TW201902707A - 多層聚合物膜及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種多層聚合物膜，包括包含聚(甲基丙烯酸甲酯)之頂層；包含底層組成物之底層，該底層組成物包含聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯、其共聚物、或包含前述中之至少一者之組合，其中該底層組成物的玻璃轉變溫度低於或等於140℃；和裝配於該頂層的內表面和該底層的內表面之間之內層，其中該內層包含聚碳酸酯。

Description

多層聚合物膜及其製造方法
本發明係有關於多層聚合物膜及其製造方法。
多層膜用於各式各樣的電子和顯示產品。相較於由多個單層膜彼此以黏著劑或黏著層所組成的標準堆疊物，多層膜能夠提供功能性和替代性。欲符合性能挑戰，期望較低成本，及消費者對於較薄的膜堆疊物的需求，希望不同種類的官能性光學膜整合成單一膜。此整合可提供較薄的膜，組裝程序中的效能和節約成本並藉由減少在穿透該膜之期間內的光量損失而改良光學性能。
該膜可經配置以引導、擴散、或偏極化光。亮度增進膜(BEF)藉由使用在其表面上的結構(如，稜鏡)以引導光沿著觀察軸。此BEF膜增進使用者看到的顯示器的亮度並使得製造所欲程度的軸上照明時消耗較少功率。BEF膜可用於各式各樣的應用包括，但不限於，電視、電腦螢幕、投射顯示器、交通號誌、和其他照明號誌。反射性偏光膜(如，雙重亮度增進膜(DBEF)是用於提高液晶(LCD)顯示器或發光二極體(LED)中使用的背光的亮度的回收光管理膜。以另一種方式陳述，反射性偏光膜是一種薄膜反射性偏光物，其可提高在整個觀察範圍內的亮度。反射性偏光膜是背光模組的組件，其可提高亮度。反射性偏光膜可捕捉和使用一般在底部LCD偏光器中因吸收而損失的光並再度導引彼，使得該光以所欲角度整合地離開LCD背光組裝物。藉由利用使得光通過許多折射指數光學材料層並使其完全反射的回收光機構，反應性偏光膜再使用背光單元的光。
因此，對於提供相較於目前的光學膜堆疊物之極佳官能性之整合的物件和膜有需求存在。
在各式各樣具體實施例中所揭示的是多層聚合物膜及其製法。
一種多層聚合物膜，包括包含聚(甲基丙烯酸甲酯)之頂層；包含底層組成物之底層，該底層組成物包含聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯、其共聚物、或包含前述中之至少一者之組合，其中該底層組成物的玻璃轉變溫度低於或等於140℃；和裝配於該頂層的內表面和該底層的內表面之間之內層，其中該內層包含聚碳酸酯。
一種多層聚合物膜，包括包含具100至150℃的玻璃轉變溫度之材料的頂層；包含底層組成物之底層；和裝配於該頂層的內表面和該底層的內表面之間的內層，其中該內層的玻璃轉變溫度是125至175℃；其中該內層的玻璃轉變溫度比該頂層或該底層的玻璃轉變溫度低0.25至75o 。
以下將特別地描述這些和其他特點和特徵。
黏著劑通常用於將膜結合在一起。沒有黏著劑，則結合不足，和/或層必須加熱至對光學性質造成負面影響的溫度(如，造成黃化指數提高)。使用黏著劑時，可達到足夠的結合強度。但是，黏著劑會對最終物件的光學性質造成負面影響，會在膜之間製造缺陷(如，氣泡、層離、亮度降低、透光率降低等)。本揭示中，確定將表面紋理加至擬結合的層的表面，且其中層自所具有的玻璃轉變溫度(Tg)比該頂層或該內層的玻璃轉變溫度低0.25至75°的組成物製造，不須黏著層，並維持光學性質。該底層的Tg使其能夠在積層至另一膜的程序期間內加熱時軟化。不希望侷限於理論，咸信在積層期間內，來自積層程序的熱軟化該底層，但未達該頂層或該中間層。此外，本文揭示的該多層膜可提供較簡單的程序，沒有使用黏著劑或黏著層所須的額外步驟。
文中所揭示的是多層聚合物膜及其製法。當該多層聚合物膜以未使用介於其間的黏著層的方式接合至另一膜時，該多層聚合物膜可提供增進的積層性能。多層聚合物膜可接合至另一膜(如光學膜)，其中該多層聚合物膜擬接合至另一膜的層側將具有以下界定的細紋理，且將具有低於140℃的Tg。例如，該多層聚合物膜可包括頂層、底層、和配置於該頂層和該底層之間的內層。該底層組成物的玻璃轉變溫度可容許該多層聚合物膜積層至另一膜且不包含各膜的結構或機械性質且沒有黏著層介於其間。該底層的外表面(如，底表面)的糙度值，如Rz，可低於或等於0.75µm，例如，低於或等於0.5µm。這些糙度程度能夠輔助多層膜以未使用黏著劑或黏著層的方式成功地積層至另一膜。較高糙度值會對該多層聚合物積層至與其他膜造成負面影響。本文所揭示的多層膜可提供改良的表面性質，如鉛筆硬度，其可避免將塗層施用至多層膜以保護其不會產生刮痕和其他記號的額外步驟。
該多層膜的頂層可自聚(甲基丙烯酸甲酯)製造。該頂層可經建構以提供該多層聚合物膜之抗刮性質。該內層可由聚碳酸酯形成。該內層可經建構以提供該多層聚合物膜機械強度和光學性質。當該多層聚合物膜接合至另一膜時，該底層可經建構以提供增進的積層性能。訝異地發現到，表面紋理加至底層的外表面(即，底面)並使用所具有的玻璃轉變溫度低於140℃的底層組成物使得該多層聚合物膜以未使用配置於其間的黏著劑或黏著層的方式直接積層至另一光學膜。例如，當該多層聚合物膜直接接合至光學膜(如亮度增進膜(BEF)或反射性偏光膜(如，雙重亮度增進膜(DBEF))時，則該底層可以沒有黏著層配置於其間的方式提供彼增進的積層性。本文所謂增進的積層性通常是指介於多層膜和另一光學膜之間之增進的結合強度，而使用黏著劑或黏著層之傳統結合會具有較低結合和層離問題。增進的積層性係指相對於使用黏著劑所達的結合而言。例如，增進的積層性能可包括各種層以層間的界面處未製造氣泡或外觀缺陷的方式接合。
本文中描述的多層膜包括至少三層透明的熱塑性樹脂。本文中所用的透明是指各熱塑性樹脂的透光率(Tvis)至少85%。本文中使用的Tvis和濁度係根據ASTM D1003-00, Procedure A指定的Gardner Haze-plus儀器，以D65發光體和10度觀察角度測定。例如，該多層膜可包括頂層、底層、和配置於該頂層和該底層之間的內層。該頂層可製自提供抗刮性和耐磨性並同時保留光學性質的材料。例如，於5至20微米(µm)的厚度，該頂層的鉛筆硬度可大於或等於2B，例如，H，例如，2H，例如，H-2H。該頂層可為材料，如，聚(甲基丙烯酸甲酯)。該頂層可包括以下描述的主要表面紋理。在該頂層的外表面上(即，在頂面上)的該主要表面紋理會影響該多層物件的機械磨損行為，並因此，耐磨材料為所欲者。
該內層可包含包括聚碳酸酯的材料。
該底層可包括含括透明且Tg低於或等於140℃，例如，95至130℃，例如，100至110℃的材料之底層組成物。該底層可包括底層組成物，該底層組成物包括PMMA、聚碳酸酯、聚酯、或包含前述至少一者之組合，如聚碳酸酯系共聚物、摻合物、或摻混物。該底層可包括以PMMA所製成的底層組成物。該底層組成物可包括聚碳酸酯和聚酯(如，非晶狀聚酯)之共聚物。該底層組成物可包括聚(脂族酯)聚碳酸酯共聚物。該底層組成物所具有的玻璃轉變溫度比一般的聚碳酸酯為低。例如，該底層組成物所具有玻璃轉變溫度低於該內層中使用的該聚碳酸酯。該底層的玻璃轉變溫度可低於或等於140℃。該底層的玻璃轉變溫度可為100℃至140℃。該底層的玻璃轉變溫度可為100℃至110℃。該底層的玻璃轉變溫度可為110℃。該底層之較低的玻璃轉變溫度有助於該多層聚合物膜積層至另一膜且不須犧牲多層膜的結構特徵(如，主要表面紋理)，或不須犧牲擬與其接合的膜的結構特徵。此玻璃轉變溫度可以使得底層組成物在積層至該光學膜的期間內，於不須犧牲多層膜或擬與該多層膜接合的膜之結構整體性、物理、或機械性質之夠低的溫度軟化。
各層的厚度取決於該層的特徵。例如，該頂層具有足以因應主要表面紋理的頂層厚度。該頂層厚度可大於主要表面紋理Rz的1.5倍。一般可以將Rz描述為所評估輪廓的最大高度，其由在輪廓的評估長度內的數個取樣長度之輪廓的平均最高峰(Rp)和輪廓的平均最深谷(Rv)的總和得到。換言之，頂層厚度可為1微米(µm)至50µm，例如，1µm至30µm，或5µm至30µm。該內層的厚度可為25µm至300µm，例如，50µm至200µm。該底層的厚度可為0.5µm至25µm，例如，1µm至10µm。該多層膜的光線管理功能可以用具有光管理能力(例如擴散能力或光線轉向/導向能力)的表面紋理來解決。例如，用於光管理功能的主要表面紋理被構建於該頂層的外表面上，即頂面上。
