TW201815520A

TW201815520A - 金屬製立體構造物的表面處理方法

Info

Publication number: TW201815520A
Application number: TW106132240A
Authority: TW
Inventors: 木林英之; 境茂和
Original assignee: 日商新東工業股份有限公司
Priority date: 2016-09-28
Filing date: 2017-09-20
Publication date: 2018-05-01
Also published as: CN109789531B; EP3520964A1; JPWO2018061797A1; US20190275639A1; CN109789531A; WO2018061797A1; EP3520964A4; JP6749588B2; KR20190055198A; BR112019005618A2; EP3520964B1

Abstract

本發明提供一種將利用三維塑形法製造的金屬製立體構造物之表面缺陷去除的表面處理方法。

依據本發明，提供一種將利用三維塑形法製造的金屬製立體構造物W之表面缺陷去除的表面處理方法，該表面處理方法包含：準備立體構造物的步驟；及向立體構造物的表面噴射第1噴射材，使第1噴射材撞擊表面的步驟，第1噴射材為具有角部的粒子，俾藉角部去除立體構造物表面的層狀階差。

Description

金屬製立體構造物的表面處理方法

本發明係關於金屬製立體構造物的表面處理方法，更詳言之，係關於將利用三維塑形法製造的金屬製立體構造物之表面缺陷去除的表面處理方法。

作為金屬製立體構造物的製造方法，鑄造法或鍛造法自古以來即為已知。這些製造方法適用於大量生產較大型的立體構造物。相反的，為了塑造所期望的形狀，必須要有鑄模等模具，對於有可能改變形狀的立體構造物的製造則不適用。再者，可藉鑄造法或鍛造法製造的構造物在形狀或尺寸上有其限制。而且，在形狀複雜的構造物中，於藉鑄造法或鍛造法塑形後，會有必須進行切削加工的情形。

對於這種問題，有一種將原料金屬粉末一面依序硬化成層狀一面積層並塑形的三維立體塑形法則日益受到矚目。

然而，利用三維立體塑形法所製得的立體構造物中，會有層間階差(積層痕跡)、表面粗糙、針孔、光澤不足等表面缺陷的問題。

作為將利用三維塑形法製造的立體構造物之表面缺陷去除的處理方法，已知有透過對立體構造物噴射研磨材來去除立體構造物之層間階差的處理方法(專利文獻1)。然而，引證文獻1中所揭露的方法因係屬藉三維光塑形法針對由環氧樹脂製造的立體塑形物的處理方法，故而有無法直接應用於金屬塑形物的問題。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本平11-179661號公報

本發明係為有鑑於上述問題而研創者，其目的在提供一種將利用三維塑形法製造的金屬製立體構造物之表面缺陷予以去除的表面處理方法。

依據本發明，提供一種將利用三維塑形法製造的金屬製立體構造物之表面缺陷去除的表面處理方法，該表面處理方法包含：準備前述立體構造物的步驟；及向前述立體構造物之表面噴射第1噴射材，使前述第1噴射材撞擊前述表面的步驟，前述第1噴射材為具有角部的粒子，俾藉該角部去除立體構造物表面的層狀階差。

