TW201711586A - 鞋具及足弓衝擊區域之鞋底 - Google Patents

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TW201711586A
TW201711586A TW105116737A TW105116737A TW201711586A TW 201711586 A TW201711586 A TW 201711586A TW 105116737 A TW105116737 A TW 105116737A TW 105116737 A TW105116737 A TW 105116737A TW 201711586 A TW201711586 A TW 201711586A
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羅伯特 戴爾
札能 史摩垂茲
趙中信
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馬賽國際公司
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Abstract

本文中闡述一種用於一鞋具之鞋底。該鞋底沿一縱向方向自一跟部區域通過一足弓區域延伸至一前足區域。該鞋底包含一中底及一外底。該中底具有用於附接至一內底及一鞋面中之至少一者之一上部表面及與該上部表面相對安置之一下部表面。該中底包含一前足緩衝元件、一足弓緩衝元件及一跟部緩衝元件。該外底沿著該中底之該下部表面安置且界定該鞋底之一觸地表面。該鞋底具有一向上呈凸形之底部輪廓，使得在該足弓區域內界定該鞋底之一衝擊區域，且該足弓緩衝元件安置於該足弓區域內且安置於該鞋底之該衝擊區域正上方。

Description

鞋具及足弓衝擊區域之鞋底
本技術領域一般而言係關於鞋具，且更具體而言係關於針對一足弓衝擊區域設計之供用於鞋具中之鞋底。
鞋具(諸如鞋)一般而言包含一鞋底及貼附至該鞋底之一鞋面，該鞋面環繞安放在該鞋底上之一腳。某些已知鞋底經設計以對一使用者之腳提供一滾動作用，且趨向於具有一不穩定效應，從而與被動行走或跑步相比需要來自使用者之肌肉系統及骨骼系統之一較主動或「動態」回應。與被動行走相比，主動行走提供眾多益處，包含鍛煉在被動行走中通常被忽略之肌肉、改良姿勢及步態型樣及緩解背、臀、腿及腳病痛以及關節、肌肉、韌帶及肌腱損傷。
某些已知鞋底經設計以在行走期間提供一滾動作用，且一般而言在鞋底之跟部區域中包含一相對軟材料。然而，經設計用於行走之鞋底可提供用於跑步之不太理想之滾動作用，以及用於跑步之不太理想之緩衝及支撐。
另外，經設計用於跑步之某些已知鞋底包含位於鞋底之跟部區域中之一軟元件。舉例而言，在2002年1月29日發佈之頒予Muller之美國專利第6,341,432號(該美國專利之全部內容藉此以引用方式併入)闡述一鞋底，該鞋底具有安置於鞋底之一跟部區中之鞋底之一凹部中 之一軟材料。然而，鞋之外底具有一相對平坦外形，且因此促成沿著鞋底之跟部之一衝擊區域。因此，該鞋底可為具有一足弓撞擊之跑步者提供不太理想之緩衝及支撐。
因此，需要經設計以在跑步期間提供一動態滾動作用之一鞋底。
此先前技術章節意欲向讀者介紹各種技術態樣，該等技術態樣可係關於下文所闡述及/或所主張之本發明之各種態樣。相信此論述有助於為讀者提供背景資訊以促進對本發明之各種態樣之一更好理解。因此，應理解，應以此觀點來閱讀此等敘述，而非作為對先前技術之認可。
在一種態樣中，提供一種用於一鞋具之鞋底。該鞋底沿一縱向方向自一跟部區域通過一足弓區域延伸至一前足區域。該鞋底包含一中底及一外底。該中底具有用於附接至一內底及一鞋面中之至少一者之一上部表面及與該上部表面相對安置之一下部表面。該中底包含一前足緩衝元件、一足弓緩衝元件及一跟部緩衝元件。該外底沿著該中底之該下部表面安置且界定該鞋底之一觸地表面。該鞋底具有一向上呈凸形之底部輪廓，使得在該足弓區域內界定該鞋底之一衝擊區域，且該足弓緩衝元件安置於該足弓區域內且安置於該鞋底之該衝擊區域正上方。
在另一態樣中，提供一種用於一鞋具之鞋底。該鞋底沿一縱向方向自一跟部區域通過一足弓區域延伸至一前足區域。該鞋底包含一中底及一外底。該中底具有用於附接至一內底及一鞋面中之至少一者之一上部表面及與該上部表面相對安置之一下部表面。該中底包含一前足緩衝元件、一足弓緩衝元件及一跟部緩衝元件。該外底沿著該中底之該下部表面安置且界定該鞋底之一觸地表面。該鞋底具有一向上 呈凸形之底部輪廓，使得在該足弓區域內界定該鞋底之一衝擊區域。該中底在該前足區域中具有一第一硬度，在該跟部區域中具有小於該第一硬度之一第二硬度，且在該足弓區域中該衝擊區域上方具有小於該第一硬度及該第二硬度兩者之一第三硬度。
在又一態樣中，提供一種用於一鞋具之鞋底。該鞋底沿一縱向方向自一跟部區域通過一足弓區域延伸至一前足區域。該鞋底包含一中底及一外底。該中底具有用於附接至一內底及一鞋面中之至少一者之一上部表面及與該上部表面相對安置之一下部表面。該外底沿著該中底之該下部表面安置且界定該鞋底之一觸地表面。該鞋底具有一向上呈凸形之底部輪廓，使得在該足弓區域內界定該鞋底之一衝擊區域。該外底沿著該足弓區域具有一相對勁性構造以在該衝擊區域內形成一樞轉軸，該跟部區域及該前足區域圍繞該樞轉軸樞轉。該跟部區域自該足弓區域向上彎曲且具有介於390毫米與約450毫米之間的一曲率半徑。該前足區域自該足弓區域向上延伸且具有介於360毫米與約420毫米之間的一曲率半徑。
