TW201821894A

TW201821894A - 雷射投影機的光源系統

Info

Publication number: TW201821894A
Application number: TW105141032A
Authority: TW
Inventors: 吳典學; 黃清帥
Original assignee: 佳世達科技股份有限公司
Priority date: 2016-12-12
Filing date: 2016-12-12
Publication date: 2018-06-16
Also published as: TWI614563B

Abstract

一種雷射投影機的光源系統，用以產生合光光束。光源系統包含第一雷射模組、第二雷射模組、光導引模組、波長轉換裝置以及光管。第一雷射模組產生沿第一光徑行進的第一光束。第二雷射模組產生沿第二光徑行進的第二光束。光導引模組反射第一光束以產生沿第三光徑行進的第一反射光束，並反射第二光束以產生沿第四光徑行進的第二反射光束。波長轉換裝置的波長轉換層接受第一反射光束的照射以產生逆第三光徑行進的受激光束。光導引模組將受激光束導引至第四光徑。光管匯合受激光束及第二反射光束，以產生合光光束。

Description

雷射投影機的光源系統

本發明係有關於一種光源系統，尤指一種雷射投影機的光源系統。

隨著科技日新月異，雷射的技術也慢慢成熟，投影機的光源系統也開始陸續以雷射作為光源。但在對投影機輕巧化的需求下，目前以雷射作為光源的投影機顯得龐大且缺乏靈活性。

請參考第1圖，第1圖為一種習知的投影機之光源系統10的示意圖。光源系統10作為投影機的光源，其藉由雷射模組12產生雷射光束Ba。雷射光束Ba經過分光鏡14反射後射向透鏡L1及螢光粉色輪(phosphor wheel)15。請參考第2圖，第2圖為螢光粉色輪15的示意圖。螢光粉色輪15具有穿透區24而可容雷射光束Ba穿過。此外，螢光粉色輪15另具有螢光粉塗佈區25(以斜線表示)，當雷射光束Ba照射到螢光粉塗佈區25時，螢光粉塗佈區25上的螢光粉會受到激發而產生螢光光束F。螢光光束F會穿透分光鏡14而經透鏡L5進入光管22。光源系統10的驅動裝置17會驅動螢光粉色輪15，以使螢光粉色輪15轉動，而由於螢光粉色輪15具有穿透區24，故有部分的雷射光束Ba會通過穿透區24而進入透鏡L2及中繼(relay)系統30。中繼系統30具有三個反射鏡16、18及20與透鏡L3及L4，用以將通過穿透區24的雷射光束Ba轉向而導引至分光鏡14。被中繼系統30導引至分光鏡14的雷射光束Ba會再經由分光鏡14反射，而經透鏡L5進入光管22。螢光光束F及通過穿透區24之雷射光束Ba會經過光管22，而使光管22產生投影機的投影系統50所需的白光。由上述說明可明白，光源系統10係藉由轉動並具有穿透區24的螢光粉色輪15，而使螢光光束F及雷射光束Ba係輪替地進入光管22。其中，穿透區24所對應的角度θ會影響螢光光束F與通過穿透區24之雷射光束Ba的進入到光管22的時間比例，進而影響光管22所輸出的光線之光譜能量分布。

光源系統10的優點在於僅需單一個雷射模組12即可產生白光。然而，由於光源系統10需要透過中繼系統30將通過穿透區24之雷射光束Ba導回至分光鏡14，故光源系統10所需的光學元件繁多，而導致光源系統10的體積龐大。此外，由於單一個雷射模組12是產生螢光光束F的主要能量來源，且螢光光束F與通過穿透區24之雷射光束Ba的比例主要受到角度θ的影響，故光管22所產生以提供給投影系統50的白光其光譜能量分布難以調整。