依據本發明的另一較佳態樣，前述第1噴射材為除了金屬之外的粒子。

依據本發明的另一較佳態樣，前述第1噴射材為表面未形成氧化皮膜的金屬質粒子。

依據本發明的另一較佳態樣，前述第1噴射材的維氏硬度為Hv2000至2500，且該第1噴射材撞擊被處理面時的撞擊能量為2.9×10^-8至6.2×10^-6J。

依據本發明的另一較佳態樣，前述第1噴射材的維氏硬度為Hv500至800，且該第1噴射材撞擊被處理面時的撞擊能量為1.0×10^-6至3.2×10^-5J。

依據本發明的另一較佳態樣，前述第1噴射材的維氏硬度為Hv50至200，且該第1噴射材撞擊被處理面時的撞擊能量為1.0×10^-4至1.2×10^-3J。

依據本發明的另一較佳態樣，又包含向前述立體構造物的被處理面噴射第2噴射材的步驟，且前述第2噴射材為不具角部的粒子。

依據本發明的另一較佳態樣，前述第2噴射材的維氏硬度為Hv500至800，且該第2噴射材撞擊被處理面時的撞擊能量為9.6×10^-8至3.1×10^-6J。

依據本發明的其他較佳態樣，包含：產生朝向前述立體構造物的下方之氣流的步驟；及藉前述氣流對從前述立體構造物之上方向被處理面噴射的前述第1噴射材進行整流的步驟。

依據本發明，提供一種將利用三維塑形法製造的金屬製立體構造物之表面缺陷去除的表面處理方法。

1‧‧‧表面處理裝置

10‧‧‧殼體

12‧‧‧門扉

14‧‧‧貯料斗

16‧‧‧處理台

18‧‧‧噴嘴

18a‧‧‧噴嘴座

18b‧‧‧空氣噴嘴

20‧‧‧移動機構

22‧‧‧台架

24‧‧‧固定輔助具

26‧‧‧分離機構

28‧‧‧抽吸機構

H1‧‧‧空氣軟管

H2‧‧‧噴射材軟管

P‧‧‧輸送管

R‧‧‧處理室

S‧‧‧固氣二相流

W‧‧‧工件

第1圖為顯示本發明較佳實施形態的金屬製立體構造物的表面處理方法中所使用的表面處理裝置的概略構成的圖。

第2圖為本發明較佳實施形態的金屬製立體構造物的表面處理方法的流程圖。

第3圖為顯示本發明較佳實施形態的金屬製立體構造物的表面處理方法之各條件中的撞擊能量的相關關係的示意圖。

第4圖為顯示本發明實施例中經表面處理後的工件(金屬製立體構造物)的外觀的斜視圖。

[發明的實施形態]

以下，參照附圖就本發明較佳實施形態的金屬製立體構造物的表面處理方法加以說明。另外，本說明書中的上下左右方向只要未有特別說明時，係指圖中的方向。

(表面處理裝置)

首先，說明本發明較佳實施形態的金屬製立體構造物的表面處理方法中使用的表面處理裝置1之構成。第1圖為顯示表面處理裝置1的構成的圖。

表面處理裝置1係為將噴射材對利用三維塑形法製造的金屬製立體構造物的表面噴射而施行表面處理的處理裝置。表面處理裝置1具備殼體10，該殼體10係在內部設有處理工件W之處理室R。殼體10具有門扉12，作業人員可打開該門扉12向處理室R進行工件W的搬入搬出。

在處理室R的內部設有：貯料斗14，用以貯放噴射材；處理台16，供載置接受表面處理的工件W；及噴嘴18，將噴射材朝載置於處理台16上的工件W噴射。

處理台16係載置於由X-Y工作檯等公知機構所構成的移動機構20，且構成為可藉移動機構20的動作而在水平面內朝X方向及Y方向自由移動。結果，藉由移動機構20，可將載置於處理台16上的工件W配置於水平面內的期望位置。

再者，移動機構20係配置在配設於處理室R最下部的台架22上。該台架22係以形成有多數個孔洞的板狀構件所構成，且構成為可讓自噴嘴18噴射並撞擊工件W之表面後的噴射材、及因噴射材的撞擊而從工件W表面被研磨掉之構成工件W的金屬粉末等粉粒體通過。

噴嘴18係藉由固定輔助具24而配置成和載置於處理台16的工件W相對向。而且，固定輔助具24 係構成為可自由調整噴嘴18與工件W的距離。

噴嘴18係由噴嘴座18a、及插入該噴嘴座18a的空氣噴嘴18b所構成。空氣噴嘴18b係經由空氣軟管H1而和壓縮機(未圖示)形成流體連通，而噴嘴座18a則經由噴射材軟管H2而和貯料斗14形成流體連通。

