TW201805157A - 表面保護膜及貼有該膜之光學元件 - Google Patents

表面保護膜及貼有該膜之光學元件 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種對表面具有凹凸的光學用膜也可使用、對被黏物污染少、對被黏物的低污染性不經時變化、具有不經時劣化的優異抗剝離靜電性能的表面保護膜及使用其的光學元件。表面保護膜(10)，其通過在黏著劑層(2)上貼合具有剝離劑層(4)的剝離膜(5)而成，剝離膜(5)通過在樹脂膜(3)的一個面上層疊剝離劑層(4)而成，剝離劑層(4)含有以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑、不與該剝離劑反應的抗靜電劑、含至少一個以上醚鍵的酯類增塑劑，抗靜電劑成分為熔點小於30℃的離子性化合物，抗靜電劑成分與酯類增塑劑從剝離膜(5)的剝離劑層(4)轉印到黏著劑層(2)的表面，降低將黏著劑層(2)從被黏物上剝離時的剝離靜電壓。

Description

表面保護膜及貼有該膜之光學元件
本發明涉及一種貼合於偏振片、相位差板、用於顯示器的鏡片膜等光學元件(以下有時也稱為光學用膜)表面的表面保護膜。更詳細而言，提供一種對被黏物的污染少的表面保護膜，進一步，提供一種具有不經時劣化的優異抗剝離靜電性能的表面保護膜，以及使用了該表面保護膜的光學元件。
以往，在製造、運輸偏振片、相位差板、用於顯示器的鏡片膜、防反射膜、硬塗膜、用於觸摸面板的透明導電性膜等光學用膜、以及使用這些膜的顯示器等光學產品時，在該光學用膜的表面上貼合表面保護膜，可以防止在後續工序中表面的污垢或傷痕。關於作為光學產品的光學用膜的外觀檢查，為了節省剝離表面保護膜、再次黏貼的工夫，提高作業效率，有時也在將表面保護膜貼合於光學用膜的狀態下直接進行。
一般，在光學產品的製備工序中，為了防止傷痕或污垢的附著，使用在基材膜的一面上設有黏著劑層的表面保護膜。表面保護膜經由微黏著力的黏著劑層貼合在光學用膜 上。使黏著劑層為微黏著力的原因在於，在將使用完的表面保護膜從光學用膜表面上剝離去除時，能夠容易地剝離，並使黏著劑不附著殘留(即防止殘膠的產生)在作為被黏物的產品的光學用膜上。
近年來，在液晶顯示面板的生產工序中，雖然產生的件數少，但仍發生了由於將貼合於光學用膜上的表面保護膜剝離除去時所產生的剝離靜電壓，引起用於控制液晶顯示面板的顯示畫面的驅動IC等電路元件遭到破壞、或者液晶分子的取向受到損害的現象。
此外，為了降低液晶顯示面板的消耗電力，液晶材料的驅動電壓變低了，伴隨於此，驅動IC的破壞電壓也在變低。在最近，要求使剝離靜電壓在+0.7kV~-0.7kV的範圍之內。
此外，近年來隨著3D顯示器(立體顯示器)的普及，有時在偏振片等光學用膜的表面上貼合FPR(Film Patterned Retarder)膜。剝離貼合在偏振片等光學用膜的表面上的表面保護膜後，貼合FPR膜。但是，如果偏振片等光學用膜的表面被表面保護膜中所使用的黏著劑或抗靜電劑污染時，存在難黏貼FPR膜的問題。因此，要求用於該用途的表面保護膜對被黏物的污染要小。
此外，在一些液晶面板廠家中，作為表面保護膜對被黏物的污染性的評價方法，採用以下方法：通過暫時剝離貼合在偏振片等光學用膜上的表面保護膜，在混入氣泡的狀態下再次貼合，並在規定條件下對其進行加熱處理，之後剝離表面保護膜並觀察被黏物的表面的方法。在該評價方法中，如果 即使被黏物的表面污染是微量的，在混入氣泡的部分、與表面保護膜的黏著劑接觸的部分之間，也存在被黏物的表面污染的差異時，則被黏物的表面污染以氣泡的痕跡(有時也稱為氣泡滲透)的形式而殘留。因此，作為對被黏物表面的污染性的評價方法，該評價方法為非常嚴格的評價方法。近年來，要求即使在利用這樣的嚴格的評價方法進行判定的結果中，在對被黏物的表面的污染性方面也不存在問題的表面保護膜。
在將表面保護膜從作為被黏物的光學用膜上剝離時，為了防止因高剝離靜電壓所造成的不良狀況的產生，有人提出了一種用於較低地抑制剝離靜電壓的、使用含有抗靜電劑的黏著劑層的表面保護膜。
例如，專利文獻1中公開了一種使用了由烷基三甲基銨鹽、含羥基的丙烯酸類聚合物、聚異氰酸酯所構成的黏著劑的表面保護膜。
此外，專利文獻2中公開了一種由離子性液體及酸值在1.0以下的丙烯酸聚合物所構成的黏著劑組合物、以及使用了該黏著劑組合物的黏著片類。
