TW201915463A - 液態樣品承載 - Google Patents

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Abstract

本發明揭示一種總成，其包括對接控制台及歧管。該對接控制台包括匣支撐表面，該匣支撐表面具有第一端及第二端。該歧管具有界定於其中的一或多個阱。該對接控制台進一步包括：歧管保持托架，其用以在界面位置處抵靠著支撐於該匣支撐表面上之流體匣可釋放地固持該歧管，使得該一或多個阱與該流體匣流體連通；及偏置密封條，其用以將該流體匣壓向被該歧管保持托架固持之該歧管。親水性多孔玻璃料係安置於該等阱中之至少一者內且將准許液體流經出口孔隙，但防止氣體穿過該出口孔隙。

Description

液態樣品承載
本發明係關於一種用於樣品承載的裝置，且特別係關於一種可應用於液態樣品承載的裝置。
針對臨床及分子處理程序之各種檢定方案以射流裝置（fluidic device）實施，射流裝置具有容納及引導流體以供混合、處理、反應、偵測等等之通道。此方案之一個實施例為DNA定序，其中庫分子之流體樣品被承載至一射流裝置中，該射流裝置被承載至例如定序器之處理儀器中，其中庫分子經由諸如聚合酶鏈反應之擴增技術轉換成叢集，且接著使用電化學偵測進行偵測。
通常需要將庫分子之流體樣品承載至處理儀器外側的射流裝置中。然而，歸因於流體樣品之高黏性，在一些情況下，難以將流體樣品吸入及施配至處理儀器外側的流體裝置（fluid device）中，尤其藉由手動滴管操作。在一些情況下，當經由手動滴管承載射流裝置時，流體樣品中形成之氣泡可能堵塞射流裝置之通道，從而防止流體樣品經由毛細管力穿過射流裝置之通道。因此，在彼等情況下，使用昂貴設備，諸如真空以嘗試將氣泡自被施配至射流裝置中之流體移除。因此，需要改良式設備及方法，其能夠准許流體樣品液進入射流裝置且防止流體樣品之氣泡進入射流裝置。
以下內容呈現簡化概述，以便提供對本文中所描述之一些態樣的基本理解。此概述並非為對所主張主題的廣泛綜述。希望既不識別所主張主題之關鍵或重要要素，亦不描繪其範圍。其唯一目的在於以簡化形式呈現一些概念以作為隨後呈現之更詳細描述的序言。
本發明包括用於將流體樣品承載至流體匣中之總成的各種實施例。根據一個實施例，該總成包含：對接控制台，其包括一匣支撐表面，該匣支撐表面具有第一端及第二端；及歧管，其具有界定於其中之一或多個阱。該對接控制台包含：歧管保持托架，其用以在界面位置處抵靠著支撐於該匣支撐表面上之流體匣可釋放地固持該歧管，使得該一或多個阱與該流體匣流體連通；及偏置密封條，其用以將該流體匣壓向被該歧管保持托架固持之該歧管。
在另一實施例中，該總成包含：對接控制台，其包括匣支撐表面，該匣支撐表面具有第一端及第二端；及歧管，其具有界定於其中之一或多個阱。該等阱中之每一者包含：保持器腔室及出口孔隙，該出口孔隙安置於該保持器腔室下方且與該保持器腔室連通；以及親水性多孔玻璃料，其安置於該等阱中之至少一者內以准許液體流經該出口孔隙但防止氣體穿過該出口孔隙。
在另一實施例中，一種用於將流體施配至一流體匣中之方法包含：將該流體匣置放於對接控制台之匣支撐表面上，使得該對接控制台之定位裝置與該流體匣嚙合且將該流體匣或其組件偏置至界面位置中；將歧管置放於該對接控制台之歧管保持托架上，該歧管具有界定於其中之一或多個阱；根據抵靠著該流體匣固持該歧管，將該歧管保持托架自釋放位置移動至鎖定位置，使得該一或多個阱與該流體匣流體連通；將流體施配至該歧管之該一或多個阱中，使得該流體分散至該流體匣中；將該歧管保持托架自該鎖定位置移動至該釋放位置；及將該歧管及該流體匣自該對接控制台移除。
在參考附圖考慮以下描述及所附申請專利範圍之後，本發明之主題之其他特徵及特性，以及結構之相關元件的操作方法、功能以及製造之部分與經濟的組合將即刻變得更顯而易見，以下描述、所附申請專利範圍及附圖皆形成本說明書之一部分，其中相同元件符號在各圖中指代對應部分。
雖然本發明之主題的態樣可以多種形式實施，但以下描述及附圖僅意欲揭示此等形式中的一些作為主題之特定實施例。因此，本發明之主題並不意欲受限於如此進行描述且說明之形式或實施例。
除非以其他方式進行定義，否則如本發明所屬技術之一般技術者通常理解，本文中所使用之此項技術之所有術語、標記及其他技術術語具有相同涵義。本文所提及之所有專利、申請案、公開申請案及其他公開案以全文引用之方式併入本文中。若此章節中所闡述之定義與以引用方式併入本文中之專利、申請案、公開申請案及其他公開案中所闡述之定義相反或者不一致，則以此章節中所闡述之定義，而非以引用方式併入本文中的定義為準。