使壓縮機動作而從空氣噴嘴18b噴射壓縮空氣時，由於因壓縮空氣的流動而產生在空氣噴嘴18b內的負壓，使噴射材經由噴嘴座18a被抽吸到空氣噴嘴18b內，且在空氣噴嘴18b內和壓縮空氣混合成固氣二相流S，並朝向載置於處理台16的工件W噴射。

另外，本實施態樣中，雖係採用抽吸式噴嘴作為噴嘴18，但也可採用直壓式噴嘴。

在配置於處理室R頂部的貯料斗14上方，設有由旋風(cyclone)式分級機構成的分離機構26。分離機構26係構成為經由輸送管P而和處理室R的底部空間(台架22的下部空間)連通，且將已對工件W噴射後的噴射材導入俾加以再利用。另外，本實施形態中，雖係使用旋風式分級機作為分離機構26，但也可使用其他的風力式分級機或篩分(screen)式分級機。

分離機構26具有從被導入貯料斗14的噴射材中除去不適於噴射的粉塵等之功能。具體而言，係構成為將粉塵等由從處理室R之底部空間經由輸送管P而導入的已使用噴射材中分離，且僅將可再使用的噴射材供給到貯料斗14，俾加以再利用。

本實施態樣的表面處理裝置1又具備對分離機構26內部進行抽吸的抽吸機構28。藉由使該抽吸機構28對分離機構26內進行抽吸，朝工件W噴射後的噴射材及因噴射材撞擊工件W而產生的粉塵等會從殼體10的底部空間(台架22的下部空間)經由輸送管P被導入分離機構26。

本實施態樣的表面處理裝置1具備分離機構26、抽吸機構28等各機構、以及用以控制裝置之動作的控制機構(未圖示)。作為控制機構，可使用個人電腦等各種運算裝置、可編程邏輯控制器(PLC)及數位信號處理器(DSP)等動作控制器、高功能行動終端機及高功能行動電話等。

(第1實施形態)

接著，循沿第2圖的流程圖，就使用表面處理裝置1的本發明第1實施形態的表面處理方法加以說明。

<S1：準備工件>

本實施態樣的表面處理方法中，欲實施表面處理的工件W係為藉由公知的三維塑形法將鋁粉末一邊硬化為層狀一邊實施積層而製造的金屬製立體構造物。該工件W的表面殘留有屬於積層痕跡的筋紋，而且整體表面粗糙。

<S2：準備表面處理裝置>

使抽吸機構28動作，將處理室R預行抽吸。接著，打開門扉12，將預定量的第1噴射材投入處理室R，並經由輸送管P及分離機構26將第1噴射材移送至貯料斗14。因處理室R已經經由分離機構26而藉抽吸機構28施以抽吸所以成為負壓，外氣則從為了和外部連通而設置的抽吸孔(未圖示)流入處理室R。

本實施態樣中，第1噴射材具有角部。透過使噴射材具有角部，工件W的積層痕跡會被效率良好地去除。然而，也可使用不具有角部的噴射材。

所謂「具有角部」係指噴射材並非圓弧狀的所謂圓形面，而是具備有銳角或鈍角的角。再者，作為噴射材的形狀，可舉出各向異性形狀、圓柱形狀、角柱形狀、及具有等角部的各種形狀。

作為第1噴射材，以選定不會影響工件物性之材質的噴射材為佳。

所謂「影響工件物性」係指噴射材表面的材質轉印到工件，且工件表面被其轉印物覆蓋(coating)的狀態。另外，被覆蓋的狀態，除了包含工件表面整體被覆蓋的狀態，也包含工件表面的局部被覆蓋的狀態(意即，轉印物散佈於工件表面的狀態)。

