TW201700688A - 附黏著劑層之光學膜及液晶顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種包含：光學膜、及積層在其至少一側之面上的黏著劑層之附黏著劑層之光學膜、以及含有該附黏著劑層之光學膜之液晶顯示裝置，且黏著劑層係由含有：(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)、及離子性化合物(C)之黏著劑組成物所構成，而矽烷化合物(B)為式(I)所示之矽烷化合物，且離子性化合物(C)之陰離子為選自固定之群組的陰離子。

Description

附黏著劑層之光學膜及液晶顯示裝置
本發明，係有關於附黏著劑層之光學膜、及含其之液晶顯示裝置。
以在偏光片之一面或雙面積層貼合透明樹脂膜所成偏光板為代表的光學膜，目前已廣泛使用為構成液晶顯示裝置等之影像顯示裝置的光學構材。惟偏光板之類的光學膜，多以經由將黏著劑層貼合在其他構材(例如液晶顯示裝置中之液晶晶胞等)而使用(可參考如：日本專利特開2010-229321號公報)。
因此作為光學膜，已知有在其一側的面預先設置黏著劑層之附黏著劑層之光學膜。而且，為可賦予抗靜電性，已知在黏著劑層含有離子性化合物者。
近年來，液晶顯示裝置，已發展於以智慧型手機及平板電腦型終端機、及汽車用衛星導航系統為代表而具有觸控面板機能之行動載具用途。在此類觸控輸入式液晶顯示裝置中之附黏著劑層之光學膜，其黏著劑層在 如由金屬配線所構成之金屬層，係配置為例如經由樹脂層、或者直接接觸。然而，在包含金屬材料之金屬層及含有離子性化合物的黏著劑層所組合之構造中，會有高溫高濕環境下金屬層受腐蝕的情形。腐蝕中特別是孔腐蝕，在金屬層之厚度薄時、及在金屬層為金屬配線時在其線寬狹窄時，會有金屬層貫穿，而成為問題之情形。
而本發明之目的，係在提供一種可抑制如金屬配線層之金屬層的腐蝕之附黏著劑層之光學膜、及含其之液晶顯示裝置。
本發明係提供以下所示之附黏著劑層之光學膜、以及含其之液晶顯示裝置、及黏著劑組成物。
[1]一種附黏著劑層之光學膜，其係包含：光學膜、及積層在其至少一側之面上的黏著劑層，前述黏著劑層係由含有：(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)、及離子性化合物(C)之黏著劑組成物所構成，且前述矽烷化合物(B)為下述式(I)所示之矽烷化合物：
(式中，A表示碳數1至20的烷二基基或碳數3至20的2價脂環烴基，且構成該烷二基及該脂環烴基的-CH2-，亦可置換為-O-或-C(=0)-；R1表示碳數1至5的烷基；R2、R3、R4、R5及R6，各自獨立地表示碳數1至5 的烷基或碳數1至5的烷氧基。)
前述離子性化合物(C)之陰離子，為選自下述群組：
的陰離子。
[2]如[1]項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述式(I)所示之矽烷化合物(B)，為下述式(II)：
(式中，R1、R3、R4、R5及R6各表示與上述相同之意；R7表示碳數1至5的烷基；m表示1至20的整數。)所示之矽烷化合物。
[3]如[2]項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述式(II)中之m為4至20之整數。
[4]如[2]項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述式(II)中之m為6至8之整數。
[5]如[2]項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述式(II)中之m為6。
[6]如[1]項至[5]項之任一項所述之附黏著劑層之光 學膜，其中前述矽烷化合物(B)為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷。
[7]如[1]項至[6]項之任一項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述離子性化合物(C)的陽離子，為含有含不飽和鍵之含氮原子雜環構造的陽離子。
[8]如[1]項至[7]項之任一項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述離子性化合物(C)的陽離子為下述式(III)：
(式中，R8至R13各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之雜環基、羥基、醚基、羧基、羰基、或鹵素原子，且相鄰取代基彼此亦可形成環。)所示之吡啶陽離子。
[9]如[1]項至[8]項之任一項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述黏著劑組成物中前述矽烷化合物(B)的含量，相對於前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份為0.01至10重量份。
[10]如[1]項至[9]項之任一項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，含有來 自含羥基單體的構成單位。
