主要藉由光學干涉來反射或透射光。此類干涉層描述於例如美國專利第5,882,774號(Jonza等人)、及美國專利第6,609,795號(Weber等人)中。當具有不同折射率的相鄰對的干涉層具有該光的½波長的組合光學厚度(折射率乘以實體厚度)時，該對干涉層藉由光學干涉來反射光。干涉層通常具有小於約200奈米的實體厚度。非干涉層具有太大的光學 厚度，以致於無法經由干涉來反射可見光。通常，非干涉層具有至少1微米的實體厚度。在一些實施例中，包括多於一個非干涉層。在一些實施例中，至少一非干涉層(在繪示的實施例中，非干涉層1233)與該複數個干涉層1234一體形成，並且不主要藉由光學干涉來反射或透射光。
在一些實施例中，干涉層中之至少一者在將膜成形為彎曲形狀之前實質上單軸定向。例如，層1237之各者可經實質上單軸定向。如果反射偏光器或反射偏光器中之一層在一面內方向實質上定向並且在正交的面內方向未實質上定向並且在厚度方向未實質上定向，則反射偏光器或反射偏光器中的該層經實質上單軸定向。實質上單軸經定向反射偏振器係可以商標名稱Advanced Polarizing Film或APF購自3M Company。亦可使用其他類型之多層光學膜反射偏振器(例如，可購自3M Company之Dual Brightness Enhancement Film或DBEF)。DBEF膜定向在一面內方向上實質上多於在正交的面內方向上，並且在厚度方向上也表現出定向。DBEF膜的實質上單軸定向並非如本文中所用的「實質上單軸定向」。
在一些實施例中，反射偏光器(在塑形為彎曲形狀之前)經實質上單軸定向，因為其具有至少0.7、或至少0.8、或至少0.85之單軸特性程度U，其中U=(1/MDDR-1)/(TDDR1/2-1)，其中MDDR界定為縱向拉伸比率且TDDR界定為橫向拉伸比率。此類實質上單軸經定向多層光學膜描述在美國專利第2010/0254002號(Merrill等人)中(該案以引用形式且不與本說明書牴觸之程度併入本文中) 且可包括複數個交替的第一聚合層及第二聚合層，其中第一聚合層具有在長度方向(例如，x方向)上及厚度方向(例如，z方向)上的折射率，該等折射率實質上相同，但實質上不同於在寬度方向(例如，y方向)上的折射率。例如，在x方向及z方向上之折射率之差的絕對值可小於0.02、或小於0.01，且在x方向及y方向上之折射率之差的絕對值可大於0.05、或大於0.10。折射率係指在550nm之波長的折射率，除非不同地指明。在成形為彎曲形狀之後，反射偏光器可具有在至少一部位處實質上單軸定向之至少一層。在一些實施例中，在至少一部位處之至少一層在沿層的厚度的第一方向上具有第一折射率，在正交於第一方向的第二方向上具有第二折射率，且在正交於第一方向與第二方向的第三方向上具有第三折射率，第一折射率與第三折射率的差的絕對值小於約0.02，或小於約0.01，且第二折射率與第三折射率的差的絕對值大於約0.05，或大於約0.10。在一些實施例中，在成形為彎曲形狀之後，反射偏光器具有在複數個部位處實質上單軸定向之至少一層。
在一些實施例中，光學膜包括二或更多封包的交替聚合干涉層，以提供高對比。此類光學膜進一步描述於美國臨時專利申請案第62/467712號(Haag等人)中，該申請案係於2017年3月6日提出申請，並且該案以引用形式且不與本說明書牴觸之程度併入本文中。在一些實施例中，光學膜係反射偏光器並且包括複數個封包，其中各封包具有實質上連續曲線的層厚度對層數量。圖18B係光學膜1322的示意截面圖，該光學膜包括由非干涉層1326b分離的第一封包1224-1 與第二封包1224-2。光學膜1322進一步包括外非干涉層1326a與1326c。第一封包1224-1與第二封包1224-2可使用重疊的厚度範圍來提供例如具有高對比率(通過狀態透射率與阻斷狀態透射率的比率)的反射偏光器，或具有低洩漏的反射鏡。圖19繪示包括兩個封包(封包1與封包2)的光學膜(例如，反射偏光器)的層厚度對層數。在一些實施例中，厚度輪廓實質上重疊(例如，封包1的厚度範圍之大於50百分比重疊於封包2的厚度範圍之大於50百分比)。在其他實施例中，厚度範圍內很少或不重疊。
在一些實施例中，光學膜係鏡膜，諸如可見光鏡或近紅外光鏡。合適的鏡膜包括可購自3M Company(St.Paul,MN)的Enhanced Specular Reflector(ESR)膜。
光學膜1200及/或光學膜1322可一體成形。如本文中所使用，第一元件與第二元件「一體成形(integrally formed)」意指第一元件及第二元件一起製造，而非個別製造且接著後續結合。一體成形包括製造第一元件、後續接著製造第二元件在第一元件上。如果複數個層一起製造(例如，組合為熔體流且然後澆鑄至冷卻輥以形成具有各層的澆鑄膜，且然後定向該澆鑄膜)而不是分開製造並隨後結合，則包括複數個層的光學膜係一體形成。在一些實施例中，非干涉層1326a與1326c及干涉層之第一封包1224-1與第二封包1224-2以及非干涉層1326b一體形成。
未與一體形成的多層光學膜一體的額外層係指額外層未與多層光學膜一體形成。例如，額外層可分開形成，且然後隨後黏附 (例如，使用光學清透黏著劑予以層壓)至多層光學膜。在一些實施例中，額外層係可釋離地附接至光學膜的襯墊。在一些實施例中，包括兩個襯墊。例如，在一些實施例中，非干涉層1326a與1326c可係離型襯墊，其等可釋離地接合且適形於第一封包1224-1與第二封包1224-2。在此情況下，光學膜1322可稱為光學堆疊，且非干涉層1326a與1326c之間的層可稱為光學膜。在一些實施例中，在光學膜的塑形之前移除離型襯墊。在一些實施例中，離型襯墊連同光學膜予以塑形，使得所得的塑形光學疊堆包括可釋離地接合且適形於光學膜的襯墊。
接合至光學膜但可被乾淨地從光學膜移除而不會顯著損壞光學膜之襯墊可描述為可釋離地接合至光學膜，並且可描述為離型襯墊。在一些實施例中，可從光學膜移除可釋離地接合至光學膜的襯墊，而不會對光學膜造成可見的損壞。可釋離地接合的襯墊可包括具有黏著劑層的基材，該黏著劑層較牢固地接合至基材上，但較弱地接合至光學膜。例如，襯墊可包括施加至基材的一薄層低黏性黏著劑，其中一表面受處理以增加其對黏著劑的接合。其他適合的襯墊包括靜電接合至光學膜者，例如，如美國專利第6,991,695號(Tait等人)中所述。合適的襯墊的一個實例係可購自Sun A Kaken Co，Ltd的OCPET NSA33T。
適用於光學膜1200或1322中的較高折射率干涉層的材料包括例如聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、含PEN及聚酯之共聚合物(例如，聚對苯二甲酸乙二酯(PET)或二苯甲酸)、乙二醇改性之聚對苯二 甲酸乙二酯。適用於光學膜1200或1322中的較低折射率干涉層的材料包括例如基於PEN之共聚酯、基於PET之共聚酯、聚碳酸酯(PC)，或這三種類別材料之摻合物。例如，為了以所欲層數達成高反射率，相鄰的微層對於沿阻斷軸偏振之光可展現至少0.2之折射率差。
