TW201738083A - 偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係一種偏光薄膜，其係透過接著劑層(a)及(b)於偏光件之兩面分別設置有透明保護薄膜者，並且一面之接著劑層(a)之玻璃轉移溫度為-60℃至未達40℃，另一面之接著劑層(b)之玻璃轉移溫度為40℃以上，接著劑層(a)係利用對活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)照射活性能量射線而成之硬化物層所形成者，活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)含有表示辛醇/水分配係數之logPow為-2～2之A成分與logPow大於7之B成分作為自由基聚合性化合物。

Description

偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置
發明領域 本發明係關於一種透過利用活性能量射線硬化型接著劑組成物所形成之接著劑層將偏光件與透明保護薄膜積層而成之偏光薄膜及其製造方法。該偏光薄膜可單獨、或作為積層有其之光學薄膜而形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置、CRT(cathode-ray tube，陰極射線管)、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示器)等影像顯示裝置。
發明背景 於鐘錶、行動電話、PDA(Personal Digital Assistant，個人數位助理)、筆記型電腦、電腦用顯示器、DVD(Digital Versatile Disc，數位多功能光碟)播放器、TV(television，電視)等中，液晶顯示裝置迅速地擴展市場。液晶顯示裝置係使因液晶切換形成之偏光狀態可見化者，根據該顯示原理而使用偏光件。尤其，於TV等用途中，愈加要求高亮度、高對比度、廣視角，對於偏光薄膜亦愈加要求高透過率、高偏光度、較高之色再現性等。
作為偏光件，就具有高透過率、高偏光度而言，最為普遍的是使用例如使碘吸附於聚乙烯醇(以下亦簡稱為「PVA」)並進行延伸之結構之碘系偏光件。一般而言，偏光薄膜係使用藉由將聚乙烯醇系材料溶解於水中而成之所謂水系接著劑而於偏光件之兩面貼合有透明保護薄膜者。作為透明保護薄膜，使用透濕度較高之三乙醯纖維素等。又，除三乙醯纖維素等以外，為了提昇顯示器之顯示品質，例如使用相位差薄膜等各種光學薄膜作為透明保護薄膜。
於製造偏光薄膜時，於使用如聚乙烯醇系接著劑般之水系接著劑之情形(所謂濕式層壓)時，將偏光件與透明保護薄膜貼合後，變得需要進行乾燥步驟。近年來，為了改善生產性，提出有使用無需乾燥步驟之活性能量射線硬化型接著劑代替水系接著劑之偏光薄膜(專利文獻1至4)。
於專利文獻1至3中，提出有使用以Tg(玻璃轉移溫度)成為60℃以上之方式設計之接著劑層的偏光薄膜，使用該接著劑層之偏光薄膜對於防止加熱、冷凍循環試驗(熱衝擊循環試驗)時之偏光件之龜裂有效。另一方面，於專利文獻4中，提出有使用Tg為-80℃～0℃之接著劑層之偏光薄膜，並記載有該偏光薄膜之偏光件與特定之保護薄膜之接著力、偏光薄膜之沖切加工性良好。 先前技術文獻專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2008-287207號公報 專利文獻2：日本專利特開2012-068593號公報專利文獻3：日本專利特開2012-144690號公報 專利文獻4：日本專利特開2010-282161號公報
發明概要 發明欲解決之課題但是，於專利文獻1～4所記載之技術中，由於無論構成積層偏光薄膜之各種薄膜之組合如何，接著力均變得不穩定，或者將接著劑塗佈於透明保護薄膜後，於表現出接著力之前需要時間等原因，故而偏光件與透明保護薄膜間之接著力及生產性存在問題。
且說，近年來之實際情況為，對於有機高分子材料，要求自相矛盾之特性之情況亦較多，單一之有機高分子材料難以滿足該要求特性。為了滿足自相矛盾之要求特性，於多數領域提出有於有機高分子材料中添加具有不同性質之異種材料而進行複合化之技術。於接著技術中，例如於使不同之2種被接著體接著之情形時，為了提高與各被接著體之接著性，考慮以成為雙層結構之方式形成接著劑層。但是，於將接著劑層形成為雙層結構之情形時，有應力集中於其界面，接著劑層之接著力降低之虞。
又，例如於選擇前述相位差薄膜作為被接著體之情形時，用以對分子配向之相位差薄膜表面賦予親和性之接著劑摻合設計與以提高耐衝擊性為目的之用以賦予低彈性之接著劑摻合設計完全不同。因此，為了使將接著劑組成物硬化而成之接著劑層表現出自相矛盾之兩種以上之特性，需要迄今為止尚未提出之新穎摻合構思。
本發明之目的在於提供一種可防止熱衝擊龜裂之產生，接著性、耐衝擊性及加熱彎曲性良好之偏光薄膜，及塗佈接著劑後至硬化為止之時間能夠縮短，生產性優異之偏光薄膜之製造方法。
進而，本發明之目的在於提供一種使用前述偏光薄膜之光學薄膜、進而使用前述偏光薄膜或光學薄膜之影像顯示裝置。 用以解決課題之手段
本發明人等為了解決上述課題而努力研究，發現藉由下述偏光薄膜等可解決上述課題，從而完成本發明。
即，本發明係關於一種偏光薄膜，其係透過接著劑層(a)及(b)於偏光件之兩面分別設置有透明保護薄膜者且，其特徵在於：一面之接著劑層(a)之玻璃轉移溫度為-60℃至未達40℃，另一面之接著劑層(b)之玻璃轉移溫度為40℃以上，前述接著劑層(a)係利用對活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)照射活性能量射線而成之硬化物層所形成者，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)含有表示辛醇/水分配係數之logPow為-2～2之A成分與logPow大於7之B成分作為自由基聚合性化合物。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述A成分宜含有選自於由(甲基)丙烯醯胺衍生物、含胺基單體及含有含氮雜環之乙烯基單體所構成群組中之至少一種含氮單體。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述B成分宜含有碳數14～20烷基(甲基)丙烯酸酯。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，將前述自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，前述A成分之比率宜為10重量%以上。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，將前述自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，前述B成分之比率宜為15重量%以上。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)宜進一步含有logPow大於2且為7以下之多官能自由基聚合性化合物。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述多官能自由基聚合性化合物宜為碳數7～12之伸烷基二(甲基)丙烯酸酯。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)除含有前述自由基聚合性化合物外，宜進一步含有使(甲基)丙烯酸系單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)宜含有具有羥基之自由基聚合性化合物。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)宜除含有前述自由基聚合性化合物外，還進一步含有矽烷偶合劑。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述矽烷偶合劑宜為不具有自由基聚合性官能基之矽烷偶合劑。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)宜含有具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物與具有奪氫作用之自由基聚合引發劑。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述活性亞甲基宜為乙醯乙醯基。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，具有前述活性亞甲基之自由基聚合性化合物宜為(甲基)丙烯酸乙醯乙醯氧基烷基酯。
於前述偏光薄膜中，前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述自由基聚合引發劑宜為9-氧硫𠮿系自由基聚合引發劑。
於前述偏光薄膜中，前述接著劑層(b)宜為於85℃下之儲存彈性模數為1.0×106 ～1.0×1010 Pa且厚度滿足0.03～3μm之接著劑層(b1)。
於前述偏光薄膜中，前述偏光件之厚度宜為1～10μm。
於前述偏光薄膜中，前述透明保護薄膜之至少單面的透明保護薄膜宜為相位差薄膜。
於前述偏光薄膜中，前述透明保護薄膜之至少單面的透明保護薄膜的表示辛醇/水分配係數之logPow宜為-2～2。
於前述偏光薄膜中，前述透明保護薄膜宜為滿足下述式(1)～(3)之反波長分散型相位差薄膜： 0.70＜Re[450]/Re[550]＜0.97・・・(1)1.5×10-3 ＜Δn＜6×10-3 ・・・(2)1.13＜NZ＜1.50・・・(3)(式中，Re[450]及Re[550]分別為於23℃下利用波長450nm及550nm之光所測得的相位差薄膜之面內相位差值；Δn為相位差薄膜的面內雙折射，即係將相位差薄膜之遲相軸方向、進相軸方向之折射率分別設為nx、ny時之nx－ny；NZ為將nz作為相位差薄膜厚度方向之折射率時，厚度方向雙折射nx－nz與面內雙折射nx－ny之比)。
於前述偏光薄膜中，將前述偏光件與前述透明保護薄膜強制剝離時，前述接著劑層(a)宜發生內聚破壞。
於前述偏光薄膜中，將前述偏光件與前述透明保護薄膜強制剝離時之層間接著力宜為0.9N/15mm以上。
又，本發明係關於一種偏光薄膜之製造方法，其係製造如前述任一項所記載之偏光薄膜，且該製造方法之特徵在於包括如下步驟：第1塗敷步驟，係於前述偏光件及一前述透明保護薄膜之至少一面上塗敷用來形成前述接著劑層(b)之接著劑組成物(b)；第1貼合步驟，係將前述偏光件與前述透明保護薄膜貼合；第1接著步驟，係透過藉由使前述接著劑組成物(b)硬化而獲得之接著劑層(b)，使前述偏光件與一前述透明保護薄膜接著；第2塗敷步驟，係於前述偏光件及另一前述透明保護薄膜之至少一面上塗敷前述用來形成接著劑層(a)之活性能量射線接著劑組成物(a)；第2貼合步驟，係將前述偏光件與前述透明保護薄膜貼合；及第2接著步驟，係透過接著劑層(a)接著前述偏光件與另一前述透明保護薄膜，且該接著劑層(a)係藉由照射前述活性能量射線使前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)硬化而獲得。前述偏光薄膜之製造方法亦可為如下之偏光薄膜之製造方法，其特徵在於包括如下步驟：塗敷步驟，係於前述偏光件及一前述透明保護薄膜之至少一面上塗敷用來形成前述接著劑層(b)之活性能量射線硬化型接著劑組成物(b)；塗敷步驟，係於前述偏光件及另一前述透明保護薄膜之至少一面上塗敷形成前述接著劑層(a)之活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)；貼合步驟，係將前述偏光件與前述透明保護薄膜貼合；及接著步驟，係透過接著劑層(a)及接著劑層(b)接著前述偏光件與前述透明保護薄膜，且該接著接著劑層(a)及接著劑層(b)係藉由照射前述活性能量射線使前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)及(b)硬化而獲得。
於前述偏光薄膜之製造方法中，前述活性能量射線之波長範圍380～440nm之累計照度與波長範圍250～370nm之累計照度的比宜為100：0～100：50。
進而，本發明係關於特徵在於積層有至少1片如前述任一項所記載之偏光薄膜的光學薄膜，或關於特徵在於使用有如前述任一項所記載之偏光薄膜、或如前述所記載之光學薄膜的影像顯示裝置。 發明效果
本發明之偏光薄膜係透過利用活性能量射線硬化型接著劑組成物所形成之接著劑層而於偏光件之兩面設置有透明保護薄膜，於一面透過玻璃轉移溫度(以下亦稱為Tg)為-60℃至未達40℃之低Tg之接著劑層(a)而設置有透明保護薄膜，另一方面，於另一面，透過玻璃轉移溫度為40℃以上之高Tg之接著劑層(b)而設置有透明保護薄膜。高Tg之接著劑層(b)可防止偏光件與兩側之透明保護薄膜之熱衝擊龜裂之產生，又，低Tg之接著劑層(a)使對於墜落試驗中之剝離之耐久性變得良好。如此，於本發明之偏光薄膜中，可提供一種藉由在偏光件之兩側設置玻璃轉移溫度不同之接著劑層(a)及(b)而可防止熱衝擊龜裂之產生，且對於墜落試驗中之剝離之耐久性良好之偏光薄膜。
進而，於本發明中，形成-60℃至未達40℃之低Tg之接著劑層(a)的活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)含有表示辛醇/水分配係數之logPow為-2～2之A成分與logPow大於7之B成分作為自由基聚合性化合物。其結果為，對於作為不同之2種被接著體之偏光件及透明保護薄膜中之任一者，接著劑層(a)之接著性均提高。獲得該效果之原因雖不明確，但可作如下推斷。
為了使不同之2種被接著體接著，將接著劑層形成為雙層結構就提高與兩被接著體之接著力之觀點而言有利，但因接著劑層內之界面剝離等，反而有接著力降低之虞。於本發明中，所使用之活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)含有logPow適度不同之A成分及B成分，藉此所形成之接著劑層(a)可成為於厚度方向上成分濃度比不均勻分佈之傾斜結構。具體而言，例如於兩被接著體之logPow之差較大之情形時，藉由使對於一被接著體親和性較高之成分(例如A成分)偏析於該被接著體側，而可成為於厚度方向上成分濃度比不均勻分佈之傾斜結構。或者於兩被接著體之logPow之差較小或大致相同之情形時，藉由使對於兩被接著體親和性較高之成分(例如A成分)偏析於接著劑層(a)之兩被接著體側(厚度方向兩外側)，而可成為於厚度方向上成分濃度比不均勻分佈之傾斜結構。其結果為，對於作為不同之2種被接著體之偏光件及透明保護薄膜之任一者，接著劑層(a)之接著性均提高。
