TW201930503A - 偏光板以及包含其的光學顯示器 - Google Patents
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Abstract
一種偏光板以及一種包含其的光學顯示器。所述偏光板是由顯示區及環繞顯示區的非顯示區構成,且包括:偏光器;以及依序堆疊在所述偏光器的上表面上的結合層及第一偏光器保護膜,其中所述結合層包括嵌入其中的光屏蔽層以構成非顯示區的至少一部分,且所述光屏蔽層形成於第一偏光器保護膜的至少一個表面上且包含紫外線吸收劑。
Description
本申請案主張於2017年12月28日在韓國智慧財產局提出申請的韓國專利申請案第10-2017-0183239號的權利,所述韓國專利申請案的全部揭露內容併入本案供參考。
本發明是有關於一種偏光板以及一種包含其的光學顯示器。
光學顯示器是由顯示區及非顯示區構成。顯示區透射光,且顯示將藉由螢幕觀察到的影像。非顯示區沿顯示區的周邊設置以環繞顯示區。非顯示區設置有印刷電路板、驅動晶片等以免被光學顯示器的使用者見到。非顯示區可包括光屏蔽層等。
近年來,已開發出藉由在偏光器與保護膜之間(即,在結合層中)形成光屏蔽層來達成光學顯示器的纖薄度的技術。由光可固化結合劑形成的結合層容許在較由水系黏合劑形成的結合層短的時間段內達成固化,藉此使對偏光器及保護膜的影響最小化。然而,在經由光可固化結合劑藉由紫外線(ultraviolet,UV)照射將具有由熱固性組成物形成的光屏蔽層的偏光器保護膜結合至偏光器時,可以看到光屏蔽層可能遭遇裂縫或變黃。
在韓國專利公開案第2015-0015243號等中揭露了本發明的背景技術。
本發明的一個目的是提供一種可防止在使用紫外線可固化結合劑藉由紫外線照射將上面形成有光屏蔽層的偏光器保護膜結合至偏光器時光屏蔽層產生裂縫的偏光板。
本發明的另一目的是提供一種包括上面形成有光屏蔽層的偏光器保護膜以及偏光器且即使在紫外線照射達長的時間後亦可使光屏蔽層的顏色值的變化最小化的偏光板。
本發明的再一目的是提供一種包括上面形成有光屏蔽層的偏光器保護膜以及偏光板且即使在紫外線照射達長的時間後亦可使光屏蔽層的光屏蔽性質的變化最小化的偏光板。
本發明的又一目的是提供一種光屏蔽層具有良好的光屏蔽效果及高固化程度藉此確保在硬度、耐衝擊性及耐刮擦性方面具有良好性質的偏光板。
本發明的又一目的是提供一種包含上述偏光板的光學顯示器。
根據本發明的一個態樣,一種偏光板由顯示區及環繞所述顯示區的非顯示區構成,且包括:偏光器;以及依序堆疊在所述偏光器的上表面上的結合層及第一偏光器保護膜,其中所述結合層包括嵌入其中的光屏蔽層以構成所述非顯示區的至少一部分,且所述光屏蔽層形成於所述第一偏光器保護膜的至少一個表面上並包含紫外線吸收劑。
在一個實施例中,結合層可由紫外線可固化結合劑形成。
在一個實施例中,光屏蔽層可由光屏蔽層用熱固性組成物形成。
在一個實施例中,紫外線吸收劑可存在於光屏蔽層內或光屏蔽層的至少一個表面上。
在一個實施例中,光屏蔽層中可存在0.05重量%至5重量%的量的紫外線吸收劑。
在一個實施例中,紫外線吸收劑可具有380奈米至420奈米的最大吸收波長。
在一個實施例中,紫外線吸收劑可包括二苯甲酮系紫外線吸收劑、三嗪系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、草醯替苯胺系紫外線吸收劑、水楊酸苯酯系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、肉桂酸酯系紫外線吸收劑、吲哚系紫外線吸收劑、偶氮系紫外線吸收劑及萘二醯亞胺系紫外線吸收劑中的至少一者。
在一個實施例中,紫外線吸收劑可包括二苯甲酮系紫外線吸收劑及三嗪系紫外線吸收劑中的至少一者。
在一個實施例中,二苯甲酮系紫外線吸收劑可包含由式1表示的化合物:
[式1]
其中R1 是C1 至C4 烷基;R2 及R3 分別獨立地為羥基、C1 至C8 烷氧基或鹵素;n及m分別獨立地為0至5的整數;且n + m為5或小於5的整數。
[式1]
其中R1 是C1 至C4 烷基;R2 及R3 分別獨立地為羥基、C1 至C8 烷氧基或鹵素;n及m分別獨立地為0至5的整數;且n + m為5或小於5的整數。
在一個實施例中,三嗪系紫外線吸收劑可包括羥基苯基三嗪紫外線吸收劑。
在一個實施例中,光屏蔽層可更包含紫外線穩定劑。
在一個實施例中,光屏蔽層中可存在0.05重量%至3重量%的量的紫外線穩定劑。
在一個實施例中,紫外線穩定劑可包括受阻胺系紫外線穩定劑及金屬錯合鹽系紫外線穩定劑中的至少一者。
在一個實施例中,光屏蔽層用熱固性組成物可包含顏料、黏結劑樹脂及熱固化起始劑。
在一個實施例中,顏料可包括碳黑及銀-錫合金中的至少一者。
在一個實施例中,黏結劑樹脂可包括丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂及聚胺基甲酸酯樹脂中的至少一者。
在一個實施例中,光屏蔽層用熱固性組成物可更包含熱固性不飽和化合物。
在一個實施例中,光屏蔽層用熱固性組成物可更包含紫外線吸收劑。
在一個實施例中,光屏蔽層可具有5微米或小於5微米的厚度。
在一個實施例中,偏光板可更包括位於偏光器的下表面上的第二偏光器保護膜。
在一個實施例中,在由方程式1計算時,偏光板可具有50%或小於50%的a*變化率:
[方程式1]
a*變化率 = |(a*)500h - (a*)0h|/|(a*)0h| × 100%,
其中(a*)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的a*值,且(a*)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的a*值。
[方程式1]
a*變化率 = |(a*)500h - (a*)0h|/|(a*)0h| × 100%,
其中(a*)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的a*值,且(a*)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的a*值。
在一個實施例中,在由方程式2計算時,偏光板可具有200%或小於200%的b*變化率:
[方程式2]
b*變化率 = |(b*)500h - (b*)0h|/|(b*)0h|× 100%,
其中(b*)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的b*值,且(b*)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的b*值。
[方程式2]
b*變化率 = |(b*)500h - (b*)0h|/|(b*)0h|× 100%,
其中(b*)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的b*值,且(b*)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的b*值。