關於上文所提及態樣所述之特徵存在各種改進形式。進一步特徵亦可同樣地併入於上文所提及態樣中。此等改進形式及額外特徵可個別地或以任一組合形式存在。舉例而言，下文關於所圖解說明實施例中之任一者論述之各種特徵可單獨地或以任一組合形式併入至上文所闡述態樣中之任一者中。
4-4‧‧‧線
5-5‧‧‧線
6-6‧‧‧線
7-7‧‧‧線
13-13‧‧‧線
16-16‧‧‧線
20‧‧‧鞋具
22‧‧‧鞋面
100‧‧‧鞋底
102‧‧‧行走或縱向方向/縱向方向
104‧‧‧橫向方向
106‧‧‧垂直方向
110‧‧‧跟部區域
112‧‧‧蹠骨或足弓區域/足弓區域/中底區域
114‧‧‧足掌與趾部或前足區域/前足區域
116‧‧‧跟部
118‧‧‧趾部
120‧‧‧外側
122‧‧‧內側
124‧‧‧中底
126‧‧‧外底
128‧‧‧上部表面
130‧‧‧下部表面
132‧‧‧前足緩衝元件
134‧‧‧足弓緩衝元件
136‧‧‧跟部緩衝元件
138‧‧‧凹部
140‧‧‧觸地表面
142‧‧‧衝擊區域/足弓衝擊區域
144‧‧‧第一曲率半徑
146‧‧‧第二曲率半徑
148‧‧‧第三曲率半徑
150‧‧‧地面或參考平面
152‧‧‧垂直距離
154‧‧‧垂直距離
156‧‧‧樞轉軸
160‧‧‧加強元件
162‧‧‧第一叉腳
164‧‧‧第二叉腳
900‧‧‧鞋底
902‧‧‧加強元件
904‧‧‧交叉部件
910‧‧‧跟部區域
912‧‧‧足弓區域
914‧‧‧前足區域
1000‧‧‧鞋底
1002‧‧‧加強元件
1004‧‧‧第一叉腳
1006‧‧‧第二叉腳
1008‧‧‧u形連接件
1010‧‧‧跟部區域
1012‧‧‧足弓區域
1014‧‧‧前足區域
1016‧‧‧內側
1018‧‧‧外側
1020‧‧‧交叉部件
1022‧‧‧向前突出部件
1024‧‧‧前足交叉部件
1100‧‧‧鞋底
1400‧‧‧鞋底
1402‧‧‧行走或縱向方向/縱向方向
1404‧‧‧橫向方向
1410‧‧‧跟部區域
1412‧‧‧足弓區域
1414‧‧‧前足區域
1416‧‧‧中底
1418‧‧‧外底
1420‧‧‧上部表面
1422‧‧‧下部表面
1424‧‧‧衝擊區域
1426‧‧‧第一曲率半徑
1428‧‧‧第二曲率半徑
1430‧‧‧第三曲率半徑
1432‧‧‧樞轉軸
圖1係包含一鞋底之一實例性實施例之一鞋具之一側視圖；圖2係圖1之鞋底之一內側視圖；圖3係圖1之鞋底之一底部平面圖；圖4係沿著圖3中之線4-4截取之圖1之鞋底之一剖面；圖5係沿著圖3中之線5-5截取之圖1之鞋底之一剖面； 圖6係沿著圖3中之線6-6截取之圖1之鞋底之一剖面；圖7係沿著圖3中之線7-7截取之圖1之鞋底之一剖面；圖8係圖1之鞋底之一頂部平面圖，其圖解說明適合於與圖1至圖8之鞋底一起使用之一加強元件之一項實施例；圖9係另一鞋底之一頂部平面圖，其圖解說明適合於與圖1至圖8之鞋底一起使用之一加強元件之另一實施例；圖10係另一鞋底之一頂部平面圖，其圖解說明適合於與圖1至圖8之鞋底一起使用之一加強元件之另一實施例；圖11係一鞋底之另一實施例之一側視圖；圖12係圖11之鞋底之一底部平面圖；圖13係沿著圖12中之線13-13截取之圖11之鞋底之一剖面；圖14係一鞋底之另一實施例之一側視圖；圖15係圖14之鞋底之一底部平面圖；且圖16係沿著圖15中之線16-16截取之圖14之鞋底之一剖面。
貫穿圖式之數個視圖，對應元件符號指示對應零件。
參考圖1，以一跑步鞋之形式展示之一鞋具一般而言其全部藉由元件符號20指示。該鞋具包含一鞋底(一般而言藉由元件符號100指示)及一鞋面22。鞋底100藉由適合附接手段(諸如黏著接合)固定至鞋面22以形成鞋具20。鞋面22用於使用適合扣件(舉例而言且非限制地包含鞋帶、帶扣、綁帶、鉤環扣件以及使鞋面22及鞋底100能夠被緊固至一穿用者之腳之任何其他機械扣件)將鞋具20及鞋底100緊固至一穿用者之腳。在一項實施例中，鞋面22係由一相對輕質、透氣材料(諸如一網格材料)構造而成。在其他實施例中，鞋面22可由除輕質、透氣材料之外的材料構造而成。
另外參考圖2至圖8，鞋底100沿一行走或縱向方向102自一跟部 區域110通過一蹠骨或足弓區域112延伸至一足掌與趾部或前足區域114。跟部區域110、足弓區域112及前足區域114各自沿縱向方向102延伸超過鞋底100之長度之大約三分之一。跟部區域110鄰接足弓區域112，且沿縱向方向102自足弓區域112向後延伸至鞋底100之一跟部116。前足區域114鄰接足弓區域112，且沿縱向方向102自足弓區域112向前延伸至鞋底100之一趾部118。