例如於接著劑層(a)為使作為透明保護薄膜之相位差薄膜與偏光件接著者之情形時，一般而言，相位差薄膜與偏光件之logPow之差較小，且表示與A成分之logPow相近之值。於該情形時，接著劑層(a)中，A成分偏析於相位差薄膜側及偏光件側之兩者，分別於與接著劑層(a)之界面形成增黏層，藉此可迅速地表現出對於相位差薄膜及偏光件之牢固之密接力，接著劑層與相位差薄膜層、及接著劑層與偏光件之間之接著性提高。A成分向相位差薄膜側及偏光件側之偏析(增黏層形成)係藉由如下方式實現，即，存在藉由與A成分適度地相分離而能夠形成傾斜結構之B成分。另一方面，B成分本身與相位差薄膜及偏光件分離且於厚度方向上較多地偏析於接著劑層(a)之中央附近，較大地有助於提昇源自B成分之特有之效果、例如提昇接著劑層(a)之耐衝擊性、加熱彎曲性等。
進而，關於製造本發明之偏光薄膜時所使用之活性能量射線硬化型接著劑組成物，尤其對於某被接著體，A成分或B成分中之親和性較高之成分迅速地偏析於被接著體側，成為能夠形成偏析層之摻合設計，因此於使用其之偏光薄膜之製造方法中，即便縮短塗敷組成物後至照射活性能量射線前之時間，亦表現出較高之接著性。因此，於本發明之偏光薄膜之製造方法中，偏光薄膜之生產性優異。
用以實施發明之形態 以下，一面參照圖式一面對本發明之偏光薄膜之實施形態進行說明。
圖1至圖3係表示本發明之偏光薄膜之一實施形態之剖視圖。圖1所示之偏光薄膜(P1)係透過接著劑層(a)而於偏光件(1)之單面設置有透明保護薄膜(3a)，透過接著劑層(b)而於偏光件(1)之另一單面設置有透明保護薄膜(3b)。接著劑層(a)及(b)均利用對活性能量射線硬化型接著劑組成物照射活性能量射線而成之硬化物層所形成。
又，前述接著劑層(a)之玻璃轉移溫度為-60℃至未達40℃，且形成前述接著劑層(a)之活性能量射線硬化型接著劑組成物(a) 含有自由基聚合性化合物作為硬化性成分。該接著劑層(a)之對於墜落試驗中之剝離之耐久性良好。接著劑層(a)之玻璃轉移溫度較佳為-40℃～0℃，更佳為-30℃～-5℃，尤佳為-30℃～-10℃時，對於墜落試驗中之剝離之耐久性良好。
前述接著劑層(b)之玻璃轉移溫度為40℃以上，偏光件(1)與透明保護薄膜(3b)透過接著劑層(b)而牢固地接著，耐久性良好，可防止熱衝擊龜裂之產生。所謂「熱衝擊龜裂」係指例如偏光件收縮時於延伸方向裂開之現象，為了防止該現象，重要的是於熱衝擊溫度範圍(-40℃～60℃)內抑制偏光件之膨脹、收縮。接著劑層(b)可抑制熱衝擊溫度範圍內之接著劑層之急遽之彈性模數變化，降低作用於偏光件之膨脹、收縮力，因此可防止熱衝擊龜裂之產生。接著劑層(b)係以玻璃轉移溫度成為30℃以上之方式選擇，進而較佳為60℃以上，進而較佳為70℃以上，進而較佳為80℃以上。另一方面，若接著劑層(b)之玻璃轉移溫度變得過高，則偏光板之彎曲性降低，因此接著劑層(b)之玻璃轉移溫度較佳為300℃以下，進而較佳為240℃以下，進而較佳為180℃以下。又，就本發明之效果之方面而言，前述接著劑層(a)之玻璃轉移溫度與前述接著劑層(b)之玻璃轉移溫度較佳為使該等之玻璃轉移溫度之差成為60℃以上。
本發明之偏光薄膜(P1)若透過接著劑層(a)而於偏光件(1)之一面設置透明保護薄膜(3a)，透過接著劑層(b)而於偏光件(1)之另一面設置透明保護薄膜(3b)，則亦可於前述透明保護薄膜(3a)及透明保護薄膜(3b)之任一者之側進一步透過接著劑層設置偏光件以外之光學薄膜(3c)。作為偏光件以外之光學薄膜，例如可列舉相位差薄膜(包含1/2或1/4等之波長板)、視覺補償薄膜、增亮薄膜、反射板或反透過板等有時用於形成液晶顯示裝置等之成為光學層者。於圖2中，於圖1之偏光薄膜(P1)之透明保護薄膜(3a)之側進一步設置有偏光件以外之光學薄膜(3c)，於圖3中，於圖1之偏光薄膜(P1)之透明保護薄膜(3b)之側進一步設置有偏光件以外之光學薄膜(3c)。作為前述光學薄膜(3c)之積層所使用之接著劑層，適宜為利用對活性能量射線硬化型接著劑組成物照射活性能量射線而成之硬化物層所形成之接著劑層(a')。接著劑層(a')可使用與前述接著劑層(a)相同者。作為偏光件以外之光學薄膜(3c)，可適宜地使用相位差薄膜。再者，於圖2、圖3中，透過接著劑層(a')設置有1片透明保護薄膜(3c)，但可於本發明之偏光薄膜之前述透明保護薄膜(3a)及透明保護薄膜(3b)之任一者之側，例如將接著劑層(a')與偏光件以外之光學薄膜(3c)加以組合，而積層2片以上偏光件以外之光學薄膜(3c)。
前述接著劑層(a)可利用活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)之硬化物層所形成。以下，對本發明中能夠使用之活性能量射線硬化型接著劑組成物進行說明。
能夠形成前述接著劑層(a)之活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)可使用電子束硬化型、紫外線硬化型接著劑。作為紫外線硬化型接著劑，大致可分為自由基聚合硬化型接著劑與陽離子聚合型接著劑。
作為自由基聚合硬化型接著劑之硬化性成分，可列舉具有(甲基)丙烯醯基之化合物、具有乙烯基之自由基聚合性化合物。該等硬化性成分可使用單官能或二官能以上之多官能之任一者。又，該等硬化性成分可單獨使用1種，或者可組合2種以上而使用。作為該等硬化性成分，例如適宜為具有(甲基)丙烯醯基之化合物。
作為陽離子聚合硬化型接著劑之硬化性成分，可列舉具有環氧基、氧雜環丁烷基、或乙烯基之化合物。具有環氧基之化合物只要為於分子內具有至少1個環氧基者，則無特別限定，可使用一般周知之各種硬化性環氧化合物。作為較佳之環氧化合物，可列舉於分子內具有至少2個環氧基與至少1個芳香環之化合物(以下稱為「芳香族系環氧化合物」)、或於分子內具有至少2個環氧基且其中至少1個形成於構成脂環式環之相鄰之2個碳原子之間的化合物等作為例子。
前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)係使用實質上不含有機溶劑且黏度1～100cp/25℃之液狀物。藉由使用該液狀物，可形成厚度為0.1～5μm之薄層之接著劑層(a)。接著劑層(a)之形成使用前述液狀物之接著劑之方面與黏著劑層之形成所使用之黏著劑不呈液狀物之方面不同，就該方面而言，接著劑層與黏著劑層之差異顯而易見。前述黏度較佳為5～100cp/25℃，進而較佳為10～70cp/25℃。前述所謂「實質上不含有機溶劑」，係指活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)相對於活性能量射線硬化型接著劑組成物之總量，可於10重量%以下之範圍含有有機溶劑。再者，有機溶劑之含量較佳為5重量%以下，進而較佳為3重量%以下。此處所謂有機溶劑係指引火點40℃以下之液體。活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)亦可不含有機溶劑。
＜logPow為-2～2之A成分＞ 能夠形成前述接著劑層(a)之活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)含有logPow為-2～2之A成分。
辛醇/水分配係數(logPow)係表示物質之親油性之指標，意指辛醇/水之分配係數之對數值。logPow較高意味著為親油性，即意味著吸水率較低。logPow值可進行測定(JIS-Z-7260所記載之燒瓶浸透法)，亦可藉由計算而算出。於本說明書中，使用藉由Cambridge Soft公司製造之Chem Draw Ultra所計算出之logPow值。
作為logPow為-2～2之A成分，可任意地使用自由基聚合性化合物中之logPow為-2～2之化合物，作為A成分，尤佳為具有極性基者，較佳為含有選自於由(甲基)丙烯醯胺衍生物、含胺基單體及含有含氮雜環之乙烯基單體所構成群組中之至少一種含氮單體，進而較佳為(甲基)丙烯醯胺衍生物。具體而言，例如可列舉：羥乙基丙烯醯胺(LogPow：-0.56)、N-羥甲基丙烯醯胺(LogPow：-0.94)等含羥基之烷基丙烯醯胺；丙烯醯嗎啉(LogPow：-0.2)等環狀醯胺化合物；N-甲氧基甲基丙烯醯胺(LogPow：0.08)等烷氧基烷基丙烯醯胺；N-乙烯基-2-吡咯啶酮(LogPow：-0.24)等含雜環化合物；二甲基胺基乙基丙烯醯胺(LogPow：-0.04)等含胺基單體；丙烯酸二甲基胺基乙酯(LogPow：0.64)等含有含氮丙烯醯基之單體；二乙基丙烯醯胺(LogPow：1.69)、二甲基丙烯醯胺(LogPow：-0.58)等二烷基(甲基)丙烯醯胺；N-乙烯基甲醯胺(商品名「Beamset 770」，荒川化學公司製造，LogPow：-0.25)、γ-丁內酯丙烯酸酯(商品名「GBLA」，大阪有機化學工業公司製造，LogPow：0.19)、丙烯酸(LogPow：0.69)、丙烯酸二聚物(商品名「β-CEA」，Daicel公司製造，LogPow：0.2)、丙烯酸2-羥乙酯(商品名「HEA」，大阪有機化學工業公司製造，LogPow：0.28)、丙烯酸4-羥丁酯(商品名「4-HBA」，大阪有機化學工業公司製造，LogPow：0.68)、甲基丙烯酸縮水甘油酯(商品名「Lightester G」，共榮社化學製造，LogPow：0.57)、四氫呋喃甲醇丙烯酸酯多聚物(商品名「Viscoat＃150D」，大阪有機化學工業公司製造，LogPow：0.60)等。其中，較佳為丙烯醯嗎啉、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、二乙基丙烯醯胺、二甲基丙烯醯胺。
若前述A成分之logPow值未達-2，則變得難以與B成分共存，兩者完全進行相分離，結果接著劑組成物液之穩定性變得不足。若前述A成分之logPow值大於2，則產生與B成分之親和性，變得難以產生A成分向薄膜界面側之偏析，接著性降低，故而欠佳。
A成分之logPow值較佳為-1.5～1.5，更佳為-1.0～1.0。
前述單體A之比率於將自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，較佳為10重量%以上，更佳為15重量%以上，進而較佳為20重量%以上。將前述比率設為10重量%以上於積極地產生A成分向薄膜界面側之偏析之方面較佳。
＜logPow大於7之B成分＞ 能夠形成前述接著劑層(a)之活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)除含有logPow為-2～2之A成分以外，亦含有logPow大於7之B成分。
作為B成分，較佳為碳數14以上烷基(甲基)丙烯酸酯。作為前述烷基，可例示：異肉豆蔻基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、硬脂基、異硬脂基等。具體而言，可列舉：丙烯酸異硬脂酯(商品名ISTA，大阪有機化學公司製造，LogPow：7.5)、甲基丙烯酸異硬脂酯(LogPow：7.8)等烷基(甲基)丙烯酸酯單體。其中，就不使接著劑層(a)之玻璃轉移點過高之方面而言，較佳為支鏈型之長鏈烷基(甲基)丙烯酸酯單體。具體而言，較佳為丙烯酸異硬脂酯。
若前述B成分之logPow值未達7，則產生與A成分之親和性，難以產生A成分向薄膜界面側之偏析，接著性降低，故而欠佳。
前述B成分之比率於將自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，較佳為15重量%以上，更佳為25重量%以上，進而較佳為35重量%以上。將前述比率設為15重量%以上於積極地產生A成分向薄膜界面側之偏析之方面較佳。
進而，於本發明中，亦可含有logPow值為2～7之自由基聚合性化合物。具體而言，例如可列舉：丙烯酸二環戊烯基酯(商品名「Fancryl FA-511AS」，LogPow：2.26)、丙烯酸丁酯(商品名「Butyl Acrylate」，三菱化學公司製造，LogPow：2.35)、丙烯酸二環戊基酯(商品名「Fancryl FA-513AS」，日立化成公司製造，丙烯酸異酯(商品名「Light acrylate IB-XA」，共榮社化學公司製造，LogPow：3.27)、羥基新戊酸新戊二醇丙烯酸酯加成物(商品名「Light acrylate HPP-A」，共榮社化學公司製造，LogPow：3.35)、鄰苯基苯酚EO改質丙烯酸酯(商品名「Fancryl FA-301A」，日立化成公司製造，LogPow：3.98)等。於該等中，於本發明中亦較佳為使用丙烯酸丁酯。
為了提高接著劑層之接著力，將前述自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，logPow為2～7之成分之含量較佳為2～60重量%，更佳為3～40重量%。