本發明提供一種雷射投影機的光源系統，可不需透過中繼系統即可產生投影系統所需的白光。

本發明一實施例揭露一種雷射投影機的光源系統，用以產生合光光束。光源系統包含第一雷射模組、第二雷射模組、第一光導引模組、第一波長轉換裝置以及光管。第一雷射模組用以產生沿第一光徑行進的第一光束。第二雷射模組用以產生沿第二光徑行進的第二光束。第一光導引模組用以反射第一光束，以產生沿第三光徑行進的第一反射光束，並用以反射第二光束，以產生沿第四光徑行進的第二反射光束。第一波長轉換裝置具有第一波長轉換層，用以接受第一反射光束的照射，以產生逆第三光徑行進的第一受激光束。此外，第一光導引模組另用以將第一受激光束導引至第四光徑。光管用以匯合第一受激光束及第二反射光束，以產生合光光束。

在本發明之實施例中的光源系統，由於不具有如先前技術之投影設備的中繼(relay)系統，故光源系統的體積可以大幅地縮小。此外，由於光源系統具有兩個雷射模組，故可簡易地透過調整不同雷射模組的輸出功率的方式，調整光源系統所輸出的合光光束之光譜能量分佈，以符合不同的投影需求。

請參考第3圖，第3圖為本發明一雷射投影機之光源系統100的示意圖。光源系統100用以產生雷射投影機之投影系統190所需的合光光束180。投影系統190可以但不限於是液晶覆矽(Liquid Crystal on Silicon；LCOS)投影系統或三色數位光源處理(Three Digital Light Processing；3DLP)投影系統。光源系統100包含雷射模組110、雷射模組120、光導引模組130、波長轉換裝置151以及光管170。雷射模組110用以產生沿光徑P1行進的光束B1。雷射模組120用以產生沿光徑P2行進的光束B2。光導引模組130用以反射光束B1以產生沿光徑P3行進的反射光束R1，並用以反射光束B2以產生沿光徑P4行進的反射光束R2。波長轉換裝置151具有波長轉換層152，用以接受反射光束R1的照射，以產生逆上述光徑P3行進的受激光束F1。光導引模組130會將受激光束F1導引至光徑P4。光管170則用以匯合受激光束F1及反射光束R2，以產生合光光束180。

在本實施例中，光徑P1與光徑P2及P3垂直且與光徑P4平行，光徑P2與光徑P3平行與光徑P4垂直，光徑P3與光徑P4垂直。此外，光導引模組130包含兩個分光層131及132，而分光層131與132垂直交叉設置且應用於光學元件，以形成十字分光層片組(X-Plate)或合光稜鏡(X-Cube)。其中，分光層131用以反射光束B1及B2以分別產生反射光束R1及R2，且分光層131允許受激光束F1穿透。分光層132用以反射受激光束F1以使受激光束F1沿光徑P4行進。此外，分光層132允許反射光束R1及R2穿透。由於光源系統100可不使用先前技術之投影設備的中繼(relay)系統，故光源系統100的體積可以大幅地縮小。此外，由於光源系統100具有雷射模組110及雷射模組120，故可簡易地透過調整雷射模組110及/或雷射模組120之輸出功率或數量等方式，動態地調整合光光束180的光譜能量分佈，以符合不同的投影需求。