噴射材的材質轉印到工件時，要將其轉印物從工件藉由洗淨而去除甚為困難。而且，也是為了避免下述問題發生：因噴射材的材質轉印到工件上而使工件的外觀性受損、及轉印物對工件而言屬於雜質，所以會因工件的種類而在將工件組裝到製品時成為動作不良的原因等問題。

第1噴射材可自例如陶瓷系粒子(氧化鋁系、碳化矽系、鋯系等)、天然石粒子(金剛砂、矽石、鑽石等)、植物系粒子(核桃殼、桃的種子、杏的種子等)、樹脂系粒子(尼龍、三聚氰胺、尿素等)等適當選擇。使用金屬之外的粒子時，可防止工件表面成為被異類金屬覆蓋的狀態。

再者，在選擇金屬粒子時，若於第一噴射材的表面形成有氧化皮膜，則會有依工件W的物性而使氧化皮膜附著於工件W之虞，故以選擇未形成氧化皮膜的金屬粒子為佳。

所稱「未形成氧化皮膜」，不僅包含完全未形成氧化皮膜的情況，也包含在氧化皮膜於表面處理時不會轉印到工件W之程度下形成有皮膜的情況。

再者，本實施態樣的表面處理方法中，因必須知悉構成第1噴射材之粒子的質量，故以使用由已知其真比重的粒子構成的第1噴射材為佳。而且，也可預先用比重瓶(pycnometer)法等已知方法測量粒子的真比重。

接著，將表面處理裝置1中設在對噴嘴18供給壓縮空氣的路徑的電磁閥(未圖示)打開，向噴嘴18供給壓縮空氣。藉由向噴嘴18供給壓縮空氣，收容在貯料斗14的第1噴射材就會因壓縮空氣流而被抽吸到噴嘴18，並從噴嘴18的前端向工件W噴射。

在此處，第1噴射材的噴射速度係被調整成期望的速度。例如，預先測量噴射材的物性(種類或粒徑等)、噴射壓力及噴射速度的相關關係，再根據其結果調整噴射壓力，俾達到所期望的噴射速度。本實施形態中，係藉由粒子流速測量法(Particle Image Velocimetry,PIV)，並將噴射材的物性及噴射壓力賦予關連性來測量在工件被設置的位置(噴射材即將撞擊工件前之位置)的噴射材速度。

所稱「噴射壓力」，係指利用配置於壓縮空氣供給源與噴嘴之間的壓力計測量所得的數值即為噴射壓力。本實施態樣中，係根據預先測量的噴射壓力與噴射速度的相關關係來操作噴射閥，並控制噴射壓力，俾能獲得期望的噴射速度。

在為了獲得期望的噴射速度而調整噴射壓力後，將設在對噴嘴18供給壓縮空氣的路徑的電磁閥關閉，停止第1噴射材的噴射。

接著，打開門扉12，將工件W載置並固定於處理台16。然後，使固定輔助具24動作並調整噴嘴18與工件W的距離，再將門扉12封閉。

本實施態樣中，係使工件W相對於噴嘴移動，俾對工件的表面整體進行噴射材的噴射而施行必要的表面處理。將工件W的移動路徑、移動速度、掃掠次數等表面處理條件輸入控制機構，讓工件W依上述方式移動。

<S3：藉第1噴射材進行的表面處理>

接著，使設在對噴嘴18供給壓縮空氣的路徑的電磁閥打開，而朝向工件W噴射第1噴射材。接著，令移動機構14動作，使載置有工件W的處理台16及載置於處理台16的工件W向噴嘴18下方的預定位置水平移動。

工件W移動至噴嘴18下方的預定位置時，第1噴射材就會撞擊到工件。此時，即可藉第1噴射材的角部去除工件W表面的積層痕跡。

第1噴射材的粒子形狀、硬度、第1噴射材向工件的撞擊能量若未適當設定，就會有積層痕跡的去除不完全、或工件W表面被切削超過必要以上等情形發生。

雖會依工件形狀而有所不同，但若選擇表1的任一條件，即可進行優良的表面處理。另外，表1中的維氏硬度係為構成第1噴射材之粒子的維氏硬度，其為依據JIS Z2244：2009測量的值。