＜多官能自由基聚合性化合物＞ 多官能自由基聚合性化合物係具有至少2個(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之自由基聚合性官能基的化合物。作為多官能自由基聚合性化合物，例如可列舉：四乙二醇二丙烯酸酯(均聚物之Tg：50℃，以下僅記載為Tg)、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二丙烯酸酯(n=3，Tg69℃)、(n=7，Tg：-8℃)、(n=12，Tg：-32℃)等聚伸烷基二醇系二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯(Tg：117℃)、3-甲基-1,5-戊二醇二丙烯酸酯(Tg：105℃)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(Tg：63℃)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(Tg：68℃)、2-甲基-1,8-辛二醇二丙烯酸酯與1,9-壬二醇二丙烯酸酯之混合物(Tg：88℃)、二羥甲基三環癸烷二丙烯酸酯(Tg：75℃)、雙酚A之EO加成物二丙烯酸酯(Tg：75℃)、雙酚F之EO改質(n=2)二丙烯酸酯(Tg：75℃)、雙酚A之EO改質(n=2)二丙烯酸酯(Tg：75℃)、異三聚氰酸EO改質二丙烯酸酯(Tg：166℃)、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(Tg：250℃以上)、三羥甲基丙烷PO改質三丙烯酸酯(n=1，Tg：120℃)、(n=2，Tg：50℃)、三羥甲基丙烷EO改質三丙烯酸酯(n=1，Tg未測定)、(n=2，Tg：53℃)、異三聚氰酸EO改質二及三丙烯酸酯(二：30-40%，Tg：250℃以上)、(二：3-13%，Tg：250℃以上)、新戊四醇三及四丙烯酸酯(三：65-70%，Tg：250℃以上)、(三：55-63%，Tg：250℃以上)、(三：40-60%，Tg：250℃以上)、(三：25-40%，Tg：250℃以上)、(三：未達10%，Tg：250℃以上)、二(三羥甲基丙烷)四丙烯酸酯(Tg：250℃以上)、二新戊四醇五及六丙烯酸酯(五：50-60%，Tg：250℃以上)、(五：40-50%，Tg：250℃以上)、(五：30-40%，Tg：250℃以上)、(五：25-35%，Tg：250℃以上)、(五：10-20%，Tg：250℃以上)、及與其等對應之(甲基)丙烯酸酯。此外，可列舉各種聚(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯或聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚環氧(甲基)丙烯酸酯等寡聚物(甲基)丙烯酸酯等。再者，作為多官能自由基聚合性化合物(A)，亦可適宜地使用市售品，例如可列舉：Light acrylate 4EG-A、Light acrylate 9EG-A、Light acrylate NP-A、Light acrylate MPD-A、Light acrylate 1.6HX-A、Light acrylate 1.9ND-A、Light acrylate MOD-A、Light acrylate DCP-A、Light acrylate BP-4EAL以上(共榮社化學公司製造)、Aronix M-208、M-211B、M-215，M-220、M-225、M-270、M-240、M-309、M-310、M-321、M-350、M-360、M-313、M-315、M-306、M-305、M-303、M-452、M-450、M-408、M-403、M-400、M-402、M-404、M-406、M-405、M-1100、M-1200、M-6100、M-6200、M-6250、M-6500、M-7100、M-7300、M-8030、M-8060、M-8100、M-8530、M-8560、M-9050(東亞合成公司製造)、SR-531(SARTOMER公司製造)、CD-536(SARTOMER公司製造)等。多官能自由基聚合性化合物(A)較佳為均聚物之Tg滿足-40～100℃者。
多官能自由基聚合性化合物之比率於將活性能量射線硬化型接著劑中之自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，較佳為1～65重量%。將前述比率設為1重量%以上時，於滿足接著劑層(a)之耐衝擊性、加熱彎曲性、接著耐久性、偏光件龜裂之方面較佳。
又，前述多官能自由基聚合性化合物中，於使用logPow大於2且為7以下之多官能自由基聚合性化合物之情形時，前述A成分及B成分之相分離得到抑制，接著劑組成物之液體穩定性提高，故而較佳。logPow大於2且為7以下之多官能自由基聚合性化合物可任意地使用前述所記載之多官能自由基聚合性化合物中之logPow大於2且為7以下之化合物，較佳為碳數7～12之伸烷基二(甲基)丙烯酸酯，具體而言，例如可列舉1,9-壬二醇二丙烯酸酯(商品名「Light acrylate 1,9ND-A」，共榮社化學公司製造，logPow：3.68)等。logPow大於2且為7以下之多官能自由基聚合性化合物之比率於將自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，較佳為2～35重量%，更佳為4～25重量%，進而較佳為6～15重量%。
＜具有碳數2～13之烷基之烷基(甲基)丙烯酸酯＞ 活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)可含有具有碳數2～13之烷基之烷基(甲基)丙烯酸酯作為自由基聚合性化合物之單官能自由基聚合性化合物。作為烷基(甲基)丙烯酸酯，可例示直鏈狀或支鏈狀之烷基之碳數為1～13者。例如，作為前述烷基，可例示：甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基等。該等可單獨使用或組合使用。烷基(甲基)丙烯酸酯之烷基之碳數較佳為3～13。烷基(甲基)丙烯酸酯就對於墜落試驗中之剝離之耐久性、耐水性之方面而言，較佳為均聚物之Tg滿足-80～60℃者。例如，較佳為使用丙烯酸甲酯(Tg：8℃)、丙烯酸乙酯(Tg：-20℃)、丙烯酸正丙酯(Tg：8℃)、丙烯酸正丁酯(Tg：-45℃)、丙烯酸異丁酯(Tg：-26℃)、丙烯酸第三丁酯(Tg：14℃)、丙烯酸異戊酯(Tg：-45℃)、丙烯酸環己酯(Tg：8℃)、丙烯酸2-乙基己酯(Tg：-55℃)、丙烯酸正辛酯(Tg：-65℃)、丙烯酸異辛酯(Tg：-58℃)、丙烯酸異壬酯(Tg：-58℃)、丙烯酸月桂酯(Tg：15℃)等丙烯酸烷基酯。
＜具有羥基之自由基聚合性化合物＞ 本發明之活性能量射線硬化型接著劑組成物含有具有羥基之(甲基)丙烯酸酯作為自由基聚合性化合物之單官能自由基聚合性化合物。作為具有羥基之(甲基)丙烯酸酯，可使用具有(甲基)丙烯醯基及羥基者。作為具有羥基之(甲基)丙烯酸酯之具體例，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯等烷基之碳數為2～12之(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、或丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯等含有脂環骨架之含羥基單體、或丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯(商品名：Aronix M5700，東亞合成公司製造)等含有芳香環之含羥基單體等。具有羥基之(甲基)丙烯酸酯就對於墜落試驗中之剝離之耐久性之方面而言，較佳為均聚物之Tg滿足-80～40℃者。例如，較佳為使用丙烯酸羥乙酯(Tg：-15℃)、丙烯酸羥丙酯(Tg：-7℃)、丙烯酸羥丁酯(Tg：-32℃)等。
作為前述具有羥基之(甲基)丙烯酸酯，可使用羥基與(甲基)丙烯醯基之間之鏈長較長者。藉由使羥基與(甲基)丙烯醯基之間之鏈長較長，羥基更容易配向於被接著薄膜，於更有效地藉由羥基之極性而賦予接著性之方面較佳。作為具有羥基，且羥基與(甲基)丙烯醯基之間之鏈長較長的具有羥基之(甲基)丙烯酸酯，較佳為重量平均分子量為160～3000之含羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯。上述含羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯之重量平均分子量更佳為200～2000，最佳為300～1000。關於重量平均分子量為160～3000之含羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯，較佳為羥基與(甲基)丙烯醯基之間之鏈長較長，較佳為羥基與(甲基)丙烯醯基處於兩末端(尤其線性結構)。
於前述具有羥基之(甲基)丙烯酸酯之重量平均分子量過大之情形時，活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)之黏度變高，塗佈厚度變得不均勻而產生外觀不良，或於貼合步驟中進入氣泡而產生外觀不良，故而欠佳。又，由於羥基數相對地減少，故而變得難以獲得藉由羥基之極性而賦予接著性之效果，故而欠佳。作為重量平均分子量為160～3000之含羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯，可列舉：前述之羥基(甲基)丙烯酸烷基酯中重量平均分子量滿足160～3000者、聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇-聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等聚伸烷基二醇單(甲基)丙烯酸酯、或前述之羥基(甲基)丙烯酸烷基酯或丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯之己內酯改質物等。作為己內酯改質物，適宜為使用(甲基)丙烯酸羥乙酯之己內酯加成物，己內酯之加成量尤佳為1～5莫耳。
具有羥基之(甲基)丙烯酸酯之比率於將活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中之自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，就滿足耐衝擊性、加熱彎曲性之觀點而言，較佳為以70重量%以下之比率使用。於前述比率較多之情形時，羥基之親水性之影響變大，加濕環境下之剝離等耐水性劣化，故而欠佳。於使用(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、或丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯作為具有羥基之(甲基)丙烯酸酯之情形時，前述比率較佳為10～60重量%，進而較佳為20～50重量%。又，於使用重量平均分子量為160～3000之含羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯作為具有羥基之(甲基)丙烯酸酯之情形時，將活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中之自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，較佳為1～70重量%，更佳為30～60重量%。
活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)較佳為含有下述通式(I)： [化學式1]所表示之化合物(其中，X為含有反應性基之官能基，R1 及R2 分別表示氫原子)作為具有羥基之自由基聚合性化合物。於活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)含有通式(I)所記載之化合物之情形時，硬化後所形成之接著劑層與偏光件或實施過活性處理之透明保護薄膜之間之接著耐水性極度飛躍性地提高。
通式(I)所表示之化合物所具有之X係含有反應性基且可與接著劑組成物中所含之其他硬化性成分進行反應之官能基，作為X所含有之反應性基，例如可列舉：羥基、胺基、醛、羧基、乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基等。於本發明中所使用之接著劑組成物為活性能量射線硬化性之情形時，X所含有之反應性基較佳為選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基及巰基所構成群組中之至少一種反應性基，尤其接著劑組成物為自由基聚合性之情形時，X所含有之反應性基較佳為選自於由(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基及(甲基)丙烯醯胺基所構成群組中之至少一種反應性基，於通式(I)所表示之化合物具有(甲基)丙烯醯胺基之情形時，反應性較高，與活性能量射線接著劑組成物之共聚合率提高，故而更佳。又，由於(甲基)丙烯醯胺基之極性較高，接著性優異，故而就有效率地獲得本發明之效果之方面而言亦較佳。於本發明中所使用之接著劑組成物為陽離子聚合性之情形時，X所含有之反應性基較佳為具有選自於羥基、胺基、醛、羧基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、巰基中之至少一個官能基，尤其於具有環氧基之情形時，所獲得之硬化性樹脂層與被接著體之密接性優異，故而較佳，於具有乙烯基醚基之情形時，接著劑組成物之硬化性優異，故而較佳。
作為通式(I)所表示之化合物之較佳之具體例，可列舉X為含有經由伸苯基或伸烷基而鍵結於硼原子之反應性基之官能基的以下之化合物(Ia)～(Id)。 [化學式2]
本發明中，通式(I)所表示之化合物亦可為反應性基與硼原子直接鍵結者，較佳為如前述具體例所示，通式(I)所表示之化合物為反應性基與硼原子經由伸苯基或伸烷基而鍵結者，即，X為含有經由伸苯基或伸烷基而鍵結於硼原子之反應性基之官能基。於通式(I)所表示之化合物為例如經由鍵結於硼原子之氧原子而與反應性基鍵結者之情形時，使含有其之接著劑組成物硬化而獲得之接著劑層有接著耐水性劣化之傾向。另一方面，於通式(I)所表示之化合物為藉由硼原子與伸苯基或伸烷基進行鍵結而具有硼-碳鍵且含有反應性基者而非具有硼-氧鍵者之情形時，接著耐水性提高，故而較佳。進而，於本發明中，即便通式(I)所表示之化合物為反應性基與硼原子經由可具有取代基之碳數1～20之有機基進行鍵結而成者，硬化後所獲得之接著劑層之接著耐水性亦仍會提高，故而較佳。所謂可具有取代基之碳數1～20之有機基，例如可列舉：碳數1～20之可具有取代基之直鏈或支鏈之伸烷基、碳數3～20之可具有取代基之環狀伸烷基、碳數6～20之可具有取代基之伸苯基、碳數10～20之可具有取代基之伸萘基等。
作為通式(I)所表示之化合物，除前述例示之化合物以外，亦可例示羥乙基丙烯醯胺與硼酸之酯、羥甲基丙烯醯胺與硼酸之酯、丙烯酸羥乙酯與硼酸之酯、及丙烯酸羥丁酯與硼酸之酯等(甲基)丙烯酸酯與硼酸之酯。
就偏光件與硬化性樹脂層之接著性及耐水性提高、尤其透過接著劑層將偏光件與透明保護薄膜接著之情形時之接著性及耐水性提高之見解而言，接著劑組成物(a)中，通式(I)所記載之化合物之含量較佳為0.001～50重量%，更佳為0.1～30重量%，最佳為1～10重量%。
