TW201811691A - 強化玻璃板之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之強化玻璃板之製造方法，係交換玻璃板表層的離子之強化玻璃板之製造方法，其特徵為具備：藉由離子的交換，使設定於玻璃板的表面的一部分之選擇區域的厚度，比該選擇區域以外的非選擇區域的厚度更大，並且於選擇區域形成比非選擇區域更深的壓縮應力層之選擇強化步驟；以及藉由除去在選擇強化步驟膨脹的選擇區域之至少一部分，平坦化該玻璃板的主面的平坦化步驟。

Description

強化玻璃板之製造方法
本發明係關於強化玻璃板之製造方法，更具體地說，係關於藉由離子交換法進行玻璃板的化學強化之強化玻璃版之製造方法。
從前，於被搭載於智慧型手機或是平板個人電腦等電子機器之觸控面板顯示器，作為覆蓋玻璃板使用化學強化之強化玻璃板。
這樣的強化玻璃板，一般，係藉由把鹼金屬包含作為組成之玻璃板以強化液化學處理，於表面形成壓縮應力層而製造的。這樣的強化玻璃板，於表面具有壓縮應力層所以耐衝擊性等提高。然而，即使是這樣的強化玻璃板，與主面之耐衝擊性相比，邊緣部或周緣部之耐衝擊性低，成為強化玻璃板的破損原因。使這樣的可防止破損的強化玻璃板表面的壓縮應力層全體深化的場合，被形成於玻璃板內部的拉伸應力會變得過大，而有容易產生起因於該拉伸應力的破損(所謂的自己破壞)的問題。
為了解決前述那樣的問題，開發了僅於強化玻璃板表面的一部分選擇性深化形成壓縮應力層的技術。 例如，在專利文獻1所揭示的方法，藉由僅使主面的中央部分以遮罩材料遮蔽，可以僅使未被遮蔽的周緣部進行離子交換而被強化處理(第一強化處理)。其後除去遮蔽，再度藉由施行強化處理(第二強化處理)，而可以在預先被強化處理的邊緣部比主面更深地形成壓縮應力層。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]美國專利申請案公開第2012/0236477號說明書
然而，使用專利文獻1那樣的手法的場合，會有在玻璃板產生無預期的變形，而有無法得到所要的形狀及特性之虞。在專利文獻1的手法，在結束第一強化處理的階段僅有未被遮蔽的部分被離子交換，藉由離子交換而被化學強化處理的玻璃板，會有在被施以該處理的處所膨脹的場合。亦即，與未被離子交換的中央部相比，會有被離子交換的周緣部膨脹隆起而產生階差之虞。一般設計的觸控面板顯示器的觸控面以平坦面構成，所以這樣的覆蓋玻璃板的階差形狀被認為是不佳的。
本發明係考慮這種情形而完成的發明，課題在於提供具有高平坦性且可以安定地製造部分地具有高強 度的強化玻璃板之強化玻璃板之製造方法。
本發明之強化玻璃板之製造方法，係交換玻璃板表層的離子之強化玻璃板之製造方法，其特徵為具備：藉由離子的交換，使設定於玻璃板的表面的一部分之選擇區域的厚度，比該選擇區域以外的非選擇區域的厚度更大，並且於選擇區域形成比非選擇區域更深的壓縮應力層之選擇強化步驟；以及藉由除去在選擇強化步驟膨脹的選擇區域之至少一部分，平坦化該玻璃板的主面的平坦化步驟。
根據本發明之強化玻璃板之製造方法，可以安定地製造具有高平坦性且部分地具有高強度之強化玻璃板。
平坦化步驟之後，進而具備使熔鹽接觸於玻璃板的表面全體而交換玻璃板表層的離子之全體強化步驟為較佳。
根據這樣的構成，可以得到於選擇區域具有特別高的強度，而且於非選擇區域具有壓縮應力的高強度之強化玻璃板。
於全體強化步驟之後，進而具備研磨加工玻璃板的表面之精加工步驟為較佳。
根據這樣的構成，可以容易調整強化玻璃的尺寸或表面狀態成為所要的狀態。
於平坦化步驟，藉由研磨或蝕刻而除去膨脹之選擇區域之至少一部分為較佳。
根據這樣的構成，可容易進行平坦化步驟之處理。
選擇強化步驟，具備：在非選擇區域形成抑制或者遮斷離子的透過之防離子透過膜之成膜步驟，使熔鹽接觸於被形成防離子透過膜的玻璃板而交換離子之選擇離子交換步驟，以及在選擇離子交換步驟之後，除去防離子透過膜之除膜步驟為較佳。