在一些實施例中，光學膜1200或1322係鏡膜，其實質上針對兩個正交偏振之各者反射預定波長範圍內的法向入射光。在一些實施例中，光學膜1200或1322係反射偏光器，其實質上反射沿阻斷軸偏振的預定波長範圍內的法向入射光，且其實質上反射沿正交的通過軸偏振的預定波長範圍內的法向入射光。
在一些實施例中，由該程序產生的塑形光學膜接合至光學透鏡。這可作為塑形光學膜之方法中的步驟。圖20A係光學膜1800之一部分的示意截面圖，該光學膜已拉伸且塑形為至少部分地適形於模具1850的彎曲模具表面。光學透鏡1890經設置相鄰於光學膜1800而與模具1850相對。在一些實施例中，光學透鏡1890設置在透鏡安裝座(例如，透鏡安裝座1693)上。在一些實施例中，施加黏著劑至光學透鏡1890的彎曲主表面1892。在一些實施例中，透鏡安裝座與模具1850可朝向彼此移動，直到光學透鏡1890上的黏著劑接觸光學膜1800並且將光學膜1800接合至光學透鏡1890。可將黏著劑均勻地施加至光學透鏡1890的彎曲主表面1892，或可施加黏著劑作為靠近彎曲主表面1892的中心附近的液滴，然後當光學透鏡1890與模具彼此緊密接近時，液滴流進黏著劑層中而潤溼彎曲主表面1892。隨後移除模具1850與光學膜1800的任何多餘部分，以形成透鏡總成1842。 圖20B係透鏡總成1842的示意截面圖，該透鏡總成包括光學透鏡1890、黏著劑層1844、及透過黏著劑層1844接合至光學透鏡1890的光學膜1800。光學膜1800適形於光學透鏡1890的彎曲主表面1892。
在一些實施例中，光學透鏡包含彎曲模具表面。圖21A係透鏡安裝座1950的示意圖，該透鏡安裝座經組態以固持光學透鏡1990，光學透鏡1990可用作形成光學膜1900的模具。例如，在一些實施例中，用於本文別處描述的塑形光學膜之方法中的模具(例如，模具250)被透鏡安裝座1950與光學透鏡1990取代。圖21A繪示光學膜1900之一部分，該光學膜已拉伸且塑形為至少部分地適形於光學透鏡1990的彎曲主表面1992。可在塑形光學膜1900之前，施加黏著劑至彎曲主表面1992，以將光學膜1900接合至該彎曲主表面。圖21B係透鏡總成1942的示意截面圖，該透鏡總成包括光學透鏡1990及光學膜1900，光學膜1900接合且適形於光學透鏡1990的彎曲主表面1992。可藉由移除透鏡安裝座1950及光學膜1900之任何多餘部分，來獲得透鏡總成1942。
所屬技術領域中具有通常知識者應理解在本說明書中所使用及描述之內容脈絡中諸如「實質上」及「約(about)」等用語。若所屬技術領域中具有通常知識者不清楚在本說明書中所使用及描述之內容脈絡中如應用以量化表達特徵大小、量、及實體性質所使用的「約」，則「約」將應理解為意謂在指定值之10百分比內。就一指定值給定的數量可精確係該指定值。例如，若所屬技術領域中具有通常 知識者不清楚在本說明書中所使用及描述之內容脈絡中之具有約1的值的數量，意指該數量所具有的值在0.9與1.1之間，且該值可係1。
以下為本說明之例示性實施例的清單。
實施例1係一種塑形一光學膜之方法，該方法包含以下步驟：將該光學膜設置成相鄰於第一輥與第二輥，使得該光學膜的一第一部分接觸該第一輥，且該光學膜的一第二部分接觸該第二輥，該第一輥與該第二輥沿一第一方向間隔開，該光學膜的該第一部分具有沿一第二方向的一第一寬度，該第二方向與該第一方向正交；緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，該第一端部與該第二端部沿該第一方向間隔開，該第一部分與該第二部分設置在該第一端部與該第二端部之間；提供一彎曲模具表面；及藉由使該光學膜與該彎曲模具表面接觸，同時沿該第一方向拉伸該光學膜，來塑形該光學膜，其中該塑形步驟包含保持最接近的第一點與第二點之間的一臨限距離小於約該第一寬度，該光學膜上的該第一點接觸該第一輥，該光學膜上的該第二點接觸該彎曲模具表面。
實施例2係實施例1之方法，其中當塑形該光學膜時，該第一點沿該第一方向移動。
實施例3係實施例1之方法，其中當塑形該光學膜時，該第二點沿該第一方向移動。
實施例4係實施例1之方法，其中保持該等最接近的第一點與第二點之間的該臨限距離小於約該第一寬度包含：沿該第一方向移動該第一輥。
實施例5係實施例1之方法，其中塑形該光學膜包含：沿正交於該第一方向與第二方向的一第三方向改變該彎曲模具表面的一邊界上的一點與該光學膜之間的一分離距離。
實施例6係實施例1之方法，其中保持該等最接近的第一點與第二點之間的該臨限距離小於約該第一寬度包含：沿該第一方向改變該第一輥與該第二輥之間的一分離距離。
實施例7係實施例6之方法，其中沿該第一方向改變該第一輥與該第二輥之間的該分離距離減小該光學膜沿該第二方向的翹曲。
實施例8係實施例1之方法，其中該塑形步驟包含：改變該光學膜的該第一端部與該第二端部的位置，以控制沿該第一方向的該光學膜中之一張力。
實施例9係實施例8之方法，其中當拉伸該膜時，沿該第一方向的該光學膜中之該張力實質上恆定。
實施例10係實施例8之方法，其中在拉伸該光學膜期間，沿該第一方向的該光學膜中之該張力逐漸增加。
實施例11係實施例8之方法，控制該張力以在光學膜中產生所欲厚度變異。
實施例12係實施例8之方法，其中控制該張力以產生實質上沿該第一方向恆定的該光學膜的一厚度。
實施例13係實施例1之方法，其中該塑形步驟包含：保持該第一點與第二點之間的該臨限距離在該第一寬度的0.001至1倍的範圍內。
實施例14係實施例1之方法，其中該光學膜的該第二部分具有沿該第二方向的一第二寬度，且其中該塑形步驟進一步包含保持最接近的第三點與第四點之間的一臨限距離小於約該第二寬度，該光學膜上的該第四點接觸該第二輥，該光學膜上的該第三點接觸該彎曲模具表面。
實施例15係實施例14之方法，其中該塑形步驟包含：改變該第一輥與該第二輥之間的一分離距離，使得該等最接近的第一點與第二點之間的該臨限距離保持在該第一寬度的0.001至1倍的一範圍內，且該等最接近的第三點與第四點之間的該臨限距離保持在該第二寬度的0.001至1倍的一範圍內。
實施例16係實施例1之方法，進一步包含將該光學膜設置成相鄰於第三輥與第四輥，該第三輥相鄰於該第一輥，該第四輥相鄰於該第二輥。
實施例17係實施例16之方法，其中該塑形步驟進一步包含：沿該第一方向改變該第三輥與第四輥之間的該分離距離。
實施例18係實施例17之方法，其中在該塑形步驟期間，第一輥與第三輥之間的一離距變化不超過10%，且在塑形步驟期間，第二輥與第四輥之間的一離距變化不超過10%。
實施例19係實施例16之方法，其中在該塑形步驟期間，該第一輥與該第二輥之各者處於比該第三輥與第四輥之各者更高的一溫度。