活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)較佳為含有下述通式(II)： [化學式3](其中，X為含有選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基及巰基所構成群組中之至少一種反應性基之官能基，R1 及R2 分別表示氫原子)所表示之化合物作為具有羥基之自由基聚合性化合物。於活性能量射線硬化型接著劑組成物含有通式(II)所記載之化合物之情形時，硬化後所形成之接著劑層與偏光件或實施過活性處理之透明保護薄膜之間之接著耐水性極度飛躍性地提高。作為前述脂肪族烴基，可列舉：碳數1～20之可具有取代基之直鏈或支鏈之烷基、碳數3～20之可具有取代基之環狀烷基、碳數2～20之烯基，作為芳基，可列舉：碳數6～20之可具有取代基之苯基、碳數10～20之可具有取代基之萘基等，作為雜環基，例如可列舉：含有至少一個雜原子之可具有取代基之五員環或六員環之基。該等亦可相互連結而形成環。
通式(II)所表示之化合物所具有之官能基X含有反應性基，作為該反應性基，例如可列舉羥基、胺基、醛、羧基、乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基等。於本發明中所使用之硬化性樹脂組成物為活性能量射線硬化性之情形時，反應性基X較佳為選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基及巰基所構成群組中之至少一種反應性基，尤其於硬化性樹脂組成物為自由基聚合性之情形時，反應性基X較佳為選自於由(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基及(甲基)丙烯醯胺基所構成群組中之至少一種反應性基，於通式(II)所表示之化合物具有(甲基)丙烯醯胺基之情形時，反應性較高，與活性能量射線硬化性樹脂組成物之共聚合率提高，故而更佳。又，由於(甲基)丙烯醯胺基之極性較高，接著性優異，故而就有效率地獲得本發明之效果之方面而言亦較佳。於本發明中所使用之硬化性樹脂組成物為陽離子聚合性之情形時，反應性基X較佳為具有選自於羥基、胺基、醛、羧基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、巰基中之至少一個官能基，尤其於具有環氧基之情形時，所獲得之硬化性樹脂層與被接著體之密接性優異，故而較佳，於具有乙烯基醚基之情形時，硬化性樹脂組成物之硬化性優異，故而較佳。
於通式(II)所表示之化合物所具有之官能基X為下述通式(III)： [化學式4](其中，R3 為氫原子或甲基，n為1～4之整數)所表示之官能基之情形時，使該含有交聯劑之硬化性樹脂組成物硬化而獲得之硬化性樹脂層與聚乙烯醇等水溶性樹脂之相溶性優異，可高效率地進行(甲基)丙烯醯基等活性能量射線硬化性官能基向水溶性樹脂之導入，並且以與水溶性樹脂接觸之方式配設該含有交聯劑之硬化性樹脂層之情形時，其接著性優異。通式(III)中，R3 為氫原子或甲基，就硬化性優異之方面而言，R3 較佳為氫原子。又，通式(III)中，n較佳為1～4。於n為5以上之情形時，與水溶性樹脂之相溶性降低而變得難以獲得作為本發明之效果之水溶性樹脂之交聯結構，或交聯點間距離變長而變得難以獲得耐水化之效果，故而欠佳。作為通式(III)所表示之化合物，尤其適宜為羥乙基丙烯醯胺與硼酸之酯、羥甲基丙烯醯胺與硼酸之酯。
又，於通式(II)所表示之化合物所具有之官能基X為下述通式(IV)： [化學式5](其中，R3 為氫原子或甲基，m為1～4之整數)所表示之官能基之情形時，亦與前述同樣地，使該含有交聯劑之硬化性樹脂組成物硬化而獲得之硬化性樹脂層與聚乙烯醇等水溶性樹脂之相溶性優異，可高效率地進行(甲基)丙烯醯基等活性能量射線硬化性官能基向水溶性樹脂之導入，並且以與水溶性樹脂接觸之方式配設該含有交聯劑之硬化性樹脂層之情形時，其接著性優異。通式(IV)中，R3 為氫原子或甲基，就硬化性優異之方面而言，R3 較佳為氫原子。又，通式(3)中，n較佳為1～4。於n為5以上之情形時，與水溶性樹脂之相溶性降低而變得難以獲得作為本發明之效果之水溶性樹脂之交聯結構，或交聯點間距離變長而變得難以獲得耐水化之效果，故而欠佳。作為通式(3)所表示之化合物，尤其適宜為丙烯酸羥乙酯與硼酸之酯、丙烯酸羥丁酯與硼酸之酯。
使通式(II)所表示之化合物含有於硬化性樹脂組成物中，用作水溶性樹脂薄膜之接著劑時，較佳為於樹脂組成物中含有0.01重量%以上之通式(II)所表示之化合物，較佳為含有1重量%以上。關於通式(II)所表示之化合物，硼酸基對水溶性樹脂薄膜之表面發揮作用，因此以非常少之添加量便可表現出使密接性提高之效果，於含有比率過少之情形時，變得難以獲得使密接性提高之效果。作為硬化性樹脂組成物中之通式(II)所表示之化合物之上限，例如可例示80重量%，較佳為50重量%以下，更佳為30重量%以下，最佳為10重量%以下。再者，通式(II)所表示之化合物亦可單獨用作水溶性樹脂薄膜之接著劑。
＜重量平均分子量之測定＞ 上述含羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯之重量平均分子量可藉由GPC(凝膠滲透層析法)而進行測定。・檢測器：示差折射計(RI)・標準試樣：聚苯乙烯
＜其他自由基聚合性化合物＞ 活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)可含有上述以外之其他自由基聚合性化合物作為自由基聚合性化合物。
其他自由基聚合性化合物之比率於將活性能量射線硬化型接著劑中之自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，就接著劑層之接著性、耐久性及耐水性之觀點而言，較佳為以40重量%以下之比率使用。前述比率較佳為2～25重量%，進而較佳為5～20重量%。
＜不具有聚合基之矽烷偶合劑＞ 活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)除含有自由基聚合性化合物以外，亦可含有矽烷偶合劑。作為矽烷偶合劑，較佳為不具有自由基聚合性官能基之矽烷偶合劑。不具有自由基聚合性官能基之矽烷偶合劑可對偏光件表面發揮作用，賦予進一步之耐水性。
作為不具有自由基聚合性官能基之矽烷偶合劑之具體例，可列舉具有胺基之矽烷偶合劑。作為具有胺基之矽烷偶合劑之具體例，可列舉：γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三異丙氧基矽烷、γ-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三異丙氧基矽烷、γ-(2-(2-胺基乙基)胺基乙基)胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-(6-胺基己基)胺基丙基三甲氧基矽烷、3-(N-乙基胺基)-2-甲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲基丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-苄基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-乙烯基苄基-γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、N-環己基胺基甲基三乙氧基矽烷、N-環己基胺基甲基二乙氧基甲基矽烷、N-苯基胺基甲基三甲氧基矽烷、(2-胺基乙基)胺基甲基三甲氧基矽烷、N,N'-雙[3-(三甲氧基矽烷基)丙基]乙二胺等含胺基矽烷類；N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽烷基)-1-丙胺等酮亞胺型矽烷類。
作為具有胺基之矽烷偶合劑，較佳為γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽烷基)-1-丙胺。
作為具有胺基之矽烷偶合劑以外之不具有自由基聚合性官能基之矽烷偶合劑之具體例，可列舉：3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、雙(三乙氧基矽烷基丙基)四硫醚、3-異氰酸基丙基三乙氧基矽烷、咪唑矽烷等。
又，作為矽烷偶合劑，作為活性能量射線硬化性之化合物，可列舉：乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等。
矽烷偶合劑可僅使用1種，亦可組合複數種而使用。不具有自由基聚合性官能基之矽烷偶合劑之摻合量相對於活性能量射線硬化型接著劑中之自由基聚合性化合物之總量100重量份，通常為20重量份以下，較佳為0.01～20重量份之範圍，較佳為0.05～15重量份，進而較佳為0.1～10重量份。於超過20重量份之摻合量之情形時，有接著劑之保存穩定性劣化之虞。
＜使(甲基)丙烯酸系單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物＞ 活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)除含有自由基聚合性化合物以外，亦可含有使(甲基)丙烯酸系單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物。藉由在活性能量射線硬化型接著劑中含有丙烯酸系寡聚物，可減少對該組成物照射活性能量射線使之硬化時之硬化收縮，減少接著劑與偏光薄膜(P)及光學薄膜(3)等被接著體之界面應力。其結果為，可抑制接著劑層與被接著體之接著性之降低。
活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)於考慮塗敷時之作業性或均勻性之情形時較佳為低黏度，因此使(甲基)丙烯酸系單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物亦較佳為低黏度。作為低黏度且可防止接著劑層之硬化收縮之丙烯酸系寡聚物，較佳為重量平均分子量(Mw)為15000以下者，更佳為10000以下者，尤佳為5000以下者。另一方面，為了充分地抑制硬化物層(接著劑層)之硬化收縮，丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量(Mw)較佳為500以上，更佳為1000以上，尤佳為1500以上。作為構成丙烯酸系寡聚物之(甲基)丙烯酸系單體，具體而言，例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸第三戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2,2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸4-甲基-2-丙基戊酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯等(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類；進而，例如可列舉：(甲基)丙烯酸環烷基酯(例如(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷基酯(例如(甲基)丙烯酸苄酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如(甲基)丙烯酸2-異酯、(甲基)丙烯酸2-降基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-2-降基甲酯等)、含羥基之(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、2,3-二羥基丙基甲基-丁基(甲基)甲基丙烯酸酯等)、含有烷氧基或苯氧基之(甲基)丙烯酸酯類((甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等)、含有環氧基之(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等)、含有鹵素之(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等)、(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯(例如(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯等)等。該等(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或併用兩種以上。作為丙烯酸系寡聚物(E)之具體例，可列舉東亞合成公司製造之「ARUFON」、綜研化學公司製造之「Actflow」、BASF Japan公司製造之「JONCRYL」等。
丙烯酸系寡聚物之摻合量相對於活性能量射線硬化型接著劑中之自由基聚合性化合物之總量100重量份，通常較佳為30重量份以下。若組成物中之丙烯酸系寡聚物之含量過多，則有對該組成物照射活性能量射線時之反應速度之降低遽烈，導致硬化不良之情況。另一方面，為了充分地抑制硬化物層(接著劑層a)之硬化收縮，較佳為於組成物中含有3重量份以上之丙烯酸系寡聚物，更佳為含有5重量份以上。
＜具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物與具有奪氫作用之自由基聚合引發劑＞ 活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)除含有自由基聚合性化合物以外，可進一步含有具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物與具有奪氫作用之自由基聚合引發劑。根據該構成，尤其即便為剛自高濕度環境或水中取出後(非乾燥狀態)，接著劑層之接著性亦顯著提高。其原因尚不明確，考慮以下之原因。即，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物一邊與構成接著劑層之其他自由基聚合性化合物一起進行聚合，一邊被引入接著劑層中之基礎聚合物之主鏈及/或側鏈，而形成接著劑層。於該聚合過程中，若存在具有奪氫作用之自由基聚合引發劑，則一邊形成構成接著劑層之基礎聚合物，一邊自具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物奪去氫，而於亞甲基產生自由基。而且，產生自由基之亞甲基與PVA等之偏光件之羥基進行反應，於接著劑層與偏光件之間形成共價鍵。推測其結果為，尤其即便為非乾燥狀態，具有偏光薄膜之接著劑層之接著性亦顯著提高。