當期望擴散能力時，包括具有無光澤輪廓的峰和谷的非特定幾何形狀之大致為隨機的無光澤表面紋理可以在該膜的表面區域上提供強的光散射功能和均勻的光分佈。大致無光澤的表面基本上以標準表面粗糙度屬性(例如平均粗糙度(Ra)或峰值計數(Rpc))為特徵。具有低於1.2微米(µm)的Ra和每公分超過50個峰(峰/公分)的Rpc(本文中稱為“細紋理”)之大致無光澤表面的散射膜有利於優良的影像品質，如，在超高清(UHD)顯示器中。具有低於1.0µm的Ra和超過80個峰/公分的Rpc之無光澤表面的散射膜更有利，如，用於UHD顯示器和類似應用。具有低於0.7µm的Ra和超過100個峰/公分的Rpc之無光澤表面的散射膜又更有利於顯示器。當該片的紋理具有相對大的平均糙度(如，Ra＞1.2µm)且Rpc低於50個峰/公分時，該片可具有顆粒感外觀，例如，當用於顯示器應用中時。不侷限於理論，咸信此因在散射和隔離表面處之大的峰或谷表面特徵的光學透鏡影響所引發。當峰或谷特徵的尺寸相仿於或大於該顯示器的像素尺寸時，該顆粒感外觀變得可被看見且被視為缺陷。峰計數(Rpc)是指投射通過輪廓平均線中央周圍之可接受帶之局部糙度峰和谷的數目。此計數在評估長度上定出並以每公分的峰數報導。表面糙度(Ra)和峰計數(Rpc)係使用標準表面輪廓儀器(如，Kosaka 1700a Profilometer，得自Kosaka Laboratories，日本東京)測定。依照ISO 4287:1997中闡述的程序以配置該儀器及測定表面輪廓參數，如Ra、Rp、Rv、Rz和Rpc。Rz係根據ISO 4287，加總最高輪廓峰(Rp)和最低輪廓谷(Rv)而得。使用至少5.6mm的掃描長度(提供至少4.0mm的淨評估長度)、高斯數據濾器、和0.8mm過濾截斷器。用於峰計數，設定輪廓平均線附近的±0.5µm對稱帶以回報Rpc。用於此應用中的實例和比較例，以沿著膜/片網的擠出方向(即，機器方向)進行的5次輪廓掃描和沿著網的橫向進行另外5次輪廓掃描，測得表面紋理的表面輪廓數據，及之後記錄總共10次掃描的平均表面輪廓數據作為結果。
當期望光轉向/引導能力時，包括具有不同幾何形狀的多個微結構元件（例如微透鏡、稜鏡、金字塔或雙凸透鏡）的特定結構化表面紋理可提供例如光轉向功能，同時提供隱藏為掩蓋顯示器組件上的光源佈置細節或結構圖案所需的功率。特定結構化表面紋理通常以各個微結構元件的幾何屬性為特徵。
該主要表面紋理在該頂層上，頂表面可包含複數個幾何微結構元件，包括微透鏡、多面體形狀(如，稜柱、金字塔形狀、立方角形狀等)、透鏡形狀，通常為無光澤表面特徵，及包括前述中之至少一者的組合。這些幾何形狀的平均縱橫比(即，高對寬)大於或等於0.05。主要表面紋理可以僅包括，Ra等於或低於1.2微米且Rpc可大於或等於50個峰/公分之大致無光澤表面紋理。任選地，主要表面紋理可以透過包含一或多種至少部分地嵌入多層聚合物製品的頂層中之突出的添加劑粒子來形成。
該底層可具有低於或等於0.75µm，例如，低於或等於0.5µm，的平均表面糙度Rz之外表面。由於該底層不同於該表層，與光管理無關，所以該底層可具有不規則的表面紋理。在該底層上的低Rz有助於確保成功地積層至另一膜。如本文先前的描述，Rz係根據ISO 4287，加總最高輪廓峰(Rp)和最低輪廓谷(Rv)而得。使用至少5.6mm的掃描長度(提供至少4.0mm的淨評估長度)、高斯數據濾器、和0.8mm過濾截斷器。不希望侷限於理論，咸信較低Rz，如，低於或等於0.75µm，例如，低於或等於0.5µm在成功接合(如，該多層聚合物膜積層至另一膜，如，光學膜，如，反射性偏光膜(如，DBEF))上扮演重要的角色。
一種製造多層聚合物膜之方法包括共擠出該頂層、該內層、和該底層。可以使用具有主要擠出機和兩個共擠出機的單螺桿共擠出產線。該擠出機可包括真空抽氣、螢幕切換器、熔融物幫浦、具分配器螺桿的轉接器和多層模具。任何市售膜擠出產線系統可製備文中揭示的該多層膜。
該擠出可以聚合物材料進入第一共擠出機、第二共擠出機、和主要擠出機的方式進行。該聚合物材料將經由進料狹口進入各擠出機的筒身並受熱直到呈現熔融(流動)狀態。在擠出機(如，單螺桿或雙螺桿)筒身內的螺桿會將熔融的聚合物材料推到筒身出口外並朝向模具。該模具可為配置用以接收來自多歧管擠出機的多歧管擠出物之多歧管模具。來自各擠出機的擠出物可以在模具內合併以形成該多層聚合物膜。在離開該模具之後，形成的多層聚合物膜可通過壓延系統，例如，熔融物壓延系統，以在頂層的頂表面和底層的底表面提供紋理。
要注意的是，輥的材料構成不受限制。多層膜上的紋理是從輥上複製的。例如，頂層的表面紋理可以來自輥且底層的表面紋理可以來自另一個輥。輥可以由橡膠或鋼材製成。每個輥的複製比例可為80-95％。
如所述者，一旦形成多層膜，該多層聚合物膜可接合至另一物件，如另一膜或結構。例如，該多層聚合物膜的底層的外表面(如，底面)可以直接積層至另一膜。該底層可以未使用黏著劑或黏著層或介於其間的任何其他層或材料的方式積層至其他膜。該積層程序包含該底面和該物件之與底面接合的表面加熱至高於該底層的Tg的溫度，例如，高於或等於110℃，例如，高於或等於120℃，例如，130至170℃，將擬接合的表面指向彼此相鄰，且，一旦於此溫度，施壓以使得該多層膜和該物件黏著在一起。消除對於黏著層的需求允許直接接合(例如，積層)至另一物品，此有助於保持或改善光學性能，同時簡化製程並降低總成本。
例如，該多層膜可接合至另一膜，如光學膜(如，BEF，反射性偏光膜(DBEF))。例如，在系統(如，背光)和其他顯示器系統(如，反射性偏光膜(DBEF))中，該多層膜可以代替聚碳酸酯散射膜和該黏著層。個別的聚碳酸酯散射膜一般曾被用以提供，例如，電子產品和顯示產品(如，平板顯示器應用)的最外表面(如，頂部和底部)。這些聚碳酸酯膜以黏著劑接合。使用介於之間的黏著層會有花費且會對於光學膜的透光性和亮度造成負面影響。由於黏著層可以儘可能薄(如，低於或等於2微米)，所以使用黏著層也會提高程序的複雜度，所以難以控制此厚度，造成膜不均勻。此厚度變化會導致通過光學膜的光耗損。據此，以本文揭示的多層聚合物膜，可以免除使用黏著層而不須犧牲該多層聚合物膜成功地接合至另一膜的能力，如，在兩個膜之間的界面沒有氣泡或線。
該多層聚合物膜可以經由積層程序接合。該多層聚合物膜可接合於該光學膜的一面或兩面上。該光學膜可包括聚(對酞酸伸乙酯)膜。
可自該多層聚合物膜製造物件。該物件可用於各種應用，如，UHD電視，包括薄膜電晶體LED UHD電視。該物件亦可用於電腦螢幕/顯示器、HD電視、告示板、投射顯示器、交通號誌、和其他照明號誌。電子顯示器可包括光導物、以本文中所描述的多層聚合物膜之環繞於一面或兩面上的光學膜、影像製造器(如，液晶材料、電漿、發光二極體等)和與該液晶材料相鄰配置的基板。
該多層物件可作為用於平板顯示器、數位顯示器、窗、照明罩、及物件的光散射效果和機械或耐磨蝕性皆有利的其他應用的光散射膜或片。
藉由對照附圖，可得到本文所揭示的組件、程序、和設備之更完整的瞭解。這些圖(本文中亦稱為“圖”)僅為基於便利性及易於說明本揭示的圖示，因此，且並非試圖用以指出其裝置或組件的相對尺寸和維度和/或界定或限制例示具體實施例的範圍。雖然為清楚瞭解之故，以下描述中使用特定用語，然而，這些用語僅用於指附圖中用於說明之選定的具體實施例的特別結構，並非意圖用於界定或限制本揭示的範圍。在附圖和以下的描述中，應理解類似的數字編號是指類似功能的組件。
圖1中，出示液晶顯示器40的截面。該液晶顯示器40包括包括環繞在第一基板42或第二基板48的一側上的液晶材料44。該第一基板42和該第二基板48可由玻璃或聚合物材料製造。密封材料46可環繞液晶材料44以使得液晶材料44保持在適當位置。該密封材料46可包括聚合物樹脂，如，聚矽氧、環氧化物、紫外光固化樹脂等。隔離物58可以存在於該液晶材料44的一面或兩面上。該液晶顯示器的最外頂面可為第一偏光膜60，第一阻滯膜62位於該第一偏光膜60下方(即，在偏光膜60和該第一基板42之間)。該第一阻滯膜62可以配置與第一基板42相鄰。第二阻滯膜64可以配置與第二基板48相鄰且第二偏光膜66可經配置與第二阻滯膜64相鄰。光學膜68(如，BEF，反射性偏光膜(DBEF)等)可配置於偏光隔離膜50和散射膜24之間且偏光隔離膜50被配置於與該第二偏光膜66相鄰處。光導板54可位於多層聚合物膜24(如，散射膜24)下方且反射片56配置於光導板54下方。雖未示於圖1，瞭解另一多層聚合物膜24可以位於鄰近該光學膜68的其他表面之處，使得該光學膜68配置於兩個多層聚合物膜24之間。背光52可以位於該光導板54和該反射片56的旁邊。該背光52可包括發光二極體(LED)。該背光52可包括冷陰極螢光照明(CCFL)。
圖2針對薄膜電晶體(TFT) LCD技術。TFT LCD是一種LCD類型，其使用TFT技術以改良影像品質，如，解析度和對比。TFT LCD可用於用品，包括電視組、電腦螢幕、行動電話、掌上電腦遊戲機、個人數位助理、導航系統、投射機和用品，如，冰箱。TFT是場效應電晶體(FET)，係將活性半導體層、介電層、和金屬接點的薄膜澱積在承載的非導電性基板上而製得。該基板可為玻璃或聚合物材料。在TFT LCD中，電晶體嵌入LCD面板本身，此降低像素之間的交互作用，從而提高了圖像的安定性。TFT顯示器的結構如圖2所示。圖2不包含實際的光源(LED或CCFL)。
如在圖2中可見到者，TFT-顯示器100包括基板1，其中直立2和水平3偏光器為該TFT顯示器100的最外表面。濾色器(如，紅綠藍(“RGB”)濾色器)4可以介於基板1之間。隔離物8可配置於聚合物層7之間。直立5和水平6指令列可位於鄰近TFT 9之處。正面電極10和背面電極11可用以製造與TFT-顯示器100的非金屬零件的接點。因此，該TFT顯示器100的配置可以如下：第一偏光器、第一基板、濾色器、正面電極、第一聚合物層、隔離物、第二聚合物層、背面電極、第二基板、和與第一偏光器呈90度配置的第二偏光器。此外，介於第二聚合物層和背面電極之間的是指令列5、6和TFT 9。
