TW201903493A - 偏光板與包含其的液晶顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本文揭露一種偏光板與一種包含其的液晶顯示裝置。揭露偏光板以及包含其的液晶顯示器，所述偏光板包括按照次序依序積層的偏光膜、對比度增強層及抗反射膜， 抗反射膜具有0.45%或小於0.45%的最小反射率， 抗反射膜包括按照次序依序積層於對比度增強層上的第一基底層、高折射率層及低折射率層， 對比度增強層包括第一樹脂層及面對所述第一樹脂層的第二樹脂層，其中第二樹脂層包括圖案化部分，所述圖案化部分包括多個光學圖案及形成於多個光學圖案之間的平坦部分， 圖案化部分滿足以下方程式1， 多個光學圖案中的每一者具有75°至90°的底角θ： [方程式1] 1 ＜ P/B ≤ 6 其中，P是圖案化部分的節距（單位：微米），且 B是平坦部分的最大寬度（單位：微米）， 偏光板根據以下方程式2具有0.3或小於0.3的反射率斜率： [方程式2] 反射率斜率=|R600 - R500 |/|600 - 500| × 100 其中，R600 是在600奈米的波長下偏光板的反射率值，且 R500 是在500奈米的波長下偏光板的反射率值。

Description

偏光板與包含其的液晶顯示裝置
本發明是有關於一種偏光板與一種包含其的液晶顯示裝置。
液晶顯示裝置是藉由經由液晶面板自背光單元發射光來操作。因此，液晶顯示裝置中的正面對比度（contrast ratio，CR）為相對良好。然而，液晶顯示裝置的側對比度（side contrast ratio）為相對低。因此，需要在增大側對比度時使正面對比度的減小最小化以提高可見性。
同時，液晶顯示裝置可能不會連續驅動，而是可處於非驅動狀態。當液晶顯示裝置處於非驅動狀態時，例如日光或燈光等外部光可照射於液晶顯示裝置的螢幕上。在此種情形中，螢幕可具有不均勻性或色差（mura），或者反射光可被分裂，因而使得液晶顯示裝置的黑色視覺靈敏度及外觀（appearance）可能劣化。
因此，需要以下偏光板：所述偏光板在驅動狀態下具有改善的正面對比度以及改善的側對比度，且在非驅動狀態下不會造成以上所述的黑色視覺靈敏度及外觀的劣化。
在日本特許專利公開案第2006-251659號中揭露了背景技術。
本發明提供一種能夠即使在照射例如日光或燈光等外部光時亦會改善黑色視覺靈敏度及外觀的偏光板。
本發明提供一種能夠即使在照射例如日光或燈光等外部光時亦會防止彩虹色差（rainbow mura）或不均勻性的偏光板。
本發明提供一種能夠改善可見性、側視角及側對比度的偏光板。
本發明的偏光板可包括按照次序依序積層的偏光膜、對比度增強層及抗反射膜（antireflection film）， 所述抗反射膜具有0.45%或小於0.45%的最小反射率， 所述抗反射膜包括按照次序依序積層於所述對比度增強層上的第一基底層、高折射率層及低折射率層， 所述對比度增強層（contrast ratio enhancing layer）包括第一樹脂層及面對所述第一樹脂層的第二樹脂層，其中所述第二樹脂層包括圖案化部分，所述圖案化部分包括多個光學圖案及形成於所述多個光學圖案之間的平坦部分， 所述圖案化部分滿足以下方程式1， 所述多個光學圖案中的每一者具有75°至90°的底角θ： [方程式1] 1 ＜ P/B ≤ 6 其中，P是所述圖案化部分的節距（單位：微米），且 B是所述平坦部分的最大寬度（單位：微米）， 所述偏光板根據以下方程式2具有0.3或小於0.3的反射率斜率： [方程式2] 反射率斜率=|R600 - R500 |/|600 - 500| × 100 其中，R600 是在600奈米的波長下偏光板的反射率值，且 R500 是在500奈米的波長下偏光板的反射率值。
本發明的液晶顯示裝置可包括本發明的偏光板。
本發明提供一種能夠即使在照射例如日光或燈光等外部光時亦會改善黑色視覺靈敏度及外觀的偏光板。
本發明提供一種能夠即使在照射例如日光或燈光等外部光時亦會防止彩虹色差或不均勻性的偏光板。
本發明提供一種能夠改善可見性、側視角及側對比度的偏光板。
參照附圖詳細闡述本發明的示例性實施例。應理解，本發明並非僅限於以下實施例，而是可以不同的方式實施。在圖式中，為清晰起見省略與本說明無關的部分。在說明書通篇中，相同組件由相同參考編號來標示。
本文所使用的例如「上部部分」及「下部部分」等空間相對性用語是參照附圖來定義。因此，應理解，用語「上部部分」可與用語「下部部分」互換使用。應理解，當稱一元件（例如層、膜、區或基板）被放置於另一元件「上（on）」時，所述元件可直接放置於所述另一元件上，或可存在中間層。另一方面，當稱一元件「直接」放置於另一元件「上」時，則所述兩個元件之間不存在中間層。
本文所使用的用語「水平方向」及「垂直方向」分別是指液晶顯示器的螢幕的縱向方向及橫向方向。
本文所使用的用語「側面」是指在球座標系（φ, θ）中θ介於60°至90°範圍內的區，在球座標系（φ, θ）中，以水平方向為基準，正面由（0°, 0°）指示，左端點由（180°, 90°）指示，且右端點由（0°, 90°）指示。
本文所使用的用語「頂部」是指相對於雕刻光學圖案的最下部分位於最上部分處的一部分。
本文所使用的用語「長寬比（aspect ratio）」是指光學圖案的最大高度對光學圖案的最大寬度的比率（最大高度/最大寬度）。
本文所使用的用語「節距（pitch）」是指一個光學圖案的最大寬度與鄰近所述光學圖案的一個平坦部分的寬度的和。
本文所使用的用語「面內延遲（in-plane retardation）Re」是在550奈米的波長下的值且由以下方程式A表示： [方程式A] Re = (nx - ny) × d 其中，nx及ny分別是在對應保護層或基底層中在550奈米的波長下在慢軸方向上及在快軸方向上的折射率，且d是對應保護層或基底層的厚度（單位：奈米）。
本文所使用的用語抗反射膜的「最小反射率（minimum reflectance）」是指對於藉由將黑色丙烯酸片材（black acrylic sheet）（日東巨石工業有限公司（Nitto Jushi Kogyo Co., Ltd.），克拉諾斯（CLAREX））積層於抗反射膜的第一基底層上而製備的樣本而言，利用分光光度計（spectrophotometer）（柯尼卡美能達有限公司（Konica Minolta Co., Ltd.），CM-3600A）在鏡面分量包含（Specular Component Include，SCI）反射模式（光源：D65，光源孔徑：φ 25.4毫米，量測視角：2°）下在360奈米至740奈米的波長範圍內量測的最低反射率。
本文所使用的用語偏光板的「光反射率（luminous reflectance）」是指對於藉由將黑色丙烯酸片材（日東巨石工業有限公司，CLAREX）積層於偏光片的偏光膜的下部部分上而製備的樣本而言，利用分光光度計（柯尼卡美能達有限公司，CM-3600A）在SCI反射模式（光源：D65，光源孔徑：φ 25.4毫米，量測視角：2°）下在360奈米至740奈米的波長範圍內量測的Y值（D65）。Y（D65）是利用D65光源量測的Y值，且Y（D65）可為在每一波長下的反射率×在每一波長下的光源的強度×在可見光區波長內的Y（綠色刺激值（green color stimulus value））顏色函數的積分值。
本文所使用的用語偏光板的「反射率斜率（reflectance slope）」是指對於藉由將黑色丙烯酸片材（日東巨石工業有限公司，CLAREX）積層於偏光板的偏光膜的下部部分上而製備的樣本而言，利用分光光度計（柯尼卡美能達有限公司，CM-3600A）在SCI反射模式（光源：D65，光源直徑：φ 25.4毫米，量測視角：2°）下在360奈米至740奈米的波長範圍內量測的在500奈米的波長下的反射率與在600奈米的波長下的反射率斜率，且反射率斜率值是根據以下方程式2來計算： [方程式2] 反射率斜率=|R600 - R500 |/|600 - 500| × 100 其中，R600 是在600奈米的波長下偏光板的反射率值，且 R500 是在500奈米的波長下偏光板的反射率值。
用語「反射率值」意指反射率的百分比%值。
本文所使用的「(甲基)丙烯酸基」意指丙烯酸基及/或甲基丙烯酸基。
在下文中，將參照圖1及圖2來闡述根據本發明實施例的偏光板。圖1是根據本發明實施例的偏光板的剖視圖。圖2是圖1所示偏光板的對比度增強層的詳細剖視圖。
參照圖1，偏光板10可包括偏光膜100、對比度增強層200及抗反射膜300。
偏光板10在液晶顯示器中用作觀察者側偏光板。因此，當液晶顯示裝置不被驅動時，偏光板10可受例如日光或燈光等外部光影響。偏光板10可包括按照次序依序積層的偏光膜100、對比度增強層200及抗反射膜300。抗反射膜300可具有0.45%或小於0.45%的最小反射率。對比度增強層200可包括以下所述的第一樹脂層及第二樹脂層。因此，當在液晶顯示裝置不被驅動時外部光入射於偏光板10上時，偏光板10可防止由第一樹脂層及第二樹脂層中的光學圖案引起外部光散射或色散。因此，藉由防止螢幕的色差、不均勻性或分裂，可在液晶顯示裝置的非驅動狀態期間改善外觀及黑色視覺靈敏度。
偏光板10可具有0.3或小於0.3、例如0.01至0.3的反射率斜率。在此範圍內，即使當在液晶顯示裝置未被驅動時外部光照射於偏光板10上時，亦可減少由第一樹脂層或第二樹脂層中的光學圖案引起的外部光的色散，以改善液晶顯示裝置的外觀及黑色視覺靈敏度。反射率斜率是用於評價在500奈米至600奈米的波長（其包括550奈米，即可見光區的代表性波長）下當觀察者在液晶顯示裝置未被驅動時觀察螢幕時是否可在視覺上辨識出色差或斑點。當反射率斜率為0.3或小於0.3時，黑色視覺靈敏度為良好，且在驅動時可改善可見性。反射率斜率的上述範圍可藉由本發明的偏光板10來達成。