具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物係於末端或分子中具有(甲基)丙烯醯基等活性雙鍵基，且具有活性亞甲基之化合物。作為活性亞甲基，例如可列舉乙醯乙醯基、烷氧基丙二醯基、或氰基乙醯基等。作為具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之具體例，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙醯乙醯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-乙醯乙醯氧基-1-甲基乙酯等(甲基)丙烯酸乙醯乙醯氧基烷基酯；(甲基)丙烯酸2-乙氧基丙二醯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-氰基乙醯氧基乙酯、N-(2-氰基乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧基甲基苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基胺基乙基)丙烯醯胺等。
作為具有奪氫作用之自由基聚合引發劑，例如可列舉9-氧硫𠮿系自由基聚合引發劑、二苯甲酮系自由基聚合引發劑等。作為9-氧硫𠮿系自由基聚合引發劑，可列舉下述通式 (1)所表示之化合物：[化學式6](式中，R1 及R2 表示-H、-CH2b H3 、-iPr或Cl，R1 及R2 可相同亦可不同)。
作為通式(1)所表示之化合物之具體例，例如可列舉：9-氧硫𠮿、二甲基-9-氧硫𠮿、二乙基-9-氧硫𠮿、異丙基-9-氧硫𠮿、氯-9-氧硫𠮿等。於通式(1)所表示之化合物中，尤佳為R1 及R2 為-CH2b H3 之二乙基-9-氧硫𠮿。
又，於上述活性能量射線硬化型接著劑中，作為光聚合引發劑，除通式(1)之光聚合引發劑以外，較佳為進一步含有下述通式(2)所表示之化合物： [化學式7](式中，R3 、R4 及R5 表示-H、-CH3b H2b H3 、-iPr或Cl，R3 、R4 及R5 可相同亦可不同)。藉由併用上述通式(1)及通式(2)之光聚合引發劑，藉由該等之光增感反應使反應高效率化，尤其會提高接著劑層之接著性。
如上所述，於本發明中，於具有奪氫作用之自由基聚合引發劑之存在下，使具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之亞甲基產生自由基，該亞甲基與羥基進行反應，形成共價鍵。因此，關於具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物，為了使具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之亞甲基產生自由基，充分地形成該共價鍵，於將活性能量射線硬化型接著劑中之自由基聚合性化合物之總量設為100重量份時，較佳為含有1～30重量份，進而更佳為含有3～30重量份。若具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物未達1重量份，則有非乾燥狀態下之接著性之提高效果較低，耐水性未充分提高之情況，若超過50重量份，則有產生接著劑層之硬化不良之情況。又，具有奪氫作用之自由基聚合引發劑相對於前述活性能量射線硬化型接著劑中之自由基聚合性化合物之總量100重量份，較佳為含有0.1～10重量份，進而更佳為含有0.3～9重量份。若具有奪氫作用之自由基聚合引發劑未達0.1重量份，則有奪氫反應未充分進行之情況，若超過10重量份，則有於組成物中未完全溶解之情況。
＜光酸產生劑＞ 於上述活性能量射線硬化型接著劑組成物中可含有光酸產生劑。於上述活性能量射線硬化型接著劑組成物中含有光酸產生劑之情形時，與不含光酸產生劑之情形相比，可飛躍性地提高接著劑層之耐水性及耐久性。光酸產生劑可由下述通式(3)表示。
通式(3) [化學式8](其中，L+ 表示任意之鎓陽離子；又，X- 表示選自於由PF66 - 、SbF6 - 、AsF6 - 、SbCl6 - 、BiCl5 - 、SnCl6 - 、ClO4 - 、二硫代胺基甲酸根陰離子、SCN- 所構成群組中之相對陰離子)
其次，對通式(3)中之相對陰離子X- 進行說明。
通式(3)中之相對陰離子X- 於原理上並無特別限定，較佳為非親核性陰離子。於相對陰離子X- 為非親核性陰離子之情形時，不易引起於分子內共存之陽離子或併用之各種材料之親核反應，因此結果可提高通式(2)所表示之光酸產生劑本身或使用其之組成物之經時穩定性。此處所謂非親核性陰離子係指引起親核反應之能力較低之陰離子。作為此種陰離子，可列舉PF6 - 、SbF6 - 、AsF6 - 、SbCl6 - 、BiCl5 - 、SnCl6 - 、ClO4 - 、二硫代胺基甲酸根陰離子、SCN- 等。
具體而言，作為本發明之光酸產生劑之較佳具體例，可列舉：「Cyracure UVI-6992」、「Cyracure UVI-6974」(以上為Dow Chemical Japan股份有限公司製造)、「Adeka Optomer SP150」、「Adeka Optomer SP152」、「Adeka Optomer SP170」、「Adeka Optomer SP172」(以上為ADEKA股份有限公司製造)、「IRGACURE 250」(汽巴精化公司製造)、「CI-5102」、「CI-2855」(以上為日本曹達公司製造)、「San-Aid SI-60L」、「San-Aid SI-80L」、「San-Aid SI-100L」、「San-Aid SI-110L」、「San-Aid SI-180L」(以上為三新化學公司製造)、「CPI-100P」、「CPI-100A」(以上為San-Apro股份有限公司製造)、「WPI-069」、「WPI-113」、「WPI-116」、「WPI-041」、「WPI-044」、「WPI-054」、「WPI-055」、「WPAG-281」、「WPAG-567」、「WPAG-596」(以上為和光純藥公司製造)。
光酸產生劑之含量相對於硬化性樹脂組成物之總量為10重量%以下，較佳為0.01～10重量%，更佳為0.05～5重量%，尤佳為0.1～3重量%。
於上述活性能量射線硬化型接著劑中，較佳為於活性能量射線硬化型接著劑中將光酸產生劑與含有烷氧基、環氧基中之任一者之化合物併用。
(具有環氧基之化合物及高分子) 於使用在分子內具有1個以上之環氧基之化合物或於分子內具有2個以上之環氧基之高分子(環氧樹脂)之情形時，亦可併用於分子內具有兩個以上之與環氧基具有反應性之官能基的化合物。此處，所謂與環氧基具有反應性之官能基，例如可列舉：羧基、酚性羥基、巰基、一級或二級芳香族胺基等。考慮到三維硬化性，該等官能基尤佳為於一分子中具有2個以上。
作為於分子內具有1個以上之環氧基之高分子，例如可列舉環氧樹脂，有由雙酚A與表氯醇衍生之雙酚A型環氧樹脂、由雙酚F與表氯醇衍生之雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、酚系酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚A酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚F酚醛清漆型環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、二苯醚型環氧樹脂、對苯二酚型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、茀型環氧樹脂、三官能型環氧樹脂或四官能型環氧樹脂等多官能型環氧樹脂、縮水甘油酯型環氧樹脂、縮水甘油胺型環氧樹脂、乙內醯脲型環氧樹脂、異氰尿酸酯型環氧樹脂、脂肪族鏈狀環氧樹脂等，該等環氧樹脂可被鹵化，亦可被氫化。作為市售之環氧樹脂製品，例如可列舉：Japan Epoxy Resins股份有限公司製造之JER Coat 828、1001、801N、806、807、152、604、630、871、YX8000、YX8034、YX4000；DIC股份有限公司製造之Epiclon 830、EXA835LV、HP4032D、HP820；ADEKA股份有限公司製造之EP4100系列、EP4000系列、EPU系列；Daicel Chemical股份有限公司製造之Celloxide系列(2021、2021P、2083、2085、3000等)、Epolead系列、EHPE系列；新日鐵化學公司製造之YD系列、YDF系列、YDCN系列、YDB系列、苯氧基樹脂(由雙酚類與表氯醇合成之多羥基聚醚且於兩末端具有環氧基；YP系列等)；Nagase chemteX公司製造之Denacol系列；共榮社化學公司製造之Epolight系列等；但並不限定於該等。該等環氧樹脂亦可併用2種以上。再者，於計算接著劑層之玻璃轉移溫度Tg時，不將具有環氧基之化合物及高分子(H)計算在內。
(具有烷氧基之化合物及高分子) 作為於分子內具有烷氧基之化合物，只要為於分子內具有1個以上之烷氧基者，則無特別限制，可使用公知者。作為此種化合物，可列舉三聚氰胺化合物、胺基樹脂等作為代表。
含有烷氧基、環氧基中之任一者之化合物之摻合量相對於活性能量射線硬化型接著劑中之自由基聚合性化合物之總量100重量份，通常為30重量份以下，若組成物中之化合物之含量過多，則有接著性降低，對於墜落試驗之耐衝擊性劣化之情況。組成物中之化合物之含量更佳為20重量份以下。另一方面，就硬化物層(接著劑層2a)之耐水性之方面而言，較佳為於組成物中含有2重量份以上之化合物，更佳為含有5重量份以上。
於以電子束硬化型使用本發明之活性能量射線硬化型接著劑組成物之情形時，無需特別使組成物中含有光聚合引發劑，於以紫外線硬化型使用之情形時，較佳為使用光聚合引發劑，尤以使用對於380nm以上之光為高感度之光聚合引發劑為佳。關於對於380nm以上之光為高感度之光聚合引發劑於下文進行敍述。
於本發明之活性能量射線硬化型接著劑組成物中，作為光聚合引發劑，較佳為單獨使用上述通式(1)所表示之化合物， [化學式9](式中，R1 及R2 表示-H、-CH2b H3 、-iPr或Cl，R1 及R2 可相同亦可不同)、或併用通式(1)所表示之化合物與後述之對於380nm以上之光為高感度之光聚合引發劑。於使用通式(1)所表示之化合物之情形時，與單獨使用對於380nm以上之光為高感度之光聚合引發劑之情形相比，接著性優異。於通式(1)所表示之化合物中，尤佳為R1 及R2 為-CH2b H3 之二乙基-9-氧硫𠮿。組成物中之通式(1)所表示之化合物之組成比率相對於活性能量射線硬化型接著劑中之自由基聚合性化合物之總量100重量份，較佳為0.1～5.0重量份，更佳為0.5～4.0重量份，進而較佳為0.9～3.0重量份。
又，較佳為視需要添加聚合引發助劑。作為聚合引發助劑，可列舉三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲基胺基苯甲酸、4-二甲基胺基苯甲酸甲酯、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸異戊酯等，尤佳為4-二甲基胺基苯甲酸乙酯。於使用聚合引發助劑之情形時，其添加量相對於活性能量射線硬化型接著劑中之自由基聚合性化合物之總量100重量份，通常為0～5重量份，較佳為0～4重量份，最佳為0～3重量份。
又，可視需要併用公知之光聚合引發劑。作為光聚合引發劑，較佳為使用對於380nm以上之光為高感度之光聚合引發劑。具體而言，可列舉：2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦、雙(H 5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。
尤其，作為光聚合引發劑，除通式(1)之光聚合引發劑以外，較佳為進一步使用下述通式 (2)所表示之化合物：[化學式10](式中，R3 、R4 及R5 表示-H、-CH3b H2b H3 、-iPr或Cl，R3 、R4 及R5 可相同亦可不同)。作為通式(2)所表示之化合物，可適宜地使用作為市售品之2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 907，製造商：BASF)。此外，2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1(商品名：IRGACURE 369，製造商：BASF)、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE 379，製造商：BASF)由於感度較高，故而較佳。
又，於活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，可於無損本發明之目的、效果之範圍內，摻合各種添加劑作為其他任意成分。作為該添加劑，可列舉：環氧樹脂、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚胺基甲酸酯、聚丁二烯、聚氯丁二烯、聚醚、聚酯、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物、石油樹脂、二甲苯樹脂、酮樹脂、纖維素樹脂、氟系寡聚物、聚矽氧系寡聚物、聚醚碸系寡聚物等聚合物或寡聚物；啡噻𠯤、2,6-二第三丁基-4-甲基苯酚等聚合抑制劑；聚合引發助劑；調平劑；潤濕性改良劑；界面活性劑；塑化劑；紫外線吸收劑；無機填充劑；顏料；染料等。
活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)可藉由照射活性能量射線使之硬化，而形成前述接著劑層(a)。
作為活性能量射線，可使用電子束、包含波長範圍380nm～450nm之可見光線者。再者，可見光線之長波長極限為780nm左右，但超過450nm之可見光線無助於聚合引發劑之吸收，另一方面，可能成為引起發熱之原因。因此，於本發明中，較佳為使用帶通濾波器而遮斷超過450nm之長波長側之可見光線。