根據這樣的構成，可以容易地管理及調整選擇區域的強化的程度。
於除膜步驟，藉由研磨或蝕刻而除去防離子透過膜為較佳。
根據這樣的構成，可容易且確實地除去防離子透過膜。
以同一研磨裝置進行平坦化步驟以及除膜步驟之處理為較佳。
根據這樣的構成，可幾乎同時且有效率地進行平坦化步驟及除膜步驟之處理。
非選擇區域為玻璃板之表背主面的中央部為較佳。
根據這樣的構成，可以容易得到於端緣部具有特別高的強度之強化玻璃板。此外，可以減低被形成於強化玻璃板的內部之拉伸應力層的拉伸應力，抑制自己破 壞。
玻璃板，係以質量百分比表示玻璃板組成，含有SiO2 45~75%、Al2O3 1~30%、Na2O 0~20%、以及K2O 0~20%之玻璃板為佳。
根據這樣的構成，可以容易進行玻璃板表層的離子的交換，可容易得到高強度的強化玻璃板。
本發明之強化玻璃板之製造方法，係交換玻璃板表層的離子之強化玻璃板之製造方法，特徵為具備：藉由使熔鹽接觸於在被設定於主面的一部分之非選擇區域具備抑制或遮斷離子的透過之防離子透過膜之附膜玻璃板進行離子交換，而使非選擇區域以外的選擇區域的厚度比非選擇區域更大，並且於選擇區域形成比非選擇區域更深的壓縮應力層之選擇強化步驟；以及藉由除去在選擇強化步驟膨脹的選擇區域之至少一部分，平坦化該玻璃板的主面的平坦化步驟。
G1‧‧‧原玻璃板
G2‧‧‧附膜玻璃板
G3‧‧‧附膜強化玻璃板
G4、G5‧‧‧強化玻璃板
M‧‧‧防離子透過膜
T1‧‧‧第一熔鹽
T2‧‧‧第二熔鹽
圖1A係顯示相關於本發明之第一實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖1B係顯示相關於本發明之第一實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖1C係顯示相關於本發明之第一實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖1D係顯示相關於本發明之第一實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖1E係顯示相關於本發明之第一實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖2係顯示本發明的強化玻璃板的製造方法之成膜區域之一例之圖。
圖3A係顯示相關於本發明之第二實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖3B係顯示相關於本發明之第二實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖3C係顯示相關於本發明之第二實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖3D係顯示相關於本發明之第二實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖4A係顯示相關於本發明之第三實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖4B係顯示相關於本發明之第三實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖4C係顯示相關於本發明之第三實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖4D係顯示相關於本發明之第三實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
圖4E係顯示相關於本發明之第三實施形態的強化玻璃板之製造方法之圖。
<第一實施形態>
以下，說明本發明的實施形態之強化玻璃板之製造方法。圖1A~E係顯示本發明的強化玻璃板之製造方法之一例之圖。