實施例20係實施例16之方法，其中該第三輥經設置以増加該光學膜與該第一輥的接觸角度。
實施例21係實施例16之方法，其中該第四輥經設置以増加該光學膜與該第二輥的接觸角度。
實施例22係實施例1之方法，其中該方法產生一經塑形光學膜，其具有一第一最大垂度對沿該第一方向之一對應第一直徑之一第一比率，以及一第二最大垂度對沿該第二方向之一對應第二直徑之一第二比率，該第一比率係至少0.05。
實施例23係實施例1之方法，其中該光學膜包含複數個交替的聚合干涉層，該交替的聚合干涉層主要藉由光學干涉來反射及透射光。
實施例24係實施例1之方法，其中該光學膜係一鏡膜。
實施例25係實施例1之方法，其中該光學膜係一反射偏光器，該反射偏光器上的各部位對於具有一預定波長與沿一阻斷軸偏振之法向入射光具有大於約80%的一最大反射率，以及對於具有該 預定波長與沿一正交的通過軸偏振之法向入射光具有具有大於約80%的一最大透射率。
實施例26係實施例25之方法，其中在塑形該光學膜之前，該阻斷軸實質上沿該第一方向。
實施例27係實施例1之方法，其進一步包含加熱該光學膜。
實施例28係實施例27之方法，其進一步包含在拉伸該光學膜之前加熱該光學膜。
實施例29係實施例27或28之方法，其進一步包含在拉伸該光學膜期間加熱該光學膜。
實施例30係實施例27之方法，其中加熱該光學膜至大於該光學膜的一玻璃化轉變溫度的一溫度。
實施例31係實施例27之方法，加熱該光學膜至大於該光學膜的一最大玻璃化轉變溫度且低於該光學膜的一最低熔融溫度之溫度。
實施例32係實施例1之方法，其中在該塑形步驟期間，在該第一輥與該第二輥之間以及沿該第二方向之該光學膜的縱向邊緣之間且遠離該等縱向邊緣，該光學膜不具有翹曲。
實施例33係實施例1至32中的任一者之方法，其中該方法產生一經塑形光學膜，其具有沿該第一方向的一第一最大垂度以及沿該第二方向的一第二最大垂度，該第一最大垂度大於或等於該第二最大垂度，該第二最大垂度大於零，該經塑形光學膜的一總面積之 至少80%上的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率。
實施例34係實施例1至33中之任一者之方法，其產生一經塑形光學膜，其中該經塑形光學膜係一反射偏光器，該反射偏光器上之各部位對於沿一阻斷軸偏振且具有該預定波長之法向入射光具有一最大反射率與一對應最小透射率，且對於沿一正交的通過軸偏振且具有該預定波長之法向入射光具有一最大透射率，該第一方向在該頂點處沿該阻斷軸，該第二方向在該頂點處沿該通過軸。
實施例35係實施例34之方法，其中在該反射偏光器的一總面積之至少80%上的各部位具有至少500的一對比率，該對比率係該最大透射率除以該最小透射率。
實施例36係一種塑形一光學膜之方法，該方法包含以下步驟：將該光學膜設置成相鄰於第一輥與第二輥，使得該光學膜的一第一部分接觸該第一輥，且該光學膜的一第二部分接觸該第二輥，該第一輥與該第二輥沿一第一方向間隔開，該光學膜的該第一部分具有沿一第二方向的一第一寬度，該第二方向與該第一方向正交；緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，該第一端部與該第二端部沿該第一方向間隔開，該第一部分與該第二部分設置在該第一端部與該第二端部之間；提供一彎曲模具表面；及 藉由使該光學膜與該彎曲模具表面接觸，同時沿該第一方向拉伸該光學膜，來塑形該光學膜，其中該塑形步驟包含改變沿該第一方向之該第一輥與該第二輥之間的一分離距離，以減小該第一輥與該第二輥之間以及沿該第二方向之該光學膜的縱向邊緣之間且遠離該等縱向邊緣的該光學膜之翹曲。
實施例37係實施例36之方法，其產生一經塑形光學膜，該光學膜不具有曲率改變正負號的點。
實施例38係實施例36的方法，其中在該塑形步驟期間，在該第一輥與該第二輥之間，該光學膜不具有翹曲。
實施例39係實施例36之方法，其中該塑形步驟包含保持最接近的第一點與第二點之間的一臨限距離小於約該第一寬度，其中該光學膜上的該第一點接觸該第一輥，且該光學膜上的該第二點接觸該彎曲模具表面。
實施例40係實施例36之方法，其中該塑形步驟包含：改變該光學膜的該第一端部與該第二端部的位置，以控制沿該第一方向的該光學膜中之一張力。
實施例41係實施例36之方法，其進一步特徵在於實施例1至35中任一者。
實施例42係一種塑形一光學膜之方法，該方法包含以下步驟： 緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，該第一端部與該第二端部沿一第一方向間隔開；緊固該光學膜的相對之第三端部與第四端部，該第三端部與該第四端部沿一第二方向間隔開，該第二方向與該第一方向正交；提供一彎曲模具表面；及藉由在拉伸該光學膜的同時使該光學膜與該彎曲模具表面接觸來塑形該光學膜，產生沿至少該第一方向彎曲的彎曲光學膜，其中在該塑形步驟期間拉伸該光學膜包含沿該第一方向拉伸該光學膜大於沿該第二方向的任何拉伸的3倍。
實施例43係實施例42之方法，其中在塑形該光學膜之前，該光學膜大致上交叉地塑形且包含：一中心區域，其設置在第一端部與第二端部之間以及第三端部與第四端部之間；第一端部區域與第二端部區域，其等分別從該中心區域延伸至該第一端部與該第二端部；及第三端部區域與第四端部區域，其等分別從該中心區域延伸至該第三端部與該第四端部。
實施例44係實施例42之方法，其進一步包含加熱該光學膜。
實施例45係實施例1至23或25至44中任一者之方法，其中在塑形該光學膜之前，該光學膜對於一預定波長範圍內的法向入射光具有一第一對比率，且在塑形該光學膜之後，該光學膜對於該預 定波長範圍內的法向入射光具有一第二對比率，其中對於橫越該光學膜的總面積之至少80%之各部位，該第二對比率大於該第一對比率，該第一對比率與該第二對比率之各者係該光學膜對於一通過偏振狀態的最大透射率與該光學膜對於一阻斷偏振狀態的最小透射率之比率。
實施例46係一種彎曲光學膜，其包含沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得：該光學膜與一第一平面的交點之一第一曲線具有一最佳擬合第一圓弧，該第一平面正交於該第二方向且正交於一參考平面，該最佳擬合第一圓弧在該第一圓弧的一曲率中心處對向大於180度的一第一角度，該光學膜在該參考平面中具有一最大投射面積；該光學膜與一第二平面的交點之一第二曲線具有一最佳擬合第二圓弧，該第二平面正交於該第一方向且正交於該參考平面，該最佳擬合第二圓弧在該第二圓弧的一曲率中心處對向至少30度的一第二角度。其中橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約2%的一透射率。
實施例47係實施例46之光學膜，其中該第一角度係至少185度。