電子束之照射條件只要為可使上述活性能量射線硬化型接著劑硬化之條件，則可採用任意之適當條件。例如，電子束照射之加速電壓較佳為5kV～300kV，進而較佳為10kV～250kV。於加速電壓未達5kV之情形時，有電子束未到達接著劑而導致硬化不足之虞，若加速電壓超過300kV，則有通過試樣之滲透力過強而對偏光薄膜(P)及光學薄膜(3)造成損傷之虞。作為照射線量，為5～100kGy，進而較佳為10～75kGy。於照射線量未達5kGy之情形時，接著劑變得硬化不足，若超過100kGy，則對偏光薄膜(P)及光學薄膜(3)造成損傷，產生機械強度之降低或黃變，無法獲得特定之光學特性。
電子束照射通常於惰性氣體中進行照射，視需要亦可於大氣中或導入有少量氧氣之條件下進行。雖然取決於透明保護薄膜之材料，但藉由適當導入氧氣，反而會使電子束最初照射到之透明保護薄膜面產生氧氣阻礙，而可防止對透明保護薄膜之損傷，從而可有效率地僅對接著劑照射電子束。
其中，於本發明之偏光薄膜之製造方法中，為了提高偏光薄膜與光學薄膜之間之接著劑層(a)之接著性能並且防止偏光薄膜之捲曲，作為活性能量射線，較佳為使用包含波長範圍380nm～450nm之可見光線者，尤佳為使用波長範圍380nm～450nm之可見光線之照射量最多之活性能量射線。於偏光薄膜之透明保護薄膜或光學薄膜(3)使用已賦予紫外線吸收能力之薄膜(紫外線不透過型薄膜)之情形時，由前述透明保護薄膜或光學薄膜(3)所吸收之波長短於380nm之光被轉換為熱，透明保護薄膜或光學薄膜(3)發熱，成為積層偏光薄膜之捲曲、褶皺等不良之原因。因此，於本發明中，較佳為使用不會發出波長短於380nm之光之裝置作為活性能量射線產生裝置，更具體而言，波長範圍380～440nm之累計照度與波長範圍250～370nm之累計照度之比較佳為100：0～100：50，更佳為100：0～100：40。作為滿足此種累計照度之關係之活性能量射線，較佳為封入鎵之金屬鹵化物燈、發出波長範圍380～440nm之光之LED光源。或者，亦可將低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熾燈泡、氙氣燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵化物燈、螢光燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射或太陽光作為光源，使用帶通濾波器而遮斷波長短於380nm之光而使用。為了提高偏光薄膜(P)與光學薄膜(3)和其等間之接著劑層(a)間之接著劑層接著性能並且防止偏光薄膜之捲曲，較佳為採用使用能夠遮斷波長短於400nm之光之帶通濾波器而獲得之活性能量射線、或使用LED光源而獲得之波長405nm之活性能量射線。
於可見光線硬化型中，較佳為於照射可見光線前對活性能量射線硬化型接著劑進行加溫(照射前加溫)，該情形時較佳為加溫至40℃以上，更佳為加溫至50℃以上。又，亦較佳為於照射可見光線後對活性能量射線硬化型接著劑進行加溫(照射後加溫)，該情形時較佳為加溫至40℃以上，更佳為加溫至50℃以上。
活性能量射線硬化型接著劑(a)藉由含有上述通式(1)之光聚合引發劑，可隔著具有UV吸收能之光學薄膜(3)照射紫外線而硬化形成接著劑層(a)。作為光學薄膜(3)，可使用波長365nm之光線透過率未達5%者。
作為對光學薄膜(3)賦予UV吸收能之方法，可列舉使光學薄膜(3)中含有紫外線吸收劑之方法、或使含有紫外線吸收劑之表面處理層積層於光學薄膜(3)表面之方法。
作為紫外線吸收劑之具體例，例如可列舉：先前公知之氧基二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物、三𠯤系化合物等。
本發明之偏光薄膜之製造方法可包括如下步驟：第1塗敷步驟，係於偏光件及一透明保護薄膜之至少一面上塗敷用來形成接著劑層(b)之接著劑組成物(b)；第1貼合步驟，係將偏光件與透明保護薄膜貼合；第1接著步驟，係透過藉由使接著劑組成物(b)硬化而獲得之接著劑層(b)，使偏光件與一透明保護薄膜接著；第2塗敷步驟，係於偏光件及另一透明保護薄膜之至少一面上塗敷用來形成接著劑層(a)之活性能量射線接著劑組成物(a)；第2貼合步驟，係將偏光件與透明保護薄膜貼合；及第2接著步驟，係透過接著劑層(a)接著偏光件與另一透明保護薄膜，且該接著劑層(a)係藉由照射活性能量射線使活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)硬化而獲得；亦可包括如下步驟：塗敷步驟，係於偏光件及一透明保護薄膜之至少一面上塗敷用來形成接著劑層(b)之活性能量射線硬化型接著劑組成物(b)；塗敷步驟，係於偏光件及另一透明保護薄膜之至少一面上塗敷用來形成接著劑層(a)之活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)；貼合步驟，係將偏光件與透明保護薄膜貼合；及接著步驟，其係透過接著劑層(a)及接著劑層(b)接著偏光件與透明保護薄膜，且該接著劑層(a)及接著劑層(b)係藉由照射活性能量射線使活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)及(b)硬化而獲得。
偏光薄膜中之透明保護薄膜及光學薄膜(3)亦可於塗敷上述活性能量射線硬化型接著劑之前進行表面改質處理。作為具體之處理，可列舉藉由電暈處理、電漿處理、皂化處理、準分子處理或火焰處理所進行之處理等。
活性能量射線硬化型接著劑之塗敷方式係根據組成物之黏度或目標厚度而適當選擇。作為塗敷方式之例，例如可列舉反向塗佈機、凹版塗佈機(直接、反向或膠版)、棒式反向塗佈機、輥式塗佈機、模嘴塗佈機、棒式塗佈機、桿式塗佈機等。此外，塗敷可適當地使用浸漬方式等方式。
透過藉由上述方式塗敷之接著劑將偏光薄膜(P)與光學薄膜(3)貼合。偏光薄膜(P)與光學薄膜(3)之貼合可藉由輥式貼合機等而進行。
於將偏光件與透明保護薄膜、進而將使偏光件與透明保護薄膜積層而獲得之偏光薄膜與光學薄膜(3)加以貼合後，照射活性能量射線(電子束、紫外線及可見光線等)，使活性能量射線硬化型接著劑硬化而形成接著劑層(a)。活性能量射線(電子束、紫外線及可見光線等)之照射方向可從任意適當之方向進行照射。較佳為從光學薄膜(3)側照射。若從偏光薄膜(P)側照射，則有偏光薄膜(P)因活性能量射線(電子束、紫外線及可見光線等)而劣化之虞。
於以連續生產線製造本發明之偏光薄膜之情形時，線速度取決於接著劑之硬化時間，較佳為1～500 m/min，更佳為5～300 m/min，進而較佳為10～100 m/min。於線速度過小之情形時，生產性不足，或對偏光薄膜(P)及光學薄膜(3)之損傷過大，無法製作出可耐受耐久性試驗等之偏光薄膜。於線速度過大之情形時，有接著劑之硬化不充分，無法獲得目標之接著性之情況。
＜偏光薄膜＞ 如上所述，偏光薄膜透過接著劑層(a)及接著劑層(b)而於偏光件之兩面設置有透明保護薄膜。
＜偏光件＞ 偏光件並無特別限制，可使用各種偏光件。作為偏光件，例如可列舉：使碘或二色性染料等二色性材料吸附於聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜並進行單軸延伸而成者、聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。於該等中，適宜為由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件。該等偏光件之厚度較佳為2～30μm，更佳為4～20μm，最佳為5～15μm。於偏光件之厚度較薄之情形時，光學耐久性降低，故而欠佳。於偏光件之厚度較厚之情形時，高溫高濕下之尺寸變化變大，會產生顯示不均之不良情況，故而欠佳。
利用碘將聚乙烯醇系薄膜染色並進行單軸延伸之偏光件例如可藉由如下方式製作，即，藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液中而染色，並延伸至原長之3～7倍。亦可視需要浸漬於硼酸或碘化鉀等之水溶液。進而亦可視需要於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。除可藉由對聚乙烯醇系薄膜進行水洗而洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之污漬或抗黏連劑以外，藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤，亦具有防止染色不均等不均勻之效果。延伸可於利用碘染色後進行，可一邊染色一邊延伸，又，亦可於延伸後利用碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
又，本發明中使用之活性能量射線硬化型接著劑組成物於使用厚度為10μm以下之薄型偏光件作為偏光件之情形時，可顯著地表現出其效果(滿足高溫高濕下之嚴酷環境下之光學耐久性)。上述厚度為10μm以下之偏光件與厚度超過10μm之偏光件相比，水分之影響相對較大，於高溫高濕下之環境下，光學耐久性不充分，容易引起透過率上升或偏光度降低。即，於利用本發明之總體吸水率為10重量%以下之接著劑層而積層上述10μm以下之偏光件之情形時，藉由在嚴酷之高溫高濕下之環境下抑制水向偏光件之移動，可顯著地抑制偏光薄膜之透過率上升、偏光度降低等光學耐久性之劣化。偏光件之厚度就薄型化之觀點而言較佳為1～7μm。此種薄型偏光件之厚度不均較少，視認性優異，又，尺寸變化較少，進而，作為偏光薄膜之厚度亦於謀求薄型化之方面較佳。
作為薄型偏光件，可代表性地列舉日本專利特開昭51-069644號公報或日本專利特開2000-338329號公報、或WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460之說明書、或日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包含將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材以積層體之狀態進行延伸之步驟及進行染色之步驟的製法而獲得。若為該製法，則即便PVA系樹脂層較薄，亦可藉由被延伸用樹脂基材支持而於無因延伸引起之斷裂等不良情況之情況下進行延伸。
作為前述薄型偏光膜，於包括在積層體之狀態下延伸之步驟及染色之步驟的製法中，就可高倍率地延伸而使偏光性能提高之方面而言，較佳為藉由如WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460之說明書、或日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書所記載之包括在硼酸水溶液中延伸之步驟的製法而獲得者，尤以藉由日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書所記載之在硼酸水溶液中延伸之前包括輔助性地進行空中延伸之步驟的製法而獲得者為佳。
＜透明保護薄膜＞ 作為構成透明保護薄膜之材料，例如使用透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、各向同性等優異之熱塑性樹脂。作為此種熱塑性樹脂之具體例，可列舉：三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、及該等之混合物。透明保護薄膜中亦可含有1種以上之任意適當之添加劑。作為添加劑，例如可列舉：紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱塑性樹脂之含量較佳為50～100重量%，更佳為50～99重量%，進而較佳為60～98重量%，尤佳為70～97重量%。於透明保護薄膜中之上述熱塑性樹脂之含量為50重量%以下之情形時，有無法充分地表現熱塑性樹脂原本具有之高透明性等之虞。
又，作為形成透明保護薄膜之材料，較佳為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、各向同性等優異者，尤其更佳為透濕度為150g/m2 /24h以下者，尤佳為140g/m2 /24h以下者，進而較佳為120g/m2 /24h以下者。透濕度係藉由實施例所記載之方法而求出。
於上述偏光薄膜中，使用透濕度為150g/m2 /24h以下之透明保護薄膜之情形時，空氣中之水分不易進入偏光薄膜中，可抑制偏光薄膜本身之水分率變化。其結果為，可抑制因保存環境而產生之偏光薄膜之捲曲或尺寸變化。
於上述透明保護薄膜之未接著偏光件之面，可設置硬塗層、抗反射層、防黏層、擴散層或防眩層等功能層。再者，上述硬塗層、抗反射層、防黏層、擴散層或防眩層等功能層除了可設置於透明保護薄膜本身以外，亦可獨立於透明保護薄膜而另外設置。
透明保護薄膜之厚度可適當地決定，一般而言，就強度或操作性等作業性、薄層性等方面而言為1～500μm左右，較佳為1～300μm，更佳為5～200μm。進而較佳為10～200μm，較佳為20～80μm。
再者，設置於偏光件之兩面之前述透明保護薄膜可於其正面背面使用由相同之聚合物材料所構成之透明保護薄膜，亦可使用由不同之聚合物材料等所構成之透明保護薄膜。
作為前述透明保護薄膜，可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差薄膜。正面相位差通常控制為40～200nm之範圍，厚度方向相位差通常控制為80～300nm之範圍。於使用相位差薄膜作為透明保護薄膜之情形時，該相位差薄膜亦作為透明保護薄膜而發揮功能，因此可實現薄型化。
作為相位差薄膜，可列舉將高分子素材進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之配向薄膜、利用薄膜支持液晶聚合物之配向層者等。相位差薄膜之厚度亦無特別限制，一般為20～150μm左右。
作為相位差薄膜，亦可使用滿足下述式(1)至(3)之反波長分散型相位差薄膜： 0.70＜Re[450]/Re[550]＜0.97・・・(1)1.5×10-3 ＜Δn＜6×10-3 ・・・(2)1.13＜NZ＜1.50・・・(3)(式中，Re[450]及Re[550]分別為於23℃下利用波長450nm及550nm之光所測得的相位差薄膜之面內相位差值；Δn為相位差薄膜的面內雙折射，即係將相位差薄膜之遲相軸方向、進相軸方向之折射率分別設為nx、ny時之nx－ny；NZ為將nz作為相位差薄膜厚度方向之折射率時，厚度方向雙折射nx－nz與面內雙折射nx－ny之比)。