[11]如[1]項至[10]項之任一項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，含有來自均聚物之玻璃轉移溫度未達0℃的丙烯酸烷酯(a1)之構成單位、及來自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上的丙烯酸烷酯(a2)之構成單位。
[12]如[1]項至[11]項之任一項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之重量平均分子量為50萬至250萬。
[13]如[1]項至[12]項之任一項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述黏著劑組成物再含有異氰酸酯系交聯劑(D)。
[14]如[1]項至[13]項之任一項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述黏著劑組成物基本上不含三唑系化合物。
[15]一種液晶顯示裝置，其係含有如[1]項至[14]項之任一項所述之附黏著劑層之光學膜。
[16]一種黏著劑組成物，其係含有：(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)、及離子性化合物(C)，前述矽烷化合物(B)為下述式(I)所示之矽烷化合物：
(式中，A表示碳數1至20的烷二基基或碳數3至20的2價脂環烴基，且構成該烷二基及該脂環烴基的-CH2-，亦可為-O-或-C(=O)-所置換；R1，表示碳數1至5的烷基；R2、R3、R4、R5及R6，各自獨立地表示碳數1至5的烷基或碳數1至5的烷氧基。)
且前述離子性化合物(C)之陰離子，為選自下述群組：
的陰離子，前述黏著劑組成物使用於積層在金屬層上的黏著劑層的形成。
根據本發明，可提供可抑制金屬層腐蝕的附黏著劑層之光學膜、及含其之液晶顯示裝置。
1‧‧‧附黏著劑層之光學膜
2‧‧‧偏光片
3‧‧‧第1樹脂膜
4‧‧‧第2樹脂膜
5、6、7、8‧‧‧光學積層體
10‧‧‧光學膜
10a、10b‧‧‧偏光板
20‧‧‧黏著劑層
30‧‧‧金屬層
40‧‧‧基板
50‧‧‧樹脂層
第1圖，係顯示本發明中之附黏著劑層之光學膜之一例的概略截面圖。
第2圖，係顯示偏光板之層構造之一例的概略截面圖。
第3圖，係顯示偏光板之層構造之另一例的概略截面圖。
第4圖，係顯示光學積層體之層構造之一例的概略截面圖。
第5圖，係顯示光學積層體之層構造之另一例的概略 截面圖。
第6圖，係顯示光學積層體之層構造之另外一例的概略截面圖。
第7圖，係顯示光學積層體之層構造之又另外一例的概略截面圖。
第8圖，係顯示光學積層體之層構造之再另外一例的概略截面圖。
<附黏著劑層之光學膜>
第1圖，係顯示本發明中之附黏著劑層之光學膜之一例的概略截面圖。如第1圖所示本發明中之附黏著劑層之光學膜1，係包含光學膜10、及積層在其至少一側之面上的黏著劑層20。該黏著劑層20，通常係直接積層在光學膜10的表面。
光學膜10，可為單層構造之光學膜亦可為多層構造之光學膜。黏著劑層20，係由包含：(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)、及離子性化合物(C)，較佳再含有異氰酸酯系交聯劑(D)之黏著劑組成物所構成。該黏著劑組成物，亦可再含有其他成分。本說明書中「(甲基)丙烯酸系」，係指選自丙烯酸系及甲基丙烯酸系所成之群組的至少一者。在「(甲基)丙烯酸酯」及「(甲基)丙烯醯基」等方面亦相同。
〔1〕光學膜
具備附黏著劑層之光學膜1之光學膜10，可為可組入 液晶顯示裝置等影像顯示裝置之中的各種光學膜(具有光學特性之薄膜)。光學膜10，可為單層構造之光學膜亦可為多層構造之光學膜。單層構造光學膜之具體例，除偏光片之外，亦包含相位差膜、增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、聚光膜等光學機能性膜。多層構造光學膜之具體例，包含偏光板、相位差板。本說明書中偏光板，係指在偏光片之至少一側的面經積層樹脂膜或樹脂層者。相位差板，係指在相位差膜之至少一方的面經積層樹脂膜或樹脂層者。光學膜10，較佳為偏光板、偏光片、相位差板或相位差膜，更佳為偏光板或偏光片。
〔1-1〕偏光板
第2圖及第3圖，係顯示偏光板之層構造之一例的概略截面圖。如第2圖所示偏光板10a，係在偏光片2的一側之面經積層貼合第1樹脂膜3的單面保護偏光板，如第3圖所示之偏光板10b，為在偏光片2的另一側之面再積層貼合第2樹脂膜4的雙面保護偏光板。第1、第2樹脂膜3、4，可經由未在圖中示出之接著劑層及黏著劑層貼合在偏光片2。偏光板10a、10b，亦可再含有第1、第2樹脂膜3、4以外的其他膜及層。
偏光片2，係具有可吸收具有平行於其吸收軸之振動面的直線偏光，而可透過具有垂直(即與透光軸平行)於吸收軸之振動面的直線偏光之性質的膜，例如，可使用在聚乙烯醇系樹脂膜經吸著配向二色性色素的膜。作為二色性色素，可使用碘及二色性有機染料。