實施例48係實施例46之光學膜，其中該第一曲線穿過該光學膜之一中心，該光學膜具有在沿該第一曲線的一第一部位處的一第一厚度以及在沿該第一曲線的一第二部位處的一第二厚度，該第 二部位與該第一部位相隔沿該第一曲線的一距離，該距離係在該光學膜之該中心處的該第一曲線的一曲率半徑R之至少0.7倍，從該光學膜之該中心至該第一部位的一距離不大於0.2 R，沿該第一曲線從該第二部位至該光學膜之一邊緣的一距離不大於0.2 R，該第一厚度與該第二厚度相差不大於5%。
實施例49係一種彎曲光學膜，其包含沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得：該光學膜與一第一平面的交點之一第一曲線具有一最佳擬合第一圓弧，該第一平面正交於該第二方向且正交於一參考平面，該最佳擬合第一圓弧在該第一圓弧的一曲率中心處對向大於90度的一第一角度，該光學膜在該參考平面中具有一最大投射面積；以及該光學膜與一第二平面的交點之一第二曲線具有一最佳擬合第二圓弧，該第二平面正交於該第一方向且正交於該參考平面，該最佳擬合第二圓弧在該第二圓弧的一曲率中心處對向至少30度的一第二角度，其中橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約2%的一透射率，以及其中該第一曲線穿過該光學膜之一中心，該光學膜具有在沿該第一曲線的一第一部位處的一第一厚度以及在沿該第一曲線的一第二部位處的一第二厚度，該第二部位與該第一部位相隔沿該第一曲線的一距離， 該距離係該最佳擬合第一圓弧的一半徑R1之至少0.7倍，從該光學膜之該中心至該第一部位的一距離不大於0.2R1，沿該第一曲線從該第二部位至該光學膜之一邊緣的一距離不大於0.2 R1，該第一厚度與該第二厚度相差不大於5%。
實施例50係實施例46至49中任一者之光學膜，其中該參考平面不與該光學膜相交，該光學膜之至少一大部分朝向該參考平面凹入，該光學膜的頂點具有離該參考平面的一最大距離，且該第一曲線與該第二曲線在該頂點處相交。
實施例51係實施例46至50中任一者之光學膜，其中該參考平面不與該光學膜相交，該光學膜之至少大部分朝向該參考平面凹入，該光學膜的頂點具有離該參考平面的一最大距離，該第二方向係沿通過該頂點至該參考平面的一投射的該最大投射面積的相對側之間的一最短距離，且該第一方向係沿通過該頂點的該投射的該參考平面中的一正交方向。
實施例52係實施例46至51中任一者之光學膜，其中該最佳擬合第一圓弧最小化沿法向向量從第一圓弧至該第一曲線上的點之平方距離的和，該第一曲線的一第一端點係沿至該第一圓弧之一第一端點處的該第一圓弧的一第一法向向量，該第一曲線的一相對之第二端點係沿至該第二圓弧的一相對之第二端點處的該第一圓弧的一第二向量。
實施例53係實施例52之光學膜，其中該第一曲線上的該等點係選自該第一曲線上均勻分布的一組預定的點。
實施例54係實施例52之光學膜，其中該第一圓弧上的該等點係選自該第一圓弧上均勻分布的一組預定的點。
實施例55係實施例53或54之光學膜，其中該組預定的點係一組10至500個點。
實施例56係一種彎曲光學膜，其包含沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得：該光學膜與一第一平面的交點之一第一曲線具有一最佳擬合第一圓弧，該第一平面正交於該第二方向且正交於一參考平面，該最佳擬合第一圓弧在該第一圓弧的一曲率中心處對向大於90度的一第一角度，該光學膜在該參考平面中具有一最大投射面積；以及該光學膜與一第二平面的交點之一第二曲線具有一最佳擬合第二圓弧，該第二平面正交於該第一方向且正交於該參考平面，該最佳擬合第二圓弧在該第二圓弧的一曲率中心處對向至少30度的一第二角度，其中橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約2%的一透射率，且其中該第一曲線穿過該光學膜之一中心，該光學膜具有在沿該第一曲線的一第一部位處的一第一長波長頻帶邊緣以及在沿該第一曲線的一第二部位處的一第二長波長頻帶邊緣，該第二部位與該第一部位相隔沿該第一曲線的一距離，該距離係該最佳擬合第一圓弧的一半徑R1之 至少0.7倍，沿該第一曲線從該光學膜之該中心至該第一部位的一距離不大於0.2R1，沿該第一曲線從該第二部位至該光學膜之一邊緣的一距離不大於0.2 R1，該第一長波長頻帶邊緣與該第二長波長頻帶邊緣相差不大於5%。
實施例57係一種光學膜，其包含複數個聚合層，橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約5%的一透射率，其中針對沿各別的第一曲線與第二曲線相交於光學膜之正交的第一平面與第二平面，該第一曲線與該第二曲線在該光學膜之一中心部位處彼此相交，該光學膜具有沿該第一曲線從該中心部位至該光學膜之一第一邊緣部位減小且沿該第二曲線從該中心部位至一第二邊緣部位増加之一厚度。
實施例58係實施例57之光學膜，其中該第一平面與該第二平面的一交點界定在該中心部位處法向於該光學膜的一線。
實施例59係一種光學膜，其包含複數個聚合層，橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約5%的一透射率，其中針對沿各別的第一曲線與第二曲線相交於光學膜之正交的第一平面與第二平面，該第一曲線與該第二曲線在該光學膜之一中心部位處彼此相交，該光學膜具有沿該第一曲線從該中心部位至該光學膜之一第一邊緣部位減小且沿該第二曲線從該中心部位至一第二邊緣部位増加之一長波長頻帶邊緣。
實施例60係實施例59之光學膜，其中該第一平面與該第二平面的一交點界定在該中心部位處法向於該光學膜的一線。
實施例61係一種光學膜，其包含複數個聚合層，橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約5%的一透射率，其中針對沿各別的第一曲線與第二曲線相交於光學膜之正交的第一平面與第二平面，該光學膜具有沿該第一曲線的一第一厚度分布，該第一厚度分布相對於該第二平面在反射下實質上對稱，且該光學膜具有沿該第二曲線的一第二厚度分布，該第二厚度分布相對於該第一平面在反射下實質上對稱，該第一厚度分布與該第二厚度分布不同。
實施例62係實施例57至61中任一者的光學膜，其中該第一曲線具有一最佳擬合第一圓弧，該第一圓弧在該第一圓弧的曲率中心處對向至少90度的一第一角度，且該第二曲線具有一最佳擬合第二圓弧，該第二圓弧在該第二圓弧的曲率中心處對向至少30度的一第二角度。
實施例63係一種光學膜，其包含複數個聚合層，橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約5%的一透射率，其中針對沿各別的第一曲線與第二曲線相交於光學膜之正交的第一平面與第二平面，該光學膜具有沿該第一曲線的一第一長波長頻帶邊緣分布，該第一長波長頻帶邊緣分布相對於該第二平 面在反射下實質上對稱，且該光學膜具有沿該第二曲線的一第二長波長頻帶邊緣分布，該第二長波長頻帶邊緣分布相對於該第一平面在反射下實質上對稱，該第一長波長頻帶邊緣分布與該第二長波長頻帶邊緣分布不同。