在一個實施例中，偏光板10可具有2%或小於2%、例如0%至2%、0%至1.5%的光反射率。在此範圍內，即使當在液晶顯示裝置未被驅動時外部光照射於偏光板10上時，亦可減少由第一樹脂層或第二樹脂層中的光學圖案引起的外部光的色散，以改善液晶顯示裝置的外觀及黑色視覺靈敏度。光反射率是用於評價在不驅動液晶顯示裝置時色差或斑點的不存在性以及黑色視覺靈敏度。光反射率越低，黑色視覺靈敏度越好，且在不驅動液晶顯示裝置時不會顯示出色差或斑點。光反射率的上述範圍可藉由本發明的偏光板10來達成。
另外，在偏光板10中，偏光膜100與對比度增強層200是依序積層。因此，可在驅動液晶顯示裝置時改善可見性從而改善側對比度及側視角。具體而言，形成於對比度增強層200上的抗反射膜300可執行上述非驅動功能且當液晶顯示裝置被驅動時不會影響可見性或側對比度。
具體而言，在偏光板10中，偏振膜100、對比度增強層200及抗反射膜300是積層的，且在液晶顯示裝置未被驅動時可防止因外部光而造成的外觀損壞，並且在液晶顯示裝置被驅動時可藉由對比度增強層200來改善可見性。因此，在驅動狀態及非驅動狀態兩種狀態下均可獲得上述改善的效果。偏光膜
偏光膜100可對自液晶面板入射的光進行偏光及透射。
偏光膜100可包括偏光片。具體而言，偏光片可包括藉由單向地拉伸聚乙烯醇系膜（polyvinyl alcohol-based film）而形成的聚乙烯醇系偏光片，或藉由對聚乙烯醇系膜進行脫水而形成的多烯系偏光片（polyene-based polarizer）。偏光片可具有為5微米至40微米的厚度。在此範圍內，偏光片可用於光學顯示裝置中。
偏光膜100可包括偏光片及形成於偏光片的至少一個表面上的保護層。保護層可保護偏光片以增強偏光板的可靠性及機械強度。
保護層可包括光學透明保護膜及保護塗層中的至少一者。
當保護層是保護膜類型時，保護層可包括由光學透明樹脂形成的保護膜。可藉由對樹脂進行熔融及擠出來形成保護膜。若有必要，則可添加拉伸製程。樹脂可選自由以下組成的群組：包括三乙醯基纖維素（triacetyl cellulose，TAC）等的纖維素酯系樹脂、包括非晶環狀烯烴聚合物（cyclic olefin polymer，COP）的環狀聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、包括聚對苯二甲酸乙二醇酯（polyethylene terephthalate，PET）等的聚酯系樹脂、聚醚碸系樹脂（polyether sulfone-based resin）、聚碸系樹脂（polysulfone-based resin）、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、非環狀聚烯烴系樹脂、包括聚甲基丙烯酸甲酯樹脂的聚丙烯酸酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂（polyvinylidene chloride-based resin）及丙烯酸系樹脂。
當保護層是保護塗層類型時，與偏光片的黏附性、透明度、機械強度、熱穩定性、水分阻擋性質及耐久性可得到改善。在一個實施例中，保護塗層可由包含活性能量射線可固化化合物（active energy ray-curable compound）及聚合起始劑的活性能量射線可固化樹脂組成物（active-energy ray-curable resin composition）形成。
活性能量射線可固化化合物可包括陽離子可聚合可固化化合物、自由基可聚合可固化化合物、胺基甲酸酯樹脂（urethane resin）及矽酮樹脂（silicone resin）中的至少一者。陽離子可聚合可固化化合物可為分子中具有至少一個環氧基（epoxy group）的環氧系化合物、或分子中具有至少一個氧雜環丁烷環（oxetane ring）的氧雜環丁烷系化合物。自由基可聚合可固化化合物可為分子中具有至少一個(甲基)丙烯醯氧基（(meth)acryloyloxy group）的(甲基)丙烯酸系化合物。
環氧系化合物可為氫化環氧化合物（hydrogenated epoxy compound）、鏈脂肪族環氧化合物（chained aliphatic epoxy compound）、環狀脂肪族環氧化合物（cyclic aliphatic epoxy compound）及芳族環氧化合物（aromatic epoxy compound）中的至少一種。
自由基可聚合可固化化合物可提供具有優異的硬度、機械強度及耐久性的保護塗層。可藉由使在分子中具有至少一個(甲基)丙烯醯氧基的二或更多種(甲基)丙烯酸酯單體與具有此官能基的化合物反應來獲得自由基可聚合可固化化合物，且具有至少兩個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯寡聚物可作為實例而被提及。(甲基)丙烯酸酯單體的實例可包括在分子中具有一個(甲基)丙烯醯氧基的單官能(甲基)丙烯酸酯單體、在分子中具有兩個(甲基)丙烯醯氧基的雙官能(甲基)丙烯酸酯單體及在分子中具有三或更多個(甲基)丙烯醯氧基的多官能(甲基)丙烯酸酯單體。(甲基)丙烯酸酯寡聚物的實例可包括胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物、聚酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物、環氧(甲基)丙烯酸酯寡聚物等。
聚合起始劑可使活性能量射線可固化化合物固化。聚合起始劑可包括光陽離子起始劑（photo cationic initiator）及光增感劑（photosensitizer）中的至少一種。可使用熟習此項技術者已知的光陽離子起始劑。具體而言，可使用包含陽離子及陰離子的鎓鹽（onium salt）作為光陽離子起始劑。具體而言，陽離子的實例可包括二苯基碘鎓（diphenyl iodonium）、4-甲氧基二苯基碘鎓（4-methoxydiphenyl iodonium）、雙(4-甲基苯基)碘鎓（bis(4-methylphenyl) iodonium）、雙(4-第三丁基苯基)碘鎓（bis(4-tert-butylphenyl) iodonium）、雙(十二烷基苯基)碘鎓（bis(dodecylphenyl) iodonium）、例如(4-甲基苯基)[(4-(2-甲基丙基)苯基)]碘鎓（(4-methylphenyl) [(4-(2-methylpropyl)phenyl] iodonium）等二芳基碘鎓（diaryl iodonium）、三苯基鋶（triphenylsulfonium）、例如二苯基-4-硫代苯氧基苯基鋶（diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium）等三芳基鋶（triarylsulfonium）、雙[4-(二苯基硫)苯基]硫醚（bis[4- (diphenylsulfonio)phenyl]sulfide）等。陰離子的實例可包括六氟磷酸根（PF6 - ）、四氟硼酸根（BF4 - ）、六氟銻酸根（SbF6 - ）、六氟砷酸根（AsF6 - ）、六氯銻酸根（SbCl6 - ）等。可使用熟習此項技術者傳統上已知的光增感劑。具體而言，光增感劑可為選自由噻噸酮（thioxanthone）、磷（phosphorus）、三嗪（triazine）、苯乙酮（acetophenone）、二苯甲酮（benzophenone）、安息香（benzoin）及肟（oxime）組成的群組中的至少一者。
活性能量射線可固化樹脂組成物可更包含例如矽調平劑、紫外線（UV）吸收劑、抗靜電劑等傳統添加劑。
保護層可具有5微米至200微米、具體而言30微米至120微米的厚度。當保護層是保護膜類型時，保護層可具有30微米至100微米的厚度。當保護層是保護塗膜類型時，保護層可具有5微米至50微米的厚度。在此範圍內，保護層可用於顯示裝置中。
在保護層的至少一個表面上可進一步形成例如底漆層（primer layer）、硬塗層、防指紋層、抗反射層等功能塗層。底漆層可改善偏光片與保護層之間的黏附性。硬塗層、防指紋層、抗反射層等可對保護層、偏光膜等提供其他功能。
當保護層是保護塗膜類型時，保護層可直接形成於偏光片上。然而，當保護層是保護膜類型時，保護膜可藉由用於偏光板的黏結劑（例如由水性黏結劑、光可固化黏結劑或壓敏黏結劑形成的黏結層）形成於偏光片上。對比度增強層
對比度增強層200可形成於偏光膜100的光出射表面上以擴散自偏光膜100透射的經偏光的光從而改善可見性。
參照圖1及圖2，對比度增強層200可包括第一樹脂層210及第二樹脂層220。第一樹脂層210與第二樹脂層220可面對彼此。參照圖1，第一樹脂層210與第二樹脂層220依序形成於偏光膜100上。
第二樹脂層220可包括圖案化部分，所述圖案化部分包括光學圖案221及形成於光學圖案221之間的平坦部分222。圖2示出每一光學圖案221是雕刻圖案（engraved pattern）。