如在圖3及圖5至圖7中所展示，跟部區域110、足弓區域112及前足區域114中之每一者具有沿垂直於縱向方向102定向之一橫向方向104量測之一各別寬度。鞋底100亦包含安置於鞋底100之橫向相對側上之一外側120及一內側122。鞋底100之外側120一般而言係指當穿在一穿用者之腳上時面向外且遠離穿用者之鞋底100之外部側，且內側122一般而言係指當穿在穿用者之腳上時面向穿用者之身體之鞋底100之內部側。鞋底100及其組件之厚度係沿著垂直於縱向方向102及橫向方向104兩者定向之一垂直方向106而量測。
如在圖1至圖4中所展示，鞋底100一般而言包含一中底124及一外底126。如在圖4中所展示，中底124自鞋底100之跟部116延伸至鞋底100之趾部118，且包含用於附接至一內底(未展示)及鞋面22(圖1)中之至少一者之一上部表面128及與上部表面128相對安置之一下部表面130。外底126沿著中底124之下部表面130安置，且自跟部區域110延伸至前足區域114。外底126界定鞋底100之一觸地表面140，且係由一相對硬的耐磨材料構造而成。外底126可由其構造而成之適合材料舉例而言且非限制地包含硬橡膠。在某些實施例中，外底126與中底124之下部表面130共同模製在一起以提供一相對輕質構造且提供磨損與撓性之一平衡。
在實例性實施例中，中底124具有一個三件式構造，其包含一前足緩衝元件132、一足弓緩衝元件134及一跟部緩衝元件136。
前足緩衝元件132自前足區域114通過足弓區域112延伸至跟部區域110，且界定中底之上部表面128。在實例性實施例中，前足緩衝元件132延伸自跟部116至趾部118之鞋底100之整個長度。前足緩衝元件132沿著鞋底100之前足區域114鄰接外底126，且在足弓區域112及跟部區域110中與外底126間隔。
前足緩衝元件132在前足區域114中沿垂直方向106延伸自中底124之上部表面128至中底124之下部表面之一厚度。亦即，前足緩衝元件132在前足區域114中填充中底124之整個體積。前足緩衝元件132亦包含自鞋底100之前足區域114向後延伸至跟部116之一薄部分或分段。
足弓緩衝元件134安置於足弓區域112內且沿著足弓區域112鄰接外底126。足弓緩衝元件134垂直地安置於前足緩衝元件132(具體而言，向後延伸之薄分段)與外底126之間，且水平地安置於前足緩衝元件132與跟部緩衝元件136之間。
跟部緩衝元件136安置於鞋底100之跟部區域110內且垂直地安置於前足緩衝元件132與外底126之間。此外，跟部緩衝元件136垂直地安置於足弓緩衝元件134與外底126之間。跟部緩衝元件136在鞋底100之跟部區域110中鄰接前足緩衝元件132及外底126中之每一者。
如在圖4中所展示，前足緩衝元件132及跟部緩衝元件136在鞋底100之足弓區域112中協作地界定一凹部138。足弓緩衝元件134安置於凹部138內，且垂直地及水平地安置於前足緩衝元件132與跟部緩衝元件136之間。足弓緩衝元件134沿著足弓緩衝元件134之一上部表面鄰接前足緩衝元件132，且沿著足弓緩衝元件134之一下部表面鄰接跟部緩衝元件136。
與外底126相比，中底124之每一組件係由一相對軟的撓性材料構造而成以提供一所要量之阻尼。中底124之組件可由其構造而成之 適合材料舉例而言且非限制地包含聚氨酯彈性體發泡體、開孔(open-celled)發泡體(諸如開孔聚氨酯發泡體)、乙烯醋酸乙烯酯(EVA)及其組合。在實例性實施例中，與足弓緩衝元件134相比，前足緩衝元件132及跟部緩衝元件136係由相對堅固材料構造而成以提供一低至中等位準之阻尼吸收及吸震。與前足緩衝元件132及跟部緩衝元件136相比，足弓緩衝元件134係由一相對軟的彈性及高度可變形材料構造而成以提供一高量之阻尼吸收及吸震。足弓緩衝元件134可由其構造而成之適合材料舉例而言且非限制地包含開孔發泡體，諸如開孔聚氨酯發泡體。一般而言，足弓緩衝元件134比前足緩衝元件132及跟部緩衝元件136中之每一者具有一更低密度及一更低硬度。
在另一實施例中，與前足緩衝元件132及足弓緩衝元件134相比，跟部緩衝元件136係由一相對軟的彈性及高度可變形材料構造而成，且係中底124中之最軟緩衝元件。在此等實施例中，跟部緩衝元件136比前足緩衝元件132及足弓緩衝元件134中之每一者具有一更低密度及一更低硬度。
在實例性實施例中，前足緩衝元件132、足弓緩衝元件134及跟部緩衝元件136各自係由單獨材料片構造而成，但在其他實施例中，前足緩衝元件132、足弓緩衝元件134及跟部緩衝元件136中之兩者或兩者以上可具有一單片式或單件式構造。
如在圖1、圖2及圖4中所展示，鞋底100具有一連續向上呈凸形之底部輪廓。鞋底100之底部輪廓經定大小且經塑形使得在鞋底100之足弓區域112內界定鞋底100之一衝擊區域142。術語「衝擊區域」一般而言係指沿著鞋底100之觸地表面140的在跑步期間最初撞擊或接觸一地面表面之點或區。
鞋底100之底部輪廓通常自足弓區域112向上彎曲至跟部區域110及前足區域114中之每一者。