在一個實施例中,在由方程式3計算時,偏光板可具有20%或小於20%的OD變化率:
[方程式3]
OD變化率 = |(OD)500h - (OD)0h|/(OD)0h × 100%,
其中(OD)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的OD值,且(OD)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的OD值。
[方程式3]
OD變化率 = |(OD)500h - (OD)0h|/(OD)0h × 100%,
其中(OD)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的OD值,且(OD)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的OD值。
根據本發明的一個態樣,一種光學顯示器包含根據本發明的偏光板。
將參照附圖來詳細闡述本發明的實施例,以使熟習此項技術者透徹地理解本發明。應理解,本發明可以諸多不同方式來實施,而並非僅限於以下實施例。在圖式中,為清晰起見將省略與本說明無關的部分。在說明書通篇中,相同組件將由相同參考編號來標示。
在本文中,例如「上部」及「下部」等空間相對性用語是參照附圖來定義。因此,應理解,用語「上表面」可與用語「下表面」互換使用,且當稱例如層或膜等元件放置於另一元件「上」時,所述元件可直接放置於所述另一元件上,或者可存在中間元件。另一方面,當稱元件「直接」放置於另一元件「上」時,則其間不存在中間元件。
根據本發明的偏光板是由顯示區及環繞顯示區的非顯示區構成。偏光板包括:偏光器;以及依序堆疊在偏光器的一個表面上的結合層及第一偏光器保護膜。結合層可包括嵌入其中的光屏蔽層以構成非顯示區的至少一部分。在根據本發明的偏光板中,光屏蔽層嵌入結合層中,藉此能夠達成光學顯示器的厚度減小。
光屏蔽層可形成於第一偏光器保護膜的至少一個表面上,且可包含紫外線吸收劑。結合層可由紫外線可固化結合劑形成。紫外線吸收劑即使在形成光屏蔽層時對光屏蔽層用熱固性組成物進行熱固化後亦可保留下來。紫外線吸收劑可藉由在經由紫外線可固化結合劑藉由紫外線照射將偏光器結合至具有光屏蔽層的第一偏光器保護膜時吸收到達光屏蔽層的紫外光,來防止由於紫外線照射而在光屏蔽層中產生裂縫。另外,紫外線吸收劑即使在紫外線照射達長的時間之後亦可使光屏蔽層的顏色變化或光屏蔽效果的變化最小化。
以下,將參照圖1及圖2來闡述根據本發明一個實施例的偏光板。圖1是根據本發明一個實施例的偏光板的立體圖,且圖2是根據本發明實施例的偏光板的剖視圖。
參照圖1及圖2,根據本發明一個實施例的偏光板10、10’可包括:偏光器100;經由結合層310堆疊在偏光器100的上表面上的第一偏光器保護膜200;以及堆疊在偏光器100的下表面上的第二偏光器保護膜400。在結合層310內或在其一個表面上形成有光屏蔽層320。
儘管圖1及圖2中未示出,偏光板可更包括形成於第二偏光器保護膜400的下表面上的黏合層。儘管圖1及圖2中未示出,可在第一偏光器保護膜200的上表面上進一步形成功能層。功能層可為偏光板提供額外的功能,且提供防指紋功能、低反射功能、防眩功能、防污染功能、防反射功能、擴散功能及折射功能中的至少一者。
偏光板10可為位於光學顯示器的顯示面板上的觀察者側的偏光板。因此,結合層310及第一偏光器保護膜200依序形成於偏光器100的光出射表面上。
參照圖2,偏光板10’是由顯示區S1及非顯示區S2構成,非顯示區S2環繞顯示區S1的周邊並對應於光屏蔽層320,如圖1所示。顯示區S1是透光區,且非顯示區S2是不透光區。
光屏蔽層320形成於第一偏光器保護膜200的一個表面上以設置在結合層310內或其一個表面上。光屏蔽層320直接鄰接結合層310。
如圖1及圖2所示,光屏蔽層320被形成為環繞結合層310的周邊。當根據本發明的偏光板安裝在光學顯示器上時,光屏蔽層320構成非顯示區的至少一部分。
光屏蔽層320形成於偏光器100的光出射表面上。因此,可在偏光板的其中不形成光屏蔽層320的區域中達成顯示功能。作為另一選擇,光屏蔽層320可形成於偏光器100的光入射表面上。
光屏蔽層320的厚度H可小於或相同於結合層310的厚度。圖1示出其中光屏蔽層320具有與結合層310相同的厚度的結構。圖2示出其中光屏蔽層320具有較結合層310小的厚度的結構。光屏蔽層320的厚度可為結合層310的厚度的30%至100%,較佳為其厚度的50%至100%。在此厚度範圍內,光屏蔽層320可包含在結合層中,且能夠達成偏光板的厚度減小。舉例而言,光屏蔽層320可具有5微米或小於5微米、0.1微米至5微米或1微米至4微米的厚度。在此厚度範圍內,光屏蔽層320可包含在結合層中,藉此在能夠達成偏光板的厚度減小的同時確保光屏蔽效果。
光屏蔽層320可包含紫外線吸收劑。光屏蔽層320可由光屏蔽層用熱固性組成物形成。如下詳細闡述,結合層310可為由紫外線可固化結合劑形成的光可固化結合層。因此,包含紫外線吸收劑的光屏蔽層可防止在經由紫外線可固化結合劑藉由紫外線照射將偏光器結合至上面形成有光屏蔽層的第一偏光器保護膜時由於紫外線照射而在光屏蔽層中產生裂縫,且即使在紫外線照射達長的時間之後亦可確保光屏蔽層的顏色值(例如:a*或b*)及光屏蔽效果(例如:光學密度(optical density,OD))方面的可靠性。
在一個實施例中,偏光板可具有由方程式1計算的為50%或小於50%、例如30%或小於30%的a*變化率以及由方程式1計算的為200%或小於200%、例如120%或小於120%的b*變化率。在這些範圍內,偏光板即使在紫外線照射達長的時間後亦可藉由使顏色值的變化最小化來確保可靠性。
[方程式1]
a*變化率 = |(a*)500h - (a*)0h|/|(a*)0h| × 100%,
其中(a*)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的a*值,且(a*)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的a*值。
a*變化率 = |(a*)500h - (a*)0h|/|(a*)0h| × 100%,
其中(a*)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的a*值,且(a*)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的a*值。
[方程式2]
b*變化率 = |(b*)500h - (b*)0h|/|(b*)0h|× 100%,
其中(b*)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的b*值,且(b*)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的b*值。