此外，專利文獻3中公開了一種由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、利用陰離子吸附性化合物處理了的鹼金屬鹽所構成的黏著劑組合物以及使用了該黏著劑組合物的表面保護膜。
此外，專利文獻4中公開了一種由離子性液體、鹼金屬鹽、玻璃化轉變溫度為0℃以下的聚合物所組成的黏著劑組合物、以及使用了該黏著劑組合物的表面保護膜。
此外，專利文獻5中公開了一種含有液體離子鹽、含有聚 合物的、用於光學元件的表面保護片的黏著劑組合物、及黏著片。
【現有技術文獻】 【專利文獻】
【專利文獻1】日本特開2005-131957號公報
【專利文獻2】日本特開2005-330464號公報
【專利文獻3】日本特開2005-314476號公報
【專利文獻4】日本特開2006-152235號公報
【專利文獻5】日本特開2008-069261號公報
在上述的專利文獻1~5中，在黏著劑層的內部添加有抗靜電劑。然而，黏著劑層的厚度越厚，或者貼合在被黏物後經過的時間越久，則相對於貼合了表面保護膜的被黏物，抗靜電劑從黏著劑層轉移到被黏物的量越多。若轉移到被黏物的抗靜電劑的量增多，則有可能作為被黏物的光學用膜的外觀品質降低、在貼合FPR膜時FPR膜的黏著性降低。
如果為了減少這樣的從黏著劑層向被黏物轉移的抗靜電劑的經時增加，而減少黏著劑層的厚度時，則會產生其它問題。例如，在用於為了防眩而經防眩處理的偏振片等表面具有凹凸的光學用膜時，存在以下問題：由於黏著劑層難以追隨光學用膜表面的凹凸而混入氣泡，由於光學用膜與黏著劑層之間的黏著面積減少而造成黏著力降低，使用中表面保護膜產 生浮起或脫落。
因此，需要一種對於表面具有凹凸的光學用膜也可進行貼合、對被黏物的污染非常少、且對被黏物的污染即使經時也不增加的用於光學用膜的表面保護膜，並且，需要一種能較低地抑制從被黏物上剝離表面保護膜時的剝離靜電壓的表面保護膜。
本申請的發明人們為了解決這些問題進行了深入研究。
為了對被黏物的污染少、及污染的經時增加小，需要對被推測為污染被黏物原因的黏著劑層內的抗靜電劑成分進行減量。但是，在對黏著劑層內的抗靜電劑成分進行減量的情況下，將表面保護膜從被黏物剝離時的剝離靜電壓會增高。因此，研究了能較低地抑制從被黏物上剝離表面保護膜時的剝離靜電壓、而不會增加黏著劑層內的抗靜電劑成分的絕對量的方法。
其結果發現，通過在將不含抗靜電劑的黏著劑組合物塗佈並乾燥，層疊成黏著劑層之後，只在黏著劑層的表面上賦予適量的抗靜電劑成分，而不是在基材膜的一個面上將含有抗靜電劑的黏著劑組合物塗佈並乾燥，形成黏著劑層，從而能夠較低地抑制從作為被黏物的光學用膜上剝離表面保護膜時的剝離靜電壓，以此完成了本發明。
本發明是鑒於以上情況而成的，其目的在於，提供一種對於表面具有凹凸的光學用膜也可進行貼合、對被黏物的污染少、對被黏物的低污染性即使經時也不發生改變、且具 有不經時劣化的優異的抗剝離靜電性能的表面保護膜、及使用了該表面保護膜的光學元件。
為了解決上述技術問題，本發明的發明構思在於，本發明的表面保護膜通過在基材膜的一個面上將不含抗靜電劑的黏著劑組合物塗佈並乾燥、層疊黏著劑層之後，在黏著劑層的表面上賦予適量的抗靜電劑，從而較低地抑制對被黏物的污染性，同時較低地抑制從作為被黏物的光學用膜上剝離時的剝離靜電壓。
為了解決上述技術問題，本發明提供一種表面保護膜，其通過在由具有透明性的樹脂所構成的基材膜的一個面上形成黏著劑層，並在該黏著劑層上貼合具有剝離劑層的剝離膜而成，其特徵在於，該剝離膜通過在樹脂膜的一個面層疊剝離劑層而成，其中，所述剝離劑層含有以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑、不與該剝離劑反應的抗靜電劑、及含有至少一個以上醚鍵的酯類增塑劑，所述抗靜電劑成分為熔點為小於30℃的離子性化合物，所述抗靜電劑成分與所述酯類增塑劑從所述剝離膜的所述剝離劑層轉印到所述黏著劑層的表面，以此降低將所述黏著劑層從被黏物上剝離時的剝離靜電壓。
此外，所述黏著劑層優選通過使含有(甲基)丙烯酸酯共聚物與交聯劑的黏著劑組合物交聯而成。
此外，將所述剝離膜從所述黏著劑層上剝離時的剝離力優選為0.2N/50mm以下。
此外，本發明提供一種通過貼合上述表面保護膜 而成的光學元件。
本發明的表面保護膜對被黏物的污染少，對被黏物的低污染性即使經時也不會變化。此外，本發明的表面保護膜即使是在被黏物為AG偏光板等的表面具有凹凸的光學用膜，也可使用。此外，根據本發明，能夠提供一種能較低抑制從作為被黏物的光學用膜上剝離時所產生的剝離靜電壓的、具有不經時劣化的優異的抗剝離靜電性能的表面保護膜、及使用了該表面保護膜的光學元件。