首先，實施圖1A所示的準備步驟之處理。準備步驟，係準備原玻璃板G1的步驟。原玻璃板G1，是可使用離子交換法來強化的板狀的玻璃板。
原玻璃板G1，以質量百分比表示玻璃板組成，以含有SiO2 45~75%、Al2O3 1~30%、Na2O 0~20%、以及K2O 0~20%為佳。如前所述限制玻璃板的組成範圍的話，更容易在很高的程度上兼顧離子交換性能以及耐失透性。
原玻璃板G1的板厚例如為1.5mm以下，較佳為1.3mm以下、1.1mm以下、1.0mm以下、0.8mm以下、0.7mm以下、0.6mm以下、0.5mm以下、0.4mm以下、0.3mm以下、0.2mm以下、特佳為0.1mm以下。強化玻璃板基板的板厚越小，越可以使強化玻璃板基板輕量化，結果可以謀求裝置的薄型化、輕量化。又，考慮到生產性等的話，原玻璃板G1的板厚以0.01mm以上為佳。
原玻璃板G1主面S的尺寸可任意設定，例如480×320mm~3350×3950mm。在此，主面S意味著對向於 板厚方向的表面。
原玻璃板G1，例如係使用溢流下拉法(overflow downdraw method)被成形的。又，原玻璃板G1之成形方法或加工狀態亦可任意選擇。例如，亦可為原玻璃板G1使用浮法成形，主面S及端面E被研磨加工者。
接著，前述準備步驟之後，實施圖1B、C之選擇強化步驟之處理。選擇強化步驟，係在設定於原玻璃板G1表面的一部分之選擇區域(周緣部S2及端面E)，進行形成比該選擇區域以外的非選擇區域(中央部S1)更深的壓縮應力層的處理之步驟。選擇強化步驟，包含成膜步驟、選擇離子交換步驟、以及除膜步驟。
在選擇強化步驟，首先，實施圖1B所示的成膜步驟之處理。成膜步驟，是在被設定於原玻璃板G1表面之至少一部份的非選擇區域形成防離子透過膜M而得到附膜玻璃板G2的步驟。在本實施形態，以如圖2所示那樣把原玻璃板G1的表背主面的中央部S1作為非選擇區域的場合為一例進行說明。又，圖1B相當於圖2之AA向剖面視圖。原玻璃板G1的表面之中，中央部S1以外的區域，也就是周緣部S2及端面E為選擇區域，為露出的狀態。又，周緣部S2是主面S之中包圍中央部S1的區域。防離子透過膜M，係於後述之選擇離子交換步驟，在進行原玻璃板G1表層的離子交換時抑制或者遮斷離子的透過之膜層。
作為防離子透過膜M的材質，以使用可抑制或遮斷離子交換的離子的透過之任意材質為佳。被交換的離 子為鹼金屬離子的場合，防離子透過膜M例如為金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬氧氮化物、金屬氧碳化物、金屬碳氮化物等之膜為佳。此外，耐熱性或化學耐久性優異的碳材料或金屬、合金也可以作為防離子透過膜M使用。更詳細地說，作為防離子透過膜M的材質，例如可以為包含由SiO2、Al2O3、SiN、SiC、Al2O3、AlN、ZrO2、TiO2、Ta2O5、Nb2O5、HfO2、SnO2、奈米碳管、石墨烯(graphene)、類金剛石碳、不鏽鋼之中選擇1種以上之膜。
特別是以SiO2為防離子透過膜M的主成分的話，可以廉價且容易地形成防離子透過膜M，也可作為防反射膜發揮機能所以較佳。防離子透過膜M，亦可為僅由SiO2構成的膜。具體而言，防離子透過膜M為具有含有SiO2以質量百分比表示為99%以上之組成者為佳。
此外，在確實遮斷離子的透過的場合，使用以SiO2為主成分，包含Al2O3的膜作為防離子透過膜M是適宜的。在此場合，防離子透過膜M為以質量百分比表示具有含SiO2 20~99%，Al2O3 1~80%之組成為佳。
防離子透過膜M的厚度，只要是可以達成離子透過的遮斷或抑制即可，可為任意厚度。但是，防離子透過膜M的厚度過大的話，成膜時間或材料成本等會增大，所以在可達成離子透過的遮斷及抑制的範圍內以薄薄地形成為佳。具體而言，防離子透過膜M的膜厚，例如以1~5000nm為佳，更佳為50~4000nm。