實施例64係實施例63之光學膜，其中該第一曲線與第二曲線在該光學膜之一中心部位處相交，且該第一長波長頻帶邊緣分布包含沿該第一曲線從該中心部位至該光學膜之一第一邊緣部位減小的一長波長頻帶邊緣。
實施例65係實施例64之光學膜，其中該第二長波長頻帶邊緣分布包含沿該第二曲線從該中心部位至該光學膜之一第二邊緣部位增加的一長波長頻帶邊緣。
實施例66係實施例63之光學膜，其中該第一曲線與第二曲線在該光學膜之一中心部位處相交，且該第一長波長頻帶邊緣分布包含沿該第一曲線從該中心部位至該光學膜之一第一邊緣部位減小的長波長頻帶邊緣，且該第二長波長頻帶邊緣分布包含沿該第二曲線從該中心部位至該光學膜之一第二邊緣部位增加的一長波長頻帶邊緣。
實施例67係一種彎曲反射偏光器，其包含至少沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得一第一最大垂度對沿該第一方向的對應第一直徑之一第一比率係至少0.1，且一第二最大垂度對沿該第二方向的對應第二直徑之一第二比率係至少0.05，其中對於一預定波長範圍中的法向入射光，該反射偏光器上的各部位針對一阻斷偏振狀態具有大於約80%的一最大平均反射率及小於約2%的一 對應最小平均透射率，且針對一正交通過偏振狀態具有大於約80%的一最大平均透射率，其中在具有該反射偏光器的一總面積之至少80%的一面積之該反射偏光器的一區域中的各部位具有至少500的一對比度，該對比度係該最大平均透射率除以該最小平均透射率。
實施例68係一種彎曲反射偏光器，其包含沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得該反射偏光器的一總曲率係至少0.25，該總曲率係整個該反射偏光器之一總面積的該反射偏光器之一高斯曲率的一表面積分，其中對於一預定波長範圍中的法向入射光，該反射偏光器上的各部位針對一阻斷偏振狀態具有大於約80%的一最大平均反射率及小於約2%的一對應最小平均透射率，且針對一正交通過偏振狀態具有大於約80%的一最大平均透射率，其中在具有該反射偏光器的該總面積之至少80%的一面積之該反射偏光器的一區域中的各部位具有至少500的一對比率，該對比率係該最大平均透射率除以該最小平均透射率。
實施例69係實施例68之反射偏光器，其中一第一最大垂度對沿該第一方向的一對應第一直徑之一第一比率係至少0.1，且一第二最大垂度相對於沿該第二方向的一對應第二直徑之一第二比率係至少0.05。
實施例70係實施例67至68中任一者之反射偏光器，其中對於該預定波長範圍中的一預定波長，該反射偏光器的總面積之至少80%上的各部位針對具有該阻斷偏振狀態的法向入射光具有小於約0.2%的一透射率。
實施例71係一種彎曲反射偏光器，其包含沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得該反射偏光器的一總曲率係至少0.25，該總曲率係整個該反射偏光器之一總面積的該反射偏光器之一高斯曲率的一表面積分，其中對於具有一預定波長的法向入射光，該反射偏光器上的一總面積之至少80%上的各部位針對一阻斷偏振狀態具有大於約80%的一最大反射率及小於約0.2%的一對應最小透射率，且針對一正交通過偏振狀態具有大於約80%的一最大透射率。
實施例72係實施例71之反射偏光器，其中一第一最大垂度對沿該第一方向的一對應第一直徑之一第一比率係至少約0.1，且一第二最大垂度相對於沿該第二方向的對應一第二直徑之一第二比率係至少約0.05。
實施例73係實施例71或72之反射偏光器，其中該反射偏光器之一總面積之至少90%上之各部位針對該阻斷偏振狀態具有小於約0.2%之最小透射率。
實施例74係一種用於處理光學膜的設備，該設備包含：第一輥與第二輥，其等沿一第一方向間隔開並設置在各別的第一載台與第二載台上，該第一載台與該第二載台經組態以沿該第一方向移動該第一輥與該第二輥，該第一輥與該第二輥沿正交於該第一方向的一第二方向具有各別的第一寬度與第二寬度；第一緊固構件與第二緊固構件，其等用於緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，該第一輥與該第二輥設置在該第一緊固構件與該第二緊固構件之間，該設備經組態以使得當該光學膜 的該第一端部與該第二端部緊固在該第一緊固構件與該第二緊固構件中時，該光學膜與該第一輥及該第二輥接觸；一模具，其具有一彎曲模具表面且設置在一模具載台上，該模具載台經組態以沿一第三方向移動該模具，該第三方向正交於該第一方向與該第二方向；一用於加熱該光學膜的構件；一張力測量構件，其用於測量該光學膜中的一張力；一控制器，其通訊地耦接至該張力測量構件、該第一載台與該第二載台、該第一緊固構件與該第二緊固構件、以及該模具載台，該控制器經組態以同時沿該第三方向移動該模具且沿該第一方向移動該第一輥與該第二輥，同時控制該光學膜中的該張力。
實施例75係實施例74之設備，其中該控制器經調適以藉由調整該第一緊固構件與該第二緊固構件之間沿該第一方向的一距離，來控制該張力。
實施例76係實施例74的設備，其中該第一緊固構件與該第二緊固構件包含各別的第三載台與第四載台，該第三載台與該第四載台經組態以沿該第一方向移動該光學膜的該第一端部與該第二端部，該第三載台與該第四載台通訊地耦接至該控制器。
實施例77係實施例74至76中任一者之設備，其中該第一緊固構件與該第二緊固構件包含一緊固輥或緊固夾具。
實施例78係實施例74之設備，其中用於加熱該光學膜的該構件包含沿該第三方向與該模具間隔開的一加熱器。
實施例79係實施例74之設備，其中用於加熱該光學膜的該構件包含設置在該模具中或上的加熱元件。
實施例80係實施例74之設備，其進一步包含該光學膜，其中該光學膜的一溫度在該光學膜接觸該彎曲模具表面的一第一點處低於該光學膜未接觸該彎曲模具表面的一第二點處。
實例 反射偏光器1
共擠製兩個多層光學封包，且各封包包含聚萘二甲酸乙二酯(PEN)及一低折射率各向同性層的325個交替層，該低折射率各向同性層係以聚碳酸酯及共聚酯的摻合物(PC：coPET)製造，使得該折射率約1.57並在單軸定向上維持實質各向同性，其中PC：coPET莫耳比率係約42.5莫耳%的PC及57.5莫耳%的coPET，並具有攝氏105度的Tg。此各向同性材料經選擇使得拉伸後在兩個非拉伸方向該材料之折射率維持實質上匹配在非拉伸方向該雙折射材料之折射率，而在拉伸方向介於雙折射層與非雙折射層之間之折射率實質上不匹配。PEN及PC：coPET聚合物從分離的擠製機饋送至多層共擠製供料塊，在其中將彼等聚合物組裝成325個交替光學層(分別係「封包1」及「封包2」)，加上在該等堆疊光學封包外上的PC：coPET的一較厚保護邊界層，共652層。膜在拋物線拉幅機中實質上單軸拉伸，如美國專利第6,916,440號(Jackson等人)中所述。將膜在約150℃的溫度下拉伸至約6的拉伸比。圖19展示所得的反射偏光器的該層厚度輪廓，其中指 示封包1與2。製作數個樣本，其等具有如藉由一電容量規所測量大約62μm至64μm之一總厚度。施加保護性烯烴襯墊至反射偏光器的各側。