現回到圖3A和3B，出示自具和不具BEF的光學裝置的光輸出。圖3A中，沒有BEF存在。如所見者，反射光束76離開螢幕朝向觀察者，但有數個廢光區域72、74在觀察角度之外。此外，注意到因為廢光72、74，所以離開光學裝置78的反射光束76不像離開具BEF的光學裝置者那麼亮。在圖3B中，BEF 82(見圖3C)存在。如所見到者，離開光學裝置80的反射光束77朝向觀察者，同時降低或消除圖3A中所示的廢光。結果，注意到相較於光束76，離開光學裝置80的光束77比較亮。圖3C說明BEF82如何繞射、反射、及回收光束朝向觀察者使得降低的光量被耗損。有燈86含於其中的背光84(該燈可為LED、CCFL等)可引導光朝向BEF 82。該BEF 82可繞射光以繞射光束90朝向觀察者。該BEF可藉由將光反射回BEF 82以回收藉由回收之光束92來回收浪費的離軸光。這些光束92從反射片56反射回來，通過BEF 82朝向觀察者。圖3B和3C示出了BEF在增強和提高在光學裝置中繞射、反射和回收的光的質量方面的有效性。
圖4A和4B出示來自具和不具反射性偏光膜(如，DBEF 94)的光學裝置的各種光輸出。圖4A中，反射性偏光膜不存在。如圖4A中可看到者，光在離開背光84之後，經由第一偏光光束102穿透LCD 88。該LCD可被第一偏光器96和第二偏光器98環繞。該第一和第二偏光器96、98有助於減少輸出到觀看者的光中存在的眩光量。經由第二偏光光束104到達LCD88之前，相同量的光（約50％）被透射吸收。反之，在圖4B中，反射性偏光膜94，以具有設置在反射偏光膜94的任一側上之多層聚合物膜24而存在。多層光學膜24可以是散射膜。離開背光84的光可以經由第一偏光光束102和第二偏光光束104傳輸通過LCD88，這大大減少了LED所吸收的光量，如同在沒有反射性偏光片的情況下。如圖4A所示，來自燈86的光是一種電磁波類型。來自第一偏光光束102的光可以通過第二偏光器98和第一偏光器96，並且來自第二偏光光束104的光可以被第一偏光器96吸收。然而，在圖4B中，如果添加反射性偏光膜94，則在第二偏光器98和第一偏光器96可以吸收它之前，反射性偏光膜94可以將來自第二偏光光束104的光反射到背光84，僅使得來自第一偏光光束102的光通過。如圖4B所示，藉由反射和回收偏光的光，反射性偏光膜藉由將來自第二偏光光束104的光反射回背光84而增加亮度和光輸出，其中在圖4B中，它被回收並作為底部第一偏光光束102輸出。
現回到圖5，出示該多層聚合物膜24的結構以及該多層聚合膜24接合之前的光學片28。該多層聚合物膜24包括配置在頂層14和底層18之間並與彼等直接物理接觸的內層22。底層18包括有精細紋理21位於其中的底面(外表面)17。頂層14包含其中有選用的微結構元件19的頂面(外表面)15。
該多層聚合物膜24可接合，如，經由積層程序，至光學膜28的一面或兩面。圖6說明光學膜28且有多層聚合物膜24接合於光學膜28的一表面上。圖7說明光學膜28且該多層聚合物膜24接合至光學膜28的兩面上。
現回到圖8，出示製造多層聚合物膜24的擠出機構造10。圖8中，使用第一共擠出機16擠出頂層14。使用第二共擠出機12擠出底層18。使用主要擠出機20擠出內層22。理解第一共擠出機12和第二共擠出機16可製造頂層14或底層18。頂層14、底層18、和內層22可通過多歧管共擠出模具26而形成多層聚合物膜24。
紋理化可經由圓柱形輥30、31、32施用於頂層14和底層18。紋理化可施用至頂層14的頂面15及底層18的底面17。可以使用各種方法(如，壓延、浮雕、和其他者、及包含前述至少一者之組合)達到紋理化。用於紋理化的一些技術、系統、和工具，揭示於，例如，Bastawros等人的美國專利案第7,889,427號，茲將其全文納入參考。
在製造多層片24的方法中，球、粒、薄片或粉末形式的聚合物材料置於各個分別的擠出機12、16、20的料斗150中。聚合物材料經由進料口152進入各擠出機的筒身154。在筒身154中的同時，聚合物材料以筒身154內的加熱元件和螺桿元件加熱至熔融態並以亦在筒身154內的螺桿元件推經筒身154。該螺桿元件可以在筒內旋轉至每分鐘120轉(rpm)。
取決於擠出機的尺寸、螺桿的長度對直徑比(L/D)以及筒身內部的任何期望的壓力，可以使用任何期望的螺桿旋轉範圍。由於賦予材料的低剪切力，單螺桿擠出機可用於製造光學薄膜。所用的共擠出機一般比用於提供內層的主擠出機小。熔融擠出物166離開擠出機12、16、20各者的筒身154並且通過換濾網裝置/多孔板組裝物156以自擠出物166移除任何污染物。換濾網裝置可以藉多孔板加以強化，該多孔板可以是一個帶有許多穿透孔的金屬圓盤。換濾網裝置/多孔板組裝物156會在筒身154中產生背壓。背壓有助於聚合物材料的均勻熔化和適當混合。背壓可以根據不同的換濾網裝置組成而變化，例如，濾網的數量、濾網內的網目尺寸以及其他參數。
在通過換濾網裝置/多孔板組裝物156之後，擠出物166可通過齒輪泵158，之後，擠出物166通過連接片及之後各別來自三個擠出機的擠出物166進入多歧管共擠出模具26(例如，衣架形模具)。選用地，來自主擠出機20的擠出物166(即，內層22)可以在進入連接板164之前穿過角件，並且最終穿過多歧管共擠出模具26。頂層14、底層18、和內層22與多歧管共擠出模具26合併，以形成多層聚合物膜24。該模具是提供膜之最終形狀的設備片。據此，該模具應成形，使得熔融聚合物材料均勻地流出並以最終成形物件離開模具。在離開多歧管共擠出模具24之後，多層聚合物膜24通至熔融物壓延系統以便將紋理施用至頂層14的頂面15(請見圖5)和底層18的底面17(請見圖5)。
用於製造紋理化的多層聚合物膜24之例示熔融物延壓系統110示於圖9和10。頂層14與帶有頂層14的主要表面紋理的主輥30接觸。
如圖9中所示，熔融物壓延系統110包括三個擠出機12、16、20(其擠出用於頂層14、內層22、和底層18之不同的聚合物材料)、多歧管共擠出模具26、圓柱形輥30、31、32、33、34、35、36、37、38(其中，輥30和31是第一壓延軋輥，且輥30帶有頂層14的主要表面紋理圖案且輥31帶有底層18的表面紋理圖案。
擠出機12、16、20可以將聚合物組份加熱至高於預定溫度以引發組份流動(如，熔融塑料)。經由齒輪泵的速率設定，擠出機的輸出在操作上偶合至多歧管共擠出模具26。該模具26可為直立模具。該模具26可為水平模具。
圓柱形輥30、31係提供以自模具26接收其間的多層熔融網，並且可以在圓柱形輥30、31之間的輥隙壓力(nip pressure)下，在該多層聚合物膜24的頂層14的頂面36(參見圖8)上形成主表面紋理，並且亦將紋理化的熔融網冷卻成紋理化的固體網。圓柱輥30、31可以由金屬(例如鋼)構成，其中橡膠或鋼表面層圍繞金屬輥芯並且可操作地連接至輥冷卻系統。輥冷卻系統保持輥30、31的溫度低於預定溫度，以在多層熔融聚合物纖維網在通過圓柱形輥30、31之間的同時固化或部分固化。圓柱形輥31被構造成從模具26接收其間的多層聚合物網並且可以在底層18的底表面34上形成表面紋理。
為了製造具有諸如包括多個線性棱鏡或微透鏡的結構化紋理的光學膜，通常施用第一壓延輥30、31之間的高輥隙壓力(如，＞10巴)以確保從主輥到薄膜表面的紋理複製在整個網幅寬上都是高效且均勻的。輥30和32之間不須要輥隙壓力。
圓柱形輥32係被建構以使其在通過壓延軋輥30、31之間之後接收部分固化的塑膠網。可調整圓柱形輥32的位置以改變頂層14和底層18與圓柱形輥30接觸的表面積的量。圓柱形輥32亦可以在操作上偶合至輥冷卻系統(未示)，該輥冷卻系統使得圓柱形輥32的溫度維持於低於固化該多層聚合物膜的預定溫度。該圓柱形輥32可藉馬達驅動(而不是仰賴介於網和圓柱形輥32表面之間的摩擦)以旋轉以使得施用於沿著機械方向39部分固化層14、18、22的網張力最小化。圓柱形輥33至38係下游輸送輥，而輥35、36、37、和38用以接收其間的層14、18、22及使得層14、18、22向下游移動。
在膜移動通過壓延系統時，各種輥的速率可以取決於輸出和膜厚度，其可為10-60米/分鐘。介於輥30和輥31之間的輥隙壓力取決於膜的美化和膜的其他性質，如糙度和透光率。輥隙壓力可低於或等於10Mega Pascal (Mpa)(100bar)。輥31的Ra通常高於所得表面17的所欲Ra，而輥30的Ra通常高於所得表面15。但是，注意到，Ra可為將提供製得的膜所欲表面糙度的任何值。各輥30、31、32可具由其自身的馬達以驅動旋轉。在擠出線開始之前，各輥30、31、32可藉分別使用水作為冷卻和加熱介質的溫度控制單元預熱。可以使用其他方法提供紋理化表面，包括，但不限於機械和化學程序，如雷射、打磨、噴砂、鑽石雕刻等。
本文中使用的“聚碳酸酯”是指具有式(1)之重複結構碳酸酯單元之聚合物或共聚物其中R1 基團總數的至少60%是芳族，或各R1 含有至少一個C6-30 芳基。各個R1 可衍生自二羥基化合物，如，式(2)的芳族二羥基化合物或式(3)的雙酚。式(2)中，各個Rh 獨立地為鹵原子(例如溴)、C1-10 烴基(如C1-10 烷基、經鹵素取代的C1-10 烷基、C6-10 芳基、或經鹵素取代的C6-10 芳基)，而n是0至4。