聚乙烯醇系樹脂，可將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除乙酸乙烯酯之單獨聚合物的聚乙酸乙烯酯之外，可舉可與乙酸乙烯酯共聚的單體與乙酸乙烯酯之共聚物等。作為可與乙酸乙烯酯共聚的單體，可舉不飽和羧酸、烯烴、乙烯醚、不飽和磺酸、含銨基之(甲基)丙烯醯胺等。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度，通常為85至100莫耳%，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂亦可使其改質，例如，亦可使用經以醛類改質的聚乙烯甲醛或聚乙烯乙醛等。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度，通常為1000至10000，較佳為1500至5000。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度，可依照JIS K 6726求出。
通常，使用聚乙烯醇系樹脂經製膜者作為偏光片2之原版膜。聚乙烯醇系樹脂，可以一般已知之方法製膜。該原版膜的厚度，通常為1至150μm，若考慮延伸容易性等，較佳為10μm以上。
偏光片2，例如，對於原版膜，進行單軸延伸之步驟，以二色性色素使膜染色而吸著二色性色素之步驟，以硼酸水溶液處理膜之步驟，以及，進行水洗膜之步驟，最後再乾燥而製造。偏光片2之厚度，通常為1至30μm，由附黏著劑層之光學膜1薄膜化之觀點言之，較佳為20μm以下，更佳為15μm以下更佳，再佳為10μm以下。
在聚乙烯醇系樹脂膜吸著配向二色性色素 所成之偏光片2，除1)使用聚乙烯醇系樹脂膜之單獨膜作為原版膜，並對該膜施加單軸延伸處理及二色性色素之染色處理的方法之外，亦可經由2)在基材膜以含聚乙烯醇系樹脂的塗布液(水溶液等)塗布，經過乾燥而獲得含聚乙烯醇系樹脂層之基材膜之後，將其與基材膜單軸延伸，然後對延伸後之聚乙烯醇系樹脂層予以二色性色素之染色處理，其次將基材膜剝離去除之方法而獲得。作為基材膜，可使用包含與後述之第1、第2樹脂膜3、4所構成之熱塑性樹脂相同的熱塑性樹脂之膜，較佳為包含聚乙烯對苯二甲酸酯等聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂、降莰烯系樹脂等環狀聚烯烴系樹脂、聚苯乙烯系樹脂等之膜。根據上述2)之方法，可容易地製作薄膜偏光片2，例如亦可容易地製作厚度7μm以下的偏光片2。
第1、第2樹脂膜3、4各為獨立，具有透光性，較佳為光學上為透明之熱塑性樹脂，例如，可為包含鏈狀聚烯烴系樹脂(聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等之聚烯烴系樹脂；纖維素系樹脂(纖維素酯系樹脂等)；聚酯系樹脂(聚乙烯對苯二甲酸酯、聚乙烯萘二甲酸酯、聚丁烯對苯二甲酸酯等)；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醚醚酮系樹脂；聚碸系樹脂、或其混合物、共聚物等之膜。其中，第1、第2樹脂膜3、4，較佳各為以選自聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯 系樹脂、及(甲基)丙烯酸系樹脂所成之群組的樹脂所構成，更佳為以選自纖維素系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂所成之群組的樹脂所構成。
作為鏈狀聚烯烴系樹脂，除聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等鏈狀烯烴的單獨聚合物之外，可舉包含2種以上的鏈狀烯烴之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂，係含有以降莰烯及四環十二碳烯(別名：二甲橋八氫萘)或其衍生物為代表例的環狀烯烴之聚合單位的樹脂之總稱。環狀聚烯烴系樹脂之具體例，可舉如環狀烯烴之開環(共)聚合物及其氫化物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯類之鏈狀烯烴或與具有乙烯基的芳族化合物之共聚物、以及此等經以不飽和羧酸及其衍生物所改質之改質(共)聚合物等。其中，作為環狀烯烴較佳使用經使用降莰烯及多環降莰烯系單體等降莰烯系單體的降莰烯系樹脂。
纖維素系樹脂，較佳為纖維素酯系樹脂，亦即，纖維素之部分或完全的酯化物等，例如，可列舉纖維素之乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、其混合酯等。其中，較佳使用三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。
聚酯系樹脂為具有酯鍵、上述纖維素酯系樹脂以外之樹脂，一般為包含多價羧酸或其衍生物與多價醇的聚縮合物者。聚酯系樹脂之具體例，包含聚乙烯對苯二甲酸酯、聚丁烯對苯二甲酸酯、聚乙烯萘二甲酸酯、聚 丁烯萘二甲酸酯、聚三亞甲基對苯二甲酸酯、聚三亞甲基萘二甲酸酯、聚環己烷二甲基對苯二甲酸酯、聚環己烷二甲基萘二甲酸酯。