在某些實施例中，跟部區域110(具體而言，跟部區域110內之外底126)以介於約220毫米(mm)與約460mm之間，且更適合地介於約240mm與約350mm之間的一第一曲率半徑144自足弓區域112向上彎曲。前足區域114(具體而言，前足區域114內之外底126)以介於約220mm與約440mm之間，且更適合地介於約240mm與約320mm之間的一第二曲率半徑146自足弓區域112向上彎曲。足弓區域112具有介於約800mm與約1040mm之間，且更適合地介於約840mm與約1000mm之間的一第三曲率半徑148。跟部區域110、足弓區域112及前足區域114之曲率半徑可取決於鞋之大小及鞋之既定應用而變化。在某些實施例中，跟部區域110、足弓區域112及前足區域114之曲率半徑之間的比率介於約1.0：2.0：1.0與約1.1：3.5：1.0之間。在其他實施例中，跟部區域110、足弓區域112及前足區域114可具有使鞋底100能夠如本文中所闡述地發揮作用之任何適合曲率半徑。在其他實施例中，鞋底100之底部輪廓可具有自跟部區域110通過足弓區域112且延伸至前足區域114中之一單一連續曲率半徑。
鞋底100之底部輪廓導致當鞋底100在圖4中之150處所指示之一平坦參考地面平面(亦即，垂直於垂直方向106定向之一平面)上處於一未經負載狀況中(亦即，安靜)時，衝擊區域142係沿垂直方向106量測之鞋底100上之最低點。在圖4中所圖解說明之鞋底100之狀況在本文中亦稱為一參考狀況。
如在圖4中所展示，當鞋底100處於參考狀況中時，鞋底100之跟部116在衝擊區域142上方間隔一垂直距離152，且趾部118在衝擊區域142上方間隔一垂直距離154。在某些實施例中，跟部116與衝擊區域142之間的垂直距離152係至少約15mm，更適合地係至少約25mm，且甚至更適合地係至少約35mm。此外，在某些實施例中，趾部118與衝擊區域142之間的垂直距離154係至少約25mm，更適合地係至少 約45mm，且甚至更適合地係至少約50mm。
鞋底100亦具有促成一足弓衝擊區域142之一厚度輪廓。具體而言，沿著平行於垂直方向106之一垂直軸而自中底124之上部表面128至外底126量測的鞋底100之厚度自跟部區域110至足弓區域112逐步增加，且自足弓區域112至前足區域114逐步減小。此外，在某些實施例中(例如，圖13)，鞋底100之最厚部分係在足弓區域112中，且一般而言與衝擊區域142對準。亦即，鞋底100在中底區域112中具有大於在跟部區域110及前足區域114中之鞋底100之厚度的一厚度。鞋底100之厚度包含中底124及外底126，且沿著垂直方向106(亦即，法向於鞋底100之縱向方向102之一方向，且當在參考狀況中時(在圖4中所展示)，法向於地面或參考平面150之一方向)自中底124之上部表面128至鞋底100之觸地表面140量測。
在一項實施例中，跟部區域110(具體而言，當鞋底穿在一使用者之腳上時位於腳之跟骨正下方之鞋底100之部分)中之鞋底100之厚度介於約13mm與約23mm之間，且更適合地介於約16mm與約20mm之間；足弓區域112中之鞋底之最大厚度介於約20mm與約30mm之間，且更適合地介於約22mm與約26mm之間；並且前足區域114中之鞋底100之厚度介於約13mm與約23mm之間，且更適合地介於約16mm與約20mm之間。
在另一實施例中，跟部區域110(具體而言，當鞋底穿在一使用者之腳上時位於腳之跟骨正下方之鞋底100之部分)中之鞋底100之厚度介於約27mm與約37mm之間，且更適合地介於約30mm與約34mm之間；足弓區域112中之鞋底之最大厚度介於約26mm與約36mm之間，且更適合地介於約28mm與約32mm之間；並且前足區域114中之鞋底100之厚度介於約15mm與約25mm之間，且更適合地介於約17mm與約23mm之間。
在又一實施例中，跟部區域110(具體而言，當鞋底穿在一使用者之腳上時位於腳之跟骨正下方之鞋底100之部分)中之鞋底100之厚度介於約31mm與約42mm之間，且更適合地介於約33mm與約39mm之間；足弓區域112中之鞋底之最大厚度介於約33mm與約44mm之間，且更適合地介於約36mm與約41mm之間；並且前足區域114中之鞋底100之厚度介於約22mm與約32mm之間，且更適合地介於約24mm與約30mm之間。在一項特定實施例中，足弓區域112比跟部區域110(具體而言，當鞋底穿在一使用者之腳上時位於腳之跟骨正下方之鞋底100之部分)厚約1mm與約4mm之間。
跟部區域110、足弓區域112及前足區域114中之鞋底100之確切厚度可取決於鞋之大小及鞋之既定應用而變化。在某些實施例中，跟部區域110、足弓區域112及前足區域114中之鞋底100之厚度之間的比率介於約1.0：1.1：1.0與約1.0：1.7：1.0之間。在其他實施例中，跟部區域110、足弓區域112及前足區域114中之鞋底100之厚度之間的比率介於約1.3：1.3：1.0與約1.7：1.6：1.0之間。在其他實施例中，跟部區域110、足弓區域112及前足區域114中之鞋底100之厚度之間的比率介於約1.2：1.25：1.0與約1.4：1.5：1.0之間。
鞋底100之底部輪廓(且更具體而言，鞋底100之曲率及厚度輪廓)促成一足弓衝擊區域。如在本文中更詳細地闡述，鞋底100之組件經設計以提供最佳緩衝及吸震，並且基於衝擊區域142位於鞋底100之足弓區域112中而在跑步期間促成一動態滾動作用。