根據本發明的表面保護膜，能夠確切地保護光學用膜的表面，因此能夠實現生產率的提高及成品率的提高。
1‧‧‧基材膜
2‧‧‧黏著劑層
3‧‧‧樹脂膜
4‧‧‧剝離劑層
5‧‧‧剝離膜
7‧‧‧抗靜電劑與酯類增塑劑
8‧‧‧被黏物(光學元件)
10‧‧‧表面保護膜
11‧‧‧剝離掉剝離膜的表面保護膜
20‧‧‧貼合有表面保護膜的光學元件
【圖1】為表示本發明的表面保護膜概念的截面圖；【圖2】為表示將剝離膜從本發明的表面保護膜上剝離後的狀態的截面圖；【圖3】為表示本發明的光學元件的一個實施例的截面圖。
以下通過實施方式對本發明進行詳細的說明。
圖1為表示本發明的表面保護膜概念的示意圖。該表面保護膜10在透明的基材膜1的一個面的表面上，形成有黏著劑層2。在該黏著劑層2的表面上，貼合有在樹脂膜3的表面形成有剝離劑層4的剝離膜5。
作為本發明的表面保護膜10中所使用的基材膜 1，使用由具有透明性以及可撓性的樹脂所構成的基材膜。由此，能夠以將表面保護膜貼合在作為被黏物的光學元件上的狀態，進行光學元件的外觀檢測。用作基材膜1的由具有透明性的樹脂所組成的膜，適宜使用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚間苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。除了聚酯膜以外，只要具有所需強度且具有光學適應性，則也可使用由其它樹脂構成的膜。基材膜1可以是無拉伸膜，也可以是經單軸或雙軸拉伸的膜。此外，也可以將拉伸膜的拉伸倍率或伴隨拉伸膜的結晶化所形成的軸向的取向角度控制在特定的值。
本發明的表面保護膜10中所使用的基材膜1的厚度，並沒有特別限定，但例如優選12~100μm左右的厚度，若為20~50μm左右的厚度，則更容易操作，因而更優選。
此外，可根據需要，在基材膜1的形成黏著劑層2的面的相反側的面上設置防止表面污垢的防汙層、抗靜電層、防傷痕的硬塗層等。此外，也可以在基材膜1的表面上實施利用電暈放電進行的表面改性、塗佈錨固劑等易黏著處理。
此外，本發明的表面保護膜10中所使用的黏著劑層2，只要是貼合在被黏物的表面上，用完後可以簡單地剝離，並且不易污染被黏物的黏著劑，則無特別限定，若考慮貼合在光學用膜上之後的耐久性等，則通常使用使(甲基)丙烯酸酯共聚物交聯而成的丙烯酸類黏著劑。
作為(甲基)丙烯酸酯共聚物，可列舉出將丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基已酯，丙烯酸異辛酯、丙烯酸異壬酯 等主單體，與丙烯腈、醋酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等共聚單體，丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羥乙酯、丙烯酸羥丁酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、N-羥甲基甲基丙烯醯胺等官能性單體，甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯等的含有聚氧亞烷基的單體共聚而成的共聚物。(甲基)丙烯酸酯共聚物，其主單體以及其它單體可以均為(甲基)丙烯酸酯，作為主單體之外的單體，也可以含有一種或兩種以上除(甲基)丙烯酸酯之外的單體。主單體以外的其它單體，可以選自但並不特別限定於上述共聚單體、官能性單體、含有聚氧亞烷基的單體等。
作為黏著劑層2中所添加的固化劑，使(甲基)丙烯酸酯共聚物交聯的交聯劑，可列舉出異氰酸酯化合物、環氧化合物、三聚氰胺化合物、金屬螯合化合物等。此外，作為增黏劑，可列舉出松香類、香豆酮-茚類、萜烯類、石油類、酚類等。
本發明的表面保護膜10中所使用的黏著劑層2的厚度，沒有特別限定，但優選5~40μm左右的厚度，更優選10~30μm左右的厚度。另外，由於從被黏物上剝離表面保護膜時的操作性優異，故而優選表面保護膜的對被黏物表面的剝離強度(黏著力)為0.03~0.3N/25mm左右的具有微黏著力的黏著劑層2。此外，由於從表面保護膜10剝離掉剝離膜5時的操作性優異，因此優選從黏著劑層2剝離剝離膜5時的剝離力為0.2N/50mm以下，更優選為0.14N/50mm以下。