圖案化部分可滿足以下方程式1且每一光學圖案221可具有為75°至90°的底角θ。底角θ可意味著光學圖案221的傾斜表面223與沿光學圖案221的最大寬度W延伸的線之間的夾角介於75°至90°範圍內。在量測底角θ時，傾斜表面223被定義為直接連接至平坦部分222的傾斜表面。在此範圍內，在正面對比度及側對比度同時得到改善的同時，可增大相對正面亮度（relative front luminance）。另外，正面對比度與側對比度之間的差值可減小，且在同一側視角下的對比度及在同一正視角（front viewing angle）下的對比度增大。此外，藉由滿足上述方程式1且具有75°至90°的底角θ將更有利於確保上述反射率斜率。具體而言，底角θ可介於80°至90°、85°至90°範圍內。P/B（P對B的比率）可介於1.5至3範圍內： [方程式1] 1 ＜ P/B ≤ 6 其中，P是所述圖案化部分的節距（單位：微米），且 B是所述平坦部分的最大寬度（單位：微米）， 圖2示出每一光學圖案221的兩個底角是相同的，但具有不同底角的光學圖案亦可包含於本發明的範圍內，只要所述底角處於上述75°至90°的範圍內即可。
光學圖案221可為雕刻光學圖案，所述雕刻光學圖案包括位於頂部處的第一表面224以及連接至第一表面224的至少一個傾斜表面223。
在光學顯示裝置中，第一表面224可形成於頂部處，以使得到達第二樹脂層220的光在更大程度上被第一表面224擴散，從而增大視角及亮度。因此，偏光板可增加光擴散且使亮度損失最小化。
圖2示出第一表面224是平坦的，且被形成於平行於平坦部分222。然而，第一表面224可具有小的凹凸面，或可為彎曲的表面。當第一表面224是彎曲表面時，可在第一表面224上形成雙凸透鏡圖案（lenticular lens pattern）。
第一表面224的寬度A可為0.5微米至30微米、具體而言為2微米至20微米。圖2示出雕刻圖案具有在其最上表面處形成有一個平坦表面且傾斜表面是平坦表面的梯形橫截面形狀（例如：具有截切三角形橫截面（truncated triangular cross-section）的截切稜柱圖案（truncated prism pattern），即，截切稜柱形狀（truncated prism shape））。然而，如圖3所示，其中在其最上表面處形成有第一表面且傾斜表面是彎曲表面的雕刻圖案（例如：具有截切雙凸透鏡圖案（truncated lenticular lens pattern）或截切微透鏡圖案（truncated micro-lens pattern）的對比度增強層200B）亦可包含於本發明的範圍內。在一些實施例中，雕刻圖案可具有反射率斜率良好且可見性良好的梯形形狀橫截面、矩形形狀橫截面或正方形形狀橫截面。
光學圖案221可具有0.3至3.0、具體而言0.4至2.5、更具體而言0.4至1.5、0.4至1.0的長寬比H/W。在此範圍內，光學顯示裝置的側對比度及側視角可得到改善。
光學圖案221可具有40微米或低於40微米、具體而言30微米或低於30微米、更具體而言3微米至15微米的高度H。在此範圍內，對比度、視角及亮度可改善且不會顯示出雲紋（Moire）現象。圖2示出圖案化部分的光學圖案221具有相同的高度。然而，光學圖案的高度可彼此不同，或相鄰光學圖案的至少一個高度可彼此不同。
光學圖案221可具有50微米或小於50微米、具體而言20微米或小於20微米、更具體而言3微米至20微米、5微米至30微米的最大寬度W。在此範圍內，對比度、視角及亮度可改善且不會顯示出雲紋現象。圖2示出圖案化部分的光學圖案221具有相同的最大寬度。然而，光學圖案的最大寬度可彼此不同，或相鄰光學圖案的至少一個寬度可彼此不同。
平坦部分222可出射到達平坦部分222的光，且可擴散光以維持正面對比度及亮度。
光學圖案（即，雕刻圖案）221的最大寬度W對平坦部分222的寬度B的比率W/B可為5或小於5，具體而言為0.1至3，更具體而言為0.15至2。在此範圍內，在同一側視角及同一正視角下的對比度得到增強且雲紋現象得到抑制的同時，可增強相對正面亮度，且可減小正面對比度與側對比度之間的差值。平坦部分222的寬度B可為約1微米至約300微米、具體而言為3微米至50微米。在此範圍內，正面亮度可得以增強。
一個光學圖案221的最大寬度W與鄰近的平坦部分222可形成一個節距P。
節距P可介於約5微米至約500微米、具體而言約10微米至約50微米範圍內。在此範圍內，在雲紋現象得到抑制的同時，可增強亮度及對比度。圖2示出圖案化部分與相鄰的圖案化部分具有相同的節距。然而，節距可彼此不同，或相鄰圖案化部分的至少一個節距可彼此不同。
圖2示出光學圖案221是雕刻圖案。然而，光學圖案221可為壓紋圖案（embossed pattern）。另外，圖2示出光學圖案221被形成為條帶形狀（stripe shape）的延伸形式，但光學圖案221可被形成為點形狀。本文所使用的用語「點」意味著填充圖案與光學圖案的組合是分散的。在一些實施例中，光學圖案221可為被形成為條帶形狀的延伸形式的雕刻圖案。
第二樹脂層220的折射率可高於第一樹脂層210的折射率。第二樹脂層220可包括位於面對第一樹脂層210的表面上的圖案化部分，所述圖案化部分包括光學圖案221及形成於光學圖案221之間的平坦部分222。光學圖案221可包括傾斜表面223。因此，對比度增強層200可擴散自偏光膜100入射的經偏光的光，且出射經偏光的光以在同時改善正面對比度及側對比度的同時增大相對正面亮度。另外，可使正面對比度的減小最小化，儘管增大側對比度，且可在增大在同一側視角下的對比度及在同一正視角下的對比度的同時，減小正面對比度與側對比度之間的差值。
第二樹脂層220可形成於第一樹脂層210上，且可擴散到達第一樹脂層210的光以增加光擴散。
第二樹脂層220的折射率可高於第一樹脂層210的折射率。第二樹脂層220與第一樹脂層210之間的折射率差的絕對值（第二樹脂層220的折射率-第一樹脂層210的折射率）可為0.05至0.20，更具體而言為0.06至0.15。在此範圍內，收集的光的擴散及對比度可增加。具體而言，折射率差為0.06至0.12的對比度增強層200在光學顯示裝置中可顯示出對經偏光的光的優異的擴散效果，且可增大在同一視角下的亮度。第二樹脂層220可具有1.50或大於1.50、具體而言1.50至1.70、1.50至1.60的折射率。在此範圍內，光擴散效果可為優異的。第二樹脂層220可由包含(甲基)丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、矽酮系樹脂及環氧系樹脂中的至少一者的UV可固化組成物或熱可固化組成物形成，但並非僅限於此。
第一樹脂層210可藉由依據入射位置在各種方向上對自光學顯示裝置的下表面入射的光進行折射及出射來擴散光。第一樹脂層210可被形成為直接接觸第二樹脂層220。
第一樹脂層210可包括填充圖案211，填充圖案211填充光學圖案221的至少一部分。本文所使用的用語「填充至少一部分」包括其中填充圖案完全填充光學圖案的結構以及其中填充圖案部分地填充光學圖案的結構二者。在其中填充圖案部分地填充光學圖案的結構中，光學圖案的剩餘部分或未填充部分可以用空氣或具有預定折射率的樹脂填充。具體而言，樹脂的折射率可等於或高於第一樹脂層的折射率且等於或低於第二樹脂層的折射率。
第一樹脂層210可具有小於1.52、具體而言至少1.35且小於1.50的折射率。在此範圍內，第一樹脂層210可具有優異的光擴散效果，且可易於製備。第一樹脂層210可由包含包括透明樹脂的UV可固化樹脂或熱可固化樹脂的組成物來形成。舉例而言，所述樹脂可包括(甲基)丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、矽酮系樹脂及環氧系樹脂中的至少一者，但並非僅限於此。透明樹脂在被固化之後量測時可具有約90%或大於90%的透射率。
對比度增強層200可積層於偏光膜100上。
在一個實施例中，第一樹脂層210可為非黏合性的。在此種情形中，在第一樹脂層210與偏光膜100之間可形成有黏合層、黏結層或黏合層/黏結層中的至少一者。在另一實施例中，第一樹脂層210可具有自黏性質。在此種情形中，第一樹脂層210可直接形成於偏光膜100上。當第一樹脂層210具有自黏性質時，第一樹脂層210可由包含丙烯酸樹脂、環氧樹脂及胺基甲酸酯樹脂中的至少一者的黏合樹脂形成。第一樹脂層210可更包含在黏合樹脂中的固化劑、矽烷偶合劑及添加劑中的至少一種。
在對比度增強層200與偏光膜100之間，可進一步形成黏合層、黏結層、黏合層/黏結層及上述保護膜中的至少一者。
對比度增強層200可具有10微米至100微米、具體而言20微米至60微米、更具體而言20微米至45微米的厚度。在此範圍內，對比度增強層200可用於光學顯示裝置中。抗反射膜
抗反射膜300形成於對比度增強層200上。
抗反射膜300可具有0.45%或小於0.45%的最小反射率。在此範圍內，可防止外部光藉由對比度增強層中的光學圖案發生色散，且外觀可得到改善。在一些實施例中，抗反射膜300可具有0%至0.45%、0.01%至0.45%的最小反射率。
抗反射膜300可包括第一基底層310及高折射率層與低折射率層的積層板320。
抗反射膜300可按照第一基底層310、高折射率層及低折射率層的次序積層於對比度增強層200上。抗反射膜300的低折射率層可具有2H或大於2H、例如2H至3H的鉛筆硬度。在此範圍內，抗反射膜300可在偏光板10的最外表面處用於保護偏光膜100。
抗反射膜300可具有20微米至150微米、例如40微米至100微米的厚度。在此範圍內，抗反射膜300可用於偏光板。
第一基底層310可支撐抗反射膜300，且增大抗反射膜300的機械強度。
第一基底層310可具有1.40至1.80、例如1.45至1.70、1.48至1.50、1.50至1.60的折射率。在此範圍內，當高折射率層與低折射率層依序積層時，可降低抗反射膜300的最小反射率。