作為可為相位差薄膜之前述透明保護薄膜，較佳為logPow值為-2～2者。透明保護薄膜之logPow值可使用Cambridge Soft公司製造之Chem Draw Ultra而算出，logPow值亦可採用使各種單體與相位差薄膜接觸，由腐蝕最多之單體之logPow值預估之數值(具體而言，預估為自腐蝕最多之單體之logPow值±0.5以內之數值之方法)。
再者，於圖1～4所示之偏光薄膜中，可使用相位差薄膜作為透明保護薄膜(2)。又，偏光件(1)之兩側之透明保護薄膜(2)可單側設為相位差薄膜，或兩側均設為相位差薄膜。
＜接著劑層(b)＞ 若前述接著劑層(b)為光學透明，則無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔系、活性能量射線硬化型之各種形態者。接著劑層(b)較佳為如上所述般為特定之厚度且滿足特定之儲存彈性模數者。
作為水系硬化型接著劑，例如可例示乙烯基聚合物系、明膠系、乙烯基系乳膠系、聚胺基甲酸酯系、異氰酸酯系、聚酯系、環氧系等。由此種水系接著劑所構成之接著劑層可以水溶液之塗佈乾燥層等之形式形成，製備該水溶液時，亦可視需要摻合交聯劑或其他添加劑、酸等觸媒。
作為前述水系硬化型接著劑，較佳為使用含有乙烯基聚合物之接著劑等，作為乙烯基聚合物，較佳為聚乙烯醇系樹脂。又，作為聚乙烯醇系樹脂，就提高耐久性之方面而言，更佳為含有具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂的接著劑。又，作為可摻合至聚乙烯醇系樹脂之交聯劑，可較佳地使用具有至少兩個與聚乙烯醇系樹脂具有反應性之官能基的化合物。例如，可列舉：硼酸或硼砂、羧酸化合物、烷基二胺類；異氰酸酯類；環氧化物類；單醛類；二醛類；胺基-甲醛樹脂；進而二價金屬、或三價金屬之鹽及其氧化物。可於聚乙烯醇系樹脂中摻合水溶性矽酸鹽。作為水溶性矽酸鹽，可列舉矽酸鋰、矽酸鈉、矽酸鉀等。
又，作為活性能量射線硬化型接著劑，可使用各種形態者，可例示電子束硬化型、紫外線硬化型等活性能量射線硬化型接著劑。作為紫外線硬化型接著劑，大致可分為自由基聚合硬化型接著劑與陽離子聚合型接著劑。此外，自由基聚合硬化型接著劑可用作熱硬化型接著劑。作為接著劑層(b)之形成所使用之活性能量射線硬化型接著劑，可使用前述接著劑層(a)之形成所使用之活性能量射線硬化型接著劑(a)。
前述接著劑層(b)中，接著劑層(b1)亦較佳為聚乙烯醇系接著劑。又，接著劑層(b2)較佳為活性能量射線硬化型接著劑。
形成前述接著劑層(a)或接著劑層(b)之接著劑視需要亦可為適當含有添加劑者。作為添加劑之例，可列舉：矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑、以環氧乙烷為代表之接著促進劑、使與透明薄膜之潤濕性提高之添加劑、以丙烯醯氧基化合物或烴系(天然、合成樹脂)等為代表且使機械強度或加工性等提高之添加劑、紫外線吸收劑、防老化劑、染料、加工助劑、離子捕捉劑、抗氧化劑、黏著賦予劑、填充劑(金屬化合物填料以外)、塑化劑、調平劑、發泡抑制劑、抗靜電劑、耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等穩定劑等。
於本發明之偏光薄膜中，可於透明保護薄膜及/或光學薄膜設置易接著層。又，於偏光薄膜中，可於偏光件及/或透明保護薄膜設置易接著層。
易接著層例如可由具有聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺基甲酸酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等之各種樹脂所形成。該等聚合物樹脂可單獨使用1種、或組合2種以上而使用。又，形成易接著層時亦可添加其他添加劑。具體而言，亦可進一步使用黏著賦予劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等。易接著層乾燥後之厚度較佳為0.01～5μm，進而較佳為0.02～2μm，進而較佳為0.05～1μm。再者，易接著層可設置複數層，於該情形時，易接著層之總厚度亦較佳為成為上述範圍。
＜光學薄膜＞ 作為能夠積層於偏光薄膜之光學薄膜(3)，可列舉偏光件以外之例如相位差薄膜(包含1/2或1/4等之波長板)、視覺補償薄膜、增亮薄膜、反射板或反透過板等有時用於形成液晶顯示裝置等之成為光學層者。前述光學薄膜可使用2層以上。於使用2層以上之光學薄膜之情形時，第2層光學薄膜之積層亦可使用前述接著劑層(a)。作為前述光學薄膜，適宜為相位差薄膜。
作為前述相位差薄膜，可使用與上述相同之具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差者。正面相位差通常控制為40～200nm之範圍，厚度方向相位差通常控制為80～300nm之範圍。
作為相位差薄膜，可列舉將高分子素材進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之配向薄膜、利用薄膜支持液晶聚合物之配向層者等。相位差薄膜之厚度亦無特別限制，一般為20～150μm左右。
作為相位差薄膜，亦可使用滿足下述式(1)至(3)之反波長分散型相位差薄膜： 0.70＜Re[450]/Re[550]＜0.97・・・(1)1.5×10-3 ＜Δn＜6×10-3 ・・・(2)1.13＜NZ＜1.50・・・(3)(式中，Re[450]及Re[550]分別為於23℃下利用波長450nm及550nm之光所測得的相位差薄膜之面內相位差值；Δn為相位差薄膜的面內雙折射，即係將相位差薄膜之遲相軸方向、進相軸方向之折射率分別設為nx、ny時之nx－ny；NZ為將nz作為相位差薄膜厚度方向之折射率時，厚度方向雙折射nx－nz與面內雙折射nx－ny之比)。又，相位差薄膜宜為logPow值為-2～2者。
本發明之偏光薄膜中，亦可設置用以與液晶單元等其他構件接著之黏著劑層。形成黏著劑層之黏著劑並無特別限制，例如可適當選擇使用將丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等之聚合物作為基礎聚合物者。尤其，可較佳地使用如丙烯酸系黏著劑般光學透明性優異，顯示出適度之潤濕性、凝聚性及接著性之黏著特性，耐候性或耐熱性等優異者。
黏著劑層亦可以不同組成或種類等者之重疊層之形式設置於積層偏光薄膜或積層光學薄膜之單面或兩面。又，於設置於兩面之情形時，亦可於積層偏光薄膜或積層光學薄膜之正面背面設為不同之組成或種類或厚度等之黏著劑層。黏著劑層之厚度可根據使用目的或接著力等而適當決定，一般為1～500μm，較佳為1～200μm，尤佳為1～100μm。
對於黏著劑層之露出面，於供於實用之前的期間，以防止其污染等為目的而暫時黏著隔片而覆蓋。藉此，可防止於通例之操作狀態下與黏著劑層接觸。作為隔片，除上述厚度條件以外，例如可使用將塑膠薄膜、橡膠片材、紙、布、不織布、網狀物、發泡片材或金屬箔、其等之層壓體等適當之薄片體視需要利用聚矽氧系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當之剝離劑進行塗佈處理而得者等依據先前之適當者。
本發明之積層偏光薄膜或積層光學薄膜可較佳地用於液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可依據先前而進行。即，一般而言，液晶顯示裝置係藉由將液晶單元與積層偏光薄膜或積層光學薄膜、及視需要之照明系統等構成零件適當組裝並組入驅動電路等而形成，於本發明中，除使用本發明之積層偏光薄膜或積層光學薄膜之方面以外，並無特別限定，可依據先前。關於液晶單元，亦可使用例如TN型或STN型、π型等任意類型者。
可形成於液晶單元之單側或兩側配置有積層偏光薄膜或積層光學薄膜之液晶顯示裝置、或照明系統使用背光源或反射板者等適當之液晶顯示裝置。該情形時，本發明之積層偏光薄膜或積層光學薄膜可設置於液晶單元之單側或兩側。於兩側設置積層偏光薄膜或積層光學薄膜之情形時，其等可為相同者，亦可為不同者。進而，形成液晶顯示裝置時，可將例如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光源等適當之零件以1層或2層以上配置於適當之位置。 實施例
以下，記載本發明之實施例，但本發明之實施形態並不限定於該等。
＜玻璃轉移溫度之測定＞ 針對實施例及比較例中使用之接著劑層或黏著劑層，藉由下述方法求出玻璃轉移溫度。[玻璃轉移溫度(Tg)之測定方法]玻璃轉移溫度係使用Rheometric公司製造之黏彈性譜儀(商品名：RSA-II)而進行。測定條件係測定頻率1Hz、樣品厚2mm、壓接負重100g、升溫速度5℃/min下之-50℃～200℃之範圍內之tanδ之溫度依賴圖譜，將其峰值溫度作為測定值。
＜透明保護薄膜＞ 透明保護薄膜(3a)：對厚度55μm之反波長分散型相位差薄膜實施電暈處理而使用。再者，該反波長分散型相位差薄膜係滿足下述式(1)至(3)者：0.70＜Re[450]/Re[550]＜0.97・・・(1)1.5×10-3 ＜Δn＜6×10-3 ・・・(2)1.13＜NZ＜1.50・・・(3)(式中，Re[450]及Re[550]分別為於23℃下利用波長450nm及550nm之光所測得的相位差薄膜之面內相位差值；Δn為相位差薄膜的面內雙折射，即係將相位差薄膜之遲相軸方向、進相軸方向之折射率分別設為nx、ny時之nx－ny；NZ為將nz作為相位差薄膜厚度方向之折射率時，厚度方向雙折射nx－nz與面內雙折射nx－ny之比)，logPow為0.1。透明保護薄膜(3b)：對厚度50μm之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂實施電暈處理而使用。
＜偏光件以外之光學薄膜(3c)＞ 對液晶型相位差薄膜(於38μm之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜擔載有4μm之液晶配向層的薄膜)之液晶配向層側實施電暈處理而使用。該相位差薄膜之logPow為0.5。
＜聚乙烯醇系接著劑＞ 相對於含有乙醯乙醯基(AA)之PVA系樹脂(平均聚合度：1200，皂化度：98.5莫耳%，AA基改質度：5莫耳%(表1中表示為AA改質PVA))100份，將羥甲基三聚氰胺20份於30℃之溫度條件下溶解於純水中，製備固形物成分濃度調整為0.5%之水溶液。將其作為接著劑，於30℃之溫度條件下使用。
＜偏光薄膜之製作＞ 為了製作偏光膜，首先，將於非晶性PET基材成膜有厚度9μm之PVA層之積層體藉由延伸溫度130℃之空中輔助延伸而生成延伸積層體，其次，將延伸積層體藉由染色而生成著色積層體，進而將著色積層體藉由延伸溫度65℃之硼酸水中延伸而以總延伸倍率成為5.94倍之方式產生與非晶性PET基材一體地延伸之含有厚度4μm之PVA層的光學薄膜積層體。可生成構成如下高功能偏光膜的包含厚度5μm之PVA層的光學薄膜積層體，該高功能偏光膜藉由此種二段延伸使成膜於非晶性PET基材之PVA層之PVA分子高次地配向，且使藉由染色而吸附之碘以多碘離子錯合物之形式沿一方向高次地配向。
於上述光學薄膜積層體之偏光膜之表面一邊塗佈上述聚乙烯醇系接著劑一邊貼合上述透明保護薄膜(3b)後，於50℃下進行5分鐘乾燥，獲得偏光薄膜。形成於透明保護薄膜(3b)之接著劑層(b)之厚度為1μm，玻璃轉移溫度為85℃，25℃下之儲存彈性模數為1.5×109 Pa，85℃下之儲存彈性模數為1.0×108 Pa。
＜活性能量射線＞ 作為活性能量射線，使用紫外線(封入鎵之金屬鹵化物燈) 照射裝置：Fusion UV Systems，Inc公司製造之Light HAMMER10 燈泡：V BULB 峰值照度：1600mW/cm2 、累計照射量1000/mJ/cm2 (波長380～440nm)。再者，紫外線之照度係使用Solatell公司製造之Sola-Check系統進行測定。
＜黏度之測定＞ 實施例及比較例中使用之活性能量射線硬化型接著劑或黏著劑之黏度(cp/25℃)係利用E型旋轉式黏度計所測得之值。測定結果示於表1～3。
實施例1～12及比較例1～5 (接著劑層(a)之活性能量射線硬化型接著劑之製備)依照表1所記載之成分表，將各成分進行混合，於50℃下攪拌1小時，而獲得活性能量射線硬化型接著劑。表中之活性能量射線硬化型接著劑之數值表示將自由基聚合性化合物之總量設為100重量份時之重量份。
(積層偏光薄膜之製法) 實施例1、2、4～12及比較例1～5剝離偏光薄膜之非晶性PET基材，對其偏光件面實施電暈處理，於該電暈表面，使用MCD塗佈機(富士機械公司製造)(單元形狀：蜂窩，凹版輥線數：1000條/INCH，旋轉速度140%/相對線速)，以成為表1所示之厚度之方式塗佈表1所記載之各實施例及比較例之能夠形成接著劑層(a)之活性能量射線硬化型接著劑組成物。將上述偏光薄膜之接著劑塗佈面貼合於透明保護薄膜(3a)之已實施電暈處理之面之側。其後，經過特定時間(15秒、21秒、42秒)後，照射上述紫外線，使接著劑層(a)之活性能量射線硬化型接著劑組成物硬化，而獲得偏光薄膜(P1)。對上述所獲得之偏光薄膜(P1)之透明保護薄膜(3a)側之面實施電暈處理，塗佈實施例1之接著劑層(a)之活性能量射線硬化型接著劑，貼合於液晶型相位差薄膜之電暈處理面後，藉由紫外線使其硬化，製作積層偏光薄膜。形成於液晶型相位差薄膜(3c)之接著劑層(a)之厚度為1μm。實施例3將使偏光薄膜(P1)與液晶型相位差薄膜(3c)接著之接著劑層(a)自實施例1之接著劑層(a)變更為實施例3之接著劑層(a)，除此以外，藉由與實施例1等相同之方法製作積層偏光薄膜。
對各例中所獲得之活性能量射線硬化型接著劑及積層偏光薄膜進行下述評價。將結果示於表1～3。
＜層間接著力＞ 將積層偏光薄膜之液晶型相位差薄膜側之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜剝離，於剝離面貼合聚丙烯酸丁酯系黏著劑(厚度23μm)。進而，切出沿與偏光件之延伸方向平行而為200mm、沿正交方向為15mm之大小，利用截切刀於偏光件與透明保護薄膜(3a)之間切入切口後，將聚丙烯酸丁酯系黏著劑之剝離薄膜剝離，將黏著劑面貼合於玻璃板。藉由拉力，沿120度方向以剝離速度10000mm/min將偏光件與透明保護薄膜(3a)剝離，測定該剝離強度(N/15mm)。