b*變化率 = |(b*)500h - (b*)0h|/|(b*)0h|× 100%,
其中(b*)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的b*值,且(b*)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的b*值。
在方程式1中,(a*)500h可為0.1或大於0.1、例如0.2至1.5。在方程式2中,(b*)500h可為-0.4或大於-0.4、例如-0.3至1.5或-0.2至1.5。在這些範圍內,即使在紫外線照射達長的時間後偏光板亦可被使用。
在另一實施例中,在由方程式3計算時,偏光板可具有20%或小於20%、例如10%或小於10%的OD變化率。在這些範圍內,偏光板即使在紫外線照射達長的時間後亦可藉由使顏色值的變化最小化來確保可靠性。
[方程式3]
OD變化率 = |(OD)500h - (OD)0h|/(OD)0h × 100%,
其中(OD)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的OD值,且(OD)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的OD值。
OD變化率 = |(OD)500h - (OD)0h|/(OD)0h × 100%,
其中(OD)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的OD值,且(OD)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的OD值。
在方程式3中,(OD)500h可為2或大於2、例如2至5或3至5。在這些範圍內,即使在紫外線照射達長的時間後偏光板亦可被使用。
紫外線吸收劑可包括最大吸收波長為380奈米至420奈米的紫外線吸收劑。在此最大吸收波長範圍內,紫外線吸收劑即使在進行紫外線照射來固化結合劑時亦可防止在光屏蔽層中產生裂縫,且即使在紫外線照射達長的時間之後亦可確保光屏蔽層的顏色值及光屏蔽效果方面的可靠性。本文中,「最大吸收波長」是在5毫克/升(5重量%)的作為溶劑的甲乙酮中在紫外線吸收劑上量測的值。
紫外線吸收劑可選自最大吸收波長處於此範圍內的任何紫外線吸收劑。舉例而言,紫外線吸收劑可包括選自由以下組成的群組中的至少一者:包括羥基二苯甲酮紫外線吸收劑的二苯甲酮吸收劑、三嗪系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、草醯替苯胺系紫外線吸收劑、水楊酸苯酯系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、肉桂酸酯系紫外線吸收劑、吲哚系紫外線吸收劑、偶氮系紫外線吸收劑及萘二醯亞胺系紫外線吸收劑。舉例而言,紫外線吸收劑可包括吲哚系紫外線吸收劑、偶氮系紫外線吸收劑、萘二醯亞胺系紫外線吸收劑、三嗪系紫外線吸收劑及二苯甲酮系紫外線吸收劑中的至少一者。舉例而言,紫外線吸收劑可包括三嗪系紫外線吸收劑及二苯甲酮系紫外線吸收劑中的至少一者。
在一個實施例中,二苯甲酮系紫外線吸收劑可包括由式1表示的化合物。
[式1]
其中R1 是C1 至C4 烷基;R2 及R3 分別獨立地為羥基、C1 至C8 烷氧基或鹵素;n及m分別獨立地為0至5的整數;且n + m為5或小於5的整數。
其中R1 是C1 至C4 烷基;R2 及R3 分別獨立地為羥基、C1 至C8 烷氧基或鹵素;n及m分別獨立地為0至5的整數;且n + m為5或小於5的整數。
二苯甲酮紫外線吸收劑可為市售產品,例如洛維利特烏(LOWILITW)紫外線吸收劑系列(例如:洛維利特(LOWILITE)20)。
在一個實施例中,三嗪紫外線吸收劑可包括由式2表示的化合物。
[式2]
其中R1 、R2 及R3 分別獨立地為氫或者經取代或未經取代的苯基。在式2中,苯基的至少一個氫原子可經以下者取代:羥基;C1 至C15 烷基;C1 至C15 烷氧羰基;未經取代的C1 至C15 烷氧基;具有C1 至C15 烷氧羰基、鹵素、羥基或C1 至C15 烷基的C1 至C15 烷氧基;C2 至C24 烯基;C6 至C24 芳基;C5 至C24 環烷基;或C7 至C24 芳烷基。本文中,「C1 至C15 烷氧羰基」可意指*-C(=O)O-R(*是連接位點,且R是C1 至C15 烷基)。
其中R1 、R2 及R3 分別獨立地為氫或者經取代或未經取代的苯基。在式2中,苯基的至少一個氫原子可經以下者取代:羥基;C1 至C15 烷基;C1 至C15 烷氧羰基;未經取代的C1 至C15 烷氧基;具有C1 至C15 烷氧羰基、鹵素、羥基或C1 至C15 烷基的C1 至C15 烷氧基;C2 至C24 烯基;C6 至C24 芳基;C5 至C24 環烷基;或C7 至C24 芳烷基。本文中,「C1 至C15 烷氧羰基」可意指*-C(=O)O-R(*是連接位點,且R是C1 至C15 烷基)。
在一個實施例中,三嗪紫外線吸收劑可為羥基苯基三嗪。三嗪紫外線吸收劑可為市售產品,例如廷納芬(Tinuvin)紫外線吸收劑系列(例如:廷納芬477)。
在一個實施例中,苯并三唑紫外線吸收劑可包括由式3表示的化合物。
[式3]
其中R1 是氫或鹵素;
R2 是C1 至C5 烷基、C2 至C10 烯基或C3 至C10 環烷基,C1 至C5 烷基、C2 至C10 烯基及C3 至C10 環烷基中的每一者能夠經C1 至C5 烷基、C2 至C10 烯基、鹵素、C6 至C10 芳基或C3 至C10 雜芳基取代;且
R3 是C1 至C5 烷基或C1 至C5 烷氧基,C1 至C5 烷基及C1 至C5 烷氧基中的每一者能夠經C1 至C5 烷基、C2 至C10 烯基、鹵素、C6 至C10 芳基或C3 至C10 雜芳基取代。
其中R1 是氫或鹵素;
R2 是C1 至C5 烷基、C2 至C10 烯基或C3 至C10 環烷基,C1 至C5 烷基、C2 至C10 烯基及C3 至C10 環烷基中的每一者能夠經C1 至C5 烷基、C2 至C10 烯基、鹵素、C6 至C10 芳基或C3 至C10 雜芳基取代;且
R3 是C1 至C5 烷基或C1 至C5 烷氧基,C1 至C5 烷基及C1 至C5 烷氧基中的每一者能夠經C1 至C5 烷基、C2 至C10 烯基、鹵素、C6 至C10 芳基或C3 至C10 雜芳基取代。
在一個實施例中,吲哚系紫外線吸收劑可包括由式4表示的化合物。
[式4]
其中R1 為氫或者經取代或未經取代的C1 至C10 烷基;
R2 為氫或者經取代或未經取代的C6 至C20 芳基;
R3 為氫或者經取代或未經取代的C1 至C10 烷基;
R4 為氫、氰基(CN)或者經取代或未經取代的C1 至C10 烷基;且
R5 為氰基或-(C=O)O-R6 (R6 為經取代或未經取代的C1 至C10 烷基或者經取代或未經取代的C6 至C20 芳基)。本文中,除非另外具體闡明,否則用語「經取代的」意指官能基的至少一個氫原子經C1 至C5 烷基、C2 至C10 烯基、鹵素、C6 至C10 芳基或C3 至C10 雜芳基取代。