此外，本發明的表面保護膜10中所使用的剝離膜5，是在樹脂膜3的一面上層疊剝離劑層4而成，該剝離劑層4含 有以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑、不與該剝離劑反應的抗靜電劑、以及至少含有一個以上醚鍵的酯類增塑劑。在本發明的表面保護膜中所使用的剝離膜中，所述抗靜電劑成分優選為熔點為小於30℃的離子性化合物。
作為樹脂膜3，可列舉出聚脂膜、聚醯胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚醯亞胺膜等，由於具有優異的透明性及低廉的價格，因此特別優選聚脂膜。樹脂膜可以是無拉伸膜，也可以是單軸或雙軸拉伸膜。此外，可以將拉伸膜的拉伸倍率、伴隨拉伸膜的結晶化所形成的軸向的取向角度控制在特定的值。
樹脂膜3的厚度沒有特別限制，但例如優選12~100μm左右的厚度，若為16~50μm左右的厚度，則容易操作，故而更優選。
此外，可根據需要，在樹脂膜3的表面上實施利用電暈放電進行的表面改性、塗佈錨固劑等易黏著處理。
作為構成剝離劑層4的以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑，可列舉出加成反應型、縮合反應型、陽離子聚合型、自由基聚合型等公知的矽酮類剝離劑。在市場上銷售的加成反應型矽酮類剝離劑的產品，例如可列舉出KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830(信越化學工業(股)製造)、SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(Dow Corning Toray Co.,Ltd.製造)等。在市場上銷售的縮合反應型矽酮類剝離劑的產品，例如可列舉出SRX-290、SYLOFF-23(Dow Corning Toray Co.,Ltd.製造)等。在市場上銷售的陽離子聚合型矽酮類 剝離劑的產品，例如可列舉出有TPR-6501、TPR-6500、UV9300、VU9315、UV9430(Momentive Performance Materials Company製造)、X62-7622(信越化學工業(股)製造)等。在市場上銷售的自由基聚合型矽酮類剝離劑的產品有X62-7205(信越化學工業(股)製造)等。
作為構成剝離劑層4的抗靜電劑，優選相對於以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑溶液的分散性良好、且不會阻礙以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑的固化的抗靜電劑。此外，為了從剝離劑層4轉印至黏著劑層2的表面、賦予黏著劑層2抗靜電效果，優選不與以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑反應的抗靜電劑。熔點小於30℃的離子性化合物非常適合作為這樣的抗靜電劑。
作為熔點小於30℃的離子性化合物，為具有陽離子與陰離子的離子性化合物，陽離子，可列舉出咪唑離子等環狀脒離子、吡啶離子、銨離子、鋶離子、膦離子等。此外，作為陰離子，可列舉出CnH2n+1COO-、CnF2n+1COO-、NO3 -、CnF2n+1SO3 -、(CnF2n+1SO2)2N-、(CnF2n+1SO2)3C-、PO4 3-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、ClO4 -、BF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -等。
抗靜電劑相對於以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑的添加量，根據抗靜電劑的種類或與剝離劑之間的親和度而不同。抗靜電劑的添加量，可考慮從被黏物上剝離表面保護膜時所期待的剝離靜電壓、對被黏物的污染性以及黏著特性等來設定。
構成剝離劑層4的含有至少一個以上醚鍵的酯類 增塑劑，用於提高黏著劑層2的表面的抗靜電性能。作為剝離劑層4中所含有的增塑劑，優選對以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑溶液的分散性好的增塑劑。並且，優選不會阻礙以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑的固化的增塑劑。此外，增塑劑起到輔助使剝離劑層4中所含有的抗靜電劑從剝離劑層4轉移至黏著劑層2表面的作用。因此，增塑劑最好是不與以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑進行反應的物質。作為這樣的增塑劑，適宜為分子中至少含有一個以上醚鍵的酯類增塑劑。