再者，撞擊能量係為噴射材之每1個粒子的能量，其可根據構成第1噴射材的各個粒子的重量、及這些粒子即將撞擊工件前的速度而計算出。另外，還顯示出在第3圖的各條件中之維氏硬度與撞擊能量的數值範圍。

另外，本實施形態的撞擊能量E係藉下述式1計算出，該式1係將噴射材的真比重設為ρ、噴射材的平均粒徑設為L、即將撞擊工件前的噴射材之速度設為v。

此處，係將噴射材的形狀換算成屬於粒徑L的球狀，再進行計算。

條件1的表面處理適用於：所具有之表面有微少的凹凸較大(例如，JIS B0601：2001中規定的表面粗糙度Ra在5.0μm以上)的工件的表面處理。

條件1中所使用的第1噴射材的切削力較強，可去除屬於積層痕跡的筋紋，並且可切削工件表面而使表面粗糙度變小。具有此硬度的第1噴射材可列舉例如熔融氧化鋁粒子、碳化矽粒子。而且，調整第1噴射材的性狀及噴射速度，使撞擊能量在條件1的範圍內，再進行表面處理。此處，也可自例如15至75μm中選擇第1噴射材的平均粒徑d50。

條件2的表面處理適用於：所具有之表面的粗糙較小(例如，JIS B0601：2001中規定的表面粗糙度Ra在1.0至5.0μm)的工件的表面處理。

具有條件2之硬度的第1噴射材可列舉例如鈉鈣玻璃粒子或鋯粒子。而且，調整第1噴射材的性狀及噴射速度，使撞擊能量在條件2的範圍內，再進行表面處理。此處，也可自例如60至300μm中選擇第1噴射材的平均粒徑d50。

條件3的表面處理適用於複雜形狀、要求高尺寸精度的工件的表面處理。

複雜形狀的工件可列舉：有凹凸或隅角部的工件、具有三維複雜形狀的工件等。再者，要求高尺寸精度的工件可列舉：構成滑動部的工件、航空器零件、精密機器的零件等。

條件3中所使用的第1噴射材因維氏硬度低，故其本身會在撞擊工件時變形，並減輕對工件W的損傷。然而，第1噴射材的粒子因具有角部，故可逐漸去除積層痕跡。具有條件3之硬度的第1噴射材可列舉例如將杏的種子粉碎而成之粒子、三聚氰胺樹脂、尿素樹脂等，並且，調整第1噴射材的性狀及噴射速度，使撞擊能量在條件3的範圍內，再進行表面處理。此處，也可自例如400至600μm中選擇第1噴射材的平均粒徑d50。

處理室R的內部係藉由抽吸機構40產生朝向底部(意即，工件W的下方)的氣流。從噴嘴18噴射的第1噴射材雖設為擴展到處理室R整體，但會因該氣流而往朝向工件W下方的方向整流。結果，接觸工件W的第1噴射材的量會增加，故可效率良好地進行表面處理。而且，藉由朝向底部(意即，工件W的下方)的氣流，第1噴射材會被加速，因此可使第1噴射材對於工件W的撞擊能量增大，且效率良好地進行表面處理。

噴射後的第1噴射材、及因表面處理而產生的粉塵(工件的切屑粉及因撞擊而造成破碎等的第1噴射材)係利用藉由抽吸機構28所進行之分離機構26內的抽吸，而移送至分離機構26。這些第1噴射材及粉塵可藉分離機構26而分離成可再使用的第1噴射材及粉塵。

可再使用的第1噴射材係供給到貯料斗14，然後，移送到噴嘴18並再度噴射。另一方面，重量較輕的粉塵則被抽吸機構28抽吸，並被設在抽吸機構28內的捕集過濾器(未圖示)所捕集。