在本發明一實施例中，雷射模組110與雷射模組120皆為藍光雷射模組，故光束B1及B2與反射光束R1及R2皆為藍光雷射光束。應了解的是，亦可採用紫外或近紫外雷射模組，以產生紫外或近紫外雷射光束。當藍色的反射光束R1照射波長轉換裝置151時，波長轉換裝置151的波長轉換層152會將反射光束R1進行波長的轉換，而使得受激光束F1的波長與反射光束R1的波長不相等。在本發明一實施例中，波長轉換層152為螢光粉層，由塗佈在波長轉換裝置151上的螢光粉所構成。在本發明另一實施例中，波長轉換層152包含多個量子點(quantum dots)，每個量子點接收部分的光束B2，以產生受激光束F1的一部份。由於兩分光層131及132具有不同的光學特性，故分光層131及132對不同波長的反射光束R1及受激光束F1會有不同的光學表現。請參考第4圖，第4圖用以說明本發明一實施例中兩個分光層131與132的光學特性。其中，曲線153用以表示光束B1及B2與反射光束R1及R2為藍色光束時的波長分佈，曲線155用以表示分光層131的光學特性，曲線157用以表示分光層132的光學特性。由曲線153可知，光束B1及B2與反射光束R1及R2的波長大約在460nm附近。此外，受激光束F1的波長大致上大於500nm。依據曲線155，光束B1及B2對分光層131的穿透率約為0%，而受激光束F1對分光層131的穿透率約為100%，故分光層131會反射光束B1及B2以產生反射光束R1及R2，且分光層131允許受激光束F1穿透。另依據曲線157，光束B1及B2與反射光束R1及R2對分光層132的穿透率約為100%，而受激光束F1對分光層132的穿透率約為0%，故分光層132允許光束B1及B2與反射光束R1及R2穿透，且分光層132會將來自波長轉換裝置151的受激光束F1反射至光管170。

在本發明一實施例中，波長轉換裝置151為螢光色輪。請參考第5圖及第6圖。第5圖為本發明一實施例之波長轉換裝置151為螢光色輪時的示意圖，而第6圖為第5圖之波長轉換裝置151沿虛線AA’之剖面圖。如圖所示，本實施例中，波長轉換裝置151為環狀的螢光色輪，而包含有反射層154以及為螢光粉層的波長轉換層152。反射層154的作用在反射波長轉換層152所產生的螢光，以使波長轉換層152所產生的螢光匯聚成受激光束F1。相較於第2圖的螢光粉色輪15，第5圖的波長轉換裝置151則不具有穿透區24，故反射光束R1不會穿過波長轉換裝置151，進而使波長轉換裝置151可持續不中斷地產生受激光束F1。

請再參考第3圖。在本發明一實施例中，光源系統100可另包含驅動裝置156，用以驅動波長轉換裝置151以使波長轉換裝置151轉動，並與波長轉換裝置151組成一波長轉換模組150。由於波長轉換裝置151的轉動，光束R1不會一直照射在波長轉換裝置151的同一個地方，而有助於波長轉換裝置151的散熱，並延長波長轉換裝置151的使用壽命。在本發明一實施例中，驅動裝置156可以是電動馬達。

在本發明一實施例中，雷射模組110及雷射模組120可具有多個雷射光源。請參考第7圖，第7圖為本發明一實施例之雷射模組110的結構示意圖。在此一實施例中，雷射模組110具有多個雷射光源112、多個雷射光源114、多個反射鏡118以及透鏡119。雷射光源112及114分別產生雷射光束115，而每一雷射光源114所產生的雷射光束115會經由對應的反射鏡118反射至透鏡119。雷射光源112所產生雷射光束115會通過反射鏡118旁的間隙而射向透鏡119。透鏡119會匯聚雷射光源112及114所產生雷射光束115而形成光束B1。藉由這樣的設置，雷射模組110所產生的光束B1的亮度會較單一雷射光源所產生的光束之亮度大許多倍。此外，藉由反射鏡118的設置，可降低雷射模組110之單位面積的雷射光源的數目，而有助於散熱。雷射模組120亦可依據第7圖的方式設置，再此即不再贅述。