酯類增塑劑中的、在分子中存在的至少一個以上的醚鍵，是為了提高與抗靜電劑之間的親和性而需要的。此外，在本發明的表面保護膜中，剝離劑層與黏著劑層相接觸時，為了使抗靜電劑成分高效率地從剝離劑層轉印到黏著劑層的表面上，使用了增塑劑。本發明中為了提高剝離劑層與黏著劑層的親和性，適宜使用含有酯基的增塑劑。
作為分子中含有至少一個以上醚鍵的酯類增塑劑，可列舉出例如二乙二醇二-2-乙基己酸酯、四乙二醇二-2-乙基己酸酯、六乙二醇二-2-乙基己酸酯、三乙二醇二乙基丁酸酯、聚乙二醇二乙基丁酸酯、聚丙二醇二乙基己酸酯、三乙二醇二苯甲酸酯、四乙二醇二苯甲酸酯、聚乙二醇二苯甲酸酯、聚丙二醇二苯甲酸酯、或聚乙二醇-2-乙基己酸苯甲酸酯等。可從這些酯類增塑劑組中選擇一種或者混合兩種以上進行使用。在此，乙基己酸酯也被稱作乙基己酸酯(ethylhexanoate)、乙基己酸酯(ethylhexoate)、乙基己酸酯(ethyl hexane acid ester)等。苯甲酸酯(benzoate)則指安息香酸酯。
酯類增塑劑相對於以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑的添加量，因增塑劑的種類、與剝離劑之間的親和度而不同，但可考慮從被黏物上剝離表面保護膜時所期望的剝離靜電壓、對被黏物的污染性、黏著特性等來設定。
對以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑與抗靜電劑及酯類增塑劑之間的混合方法，無特別的限定。可使用以下任意一種方法：向以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑中添加並混合抗靜電劑及酯類增塑劑之後，添加並混合剝離劑固化用催化劑的方法；使用有機溶劑預先稀釋以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑之後，添加並混合抗靜電劑及酯類增塑劑以及剝離劑固化用催化劑的方法；將以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑預先稀釋於有機溶劑後，添加並混合催化劑，然後添加並混合抗靜電劑及酯類增塑劑的方法等。此外，根據需要，可以添加矽烷偶聯劑等貼附性改善劑、或含有聚氧亞烷基的化合物等的輔助抗靜電效果的材料。
以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑與抗靜電劑及酯類增塑劑的混合比例並無特別限定，但相對於以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑的固體成分100份，以固體成分計抗靜電劑及酯類增塑劑的總和優選為5~100份左右的比例。相對於以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑的固體成分100份，若抗靜電劑及酯類增塑劑的總和的換算成固體成分的添加量小於5份的比例時，則抗靜電劑及酯類增塑劑向黏著劑層表面的轉印量減少，難以發揮賦予黏著劑的抗靜電功能。此外， 相對於以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑的固體成分100份，若抗靜電劑及酯類增塑劑的總和的換算成固體成分的添加量超過100份的比例時，則抗靜電劑及酯類增塑劑與以聚二甲基矽氧烷為主要成分的剝離劑也同時被轉印到黏著劑層的表面上，因此可能會降低黏著劑的黏著特性。
在本發明的表面保護膜10的基材膜1上形成黏著劑層2的方法、以及貼合剝離膜5的方法，可以通過公知的方法來進行，並無特別限定。具體地，可列舉出以下方法：(1)在基材膜1的一面上塗佈用於形成黏著劑層2的樹脂組合物，使其乾燥，形成黏著劑層之後，貼合剝離膜5的方法；(2)在剝離膜5的表面上塗佈用於形成黏著劑層2的樹脂組合物並使其乾燥，形成黏著劑層之後，貼合基材膜1的方法等，使用其中任何一種方法均可。
此外，在基材膜1的表面上形成黏著劑層2的方法可以為公知的方法。具體而言，可以使用反向塗佈、刮刀式塗佈、凹印塗佈、夾縫式擠壓型塗佈、邁耶棒塗佈、氣刀塗佈等公知的塗佈方法。
此外，同樣地，在樹脂膜3上形成剝離劑層4，使用公知的方法進行即可。具體而言，可以使用凹印塗佈、邁耶棒塗佈、氣刀塗佈等公知的塗佈方法。