式(3)中，Ra 和Rb 各者獨立地為鹵素、C1-12 烷氧基、或C1-12 烷基，且p和q各者獨立地為0至4的整數，使得當p或q低於4時，環的各個碳的價數以氫填滿。具體實施例中，p和q各者為0，或p和q各者為1，且Ra 和Rb 各者為C1-3 烷基，例如，甲基，在各個伸芳基上的羥基的間位。Xa 是連接兩個經羥基取代的芳基的橋連基團，其中該橋連基團和各個C6 伸芳基的羥基取代基彼此在C6 伸芳基上的鄰、間、或對位(如對位)，例如，單鍵、-O-、-S-、 -S(O)-、-S(O)2 -、-C(O)-、或C1-18 有機基團，其可為環狀或非環狀、芳族或非芳族，且可以另包含雜原子，如鹵素、氧、氮、硫、矽、或磷。例如，Xa 可為經取代或未經取代的C3-18 環亞烷基；式-C(Rc )(Rd )-的C1-25 亞烷基，其中Rc 和Rd 各者獨立地為氫、C1-12 烷基、C1-12 環烷基、C7-12 芳基烷基、C1-12 雜烷基、或環狀C7-12 雜芳基烷基；或式 -C(=Re )-的基團，其中Re 是二價C1-12 烴基。
雙酚化合物的例子包括4,4'-二羥基聯苯基,1,6-二羥基萘、2,6-二羥基萘、雙(4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基苯基)二苯基甲烷、雙(4-羥基苯基)-1-萘基甲烷、1,2-雙(4-羥基苯基)乙烷、1,1-雙(4-羥基苯基)-1-苯基乙烷、2-(4-羥基苯基)-2-(3-羥基苯基)丙烷、雙(4-羥基苯基)苯基甲烷、2,2-雙(4-羥基-3-溴苯基)丙烷、1,1-雙(羥基苯基)環戊烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥基苯基)異丁烯、1,1-雙(4-羥基苯基)環癸烷、反-2,3-雙(4-羥基苯基)-2-丁烯、2,2-雙(4-羥基苯基)金鋼烷、α,α'-雙(4-羥基苯基)甲苯、雙(4-羥基苯基)乙腈、2,2-雙(3-甲基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-乙基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-正丙基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-異丙基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-二級丁基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-三級丁基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-環己基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-烯丙基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-甲氧基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基苯基)六氟丙烷、1,1-二氯-2,2-雙(4-羥基苯基)乙烯、1,1-二溴-2,2-雙(4-羥基苯基)乙烯、1,1-二氯-2,2-雙(5-苯氧基-4-羥基苯基)乙烯、4,4'-二羥基二苯基酮、3,3-雙(4-羥基苯基)-2-丁酮、1,6-雙(4-羥基苯基)-1,6-己二酮、乙二醇雙(4-羥基苯基)醚、雙(4-羥基苯基)醚、雙(4-羥基苯基)硫、雙(4-羥基苯基)亞碸、雙(4-羥基苯基)碸、9,9-雙(4-羥基苯基)茀、2,7-二羥基芘、6,6'-二羥基-3,3,3',3'-四甲基螺(雙)茚烷("螺二茚烷雙酚"),3,3-雙(4-羥基苯基)酞醯亞胺、2,6-二羥基二苯并-對-戴奧辛、2,6-二羥基噻嗯、2,7-二羥基吩 、和2,7-二羥基-9,10-二甲基吩、3,6-二羥基二苯并呋喃、3,6-二羥基二苯并噻吩、2,7-二羥基咔唑；間苯二酚；經取代的間苯二酚化合物，如5-甲基間苯二酚、5-乙基間苯二酚、5-丙基間苯二酚、5-丁基間苯二酚、5-三級丁基間苯二酚、5-苯基間苯二酚、5-枯基間苯二酚、2,4,5,6-四氟間苯二酚、2,4,5,6-四溴間苯二酚之類，或；兒茶酚；氫醌；經取代的氫醌，如2-甲基氫醌、2-乙基氫醌、2-丙基氫醌、2-丁基氫醌、2-三級丁基氫醌、2-苯基氫醌、2-枯基氫醌、2,3,5,6-四甲基氫醌、2,3,5,6-四-三級丁基氫醌、2,3,5,6-四氟氫醌、2,3,5,6-四溴氫醌之類。
二羥基化合物包括間苯二酚、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷(“雙酚A”或“BPA”)、3,3-雙(4-羥基苯基)酞醯亞胺啶、2-苯基-3,3’-雙(4-羥基苯基)酞醯亞胺啶(亦稱為N-苯基酚酞雙酚、“PPPBP”、或3,3-雙(4-羥基苯基)-2-苯基異吲哚啉-1-酮)、1,1-雙(4-羥基-3-甲基苯基)環己烷、和1,1-雙(4-羥基苯基)-3,3,5-三甲基環己烷(異佛爾酮雙酚)。
本文中使用的“聚碳酸酯”亦包括包含碳酸酯單元和酯單元之共聚物(“聚(酯-碳酸酯)”，亦稱為聚酯-聚碳酸酯)。除了重複的式(1)的碳酸酯鏈單元以外，聚(酯-碳酸酯)另含有式(4)的重複酯單元。其中J是衍生自二羥基化合物的二價基(其包括其反應性衍生物)，且可為，例如，C2-10 伸烷基、C6-20 環伸烷基、 C6-20 伸芳基、或聚氧伸烷基，其中，該伸烷基含2至6個碳原子，例如，2、3、或4個碳原子；而T是衍生自二羧酸的二價基團(其包括其反應性衍生物)，且可為，例如，C2-20 伸烷基、C6-20 伸環烷基、或C6-20 伸芳基。可以使用含有不同的T或J基的組合之共聚酯。該聚酯單元可為支鏈或直鏈。
二羥基化合物包括式(2)的芳族二羥基化合物(如，間苯二酚)、式(3)的雙酚(如，雙酚A)、C1-8 脂族二醇(如，乙二醇、正丙二醇、異丙二醇、1,4-丁二醇、1,6環己二醇、1,6-羥基甲基環己烷、或包含前述二羥基化合物中之至少一者之組合。可使用之脂族二羧酸包括C6-20 脂族二羧酸(其包括鏈末羧基)，如，直鏈C8-12 脂族二羧酸，如，癸二酸(decanedioic acid)(癸二酸(sebacic acid))；和α,ω-C12 二羧酸，如，十二烷二酸(DDDA)。可使用的芳族二羧酸包括對酞酸、異酞酸、萘二羧酸、1,6-環己烷二羧酸、或包含上述酸中之至少一者之組合。可以使用異酞酸對對酞酸的重量比為91:9至2:98的異酞酸和對酞酸之組合。
酯單元包括對酞酸伸乙酯單元、對酞酸伸正丙酯單元、對酞酸伸正丁酯單元、衍生自異酞酸、對酞酸、和間苯二酚(ITR酯單元)的酯單元、及衍生自癸二酸和雙酚A的酯單元。在聚(酯-碳酸酯)中之酯單元對碳酸酯單元的莫耳比的變化可以很寬，例如，1:99至99:1，例如，10:90至90:10，例如，25:75至75:25，或由2:98至15:85。一些具體實施例中，在聚(酯-碳酸酯)中之酯單元對碳酸酯單元的莫耳比的變化可以是由1:99至30:70，例如，2:98至25:75，例如，3:97至20:80、或由5:95至15:85。
具體實施例中，該聚碳酸酯是含有雙酚A碳酸酯單元(BPA-PC)的直鏈均聚物，以商品名LEXAN™購自SABIC；或支鏈的，氰基酚末端封端的雙酚A均聚碳酸酯，其經由界面聚合反應製造，含有3mol% 1,1,1-參(4-羥基苯基)乙烷(THPE)支化劑，以商品名LEXAN™ CFR購自SABIC。
可用的其他聚碳酸酯包括包含雙酚A碳酸酯單元和異酞酸酯-對酞酸酯-雙酚A酯單元的聚(芳族酯-碳酸酯)，通常亦稱為聚(碳酸酯-酯)(PCE)或聚(酞酸酯-碳酸酯)(PPC)，取決於碳酸酯單元和酯單元的相對比。另一聚(酯-碳酸酯)包含間苯二酚異酞酸酯和對酞酸酯單元和雙酚A碳酸酯單元，如以商品名LEXAN™ SLX購自SABIC者。
可用的其他聚碳酸酯包括聚(酯-碳酸酯-矽氧烷)，其包含雙酚A碳酸酯單元、異酞酸酯-對酞酸酯-雙酚A酯單元、和矽氧烷單元，例如含有5至200個二甲基矽氧烷單元的嵌段，如可以商品名FST購自SABIC者。
可以使用聚(脂族酯-碳酸酯)，如包含雙酚A碳酸酯單元和癸二酸-雙酚A酯單元者，如以商品名LEXAN™ HFD購自SABIC者。
共聚碳酸酯包括雙酚A和整體雙酚碳酸酯單元，即，衍生自含有至少12個碳原子(例如，12至60個碳原子或20至40個碳原子)的雙酚A。此共聚碳酸酯的例子包括含括雙酚A碳酸酯單元和2-苯基-3,3’-雙(4-羥基苯基)酞醯亞胺啶碳酸酯單元(BPA-PPPBP共聚物，以商品名XHT構自SABIC)、包含雙酚A碳酸酯單元和1,1-雙(4-羥基-3-甲基苯基)環己烷碳酸酯單元的共聚物(BPA-DMBPC共聚物，以商品名DMC購自SABIC)、和包含雙酚A碳酸酯單元和異佛爾酮雙酚碳酸酯單元的共聚物(例如，以商品名APEC購自Bayer者)。
可以使用聚碳酸酯與其他聚合物之組合，例如，雙酚A聚碳酸酯與酯(如聚(對酞酸伸丁酯)或聚(對酞酸伸乙酯))的摻混物，其中的各者可為半晶狀或非晶狀。此組合可以商品名XENOY和XYLEX購自SABIC。
“聚碳酸酯”包括均聚碳酸酯(其中該聚合物中的各個R1 相同)、在碳酸酯中包含不同R1 部分的共聚物(“共聚碳酸酯”)、和包含碳酸酯單元和其他類型的聚合物單元(如，酯單元或矽氧烷單元)之共聚物。