除非另外指明或以其他方式提出情形，否則如本文中所使用之「一（a/an）」意謂「至少一個」或「一或多個」。
在描述組件、設備、部位、特徵或其一部分之位置及/或定向時，此描述可使用相對空間及/或定向術語。除非特別陳述或另外由描述情形指定，否則此等術語出於便利性在圖式中用於指代此組件、設備、部位、特徵或其一部分且並不意欲為限制性的，此等術語包括但不限於頂部、底部、上方、下方、在...下、在...之頂部上、上部、下部、...左側、....右側、在...前面、在...後面、緊接於、鄰近、在…之間、水平、豎直、對角、縱向、橫向、徑向、軸向等等。
此外，除非另外陳述，否則本說明書中提及之任何特定尺寸僅表示實施本發明之態樣的實施例實施方案且，並不意欲為限制性的。
無論是否明確地指示，對術語「約」之使用適用於本文中所指定之所有數值。此術語一般係指在本發明之上下文中，一般熟習此項技術者將視為所列舉數值之合理偏差量（亦即，具有等效函數或結果）的數值範圍。舉例而言且並不意欲為限制性的，此術語可被解釋為包括給定數值之±10%的偏差，限制條件為此偏差不會改變值之終結函數或結果。因此，在一些情形下，如一般熟習此項技術者應瞭解，約1%之值可被解釋為範圍為0.9%至1.1%。
如本文中所使用，術語「鄰近」係指接近或毗連。鄰近物體可彼此間隔開或可彼此實際或直接接觸。在一些情況下，鄰近物體可彼此耦接或可彼此整體地形成。
如本文中所使用，術語「實質上」及「實質」係指相當大的程度或範圍。當結合（例如)事件、情形、特性或屬性使用時，術語可指事件、情形、特性或屬性正好出現的情況，以及事件、情形、特性或屬性近似出現的情況，諸如考慮本文中所描述之實施例的典型容限位準或變化性。
如本文中所使用，術語「視情況存在之」及「視情況」意謂可或可不包括或發生隨後描述的組件、結構、元件、事件、情形、特性、屬性等等，且該描述包括包括或發生組件、結構、元件、事件、情形、特性、屬性等等的情況及並非或不發生組件、結構、元件、事件、情形、特性、屬性等等的情況。
根據各種實施例，如本文中所描述之總成及裝置可與流體匣組合使用，該流體匣可包含一或多個流體處理通路，該等通路包括一或多個元件，例如以下各者中之一或多者：通道、分支通道、閥、分流器、通風口、端口、接入區域、通孔、珠粒、含試劑珠粒、蓋罩層、反應組件、其任何組合及其類似者。任何元件可與另一元件流體連通。
術語「流體連通」意謂直接流體連通，例如，兩個區可經由連接該兩個區之不受阻的流體處理通路而彼此流體連通，或可能夠進行流體連通，例如，當兩個區經由流體處理通路連接時，該兩個區可能夠彼此流體連通，該流體處理通路可包含安置於其中之閥，其中在致動該閥後（例如藉由溶解可溶性閥、爆裂可爆裂閥、或以其他方式打開安置於流體處理通路中之閥），就可在該兩個區之間建立流體連通。
參看圖1A及圖1B，如本文中所揭示的總成之實施例係由元件符號100指示，且包括對接控制台200及歧管300。對接控制台200經組態以抵靠著支撐於對接控制台200上之流體匣10可釋放地固持歧管300，使得流體樣品可經由歧管300承載至流體匣10中。歧管300經組態以操作性地與流體匣10之入口端配合並接納來自施配器之流體樣品（例如，手動或機械地操作），且經由入口端將流體傳送至流體匣10中。
參看圖2，其為可用於總成100之實施例流體匣10。流體匣10包括流量槽30及框板20。流量槽30安置於框板20之開口20A中，其中框板20包圍流量槽30之周邊。框板20經組態以將流量槽30固持於由框板20界定之平面內。框架壁24沿著框架板20之周邊延伸。在一個實施例中，流量槽30包含第一玻璃層（未展示）及第二玻璃層（未展示），該等玻璃層緊固在一起且界定其中的一或多個通道（未展示）。流量槽30包括一或多個入口端（未展示）及一或多個出口端（未展示），入口端及出口端沿著流量槽30之上部表面安置使得可准許流體進入一或多個通道或自一或多個通道排出。在一個實施例中，開口20A經大小設定且經塑形成使得流量槽30經組態以相對於框架板20在側向方向上在開口20A內移動。在替代性實施例中，流量槽30可固定於一個位置處。