外底126沿著足弓區域112具有一相對較勁性構造以形成一樞轉軸156，在使用期間跟部區域110及前足區域114圍繞該樞轉軸樞轉。特定而言，與自樞轉軸156向前及向後之外底126之部分相比，外底126沿著樞轉軸156係相對較勁性的以提供鞋底100可圍繞其樞轉之一剛性區。外底126可由一相對較勁性材料構造而成及/或沿著樞轉軸 156包含加勁元件(諸如纖維)以沿著樞轉軸156提供一增加之勁度。樞轉軸156基本上平行於橫向方向104且基本上垂直於縱向方向102定向。
如在圖4中所展示，樞轉軸156在鞋底100之衝擊區域142內，且藉此促進自初始衝擊點至趾部離地(toe-off)之一連續步態滾動，且促成與每一步一起之主動滾動。在實例性實施例中，樞轉軸156沿縱向方向102沿著鞋底100之中間三分之一定位，且更具體而言，位於距跟部116之鞋底100之長度之約40%至約60%之一縱向距離處。
足弓緩衝元件134經構形以在跑步期間提供最佳衝擊吸收且當使用者之重量自足弓區域112移位至前足區域114時將能量返回至使用者之腳。特定而言，足弓緩衝元件134安置於足弓區域112內，且在衝擊區域142及樞轉軸156正上方(亦即，緊鄰於衝擊區域142及樞轉軸156且垂直地位於其上方)。此外，足弓緩衝元件134沿著鞋底之衝擊區域142鄰接外底126，使得足弓緩衝元件134沿著衝擊區域142自鞋底100之一初始衝擊吸收能量，且在鞋底100圍繞樞轉軸156樞轉之後旋即將能量轉移至一使用者之腳。另外，足弓緩衝元件134具有沿垂直方向106量測之一厚度，該厚度自跟部區域110逐步增加至足弓區域112中之一最大厚度。足弓緩衝元件134藉此在跟部區域110中提供某些緩衝及吸震，而沿著足弓區域112及衝擊區域142提供大部分緩衝及吸震。此外，如在圖6及圖7中所展示，足弓緩衝元件134沿橫向方向104自外側120延伸至內側122以跨越鞋底100之整個寬度提供緩衝及吸震。
如上文所述，所圖解說明實施例之中底124具有一個三件式構造，包含前足緩衝元件132、足弓緩衝元件134及跟部緩衝元件136。在某些實施例中，前足緩衝元件132、足弓緩衝元件134及跟部緩衝元件136具有不同硬度值以沿著鞋底100之縱向方向102提供一所要硬度分佈或輪廓。在實例性實施例中，鞋底100沿著鞋底100之縱向方向 102具有一個三硬度構形，其在跑步期間促成一動態滾動作用且亦促進最佳吸震及能量轉移。特定而言，前足緩衝元件132、跟部緩衝元件136及足弓緩衝元件134具有不同硬度值，使得鞋底100之前足區域114具有一第一硬度，跟部區域110具有小於第一硬度之一第二硬度，且足弓區域112具有小於第一硬度及第二硬度兩者之一第三硬度。在另一適合實施例中，前足緩衝元件132、跟部緩衝元件136及足弓緩衝元件134具有不同硬度值，使得跟部區域110之硬度(亦即，第二硬度)小於前足區域114之硬度(亦即，第一硬度)及足弓區域112之硬度(亦即，第三硬度)兩者，且足弓區域112之硬度小於前足區域114之硬度。
在某些實施例中，前足緩衝元件132具有第一硬度，跟部緩衝元件136具有第二硬度，且足弓緩衝元件134具有第三硬度。在其他實施例中，前足緩衝元件132、跟部緩衝元件136及足弓緩衝元件134具有不同硬度值，使得前足區域114、足弓區域112及跟部區域110中之硬度值之所得組合分別係第一硬度、第二硬度及第三硬度。
在某些實施例中，前足區域114中之第一硬度值、跟部區域110中之第二硬度值及足弓區域112中之第三硬度值之間的比率介於約1.0：1.0：1.0與約2.0：1.75：1.0之間，且更適合地介於約1.2：1.1：1.0與約1.6：1.4：1.0之間。在一項特定實施例中，前足區域114中之第一硬度值、跟部區域110中之第二硬度值及足弓區域112中之第三硬度值之間的比率係約1.22：1.11：1.0。在另一特定實施例中，前足區域114中之第一硬度值、跟部區域110中之第二硬度值及足弓區域112中之第三硬度值之間的比率係約1.33：1.11：1.0。
在某些實施例中，前足區域114(具體而言，前足緩衝元件132)具有介於如在Asker C型硬度標度(下文係「Asker C」)上量測的約50與70之間，且更適合地介於約50 Asker C與65 Asker C之間的一硬度； 跟部區域110(具體而言，跟部緩衝元件136)具有介於約40 Asker C與60 Asker C之間，且更適合地介於約45 Asker C與55 Asker C之間的一硬度；並且足弓區域112(具體而言，足弓緩衝元件134)具有介於約35 Asker C與55 Asker C，且更適合地介於約40 Asker C與50 Asker C之間的一硬度。在一項特定實施例中，前足區域114具有約55 Asker C之一硬度，跟部區域110具有約50 Asker C之一硬度，且足弓區域112具有約45 Asker C之一硬度。在另一特定實施例中，前足區域114具有約60 Asker C之一硬度，跟部區域110具有約50 Asker C之一硬度，且足弓區域112具有約45 Asker C之一硬度。