第一基底層310可由光學透明樹脂形成。具體而言，所述樹脂可包括以下中的至少一者：纖維素酯樹脂，包括三乙醯基纖維素（TAC）等；聚酯樹脂，包括聚對苯二甲酸乙二醇酯（polyethylene terephthalate）、聚萘二甲酸乙二醇酯（polyethylene naphthalate）、聚對苯二甲酸丁二醇酯（polybutylene terephthalate）、聚萘二甲酸丁二醇酯（polybutylene naphthalate）等；聚碳酸酯樹脂；聚(甲基)丙烯酸酯樹脂，包括聚甲基丙烯酸甲酯等；聚苯乙烯樹脂；聚醯胺樹脂；以及聚醯亞胺樹脂。在一些實施例中，所述樹脂可包括包含三乙醯基纖維素等的纖維素樹脂、包含聚對苯二甲酸乙二醇酯的聚酯樹脂等。
第一基底層310可為未拉伸膜，但第一基底層310可藉由預定方法被拉伸而成為具有預定延遲範圍的延遲膜或等向性光學膜（isotropic optical film）。
在一個實施例中，第一基底層310可具有8,000奈米或大於8,000奈米、具體而言10,000奈米或大於10,000奈米、更具體而言大於10,000奈米、更具體而言10,100奈米至15,000奈米的面內延遲Re。在此範圍內，彩虹斑點可變為不可見的，且藉由對比度增強層被擴散的光可被進一步擴散。
在另一實施例中，第一基底層310可為面內延遲Re為60奈米或小於60奈米、具體而言0奈米至60奈米、更具體而言40奈米至60奈米的等向性光學膜。在此範圍內，視角可得到補償以改善影像品質。本文所使用的用語「等向性光學膜」是指具有實質上相同的nx、ny及nz的膜，且用語「實質上相同」不僅包括完全相同的情形且亦包括包含一些誤差的情形。
在一些實施例中，第一基底層310可為面內延遲Re為60奈米或小於60奈米、具體而言0奈米至60奈米、更具體而言40奈米至60奈米的等向性光學膜。此時，第一基底層310可直接形成於對比度增強層200上。
第一基底層310在可見光區中可具有80%或大於80%、具體而言85%至95%的透光率。在此範圍內，第一基底層310可用於偏光板。
第一基底層310可包括基底膜（base film）及形成於所述基底膜的至少一個表面上的底漆層（primer layer）。底漆層的折射率對基底膜的折射率的比率（底漆層的折射率/基底膜的折射率）是1.0或小於1.0、具體而言0.6至1.0、更具體而言0.69至0.95、更具體而言0.7至0.9、更具體而言0.72至0.88。在此範圍內，可增大第一基底層310的透射率。基底膜可具有1.3至1.7、具體而言1.4至1.6的折射率。在此範圍內，基底膜可用作第一基底層310的基底膜，且在增大第一基底層310的透射率的同時，易於控制相對於底漆層的折射率。基底膜可包括由上述樹脂形成的膜。底漆層可具有1.0至1.6、具體而言1.1至1.6、更具體而言1.1至1.5的折射率。在此範圍內，藉由具有相對於基底膜的適當的折射率，可增大基底層的透射率。底漆層可具有1奈米至200奈米、具體而言60奈米至200奈米的厚度。在此範圍內，底漆膜可用於光學膜，且具有相對於基底膜的適當的折射率，以增大基底層的透射率並防止易碎現象（brittle phenomenon）。底漆層可為不含有胺基甲酸酯基的非胺基甲酸酯底漆層。具體而言，底漆層可由包含例如聚酯、壓克力（acryl）等單體或樹脂的用於底漆層的組成物形成。上述折射率範圍可藉由控制該些單體的混合比率（例如，莫耳比）來提供。用於底漆層的組成物可更包含例如UV吸收劑、抗靜電劑、消泡劑、界面活性劑等至少一種添加劑。
第一基底層310可具有10微米至150微米、具體而言30微米至100微米、更具體而言40微米至90微米的厚度。在此範圍內，第一基底層310可用於抗反射膜中。
高折射率層可與低折射率層一起形成於第一基底層310上以增大抗反射膜300的硬度並降低抗反射膜300的最小反射率。高折射率層可為單層，或者可積層具有不同折射率的二或更多個高折射率層。
高折射率層的折射率可高於低折射率層的折射率。高折射率層可具有1.53至1.70、例如1.56至1.65的折射率。在此範圍內，當低折射率層積層於高折射率層上時，可降低抗反射膜300的最小反射率。
高折射率層可具有1微米至50微米、具體而言1微米至30微米、更具體而言5微米至10微米的厚度。在此範圍內，高折射率層可用於抗反射膜，且可確保硬度。
高折射率層可由可在固化之後提供1.53至1.70的折射率的用於高折射率層的組成物形成。用於高折射率層的組成物可具有1.53至1.70、例如1.55至1.65的折射率。
在一個實施例中，用於高折射率層的組成物可包括折射率為1.6或大於1.6、具體而言1.615至1.635、更具體而言1.62至1.63的高折射率化合物、折射率低於高折射率化合物的折射率的UV可固化化合物、起始劑及無機顆粒。
高折射率化合物可為UV可固化化合物，且可包括以下中的至少一者：高折射率單體或高折射率樹脂，例如茀系化合物（fluorene-based compound）、聯苯基系化合物、雙酚系化合物、硫代苯基系化合物（thiophenyl-based compound）、硫代苯甲基系化合物（thiobenzyl-based compound）、苯硫醚系化合物（phenylsulfide-based compound）及硫代萘系化合物（thionaphthalene-based compound）。在一些實施例中，藉由使用茀系化合物及聯苯基系化合物中的至少一者作為高折射率化合物，可增大高折射率層的折射率以進一步降低抗反射膜的最小反射率。
茀系化合物可為由以下式1表示的樹脂，但並非僅限於此。 [式1]其中，m及n分別為1或大於1的整數，m + n為2至8的整數，且R為氫或甲基。
在一些實施例中，m + n可為整數4。在此種情形中，當與UV可固化化合物一起使用時經固化產物的折射率及硬度可增大，且當以下所述的低折射率層積層於高折射率層上時，最小反射率可降低為0.45%或低於0.45%。
高折射率單體的折射率可高於UV可固化化合物的折射率，且高折射率單體的黏度可低於高折射率樹脂的黏度，以使得可改善用於高折射率層的組成物的適用性。
高折射率單體可具有1.55或大於1.55、具體而言1.56至1.59、更具體而言1.57至1.58的折射率。在此範圍內，經固化產物的折射率可增大從而降低抗反射膜的最小反射率。在一個實施例中，高折射率單體可包括由以下式2表示的化合物。高折射率單體可使用市售產品或藉由傳統方法來合成： [式2]其中，n為1至4的整數，且R為氫或甲基。
以固體含量計，在用於高折射率層的組成物中可存在5重量%至60重量%、例如10重量%至45重量%的量的高折射率化合物。在此範圍內，當低折射率層積層於高折射率層上時可充分地降低最小反射率，且可充分地增大抗反射膜的硬度。本文所使用的用語「固體含量」意指除溶劑外的全部組成物，且並非僅限於液相或固相。
UV可固化化合物的折射率可低於高折射率化合物的折射率。然而，UV可固化化合物可形成高折射率層的基質且增大高折射率層的硬度。僅包含高折射率化合物的組成物可降低抗反射膜的硬度，且可能無法用於光學顯示裝置中。在一些實施例中，UV可固化化合物可具有例如(甲基)丙烯酸酯基或環氧基等UV可固化基。UV可固化化合物可包括雙官能(甲基)丙烯酸酯單體或更高多官能(甲基)丙烯酸酯單體、由前述單體形成的寡聚物及由前述單體形成的樹脂中的至少一者。舉例而言，UV可固化化合物可為雙官能(甲基)丙烯酸酯化合物至10官能(甲基)丙烯酸酯化合物。
UV可固化化合物可包括以下中的至少一者：例如多元醇及(甲基)丙烯酸的酯等多官能(甲基)丙烯酸酯或由多元醇、異氰酸酯化合物、或(甲基)丙烯酸的羥基酯（hydroxy ester）合成的多官能胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。
UV可固化化合物可包括雙官能(甲基)丙烯酸酯化合物或更高官能(甲基)丙烯酸酯化合物。雙官能(甲基)丙烯酸酯化合物的實例可包括二(甲基)丙烯酸酯（di(meth)acrylate），例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯（ethylene glycol di(meth)acrylate）、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯（diethylene glycol di(meth)acrylate）、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯（butanediol di(meth)acrylate）、己二醇二(甲基)丙烯酸酯（hexanediol di(meth)acrylate）、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯（nonanediol di(meth)acrylate）、乙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯（ethoxylated hexanediol di(meth)acrylate）、丙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯（propoxylated hexanediol di(meth)acrylate）、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯（diethylene glycol di(meth)acrylate）、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯（polyethylene glycol di(meth)acrylate）、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯（tripropylene glycol di(meth)acrylate）、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯（polypropylene glycol di(meth)acrylate）、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯（neopentyl glycol di(meth)acrylate）、乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯（ethoxylated neopentyl glycol di(meth)acrylate）、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯及羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯（hydroxypivalic acid neopentyl glycol di(meth)acrylate）。