具有上述結構的本發明的表面保護膜10，從作為被黏物的光學用膜上剝離黏著劑層時的表面電位優選為+0.7kV~-0.7kV。更進一步，表面電位更優選為+0.5kV~-0.5kV，特別優選為+0.1kV~-0.1kV。該表面電位可以 通過加減剝離劑層中所含的抗靜電劑以及酯類增塑劑的種類、添加量等來進行調整。
圖2為表示將剝離膜從本發明的表面保護膜上剝離後的狀態的截面圖。
通過從圖1中所示的表面保護膜10上剝離掉剝離膜5，使剝離膜5的剝離劑層4中所含有的抗靜電劑及酯類增塑劑(附圖標記7)的一部分轉印(附著)到表面保護膜10的黏著劑層2的表面。因此，在圖2中，剝離掉剝離膜的狀態的表面保護膜11的黏著劑層2的表面上轉印的抗靜電劑及酯類增塑劑，用附圖標記7的斑點示意。通過使抗靜電劑及酯類增塑劑的成分7從剝離膜5轉印到黏著劑層2的表面，與轉印之前的黏著劑層2相比，將黏著劑層2從被黏物上剝離時的剝離靜電壓降低。此外，將黏著劑層從被黏物上剝離時的剝離靜電壓，可以通過公知的方法來進行測定。例如，將表面保護膜貼合在偏振片等被黏物上後，使用高速剝離試驗機(TESTER SANGYO CO,.LTD.製造)以每分鐘40m的剝離速度剝離表面保護膜，同時使用表面電位計(KEYENCE CORPORATION製造)以每10ms測定被黏物表面的表面電位，並將此時的表面電位的絕對值的最大值作為剝離靜電壓(kV)。
本發明的表面保護膜中，當將圖2中所示的剝離掉剝離膜的狀態的表面保護膜11貼合在被黏物上時，轉印到該黏著劑層2的表面上的抗靜電劑及酯類增塑劑與被黏物的表面接觸。由此，可以較低地抑制再次將表面保護膜從被黏物上剝離時的剝離靜電壓。
圖3為表示本發明的光學元件的實施例的截面圖。
將剝離膜5從本發明的表面保護膜10上剝離，以露出黏著劑層2的狀態，經由黏著劑層2貼合在作為被黏物的光學元件8上。
即，圖3表示一種貼合了本發明的表面保護膜11的光學元件20。作為光學元件，可列舉出偏振片、相位差板、鏡片膜、兼用作相位差板的偏振片、兼用作鏡片膜的偏振片等光學用膜。上述光學元件可用作液晶顯示面板等液晶顯示裝置、各種計量儀器類的光學系統裝置等的構成元件。此外，作為光學元件，還可列舉出有防反射膜、硬塗膜、用於觸摸面板的透明導電性膜等光學用膜。
根據本發明的光學元件，在將表面保護膜11從作為被黏物的光學元件(光學用膜)上剝離去除時，可以充分較低抑制剝離靜電壓。因此，不需擔憂損壞驅動IC、TFT元件、柵極線驅動電路等電路元件，可以提高液晶顯示面板等製造工序中的生產效率，保持生產工序的可靠性。
【實施例】
接下來根據實施例來對本發明進行進一步說明。
(實施例1)
(表面保護膜的製作)
將5重量份的加成反應型矽酮(Dow Corning Toray Co.,Ltd.製造，商品名稱：SRX-345)、7.5重量份的作為熔點為27.5℃的離子性化合物的三正丁基甲銨雙(三氟甲磺醯)亞胺(3M公司製造，FC-4400)的10%醋酸乙酯溶液、0.75重量份的四乙二醇 二-2-乙基己酸酯、95重量份的甲苯與醋酸乙酯為1：1的混合溶劑、0.05重量份的鉑催化劑(Dow Corning Toray Co.,Ltd.製造，商品名稱：SRX-212)混合，進行攪拌混合，製備用於形成實施例1的剝離劑層的塗料。在厚度為38μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上使用邁耶棒塗佈用於形成實施例1的剝離劑層的塗料，使乾燥後的厚度為0.2μm，使用120℃的熱風迴圈式烘箱進行乾燥1分鐘，得到實施例1的剝離膜。另一方面，相對於由90重量份的丙烯酸2-乙基己酯、7重量份的甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、3重量份的丙烯酸2-羥乙酯的共聚物所構成的黏著劑聚合物的30%醋酸乙酯溶液100重量份，攪拌並混合1.5重量份的異氰酸酯類固化劑(TOSOH CORPORATION製造，商品名稱：CORONATE(註冊商標)HX)，配製實施例1的黏著劑組合物。此外，CORONATE(註冊商標)HX為HDI類(六亞甲基二異氰酸酯類)的固化劑。
在厚度為38μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上以使乾燥後的厚度為20μm的方式塗佈實施例1的黏著劑組合物後，使用100℃的熱風迴圈烘箱進行乾燥2分鐘，形成黏著劑層。之後，在該黏著劑層的表面上，經由剝離劑層(矽酮處理面)貼合上述製備的實施例1的剝離膜。將所得的黏著膜在40℃的環境下保溫5天，使黏著劑層固化，得到實施例1的表面保護膜。