如在圖8中所展示，所圖解說明實施例之鞋底100亦包含嵌入於中底124(具體而言，前足緩衝元件132)內之一加強元件160。加強元件160係由適合剛性、彈性材料構造而成，該等材料在中底124內提供撓性及結構支撐(亦即，剛性)兩者。加強元件160可由其構造而成之適合材料舉例而言且非限制地包含纖維加強乙烯醋酸乙烯酯(EVA)、碳纖維複合物、纖維加強聚氨酯彈性體(TPU)、玻璃加強複合物、耐綸(nylon)及其組合。加強元件160可(舉例而言)藉由圍繞加強元件模製中底124而嵌入於中底124中。
在圖8中所圖解說明之實施例中，加強元件160具有一大體u形剖面，且包含在鞋底100之跟部區域110中彼此連接之一第一叉腳162及一第二叉腳164。第一叉腳162及第二叉腳164中之每一者沿縱向方向102自跟部區域110延伸至至少足弓區域112以沿縱向方向102提供勁度。在圖8中所圖解說明之實施例中，第一叉腳162及第二叉腳164中之每一者沿縱向方向102自跟部區域110通過足弓區域112且延伸至前足區域114中。
圖9係另一鞋底900之一頂部平面圖，其圖解說明適合於用於圖1至圖8之鞋底100中之一加強元件902之另一實施例。在圖9中所展示之 加強元件902基本上類似於在圖8中所展示之加強元件160，唯加強元件902包含沿橫向方向104提供勁度之交叉部件904除外。因此，用相似元件符號標記相似元件。如在圖9中所展示，加強元件902包含在第一叉腳162與第二叉腳164之間延伸且將第一叉腳162與第二叉腳164互連之交叉部件904。所圖解說明加強元件902包含三個交叉部件904，但其他實施例可包含多於或少於三個交叉部件904。交叉部件904中之一者安置於鞋底900之一跟部區域910中，交叉部件904中之一者安置於鞋底900之一足弓區域912中，且交叉部件904中之一者安置於鞋底900之一前足區域914中。位於跟部區域910及足弓區域912中之交叉部件904各自沿平行於橫向方向104之一方向延伸，且因此在跟部區域910及足弓區域912中沿橫向方向104提供額外勁度。位於前足區域914中之交叉部件904以相對於橫向方向104介於約25度與約40度之間的一傾斜角度延伸，且因此在前足區域914中沿縱向方向102及橫向方向104兩者提供額外勁度。在圖9中所展示之加強元件902尤其良好地適合於用於具有相對軟跟部區域及足弓區域之一鞋底(諸如在圖1至圖8中所展示之鞋底100)中。
圖10係一鞋底1000之一頂部平面圖，其圖解說明適合於用於圖1至圖8之鞋底100中之一加強元件1002之另一實施例。在圖10中所圖解說明之實施例中，加強元件1002包含在鞋底1000之一跟部區域1010中藉由一u形連接件1008彼此連接之一第一叉腳1004及一第二叉腳1006。第一叉腳1004及第二叉腳1006中之每一者沿縱向方向102自跟部區域1010延伸至一足弓區域1012，但並不延伸至鞋底1000之一前足區域1014中。
第一叉腳1004經塑形與鞋底1000之一內側1016互補，且第二叉腳1006經塑形與鞋底1000之一外側1018互補。第一叉腳1004及第二叉腳1006與鞋底1000之各別內側1016及外側1018橫向向內間隔。
加強元件1002亦包含在第一叉腳1004與第二叉腳1006之間延伸且將第一叉腳1004與第二叉腳1006互連之複數個交叉部件1020。所圖解說明實施例包含四個交叉部件1020，但其他實施例可包含多於或少於四個交叉部件1020。在圖10中所圖解說明之實施例中，交叉部件1020中之兩者以相對於橫向方向104之一傾斜角度延伸，且在第一叉腳1004與第二叉腳1006之間的大約中間彼此相交。
加強元件1002亦包含沿縱向方向102自位於第一叉腳1004及第二叉腳1006之前部處之交叉部件1020向前延伸的向前突出部件1022。向前突出部件1022與鞋底1000之各別內側1016及外側1018橫向向內間隔，且亦與第一叉腳1004及第二叉腳1006橫向向內間隔。向前突出部件1022藉此沿著前足區域1014中之鞋底1000之橫向向外部分而沿縱向方向102提供撓性。
加強元件1002亦包含位於前足區域1014中之前足交叉部件1024。前足交叉部件1024中之每一者沿橫向方向104跨越兩個向前突出部件1022且超過向前突出部件1022而延伸。前足交叉部件1024藉此在前足區域1014中沿著鞋底1000之橫向向外部分而沿橫向方向104提供勁度。所圖解說明實施例包含三個前足交叉部件1024，但其他實施例可包含多於或少於三個前足交叉部件1024。
圖11至圖13係具有一足弓衝擊區域之一鞋底1100之另一適合實施例之各種視圖。除尺寸變化之外，鞋底1100基本上等同於在圖1至圖8中所展示之鞋底100。因此，用相似元件符號標記相似元件。
與圖1至圖8之鞋底100相比，圖11至圖13中所圖解說明之鞋底1100具有一更明顯足弓區域112。舉例而言，鞋底1100之跟部區域110(具體而言，跟部區域110內之外底126)以小於圖1至圖8之鞋底100之第一曲率半徑144之一第一曲率半徑144自足弓區域112向上彎曲，且前足區域114(具體而言，前足區域114內之外底126)以小於圖1至圖8 之鞋底100之第二曲率半徑146之一第二曲率半徑146自足弓區域112向上彎曲。