其中R1 為氫或者經取代或未經取代的C1 至C10 烷基;
R2 為氫或者經取代或未經取代的C6 至C20 芳基;
R3 為氫或者經取代或未經取代的C1 至C10 烷基;
R4 為氫、氰基(CN)或者經取代或未經取代的C1 至C10 烷基;且
R5 為氰基或-(C=O)O-R6 (R6 為經取代或未經取代的C1 至C10 烷基或者經取代或未經取代的C6 至C20 芳基)。本文中,除非另外具體闡明,否則用語「經取代的」意指官能基的至少一個氫原子經C1 至C5 烷基、C2 至C10 烯基、鹵素、C6 至C10 芳基或C3 至C10 雜芳基取代。
具體而言,R1
為C1
至C5
烷基、具體而言為甲基;R2
為C6
至C10
芳基、具體而言為苯基;R3
為氫或C1
至C5
烷基、具體而言為氫;R4
為氰基;且R5
為氰基或-(C=O)-O-R6
(R6
為經取代或未經取代的C1
至C5
烷基)。更具體而言,由式4表示的化合物可包括由式4-1表示的化合物或由式4-2表示的化合物。
[式4-1]
[式4-2]
在一個實施例中,偶氮系紫外線吸收劑可包括由式5表示的化合物。
[式5]
其中R6 至R15 分別獨立地為氫、經取代或未經取代的C1 至C10 烷基、經取代或未經取代的C6 至C20 芳基、經取代或未經取代的C3 至C10 環烷基、經取代或未經取代的C7 至C20 芳烷基、經取代或未經取代的C2 至C10 雜芳基、鹵素、-OH、胺基(-NH2 )或-SH(R6 至R15 中的至少一者為胺基(-NH2 ))。
其中R6 至R15 分別獨立地為氫、經取代或未經取代的C1 至C10 烷基、經取代或未經取代的C6 至C20 芳基、經取代或未經取代的C3 至C10 環烷基、經取代或未經取代的C7 至C20 芳烷基、經取代或未經取代的C2 至C10 雜芳基、鹵素、-OH、胺基(-NH2 )或-SH(R6 至R15 中的至少一者為胺基(-NH2 ))。
舉例而言,R8
為胺基,且R6
、R7
、R9
、R10
、R11
、R12
、R13
、R14
及R15
分別獨立地為氫。偶氮系紫外線吸收劑可為市售產品,例如DD-7(旭誠化學有限公司(Wookseung Chemistry Co. Ltd.))。
在一個實施例中,萘醯亞胺系紫外線吸收劑可包括由式6表示的化合物。
[式6]
其中R17 及R18 分別獨立地為氫、經取代或未經取代的C1 至C10 烷基、經取代或未經取代的C6 至C20 芳基、經取代或未經取代的C3 至C10 環烷基、經取代或未經取代的C7 至C20 芳烷基、經取代或未經取代的C2 至C10 雜芳基、鹵素、-OH、胺基或-SH。萘醯亞胺系紫外線吸收劑可為市售產品,例如S-黃500級(S-Yellow 500 grade)(旭誠化學有限公司)。
其中R17 及R18 分別獨立地為氫、經取代或未經取代的C1 至C10 烷基、經取代或未經取代的C6 至C20 芳基、經取代或未經取代的C3 至C10 環烷基、經取代或未經取代的C7 至C20 芳烷基、經取代或未經取代的C2 至C10 雜芳基、鹵素、-OH、胺基或-SH。萘醯亞胺系紫外線吸收劑可為市售產品,例如S-黃500級(S-Yellow 500 grade)(旭誠化學有限公司)。
光屏蔽層中可存在0.05重量%至5重量%的量的紫外線吸收劑。在此範圍內,紫外線吸收劑可抑制在光屏蔽層中產生裂縫,而不會不利地影響光屏蔽層的光屏蔽效果。舉例而言,可添加0.05重量%至3重量%的量的紫外線吸收劑。
光屏蔽層可更包含紫外線穩定劑。即使具有少量的紫外線穩定劑,亦可提升紫外線吸收劑抑制在紫外線照射時在光屏蔽層中產生裂縫的功能。紫外線穩定劑可包括受阻胺(受阻胺光穩定劑(hindered amine light stabilizer,HLAS))系紫外線穩定劑及金屬錯合鹽系紫外線穩定劑中的至少一者,但並非僅限於此。
光屏蔽層中可存在0.05重量%至3重量%、例如0.05重量%至2重量%的量的紫外線穩定劑。在此範圍內,光屏蔽層用組成物可改善抑制在紫外線照射時在光屏蔽層中產生裂縫的效果,而不會不利地影響光屏蔽效果。
紫外線吸收劑及紫外線穩定劑中的每一者可存在於光屏蔽層320內或光屏蔽層320的至少一個表面上。舉例而言,紫外線吸收劑及紫外線穩定劑中的每一者可存在於光屏蔽層320的至少一個表面上。
在一個實施例中,紫外線吸收劑及紫外線穩定劑可包含於光屏蔽層用熱固性組成物中。在另一實施例中,可在光屏蔽層的至少一個表面上形成包含紫外線吸收劑及紫外線穩定劑的塗層。
光屏蔽層用組成物是熱固性組成物,且可包含顏料、黏結劑樹脂、熱固化起始劑及紫外線吸收劑。光屏蔽層是由光屏蔽層用組成物形成,藉此達成更薄的結構。光屏蔽層用組成物可更包含溶劑。光屏蔽層用組成物可更包含熱固性不飽和化合物。光屏蔽層用組成物可更包含紫外線穩定劑。
顏料可包括碳黑、銀-錫合金的混合顏料或其組合。碳黑的實例可包括石墨、爐黑、乙炔黑及科琴黑(Ketjen black),但並非僅限於此。顏料可以顏料分散體的形式存在,但並非僅限於此。
黏結劑樹脂可包括丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂或其組合。丙烯酸樹脂可包括甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/甲基丙烯酸2-羥乙酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羥乙酯共聚物等。聚胺基甲酸酯樹脂可為脂族聚胺基甲酸酯樹脂。丙烯酸樹脂可為壓敏黏合劑樹脂。然而,應理解本發明並非僅限於此。
熱固性不飽和化合物是具有較黏結劑樹脂低的重量平均分子量的化合物。熱固性不飽和化合物的實例可包括乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單甲醚(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯及三(甲基)丙烯醯氧基乙基磷酸酯,但並非僅限於此。
熱固化起始劑可包括選自由以下組成的群組中的至少一者:舉例而言,醯肼化合物,例如1,3-雙(肼基甲醯乙基-5-異丙基乙內醯脲);咪唑衍生物,例如1-氰基乙基-2-苯基咪唑、N-[2-(2-甲基-1-咪唑基)乙基]脲、2,4-二胺基-6-[2'-甲基咪唑基-(1')]-乙基-s-三嗪、N,N'-雙(2-甲基-1-咪唑基乙基)脲、N,N'-(2-甲基-1-咪唑基乙基)-己二醯胺、2-苯基-4-甲基-5-羥甲基咪唑及2-苯基-4,5-二羥甲基咪唑;酸酐,例如四氫鄰苯二甲酸、乙二醇-雙(無水偏苯三酸酯);三聚氰胺化合物;胍類化合物;雙氰胺;以及改質的脂族多胺。
溶劑可包括二醇醚,例如乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、丙二醇甲醚等;溶纖劑乙酸酯,例如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙基溶纖劑乙酸酯等;卡必醇,例如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚等;以及丙二醇烷基醚乙酸酯,例如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等,但並非僅限於此。