共聚物的類型是聚(酯-碳酸酯)，亦稱為聚酯-聚碳酸酯。除了式(1)的重複碳酸酯單元以外，此共聚物另含有式(5)的重複單元其中J是衍生自二羥基化合物(包括其反應性衍生物)的二價基團，且可為，例如，C2-10 伸烷基、C6-20 伸環烷基、C6-20 伸芳基、或聚氧伸烷基，其中伸烷基含2至6個碳原子，例如，2、3、或4個碳原子；和T是衍生自二羧酸(包括其反應性衍生物)的二價基團，且可為，例如，C2-20 伸烷基、C6-20 伸環烷基、或C6-20 伸芳基。可以使用含有不同的T或J基團之組合的共聚酯。該聚酯單元可為支鏈或直鏈。具體實施例中，J是具有直鏈、支鏈、或環狀(包括多環)結構的C2-30 伸烷基，例如，伸乙基、伸正丙基、伸異丙基、1,4-伸丁基、1,6-伸環己基、或1,4-伸甲基環己烷。另一具體實施例中，J衍生自式(3)的雙酚，如，雙酚A。另一具體實施例中，J衍生自式(6)的芳族二羥基化合物，如，間苯二酚。
可用以製備聚酯單元的芳族二羧酸包括異酞酸或對酞酸、1,2-二(對-羧基苯基)乙烷、4,4'-二羧基二苯醚、4,4'-雙苯甲酸、或包含前述酸中之至少一者之組合。也可以有含有稠合環的酸存在，如在1,4-、1,5-、或2,6-萘二羧酸。二羧酸包括對酞酸、異酞酸、萘二羧酸、1,4-環己烷二羧酸、或包含前述酸中之至少一者之組合。二羧酸包含異酞酸和對酞酸之組合，其中異酞酸對對酞酸的重量比為91:9至2:98。
酯單元包括對酞酸伸乙酯、對酞酸伸正丙酯、對酞酸伸正丁酯、1,4-環己烷二伸甲基對酞酸酯、和自異酞酸、對酞酸、和間苯二酚(ITR)衍生的酯單元。該共聚物中之酯單元對碳酸酯單元的莫耳比可以廣泛地變化，例如1:99至99:1，例如，10:90至90:10，例如，25:75至75:25、或2:98至15:85，取決於最終組成物的所欲性質。聚(酯-碳酸酯)包括雙酚A碳酸酯單元和異酞酸酯-對酞酸酯-雙酚A酯單元，亦通常稱為聚(碳酸酯-酯)(PCE)聚(對酞酸酯-碳酸酯)(PPC)，此取決於碳酸酯單元和酯單元的莫耳比。
聚(酯-碳酸酯)的一個例子是聚(脂族酯-碳酸酯)，衍生自直鏈C6-20 脂族二羧酸(其包括其反應性衍生物)，例如，直鏈C6 -C12 脂族二羧酸(其包括其反應性衍生物)。二羧酸包括正己二酸(己二酸)、正癸二酸(癸二酸)、和α,ω-C12 二羧酸，如十二烷二酸(DDDA)。聚(脂族酯)-聚碳酸酯具式(6)：其中各個R1 可相同或不同，且如式(1)中所述，m是4至18，例如，4至10，且酯單元對碳酸酯單元的平均莫耳比x:y是99:1至1:99，包括13:87至2:98、9:91至2:98、或8:92至2:98。具體實施例中，聚(脂族酯)-聚碳酸酯共聚物包含雙酚A癸二酸酯單元和雙酚A碳酸酯單元，具有，例如平均莫耳比x:y是2:98至8:92，例如6:94。此聚(脂族酯-碳酸酯)以商品名LEXANHFD購自SABIC(LEXAN是SABIC IP B.V.的商標名)。
聚(脂族酯-碳酸酯)可具有15,000至40,000 Dalton(Da)，包括20,000至38,000Da(基於BPA聚碳酸酯標準品，藉GPC測定)的重量平均分子量。
聚碳酸酯可藉程序(如，界面聚合反應和熔融聚合反應)製造，其為已之程序且述於，例如，在WO 2013/175448 A1和WO 2014/072923 A1中。在聚合反應期間內可含括終端封端劑(亦稱為鏈中止劑或鏈終止劑)以提供末端基團，例如，單環狀酚(如酚、對-氰基酚)、和經C1 -C22 烷基取代的酚(如，對-枯基-酚、間苯二酚單苯甲酸酯、和對-和三級丁基酚)、二酚的單醚(如，對-甲氧基酚)、二酚的單酯(如，間苯二酚單苯甲酸酯)、脂族單羧酸之官能化的氯化物(如，丙烯醯基氯和甲基丙烯醯基氯)、和單氯甲酸酯(如，氯甲酸苯酯)、經烷基取代的氯甲酸苯酯、對-枯基苯基氯甲酸酯、和甲苯氯甲酸酯。可以使用不同的末端基團之組合。可藉由在聚合反應期間內添加支化劑(如，苯偏三酸、苯偏三酸酐、苯偏三酸三氯、參-對-羥基苯基乙烷、吲哚滿二酮-雙酚、參酚、參-酚TC(1,3,5-參((對-羥基苯基)異丙基)苯)、參酚PA(4(4(1,1-雙(對-羥基苯基)-乙基)α,α-二甲基苄基)酚)、4-氯甲醯基酞酸酐、苯均三酸、和二苯基酮四羧酸)而製備支鏈聚碳酸酯嵌段。支化劑的添加量可為0.05至2.0重量%。可以使用包含直鏈聚碳酸酯和支鏈聚碳酸酯之組合。
例示碳酸酯先質包括羰基鹵，如，羰基溴或羰基氯(光氣)、二羥基化合物的雙鹵甲酸酯(如，雙酚A的雙氯甲酸酯、氫醌乙二醇、異戊二醇之類)、和碳酸二芳酯。也可以使用包含以上類型的碳酸酯前驅物中之至少一者之組合。該碳酸二芳酯可為碳酸二苯酯、或在各個芳基上具有拉電子取代基之經活化的碳酸二苯酯，如雙(4-硝基苯基)碳酸酯、雙(2-氯苯基)碳酸酯、雙(4-氯苯基)碳酸酯、雙(甲基柳基)碳酸酯、雙(4-甲基羧基苯基)碳酸酯、雙(2-乙醯基苯基)羧酸酯、雙(4-乙醯基苯基)羧酸酯、或包含前述中的至少一者之組合。
在藉界面聚合反應而非直接使用二羧酸或二醇製造聚(酯-碳酸酯)時，可以使用二酸或二醇的反應性衍生物，如對應的酸醯鹵，特別是酸醯二鹵化物和酸醯二溴化物。因此，例如可以使用異酞醯二氯、對酞醯二氯、或包含前述二氯化物中之至少一者之組合代替使用異酞酸、對酞酸、或包含前述酸中之至少一者之組合。
除了上述聚碳酸酯以外，可以使用聚碳酸酯與其他熱塑性聚合物之組合，例如均聚碳酸酯、共聚碳酸酯和與聚酯的聚碳酸酯共聚物之組合。有用的聚酯包括，例如，具有式(7)之重複單元的聚酯，其包括聚(伸烷基二羧酸酯)、液晶聚酯、和聚酯共聚物。本文所述聚酯在與聚碳酸酯摻混時通常完全互溶。
藉上述界面聚合反應或熔融程序縮合反應、藉溶液相縮合反應、或藉轉酯化聚合反應可得到聚酯，其中，例如，二烷基酯(如，對酞酸二甲酯)可以使用酸催化以乙二醇轉酯化而產生聚(對酞酸伸乙酯)。可以使用支鏈聚酯，例如，具有三或更多個羥基的二醇或經摻雜的三官能性或多官能性羧酸。此外，希望聚酯上具有各種濃度的酸和羥基末端基團，此取決於組成物的終極用途。
也可以使用包含對酞酸伸烷酯重複酯單元和其他酯基之共聚物。可用的酯單元可包括不同的對酞酸伸烷酯單元，其可以個別單元或以聚(對酞酸伸烷酯)嵌段存在於聚合物鏈中。此類型的共聚物包括聚(環己烷二伸甲基對酞酸酯)-共-(聚對酞酸伸乙酯)，其中該聚合物包含大於或等於50mol%的聚(對酞酸伸乙酯)者縮寫成PETG和包含大於50mol%的聚(1,4-環己烷二伸甲基對酞酸酯)者縮寫成PCTG。
聚(伸環烷二酯)亦可包括聚(伸烷基環己烷二羧酸酯)。這些之中，一個例子是聚(1,4-環己烷-二甲醇-1,4-環己烷二羧酸酯)(PCCD)，具有式(7)的重複單元其中，如使用式(5)所述者，J是自1,4-環己烷二甲醇衍生的1,4-環己烷二伸甲基，T是自環己烷二羧酸酯或其化學對等物衍生的環己烷環，且可包含順式異構物、反式異構物、或包含上述異構物中之至少一者之組合。
希望此聚酯和聚碳酸酯摻合物具有5至150cc/10min.，例如，7至125cc/10min.，例如，9至110cc/ 10min.，和例如，10至100cc/10min.的MVR，此係根據ASTM D1238-04於300℃和1.2公斤載重測定。
該熱塑性組成物可以另包括衝擊改質劑。衝擊改質劑的例子包括天然橡膠、氟彈料、乙烯-丙烯橡膠(EPR)、乙烯-丁烯橡膠、乙烯-丙烯-二烯單體橡膠(EPDM)、丙烯酸酯橡膠、氫化的腈橡膠(HNBR)、聚矽氧彈料、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯(SBS)、苯乙烯-丁二烯橡膠(SBR)、苯乙烯-(乙烯-丁烯)-苯乙烯(SEBS)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、丙烯腈-乙烯-丙烯-二烯-苯乙烯(AES)、苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯(SIS)、苯乙烯-(乙烯-丙烯)-苯乙烯(SEPS)、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯(MBS)、高橡膠接枝(HRG)等。
可以使用添加劑組成物，包含選用以達到所欲性質的一或多種添加劑，前提在於添加劑亦經選擇以不會對於該熱塑性組成物的所欲性質造成負面影響。添加劑組成物或個別添加劑可以在混合用於形成該組成物之組份的期間內於適當時間混合。該添加劑可溶於或不溶於聚碳酸酯中。該添加劑組成物可包括耐衝擊改質劑、流動性改質劑、填料(如，細粒聚四氟乙烯(PTFE)、玻璃、碳、礦物、或金屬)、強化劑(如，玻璃纖維)、抗氧化劑、熱安定劑、光安定劑、紫外光(UV)光安定劑、UV吸收添加劑、塑化劑、潤滑劑、脫離劑(如，脫模劑)、抗靜電劑、抗起霧劑、抗菌劑、著色劑(如，染料或顏料)、表面效果添加劑、射線安定劑、阻燃劑、抗滴落劑(如，PTFE-包封的苯乙烯-丙烯腈共聚物(TSAN))、或包含前述一或多者之組合。例如，可以使用熱安定劑、脫模劑、和紫外光安定劑之組合。通常，該添加劑的用量為一般已經知道有效的量。例如，該添加劑組成物的總量(除了任何耐衝擊改質劑、填料、或強化劑以外)可為0.001至10.0重量%、或0.01至5重量%，此分別基於該組成物中之聚合物總重。