另外，在圖11至圖13中所圖解說明之實施例中，跟部區域110中之鞋底1100之厚度介於約17mm與約27mm之間，且更適合地介於約20mm與約24mm之間。足弓區域112中之鞋底1100之最大厚度介於約33mm與約44mm之間，且更適合地介於約36mm與約41mm之間。前足區域114中之鞋底1100之厚度介於約10mm與約20mm之間，且更適合地介於約13mm與約17mm之間。跟部區域110、足弓區域112及前足區域114中之鞋底1100之厚度之間的比率介於約1.4：2.5：1.0與約1.5：2.6：1.0之間。
圖14至圖16係具有一足弓衝擊區域之一鞋底1400之另一適合實施例之各種視圖。鞋底1400沿一行走或縱向方向1402自一跟部區域1410通過一足弓區域1412延伸至一前足區域1414。
圖14至圖16中所圖解說明之鞋底1400包含一中底1416及一外底1418。如在圖16中所展示，中底1416包含用於附接至一內底及一鞋面中之至少一者之一上部表面1420及與上部表面1420相對安置之一下部表面1422。外底1418沿著中底1416之下部表面1422安置，且自跟部區域1410延伸至前足區域1414。
在圖14至圖16中所圖解說明之實施例中，中底1416具有一單件式構造。亦即，鞋底1400之中底1416並非由單獨零件或組件形成。此外，在圖14至圖16中所圖解說明之實施例中，中底1416不包含一單獨緩衝元件。亦即，中底1416不含單獨緩衝元件，但中底1416可取決於中底1416之硬度而充當一緩衝元件。
類似於圖1至圖8之鞋底，鞋底1400具有一連續向上呈凸形之底部輪廓，使得在鞋底1400之足弓區域1412內界定鞋底1400之一衝擊區域1424。
在圖14至圖16中所圖解說明之實施例中，跟部區域1410(具體而言，跟部區域1410內之外底1418)以介於約390mm與約450mm之間的一第一曲率半徑1426自足弓區域1412向上彎曲，前足區域1414(具體而言，前足區域1414內之外底1418)以介於約360mm與約420mm之間的一第二曲率半徑1428自足弓區域1412向上彎曲，且足弓區域1412具有介於約970mm與約1030mm之間的一第三曲率半徑1430。
另外，外底1418沿著足弓區域1412具有一相對較勁性構造以形成一樞轉軸1432，在使用期間跟部區域1410及前足區域1414圍繞該樞轉軸樞轉。特定而言，與自樞轉軸1432向前及向後之外底1418之部分相比，外底1418沿著樞轉軸1432係相對較勁性的以提供鞋底1400可圍繞其樞轉之一剛性區。外底1418可由一相對較勁性材料構造而成及/或沿著樞轉軸1432包含加勁元件(諸如纖維)以沿著樞轉軸1432提供一增加之勁度。樞轉軸1432基本上平行於鞋底1400之一橫向方向1404(圖15)且基本上垂直於縱向方向1402定向。如在圖16中所展示，樞轉軸1432在鞋底1400之衝擊區域1424內，且藉此促進自初始衝擊點至趾部離地之一連續步態滾動，且促成與每一步一起之主動滾動。
所闡述之鞋底之實施例尤其良好地適合於跑步，且提供優於已知跑步鞋底之數個優點。舉例而言，本文中所闡述之鞋底之實施例具有一底部輪廓，該底部輪廓經造型且經塑形以促成沿著鞋底之足弓區域而非跟部區域之一衝擊或撞擊點。此外，本文中所闡述之鞋底係大體凸形的，且自足弓區域向上彎曲至跟部區域及前足區域中之每一者。藉此在跑步期間當一使用者之重量自跟部區域移位至前足區域時鞋底促成一動態滾動作用。另外，本文中所闡述之鞋底包含沿著鞋底之衝擊區域安置之一足弓樞轉軸，藉此促成自初始撞擊或衝擊點至趾部離地之一連續步態滾動。此外，本文中所闡述之鞋底包含配置於鞋底之足弓區域中，鞋底之衝擊區域正上方之一相對厚緩衝元件。藉 此，與在鞋底之跟部區域中具有一衝擊區域或緩衝元件之跑步鞋相比，鞋底藉助在足弓撞擊期間之優越的吸震而提供增強之緩衝及一軟著地。此外，本文中所闡述之鞋底亦具有一個三件式構造且提供一個三硬度構形，該構形在跑步期間促成一動態滾動作用且亦促進最佳吸震及能量轉移。
當介紹本發明之要素或其實施例時，冠詞「一(a、an)」、「該(the)」及「該(said)」意欲意指存在該等要素中之一或多者。術語「包括(comprising)」、「包含(including)」及「具有(having)」意欲具有包含性且意指除所列舉元件外可存在額外元件。
由於可在以上構造及方法中做出各種改變而不背離本發明之範疇，因此以上闡述中所含有及附圖中所展示之所有事項皆應解釋為說明性而不具有一限制意義。
20‧‧‧鞋具
22‧‧‧鞋面
100‧‧‧鞋底
102‧‧‧行走或縱向方向/縱向方向
106‧‧‧垂直方向
110‧‧‧跟部區域
112‧‧‧蹠骨或足弓區域/足弓區域/中底區域
114‧‧‧足掌與趾部或前足區域/前足區域
116‧‧‧跟部
118‧‧‧趾部
124‧‧‧中底
126‧‧‧外底
132‧‧‧前足緩衝元件
134‧‧‧足弓緩衝元件
136‧‧‧跟部緩衝元件
142‧‧‧衝擊區域/足弓衝擊區域
156‧‧‧樞轉軸

Claims (20)