如圖2中所展示，流體匣10包括一或多個流量槽托架40，該等流量槽托架40跨越流體匣10側向地延伸且將流量槽30緊固至框架板20。每一流量槽托架40保持一或多個墊圈帶400安置於流量槽30之上部表面上方。每一墊圈帶400包含彈性可壓縮材料（例如，彈性體）且界定一或多個開口410，其中開口410中之每一者包括緊固於墊圈帶400內之可壓縮環420。在本上下文中，可壓縮材料係指如下材料：藉由施加壓縮力，該材料可彈性應變、薄化或變形，且在移除壓縮力後，該材料恢復或或實質上恢復其先前大小、形狀或組態。自解壓狀態中，環420在墊圈帶400上方及下方延伸。在一個實施例中，相較於環410的材料，墊圈帶400可包含更可壓縮的材料。
在一個實施例中，每一流量槽托架40經組態以沿著框架板20及流量槽30兩者在縱向方向上相對於框架板20移動。因此，藉由使流量槽托架40在縱向方向上移位，可調整墊圈帶400相對於流量槽30之位置。流量槽托架40可沿著流量槽30移位至界面位置。當流量槽托架40被設定在界面位置處時，墊圈帶400經定向成使得墊圈帶400之開口410中之每一者與流量槽30之對應入口端或出口端大體對準。
圖3至圖7中展示流體施配器總成100之細節。如圖3、圖4A及圖5A中所展示，對接控制台200包括匣支撐表面201，匣支撐表面201自第一端202延伸至第二端203。匣支撐表面201界定對應於流體匣10之形狀及大小的形狀及大小，使得流體匣10之整個底部表面可支撐於匣支撐表面201上。在一實施例中，包含分級標記或其他標誌之填充量規（fill gage）204安置於匣支撐表面201之開口中。匣支撐表面201包圍且固持填充量規204，使得填充量規204之上部表面與匣支撐表面201齊平。在一實施例中，填充量規204包括一系列線以視覺指示當流體匣20被對接控制台200固持時，流體樣品承載至透明流量槽30中之進度及成功率。對接控制台200可包括對沿著匣支撐表面201安置之掃描儀條碼或射頻識別標籤的近接，使得對接控制台200可易於定位成追蹤流體樣品。
參看圖3、圖4A及圖4B，緣邊壁210自匣支撐表面201之第一端202附近突出。緣邊壁210包括上部表面212，上部表面212圍繞第一端202且部分地沿著匣支撐表面201之側延伸。緣邊壁201沿著匣支撐表面201之側終止，其中一對傾斜表面214自上部表面212向下傾斜至匣支撐表面201。緣邊壁210沿著匣支撐表面201界定空腔211，使得空腔211符合流體匣10之至少一部分的形狀。因此，如圖4B中所展示，當流體匣10被置放於匣支撐表面201上時，流體匣10之框架壁24鄰接於緣邊壁210之內部表面。在一個實施例中，流體匣10之形狀係非對稱的，其中框架板20之第一端21的寬度大於框架板20之第二端22的寬度。匣支撐表面201之第一端202及緣邊壁210的形狀及大小對應於框架板20之第一端21的形狀及大小，從而允許使用者易於相對於對接控制台200識別及對準流體匣10之定向。
如圖3、圖4A及圖4B中所展示，緣邊壁210包括自上部表面212延伸之一或多個突片216。當流體匣10被置放於匣支撐表面201上時，每一突片216與框架壁24嚙合以限制流體匣10之豎直移動。參看圖3，後擋件220在匣支撐表面201之第二端203附近突出，使得當流體匣10被置放於匣支撐表面201上時，流體匣10之框架壁24鄰接於後擋件220之內部表面。因此，當流體匣10被接納於匣支撐表面201上時，緣邊壁210、突片216與後擋件220之組合限制流體匣10之側向、縱向及豎直移動。
參看圖3、圖4A及圖4B，對接控制台201包括定位裝置230，該定位裝置230經組態以相對於被固持於對接控制台200中之歧管300將流體匣10或其組件（例如，流量槽30、流量槽托架40）偏置至界面位置中。定位裝置230包括一或多個叉尖232，其鄰近於匣支撐表面201之第一端202而安置，其中叉尖232穿過沿著匣支撐表面201形成之槽205突出。叉尖232例如藉由彈簧而被偏置，或叉尖232可包含朝向匣支撐表面201之第二端203的彈性材料（例如，彎曲彈簧鋼）。在此上下文中，彈性材料係指如下材料：當藉由施加力使材料彈性變形時，該材料可吸收能量而不永久變形，且在卸載力後，就釋放所吸收能量。如圖4B中所展示，當流體匣10被置放於匣支撐表面上時，每一叉尖232延伸穿過流體匣10之槽50並與流體匣10之各別流量槽托架40嚙合。因為一或多個叉尖232朝向流體匣支撐表面201之第二端203被偏置，所以一或多個叉尖232在方向Y上施加力，從而將流量槽托架40推動至界面位置中。因此，一旦流體匣10被接納於空腔211中且被置放於匣支撐表面201上，定位裝置230經由叉尖232而將流量槽托架40偏置至界面位置，使得每一墊圈帶400之開口410變得與流量槽30之各別入口端或出口端大體對準。