請參考第8圖，第8圖為本發明一實施例之雷射投影機的光源系統800之示意圖。光源系統800與第3圖的光源系統300類似，亦具有雷射模組110、雷射模組120、波長轉換裝置151以及光管170，用以產生雷射投影機之投影系統190所需的合光光束180。光源系統800與光源系統300之間主要的差異在於光源系統300的光導引模組130由光導引模組830所取代，而光導引模組830由分光層831所組成。與光源系統300類似的，光源系統800的雷射模組110用以產生沿光徑P1行進的光束B1，而光源系統800的雷射模組120用以產生沿光徑P2行進的光束B2。分光層831會反射光束B1及B2以產生反射光束R1及R2。反射光束R1及R2分別沿光徑P3及P4行進。在本實施例中，光徑P1與光徑P2平行且與光徑P3及P4垂直，光徑P2與光徑P3及P4垂直，而光徑P3與光徑P4平行。波長轉換裝置151具有波長轉換層152，用以接受反射光束R1的照射，以產生逆上述光徑P3行進的受激光束F1。分光層831允許受激光束F1穿透，故受激光束F1會射入光管170。光管170則用以匯合受激光束F1及反射光束R2，以產生合光光束180。在本發明一實施例中，光源系統800的雷射模組110與雷射模組120可為藍光雷射模組，其所產生的光束B1及B2皆為藍光光束，而分光層831的光學特性可以以第4圖中的曲線155表示。

請再參考第3圖及第8圖。在本發明一實施例中，雷射模組120與光導引模組130或830之間可另設置一擴散片160，用以擴散雷射模組120所產生的光束B2，而使光束B2均勻化。在本發明一實施例中，擴散片160可為一個擴散輪(diffuser wheel)，而光源系統可另包含驅動模組，用以驅動擴散輪160轉動。請參考第9圖，第9圖為本發明一實施例之雷射投影機的光源系統900之示意圖。在此一實施例中，光源系統900的擴散片160為擴散輪。光源系統900與第3圖的光源系統100相似，而兩光源系統100與900之間的差別在於光源系統900另包含驅動模組161，用以驅動擴散輪160轉動。驅動裝置161可以是電動馬達。此外，光源系統900可另包含透鏡162及164。其中，透鏡162設於光導引模組130與波長轉換裝置151之間，用以匯聚反射光束R1並對受激光束F1進行擴散。透鏡164設於光導引模組130與光管170之間，用以匯聚受激光束F1及反射光束R2。類似的，可在第8圖的光源系統800之架構下另設置驅動模組161以及兩透鏡162及164，如第10圖所示的光源系統1000。

在本發明的一實施例中，上述的光管170可採用如美國專利申請公開號US 2008/0068819中所揭露的導光柱(integrating rod)，用以匯合來自兩不同方向的光線，以產生投影機之投影系統所需的合光光束180。請參考第11圖，第11圖為本發明一實施例之雷射投影機的光源系統1100之示意圖。光源系統1100具有第一子系統100A及第二子系統100B。光源系統1100的光管1170可接收來自第一子系統100A及第二子系統100B的光束，以產生合光光束180。第一子系統100A在結構上與第3圖的光源系統100相似。第一子系統100A具有雷射模組110、雷射模組120、光導引模組130以及波長轉換裝置151，用以產生入射到光管1170的反射光束R2及受激光束F1。第二子系統100B與第一子系統100A在結構上對稱，而用以產生入射到光管1170的反射光束R4及受激光束F2。

第二子系統100B亦具有雷射模組110、雷射模組120、光導引模組130以及波長轉換裝置151。在第二子系統100B之中，雷射模組110產生沿光徑P5行進的光束B3，雷射模組120產生沿光徑P6行進的光束B4。此外，第二子系統100B的光導引模組130用以反射光束B3，以產生沿光徑P7行進的反射光束R3，並用以反射光束B4以產生沿光徑P8行進的反射光束R4。波長轉換裝置151的波長轉換層152用以接受反射光束R3的照射而產生逆上述光徑P7行進的受激光束F2。光導引模組130會將受激光束F2導引至光徑P8。光管1170可採用如美國專利申請公開號US 2008/0068819中所揭露的導光柱。請參考第12圖，第12圖為第11圖之光管1170的示意圖。光管1170具有入光面1172、中繼面1174及入光面1176。入光面1172相對第一子系統100A之光導引模組130設置，用以接收受激光束F1及反射光束R2。入光面1176相對第二子系統100B之光導引模組130設置，用以接收受激光束F2及反射光束R4。中繼面1174與入光面1172夾一特定角度且向入光面1176傾斜，用以反射受激光束F2及反射光束R4。其中，該特定角度舉例為135度，但不以此為限；經中繼面1174反射後的受激光束F2和反射光束R4與受激光束F1和反射光束R2沿相似或者相同方向傳播。光管117匯合受激光束F1、受激光束F2、反射光束R2及反射光束R4，以產生合光光束180。應瞭解的是，光管1170不以上述結構為限，端視產品設計而可採用如美國專利申請公開號US 2008/0068819中所揭露的導光柱。