該聚碳酸酯組成物可藉此技術中已知的各種方法製造。例如，粉狀的聚碳酸酯、和其他選用組份係經第一次混合，選擇性地與任何填料在高速混合機或藉手動混合先摻合。此摻合物之後經由料斗餵入雙螺桿擠出機的狹口中。或者，組份中之至少一者可以藉由將其於狹口直接餵入擠出機中或於下游經由側填充口(sidestuffer)餵入擠出機中而，或者藉由與所欲聚合物混入母料中摻入組成物中及餵至擠出機中。該擠出機通常於比引發組成物流動所須溫度為高的溫度操作。該擠出機可以立刻在水浴中驟冷和粒化。視所欲地，所製得的粒可為1/4英吋長或更短。此粒可用於後續模製、成形、或成型。
該熱塑性組成物可藉各種方法製造。例如，粉狀的聚碳酸酯、耐衝擊改質劑、紫外光安定劑、或其他選用組份係經第一次混合、選用地與填料在HENSCHEL-Mixer® 高速混合機中摻合。其他低切變程序，包括但不限於手動混合，亦可達成此摻合。之後將此摻合物經由料斗餵入雙螺桿擠出機的狹口中。或者，組份中之至少一者可以藉由將其於狹口直接餵入擠出機中或於下游經由側填充口(sidestuffer)餵入擠出機中。添加劑亦可與所欲的聚合性聚合物混入母料中並餵至擠出機中。該擠出機通常於比引發組成物流動所須溫度為高的溫度操作。該擠出機可以立刻在水浴中驟冷和粒化。視所欲地，所製得的粒可為1/4英吋長或更短。此粒可用於後續模製、成形、或成型。
藉由管理用以製造聚碳酸酯組成物之程序可製造透明組成物。一個製造透明的聚碳酸酯組成物之程序的例子述於美國專利申請案第2003/0032725號。
圖11出示可使用本文描述的多層聚合物膜之電子顯示裝置的各種例子。例如，該多層聚合物膜可用於行動裝置、電視螢幕、電腦顯示器、平板、行動電子裝置(如，筆記型電腦)、和行動電話中的安全螢幕。
以下實例僅說明本文揭示的多層聚合物膜且並非旨於限制其範圍。 實例
以下組份用於實例中。除非特別指出，否則基於組成物的總重量，在以下實施例中各組份的量以重量百分比表示。
表4和5列出多層聚合物膜的例子及在該多層聚合物膜積層於另一膜之後的相關試驗結果。各實例中，使用共擠出程序製得3-層膜。頂層製自得自EVONIK之透明的PMMA等級PLEXIGLASS™ 8N。此PMMA的Tg是118℃。頂層所用的材料應為光學上透明的等級(即，於3mm厚度，透光率大於或等於91%，具有大於或等於H的鉛筆硬度，並具有110至130℃的Tg)。可以使用符合這些所須特性的任何材料，包括PMMA的共聚物。用於頂層的材料可提供多層膜耐磨性和耐刮性。內層，代表膜的整體係製自聚碳酸酯(購自SABIC的LEXAN™, SD1341)。所用聚碳酸酯具有145℃的Tg，54,341 Dalton的重量平均分子量(Mw)，23,255 Dalton的數量平均分子量(Mn)，8立方公分/10分鐘(cm3 /10min)的熔體體積流率(MVR)，此藉熔融聚合反應製得。可以使用其他擠出等級光學聚碳酸酯樹脂。例如，可以使用其他具有6至10cm3 /10min的MVR之擠出等級光學聚碳酸酯樹脂。內層可提供膜機械優點和光學澄清度。底層製自具有不同表面修整程度(不同Ra和Rz程度)之不同的低玻璃轉變溫度(Tg)聚合物以證實當該多層聚合物膜積層至光學膜時，對於性能方面的影響。各個實例中，表層和底層製自相同材料。由壓延輥在低於或等於10MPa的輥隙壓力和高於或等於140℃的溫度下，藉類似的圖案複製達到頂層和底層二者的表面糙度。
使用類似於圖8所示的擠出系統製得膜。壓延輥應具有藉個別冷卻單元控制的溫度。實例中使用直立模具，但也可以考慮使用水平模具。
為了證實對於光學性能的影響，多層膜積層至具有低於或等於50µm的厚度之光學膜的兩面(在添加散射膜之前)，並測定該複合層疊物的透光率和濁度。於130至170℃的溫度進行積層。
實例中，表面糙度以Ra、Rz、和Rpc表示。使用Kosaka 1700a surface stylus Profilometer根據ISO 4287:1997在各表面測定這些。
表3列出各樣品的處理條件，包括用於中層的主要擠出機溫度、用於頂層的共擠出機溫度、用於底層的共擠出機溫度、第一輥(如，橡膠輥)、第二輥(如，紋理鋼輥)、第三輥(如，拋光鋼輥)、及第一和第二輥的輥隙壓力(測定單位是bar)。所有實例中的中間層係以相同的聚碳酸酯製造。實例 1
樣品1：使用實例的一般描述中的上述共擠出程序及相關於圖8形成具有130µm的總厚度的三層膜。該三層膜的頂層製自PMMA並具有10µm的厚度，內層製自聚碳酸酯並具有115µm的厚度，而底層製自PMMA並具有5µm的厚度。該底層製自具有110℃的Tg的PMMA等級(EVONIK ZK5BR)以有助於積層且不須要熔融整體多層膜。在形成多層膜之後，其如前述地積層至反射性偏光膜。儘管有良好的光學性能(其意謂透光率的變化極小或無變化)，但積層性能無法被接受。膜於邊緣處分離且氣泡陷於介於多層膜和反射性偏光膜之間的界面。此由底表面的過度粗糙所引發，由於底層的外表面上的Rz是3.09µm，此遠遠偏離低於0.75µm的所須範圍內。
實例2：形成具有130µm的總厚度的三層膜。該三層膜的頂層製自與樣品1相同的PMMA並具有10µm的厚度，內層製自聚碳酸酯並具有115µm的厚度，而底層製自聚碳酸酯和非晶狀聚酯(PC3)的摻合物，XYLEX™ 8409，購自SABIC，並具有5µm的厚度。底層製自Tg為121℃的PC3，溫度同樣夠低以有助於不須熔化整體膜便能積層至反射性偏光膜。在形成多層膜之後，其積層至前述反射性偏光膜。樣品2中的膜具有積層性能的問題(如，氣泡、條紋、直線外觀缺陷(即，在界面處看得到的影響))，所以未測試光學性能。因為底層的外表面過度粗糙，所以仍無法接受該積層性能。底表面上的Rz是3.05µm，此遠遠偏離低於0.75µm的所須程度。
樣品3：形成具有130µm的總厚度的三層膜。該三層膜的頂層製自與樣品1相同的PMMA並具有10µm的厚度，內層製自聚碳酸酯並具有115µm的厚度，而底層製自聚(脂族酯)聚碳酸酯(PC4)，HFD™ 1212，購自SABIC，並具有5µm的厚度。底層製自Tg為132℃的PC4，溫度同樣夠低以有助於不須熔化整體膜便能積層至反射性偏光膜。其具有積層性能的問題(如，氣泡、條紋、不完美、直線外觀缺陷(即，在界面處看得到的影響))，所以未測試光學性能。由於底層的外表面上的Rz是2.91µm，此遠遠偏離低於0.75µm的所須程度，因為底層的外表面過度粗糙，所以仍無法接受積層性能。
樣品4：形成具有75µm的總厚度的三層膜。該三層膜的頂層製自與樣品1相同的PMMA並具有5µm的厚度，內層製自聚碳酸酯並具有65µm的厚度，而底層製自PC5，XYLEX™ X7300CL，購自SABIC，並具有5µm的厚度。底層製自Tg為112℃的PC5，溫度同樣夠低以有助於不須熔化整體膜便能積層至反射性偏光膜。此膜具有良好的光學性能，在將反射性偏光膜積層至底層之後，未觀察到氣泡。底層的外表面的Rz為0.52µm，其在低於0.75µm的所須範圍內。
樣品9：形成具有175µm的總厚度的三層膜。該三層膜的頂層製自與樣品1相同的PMMA並具有10µm的厚度，內層製自聚碳酸酯(PC)，市售品PC LEXAN™ SD1341，並具有160µm的厚度，而底層製自聚碳酸酯(PC)，市售品PC LEXAN™ SD1341，購自SABIC，並具有5µm的厚度。其與其他樣品中作為內層的聚碳酸酯相同。所用聚碳酸酯的Tg是145℃，重量平均分子量為54,341 Daltons(Mw)，數量平均分子量為23,255 Daltons(Mn)，熔體體積流率(MVR)為8立方公分/10分鐘(cm3 /10min)，且係藉熔融聚合反應製造。底層的PC具有145℃的Tg，當積層至反射性偏光膜時，因為施用有限的熱或整體膜會熔化，所以導致欠佳的積層結果及欠佳的結合力。同時，樣品9具有因為底表面過度粗糙而造成氣泡陷在介於多層膜和反射性偏光膜之間的介面的問題。底層的外表面的Rz是2.61µm，此遠遠高於低於0.75µm的所須範圍。
樣品5：形成具有75µm的總厚度的三層膜。該三層膜的頂層製自與樣品1相同的PMMA並具有5µm的厚度，內層製自聚碳酸酯並具有65µm的厚度，而底層製自(PC5)，XYLEX™ X7300CL，購自SABIC並具有5µm的厚度。底層製自Tg為112℃的PC5，其Tg亦夠低以有助於積層至反射性偏光膜且不須熔化整體膜。此膜具有良好的光學性能，在反射性偏光膜積層至底層之後，未觀察到氣泡。底層的外表面的Rz是0.54µm，其在低於0.75µm的所須範圍內。
樣品6：形成具有75µm的總厚度的三層膜。該三層膜的頂層製自與樣品1相同的PMMA並具有5µm的厚度，內層製自聚碳酸酯並具有65µm的厚度，而底層製自(PC5)，XYLEX™ X7300CL，購自SABIC並具有5µm的厚度。底層製自Tg為112℃的PC5，其Tg亦夠低以有助於積層至反射性偏光膜且不須熔化整體膜。此膜具有良好的光學性能，在反射性偏光膜積層至底層之後，未觀察到氣泡。底層的外表面的Rz是0.54µm，其在低於0.43µm的所須範圍內。
樣品7：形成具有75µm的總厚度的三層膜。該三層膜的頂層製自與樣品1相同的PMMA並具有5µm的厚度，內層製自聚碳酸酯並具有65µm的厚度，而底層製自(PC5)，XYLEX™ X7300CL，購自SABIC並具有5µm的厚度。底層製自Tg為112℃的PC5，其Tg亦夠低以有助於積層至反射性偏光膜且不須熔化整體膜。此膜具有良好的光學性能，在反射性偏光膜積層至底層之後，未觀察到氣泡。底層的外表面的Rz是0.54µm，其在低於0.75µm的所須範圍內。