參看圖3、圖5A及圖5B，對接控制台201包括歧管保持托架240，歧管保持托架240經組態以可釋放地將歧管300固持於對接控制台200內且使歧管300抵靠著支撐於匣支撐表面201上之流體匣10。歧管保持托架240包含一對側壁250及一夾臂260。該對側壁250沿著匣支撐表面201之鄰近於第二端203的相對側延伸，且夾臂260可樞轉地固定至該對側壁250。如圖5A中所展示，每一側壁250包括上部表面251，上部表面251自後擋件220朝向匣支撐表面201之第一端202延伸且沿著匣支撐表面201之側終止，其中階狀表面252自上部表面251向下傾斜至匣支撐表面201。側壁250之階狀表面252與緣邊壁210之傾斜表面214縱向間隔開，使得沿著匣支撐表面201之側的間隙在一對側壁250與緣邊壁210之間延伸。因此，使用者可沿著在一對側壁250與緣邊壁210之間延伸的間隙握緊匣支撐表面201之側。每一側壁250包括凹部253A、253B，其沿著頂部表面251延伸且經組態以固持歧管300之至少一部分。
如圖5A及圖5B中所展示，夾臂260可旋轉地耦接至一對側壁250，使得夾臂260經組態以在方向A上在釋放位置（圖5A中所展示）與鎖定位置（圖5B中所展示）之間樞轉。夾臂260包括把手262，把手262在一對側邊（leg）264之間延伸。把手262相對於匣支撐表面201橫向定向。每一側邊264自把手262橫越各別側壁250延伸。夾臂260包括一對接觸元件265，其中每一接觸元件265在橫向方向上自把手262及各別側邊264兩者延伸。如圖5A中所展示，每一接觸元件256界定凸面265A，凸面265A經組態以在夾臂260被設定在鎖定位置中時，將接觸壓力提供於歧管300之頂部表面上。接觸元件265在沿著把手262之方向上彼此空間分離，使得間隙在一對接觸元件265之間延伸。如圖5B中所展示，當夾臂260被設定在鎖定位置中時，接觸元件265沿著把手262之位置允許把手262及凸面265A與歧管300之頂部表面嚙合，而不阻擋對界定於歧管300中之一或多個阱320的近接。
在一個實施例中，每一側壁250包括沿著其外部表面254延伸之凹壁（niche）255，其中鉸鏈266經安裝以接納夾臂260之各別側邊264的端部。在一個實施例中，歧管保持托架240包括鎖定機構，當夾臂260被設定在鎖定位置中時，鎖定機構用以抵靠著一對側壁250鎖定夾臂260。在一個實施例中，鎖定機構包括磁體268，磁體268安置於把手262與各別側邊264之間的相交處，使得夾臂260經組態以在被設定在鎖定位置中時，磁耦接至側壁250中之至少一者。該對側壁250可包括諸如鋼之磁性材料，以有助於磁吸引至磁體268。在其他實施例中，磁體268可沿著夾臂260安置於其他部位處，且第二磁體（未展示）可沿著側壁250安置使得當夾臂260被設定在鎖定位置中時，第二磁體耦接至磁體268 磁體可安置於側壁250中之一者或兩者中，且磁性材料可提供於夾臂260之重疊部分中。在替代性實施例中，夾臂260可藉由其他鎖定機構，諸如鎖銷、卡扣等等可釋放地緊固於鎖定位置中。
參看圖3、圖4A、圖5A、圖5C及圖5D，對接控制台201包括一或多個密封條270，密封條270經組態以在歧管300被歧管保持托架240固持時，將流體匣10向上壓向歧管300。每一密封條270被接納於橫向凹部206中，該凹部206延伸至匣支撐表面201中。密封條270包括鄰接側壁250中之一者之內部表面256的第一端271及鄰接側壁250中之另一者之內部表面256的第二端272。密封條270包括第一表面273，第一表面273自第一端271延伸至第二端272。密封條270包括嚙合表面276，嚙合表面276自第一表面273突出。在一個實施例中，嚙合表面276之寬度對應於流體匣20之流量槽30之寬度，使得嚙合表面276經組態以在流體匣20被置放於匣支撐表面201上時，按壓流量槽30之整個寬度。
如圖5C及圖5D中所展示，例如藉由彈簧使密封條270偏置至延伸位置，使得密封條270之第一表面273突出至匣支撐表面201上方。密封條270包括一或多個凸肩274，凸肩274自第一端271及第二端272突出。每一凸肩274安置成與各別側壁250之內部表面256滑動嚙合，且經組態以沿著側壁250之內部表面256在豎直方向上移動每一側壁250包括隆凸257，隆凸257自內部表面256突出且進入凹部206，使得隆凸257限制凸肩274之豎直移動。底板280沿著凹部206之底部安置，其中底板280之每一端被接納於槽中，該槽延伸至側壁250之內部表面256中。