防離子透過膜M的成膜方法，可以使用濺鍍法或真空蒸鍍法等PVD法(物理氣相沉積法)、熱CVD法或電漿CVD法等CVD法(化學氣相沈積法)、浸沾塗布法或狹縫塗布法等濕式塗布法。特別以濺鍍法、浸沾塗布法為佳。使用濺鍍法的場合，可容易且均勻的形成防離子透過膜M。防離子透過膜M的成膜處所可以任意的手法設定。例如，可以在遮罩選擇區域(周緣部S2、端面E)的狀態下進行成膜。此外，把預先成形為薄片狀的防離子透過膜M接合於原玻璃板G1的主面而成膜亦可。
又，在本實施形態，以形成含有SiO2及Al2O3，膜厚為100nm以上，可遮斷鹼金屬離子的透過之防離子透過膜M的場合為一例進行說明。
接著，前述成膜步驟之後，實施圖1C所示的選擇離子交換步驟的處理。選擇離子交換步驟，是把附膜玻璃板G2藉由離子交換法進行化學強化而得到附膜強化玻璃板G3的步驟。具體而言，浸漬附膜玻璃板G2於包含鹼金屬離子的熔鹽T1進行離子交換。本實施形態之熔鹽T1，例如為硝酸鉀熔鹽。
選擇離子交換步驟之熔鹽T1的溫度可任意設定，例如為350~500℃，較佳為370~480℃，更佳為380~450℃，進而更佳為380~400℃。此外，把附膜玻璃板G2浸漬於熔鹽T1中的時間可任意設定，例如為0.1~150小時，較佳為0.3~100小時，更佳為0.5~50小時。
在前述選擇離子交換步驟，附膜玻璃板G2的 表面之中，於未被設防離子透過膜M的非成膜區域(周緣部S2及端面E)玻璃板中的鈉離子與熔鹽T1中的鉀離子交換，形成壓縮應力層C而且產生膨脹變形。另一方面，附膜玻璃板G2的表面中，在被設置防離子透過膜M的中央部S1，離子被遮斷，所以不進行離子交換，不發生壓縮應力層的形成及膨脹變形。這樣的結果，選擇離子交換步驟所得到的附膜強化玻璃板G3，僅於端部具有壓縮應力層C，且該端部為隆起的形狀，更具體而言，係成為中央部S1與周緣部S2之間具有階差的形狀。
接著，前述選擇離子交換步驟之後，實施圖1D所示的除膜步驟及平坦化步驟的處理。
除膜步驟，係從附膜強化玻璃板G3除去防離子透過膜M的步驟。具體而言，藉由研磨除去防離子透過膜M。研磨裝置可以使用習知的研磨裝置，以使用雙面研磨裝置為佳。
又，不限於研磨，使用其他手法除去防離子透過膜M亦可。例如，使蝕刻液附著而除去防離子透過膜M亦可。防離子透過膜M為含有SiO2的膜的場合，例如可以使用含氟、TMAH(四甲基氫氧化銨)、EDP、KOH、NaOH等的溶液作為蝕刻液使用，特別是把氟酸溶液作為蝕刻液使用為佳。又，使用氟酸溶液，不變更玻璃尺寸而僅除去防離子透過膜M的場合，使該氟酸溶液之HF濃度為10%以下為佳。
平坦化步驟，是藉由除去於選擇強化步驟膨 脹的選擇區域之至少一部分，而平坦化玻璃板的主面S的步驟。具體而言，藉由除去比中央部S1還突出的周緣部S2的膨脹部位B把主面S平坦化。膨脹部位B可以藉由研磨或蝕刻來除去。選擇性除去僅膨脹部位B為佳，但是中央部S1也一起研磨或蝕刻亦可。如此進行，可得到更高的平坦性，而且可以均一化平坦化處理後的中央部S1與周緣部S2之面的狀態。平坦化步驟之處理，以針對附膜強化玻璃板G3的兩主面來進行為佳，但因應於用途而僅針對一方主面進行亦可。
除膜步驟及平坦化步驟之處理可以分別個別地執行，以同一裝置約略同時地進行亦為可能。例如，除膜步驟及平坦化步驟之處理，可以使用同一研磨裝置或者同一蝕刻裝置來進行，特別以使用同一研磨裝置為佳。根據這樣的方法，可容易且有效率地執行除膜步驟以及平坦化步驟之處理。
藉由前述除膜步驟及平坦化步驟之處理，可得具有平坦的主面，且於周緣部S2及端面E具有比中央部S2更深的壓縮應力層C之強化玻璃板G4。亦即，強化玻璃板G2，成為於端緣部具有高的耐衝擊性，可減低內部的拉伸應力，難以發生起因於該拉伸應力的破壞之玻璃。
於前述選擇離子交換步驟藉由防離子透過膜M完全遮斷離子的透過的場合，於強化玻璃板G4的中央部S1未被形成壓縮應力層C，所以成為中央部S1未被強化的玻璃板。在此場合，藉由使以下之全體強化步驟接在前述 除膜步驟以及平坦化步驟的處理之後進行，於中央部S1也形成壓縮應力層C，提高中央部S1之強度是較佳的。