三官能或更高官能(甲基)丙烯酸酯化合物的實例可包括三(甲基)丙烯酸酯（tri(meth)acrylate），例如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯（trimethylolpropane tri(meth)acrylate）、乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯（ethoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate）、丙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯（propoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate）、三2-羥乙基異氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯（tris 2-hydroxyethyl isocyanurate tri(meth)acrylate）及甘油三(甲基)丙烯酸酯（glyceryl tri(meth)acrylate）；三官能(甲基)丙烯酸酯化合物，例如季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯（pentaerythritol tri(meth)acrylate）、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯（dipentaerythritol tri(meth)acrylate）及二-三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯（ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate）；具有三或更多個官能基的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，例如季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯（pentaerythritol tetra(meth)acrylate）、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯（ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate）、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯（dipentaerythritol tetra(meth)acrylate）、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯（dipentaerythritol penta(meth)acrylate）、二-三羥甲基丙烷五(甲基)丙烯酸酯（ditrimethylolpropane penta(meth)acrylate）、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯（dipentaerythritol hexa(meth)acrylate）、二-三羥甲基丙烷六(甲基)丙烯酸酯（ditrimethylolpropane hexa(meth)acrylate）、或其中該些(甲基)丙烯酸酯的一部分經烷基或ε-己內酯取代的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。
以固體含量計，在用於高折射率層的組成物中，可存在20重量%至60重量%的量的UV可固化化合物。在此範圍內，高折射率層的基質可具有高硬度。在一些實施例中，可存在35重量%至60重量%、35重量%至50重量%的量的UV可固化化合物。在此範圍內，當低折射率層積層於高折射率層上時可充分地降低最小反射率，且可充分地增大抗反射膜的硬度。
起始劑可固化高折射率化合物及UV可固化化合物以形成高折射率層。起始劑可包括熟習此項技術者已知的傳統光自由基起始劑及光陽離子起始劑中的至少一種。儘管無特別限制，然而使用吸收波長為400奈米或小於400奈米的起始劑使得僅藉由光固化便能生產高折射率層。
光自由基起始劑可藉由光照射產生自由基以催化固化製程。光自由基起始劑的實例可包括磷、三嗪、苯乙酮、二苯甲酮、噻噸酮、安息香、肟及苯基酮（phenyl ketone）中的至少一種。光陽離子起始劑可包括陽離子及陰離子的鹽。陽離子的實例可包括二芳基碘鎓（diaryliodonium），例如二苯基碘鎓、4-甲氧基二苯基碘鎓、雙(4-甲基苯基)碘鎓、(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]碘鎓、雙(4-第三丁基苯基)碘鎓、雙(十二烷基苯基)碘鎓；三芳基鋶（triarylsulfonium），例如三苯基鋶及二苯基-4-硫代苯氧基苯基鋶；雙[4-(二苯基鋶)苯基]硫醚；雙[4-(二(4-(2-羥乙基)苯基)鋶)苯基]硫醚（bis[4-(di(4-(2-hydroxyethyl)phenyl) sulfonio)phenyl]sulfide）；(η5-2,4-環戊二烯-1-基)[(1,2,3,4,5,6-η)-(1-甲基乙基)苯]鐵(1+)（(η5-2,4-cyclopentadien-1-yl)[(1,2,3,4,5,6-η)-(1-methylethyl)benzene]iron(1+)）等。陰離子的實例可包括四氟硼酸根（BF4 - ）、六氟磷酸根（PF6 - ）、六氟銻酸根（SbF6 - ）、六氟砷酸根（AsF6 - ）、六氯銻酸根（SbCl6 - ）等。
以固體含量計，在用於高折射率層的組成物中可存在2重量%至5重量%、例如2重量%至4重量%的量的起始劑。在此範圍內，所述組成物可被充分固化，且可防止抗反射膜的透射率因起始劑的殘餘量而降低。
無機顆粒可增大高折射率層的折射率及硬度。無機顆粒的表面可不經處理或經處理（例如，利用(甲基)丙烯酸酯基）以改善與組成物中的其他組分的相容性，且進一步增大高折射率層的硬度。表面處理可對無機顆粒的總表面積的5%至50%執行。在此範圍內，藉由與UV可固化化合物及高折射率樹脂結合，可增大硬度。無機顆粒可包括二氧化矽（silica）、氧化鋯（zirconia）、二氧化鈦（titania）及氧化鋁（alumina）中的至少一種，且在一個實施例中可使用氧化鋯。無機顆粒可具有1奈米至50奈米、具體而言5奈米至20奈米的平均粒徑D50。在此範圍內，抗反射膜可具有增大的硬度且不會使光學性質劣化。
以固體含量計，在用於高折射率層的組成物中可存在2重量%至35重量%、例如5重量%至30重量%的量的無機顆粒。在此範圍內，抗反射膜可具有增大的硬度且不會使光學性質劣化。
用於高折射率層的組成物可更包含抗靜電劑。
抗靜電劑可降低抗反射膜的表面電阻。在一個實施例中，抗反射膜的低折射率層可具有9×1010 歐姆/□或小於9×1010 歐姆/□、例如1×1010 歐姆/□或小於1×1010 歐姆/□的表面電阻。
抗靜電劑可包括熟習此項技術者已知的傳統抗靜電劑。舉例而言，抗靜電劑可包含具有四級銨陽離子及陰離子的材料。陰離子的實例可包括鹵素離子、HSO4 - 、SO4 2- 、NO3 - 、PO4 3- 等。抗靜電劑可包括四級銨陽離子，但亦可包括在分子中包含四級銨陽離子作為官能基的丙烯酸材料。
以固體含量計，在用於高折射率層的組成物中可存在2重量%至10重量%、例如3重量%至7重量%的量的抗靜電劑。在此範圍內，可獲得抗靜電效果而不影響抗反射的硬度，並且可在防止抗靜電劑遷移的同時防止例如硬度劣化等性質劣化。
用於高折射率層的組成物可更包含熟習此項技術者已知的傳統添加劑。舉例而言，可包含除泡劑（antifoaming agent）、抗氧化劑（antioxidant）、UV吸收劑（UV absorber）、光穩定劑（light stabilizer）、調平劑（leveling agent）等，但並非僅限於此。用於高折射率層的組成物可更包含溶劑以改善用於高折射率層的組成物的塗佈性質。所述溶劑可包括丙二醇單甲醚（propylene glycol monomethyl ether）及甲基乙基酮（methyl ethyl ketone）中的至少一種。