參看圖5C及圖5D，在一個實施例中，藉由一或多個壓縮彈簧290來對密封條270偏置，壓縮彈簧290安置於密封條270之底部表面275與底板280之間。如圖5D中所展示，密封條270之底部表面275包括凹部277，凹部277經組態以接納對應壓縮彈簧290之上端。底板280包括一或多個彈簧外殼284，彈簧外殼284自第一表面282朝向密封條270之底部表面275突出。每一彈簧外殼284界定圓柱形空腔，該空腔自靜置表面（resting surface）286延伸至上部表面285。底板280之每一彈簧外殼284與對應的密封條270之凹部277大體對準。彈簧外殼284經組態以接納壓縮彈簧290，其中壓縮彈簧290之底端抵靠在靜置表面286上。
當流體匣10首先置放於流體匣支撐表面201上時，流量槽30與嚙合表面276之間的接觸朝向底板280施加力，該力推動壓縮彈簧290與靜置表面286相抵。反過來，藉由在朝向流體匣之方向上抵靠著密封條270施加復原力，使壓縮彈簧290之位能釋放。因此，當歧管300被歧管保持托架240固持時，密封條270之嚙合表面276在朝向歧管300之方向上按壓流體匣20之流量槽30。
參看圖6A、圖6B及圖6C，歧管300可包含模製本體（例如，聚丙烯），該本體具有第一表面301及相對的第二表面302，其中第一表面301在第一端303與第二端304之間縱向延伸且第二表面302在前側305與背側306之間側向延伸。如圖6B所展示，第二表面302自第一端303及第二端304中之每一者的底部邊緣307以及前側305及背側306的底部邊緣307縮回，使得第一端303及第二端304以及前側305及背側306中之每一者的底部邊緣307在第二表面302下方延伸。凸緣308自歧管300之前側305的底部邊緣307突出。當歧管300抵靠著流體匣10被緊固時，凸緣308可與流量槽30之上部表面嚙合，從而輔助使用者安裝歧管300及將歧管300自對接控制台200移除，同時防止使用者觸碰流量槽30。
參看圖6B，在一個實施例中，歧管300包括一或多個肋條309，肋條309自第二表面302突出。如圖5C中所展示，一或多個肋條309沿著表面502安置，使得當歧管300抵靠著流體匣20被緊固且被對接控制台200固持時，每一肋條309上覆於框架板20之一部分。因此，一旦歧管300抵靠著流體匣20被緊固且被對接控制台200固持，一或多個肋條309經組態以將墊圈帶400壓向框架板20。
如圖6A中所展示，在一個實施例中，歧管300包括自第一端303突出之第一臂310及自第二端304突出之第二臂312，其中第一表面301沿著第一臂310及第二臂312兩者延伸。參看圖5B，第一臂310及第二臂312經組態以被接納於凹部253A、253B中，凹部253A、253B被界定於一對側壁250中。如圖6A中所展示，第一突片314A自第一臂310之一端突出。第二突片314B自第二臂312之一側突出且與第二臂312之一端間隔開，使得第一臂310之形狀與第二臂312之形狀不對稱。對應地，側壁250中之一者的凹部253A經組態以僅接納第一臂310或第二臂312中之一者，且側壁250中之另一者的凹部253B經組態以僅接納第一臂310或第二臂312中之另一者。因此，在一個實施例中，歧管300經組態以僅在一個定向上被對接保持托架240固持，從而確保歧管300沿著流體匣20被恰當地置放。
如圖5C、圖5E、圖6A、圖6B及圖6C中所展示，歧管300包括界定於其中之一或多個阱320，其中該等阱320中之每一者經組態以接納自施配器施配之流體樣品。歧管300可進一步包括標籤，該標籤安置於第一表面301上以向每一阱320提供通道號識別符。
參看圖5C、圖5E、圖6B及圖6C，每一阱320自界定於第一表面301中之入口開口321延伸至在第二表面302下方突出之底部表面322。出口孔隙324界定於阱320中之每一者的底部表面322中，且經組態以在歧管300抵靠著對接控制台200上之流體匣20被緊固時，與流量槽30之對應入口端連通。如圖5E、圖6B及圖6C中所展示，每一阱320界定自入口開口321延伸之儲液器區段326及自底部表面322延伸之保持器腔室328，其中保持器腔室328安置於儲液器區段326下方及出口孔隙324上方。如圖中所展示如圖5E中所展示，儲液器區段326藉由一或多個唇緣（lip）329而與保持器腔室328分離，唇緣329自阱320之一側突出。如圖6B及圖6C中所展示，整個儲液器區段326之直徑大於整個保持器腔室328之直徑，使得流體可被收集於儲液器區段326中且流體流經由保持器腔室328而受控。