全體強化步驟，如圖1E所示，是使熔鹽接觸於強化玻璃板G4的表面全體而交換表層的離子之步驟。具體而言，把強化玻璃板G4浸漬於包含鹼金屬離子的熔鹽T2進行離子交換，得到於中央部S1具有比周緣部S2及端面E更淺的壓縮應力層C的強化玻璃板G5。熔鹽T2，例如為硝酸鉀熔鹽。
全體強化步驟之熔鹽T2的溫度可任意設定，例如為350~500℃，較佳為370~480℃，更佳為380~450℃。熔鹽T2的溫度為450℃以下的話，變得容易抑制起因於溫度之氫離子濃度指數(pH)之值的變動。此外，把強化玻璃板G4浸漬於熔鹽T2中的時間可任意設定，例如為0.1~72小時，較佳為0.3~50小時，更佳為0.5~24小時。
熔鹽T2，也可以是與前述熔鹽T1為相同。亦即，可以把強化玻璃板G4再度浸漬於選擇強化步驟所使用的鹽浴。在此場合，能夠以單一的鹽浴進行複數步驟之處理，所以可抑制製造設備的成本。
此外，熔鹽T2亦可以與熔鹽T1不同，全體強化步驟之處理溫度及處理時間，與選擇離子交換步驟之處理溫度及處理時間可以是不同的。例如，全體強化步驟之離子交換的處理時間，以比選擇離子交換步驟之處理時間更短為佳。根據這樣的處理，不會使中央部S2之壓縮應力層C的深度過剩地深，可以抑制拉伸應力的增加。
又，全體強化步驟之後，進而實施精加工步驟之處理亦可(未圖示)。在精加工步驟，把強化玻璃板G5的表面，例如主面S及端面E之至少任一予以研磨加工。由於全體強化步驟之處理使強化玻璃板G5的尺寸或表面狀態不是製品規格等所要的狀態的場合，藉由實施這樣的精加工步驟之處理可以使成為所要的狀態。
如以上所說明的，根據相關於本發明的實施形態之強化玻璃板之製造方法，可以安定而效率佳地製造具有高平坦性且很少有從端面破損的強化玻璃板G4、G5。
<第二實施形態>
在前述第一實施形態針對藉由防離子透過膜M完全遮斷離子的透過的場合進行了說明，但作為防離子透過膜M使用稍微容許離子的透過之膜亦可。圖3A~D係顯示相關於本發明之第二實施形態的強化玻璃板之製造方法的概略之圖。在第二實施形態，除了使用稍微容許離子的透過的防離子透過膜M這點以外，各步驟之處理亦可與前述第一實施形態相同。
第二實施形態的場合，如圖3C所示，於選擇離子交換步驟，於中央部S1也進行離子交換，所以於中央部S1被形成壓縮應力層C。但是，在中央部S1，與周緣部S2相比離子交換受到抑制，所以中央部S1之壓縮應力層C的深度比周緣部S2的壓縮應力層C的深度還要小，厚度方 向的膨脹量也比周緣部S2的膨脹量還小。亦即，所得到的附膜強化玻璃板G3，成為端部隆起而中央部S1與周緣部S2之間具有階差的形狀。所以，為了得到具有高平坦性的強化玻璃G4，必須要圖3D所示那樣的平坦化步驟之處理。
此外，在第二實施形態因為在選擇離子交換步驟之處理於中央部S1形成壓縮應力層C，在中央部S1之壓縮應力層C的深度或壓縮應力為充分的場合，可以省略前述之全體強化步驟。另一方面，被形成於中央部S1的壓縮應力層C的深度或壓縮應力不充分的場合，以進而實施全體強化步驟為佳。
<第三實施形態>
原玻璃板G1之周緣部S2為倒角面亦可(例如圖4A)。此外，倒角面，如圖4A所示為彎曲面亦可，為對主面S傾斜的平面亦可。圖4A~E係顯示相關於本發明之第三實施形態的強化玻璃板之製造方法的概略之圖。在第三實施形態除了周緣部S2為倒角面這一點外，各步驟的處理與前述第一實施形態是相同的。
又，亦可於前述所示之任意步驟的前後，加設實施切斷加工、端面加工、及開孔加工之任一加工的加工步驟。此外，於前述所示之任意步驟的前後，適當對玻璃板進行洗淨及乾燥處理亦可。
此外，在前述實施形態，以熔鹽T1、T2為硝 酸鉀熔鹽的場合為一例進行說明，但不限於此，替代或者組合使用用於玻璃板的離子交換之習知的熔鹽亦可。例如，熔鹽T1、T2亦可為硝酸鉀熔鹽與硝酸鈉熔鹽之混合鹽。