＜接著耐久性＞ 將積層偏光薄膜之液晶型相位差薄膜側之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜剝離，於剝離面貼合聚丙烯酸丁酯系黏著劑(厚度23μm)。進而，切出沿與偏光件之延伸方向平行而為300mm、沿正交方向為200mm之大小，將聚丙烯酸丁酯系黏著劑之剝離薄膜剝離，將黏著劑面貼合於玻璃板。將其於50℃、5個大氣壓之環境下進行15分鐘加壓處理，投入85℃之環境下500小時後，測定偏光薄膜之端部之剝離距離。未產生剝離者設為○，於產生與端部之距離為2mm以內之剝離之情形時設為△，於產生大於2mm之剝離之情形時設為×。
＜接著劑之液體穩定性(適用期)＞ 將接著劑液放入250mL容量之玻璃瓶中，於25℃相對濕度50%之環境下，於開放系統中利用磁力攪拌器加以攪拌並放置後，目視評價接著劑是否發生液相分離而白濁。於攪拌時間為24小時之情形時，不白濁而透明者設為○，攪拌時間為12小時之時不白濁而透明，但攪拌時間為24小時之時白濁者設為△，於攪拌時間為12小時之情形時白濁者設為×。
＜耐衝擊性＞ 於積層偏光薄膜之相位差薄膜面積層黏著劑層，切割成沿偏光件之延伸方向為50mm、沿垂直方向為100mm之長方形。於厚度0.5mm、縱120mm、橫60mm之玻璃板層壓上述積層偏光薄膜，製成樣品。再者，於玻璃板之背面，為了防止破壞而預先整面地貼附有透明膠帶。使製成之樣品自高度1m自然墜落。目視觀察重複100次該墜落後之端部之剝離狀態。○：未確認到剝離。△：自端部起剝離未達1mm。×：自端部起剝離為1mm以上。
＜耐龜裂性(熱衝擊試驗)＞ 將積層偏光薄膜之液晶型相位差薄膜側之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜剝離，於剝離面貼合聚丙烯酸丁酯系黏著劑(厚度23μm)。進而，切割成沿偏光件之延伸方向為200mm、沿垂直方向為400mm之長方形。於玻璃板透過前述黏著劑層層壓上述偏光薄膜，進行-40℃⇔85℃之熱循環試驗，目視觀察50次循環後之偏光薄膜，基於下述基準進行評價。○：未見產生龜裂。△：產生未於偏光件之延伸方向上貫通之龜裂(龜裂長度200mm以下)。×：產生於偏光件之延伸方向上貫通之龜裂(龜裂長度200mm)。
＜加熱彎曲性＞ 於積層偏光薄膜之相位差薄膜面積層黏著劑層，切割成沿偏光件之延伸方向為200mm、沿垂直方向為400mm之長方形。於液晶單元(「自Sony公司製造之32英吋液晶電視BRAVIA(註冊商標)KDL-32F1」取出液晶單元而使用)之兩面，透過前述黏著劑層將上述積層偏光薄膜以成為正交偏光狀態之方式進行層壓而製成液晶面板。對該液晶面板進行下述試驗。1：加熱試驗(於85℃下分別加熱12小時)2：進行-40℃⇔85℃之熱循環試驗，100次循環於試驗後，目視觀察液晶面板，基於下述基準評價條紋不均。○：未見產生條紋不均。△：僅於面板之端部略微地見到條紋不均之產生。×：產生條紋不均。
[表1]
[表2]
[表3]
表1～3中，自由基聚合性化合物為 (A)logPow為-2～2之A成分HEAA：羥乙基丙烯醯胺，logPow=-0.56，興人公司製造ACMO：丙烯醯嗎啉，logPow=0.20，興人公司製造NVP：(N-乙烯基-2-吡咯啶酮，logPow=-0.24，日本觸媒公司製造)DEAA：(N,N-二乙基丙烯醯胺，logPow=1.69)(B)logPow大於7之B成分ISTA：丙烯酸異硬脂酯，logPow=7.5，大阪有機化學工業公司製造(C)具有碳數2～13之烷基之烷基(甲基)丙烯酸酯Light acrylate L-A：丙烯酸月桂酯，logPow=6.0，共榮社化學公司製造(D)具有羥基之(甲基)丙烯酸酯4HBA：丙烯酸4-羥基丁酯，logPow=0.68，大阪有機化學工業公司製造PLACCEL FA1DDM：2HEA之己內酯1莫耳加成物，logPow=1.06，Daicel公司製造(E)多官能自由基聚合性化合物TPGDA：三丙二醇二丙烯酸酯，logPow=1.68，東亞合成公司製造Light acrylate 9EG-A：乙二醇(加成莫耳數之平均值9)二丙烯酸酯，logPow=-0.1，共榮社化學公司製造，Light acrylate 1,9NDA：1,9-壬二醇二丙烯酸酯，logPow=3.68，共榮社化學公司製造(F)具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物AAEM：甲基丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙酯，日本合成化學公司製造(G)使(甲基)丙烯酸系單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物UP-1190(ARUFON UP-1190)，東亞合成公司製造(H)具有奪氫作用之自由基聚合引發劑KAYACURE DETX-S：二乙基-9-氧硫𠮿，日本化藥公司製造(I)其他光聚合引發劑IRGACURE 907(通式(2)所表示之化合物)：2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮，BASF公司製造交聯劑Coronate L：(日本聚胺甲酸乙酯工業公司製造，三羥甲基丙烷與甲苯二異氰酸酯之加成物)不具有聚合基之矽烷偶合劑KBM602：N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷，Shin-Etsu Silicones公司製造
1‧‧‧偏光件 2、3a、3b‧‧‧透明保護薄膜 3、3c‧‧‧光學薄膜(相位差薄膜) a、a'、b‧‧‧接著劑層 P、P1‧‧‧偏光薄膜
圖1係表示本發明之偏光薄膜之一實施形態之剖視圖。 圖2係表示本發明之偏光薄膜之一實施形態之剖視圖。圖3係表示本發明之偏光薄膜之一實施形態之剖視圖。
1‧‧‧偏光件
3a、3b‧‧‧透明保護薄膜
a、b‧‧‧接著劑層
P1‧‧‧偏光薄膜

Claims (27)

  1. 一種偏光薄膜，係透過接著劑層(a)及(b)於偏光件之兩面分別設置有透明保護薄膜，且其特徵在於： 一面之接著劑層(a)之玻璃轉移溫度為-60℃至未達40℃，另一面之接著劑層(b)之玻璃轉移溫度為40℃以上，前述接著劑層(a)係利用對活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)照射活性能量射線而成之硬化物層所形成者， 前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)含有表示辛醇/水分配係數之logPow為-2～2之A成分與logPow大於7之B成分作為自由基聚合性化合物。
  2. 如請求項1之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述A成分含有選自於由(甲基)丙烯醯胺衍生物、含胺基單體及含有含氮雜環之乙烯基單體所構成群組中之至少一種含氮單體。
  3. 如請求項1或2之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述B成分含有碳數14～20烷基(甲基)丙烯酸酯。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，將前述自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，前述A成分之比率為10重量%以上。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，將前述自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時，前述B成分之比率為15重量%以上。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)進一步含有logPow大於2且為7以下之多官能自由基聚合性化合物。
  7. 如請求項6之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述多官能自由基聚合性化合物為碳數7～12之伸烷基二(甲基)丙烯酸酯。
  8. 如請求項1至7中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)除含有前述自由基聚合性化合物外，還進一步含有使(甲基)丙烯酸系單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物。
  9. 如請求項1至8中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)含有具有羥基之自由基聚合性化合物。
  10. 如請求項1至9中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)除含有前述自由基聚合性化合物外，還進一步含有矽烷偶合劑。
  11. 如請求項10之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述矽烷偶合劑為不具有自由基聚合性官能基之矽烷偶合劑。
  12. 如請求項1至11中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)含有具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物與具有奪氫作用之自由基聚合引發劑。
  13. 如請求項12之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述活性亞甲基為乙醯乙醯基。
  14. 如請求項12或13之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，具有前述活性亞甲基之自由基聚合性化合物為(甲基)丙烯酸乙醯乙醯氧基烷基酯。
  15. 如請求項12至14中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)中，前述自由基聚合引發劑為9-氧硫𠮿系自由基聚合引發劑。
  16. 如請求項1至15中任一項之偏光薄膜，其中前述接著劑層(b)係於85℃下之儲存彈性模數為1.0×106 ～1.0×1010 Pa且厚度滿足0.03～3μm之接著劑層(b1)。
  17. 如請求項1至16中任一項之偏光薄膜，其中前述偏光件之厚度為1～10μm。
  18. 如請求項1至17中任一項之偏光薄膜，其中前述透明保護薄膜之至少單面的透明保護薄膜為相位差薄膜。
  19. 如請求項1至18中任一項之偏光薄膜，其中前述透明保護薄膜之至少單面的透明保護薄膜的表示辛醇/水分配係數之logPow為-2～2。
  20. 如請求項1至19中任一項之偏光薄膜，其中前述透明保護薄膜係滿足下述式(1)～(3)之反波長分散型相位差薄膜： 0.70＜Re[450]/Re[550]＜0.97・・・(1) 1.5×10-3 ＜Δn＜6×10-3 ・・・(2) 1.13＜NZ＜1.50・・・(3) (式中，Re[450]及Re[550]分別為於23℃下利用波長450nm及550nm之光所測得的相位差薄膜之面內相位差值；Δn為相位差薄膜的面內雙折射，即係將相位差薄膜之遲相軸方向、進相軸方向之折射率分別設為nx、ny時之nx－ny；NZ為將nz作為相位差薄膜厚度方向之折射率時，厚度方向雙折射nx－nz與面內雙折射nx－ny之比)。
  21. 如請求項1至20中任一項之偏光薄膜，其於將前述偏光件與前述透明保護薄膜強制剝離時，前述接著劑層(a)發生內聚破壞。
  22. 如請求項1至21中任一項之偏光薄膜，其將前述偏光件與前述透明保護薄膜強制剝離時之層間接著力為0.9N/15mm以上。
  23. 一種偏光薄膜之製造方法，係製造如請求項1至22中任一項之偏光薄膜，且該製造方法之特徵在於包括如下步驟： 第1塗敷步驟，係於前述偏光件及一前述透明保護薄膜之至少一面上塗敷用來形成前述接著劑層(b)之接著劑組成物(b)；第1貼合步驟，係將前述偏光件與前述透明保護薄膜貼合；第1接著步驟，係透過藉由使前述接著劑組成物(b)硬化而獲得之接著劑層(b)，使前述偏光件與一前述透明保護薄膜接著；第2塗敷步驟，係於前述偏光件及另一前述透明保護薄膜之至少一面上塗敷前述用來形成接著劑層(a)之活性能量射線接著劑組成物(a)；第2貼合步驟，係將前述偏光件與前述透明保護薄膜貼合；及第2接著步驟，係透過接著劑層(a)接著前述偏光件與另一前述透明保護薄膜，且該接著劑層(a)係藉由照射前述活性能量射線使前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)硬化而獲得。
  24. 一種偏光薄膜之製造方法，係製造如請求項1至22中任一項之偏光薄膜，且該製造方法之特徵在於包括如下步驟： 塗敷步驟，係於前述偏光件及一前述透明保護薄膜之至少一面上塗敷用來形成前述接著劑層(b)之活性能量射線硬化型接著劑組成物(b)；塗敷步驟，係於前述偏光件及另一前述透明保護薄膜之至少一面上塗敷前述用來形成接著劑層(a)之活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)；貼合步驟，係將前述偏光件與前述透明保護薄膜貼合；及接著步驟，係透過接著劑層(a)及接著劑層(b)接著前述偏光件與前述透明保護薄膜，且該接著劑層(a)及接著劑層(b)係藉由照射前述活性能量射線使前述活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)及(b)硬化而獲得。
  25. 如請求項23或24之偏光薄膜之製造方法，其中前述活性能量射線之波長範圍380～440nm之累計照度與波長範圍250～370nm之累計照度的比為100：0～100：50。
  26. 一種光學薄膜，其特徵在於積層有至少1片如請求項1至22中任一項之偏光薄膜。
  27. 一種影像顯示裝置，其特徵在於使用有如請求項1至22中任一項之偏光薄膜、或如請求項26之光學薄膜。
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