在一個實施例中,光屏蔽層用組成物可包含1重量%至50重量%的顏料(或顏料分散體)、0.5重量%至20重量%的黏結劑樹脂、0.1重量%至10重量的熱固化起始劑、0.05重量%至5重量%的紫外線吸收劑及餘量的溶劑。在此範圍內,所述組成物可確保形成在提供良好的光屏蔽效果的同時具有薄的厚度的光屏蔽層。
在另一實施例中,光屏蔽層用組成物可包含1重量%至50重量%的顏料(或顏料分散體)、0.5重量%至20重量%的黏結劑樹脂、1重量%至20重量%的反應性不飽和化合物、0.1重量%至10重量%的熱固化起始劑、0.05重量%至5重量%的紫外線吸收劑及餘量的溶劑。在此範圍內,所述組成物可確保形成在提供良好的光屏蔽效果的同時具有薄的厚度的光屏蔽層320。
光屏蔽層用組成物可更包含0.1重量%至1重量%的其他添加劑。所述其他添加劑可包括矽烷偶合劑,以提高光屏蔽層320與偏光器保護膜之間的結合強度。
光屏蔽層可藉由對光屏蔽層用組成物進行熱固化而形成。藉由典型方法來執行光屏蔽層用組成物的沈積。舉例而言,可藉由凹版塗佈、旋塗等來沈積光屏蔽層用組成物,但並非僅限於此。熱固化可在例如70℃至110℃下執行0.5分鐘至5分鐘。
光屏蔽層320可具有印刷圖案。
將參照圖3及圖4詳細地闡述光屏蔽層320的印刷圖案。圖3是在圖2所示偏光板的顯示區S1與非顯示區S2之間的界面處的光屏蔽層的印刷圖案的放大圖。圖4是在圖2所示偏光板的顯示區S1與非顯示區S2之間的界面處的光屏蔽層的印刷圖案的剖視圖。
參照圖3及圖4,光屏蔽層320可包括由多個印刷圖案323構成的印刷區。光屏蔽層320的除印刷區之外的剩餘區324是非印刷區。印刷圖案323為彼此分離的。印刷圖案323包括:第一印刷層321;及形成於第一印刷層321上的第二印刷層322。第二印刷層322可直接形成於第一印刷層321上。第二印刷層322可具有與第一印刷層321不同的圖案形狀。舉例而言,第二印刷層322可具有較第一印刷層321小的面積。當一個第一印刷層鄰接顯示區與非顯示區之間的界面的點是由點a指示且第二印刷層的最靠近顯示區與非顯示區之間的界面的點是由點a’指示時,點a與點a’之間的最短距離ΔL可為200微米或小於200微米、例如0.1微米至200微米或10微米至200微米。在ΔL的此範圍內,光屏蔽層可確保光屏蔽效果,且顯示區與非顯示區之間的均勻性可得到提高,以在操作光學顯示器時抑制或降低對畫素中的RGB的可見性的同時減小顯示區與非顯示區之間的可見性差異。特別是,根據本發明,兩個印刷圖案被堆疊成雙層結構同時調整光屏蔽層中的最短距離ΔL,如圖3及圖4所示,藉此在藉由提高顯示區與非顯示區之間的均勻性以減小顯示區與非顯示區之間的可見性差異來防止畫素中的RGB可見的同時確保光屏蔽效果。本文中所使用的用語「顯示區與非顯示區之間的界面」是指對在非顯示區中形成的最靠近顯示區的第一印刷層的點進行連接的(假想)線。
在一個實施例中,第一印刷層321的最大主軸321L與第二印刷層322的最大主軸322L之間的長度差可為200微米或小於200微米、例如0.1微米至200微米或10微米至200微米。在此範圍內,光屏蔽層可確保光屏蔽效果,且顯示區與非顯示區之間的均勻性可得到提高,以在防止畫素中的RGB可見的同時減小顯示區與非顯示區之間的可見性差異。特別是,根據本發明,具有相同主軸長度的兩個印刷圖案在光屏蔽層中堆疊成雙層結構,同時調整光屏蔽層中的印刷圖案之間的長度差,如圖3及圖4所示,藉此在提高顯示區與非顯示區之間的均勻性以減小顯示區與非顯示區之間的可見性差異的同時確保光屏蔽效果,同時防止在操作光學顯示器時畫素中的RGB可見。第一印刷層321的最大主軸321L可具有50微米至600微米、例如100微米至500微米的長度,且第二印刷層322的最大主軸322L可具有50微米至500微米、較佳地50微米至350微米的長度。
另外,由於第一印刷層321具有與第二印刷層322不同的形狀,因此印刷圖案323可藉由印刷第一印刷層321、然後在其上印刷第二印刷層322而形成。儘管第一印刷層及第二印刷層可使用單一模具同時形成,然而存在模具處理困難及圖案形狀不清晰的問題。儘管期望印刷圖案彼此平行,然而當在第一印刷層321上形成第二印刷層322時,無法避免地會形成圓形表面。根據本發明,第一印刷層321的最大主軸321L與第二印刷層322的最大主軸322L之間的長度差以及最短距離ΔL被設定為200微米或小於200微米、例如0.1微米至200微米或10微米至200微米,以提高顯示區與非顯示區之間的均勻性從而即使當在第一印刷層321與第二印刷層322之間形成圓形表面時亦會在防止畫素中的RGB可見的同時減小顯示區與非顯示區之間的可見性差異。
參照圖3,第一印刷層321可具有六邊形形狀,且第二印刷層322可具有菱形形狀。然而,應理解本發明並非僅限於此。舉例而言,第一印刷層可具有n邊形形狀(n為3至10的整數)(例如六邊形形狀)、圓形狀、橢圓形狀、非晶形狀等,且第二印刷層可具有n邊形形狀(n為3至10的整數)(例如六邊形形狀)、圓形狀、橢圓形狀、非晶形狀等。
構成第一印刷層321的邊可具有相同的長度或不同的長度,且可具有10微米至400微米、例如50微米至300微米的長度。構成第二印刷層322的邊可具有相同的長度或不同的長度,且可具有10微米至400微米、例如50微米至300微米的長度。
在一個實施例中,構成第一印刷層321的一個邊的長度可相同於或不同於構成第二印刷層322的一個邊的長度。舉例而言,構成第一印刷層321的一個邊的長度可相同於構成第二印刷層322的一個邊的長度。
在一個實施例中,第一印刷層321可具有正六邊形形狀並可排列成蜂巢形狀,且第二印刷層322可具有菱形或正方形形狀。
第二印刷層322可具有較第一印刷層321小的面積。藉由此結構,第二印刷層322可形成於第一印刷層321上。舉例而言,第一印刷層321的面積對第二印刷層322的面積的比率大於1,例如大於100%至3,000%。在此範圍內,顯示區與非顯示區之間的均勻性可得到提高,藉此在防止畫素中的RGB可見的同時減小顯示區與非顯示區之間的可見性差異。
在一個實施例中,第一印刷層321與第二印刷層322之間的相交點的數目可為至少兩個,例如三或更多個。本文所使用的用語「相交點」可指第一印刷層321的周邊與第二印刷層3222的周邊相交的點,如圖3所示。當相交點的數目落在此範圍內時,光屏蔽層可確保顯示區與非顯示區之間的高均勻性,藉此在防止畫素中的R、G、B可見的同時減小顯示區與非顯示區之間的可見性差異。