實例1
使用與圖2中所繪示的設備類似的設備塑形光學膜。圖23A提供模具的一個圖片(對應於模具350)。該模具係一個Base 8的形式，其具有65.3mm的球面曲率半徑、90mm的直徑、在曲率中心處對向87.1度的最大角度、99.3mm的輪廓長度(通過頂點沿測地線的長度)、17.9mm的垂度、及0.199的垂度直徑比、以及1.72的總曲率。
使用兩個處理條件之一者來塑形樣本。針對條件1，80mm×1200mm寬的一件反射偏光器1膜被切割，其中長方向對準於膜的阻斷方向。夾持件(對應於緊固構件130與135)經設置為相隔開680mm的距離，內輥(對應於第一輥111與第二輥112)經設置為相隔開230mm的距離(從中心至中心測量)，且將膜裝載至該設備中，其中膜通過內輥上與外輥下。外輥中心定位於內輥外65mm處且與內輥一起行進。然後，該烯烴襯墊從膜剝離且穿過輥。施加約35N的張力至膜。將膜加熱至170℃，其中600W、125mm×125mm的陶瓷類型IR加熱器(由WECO International提供)位於膜下方約150mm。使用具有12mm點尺寸的IR溫度感測器監測溫度。當膜到達設定的溫度時，將張力増加至約500N，並且將輥移動至內輥之間的中心至中 心分離距離105mm處。一旦輥處於適當位置，則將模具以2mm/sec的速率壓入膜中，直到在初始接觸膜之後模具移動45mm。在7.1秒之後，將輥向外移動，以在模具繼續其向下路徑時維持模具上的接觸點與各別的輥上的接觸點之間的自由跨度長度約15mm至20mm。在此程序期間，監測膜張力，其中兩個力規安裝在夾持件上，且移動夾持件以維持約500N的恆定張力。在此程序期間，在膜上維持IR熱。一旦模具與輥到達其最終位置，則將部件固持在IR加熱器上另外113秒，以幫助鬆弛膜中的任何應力。然後移開加熱器，且允許膜(與模具)在環境空氣中冷卻5分鐘。冷卻後，移除膜張力，並且移開輥與模具以允許從機器移除經塑形膜。
針對條件2，將反射偏光器1膜的樣本裝載至如條件1所述的設備中，且然後將烯烴襯墊從膜剝離並穿過輥。施加約35N的張力至膜。加熱膜至170℃，如針對條件1所述。當膜到達設定的溫度時，將張力増加至約250N，並且將輥移動至內輥之間的中心至中心分離距離105mm處。一旦輥處於適當位置，則將模具以2mm/sec的速率壓入膜中，直到在初始接觸膜之後模具移動55mm。在6.7秒之後，將輥向外移動，以在模具繼續其向下路徑時維持模具上的接觸點與各別的輥上的接觸點之間的自由跨度長度約10mm至15mm。在另外15秒之後，增加膜張力至約350N。在另外20秒之後，輥之間的離距增加額外30mm，且模具下壓另外17mm。做此以定位膜而靠近加熱器。將膜固持在IR加熱器上另外165秒。然後移開加熱器，且允許 膜(與模具)在環境空氣中冷卻5分鐘。冷卻後，移除膜張力，並且移開輥與模具以允許從機器移除經塑形膜。
反射偏光器樣本安裝至測角儀夾具，且旋轉樣本，以放置樣本的所欲區域至光路徑中，其中測試區域表面法向於光束。樣本經定向使得其朝向入射光束凸出。在中心(C)、、北(N)、東北(NE)、東(E)、東南(SE)、南(S)、西南(SW)、西(W)、與西北(NW)部位處測試樣本，如圖24示意繪示，圖24係反射偏光器2400的頂部平面圖。反射偏光器的阻斷方向係中心處沿南北方向。使用Lambda 1050分光光度計(可購自PerkinElmer，Waltham，MA)在法向入射處測量隨波長變動之通過狀態透射性與阻斷狀態透射性。判定在450nm至650nm之波長範圍內的平均阻斷狀態透射性Tb與平均通過狀態透射性Tp，且判定對應的對比率Tp/Tb。長波長頻帶邊緣經判定為阻斷狀態透射性到達10%的波長。分別針對在條件1與2下塑形的反射偏光器1樣本以及塑形之前的樣本(預塑形)，圖25至圖27展示平均阻斷狀態透射性、平均通過狀態透射性、對比率、與長波長頻帶邊緣。為了比較，展示如美國臨時專利申請案第62/577474號中所述的MAAC系統的下拉程序中塑形的反射偏光器1膜的結果。相較於下拉程序，根據本說明書塑形的膜的阻斷狀態透射性顯著較低，而通過狀態透射性較高，且對比率實質上較高。針對使用條件2塑形的樣本，對比率高於大部分反射偏光器上方的預塑形樣本。
也針對使用條件2在上述點處塑形的樣本，判定在相同波長範圍內的平均阻斷狀態透射性與通過狀態透射性以及對應的對比 率，且在膜面積上線性內插結果，以產生輪廓圖。在光法向入射至反射偏光器上時執行測量，且定向反射偏光器使得其朝向入射光凸出。用角度phi_x與phi_y描述位置，其中tan(phi_x)=X/Z，tan(phi_y)=Y/X，其中X、Y、Z係正交座標，其中原點在反射偏光器的曲率中心處，Z係沿在反射偏光器的頂點處之反射偏光器的法線，Y係沿頂點處的阻斷軸，且X正交於Y。圖29至圖31分別展示平均阻斷狀態透射性、平均通過狀態透射性、與對比率的產生的輪廓圖。
實例2
使用與圖2中所繪示的設備類似的設備塑形光學膜。圖23B提供模具的一個圖片(對應於模具350)。模具具有50mm的球面曲率半徑、沿第一(長)方向的100mm的直徑、沿正交的第二方向的50mm的直徑、沿第一方向在曲率中心處對向200度的最大角度與沿第二方向對向73.7度的最大角度、沿第一方向的174.5mm的輪廓長度(通過頂點沿測地線的長度)、58.7mm的最大垂度與沿第一方向的100mm的對應直徑(0.587的第一S/D比率)、10mm的最大垂度與沿第二方向的60mm的對應直徑(0.167的第二S/D比率)、及4.19的總曲率。
64mm×1200mm寬的一件反射偏光器1膜被切割，其中長方向對準於膜的阻斷方向。夾持件經設置為相隔開680mm的距離，內輥經設置為相隔開230mm的距離(從中心至中心測量)，且將膜裝載至該設備中，其中膜通過內輥上與外輥下(外輥中心定位於 內輥外65mm處且與內輥一起行進)。然後，該烯烴襯墊從膜剝離且穿過輥。施加15N的張力至膜。將膜加熱至170℃，其中600W、125mm×125mm的陶瓷類型IR加熱器(由WECO International提供)位於膜下方約150mm。使用具有12mm點尺寸的IR溫度感測器監測溫度。當膜達到設定的溫度時，將張力増加至400N，且將輥移動至中心至中心分離距離105mm。一旦輥處於適當位置，將模具以一速率壓入(從上方)膜中，使得針對圖32至圖34中指定的條件1至4的一者，接觸該形成物的膜的長度係如圖32中所示。調整輥的位置，使得形成物上的接觸點與輥上的接觸點之間的自由跨度膜長度(對應於圖1E中的d1與d2)係如圖33所繪示。在此程序期間，監測膜張力，其中兩個力規安裝在夾持件上，且移動夾持件以維持圖34中所指定的張力。在此程序期間，在膜上維持IR熱。一旦形成物與輥到達其最終位置，則將部件固持在IR加熱器上另外60秒，以幫助鬆弛膜中的任何應力。然後移開加熱器，且允許膜(與形成物)在環境空氣中冷卻5分鐘。冷卻後，移除膜張力，並且移開輥與形成物以允許從機器移除經塑形膜。