  1. 一種用於一鞋具之鞋底，該鞋底沿一縱向方向自一跟部區域通過一足弓區域延伸至一前足區域，該鞋底包括：一中底，其具有用於附接至一內底及一鞋面中之至少一者之一上部表面及與該上部表面相對安置之一下部表面，該中底包含一前足緩衝元件、一足弓緩衝元件及一跟部緩衝元件；及一外底，其沿著該中底之該下部表面安置且界定該鞋底之一觸地表面；其中該鞋底具有一向上呈凸形之底部輪廓，使得在該足弓區域內界定該鞋底之一衝擊區域，該足弓緩衝元件安置於該足弓區域內且安置於該鞋底之該衝擊區域正上方。
  2. 如請求項1之鞋底，其中該外底沿著該足弓區域具有一相對勁性構造，藉此在該衝擊區域內形成一樞轉軸，該跟部區域及該前足區域圍繞該樞轉軸樞轉，該足弓緩衝元件安置於該樞轉軸正上方。
  3. 如請求項2之鞋底，其中該足弓緩衝元件沿著該鞋底之該衝擊區域鄰接該外底，藉此該足弓緩衝元件經構形以沿著該衝擊區域自該鞋底之一初始衝擊吸收能量，且在該鞋底圍繞該樞轉軸樞轉之後旋即將能量轉移至一使用者之腳。
  4. 如請求項1至3中任一項之鞋底，其中該前足緩衝元件及該跟部緩衝元件在該鞋底之該足弓區域中協作地界定一凹部，該足弓緩衝元件安置於該凹部內且垂直地及水平地安置於該前足緩衝元件與該跟部緩衝元件之間。
  5. 如請求項1至3中任一項之鞋底，其中該前足緩衝元件在該前足區域中延伸自該中底之該上部表面至該中底之該下部表面之一 厚度，該前足緩衝元件沿著該鞋底之該前足區域鄰接該外底且自該前足區域延伸至該跟部區域。
  6. 如請求項5之鞋底，其中該跟部緩衝元件垂直地安置於該前足緩衝元件與該外底之間，該跟部緩衝元件在該鞋底之該跟部區域中鄰接該前足緩衝元件及該外底中之每一者。
  7. 如請求項1至3中任一項之鞋底，其中該足弓緩衝元件具有小於該前足緩衝元件及該跟部緩衝元件中之每一者之一硬度的一硬度。
  8. 如請求項7之鞋底，其中該足弓緩衝元件具有一第一硬度，該前足緩衝元件具有大於該第一硬度之一第二硬度，且該跟部緩衝元件具有小於該第二硬度之一第三硬度。
  9. 如請求項1至3中任一項之鞋底，其中該足弓緩衝元件具有一第一硬度，該前足緩衝元件具有大於該第一硬度之一第二硬度，且該跟部緩衝元件具有小於該第一硬度及該第二硬度兩者之一第三硬度。
  10. 如請求項1至3中任一項之鞋底，其中該鞋底包含一外側及一相對內側，該足弓緩衝元件自該外側延伸至該內側。
  11. 如請求項1至3中任一項之鞋底，其進一步包括嵌入於該中底中之一加強元件，該加強元件具有一大體u形剖面，且包含在該鞋底之該跟部區域中彼此連接之一第一叉腳及一第二叉腳，該第一叉腳及該第二叉腳中之每一者沿該縱向方向自該跟部區域延伸至至少該足弓區域以沿該縱向方向提供勁度。
  12. 一種鞋具，其包括如請求項1至3中任一項之鞋底及緊固至中底之一鞋面。
  13. 一種用於一鞋具之鞋底，該鞋底沿一縱向方向自一跟部區域通過一足弓區域延伸至一前足區域，該鞋底包括： 一中底，其具有用於附接至一內底及一鞋面中之至少一者之一上部表面及與該上部表面相對安置之一下部表面，該中底包含一前足緩衝元件、一足弓緩衝元件及一跟部緩衝元件；及一外底，其沿著該中底之該下部表面安置且界定該鞋底之一觸地表面；其中該鞋底具有一向上呈凸形之底部輪廓，使得在該足弓區域內界定該鞋底之一衝擊區域，該中底在該前足區域中具有一第一硬度，在該跟部區域中具有小於該第一硬度之一第二硬度，且在該足弓區域中該衝擊區域上方具有小於該第一硬度及該第二硬度兩者之一第三硬度。
  14. 如請求項13之鞋底，其中該前足緩衝元件具有該第一硬度，該跟部緩衝元件具有該第二硬度，且該足弓緩衝元件具有該第三硬度。
  15. 如請求項14之鞋底，其中該前足緩衝元件及該跟部緩衝元件協作地界定其中安置有該足弓緩衝元件之一凹部，該前足緩衝元件自該前足區域延伸至該跟部區域。
  16. 如請求項14之鞋底，其中該足弓緩衝元件具有介於約35 Asker C與約55 Asker C之間的一硬度。
  17. 如請求項13至16中任一項之鞋底，其中該外底沿著該足弓區域具有一相對勁性構造以在該衝擊區域內形成一樞轉軸，該跟部區域及該前足區域圍繞該樞轉軸樞轉。
  18. 如請求項13至16中任一項之鞋底，其中該第一硬度、該第二硬度及該第三硬度之間的一比率介於約1.0：1.0：1.0與約2.0：1.75：1.0之間。
  19. 如請求項18之鞋底，其中該第一硬度、該第二硬度及該第三硬度之間的該比率介於約1.2：1.1：1.0與約1.6：1.4：1.0之間。
  20. 一種用於一鞋具之鞋底，該鞋底沿一縱向方向自一跟部區域通過一足弓區域延伸至一前足區域，該鞋底包括：一中底，其具有用於附接至一內底及一鞋面中之至少一者之一上部表面及與該上部表面相對安置之一下部表面，一外底，其沿著該中底之該下部表面安置且界定該鞋底之一觸地表面，其中該鞋底具有一向上呈凸形之底部輪廓，使得在該足弓區域內界定該鞋底之一衝擊區域，該外底沿著該足弓區域具有一相對勁性構造以在該衝擊區域內形成一樞轉軸，該跟部區域及該前足區域圍繞該樞轉軸樞轉，其中該跟部區域自該足弓區域向上彎曲且具有介於390毫米與約450毫米之間的一曲率半徑，並且該前足區域自該足弓區域向上延伸且具有介於360毫米與約420毫米之間的一曲率半徑。
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