低折射率層可形成於高折射率層上，且其折射率低於高折射率層的折射率，因而使得抗反射膜300的最小反射率可被降低。高折射率層與低折射率層之間的折射率差（高折射率層的折射率-低折射率層的折射率）可為0.26或大於0.26、例如0.26至0.30。在此範圍內，抗反射膜300的折射率可被降低，且例如霧度等光學特性可得到改善。低折射率層可具有1.35或小於1.35、例如1.25至1.32的折射率。
低折射率層可具有50奈米至300奈米、例如80奈米至200奈米、具體而言80奈米至150奈米的厚度。在此範圍內，低折射率層可用於抗反射膜中。
低折射率層可由用於低折射率層的組成物形成。用於低折射率層的組成物可包括無機顆粒、含氟的單體或其寡聚物、不含氟的單體或其寡聚物、起始劑及含氟的添加劑。
無機顆粒可具有中空結構及低折射率，以降低低折射率層的折射率。無機顆粒可具有1.4或小於1.4、例如1.2至1.38的折射率。無機顆粒可包括中空二氧化矽。無機顆粒可包括未經處理的中空顆粒，或者無機顆粒的表面可經UV可固化官能基處理。無機顆粒的平均粒徑D50等於或小於低折射率層的厚度。無機顆粒的平均粒徑D50可為30奈米至150奈米、例如50奈米至100奈米。在此範圍內，無機顆粒可包含於低折射率層中，且例如霧度及透射率等光學性質可得到改善。
含氟的單體或其寡聚物與無機顆粒一起可降低低折射率層的折射率，且與不含氟的單體或其寡聚物一起形成低折射率層的基質。含氟的單體可包括含氟的(甲基)丙烯酸酯系化合物。含氟的單體可包括熟習此項技術者已知的傳統化合物。
不含氟的單體或其寡聚物可形成低折射率層的基質，且可包括UV可固化化合物。不含氟的單體或其寡聚物可為雙官能或更高官能、例如雙官能至10官能(甲基)丙烯酸酯化合物。具體而言，不含氟的單體可包括上述多官能(甲基)丙烯酸酯，例如多元醇及(甲基)丙烯酸的酯。
可使用與在用於高折射率層的組成物中所述的起始劑相同或不同的起始劑。
添加劑可對低折射率層增加防污染性質及減薄性質，且可使用熟習此項技術者已知的傳統添加劑。添加劑可包括含氟的添加劑及矽系添加劑中的至少一種。含氟的添加劑可為UV可固化氟化丙烯酸化合物。舉例而言，可使用包括KY-1203在內的KY-1200系列（信越化學公司（Shin-Etsu Chemical））。
以固體含量計，用於低折射率層的組成物可包含20重量%至70重量%的無機顆粒、10重量%至50重量%的含氟的單體或其寡聚物、5重量%至25重量%的不含氟的單體或其寡聚物、2重量%至5重量%的起始劑及1重量%至10重量%的添加劑。在此範圍內，可提供2H或大於2H的鉛筆硬度及防指紋效果。在一些實施例中，以固體含量計，用於低折射率層的組成物可包含40重量%至60重量%的無機顆粒、20重量%至40重量%的含氟的單體或其寡聚物、5重量%至15重量%的不含氟的單體或其寡聚物、2重量%至4重量%的起始劑及2重量%至7重量%的添加劑。
用於低折射率層的組成物可更包含熟習此項技術者已知的傳統添加劑。舉例而言，可包含除泡劑、抗氧化劑、UV吸收劑、光穩定劑、調平劑等，但並非僅限於此。
用於低折射率層的組成物可更包含溶劑以改善塗佈性質。所述溶劑可包括甲基乙基酮、甲基異丁基酮（methyl isobutyl ketone）及乙二醇二甲醚（ethylene glycol dimethyl ether）中的至少一種。
抗反射膜300可直接形成於對比度增強層200上。換言之，圖案化部分是在將用於第二樹脂層220的組成物塗佈至抗反射膜300的第一基底層310上之後形成，且圖案化部分被填充以用於第一樹脂層210的組成物，因此對比度增強層200的第二樹脂層220直接形成於抗反射膜300的第一基底層310上。作為另一選擇，第二樹脂層220可具有自黏性質，且抗反射膜300可貼合至對比度增強層200。作為另一選擇，在抗反射膜300與對比度增強層200之間，可夾置黏合層、黏結層或黏合層/黏結層。
在下文中，將參照圖4來闡述根據本發明另一實施例的偏光板。
參照圖4，除第二基底層400及黏合層500進一步積層於對比度增強層200與抗反射層300之間以外，偏光板20實質上相同於根據本發明實施例的偏光板10。參照圖4，對比度增強層200、第二基底層400、黏合層500及抗反射膜300是按照此次序積層於偏光膜100上。
第二基底層400可形成於對比度增強層200與抗反射膜300之間，以增大偏光板20的機械強度。此外，當抗反射膜300的第一基底層310是未拉伸膜或等向性光學膜時，藉由使用延遲膜作為第二基底層，可對偏光板提供其他功能。
第二基底層400可由與上述第一基底層310相同或不同的樹脂形成。第二基底層400可具有與上述第一基底層310的厚度相同或不同的厚度。第二基底層400可具有與上述第一基底層310的延遲相同或不同的延遲。在一些實施例中，第二基底層400可具有為8,000奈米或大於8,000奈米、具體而言10,000奈米或大於10,000奈米、更具體而言大於10,000奈米、更具體而言10,100奈米至15,000奈米的面內延遲Re。
第二基底層400可直接形成於對比度增強層200上。此外，儘管圖4中未示出，然而第二基底層400可形成於對比度增強層200上且之間夾置有黏合層/黏結層。
黏合層500可將第二基底層400與抗反射膜300黏結。
黏合層500可由包含黏合樹脂及固化劑的用於黏合層的組成物形成。黏合樹脂可包括(甲基)丙烯酸黏合樹脂、環氧黏合樹脂、矽酮黏合樹脂及胺基甲酸酯黏合樹脂中的至少一種。固化劑可包括熟習此項技術者已知的傳統固化劑。舉例而言，固化劑可包括以下中的至少一種：異氰酸酯系固化劑（isocyanate-based curing agent）、環氧系固化劑（epoxy-based curing agent）、三聚氰胺系固化劑（melamine-based curing agent）、氮丙啶系固化劑（aziridine-based curing agent）及胺系固化劑。用於黏合層的組成物可包含矽烷偶合劑、交聯劑及各種添加劑中的至少一者。
黏合層500可更包含光散射劑。光散射劑可散射入射於偏光板上的外部光以改善在非驅動期間顯示裝置的螢幕的黑色視覺靈敏度。光散射劑可為平均粒徑為0.5微米至50微米、例如1微米至10微米的球形顆粒。光散射劑可包括無機光散射劑、有機光散射劑或有機-無機混合型光散射劑中的至少一種。無機光散射劑、有機光散射劑及有機-無機混合型光散射劑可包括熟習此項技術者已知的傳統光散射劑。在一些實施例中，光散射劑可包括有機光散射劑。具體而言，光散射劑可包括以下中的至少一種：有機顆粒，例如(甲基)丙烯酸系聚合物樹脂（例如聚甲基丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸酯共聚物（methacrylate ester copolymer））、胺基甲酸酯系聚合物樹脂、環氧系聚合物樹脂、乙烯基系聚合物樹脂、聚酯系聚合物樹脂、聚醯胺系聚合物樹脂、聚苯乙烯系聚合物樹脂或矽酮系聚合物樹脂；以及無機顆粒，例如氧化鈦（titanium oxide）、氧化鋯等。
黏合層500可具有1.40至1.65的折射率。在此範圍內，藉由反射率減小效果，可使因黏合層500而引起的光學損耗最小化，且可降低光反射率。
黏合層500可具有1微米至50微米、例如5微米至20微米的厚度。在此範圍內，黏合層500可用於偏光板中，且第二基底層400與抗反射膜300可很好地黏結。
黏合層500可具有40%或小於40%、例如1%至40%的霧度。在此範圍內，當光學顯示裝置不被驅動時，光學顯示裝置的外觀可得到改善，且側對比度在驅動光學顯示裝置期間可不會因對比度增強層而被降低。
在一些實施例中，面內延遲Re為8,000奈米或大於8,000奈米的第二基底層400與折射率為1.40至1.65的黏合層500的積層板可包括於對比度增強層200與抗反射膜300之間，以確保0.3或小於0.3的反射率斜率並改善可見性。
在下文中，將參照圖5來闡述根據本發明另一實施例的偏光板。圖5是根據本發明另一實施例的偏光板的剖視圖。
參照圖5，偏光板30可包括依序積層於偏光膜100上的第一樹脂層210'及第二樹脂層220'，且除包含於對比度增強層200C中的第二樹脂層220'的折射率低於第一樹脂層210'的折射率以外，偏光板30實質上相同於根據本發明實施例的偏光板10。
此時，第二樹脂層220'與第一樹脂層210'之間的折射率差的絕對值（第一樹脂層210'的折射率-第二樹脂層220'的折射率）可為0.05至0.20，更具體而言為0.06至0.15。在此範圍內，收集的光可被很好地擴散，且可大大提高對比度。具體而言，折射率差為0.06至0.12的對比度增強層可在光學顯示裝置中具有優異的偏光擴散效果，且可增大甚至在同一視角下的亮度。第一樹脂層210'可具有1.50或大於1.50、具體而言1.50至1.70、1.50至1.60的折射率。第二樹脂層220'可具有小於1.52、具體而言至少1.35且小於1.50的折射率。在此範圍內，在便於生產的同時可很好地擴散光，且在改善對比度的同時將很好地擴散經偏光的光。
在下文中，將參照圖6來闡述根據本發明另一實施例的偏光板。圖6是根據本發明另一實施例的偏光片的剖視圖。
參照圖6，偏光板40可包括依序積層於偏光膜100上的第一樹脂層210'及第二樹脂層220'，且除包含於對比度增強層200C中的第二樹脂層220'的折射率低於第一樹脂層210'的折射率以外，偏光板40實質上相同於根據本發明另一實施例的偏光板20。
第一樹脂層210'及第二樹脂層220'之間的折射率關係與在偏光板30中所述的相同。
本發明的液晶顯示器可包括本發明的偏光板作為相對於液晶面板的觀察者側偏光板。本文所使用的「觀察者側偏光板」意指相對於液晶面板設置於螢幕附近（即，與光源相對）的偏光板。