沿第一方向的厚度(對應於沿第一曲線3010的厚度)與沿第二方向的厚度(對應於沿第二曲線3020的厚度)係使用Mitutoyo數位微米頭予以測量(其中球形尖端安裝在表座上)，且係針對分別使用條件1至4經塑形膜展示在圖35至圖38中。
除非另有所指，對圖式中元件之描述應理解成同樣適用於其他圖式中相對應的元件。雖在本文中是以具體實施例進行說明及 描述，但所屬技術領域中具有通常知識者將瞭解可以各種替代及/或均等實施方案來替換所示及所描述的具體實施例，而不偏離本揭露的範疇。本申請案意欲涵括本文所討論之特定具體實施例的任何調適形式或變化形式。因此，本揭露意圖僅受限於申請專利範圍及其均等者。
前述中所引用的全部文獻、專利及專利申請案，全都以一致的方式引用全文併入本文中。若併入的文獻與本申請書之間存在不一致性或衝突之部分，應以前述說明中之資訊為準。

Claims (18)

  1. 一種塑形一光學膜的方法，該方法包含以下步驟：將該光學膜設置成相鄰於第一輥與第二輥，使得該光學膜的一第一部分接觸該第一輥，且該光學膜的一第二部分接觸該第二輥，該第一輥與該第二輥沿一第一方向間隔開，該光學膜的該第一部分具有沿一第二方向的一第一寬度，該第二方向與該第一方向正交；緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，該第一端部與該第二端部沿該第一方向間隔開，該第一部分與該第二部分設置在該第一端部與該第二端部之間；提供一彎曲模具表面；及藉由使該光學膜與該彎曲模具表面接觸，同時沿該第一方向拉伸該光學膜，來塑形該光學膜，其中該塑形步驟包含保持最接近的第一點與第二點之間的一臨限距離小於約該第一寬度，該光學膜上的該第一點接觸該第一輥，該光學膜上的該第二點接觸該彎曲模具表面。
  2. 如請求項1之方法，其中該塑形步驟包含：改變該光學膜的該第一端部與該第二端部的位置，以控制沿該第一方向的該光學膜中之一張力。
  3. 如請求項2之方法，其中控制該張力以在該光學膜中產生一所欲厚度變異。
  4. 如請求項1之方法，其進一步包含加熱該光學膜至大於該光學膜的一玻璃化轉變溫度之一溫度。
  5. 如請求項1至4中任一項之方法，其中該方法產生一經塑形光學膜，其具有沿該第一方向的一第一最大垂度以及沿該第二方向的一第二最大垂度，該第一最大垂度大於或等於該第二最大垂度，該第二最大垂度大於零，該經塑形光學膜的一總面積之至少80%上的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率。
  6. 一種塑形一光學膜的方法，該方法包含以下步驟：將該光學膜設置成相鄰於第一輥與第二輥，使得該光學膜的一第一部分接觸該第一輥，且該光學膜的一第二部分接觸該第二輥，該第一輥與該第二輥沿一第一方向間隔開，該光學膜的該第一部分具有沿一第二方向的一第一寬度，該第二方向與該第一方向正交；緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，該第一端部與該第二端部沿該第一方向間隔開，該第一部分與該第二部分設置在該第一端部與該第二端部之間；提供一彎曲模具表面；及藉由使該光學膜與該彎曲模具表面接觸，同時沿該第一方向拉伸該光學膜，來塑形該光學膜，其中該塑形步驟包含改變沿該第一方向之該第一輥與該第二輥之間的一分離距離，以減小該第一輥與該第二輥之間以及沿該第二方向之該光學膜的縱向邊緣之間且遠離該等縱向邊緣的該光學膜之翹曲。
  7. 一種塑形一光學膜的方法，該方法包含以下步驟：緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，該第一端部與該 第二端部沿一第一方向間隔開；緊固該光學膜的相對之第三端部與第四端部，該第三端部與該第四端部沿一第二方向間隔開，該第二方向與該第一方向正交；提供一彎曲模具表面；及藉由使該光學膜與該彎曲模具表面接觸，同時拉伸該光學膜，來塑形該光學膜，產生沿至少該第一方向彎曲之一彎曲光學膜，其中在該塑形步驟期間拉伸該光學膜包含沿該第一方向拉伸該光學膜大於沿該第二方向的任何拉伸3倍。
  8. 一種彎曲光學膜，其包含沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得：為該光學膜與一第一平面的交點之一第一曲線具有一最佳擬合第一圓弧，該第一平面正交於該第二方向且正交於一參考平面，該最佳擬合第一圓弧在該第一圓弧的一曲率中心處對向大於180度的一第一角度，該光學膜在該參考平面中具有一最大投射面積；及為該光學膜與一第二平面的交點之一第二曲線具有一最佳擬合第二圓弧，該第二平面正交於該第一方向且正交於該參考平面，該最佳擬合第二圓弧在該第二圓弧的一曲率中心處對向至少30度的一第二角度，其中橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約2%的一透射率。
  9. 一種彎曲光學膜，其包含沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得：為該光學膜與一第一平面的交點之一第一曲線具有一最佳擬合 第一圓弧，該第一平面正交於該第二方向且正交於一參考平面，該最佳擬合第一圓弧在該第一圓弧的一曲率中心處對向至少90度的一第一角度，該光學膜在該參考平面中具有一最大投射面積；且為該光學膜與一第二平面的交點之一第二曲線具有一最佳擬合第二圓弧，該第二平面正交於該第一方向且正交於該參考平面，該最佳擬合第二圓弧在該第二圓弧的一曲率中心處對向至少30度的一第二角度，其中橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約2%的一透射率，且其中該第一曲線穿過該光學膜之一中心，該光學膜具有在沿該第一曲線的一第一部位處的一第一厚度以及在沿該第一曲線的一第二部位處的一第二厚度，該第二部位與該第一部位相隔沿該第一曲線的一距離，該距離係該最佳擬合第一圓弧的一半徑R1之至少0.7倍，沿該第一曲線從該光學膜之該中心至該第一部位的一距離不大於0.2 R1，沿該第一曲線從該第二部位至該光學膜之一邊緣的一距離不大於0.2 R1，該第一厚度與該第二厚度相差不大於5%。