參照圖3,一個第一印刷層321鄰接顯示區S1與非顯示區S2之間的界面的點是由點a指示,且與所述一個第一印刷層321鄰近的另一第一印刷層321鄰接顯示區S1與非顯示區S2之間的界面的點是由點b指示。所述一個第一印刷層321的最靠近點a的頂點或拐點是由點c指示,所述另一第一印刷層321的最靠近點b的頂點或拐點是由點d指示,且自顯示區S1與非顯示區S2之間的界面至點c的距離及自顯示區S1與非顯示區S2之間的界面至點d的距離中的最小值是由H指示。此處,H可為200微米或小於200微米、例如0.1微米至200微米或5微米至200微米。在H的此範圍內,光屏蔽層可確保光屏蔽效果,且顯示區與非顯示區之間的均勻性可得到提高,以在操作光學顯示器時防止畫素中的RGB可見的同時減小顯示區與非顯示區之間的可見性差異。
在一個實施例中,印刷圖案可滿足關係4:
[關係4]
0.1 × W ≤ H ≤ 0.5 × W。
[關係4]
0.1 × W ≤ H ≤ 0.5 × W。
關係4被設定成確保顯示區與非顯示區之間的界面處的均勻性,以確保直接鄰接顯示區與非顯示區之間的界面的第一印刷層的均勻性。W可介於10微米至500微米、例如10微米至490微米範圍內。舉例而言,W可大於H(W > H)。
在一個實施例中,第一印刷層可具有正六邊形形狀並可排列成蜂巢形狀,且第二印刷層可具有菱形、正方形或正六邊形形狀。
印刷圖案323為彼此分離的。印刷圖案323之間的分離距離T可介於1微米至50微米、例如5微米至30微米範圍內。在此範圍內,光屏蔽層320可提供光屏蔽效果而不會不利地影響均勻性。
光屏蔽層320可具有位於偏光器100與第一偏光器保護膜200之間的部分開放的空間。亦即,光屏蔽層320可具有閉環形狀,且可包括部分空的內部空間。因此,光屏蔽層320的「內部空間」可被界定為位於光屏蔽層320內的空的空間,其構成封閉的多邊形形狀。光屏蔽層320可在水平剖視圖中設置於偏光器100及第一偏光器保護膜200中的每一者的一部分外周邊或整個外周邊上。然而,應理解本發明並非僅限於此。
參照圖3及圖4,第一印刷層321及第二印刷層322可具有小於5微米、例如0.1微米至小於5微米的厚度,且可具有相同的厚度或不同的厚度。在此厚度範圍內,第一印刷層及第二印刷層可併入結合層中,確保光屏蔽效果,且達成偏光板的厚度減小。
圖3及圖4示出包括第一印刷層及第二印刷層的印刷圖案的雙層結構。然而,應理解本發明並非僅限於此,且印刷圖案可具有單層結構或者由二或更多個層構成的多層結構。
圖3及圖4示出其中第一印刷層直接形成於第一偏光器保護膜上的結構。在其他實施例中,偏光板可更包括位於第一印刷層的下表面上(即位於第一偏光器保護膜與第一印刷層之間)的另一印刷層。
結合層310夾置於偏光器100與第一偏光器保護膜200之間以將偏光器100結合至第一偏光器保護膜200。結合層310直接形成於偏光器100及第一偏光器保護膜200中的每一者上。
結合層310可形成於偏光器100及第一偏光器保護膜200中的每一者的至少一個表面上。亦即,偏光器100及第一偏光器保護膜200可面對彼此,且在水平剖視圖中具有實質上相同的面積。亦即,偏光器100及第一偏光器保護膜200可在水平剖視圖中完全彼此交疊。具體而言,結合層310可形成於偏光器100及第一偏光器保護膜200的至少部分上。更具體而言,結合層310可僅在偏光器100及第一偏光器保護膜200的除其周邊外的中心處設置成島形狀。
結合層310可直接鄰接光屏蔽層320,以使光屏蔽層320可穩定地形成在偏光板10內。
結合層310用於將偏光器100及第一偏光器保護膜200彼此結合或耦合,且可由光可固化結合劑形成。光可固化結合劑可為紫外線可固化結合劑。光可固化結合劑可包括環氧樹脂、其單體或寡聚物、(甲基)丙烯酸酯樹脂以及其單體或寡聚物中的至少一者。光可固化結合劑可更包括光聚合自由基起始劑及光陽離子起始劑中的至少一者。環氧樹脂、(甲基)丙烯酸酯樹脂、光聚合起始劑及光陽離子起始劑的詳細內容是熟習此項技術者所習知的。
結合層310可具有2微米至5微米的厚度。當結合層的厚度落在此範圍內時,由於光屏蔽層320而在偏光器100與第一偏光器保護膜200之間產生的間隙可以結合層來填充,藉此提高偏光板的耐久性。亦即,結合層310可使在偏光器100與第一偏光器保護膜200之間其中存在光屏蔽層320的區域與其中不存在光屏蔽層320的區域之間的偏差最小化。
第一偏光器保護膜200可形成於結合層310的一個表面上,以支撐結合層310及偏光器100。第一偏光器保護膜200可為光學透明保護膜。舉例而言,第一偏光器保護膜可由選自以下中的至少一者形成:聚酯(例如聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯及聚萘二甲酸丁二醇酯)、壓克力、環烯烴聚合物(cyclic olefin polymer,COP)、纖維素酯(例如三乙醯基纖維素(triacetylcellulose,TAC))、聚乙酸乙烯酯、聚氯乙烯(polyvinyl chloride,PVC)、聚降冰片烯(polynorbornene)、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚醯胺(polyamide)、聚縮醛(polyacetal)、聚苯醚(polyphenylene ether)、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide)、聚碸(polysulfone)、聚醚碸(polyether sulfone)、聚芳酯(polyarylate)及聚醯亞胺(polyimide)。
第一偏光器保護膜200可具有30微米至120微米、具體而言20微米至80微米的厚度。在此厚度範圍內,第一偏光器保護膜可用於光學顯示器。
第一偏光器保護膜200可為等向性膜(isotropic film)或延遲膜。等向性膜可在550奈米的波長下具有5奈米或小於5奈米的面內延遲(Re),如由Re = (nx – ny) × d表示,其中nx及ny分別是在500奈米的波長下在保護膜的慢軸及快軸上的折射率,且d是保護膜的厚度。延遲膜可在550奈米的波長下具有大於5奈米、例如10奈米至15,000奈米的面內延遲(Re)。
第二偏光器保護膜400可在材料、厚度、延遲等方面具有與第一偏光器保護膜200相同或不同的特性。
偏光器100形成於結合層310的下表面上以對入射光進行偏光。偏光器100可包括偏光器。偏光器可包括熟習此項技術者所已知的典型的偏光器。具體而言,偏光器可包括藉由單向地拉伸聚乙烯醇膜而獲得的聚乙烯醇系偏光器,或藉由對聚乙烯醇膜進行脫水而獲得的多烯系偏光器。偏光器可具有5微米至40微米的厚度。在此範圍內,偏光器可用於光學顯示器。
本發明可提供一種包括以上所述的根據本發明實施例的偏光板的光學顯示器。所述光學顯示器可包括液晶顯示器、包括有機發光二極體顯示器的發光顯示器等。偏光板可設置於液晶顯示器的觀察者側處。
本發明提供一種可防止在使用紫外線可固化結合劑藉由紫外線照射將上面形成有光屏蔽層的偏光器保護膜結合至偏光器時光屏蔽層產生裂縫的偏光板。
本發明提供一種包括上面形成有光屏蔽層的偏光器保護膜以及偏光器且即使在紫外線照射達長的時間後亦可使光屏蔽層的顏色值的變化最小化的偏光板。