(比較例1)
將5重量份的加成反應型矽酮(Dow Corning Toray Co.,Ltd.製造，商品名稱：SRX-345)、95重量份的甲苯與醋酸乙酯為1：1的混合溶劑、0.05重量份的鉑催化劑(Dow Corning Toray Co.,Ltd.製造，商品名稱：SRX-212)混合，進行攪拌混合，製備用於形成比較例1的剝離劑層的塗料。在厚度為38μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上，使用邁耶棒將用於形成比較例1的剝離劑層的塗料以乾燥後的厚度為0.2μm的方式塗佈，使用120℃的熱風迴圈烘箱進行乾燥1分鐘，獲取比較例1的剝離膜。另一方面，相對於100重量份的實施例1的黏著劑聚合物溶液(固體成分為30%的醋酸乙酯溶液)，添加並混合3重量份作為熔點為27.5℃的離子性化合物的三正丁基甲銨雙(三氟甲磺醯)亞胺(3M公司製造，FC-4400)的10%醋酸乙酯溶液、1.5重量份的異氰酸酯類固化劑(TOSOH CORPORATION製造，商品名稱：CORONATE(註冊商標)HX)，製備比較例1的黏著劑組合物。
在厚度為38μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上，以使乾燥後的厚度為20μm的方式塗佈比較例1的黏著劑組合物後，使用100℃的熱風迴圈烘箱進行乾燥2分鐘，形成黏著劑層。之後，在該黏著劑層的表面上貼合上述製備的比較例1的剝離膜的剝離劑層(矽酮處理面)。將所得的黏著膜在40℃的環境下保溫5天，使黏著劑層固化，得到比較例1的表面保護膜。
(比較例2)
除未在黏著劑層中添加作為熔點為27.5℃的離子性化合物的三正丁基甲銨雙(三氟甲磺醯)亞胺之外，與比較例1同樣地，得到比較例2的表面保護膜。
(比較例3)
除未在剝離劑層中添加作為酯類增塑劑的四乙二醇二-2- 乙基己酸酯之外，與實施例1同樣地，得到比較例3的表面保護膜。
(實施例2)
除了替代實施例1的黏著劑組合物，使用相對於100重量份的由58重量份的丙烯酸2-乙基已酯、38重量份的丙烯酸丁酯、及4重量份的丙烯酸2-羥乙酯的共聚物構成的黏著劑聚合物的30%醋酸乙酯溶液，添加並混合1.2重量份的異氰酸酯類固化劑(TOSOH CORPORATION製造，商品名稱：CORONATE(註冊商標)HX)而成的黏著劑組合物之外，與實施例1同樣地，得到實施例2的表面保護膜。
(實施例3)
除了替代實施例1的黏著劑組合物，使用相對於100重量份的由96重量份的丙烯酸2-乙基已酯、4重量份的丙烯酸2-羥乙酯的共聚物構成的黏著劑聚合物的30%醋酸乙酯溶液，添加並混合1.2重量份的異氰酸酯類固化劑(TOSOH CORPORATION製造，商品名稱：CORONATE(註冊商標)HX)而成的黏著即組合物之外，與實施例1同樣地，得到實施例3的表面保護膜。
以下表示評價試驗的方法及結果。
<剝離膜的剝離力的測定方法>
將表面保護膜的樣品剪切為寬50mm、長150mm。在23℃×50%RH的試驗環境下，使用拉伸試驗機以300mm/分鐘的剝離速度沿180°的方向測定剝離剝離膜時的強度，並以此作為剝離膜的剝離力(N/50mm)。
<表面保護膜的黏著力的測定方法>
使用貼合機用雙面黏著膠帶將防眩光低反射處理偏振片(AG-LR偏振片)貼合在玻璃板的表面上。然後在偏振片的表面上貼合剪切為寬25mm的表面保護膜之後，在23℃×50%RH的試驗環境下保存一天。之後使用拉伸試驗機以300mm/分鐘的剝離速度，沿180°的方向測定剝離表面保護膜時的強度，並以此作為黏著力(N/25mm)。
<表面保護膜的剝離靜電壓的測定方法>
使用貼合機用雙面黏著膠帶將防眩光低反射處理偏振片(AG-LR偏振片)貼合在玻璃板的表面上。然後在偏振片的表面上貼合剪切為寬25mm的表面保護膜之後，在23℃×50%RH的試驗環境下保存一天。之後使用高速剝離試驗機(TESTER SANGYO CO,.LTD.製造)以每分鐘40m的剝離速度剝離表面保護膜，同時使用表面電位計(KEYENCE CORPORATION製造)每10ms測定所述偏振片表面的表面電位，並將此時的表面電位的絕對值的最大值作為剝離靜電壓(kV)。
<表面保護膜的表面污染性的確定方法>