請再參考第11圖，在此實施例中，光徑P5與光徑P6及P7垂直且與光徑P8平行，光徑P6與光徑P7平行與光徑P8垂直，光徑P7與光徑P8垂直。第二子系統100B的光導引模組130亦包含兩個分光層131及132。其中，分光層131用以反射光束B3及B4以分別產生反射光束R3及R4，且分光層131允許受激光束F2穿透。分光層132則用以反射受激光束F2，以使受激光束F2沿光徑P8行進，且允許反射光束R3及R4穿透。此外，第二子系統100B的分光層132允許光束B3穿透。

在本發明一實施例中，為更進一步地縮小光源系統1100體積，光源系統1100可另包含兩個反射鏡1110及1120。其中，反射鏡1110設於第一子系統100A內，用以將光束B2反射至第一子系統100A的光導引模組130。反射鏡1120設於第二子系統100B內，用以將光束B4反射至第二子系統100B的光導引模組130。

光源系統1100的第一子系統100A及第二子系統100B亦可改採用第8圖的光源系統800的架構。請參考第13圖，第13圖為本發明一實施例之雷射投影機的光源系統1300之示意圖。光源系統1300包含第一子系統800A及第二子系統800B。第一子系統800A在結構上與第8圖的光源系統800相似，而第二子系統800B與第一子系統800A在結構上對稱。第一子系統800A具有雷射模組110、雷射模組120、光導引模組830以及波長轉換裝置151，用以產生入射到光管1170的反射光束R2及受激光束F1。

第二子系統800B亦具有雷射模組110、雷射模組120、光導引模組830以及波長轉換裝置151。在第二子系統800B之中，雷射模組110產生沿光徑P5行進的光束B3，雷射模組120產生沿光徑P6行進的光束B4。此外，第二子系統800B的光導引模組830用以反射光束B3，以產生沿光徑P7行進的反射光束R3，並用以反射光束B4以產生沿光徑P8行進的反射光束R4。波長轉換裝置151的波長轉換層152用以接受反射光束R3的照射而產生逆上述光徑P7行進的受激光束F2。光導引模組830會將受激光束F2導引至光徑P8。光管1170匯合受激光束F1、受激光束F2、反射光束R2及反射光束R4，以產生合光光束180。

在本實施例中，光徑P5與光徑P6平行且與光徑P7及P8垂直，光徑P6與光徑P7及P8垂直，光徑P7與光徑P8平行。第二子系統800B的光導引模組830具有分光層831，用以分別反射光束B3及B4，以產生反射光束R3及R4。此外，第二子系統800B中的分光層831允許受激光束F2穿透。

此外，光源系統1300亦可另包含兩個反射鏡1110及1120。其中，反射鏡1110設於第一子系統100A內，用以將光束B1反射至第一子系統800A的光導引模組830。反射鏡1120設於第二子系統800B內，用以將光束B3反射至第二子系統800B的光導引模組830。

請參考第14圖，第14圖為本發明一實施例之雷射投影機的光源系統1400之示意圖。光源系統1400與第11圖的光源系統1100相似，而兩者主要的不同點在於光源系統1400以第二子系統800B取代了光源系統1100的第二子系統100B。由於第一子系統100A及第二子系統800B的操作方式已說明如上，在此即不再贅述。此外，在本發明的另一實施例中，第13圖中的第一子系統800A可以以第11圖中的第一子系統100A取代。換言之，在此一實施例中，光源系統的第一子系統及第二子系統分別為第一子系統100A及第二子系統800B，用以產生受激光束F1、反射光束R2、受激光束F2及反射光束R4。