樣品8：形成具有75µm的總厚度的三層膜。該三層膜的頂層製自與樣品1相同的PMMA並具有5µm的厚度，內層製自聚碳酸酯並具有65µm的厚度，而底層製自(PC5)，XYLEX™ X7300CL，購自SABIC並具有5µm的厚度。底層製自Tg為112℃的PC5，其Tg亦夠低以有助於積層至反射性偏光膜且不須熔化整體膜。此膜具有良好的光學性能，在反射性偏光膜積層至底層之後，未觀察到氣泡。底層的外表面的Rz是0.47µm，其在低於0.75µm的所須範圍內。
樣品1-8證實使用具有低於或等於140℃的玻璃轉變溫度之材料，積層化可以在未損失堆疊物的結構特性(如，表面糙度)的情況下完成。樣品4-8皆證實當底層的外表面的表面糙度Rz低於或等於0.75µm，例如，低於或等於0.55µm，例如，低於或等於0.50µm時，不僅混濁並保留透光性質，意謂在反射性偏光膜積層至多層膜的底層之後，不僅保留膜的功能性，亦得到可接受的積層結果。如樣品1-3中見到者，在底層的外表面上之較高的表面糙度值犧牲多層膜積層至反射性偏光膜的能力。例如，樣品1無法良好地積層，意謂該膜彼此未能良好地積層並層離或者二者之間的剝離力弱，而樣品2和3良好地積層，但有氣泡外觀之虞，此意謂兩個表面未能適當地相符和結合。反之，在樣品4-8中，積層成功，沒有氣泡外觀。
本文所揭示的多層膜及其製法至少包括以下具體實施例：
具體實施例1：一種多層聚合物膜，包含：包含聚(甲基丙烯酸甲酯)之頂層；包含底層組成物之底層，該底層組成物包含聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯、其共聚物、或包含前述中之至少一者之組合，其中該底層組成物的玻璃轉變溫度低於或等於140℃；和裝配於該頂層的內表面和該底層的內表面之間之內層，其中該內層包含聚碳酸酯。
具體實施例2：如具體實施例1之多層聚合物膜，其中該底層的玻璃轉變溫度是100℃至140℃，較佳地其中該玻璃轉變溫度是100℃至110℃，更佳地其中該玻璃轉變溫度是110℃。
具體實施例3：如具體實施例1或具體實施例2之多層聚合物膜，其中該底層組成物包含聚碳酸酯和聚酯之共聚物，較佳地其中該聚酯包含非晶狀聚酯。
具體實施例4：如先前具體實施例中之任一項之多層聚合物膜，其中該底層組成物包含聚(脂族酯)聚碳酸酯共聚物。
具體實施例5：如先前具體實施例中之任一項之多層聚合物膜，其中該頂層的厚度是5微米至30微米。
具體實施例6：如先前具體實施例中之任一項之多層聚合物膜，其中該內層的厚度是50微米至200微米。
具體實施例7：如先前具體實施例中之任一項之多層聚合物膜，其中該底層的厚度是1微米至10微米。
具體實施例8：如先前具體實施例中之任一項之多層聚合物膜，其中根據ISO 4287測定，該底層的外表面的平均表面糙度Rz是低於或等於0.75微米，較佳地其中該平均表面糙度Rz是低於或等於0.5微米。
具體實施例9：如先前具體實施例中之任一項之多層聚合物膜，另包含直接積層至該底層的外表面之膜，較佳地其中該膜係光學膜。
具體實施例10：如先前具體實施例中之任一項之包含多層聚合物膜之物件，其中較佳地該物件是電子顯示器、平板顯示器、窗、或照明罩，較佳地其中該物件是電腦螢幕、平板、行動裝置、電視螢幕、投射顯示器、交通號誌、或告示板，更佳地其中該電子顯示器是高清顯示器，最佳地其中該高清顯示器是超高清顯示器，又更佳地其中該超高清顯示器是超高清電視螢幕。
具體實施例11：一種用於電子顯示器之光學膜，包含：光學膜和裝配於該光學膜的單一外表面上或兩個外表面上之如具體實施例1-9中之任一項之多層聚合物膜。
具體實施例12：一種電子顯示器，包含：光導物；裝配於鄰近光導物處的光學膜，其中如具體實施例1-9中之任一項之多層聚合物膜裝配於該光學膜的任一面或兩面上；裝配於鄰近該光學膜處的影像製造器；和裝配於鄰近該影像製造器處的基板。
具體實施例13：一種製造如具體實施例1-9中之任一項之多層聚合物膜之方法，包含：共擠出該頂層、該底層、和裝配於該頂層的內表面和該底層的內表面之間的該內層。
具體實施例14：如具體實施例13之方法，另包含將該底層的外表面直接積層至光學膜。
具體實施例15：如具體實施例14之方法，其中該積層溫度是130至170℃達2至3分鐘的時間區間。
具體實施例16：如具體實施例13-15中之任一項之方法，另包含使得該底層的外表面紋理化至根據ISO 4287測定之平均表面糙度Rz低於或等於0.75微米，較佳地其中該平均表面糙度Rz是低於或等於0.5微米。
具體實施例17：一種多層聚合物膜，包含：包含具100至150℃的玻璃轉變溫度之材料的頂層；包含底層組成物之底層；和裝配於該頂層的內表面和該底層的內表面之間的內層，其中該內層的玻璃轉變溫度是125至175℃；其中該內層的玻璃轉變溫度比該頂層或該底層的玻璃轉變溫度低0.25至75o 。
具體實施例18：如具體實施例17之多層聚合物膜，其中該頂層包含聚(甲基丙烯酸甲酯)，該底層包含底層組成物，而該底層組成物包含聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯、其共聚物、或包含前述中之至少一者之組合；且該內層包含聚碳酸酯。
具體實施例19：如具體實施例17或具體實施例18之多層聚合物膜，其中該底層組成物包含聚碳酸酯和聚酯之共聚物，較佳地其中該聚酯包含非晶狀聚酯，較佳地其中該底層組成物包含聚(脂族酯)聚碳酸酯共聚物。
具體實施例20：如具體實施例17-19中之任一項之多層聚合物膜，另包含直接積層至該底層的外表面之膜，較佳地其中該膜是光學膜。
具體實施例21：如具體實施例17-20中之任一項之多層聚合物膜，其中根據ISO 4287測定，該底層的外表面的平均表面糙度Rz是低於或等於0.75微米，較佳地其中該平均表面糙度Rz是低於或等於0.5微米。
通常，本發明可以替代地包含本文所揭示之任何適當的組份、由本文所揭示之任何適當的組份所組成、或基本上由本文所揭示之任何適當的組份所組成。本發明可以另外、或替代地、經調配以免除、或實質上沒有先前技術組成物中使用的任何組份、材料、成份、輔助劑或物種或者對於實現本發明之功用和/或目的非必要者。針對相同組份或性質的所有範圍含括其端點並且可獨立地組合(例如，“小於或等於25重量%、或5重量%至20重量%”含括“5重量%至25重量%”範圍內的所有中間值等)。除了更廣泛的範圍之外，公開更窄範圍或更具體的群組並非放棄更廣泛範圍或更大的群組。“合併”含括摻合物、混合物、摻混物、反應產物等。此外，本文中的用語“第一、”“第二、”等並非指任何順序、量、或重要性，而是用以表示一個要素和另一要素。除非本文另有說明或與上下文明顯矛盾，否則本文的用語“一”和“一個”和“該”不表示數量的限制，並且將被解釋為涵蓋單數和複數兩者。“或”是指“和/或”。本文使用的後綴“(s)”旨在包括其修飾的術語的單數和複數，因此包括該術語中的一者或多者(例如，該一膜包括一個或多個膜)。在整個說明書中提及的“一具體實施例”、“另一具體實施例”、“具體實施例”等意指特定要素(例如，特徵，結構和/或特性)與具體實施相關的描述包括在本文中描述的至少一個具體實施例中，並且可能存在或不存在於其他具體實施例中。此外，理解在各式各樣的具體實施例中，所述要素可以任何適當方式合併。
結合數量使用的修飾詞“約”包括所述值並且具有由上下文所指示的含義(例如，包括與特定量的測量相關聯的誤差程度)。符號“±10％”表示指示的測量值可以是從減去10％的量到加上規定值的10％的量。除非另有說明，否則本文使用的用語“前”、“後”、“底部”和/或“頂部”僅僅是為了便於描述，並且不限於任何一個位置或空間取向。“任選的”或“任選地”表示隨後描述的事件或情況可以發生或不發生，並且該描述包括事件發生的實例和事件不發生的實例。除非另有定義，否則本文使用的技術和科學術語具有與本發明所屬領域的技術人員通常理解的相同的含義。“合併”包括摻合物、混合物、摻混物、反應產物等。
除非在本文中另有說明，否則對ASTM D1003、ASTM D4935、ASTM 1746、FCC第18部分、CISPR11和CISPR 19等標準、規定、測試方法等的任何引用均是指標準、法規、指導或在提交本申請時有效的方法。
組成物、方法、和物件可以替代性地包含本文所揭示之任何適當的組份或步驟、由本文所揭示之任何適當的組份或步驟所組成、或基本上由本文所揭示之任何適當的組份或步驟所組成。組成物、方法、和物件可以另外、或替代性地、經調合以免除、或實質上沒有包含對於實現本發明之功用和/或目的非必要的任何步驟、組份、材料、成份、輔助劑或物種。