此外，在前述實施形態，例示了交換鈉離子與鉀離子進行化學強化的場合，但藉由任意的離子交換進行化學強化亦可。例如，交換鋰離子與鈉離子，或是交換鋰離子與鉀離子進行化學強化亦可。在此場合，原玻璃板G1，其玻璃組成以質量百分比表示含有LiO2 0.5~7.5%為佳，例如含有3.0%或4.5%。
此外，選擇強化步驟之處理不限於前述手法，例如，僅選擇區域浸漬於離子交換用之熔鹽，或是塗布熔鹽等，形成一部分較深的壓縮應力層C亦可。
在此，強化玻璃板的應力特性(壓縮應力層的深度等)，例如可以使用折原製作所製造的FSM-6000來進行測定。鋁矽酸鹽(aluminosilicate)系玻璃的壓縮應力層深度超過100μm的場合，或進行鋰離子與鈉離子的離子交換的場合，強化玻璃板的應力特性，例如可以使用折原製作所製造的SLP-1000進行測定。切斷強化玻璃板等而製作剖面試樣的場合，最好是使用例如Photonic-lattice公司製造的WPA-micro或者東京儀器公司製造的Abrio來觀測內部應力分布，確認應力深度。
[產業上利用可能性]
本發明之強化玻璃板及其製造方法，作為用於觸控面板顯示器等之玻璃基板以及其製造方法等是有用的。

Claims (10)

  1. 一種強化玻璃板之製造方法，係交換玻璃板表層的離子之強化玻璃板之製造方法，其特徵為具備：藉由前述離子的交換，使設定於前述玻璃板的表面的一部分之選擇區域的厚度，比該選擇區域以外的非選擇區域的厚度更大，並且於前述選擇區域形成比前述非選擇區域更深的壓縮應力層之選擇強化步驟；以及藉由除去在前述選擇強化步驟膨脹的前述選擇區域之至少一部分，平坦化該玻璃板的主面的平坦化步驟。
  2. 如申請專利範圍第1項之強化玻璃板之製造方法，其中於前述平坦化步驟之後，進而具備使熔鹽接觸於前述玻璃板的表面全體而交換前述玻璃板表層的離子之全體強化步驟。
  3. 如申請專利範圍第2項之強化玻璃板之製造方法，其中於前述全體強化步驟之後，進而具備研磨加工前述玻璃板的表面之精加工步驟。
  4. 如申請專利範圍第1至3項之任1項之強化玻璃板之製造方法，其中 於前述平坦化步驟，藉由研磨或蝕刻而除去前述膨脹之前述選擇區域之至少一部分。
  5. 如申請專利範圍第1至3項之任1項之強化玻璃板之製造方法，其中前述選擇強化步驟，具備：在前述非選擇區域形成抑制或者遮斷前述離子的透過之防離子透過膜之成膜步驟，使熔鹽接觸於被形成前述防離子透過膜的前述玻璃板而交換前述離子之選擇離子交換步驟，以及在前述選擇離子交換步驟之後，除去前述防離子透過膜之除膜步驟。
  6. 如申請專利範圍第5項之強化玻璃板之製造方法，其中於前述除膜步驟，藉由研磨或蝕刻而除去前述防離子透過膜。
  7. 如申請專利範圍第6項之強化玻璃板之製造方法，其中以同一研磨裝置進行前述平坦化步驟以及前述除膜步驟之處理。
  8. 如申請專利範圍第5項之強化玻璃板之製造方法，其 中前述非選擇區域為前述玻璃板之表背主面的中央部。
  9. 如申請專利範圍第1至3項之任1項之強化玻璃板之製造方法，其中前述玻璃板，係以質量百分比表示玻璃板組成，含有SiO 2 45~75%、Al 2O 3 1~30%、Na 2O 0~20%、以及K 2O 0~20%之玻璃板。
  10. 一種強化玻璃板之製造方法，係交換玻璃板表層的離子之強化玻璃板之製造方法，其特徵為具備：藉由使熔鹽接觸於在被設定於主面的一部分之非選擇區域具備抑制或遮斷前述離子的透過之防離子透過膜之附膜玻璃板進行離子交換，而使前述非選擇區域以外的選擇區域的厚度比前述非選擇區域更大，並且於前述選擇區域形成比前述非選擇區域更深的壓縮應力層之選擇強化步驟；以及藉由除去在前述選擇強化步驟膨脹的前述選擇區域之至少一部分，平坦化該玻璃板的主面的平坦化步驟。
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