如圖5C、圖5E、圖6B及圖6C中所展示，親水性多孔玻璃料330被接納於保持器腔室328中，且一或多個唇緣329抵靠著阱320之底部表面322緊固親水性多孔玻璃料330。親水性多孔玻璃料330可包含多孔模製聚乙烯（例如，來自伊利諾伊州芝加哥的Filtration Group Corporation的Porex® XM 1334 Hydrophilic Frit），其中親水性多孔玻璃料30之孔的孔徑介於約15 pm至約160 pm之範圍內。親水性多孔玻璃料330用表面活性劑塗佈，使得沿著多孔模製聚乙烯之表面的靜態水接觸角小於90°。歸因於材料選擇及孔徑，親水性多孔玻璃料330經組態以准許液體流經出口孔隙324但防止氣體（氣泡）穿過出口孔隙324。當將流體樣品施配至阱320之入口開口321中時，流體樣品收集於儲液器區段326中且流經保持器腔室328。當流體樣品流經保持器腔室328時，親水性多孔玻璃料330防止氣泡穿過保持器腔室328，使得在流體樣品通過阱320之出口孔隙324離開之前，使氣泡與流體樣品隔離。
參看圖5C及圖5E，當在界面位置處，歧管300抵靠著支撐於匣支撐表面201上之流體匣10被固持時，墊圈帶400插入於阱320中之每一者的底部表面322與流量槽30的上部表面之間。如圖5C中所展示，墊圈帶400之開口410中之每一者與阱320之出口孔隙324中之一者大體對準。當夾臂260被設定至鎖定位置且磁耦接至側壁250時，夾臂260在朝向流體匣10之方向上抵靠著歧管300施加力。作為回應，壓縮彈簧290將密封條270偏置至延伸位置，使得嚙合表面276在朝向歧管300之方向上推動流體匣20之流量槽30。如圖5C中所展示，當歧管300在界面位置處抵靠著流體匣10被固持時，密封條270中之一者至少與歧管300大體上對準。因此，墊圈帶400在流量槽30之上部表面與第二表面302、一或多個肋條309及阱320中之每一者的底部表面322之間被壓縮。另外，開口410中之每一者中的環420在阱320中之每一者的底部表面322與流量槽30的上部表面之間被壓縮。因此，一旦藉由夾臂260及偏置密封條270施加之力進行壓縮，環420就形成每一出口孔隙324與流量槽30之入口端之間的流體密封連接。
圖7說明用於使用根據一實施例之總成100將流體施配至流體匣中的方法500。如圖7中所展示，方法500包括以下程序510：將流體匣10置放於對接控制台200之匣支撐表面201上，使得流體匣10之框架壁24鄰接於緣邊壁210及後擋件220，從而限制流體匣10相對於匣支撐表面201之側向、縱向及豎直移動。當流體匣10被置放於匣支撐表面201上時，定位裝置230之一或多個叉尖232延伸穿過框架板20之槽50且與流量槽托架40嚙合。參看圖4B，一或多個叉尖232在方向Y上抵靠著流量槽托架40施加力，從而使得流量槽托架40滑動至界面位置。因此，每一墊圈帶400之開口410變得與流量槽30之各別入口端或出口端大體對準。
在將流體匣10置放於對接控制台200之支撐表面201上之後，方法500之下一程序520包括；藉由將第一臂310插入至側壁250中之一者的凹部253A中並將第二臂312插入至側壁250中之另一者的凹部253B中，將歧管300置放於對接控制台200上。在將流體匣10置放於匣支撐表面201上並將歧管300置放於歧管保持托架240上之兩個程序期間，將夾臂260設定在釋放位置處。
一旦歧管300之臂310、312被接納於側壁250之凹部253中，方法之下一程序530包括將歧管保持托架240之夾臂260自釋放位置移動至鎖定位置，從而抵靠著流體匣10固持歧管300，使得一或多個阱320與流量槽30之端口及通道流體連通。當夾臂260被設定至鎖定位置且抵靠著流體匣10固持歧管300時，墊圈帶400之環420在阱320中之每一者的底部表面322與流量槽30的上部表面之間被壓縮，以形成阱320中之每一者的出口孔隙324與流量槽30的入口端之間的流體密封連接，如圖5C中所展示。