使用貼合機用雙面黏著膠帶將防眩光低反射處理偏振片(AG-LR偏振片)貼合在玻璃板的表面上。然後在偏振片的表面上貼合剪切為寬25mm的表面保護膜之後，在23℃×50%RH的試驗環境下保存3天及30天。之後剝離表面保護膜，目視觀察偏振片表面上是否存在污染。作為表面污染性的判定標準，將偏振片上無污染轉移的情況評價為(○)，確認到偏振片上有污染的轉移的情況評價為(×)。
關於得到的實施例1~3及比較例1~3的表面保護 膜，其測定結果如表1~2所示。“2EHA”為丙烯酸2-乙基已酯、“# 400G”為甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、“HEA”為丙烯酸2-羥乙酯、“BA”為丙烯酸丁酯、“FC4400”為三正丁基甲銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、“增塑劑”為四乙二醇二-2-乙基己酸酯。在表1、2中，以黏著劑聚合物(固體成分)的總量為約100重量份方式，用重量份表示黏著劑層的組成。因此，在比較例1的黏著劑層中，黏著劑聚合物(固體成分)與FC4400的重量比例為30重量份：0.3重量份=100重量份：1.0重量份。
Figure TW201805157AD00001
【表2】
Figure TW201805157AD00002
根據表1及表2中所示的測定結果，可以得到以下結論。
本發明的實施例1~3的表面保護膜具有適度的黏著力，對被黏物表面沒有污染，且將表面保護膜從被黏物所剝離時的剝離靜電壓低。
另一方面，在黏著劑層中含有抗靜電劑的比較例1的表面保護膜，將表面保護膜從被黏物上剝離時的剝離靜電壓低，良好，但是在剝離後對被黏物的污染增多。
此外，在表面保護膜的黏著劑層及剝離膜的剝離劑層這兩者中均不含抗靜電劑的比較例2的表面保護膜中，對被黏物的污染性良好，但是將表面保護膜從被黏物上剝離時的剝離靜電 壓增高。
即，在表面保護膜的黏著劑層中含有抗靜電劑的比較例1的表面保護膜、以及在表面保護膜的黏著劑層及剝離膜的剝離劑層中均不含抗靜電劑的比較例2的表面保護膜中，難以兼顧降低剝離靜電壓與對被黏物的污染性。
另一方面，在使剝離膜的剝離劑層中含有抗靜電劑與酯類增塑劑之後，只在黏著劑層的表面上轉印有剝離劑層的抗靜電劑與酯類增塑劑的實施例1~3的表面保護膜中，由於通過添加少量的酯類增塑劑，就具有剝離靜電壓的顯著降低效果，因此，無對被黏物的污染，抗剝離靜電性能也良好。
此外，在剝離劑層中只含有抗靜電劑而不含酯類增塑劑的比較例3的表面保護膜中，無對被黏物的污染，抗剝離靜電性能也良好。然而，若與在剝離劑層中含有抗靜電劑與酯類增塑劑的實施例1~3的表面保護膜相比，則剝離靜電壓增高。
【產業利用可能性】
本發明的表面保護膜在例如偏振片、相位差板、鏡片膜等光學用膜及其它各種光學元件的生產工序中，能夠貼合於該光學元件等的表面以保護表面。此外，本發明的表面保護膜可以較低地抑制將表面保護膜從被黏物上剝離時所產生的靜電壓量，並且抗剝離靜電性能的經時變化以及對被黏物的污染少，可以提高生產工序的成品率，在產業上的利用價值大。
1‧‧‧基材膜
2‧‧‧黏著劑層
3‧‧‧樹脂膜
4‧‧‧剝離劑層
5‧‧‧剝離膜
7‧‧‧抗靜電劑與酯類增塑劑
10‧‧‧表面保護膜

Claims (4)

  1. 一種表面保護膜，其通過在由具有透明性的樹脂所構成的一基材膜的一個面上形成一黏著劑層，並在該黏著劑層上貼合具有一剝離劑層的一剝離膜而成，其特徵在於：該剝離膜通過在一樹脂膜的一個面層疊該剝離劑層而成，其中，該剝離劑層含有以聚二甲基矽氧烷為主要成分的一剝離劑、不與該剝離劑反應的一抗靜電劑、及含有至少一個以上醚鍵的一酯類增塑劑，該抗靜電劑成分為熔點小於30℃的離子性化合物，該抗靜電劑成分與該酯類增塑劑從該剝離膜的該剝離劑層轉印到該黏著劑層的表面，降低將該黏著劑層從被黏物上剝離時的剝離靜電壓。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之所述的表面保護膜，其特徵在於，該黏著劑層通過使含有(甲基)丙烯酸酯共聚物與交聯劑的黏著劑組合物交聯而成。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述的表面保護膜，其特徵在於，將該剝離膜從該黏著劑層上剝離時的剝離力為0.2N/50mm以下。
  4. 一種光學元件，其通過貼合申請專利範圍第1~3項中任意一項所述的表面保護膜而成。
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