本文中使用的用語“烴基”和“烴”係廣泛地指包含碳和氫，任意地具1至3個雜原子(例如，氧、氮、鹵素、矽、硫、或其組合)的取代基；“烷基”是指直鏈或支鏈、飽和的單價烴基；“伸烷基”是指直鏈或支鏈、飽和的二價烴基；“亞烷基”是指直鏈或支鏈、飽和的二價烴基，在單一共用碳原子上有兩價；“烯基”是指具有至少兩個碳以碳-碳雙鍵連接的直鏈或支鏈單價烴基；“環烷基”是指具有至少三個碳原子的非芳族單價單環或多環烴基，“環鏈烯基”是指具有至少三個碳原子和至少一個不飽和度的非芳族環狀二價烴基；“芳基”是指在一或多個芳環中僅含碳的芳族單價基團；“伸芳基”是指在一或多個芳環中僅含碳的芳族二價基團；“烷基芳基”是指經以上定義的烷基取代的芳基，4-甲基苯基為例示烷基芳基；“芳基烷基”是指經以上定義的芳基取代的烷基，苄基為例示芳基苯基；“醯基”是指經由羰基碳橋(-C(=O)-)連接之具有指定碳原子數之以上定義的烷基；“烷氧基”是指經由氧橋(-O-)連接具有指定碳原子數之以上定義的烷基；而“芳氧基”是指經由氧橋(-O-)連接之具有指定碳原子數之以上定義的芳基。
除非另外指出，否則以上基團的各者可以未經取代或經取代，前提在於該取代基未明顯負面影響該化合物的合成、安定性、或用途。本文中使用的用語“經取代”是指指定的原子或基團上的至少一個氫以另一基團代替，前提在於未超過指定的原子的正常價數。當取代基是氧(即，=O)時，在原子上的兩個氫經替代。可允許取代基或變數之組合，前提在於取代作用不明顯不利地影響化合物的合成或使用。可存在於“經取代的”位置上的例示基團包括，但不限於，氰基；羥基；硝基；疊氮基；烷醯基(如C2-6 烷醯基，如醯基)；羧醯胺基；C1-6 或C1-3 烷基、環烷基、烯基、和炔基(包括具有至少一個不飽和鏈和2至8、或2至6個碳原子的基團)；C1-6 或C1-3 烷氧基；C6-10 芳氧基，如，苯氧基；C1-6 烷硫基；C1-6 或C1-3 烷基亞磺醯基；C1-6 或C1-3 烷基磺醯基；胺基二(C1-6 或C1-3 )烷基；具有至少一個芳環的C6-12 芳基(如，苯基、聯苯基、萘基之類，各環為經取代或未經取代的芳基)；具1至3個分離或稠合環和6至18個環碳原子的C7-19 芳基烷基；或具1至3個分離或稠合環和6至18個環碳原子的芳基烷氧基，苄氧基為例示芳基烷氧基。
將所有引用的專利、專利申請案、和其他參考文獻全文以引用方式納入本文中。然而，如果本申請中的用語與所併入的參考文獻中的用語相矛盾或相抵觸，則來自本申請案的用語優先於來自所併入的參考文獻的抵觸用語。
雖然已描述特別的具體實施例，可能會出現申請人和嫻於此技術之人士目前無法預見的替代、修飾、改變、改良和實質對等物。據此，所提交的所附請求項以及可能修改的權利要求旨在涵蓋所有這些替代方案、修飾改變、改良、和實質對等物。
40‧‧‧液晶顯示器
24‧‧‧多層聚合物膜
42‧‧‧第一基板
44‧‧‧液晶材料
46‧‧‧密封材料
48‧‧‧第二基板
50‧‧‧偏光隔離膜
52‧‧‧背光
54‧‧‧光導板
56‧‧‧反射片
58‧‧‧隔離物
60‧‧‧第一偏光膜
62‧‧‧第一阻滯膜
64‧‧‧第二阻滯膜
66‧‧‧第二偏光膜
68‧‧‧光學膜
100‧‧‧TFT-顯示器
1‧‧‧基板
2‧‧‧直立偏光器
3‧‧‧水平偏光器
4‧‧‧濾色器
5‧‧‧直立指令列
6‧‧‧水平指令列
7‧‧‧聚合物層
8‧‧‧隔離物
9‧‧‧TFT
10‧‧‧正面電極
11‧‧‧背面電極
72‧‧‧廢光
74‧‧‧廢光
76‧‧‧反射光束
78‧‧‧光學裝置
77‧‧‧反射光束
80‧‧‧光學裝置
82‧‧‧BEF
84‧‧‧背光
86‧‧‧燈
88‧‧‧LCD
90‧‧‧繞射光束
92‧‧‧回收光束
96‧‧‧第一偏光器
98‧‧‧第二偏光器
102‧‧‧第一偏光光束
104‧‧‧第二偏光光束
94‧‧‧反射性偏光膜
12‧‧‧第一共擠出機
16‧‧‧第二共擠出機
14‧‧‧頂層
15‧‧‧頂表面
17‧‧‧底表面
18‧‧‧底層
19‧‧‧微結構元件
21‧‧‧精細紋理
22‧‧‧內層
24‧‧‧多層聚合物膜
26‧‧‧多歧管共擠出模具
28‧‧‧光學膜
20‧‧‧主要擠出機
150‧‧‧料斗
152‧‧‧進料口
154‧‧‧筒身
156‧‧‧換濾網裝置/多孔板組裝物
158‧‧‧齒輪泵
164‧‧‧連接板
166‧‧‧熔融擠出物
30‧‧‧圓柱形輥
31‧‧‧圓柱形輥
32‧‧‧圓柱形輥
33‧‧‧圓柱形輥
34‧‧‧圓柱形輥
35‧‧‧圓柱形輥
36‧‧‧圓柱形輥
37‧‧‧圓柱形輥
38‧‧‧圓柱形輥
110‧‧‧熔融物壓延系統
39‧‧‧機械方向
以下為附圖簡述，其中類似的元件以類似的號碼標示且其以說明本文中所揭示的例示具體實施例的目的出示且非用於限制彼之目的。
圖1是液晶顯示器的截面圖。
圖2是薄膜電晶體的截面圖。
圖3A是在沒有光學膜的系統中之反射光的側視圖。
圖3B是在有光學膜的系統中之反射光的側視圖。
圖3C是光線通過有光學膜的系統的圖。
圖4A是光線通過沒有光學膜的系統的圖。
圖4B是光線通過有光學膜的系統的圖。
圖5是光學膜和各種多層聚合膜的層在二者彼此接合之前的圖。
圖6是多層聚合物膜接合至光學膜的圖。
圖7是兩個多層聚合物膜接合至光學膜的圖。
圖8是用於製造本文揭示的多層聚合物膜之擠出機構造的示意圖。
圖9是用於製造多層聚合物膜之熔融物壓延系統的圖。
圖10是圖9之壓延系統的某些元件的詳圖。
圖11是本文揭示之多層聚合物膜之各種終用途產品的圖。

Claims (20)

  1. 一種多層聚合物膜，包含： 　　包含聚(甲基丙烯酸甲酯)之頂層； 　　包含底層組成物之底層，該底層組成物包含聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯、其共聚物、或包含前述中之至少一者之組合，其中該底層組成物的玻璃轉變溫度低於或等於140℃；和 　　裝配於該頂層的內表面和該底層的內表面之間之內層，其中該內層包含聚碳酸酯。
  2. 如請求項1之多層聚合物膜，其中該底層的玻璃轉變溫度是100℃至140℃，較佳地其中該玻璃轉變溫度是100℃至110℃，更佳地其中該玻璃轉變溫度是110℃。
  3. 如請求項1或請求項2之多層聚合物膜，其中該底層組成物包含聚碳酸酯和聚酯之共聚物，較佳地其中該聚酯包含非晶狀聚酯。
  4. 如先前請求項中之任一項之多層聚合物膜，其中該底層組成物包含聚(脂族酯)聚碳酸酯共聚物。
  5. 如先前請求項中之任一項之多層聚合物膜，其中該頂層的厚度是5微米至30微米。
  6. 如先前請求項中之任一項之多層聚合物膜，其中該內層的厚度是50微米至200微米。
  7. 如先前請求項中之任一項之多層聚合物膜，其中該底層的厚度是1微米至10微米。
  8. 如先前請求項中之任一項之多層聚合物膜，其中根據ISO 4287測定，該底層的外表面的平均表面糙度Rz是低於或等於0.75微米，較佳地其中該平均表面糙度Rz是低於或等於0.5微米。
  9. 如先前請求項中之任一項之多層聚合物膜，另包含直接積層至該底層的外表面之膜，較佳地其中該膜係光學膜。
  10. 如先前請求項中之任一項之包含多層聚合物膜之物件，其中較佳地該物件是電子顯示器、平板顯示器、窗、或照明罩，較佳地其中該物件是電腦螢幕、平板、行動裝置、電視螢幕、投射顯示器、交通號誌、或告示板，更佳地其中該電子顯示器是高清顯示器，最佳地其中該高清顯示器是超高清顯示器，又更佳地其中該超高清顯示器是超高清電視螢幕。
  11. 一種用於電子顯示器之光學膜，包含： 　　光學膜和裝配於該光學膜的單一外表面上或兩個外表面上之如請求項1-9中之任一項之多層聚合物膜。
  12. 一種電子顯示器，包含： 　　光導物； 　　裝配於鄰近該光導物處的光學膜，其中如請求項1-9中之任一項之多層聚合物膜裝配於該光學膜的任一面或兩面上； 　　裝配於鄰近該光學膜處的影像製造器；和 　　裝配於鄰近該影像製造器處的基板。
  13. 一種製造如請求項1-9中之任一項之多層聚合物膜之方法，包含： 　　共擠出該頂層、該底層、和裝配於該頂層的內表面和該底層的內表面之間的該內層。
  14. 如請求項13之方法，另包含將該底層的外表面直接積層至光學膜。
  15. 如請求項13-15中之任一項之方法，另包含使得該底層的外表面紋理化至根據ISO 4287測定之平均表面糙度Rz低於或等於0.75微米，較佳地其中該平均表面糙度Rz是低於或等於0.5微米。
  16. 一種多層聚合物膜，包含： 　　包含具100至150℃的玻璃轉變溫度之材料的頂層； 　　包含底層組成物之底層；和 　　裝配於該頂層的內表面和該底層的內表面之間的內層，其中該內層的玻璃轉變溫度是125至175℃； 　　其中該內層的玻璃轉變溫度比該頂層或該底層的玻璃轉變溫度低0.25至75o 。
  17. 如請求項16之多層聚合物膜，其中該頂層包含聚(甲基丙烯酸甲酯)，該底層包含底層組成物，而該底層組成物包含聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯、其共聚物、或包含前述中之至少一者之組合；且該內層包含聚碳酸酯。
  18. 如請求項16或請求項17之多層聚合物膜，其中該底層組成物包含聚碳酸酯和聚酯之共聚物，較佳地其中該聚酯包含非晶狀聚酯，較佳地其中該底層組成物包含聚(脂族酯)聚碳酸酯共聚物。
  19. 如請求項16-18中之任一項之多層聚合物膜，另包含直接積層至該底層的外表面之膜，較佳地其中該膜是光學膜。
  20. 如請求項16-19中之任一項之多層聚合物膜，其中根據ISO 4287測定，該底層的外表面的平均表面糙度Rz是低於或等於0.75微米，較佳地其中該平均表面糙度Rz是低於或等於0.5微米。
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