在將夾臂260移動至鎖定位置以形成歧管300與流量槽30之間的流體密封連接之後，方法之下一程序540包括將流體樣品施配至歧管300之一或多個阱320中，使得流體樣品分散至流量槽30之入口端中且穿過流量槽30之通道（例如，藉由毛細作用）。雖然流體樣品被施配至歧管300之一或多個阱320中，但阱320中之每一者中的親水性多孔玻璃料330僅准許流體樣品液穿過出口孔隙324並減少，且在一些情況下甚至防止氣泡流經出口孔隙234。藉由僅允許液體穿過阱320中之每一者的出口孔隙324，親水性多孔玻璃料330確保流體可僅藉由毛細引力而跨越流量槽30中之通道的長度流動。填充量規204可視覺指示流體樣品流經流量槽30之通道的進度。
一旦流體樣品完全或至少基本上完全分散至流體匣10之流量槽30中，方法之下一程序550包括將夾臂260自鎖定位置移動至釋放位置。如圖7中所展示，方法進一步包括程序560：將歧管300及流體匣10自對接控制台200移除。
預期說明書中所描述且申請專利範圍中所列舉的元件及組件之所有可能的組合，且將所有可能的組合視為本發明之一部分。應瞭解，前述概念及下文更詳細地論述之額外概念的所有組合（限制條件為此等概念並不彼此不相容）預期為本文中所揭示之發明主題的部分。詳言之，在本發明結尾處出現之所主張主題的所有組合預期為本文中所揭示之發明性主題的部分。
在隨附申請專利範圍請求項中，術語「包括」用作各別術語「包含」之簡明英語等效物。術語「包含」及「包括」在本文中意欲為開放式，不僅包括所列舉元件，且亦進一步涵蓋任何額外元件。此外，在以下申請專利範圍中，術語「第一」、「第二」及「第三」等等僅用作標示，且並不意欲對其對象施加數值要求。此外，以下申請專利範圍之侷限性不以手段附加功能（means-plus-function）格式寫入，且並不意欲基於美國專利法第112條第6項進行解譯，除非且直至此等申請專利範圍請求項侷限性明確地使用片語「用於...的構件」，繼之以不具有另外結構之功能之表述為止。
雖然已參考某些說明性實施例相當詳細地描述且展示本發明之主題，包括特徵之各種組合及子組合，但熟習此項技術者將易於瞭解如涵蓋於本發明之範圍內的其他實施例以及其變化及修改。此外，此等實施例、組合及子組合之描述並不意欲傳遞所主張之主題需要除申請專利範圍中明確敍述之彼等之外的特徵或特徵之組合。因此，本發明之範圍意欲包括涵蓋於以下隨附申請專利範圍之精神及範圍內的所有修改及變化。
併入本文中且形成說明書之一部分的附圖說明本發明之主題的各種實施例。在該等圖式中，類似元件符號可指示相同或功能上相似之元件。 圖1A為實施例流體施配器總成及實施例流體匣（fluid cartridge）之分解立體圖。 圖1B為保持實施例流體匣之實施例流體施配器總成的立體圖。 圖2為實施例流體匣之立體圖。 圖3為實施例對接控制台之立體圖。 圖4A為對接控制台之實施例第一端的局部視圖。 圖4B為對接控制台之實施例第一端將流體匣保持於匣支撐表面上的局部視圖。 圖5A為歧管保持托架處於釋放位置的對接控制台之第二端的視圖。 圖5B為歧管保持托架處於鎖定位置以保持流體匣及歧管的對接控制台之實施例第二端的視圖。 圖5C為沿著圖5B中之線V-V保持流體匣之實施例流體施配器總成的端部橫截面視圖。 圖5D為沿著圖5B中之線V-V之實施例偏置密封條的局部橫截面視圖。 圖5E為沿著圖5B之線V-V的歧管之實施例阱的局部橫截面視圖。 圖6A為實施例歧管之立體圖。 圖6B為沿著圖6A之線VI-VI之實施例歧管的側視橫截面圖。 圖6C為沿著圖6A之線之實施例阱的局部橫截面視圖。 圖7為用於將流樣品（flow sample）承載至流體匣中之實施例方法的流程圖。

Claims (20)

  1. 一種流體施配器總成，其包含： 對接控制台，其包括一匣支撐表面，該匣支撐表面具有第一端及第二端；及 歧管，其具有界定於其中之一或多個阱； 其中該對接控制台包含： 歧管保持托架，其用以在界面位置處抵靠著支撐於該匣支撐表面上之流體匣可釋放地固持該歧管，使得該一或多個阱與該流體匣流體連通；及 偏置密封條，其用以將該流體匣壓向被該歧管保持托架固持之該歧管。
  2. 如請求項1所述之流體施配器總成，其中該對接控制台包含緣邊壁，該緣邊壁在該匣支撐表面之該第一端附近突出，其中該緣邊壁沿著該匣支撐表面界定空腔，使得該空腔符合該流體匣之至少一部分的形狀。
  3. 如請求項2所述之流體施配器總成，其中該緣邊壁包含一或多個突片，該一或多個突片用以與安置於該空腔內之該流體匣之一部分嚙合。