本發明提供一種包括上面形成有光屏蔽層的偏光器保護膜以及偏光器且即使在紫外線照射達長的時間後亦可使光屏蔽層的光屏蔽性質的變化最小化的偏光板。
本發明提供一種光屏蔽層具有良好的光屏蔽效果及高固化程度藉此確保在硬度、耐衝擊性及耐刮擦性方面具有良好性質的偏光板。
接下來,將參照一些實例來更詳細地闡述本發明。然而,應注意,提供這些實例僅是用於說明且不應被視為以任何方式限制本發明。
製備例 1 至製備例 5
製備例 1 至製備例 5
作為顏料分散體(A)(顏料含量:30重量%),使用以表1所列比率混合的以下者的混合物:含有銀-錫合金的顏料分散體(A-1)(TMP-DC-1,住友大阪水泥有限公司(Sumitomo Oosaka Cement Co., Ltd.))(固體含量:30%,銀對錫的重量比 = 7:3);以及包含碳黑的顏料分散體(A-2)(CI-M-050,阪田有限公司(Sakata Co., Ltd.))。作為黏結劑樹脂(B),使用丙烯酸壓敏黏合劑樹脂(WA-9263,物應化學技術有限公司(Wooin ChemTech Co., Ltd.))(B2)。使用三聚氰胺固化劑(M60,物應化學技術有限公司)作為熱固化起始劑(C);(D)使用洛維利特20(2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮,美源特殊化學品有限公司(Miwon Specialty Chemical Co., Ltd))作為紫外線吸收劑(D1),使用三嗪廷納芬477(巴斯夫公司(BASF))作為紫外線吸收劑(D2),且使用廷納芬292(HALS系,巴斯夫公司)作為紫外線穩定劑(D3);使用丙二醇甲醚乙酸酯作為溶劑(E);且使用矽烷偶合劑(765W,迪高有限公司(Tego Co., Ltd.))作為矽烷偶合劑(F)。
藉由將上述顏料分散體、黏結劑樹脂、熱固化起始劑、紫外線吸收劑、紫外線穩定劑、溶劑及矽烷偶合劑以表1所列混合比率的量進行混合而製備了光屏蔽層用組成物。
表1(單位:重量%)
實例 1
藉由對在製備例1中製備的光屏蔽層用組成物進行凹版塗佈而沿著聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜的一個表面的周邊形成了第一印刷層。此處,第一印刷層用印刷輥形成有具有正六邊形形狀的與第一印刷層對應的圖案,所述圖案的各個邊具有50微米的長度且彼此分離以形成蜂巢結構。在印刷第一印刷層後,使用另一印刷輥在第一印刷層上形成第二印刷層。所述另一印刷輥形成有具有菱形形狀的與第二印刷層對應的圖案,所述圖案的各個邊具有50微米的長度且彼此分離。執行圖案印刷,以使第二印刷層可形成於第一印刷層上,且第一印刷層的主軸平行於第二印刷層的主軸。最後,形成了具有圖3及圖4所示結構的光屏蔽層。具體而言,藉由經由熱固化在85℃至110℃下移除溶劑2分鐘形成了光屏蔽層(厚度:2微米)。
使聚乙烯醇膜(厚度:60微米,聚合程度:2,400,皂化程度:99.0%,VF-PS6000,日本可樂麗有限公司(Kuraray Co., Ltd., Japan))在水溶液中在25℃下經歷溶脹,然後在含碘離子的染色浴中在30℃下進行染色及拉伸。接著,將染色的聚乙烯醇膜在硼酸溶液中在55℃下進一步拉伸其初始長度,藉此製備偏光器(厚度:12微米)。
將結合劑塗敷至形成有光屏蔽層的PET膜的一個表面上,然後將結合劑塗敷至環烯烴聚合物膜(ZB12-052125,瑞翁公司(Zeon Corporation))的一個表面作為第二偏光器保護膜,且接著分別將PET膜及環烯烴聚合物膜結合至偏光器的相對的表面,然後進行紫外線固化,藉此製備偏光板,其中結合層(厚度:4微米)、所製備的偏光器、結合層(厚度:3微米)及第二偏光器保護膜依序堆疊在形成有光屏蔽層的PET膜的表面上。在22℃至25℃的溫度下以及20%至60%的相對濕度(relative humidity,RH)下使用金屬鹵化物燈在400毫瓦/平方公分及1,000毫焦耳/平方公分下執行紫外線固化。
實例 2 至實例 4
實例 2 至實例 4
除了在形成第一印刷層及第二印刷層時使用表2所列光屏蔽層用組成物替代製備例1的光屏蔽層用組成物以外,以與實例1相同的方式製備了各偏光板。
比較例 1
比較例 1
除了在形成第一印刷層及第二印刷層時使用製備例5的光屏蔽層用組成物替代製備例1的光屏蔽層用組成物以外,以與實例1相同的方式製備了偏光板。
在實例及比較例中製備的第一印刷層及第二印刷層的詳細內容示於表2中。
<表2>
針對表3所示以下性質對在實例及比較例中製備的偏光板進行了評價。
(1)光屏蔽性質:藉由紫外線濾光片使用密度計(TD-904:格靈達麥克貝斯公司(Gretag Macbeth Company))根據日本工業標準(Japanese Industrial Standards,JIS)K7651:1988在實例及比較例中製備的各偏光板的光屏蔽層上量測了光屏蔽性質。在表3中,基於紫外線-可見光分光光度計(UV-visible spectrophotometer)(JASC0-750)中的在550奈米的波長下的吸光度評價了光屏蔽層。2.0或大於2.0的吸光度值被評定為◎,大於1.5至小於2.0的吸光度值被評定為○,大於1.0至1.5的吸光度值被評定為△,且1.0或小於1.0的吸光度值被評定為X。較高的吸光度值指示較佳的光屏蔽性質。
(2)在將偏光器結合至保護膜時光屏蔽層中的裂縫的產生:在製作實例及比較例中的各偏光板時進行紫外線照射以對結合層進行紫外線固化時,評價了光屏蔽層中的裂縫的產生。藉由以來自三波長燈的光照射樣本使用肉眼確認了光屏蔽層中的裂縫的產生。在光屏蔽層中有裂縫產生被評價為「差」,且其中沒有裂縫產生被評價為「良好」。
(3)可靠性1:將在實例及比較例中製備的各偏光板切割成大小為300毫米 × 150毫米(長度 × 寬度)的樣本。在將樣本置於耐候性測試儀(Xe-B-1,Q-SUN公司)中的情況下,以日光照射上面形成有光屏蔽層的PET膜的表面500小時。使用色度計(CM-3600d,美能達公司(Minolta))在以日光照射之前及之後在偏光板的光屏蔽層上量測了a*值及b*值。比較了a*的值及b*的值。
(4)可靠性2:將在實例及比較例中製備的各偏光板切割成大小為300毫米 × 150毫米(長度 × 寬度)的樣本。在將樣本置於耐候性測試儀(Xe-B-1,Q-SUN公司)中的情況下,以日光照射上面形成有光屏蔽層的PET膜的表面500小時。使用X-Rite 300在以日光照射之前及之後在偏光板的光屏蔽層上量測了OD值。比較了所量測的OD值。
<表3>
如表3所示,根據本發明的偏光板表現出良好的光屏蔽性質,且由於在使用紫外線可固化結合劑藉由紫外線照射將偏光器結合至保護膜時在光屏蔽層中存在紫外線吸收劑,因此在光屏蔽層中沒有產生裂縫。另外,根據本發明的偏光板在紫外線照射之前及紫外線照射達長的時間之後量測時,具有低的a*及b*中的每一者的變化率。此外,根據本發明的偏光板在紫外線照射之前及紫外線照射達長的時間之後量測時具有低的OD值變化率,且因此可使光屏蔽性質的變化最小化。