  10. 一種彎曲光學膜，其包含沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得：為該光學膜與一第一平面的交點之一第一曲線具有一最佳擬合第一圓弧，該第一平面正交於該第二方向且正交於一參考平面，該最佳擬合第一圓弧在該第一圓弧的一曲率中心處對向至少90度的一第一角度，該光學膜在該參考平面中具有一最大投射面積； 及為該光學膜與一第二平面的交點之一第二曲線具有一最佳擬合第二圓弧，該第二平面正交於該第一方向且正交於該參考平面，該最佳擬合第二圓弧在該第二圓弧的一曲率中心處對向至少30度的一第二角度，其中橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約2%的一透射率，且其中該第一曲線穿過該光學膜之一中心，該光學膜具有在沿該第一曲線的一第一部位處的一第一長波長頻帶邊緣以及在沿該第一曲線的一第二部位處的一第二長波長頻帶邊緣，該第二部位與該第一部位相隔沿該第一曲線的一距離，該距離係該最佳擬合第一圓弧的一半徑R1之至少0.7倍，沿該第一曲線從該光學膜之該中心至該第一部位的一距離不大於0.2 R1，沿該第一曲線從該第二部位至該光學膜之一邊緣的一距離不大於0.2 R1，該第一長波長頻帶邊緣與該第二長波長頻帶邊緣相差不大於5%。
  11. 一種光學膜，其包含複數個聚合層，橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約5%的一透射率，其中針對沿各別的第一曲線與第二曲線相交於光學膜之正交的第一平面與第二平面，該第一曲線與該第二曲線在該光學膜之一中心部位處彼此相交，該光學膜具有沿該第一曲線從該中心部位至該光學膜之一第一邊緣部位減小且沿該第二曲線從該中心部位至一第二邊緣部位増加之一厚度。
  12. 一種光學膜，其包含複數個聚合層，橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約5%的一透射率，其中針對沿各別的第一曲線與第二曲線相交於該光學膜之正交的第一平面與第二平面，該第一曲線與該第二曲線在該光學膜之一中心部位處彼此相交，該光學膜具有沿該第一曲線從該中心部位至該光學膜之一第一邊緣部位減小且沿該第二曲線從該中心部位至一第二邊緣部位増加之一長波長頻帶邊緣。
  13. 一種光學膜，其包含複數個聚合層，橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約5%的一透射率，其中針對沿各別的第一曲線與第二曲線相交於該光學膜之正交的第一平面與第二平面，該光學膜具有沿該第一曲線的一第一厚度分布，該第一厚度分布相對於該第二平面在反射下實質上對稱，且該光學膜具有沿該第二曲線的一第二厚度分布，該第二厚度分布相對於該第一平面在反射下實質上對稱，該第一厚度分布與該第二厚度分布不同。
  14. 一種光學膜，其包含複數個聚合層，橫越該光學膜的一總面積之至少90%的各部位對於具有一相同預定波長及一相同第一偏振狀態之法向入射光具有大於約80%的一反射率及小於約5%的一透射率，其中針對沿各別的第一曲線與第二曲線相交於該光學膜之正交的第一平面與第二平面，該光學膜具有沿該第一曲線的一第一長波長頻帶邊緣分布，該第一長波長頻帶邊緣分布相對於該第二平面在反射下實質上對稱，且該光學膜具有沿該第二曲線的一第 二長波長頻帶邊緣分布，該第二長波長頻帶邊緣分布相對於該第一平面在反射下實質上對稱，該第一長波長頻帶邊緣分布與該第二長波長頻帶邊緣分布不同。
  15. 一種彎曲反射偏光器，其包含至少沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得一第一最大垂度對沿該第一方向的對應第一直徑之一第一比率係至少0.1，且一第二最大垂度對沿該第二方向的對應第二直徑之一第二比率係至少0.05，其中對於一預定波長範圍中的法向入射光，該反射偏光器上的各部位針對一阻斷偏振狀態具有大於約80%的一最大平均反射率及小於約2%的一對應最小平均透射率，且針對一正交通過偏振狀態具有大於約80%的一最大平均透射率，其中在具有該反射偏光器的一總面積之至少80%的一面積之該反射偏光器的一區域中的各部位具有至少500的一對比度，該對比度係該最大平均透射率除以該最小平均透射率。
  16. 一種彎曲反射偏光器，其包含沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得該反射偏光器的一總曲率係至少0.25，該總曲率係整個該反射偏光器之一總面積的該反射偏光器之一高斯曲率的一表面積分，其中對於一預定波長範圍中的法向入射光，該反射偏光器上的各部位針對一阻斷偏振狀態具有大於約80%的一最大平均反射率及小於約2%的一對應最小平均透射率，且針對一正交通過偏振狀態具有大於約80%的一最大平均透射率，其中在具有該反射偏光器的該總面積之至少80%的一面積之該反射偏光器的一區域中的各部位具有至少500的一對比率，該對比率係該最大平均透射率除以該最小平均透射率。
  17. 一種彎曲反射偏光器，其包含沿正交的第一方向與第二方向塑形的複數個聚合層，使得該反射偏光器的一總曲率係至少0.25，該總曲率係整個該反射偏光器之一總面積的該反射偏光器之一高斯曲率的一表面積分，其中對於具有一預定波長的法向入射光，該反射偏光器上的一總面積之至少80%上的各部位針對一阻斷偏振狀態具有大於約80%的一最大反射率及小於約0.2%的一對應最小透射率，且針對一正交通過偏振狀態具有大於約80%的一最大透射率。
  18. 一種用於處理光學膜的設備，該設備包含：第一輥與第二輥，其等沿一第一方向間隔開並設置在各別的第一載台與第二載台上，該第一載台與該第二載台經組態以沿該第一方向移動該第一輥與該第二輥，該第一輥與該第二輥沿正交於該第一方向的一第二方向具有各別的第一寬度與第二寬度；第一緊固構件與第二緊固構件，其等用於緊固該光學膜的相對之第一端部與第二端部，該第一輥與該第二輥設置在該第一緊固構件與該第二緊固構件之間，該設備經組態以使得當該光學膜的該第一端部與該第二端部緊固在該第一緊固構件與該第二緊固構件中時，該光學膜與該第一輥及該第二輥接觸；一模具，其具有一彎曲模具表面且設置在一模具載台上，該模具載台經組態以沿一第三方向移動該模具，該第三方向正交於該第一方向與該第二方向；一用於加熱該光學膜的構件；一張力測量構件，其用於測量該光學膜中的一張力；一控制器，其通訊地耦接至該張力測量構件、該第一載台與該 第二載台、該第一緊固構件與該第二緊固構件、以及該模具載台，該控制器經組態以同時沿該第三方向移動該模具且沿該第一方向移動該第一輥與該第二輥，同時控制該光學膜中的該張力。
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