<S4：回收工件>

工件W的預定處理結束時，移動手段14的動作即停止，且設在對噴嘴18供給壓縮空氣的路徑的電磁閥會關閉，使表面處理裝置的動作停止。然後，由作業人員將門扉12打開，回收工件W。並且，依需要而將附著於工件W的第1噴射材或粉塵去除。

必須進行工件背面的處理時，由作業人員將工件反轉，使噴射材向工件背面噴射。另外，也可用其他的方法將噴射材向工件的背面噴射。

以上的S1至S4的步驟係相當於本案發明第1實施態樣的表面處理方法。

(第2實施形態)

本發明的第2實施形態之表面處理方法係為：針對利用上述第1實施形態的表面處理方法處理過的工件W，在有需要藉由工件表面的光澤性提升或面粗度調整等而進行外觀性改善時，藉第2噴射材附加進行第2表面處理。因此，第2實施形態係在和上述第1實施形態的S1至S4的步驟同樣的處理之後附加S5至S7的步驟而成者。

<S5：準備表面處理裝置>

和上述S2同樣地進行表面處理裝置的準備。

<S6：藉第2噴射材進行的表面處理>

在第2表面處理所使用的第2噴射材以不具角部的粒子為佳。此處，所謂「不具角部」係包含角部帶有圓形的曲面、或全部為曲面的任一者。而且，也可為屬於後者之一種形態的大致球形粒子。

此外，也可和第1噴射材的情況同樣，在考量對於工件物性造成影響的可能性後選定。

假設使用維氏硬度為Hv500至800的第2噴射材，且第2噴射材撞擊被處理面時的撞擊能量為 9.6×10^-8至3.1×10^-6J時，因可良好地改善工件的外觀性，故甚佳。此處，也可自例如45至100μm中選擇第2噴射材的平均粒徑d50。

關於其他方面，則是進行和上述S3相同的操作。藉由使第2噴射材撞擊工件W，去除工件表面的凹凸。第2噴射材因不具有角部，故可使工件表面的被加工面變得平順，使外觀性得以提升。

<S7：工件的回收>

進行和上述S4相同的操作。

[實施例]

接著，就藉由本發明實施例的表面處理方法進行工件的表面處理的結果加以說明。

以鋁粉末塑形為大致圓柱狀的立體塑形物W(第4圖)作為工件。該立體塑形物W係 20mm×50mm的圓筒形狀，且朝長邊方向形成有8條溝。在立體構造物的表面形成有朝長邊方向延伸的屬於積層痕跡的筋紋，且整體表面粗糙。

實施例1至6係僅進行藉第1噴射材所為之表面處理者，實施例7及8則為在藉第1噴射材所為之表面處理後進行藉第2噴射材所為之表面處理者。

以顯微鏡觀察進行過表面處理後的工件，確認積層痕跡是否已去除。評價基準如下。

○：積層痕跡已去除。

△：未確認到有積層痕跡的階差，但在外觀上確認到有筋紋。

×：積層痕跡未去除。

進一步，從上方照射光線並以目視評價光澤性。評價基準如下。

○：光澤性高。

△：雖確認到有光線反射，但略顯暗淡。

×：沒有光線反射。

更進一步，由作業人員藉手觸評價平滑性。評價基準如下。

○：滑順。

△：以手撫摸時雖未有勾刮感，但稍有粗糙感。

×：以手撫摸時感覺有阻力。

結果顯示於表2。

(1)積層痕跡的去除

實施例1、2、4、6為○評價，實施例3及5為△評價。△評價係為實用水準上不會造成問題之程度的較低評價，故可得知：在表1的條件1至3之範圍中，可良好地去除積層痕跡。特別是，條件1顯示出對積層痕跡的去除很有利。