在本發明之實施例中的光源系統，由於不具有如先前技術之投影設備的中繼(relay)系統，故光源系統的體積可以大幅地縮小。此外，由於光源系統具有兩個雷射模組，故可簡易地透過調整不同雷射模組的輸出功率或數量等方式，調整光源系統所輸出的合光光束之光譜能量分佈，以符合不同的投影需求。以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。

10、100、800、900、1000、1100、1300、1400‧‧‧光源系統

12、110、120‧‧‧雷射模組

14、131、132、831‧‧‧分光層

15‧‧‧螢光粉色輪

17‧‧‧驅動裝置

16、18、20、118、1110、1120‧‧‧反射鏡

22、170、1170‧‧‧光管

24‧‧‧挖空區域

25‧‧‧螢光粉塗佈區

30‧‧‧中繼系統

50‧‧‧投影系統

100A、800A‧‧‧第一子系統

100B、800B‧‧‧第二子系統

112、114‧‧‧雷射光源

115‧‧‧雷射光束

119、162、164、L1、L2、L3、L4、L5‧‧‧透鏡

130、830‧‧‧光導引模組

150‧‧‧波長轉換模組

151‧‧‧波長轉換裝置

152‧‧‧波長轉換層

153、155、157‧‧‧曲線

154‧‧‧反射層

156、161‧‧‧驅動模組

160‧‧‧擴散片

180‧‧‧合光光束

190‧‧‧投影系統

1172、1176‧‧‧入光面

1174‧‧‧中繼面

B1、B2、B3、B4、Ba‧‧‧光束

F‧‧‧螢光光束

F1、F2‧‧‧受激光束

P1、P2、P3、P4、P5、P6、P7、P8‧‧‧光徑

R1、R2、R3、R4‧‧‧反射光束

θ‧‧‧角度

第1圖為一種習知的投影機之光源系統的示意圖。第2圖為第1圖之螢光粉色輪的示意圖。第3圖為本發明一實施例之雷射投影機的光源系統之示意圖。第4圖用以說明本發明一實施例中兩個分光層的光學特性。第5圖為本發明一實施例之波長轉換裝置為螢光色輪時的示意圖。第6圖為第5圖之波長轉換裝置沿虛線AA’之剖面圖。第7圖為本發明一實施例之第一雷射模組的結構示意圖。第8圖至第11圖分別為本發明一實施例之雷射投影機的光源系統之示意圖。第12圖為第11圖之光管的示意圖。第13圖至第14圖分別為本發明一實施例之雷射投影機的光源系統之示意圖。