在一個實施例中，液晶顯示裝置可包括按照次序依序堆疊的背光單元、第一偏光板、液晶面板及第二偏光板，且所述第二偏光板可包括根據本發明實施例的偏光板。液晶面板可採用垂直對齊（vertical alignment，VA）模式、面內切換（in-plane switching，IPS）模式、圖案化垂直對齊（patterned vertical alignment，PVA）模式或超圖案化垂直對齊（super-patterned vertical alignment，S-PVA）模式，但並非僅限於此。
在下文中，將參照一些實例更詳細地闡述本發明。應理解，提供該些實例僅用於說明，而不應被視為以任何方式限制本發明。實例 實例 1
藉由以下方式製備了偏光片（厚度：23微米）：在60℃下將聚乙烯醇膜拉伸至其初始長度的3倍並使碘吸附至經拉伸的膜，然後在40℃下在硼酸的水溶液中將所得膜拉伸至所述膜的拉伸長度的2.5倍。
藉由以下方式製備了偏光膜：使用用於偏光板的黏結劑（Z-200，日本合成有限公司（Nippon Goshei Co., Ltd.））將環烯烴（cycloolefin，COP）膜（厚度：50微米，瑞翁公司（ZEON Corporation））黏結至以上所製備的偏光片的一個表面並將三乙醯基纖維素（TAC）膜（厚度：60微米，富士膠片公司（Fujifilm Corporation））黏結至偏光片的另一表面。
藉由以下方式製備了塗層：將UV可固化樹脂（SSC-5710，希納T&C公司（Shina T&C））塗佈至抗反射膜（大日本印刷公司（DNP），第一基底膜：厚度為60微米的TAC膜（Re：在550奈米的波長下為0奈米），最小反射率：0.39%）的第一基底層的一個表面上。使用包括具有兩個相同底角的壓紋圖案以及位於壓紋圖案之間的平坦部分的圖案化部分的膜將雕刻圖案及平坦部分施加至塗層，然後進行固化以製備包含具有兩個相同底角的雕刻圖案（具有圖1所示梯形橫截面的雕刻圖案）及平坦部分的圖案化部分的第二樹脂層。將熱可固化黏合樹脂（丙烯酸共聚物，賽登化學工業有限公司（Saiden Chemical Industry Co., Ltd.））塗佈至第二樹脂層上以形成具有完全填充雕刻圖案的填充圖案的第一樹脂層（自黏性質），然後形成抗反射膜與對比度增強層的積層板。下表1示出雕刻圖案的詳細規範。
將偏光膜積層於積層板的第一樹脂層的一個表面上以製備依序積層有COP膜（厚度：50微米）、偏光片（厚度：23微米）、TAC膜（厚度：60微米）、第一樹脂層（折射率：1.48）、第二樹脂層（折射率：1.60）及抗反射膜（第一基底層：厚度為60微米的TAC膜，最小反射率：0.39%）的偏光板。實例 2
藉由以下步驟以與實例1相同的方式製備了偏光膜：使用用於偏光板的黏結劑（Z-200，日本合成有限公司）將COP膜（厚度：50微米，瑞翁公司）黏結至偏光片（厚度：23微米）的一個表面並將PET膜（厚度： 80微米，SRF，東洋紡有限公司（Toyobo Co., Ltd.））黏結至偏光片的另一表面。
在作為第二基底層的PET膜（厚度：80微米，SRF，Re：8,000奈米或大於8,000奈米，東洋紡有限公司）的一個表面上以與實例1相同的方式製備了對比度增強層。
對比度增強層的第一樹脂層積層於偏光膜的PET膜的一個表面上。
使用黏合層（折射率：1.48）將抗反射膜（大日本印刷有限公司（DNP Co., Ltd.），第一基底層：厚度為60微米的TAC膜（Re：在550奈米的波長下為0奈米），最小反射率：0.39%）積層於第二基底層的另一表面上，以製備其中依序積層有COP膜（厚度：50微米）、偏光片（厚度：23微米）、PET膜（厚度：80微米）、第一樹脂層（折射率：1.48）、第二樹脂層（折射率：1.60）、作為第二基底層的PET膜（厚度：80微米）、黏合層（折射率：1.48）及抗反射膜（第一基底層：厚度為60微米的TAC膜，最小反射率：0.39%）的偏光板。實例 3
除了分別將包含於偏光膜中的PET膜及作為第二基底層的PET膜改變為TAC膜（厚度：60微米，富士膠片公司（Fujifilm Corporation））且將抗反射膜改變為抗反射膜（TAC膜（Re：在550奈米的波長下為0奈米）作為第一基底膜且厚度為60微米的，最小反射率：0.29%，凸版有限公司（Toppan Co., Ltd.））以外，以與實例2相同的方式製備了偏光板。實例 4
除了分別將包含於偏光膜中的PET膜及作為第二基底層的PET膜改變為TAC膜（厚度：60微米，富士膠片公司）且將抗反射膜改變為抗反射膜（TAC膜作為第一基底膜且厚度為60微米，最小反射率：0.19%，凸版有限公司）以外，以與實例2相同的方式製備了偏光板。實例 5
除了分別將包含於偏光膜中的PET膜及作為第二基底層的PET膜改變為TAC膜（厚度：60微米，富士膠片公司），且使用UV可固化樹脂（SSC-5100，希納T&C公司）將第二樹脂層改變為折射率為1.54的第二樹脂層，同時將抗反射膜改變為抗反射膜（TAC膜（Re：在550奈米的波長下為0奈米）作為第一基底膜且厚度為60微米，最小反射率：0.19%，凸版有限公司）以外，以與實例2相同的方式製備了偏光板。實例 6
除了將抗反射膜改變為抗反射膜（TAC膜（Re：在550奈米的波長下為0奈米）作為第一基底膜且厚度為60微米，最小反射率：0.19%，凸版有限公司）以外，以與實例2相同的方式製備了偏光板。實例 7
除了使用UV可固化樹脂（SSC-5100，希納T&C公司）將第二樹脂層改變為折射率為1.54的第二樹脂層，且將抗反射膜改變為抗反射膜（TAC膜作為第一基底膜且厚度為60微米，最小反射率：0.19%，凸版有限公司）以外，以與實例2相同的方式製備了偏光板。實例 8
除了將抗反射膜改變為抗反射膜（TAC膜作為第一基底膜且厚度為60微米，最小反射率：0.09%，凸版有限公司）以外，以與實例2相同的方式製備了偏光板。實例 9
以與實例1相同的方式製備了偏光片。
藉由以下方式製備了偏光膜：使用用於偏光板的黏結劑（Z-200，日本合成有限公司）將COP膜（厚度：50微米，瑞翁公司）黏結至以上所製備的偏光片的一個表面並將PET膜（厚度：80微米，SRF，凸版有限公司）黏結至偏光片的另一表面。
藉由以下方式製備了塗層：將UV可固化樹脂（SSC-4560，希納T&C公司）塗佈至抗反射膜（凸版有限公司，第一基底膜：厚度為60微米的TAC膜（Re：在550奈米的波長下為0奈米），最小反射率：0.29%）的第一基底層的一個表面上。使用包括具有兩個相同底角的壓紋圖案以及位於壓紋圖案之間的平坦部分的圖案化部分的膜將雕刻圖案及平坦部分施加至塗層，然後進行固化以製備包含具有兩個相同底角的雕刻圖案（具有圖1所示梯形橫截面的雕刻圖案）及平坦部分的圖案化部分的第二樹脂層。將UV可固化樹脂（SSC-5710，希納T&C公司）塗佈至第二樹脂層上以形成具有完全填充雕刻圖案的填充圖案的第一樹脂層（自黏性質），然後形成抗反射膜與對比度增強層的積層板。下表1示出雕刻圖案的詳細規範。
將偏光膜積層於積層板的第一樹脂層的一個表面上以製備依序積層有COP膜（厚度：50微米）、偏光片（厚度：23微米）、PET膜（厚度：80微米）、第一樹脂層（折射率：1.60）、第二樹脂層（折射率：1.48）及抗反射膜（第一基底層：厚度為60微米的TAC膜，最小反射率：0.29%）的偏光板。實例 10
藉由以下步驟以與實例9相同的方式製備了偏光膜：使用用於偏光板的黏結劑（Z-200，日本合成有限公司）將COP膜（厚度：50微米，瑞翁公司）黏結至以上所製備的偏光片的一個表面並將PET膜（厚度：80微米，SRF，凸版有限公司）黏結至偏光片的另一表面。
在作為第二基底層的PET膜（厚度：80微米，SRF，Re：8,000奈米或大於8,000奈米，東洋紡有限公司）的一個表面上以與實例9相同的方式形成了對比度增強。
將第一樹脂層積層於偏光膜的PET膜的一個表面上，且藉由黏合劑（折射率：1.48）將抗反射膜（凸版有限公司，第一基底層：厚度為60微米的TAC膜（Re：在550奈米的波長下為0奈米），最小反射率：0.09%）積層於第二基底層的另一表面上，以製備依序積層有COP膜（厚度：50微米）、偏光片（厚度：23微米）、PET膜（厚度：80微米）、第一樹脂層（折射率：1.60）、第二樹脂層（折射率：1.48）、作為第二基底層的PET膜（厚度：80微米）、黏合層（折射率：1.48）及抗反射膜（第一基底層：厚度為60微米的TAC膜，最小反射率：0.09%）的偏光板。比較例 1
除了不形成對比度增強以外，以與實例1相同的方式製備了偏光板。比較例 2
除了使用抗反射膜（TAC膜作為第一基底層，最小反射率：1%）作為抗反射膜以外，以與實例1相同的方式製備了偏光板。比較例 3
除了使用抗反射膜（TAC膜作為第一基底層，最小反射率：0.46%）作為抗反射膜以外，以與實例1相同的方式製備了偏光板。比較例 4
除了使用具有下表1所示雕刻圖案的對比度增強層以外，以與實例1相同的方式製備了偏光板。圖案化部分具有由以上方程式1表示的為6.21的值。比較例 5
除了使用具有下表1所示雕刻圖案的對比度增強層以外，以與實例1相同的方式製備了偏光板。圖案化部分不具有平坦部分。比較例 6
除了使用具有下表1所示雕刻圖案的對比度增強層以外，以與實例1相同的方式製備了偏光板。雕刻圖案具有67.4°的底角。 [表1]
對表2所列實例及比較例的偏光板的性質進行了評價。結果示出於表2、圖7及圖8中。
（1）反射率：將黑色丙烯酸片（日東巨石工業有限公司，CLAREX）積層於實例及比較例中的每一者的偏光板的偏光膜上以製備樣本。利用分光光度計（柯尼卡美能達有限公司，CM-3600A）在SCI反射模式中（光源：D65，光源直徑：φ 25.4毫米，量測視角：2°）在360奈米至740奈米的波長範圍內以10奈米的間隔對反射率進行了量測。獲得了在500奈米的波長下的反射率及在600奈米的波長下的反射率。