(2)光澤性

實施例3、4、5為○評價，實施例1、2、6為△評價。△評價係為實用水準上不會造成問題之程度的較低評價，故可得知：在表1的條件1至3之範圍中，工件可獲得光澤性。特別是，條件2顯示出對光澤性的提升很有利。

(3)平滑性

實施例4、5、6為○評價，實施例1、2、3為△評價。△評價係為在實用水準上不會造成問題之程度的較低評價，故可得知：在表1中的條件1至3之範圍中，工件可獲得光澤性。特別是，條件3顯示出對平滑性的提升很有利。更且，藉第2噴射材進行表面處理後的實施例7、8皆成為○評價，故藉由第2噴射材進行的表面處理顯示出對工件表面之平滑性的提升很有效。

脫離了表1之條件1至3的比較例1至6的評價皆成為×評價。而且也顯示出，在第1噴射材設為球形時(比較例7)，積層痕跡去除的能力不足的情形。

更進一步說明有關藉由第2噴射材進行表面處理的效果。實施例7、8之評價皆成為○評價，該實施例7、8係在以光澤性及平滑性的評價皆為△評價的條件1進行表面處理後，藉由第2噴射材進行表面處理。藉由第2噴射材進行的表面處理顯示出對工件表面的光澤性及平滑性的提升很有利，且對外觀性的提升很有效。

藉由第2噴射材進行的表面處理中，在脫離前述範圍(維氏硬度為Hv500至800，且該第2噴射材撞擊被處理面時的撞擊能量為9.6×10^-8至3.1×10^-6J)時，在低於該範圍的比較例7中，光澤性及平滑性的評價成為△評價，而在高於該範圍的比較例8中，平滑性的評價成為△評價。由此顯示出，無法充分獲得藉由第2噴射材進行的表面處理之效果。此外，在將第2噴射材設為各向異性形狀的比較例10中，光澤性及平滑性的評價皆成為×，此即顯示外觀性已因該表面處理而惡化。

Claims

一種表面處理方法，係為將利用三維塑形法製造的金屬製立體構造物的表面缺陷去除者，該表面處理方法包含：準備前述立體構造物的步驟；及向前述立體構造物的表面噴射第1噴射材，使前述第1噴射材撞擊前述表面的步驟，前述第1噴射材為具有角部的粒子，俾藉該角部去除立體構造物表面的層狀階差。
如申請專利範圍第1項所述之表面處理方法，其中，前述第1噴射材為除了金屬之外的粒子。
如申請專利範圍第1項所述之表面處理方法，其中，前述第1噴射材為表面未形成氧化皮膜的金屬質粒子。
如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之表面處理方法，其中，前述第1噴射材的維氏硬度為Hv2000至2500，且該第1噴射材撞擊被處理面時的撞擊能量為2.9×10 ^-8至6.2×10 ^-6J。
如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之表面處理方法，其中，前述第1噴射材的維氏硬度為Hv500至800，且該第1噴射材撞擊被處理面時的撞擊能量為1.0×10 ^-6至3.2×10 ^-5J。
如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之表面處理方法，其中，前述第1噴射材的維氏硬度為Hv50至200，且該第1噴射材撞擊被處理面時的撞擊能量為1.0×10 ^-4 至1.2×10 ^-3J。
如申請專利範圍第1至6項中任一項所述之表面處理方法，又包含向前述立體構造物的被處理面噴射第2噴射材的步驟，且前述第2噴射材為不具角部的粒子。
如申請專利範圍第7項所述之表面處理方法，其中，前述第2噴射材的維氏硬度為Hv500至800，且該第2噴射材撞擊被處理面時的撞擊能量為9.6×10 ^-8至3.1×10 ^-6J。
如申請專利範圍第1至8項中任一項所述之表面處理方法，包含：產生朝向前述立體構造物的下方之氣流的步驟；及藉前述氣流對從前述立體構造物的上方向被處理面噴射的前述第1噴射材進行整流的步驟。