相反地,比較例1的偏光板由於在使用紫外線可固化結合劑藉由紫外線照射將偏光器結合至保護膜時在光屏蔽層中不存在紫外線吸收劑,因此在光屏蔽層中產生了裂縫,且因此比較例1的偏光板無法用作偏光板。另外,比較例1的偏光板在紫外線照射之前及紫外線照射達長的時間之後具有較實例的偏光板高的a*值、b*值及OD值的變化率。
應理解,在不背離本發明的精神及範圍的條件下,熟習此項技術者可做出各種修改、改變、變更及等效實施例。
10;10’‧‧‧偏光板
100‧‧‧偏光器
200‧‧‧第一偏光器保護膜
310‧‧‧結合層
320‧‧‧光屏蔽層
321‧‧‧第一印刷層
321L、322L‧‧‧最大主軸
322‧‧‧第二印刷層
323‧‧‧印刷圖案
324‧‧‧剩餘區
400‧‧‧第二偏光器保護膜
a、a’、b、c、d ‧‧‧點
H‧‧‧最小值
S1‧‧‧顯示區
S2‧‧‧非顯示區
T‧‧‧分離距離
ΔL‧‧‧最短距離
圖1是根據本發明一個實施例的偏光板的立體圖。
圖2是根據本發明實施例的偏光板的剖視圖。
圖3是光屏蔽層上的印刷圖案的局部放大圖。
圖4是光屏蔽層上的印刷圖案的局部剖視圖。
Claims (24)
- 一種偏光板,由顯示區及環繞所述顯示區的非顯示區構成,所述偏光板包括: 偏光器;以及 依序堆疊在所述偏光器的上表面上的結合層及第一偏光器保護膜, 其中所述結合層包括嵌入其中的光屏蔽層以構成所述非顯示區的至少一部分,且所述光屏蔽層形成於所述第一偏光器保護膜的至少一個表面上並包含紫外線吸收劑。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中所述結合層是由紫外線可固化結合劑形成。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中所述光屏蔽層是由光屏蔽層用熱固性組成物形成。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中所述紫外線吸收劑存在於所述光屏蔽層內或所述光屏蔽層的至少一個表面上。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中所述光屏蔽層中存在0.05重量%至5重量%的量的所述紫外線吸收劑。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中所述紫外線吸收劑具有380奈米至420奈米的最大吸收波長。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中所述紫外線吸收劑包括選自由二苯甲酮系紫外線吸收劑、三嗪系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、草醯替苯胺系紫外線吸收劑、水楊酸苯酯系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、肉桂酸酯系紫外線吸收劑、吲哚系紫外線吸收劑、偶氮系紫外線吸收劑及萘二醯亞胺系紫外線吸收劑組成的群組中的至少一者。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中所述紫外線吸收劑包括二苯甲酮系紫外線吸收劑及三嗪系紫外線吸收劑中的至少一者。
- 如申請專利範圍第8項所述的偏光板,其中所述二苯甲酮系紫外線吸收劑包括由式1表示的化合物: 其中R1 是C1 至C4 烷基;R2 及R3 分別獨立地為羥基、C1 至C8 烷氧基或鹵素;n及m分別獨立地為0至5的整數;且n + m為5或小於5的整數。
- 如申請專利範圍第8項所述的偏光板,其中所述三嗪紫外線吸收劑包括羥基苯基三嗪紫外線吸收劑。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中所述光屏蔽層更包含紫外線穩定劑。
- 如申請專利範圍第11項所述的偏光板,其中所述光屏蔽層中存在0.05重量%至3重量%的量的所述紫外線穩定劑。
- 如申請專利範圍第11項所述的偏光板,其中所述紫外線穩定劑更包括受阻胺系紫外線穩定劑及金屬錯合鹽系紫外線穩定劑中的至少一者。
- 如申請專利範圍第3項所述的偏光板,其中所述光屏蔽層用熱固性組成物包含顏料、黏結劑樹脂及熱固化起始劑。
- 如申請專利範圍第14項所述的偏光板,其中所述顏料包括碳黑及銀-錫合金中的至少一者。
- 如申請專利範圍第14項所述的偏光板,其中所述黏結劑樹脂包括丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂及聚胺基甲酸酯樹脂中的至少一者。
- 如申請專利範圍第14項所述的偏光板,其中所述光屏蔽層用熱固性組成物更包含熱固性不飽和化合物。
- 如申請專利範圍第14項所述的偏光板,其中所述光屏蔽層用熱固性組成物更包含紫外線吸收劑。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中所述光屏蔽層具有5微米或小於5微米的厚度。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,更包括:位於所述偏光器的下表面上的第二偏光器保護膜。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中在由方程式1計算時,所述偏光板具有50%或小於50%的a*變化率: a*變化率 = |(a*)500h - (a*)0h|/|(a*)0h| × 100%, 其中(a*)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的a*值,且(a*)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的a*值。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中在由方程式2計算時,所述偏光板具有200%或小於200%的b*變化率: b*變化率 = |(b*)500h - (b*)0h|/|(b*)0h|× 100%, 其中(b*)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的b*值,且(b*)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的b*值。
- 如申請專利範圍第1項所述的偏光板,其中在由方程式3計算時,所述偏光板具有20%或小於20%的OD變化率: OD變化率 = |(OD)500h - (OD)0h|/(OD)0h × 100%, 其中(OD)0h是在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的OD值,且(OD)500h是在以日光照射所述偏光板500小時後在所述偏光板的所述光屏蔽層上量測的OD值。
- 一種光學顯示器,包含如申請專利範圍第1項至第23項中任一項所述的偏光板。
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