  4. 如請求項1所述之流體施配器總成，其中該歧管保持托架包含： 對側壁，其沿著該匣支撐表面之鄰近於該第二端的相對側延伸；及 夾臂，其緊固至該對側壁以用於在釋放位置與及鎖定位置之間進行樞轉移動。
  5. 如請求項4所述之流體施配器總成，其中該歧管包含自該歧管之第一端突出之第一臂及自該歧管之第二端突出之第二臂，該第二臂之組態不同於該第一臂，且其中每一側壁包含凹部，該凹部用以接納該第一臂或該第二臂中之一者，使得該歧管在單一定向上被該等側壁固持。
  6. 如請求項4所述之流體施配器總成，其中該歧管保持元件進一步包含鎖定機構，該鎖定機構用以將該夾臂可釋放地緊固於該鎖定位置中。
  7. 如請求項6所述之流體施配器總成，其中該鎖定機構包含磁體，該磁體用以在該夾臂處於該鎖定位置中時，將該夾臂磁耦接至該等側壁中之至少一者。
  8. 如請求項4所述之流體施配器總成，其中該夾臂包含一或多個接觸元件，該一或多個接觸元件用以在該歧管被該歧管保持托架固持且該夾臂處於該鎖定位置中時，抵靠著該歧管之頂部表面提供接觸壓力。
  9. 如請求項1所述之流體施配器總成，其中該等阱中之每一者包含：保持器腔室及出口孔隙，該出口孔隙係安置於該保持器腔室下方且與該保持器腔室連通；以及親水性多孔玻璃料，其安置於該等阱中之至少一者內且准許液體流經該出口孔隙但防止氣體穿過該出口孔隙。
  10. 如請求項1所述之流體施配器總成，其中該密封條被接納於形成於該匣支撐表面中之橫向凹部中且在該凹部內移動，且該對接控制台包含一或多個壓縮彈簧，該一或多個壓縮彈簧安置於該凹部之底部與該密封條之間的該凹部中，且抵靠著該密封條之底部表面偏置。
  11. 如請求項1所述之流體施配器總成，其中該對接控制台包含定位裝置，該定位裝置用以將該流體匣或其組件偏置至該界面位置中。
  12. 如請求項11所述之流體施配器總成，其中該定位裝置包含一或多個彈性叉尖，該一或多個彈性叉尖自該匣支撐表面突出且鄰近於該匣支撐表面之該第一端而安置，且每一彈性叉尖延伸穿過形成於該流體匣中之槽。
  13. 一種流體施配器總成，其包含： 對接控制台，其包括匣支撐表面，該匣支撐表面具有第一端及第二端；及 歧管，其具有界定於其中之一或多個阱，其中該等阱中之每一者包含保持器腔室及出口孔隙，該出口孔隙安置於該保持器腔室下方且與該保持器腔室連通；及 親水性多孔玻璃料，其被安置於該等阱中之至少一者內且將准許液體流經該出口孔隙，但防止氣體穿過該出口孔隙。
  14. 如請求項13所述之流體施配器總成，其中該對接控制台包含： 歧管保持托架，其用以在界面位置處抵靠著支撐於該匣支撐表面上之流體匣可釋放地固持該歧管，使得該一或多個阱與該流體匣流體連通；及 偏置密封條，其用以將該流體匣壓向被該歧管保持托架固持之該歧管。
  15. 如請求項13所述之流體施配器總成，其中該親水性多孔玻璃料包含模製聚乙烯，該模製聚乙烯係以表面活性劑塗佈。
  16. 如請求項13所述之流體施配器總成，其中該親水性多孔玻璃料之孔的孔徑係介於約15 pm至約160 pm之範圍內。
  17. 如請求項14所述之流體施配器總成，其中該密封條被接納於形成於該匣支撐表面中之橫向凹部中且用於限制該凹部內之移動，且該對接控制台包含一或多個壓縮彈簧，該一或多個壓縮彈簧安置於該凹部之底部與該密封條之間的該凹部中，且抵靠著該密封條之底部表面偏置。
  18. 如請求項14所述之流體施配器總成，其中該對接控制台包含定位裝置，該定位裝置用以將該流體匣或其組件偏置至該界面位置中。
  19. 如請求項18所述之流體施配器總成，其中該定位裝置包含一或多個彈性叉尖，該一或多個彈性叉尖自該匣支撐表面突出且鄰近於該匣支撐表面之該第一端而安置，且每一彈性叉尖將延伸穿過形成於該流體匣中之槽。
  20. 一種用於將流體施配至一流體匣中之方法，其包含： 將該流體匣置放於對接控制台之匣支撐表面上，使得該對接控制台之定位裝置與該流體匣嚙合且將該流體匣或其組件偏置至界面位置中； 將歧管置放於該對接控制台之歧管保持托架上，該歧管具有界定於其中之一或多個阱； 將該歧管保持托架自釋放位置移動至鎖定位置以便抵靠著該流體匣固持該歧管，使得該一或多個阱與該流體匣流體連通； 將流體施配至該歧管之該一或多個阱中，使得該流體分散至該流體匣中； 將該歧管保持托架自該鎖定位置移動至該釋放位置；及 將該歧管及該流體匣自該對接控制台移除。
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