（2）反射率斜率：根據以上方程式2使用在反射率（1）中量測的反射率計算出反射率斜率。
（3）光反射率：以與反射率（1）相同的方式製備了樣本，且在以下條件下對光反射率Y（D65）進行了評價。 裝置：分光光度計CM-3600A 光源：D65 光源直徑φ：25.4毫米 量測視角：2°
（4）外觀評價：將實例及比較例中的每一者的偏光板放置於液晶面板上以使抗反射膜朝向最上部，且將3基色螢光燈（3-band fluorescent lamp）（歐司朗公司（OSRAM）的GmbH）放置於相對於抗反射膜為30公分的高度處，然後進行照明、視覺評價並對視覺外觀進行評分。得分是自1分至5分進行評價。當得分自5分移至1分時，外觀得到改善。5分顯示出反射光分裂且黑色視覺靈敏度差，並且1分顯示出反射光未分裂且黑色視覺靈敏度良好。5分意味著此裝置因黑色視覺靈敏度差而無法用於顯示裝置。
（5）相對亮度及相對側對比度：製造出液晶顯示裝置的模組，且利用以下方式對相對亮度及相對側對比度進行了評價。製備例 1 ：第一偏光板的製備
藉由以下方式製備了第一偏光片：在60℃下將聚乙烯醇膜拉伸至其初始長度的3倍並使碘吸附至經拉伸的膜，然後在40℃下在硼酸的水溶液中將所得膜拉伸至所述膜的拉伸長度的2.5倍。藉由利用用於偏光板的黏合劑（Z-200，日本合成有限公司）將作為基底層的三乙醯基纖維素膜（厚度為80微米）黏結至第一偏光片的兩個表面上而製備了第一偏光板。製備例 2 ：液晶顯示裝置的模組的製備
依序組裝了製備實例1的第一偏光板、液晶面板（PVA模式）及在實例及比較例中製備的每一偏光板，以製備液晶顯示裝置的模組。使用在實例及比較例中製備的每一偏光板作為觀察者側偏光板且將抗反射膜設置於所述觀察者側的最外側處。
組裝了LED光源、導光板及液晶顯示裝置的模組以製備包括雙側邊緣型（two-sided edge type）LED光源（具有與三星（Samsung）LED TV UN55KS800相同的配置，除了在實例及比較例中製備的液晶顯示裝置的模組的配置外）的液晶顯示裝置。使用EZCONTRAST X88RC（EZXL-176R-F422A4，艾爾迪姆（ELDIM）公司）在球座標系(0°, 0°)中在白模式（white mode）及黑模式（black mode）下量測了正面亮度。相對亮度被計算為{(實例或比較例中的亮度)/(比較例1中的亮度)} × 100。目標相對亮度為90%或大於90%。
使用EZCONTRAST X88RC（EZXL-176R-F422A4，艾爾迪姆公司）在球座標系（0°, 60°）中量測了側對比度。相對側對比度被計算為{(實例或比較例中的側對比度) / (比較例1中的側對比度)} × 100。目標側對比度為110%或大於110%。 [表2]
如表2所示，即使當照射例如日光或燈光等外部光時，實例的偏光板亦具有改善的黑色視覺靈敏度及外觀以及改善的可見性及增大的側對比度。
另一方面，背離本發明的範圍的比較例的偏光板具有差的外觀、側對比度及可見性。
儘管已示出並闡述了本發明的某些實施例，然而應理解，在不背離在以下申請專利範圍中所界定的本發明的精神及範圍條件下，熟習此項技術者可作出各種潤飾、改變、更改及等效實施例。應理解，在不背離本發明的精神及範圍的條件下熟習此項技術者可作出各種潤飾、改變、更改及等效實施例。
10、20、30、40‧‧‧偏光板
100‧‧‧偏光膜
200、200B、200C‧‧‧對比度增強層
210、210'‧‧‧第一樹脂層
211‧‧‧填充圖案
220、220'‧‧‧第二樹脂層
221‧‧‧光學圖案
222‧‧‧平坦部分
223‧‧‧傾斜表面
224‧‧‧第一表面
300‧‧‧抗反射膜
310‧‧‧第一基底層
320‧‧‧積層板
400‧‧‧第二基底層
500‧‧‧黏合層
A、B‧‧‧寬度
H‧‧‧高度
P‧‧‧節距
W‧‧‧最大寬度
θ‧‧‧底角
圖1是根據本發明實施例的偏光板的剖視圖。 圖2是圖1所示偏光板的對比度增強層的詳細剖視圖。 圖3是根據本發明另一實施例的偏光板的對比度增強層的剖視圖。 圖4是根據本發明又一實施例的偏光板的剖視圖。 圖5是根據本發明又一實施例的偏光板的剖視圖。 圖6是根據本發明又一實施例的偏光板的剖視圖。 圖7示出實例1至實例5的偏光板的反射率依據波長而變化。 圖8示出實例6至實例10的偏光板的反射率依據波長而變化。

Claims (21)

  1. 一種偏光板，包括按照次序依序積層的偏光膜、對比度增強層及抗反射膜， 所述抗反射膜具有0.45%或小於0.45%的最小反射率， 所述抗反射膜包括按照次序依序積層於所述對比度增強層上的第一基底層、高折射率層及低折射率層， 所述對比度增強層包括第一樹脂層及面對所述第一樹脂層的第二樹脂層，其中所述第二樹脂層包括圖案化部分，所述圖案化部分包括多個光學圖案及形成於所述多個光學圖案之間的平坦部分， 所述圖案化部分滿足以下方程式1， 所述多個光學圖案中的每一者具有75°至90°的底角θ： [方程式1] 1 ＜ P/B ≤ 6 其中，P是所述圖案化部分的節距，單位：微米，且 B是所述平坦部分的最大寬度，單位：微米， 所述偏光板根據以下方程式2具有0.3或小於0.3的反射率斜率： [方程式2] 反射率斜率=|R600 - R500 |/|600 - 500| × 100 其中，R600 是在600奈米的波長下所述偏光板的反射率值，且 R500 是在500奈米的波長下所述偏光板的反射率值。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述偏光板具有2%或小於2%的光反射率。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述偏光膜包括偏光片及形成於所述偏光片的至少一個表面上的保護層，且其中所述保護層包括保護膜及保護塗層中的至少一者。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述第一樹脂層與所述第二樹脂層之間的折射率差的絕對值為0.05至0.20。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述第二樹脂層的折射率高於或低於所述第一樹脂層的折射率。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述多個光學圖案中的每一者包括雕刻圖案，所述雕刻圖案包括位於頂部處的第一表面及連接至所述第一表面的至少一個傾斜表面，所述傾斜表面包括平坦或彎曲的光學圖案。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的偏光板，其中所述第一表面是平坦的且所述第一表面被形成為平行於所述平坦部分。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述多個光學圖案中的每一者具有0.3至3.0的長寬比。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述第一樹脂層具有自黏性質，且所述第一樹脂層直接形成於所述偏光膜上。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中在所述對比度增強層與所述偏光膜之間進一步形成有黏合層、黏結層及保護層中的至少一者。
  11. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述高折射率層具有1.53至1.70的折射率。
  12. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述高折射率層是由用於所述高折射率層的組成物形成，用於所述高折射率層的所述組成物包含包括茀系化合物及聯苯基系化合物中的至少一者的高折射率化合物、紫外線可固化化合物、起始劑及無機顆粒。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的偏光板，其中所述無機顆粒包括氧化鋯。
  14. 如申請專利範圍第12項所述的偏光板，其中用於所述高折射率層的所述組成物更包含抗靜電劑。
  15. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中在所述對比度增強層與所述抗反射膜之間進一步形成有第二基底層。
  16. 如申請專利範圍第15項所述的偏光板，其中在所述對比度增強層與所述抗反射膜之間進一步形成有黏合層。
  17. 如申請專利範圍第16項所述的偏光板，其中所述黏合層具有1.40至1.65的折射率。
  18. 如申請專利範圍第16項所述的偏光板，其中所述第二基底層與所述黏合層依序形成於所述對比度增強層與所述抗反射膜之間， 所述第二基底層在550奈米的波長下具有8,000奈米或大於8,000奈米的面內延遲Re， 所述黏合層具有1.40至1.65的折射率。
  19. 如申請專利範圍第18項所述的偏光板，其中所述第一基底層在550奈米的波長下具有60奈米或小於60奈米的面內延遲Re。
  20. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述第一基底層直接形成於所述對比度增強層上，且其中所述第一基底層在550奈米的波長下具有60奈米或小於60奈米的面內延遲Re。
  21. 一種液晶顯示裝置，包括如申請專利範圍第1項至第20項中任一項所述的偏光板。
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