Claims

一種雷射投影機的光源系統，用以產生一合光光束，該光源系統包含：一第一雷射模組，用以產生沿一第一光徑行進的一第一光束；一第二雷射模組，用以產生沿一第二光徑行進的一第二光束；一第一光導引模組，用以反射該第一光束，以產生沿一第三光徑行進的一第一反射光束，並用以反射該第二光束，以產生沿一第四光徑行進的一第二反射光束；一第一波長轉換裝置，具有一第一波長轉換層，用以接受該第一反射光束的照射，以產生逆該第三光徑行進的一第一受激光束，其中該第一光導引模組另用以將該第一受激光束導引至該第四光徑；以及一光管，用以匯合該第一受激光束及該第二反射光束，以產生該合光光束。
如請求項1所述的光源系統，其中該第一光徑與該第二光徑及該第三光徑垂直且與該第四光徑平行，該第二光徑與該第三光徑平行與該第四光徑垂直，該第三光徑與該第四光徑垂直，而該第一光導引模組包含：一第一分光層，用以反射該第一光束及該第二光束，以分別產生該第一反射光束及該第二反射光束，其中該第一分光層允許該第一受激光束穿透；以及一第二分光層，用以反射該第一受激光束，以使該第一受激光束沿該第四光徑行進，其中該第二分光層允許該第一反射光束及該第二反射光束穿透。
如請求項2所述的光源系統，其中該第一分光層與該第二分光層垂直交叉設置。
如請求項1所述的光源系統，其中該第一光徑與該第二光徑平行且與該第三光徑及該第四光徑垂直，該第二光徑與該第三光徑及該第四光徑垂直，該第三光徑與該第四光徑平行，而該第一光導引模組包含：一第一分光層，用以反射該第一光束及該第二光束，以產生該第一反射光束及該第二反射光束，其中該第一分光層允許該第一受激光束穿透。
如請求項1所述的光源系統，其中該第一波長轉換層為一螢光粉層。
如請求項1所述的光源系統，另包含一擴散片，設置於該第二雷射模組及該第一光導引模組之間，用以擴散該第二光束。
如請求項6所述的光源系統，其中該擴散片為一擴散輪(diffuser wheel)，而該光源系統另包含一驅動模組，用以驅動該擴散輪轉動。
如請求項1至7中任一項所述的光源系統，另包含：一第三雷射模組，用以產生沿一第五光徑行進的一第三光束；一第四雷射模組，用以產生沿第一六光徑行進的一第四光束；一第二光導引模組，用以反射該第三光束，以產生沿一第七光徑行進的一第三反射光束，並用以反射該第四光束，以產生沿一第八光徑行進的一第四反射光束；以及一第二波長轉換裝置，具有一第二波長轉換層，用以接受該第三反射光束的照射而產生逆該第七光徑行進的一第二受激光束，其中該第二光導引模組另用以將該第二受激光束導引至該第八光徑；其中該光管用以匯合該第一受激光束、該第二受激光束、該第二反射光束及該第四反射光束，以產生該合光光束。
如請求項8所述的光源系統，其中該第五光徑與該第六光徑及該第七光徑垂直且與該第八光徑平行，該第六光徑與該第七光徑平行與該第八光徑垂直，該第七光徑與該第八光徑垂直，而該第二光導引模組包含：一第三分光層，用以反射該第三光束及該第四光束，以分別產生該第三反射光束及該第四反射光束，其中該第三分光層允許該第二受激光束穿透；以及一第四分光層，用以反射該第二受激光束，以使該第二受激光束沿該第八光徑行進，其中該第四分光層允許該第三反射光束及該第四反射光束穿透。
如請求項8所述的光源系統，其中該第五光徑與該第六光徑平行且與該第七光徑及該第八光徑垂直，該第六光徑與該第七光徑及該第八光徑垂直，該第七光徑與該第八光徑平行，而該第二光導引模組包含：一第三分光層，用以反射該第三光束及該第四光束，以產生該第三反射光束及該第四反射光束，其中該第三分光層允許該第二受激光束穿透。
如請求項8所述的光源系統，另包含一第一反射鏡及一第二反射鏡，其中該第一反射鏡用以將該第二光束反射至該第一光導引模組，而該第二反射鏡用以將該第四光束反射至該第二光導引模組。
如請求項8所述的光源系統，另包含一第一反射鏡及一第二反射鏡，其中該第一反射鏡用以將該第一光束反射至該第一光導引模組，而該第二反射鏡用以將該第三光束反射至該第二光導引模組。
如請求項8所述的光源系統，該等雷射模組為藍光雷射模組。
如請求項8所述的光源系統，其中該光管包含：一第一入光面，相對該第一光導引模組，用以接收受該第一受激光束及該第二反射光束；一第二入光面，相對該第二光導引模組，用以接收受該第二受激光束及該第四反射光束；以及一中繼面，與該第一入光面夾一特定角度且向該第二入光面傾斜，用以反射第二受激光束及該第四反射光束。