聚碳酸酯系樹脂，係碳酸與二醇或雙酚所形成之聚酯。其中，使用分子鏈含二苯基烷之芳族聚碳酸酯，由耐熱性、耐候性及耐酸性之觀點而言較佳。作為聚碳酸酯，可例示2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷(別名雙酚A)、2,2-雙(4-羥基苯基)丁烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥基苯基)異丁烷、1,1-雙(4-羥基苯基)乙烷類之雙酚所衍生之聚碳酸酯。
構成第1、第2樹脂膜3、4之(甲基)丙烯酸系樹脂，可為以來自於甲基丙烯酸酯的構成單位為主體(如含其50重量%以上)的聚合物，較佳為其與其他共聚合成分共聚的共聚物。(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可包含2種以上之來自甲基丙烯酸酯的構成單位。作為甲基丙烯酸酯，可舉甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等甲基丙烯酸之C1至C4烷酯。
作為可與甲基丙烯酸酯共聚合之共聚合成分，可例舉如丙烯酸酯。丙烯酸酯，較佳為丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸-2-乙基己酯等丙烯酸之C1至C8烷酯。其他共聚合成分之具體例，可舉如(甲基)丙烯酸等不飽和酸類；苯乙烯、鹵化苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯等芳族乙烯化合物；(甲基)丙烯醯基等乙烯基氰化合物；順丁烯二酸酐、檸康酸酐等不飽和酸酐；苯基 順丁烯二醯亞胺、環己基順丁烯二醯亞胺等不飽和醯亞胺等之分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵，丙烯酸酯以外之化合物。亦可使用分子內具有2個以上聚合性碳-碳雙鍵之化合物作為共聚合成分。共聚合成分，可單獨使用1種亦可以2種以上併用。
(甲基)丙烯酸系樹脂，由可提高膜之耐久性之觀點言之，亦可在高分子主鏈含有環構造。環構造，較佳為環狀酸酐構造、環狀醯亞胺構造、內酯環構造等雜環構造為佳。作為環狀酸酐構造之具體例，可舉如戊二酸酐構造、琥珀酸酐構造，環狀醯亞胺構造之具體例，可舉如戊二醯亞胺構造、琥珀醯亞胺構造，內酯環構造之具體例，可舉如丁內酯環構造、戊內酯環構造。
(甲基)丙烯酸系樹脂，由對膜之製膜性及膜之耐衝擊性等觀點言之，亦可含有丙烯酸系膠粒子。丙烯酸系膠粒子，係丙烯酸酯為主體之彈性聚合物作為必需成分之粒子，可舉如實質上僅包含該彈性聚合物的單層構造者、及1層為彈性聚合物之多層構造者。作為彈性聚合物之例，可舉如主成分為丙烯酸烷基酯，其再以可共聚合之其他乙烯系單體及交聯性單體所共聚合的交聯彈性聚合物。作為彈性聚合物主成分之丙烯酸烷基酯，可舉如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸-2-乙基己酯等丙烯酸之C1至C8烷酯。烷基之碳數，較佳為4以上。
作為丙烯酸烷酯可共聚合之其他乙烯系單體，可舉如分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵的化合物，更 具體地，可舉如甲基丙烯酸甲酯類之甲基丙烯酸酯、苯乙烯類之芳族乙烯系化合物、(甲基)丙烯腈類之乙烯基氰化合物等。作為交聯性單體方面，可舉如分子內至少具有2個聚合性碳-碳雙鍵的交聯性之化合物。更具體地，可舉如(甲基)丙烯酸乙二醇酯、(甲基)丙烯酸丁烷二醇酯等多元醇之(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸烯丙酯等(甲基)丙烯酸之烯酯，二乙烯基苯等。
丙烯酸系膠粒子之含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100重量份，較佳為5重量份以上，更佳為10重量份以上。在丙烯酸系膠粒子之含量過多時，膜之表面硬度減低，而且，亦可能在膜進行表面處理時降低對表面處理劑中之有機溶劑的耐溶劑性。因此，丙烯酸系膠粒子之含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100重量份，通常為80重量份以下，較佳為60重量份以下。
第1、第2樹脂膜3、4，亦可再含有本發明技術範疇中通常之添加劑。添加劑之具體例，可舉如紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、有機系染料、顏料、無機系色素、抗氧化劑、抗靜電劑、界面活性劑、滑動劑、分散劑、熱安定劑等。
作為紫外線吸收劑，可舉如水楊酸酯化合物、二苯酮化合物、苯并三唑化合物、三嗪化合物、(甲基)丙烯酸氰酯化合物、鎳錯合物等。
第1、第2樹脂膜3、4，各可為未延伸之膜、或經過一軸或二軸延伸之膜之任意者。二軸延伸，可為同 時向2個延伸方向延伸之同時二軸延伸，亦可為在預定方向延伸之後再於其他方向延伸的依序二軸延伸。第1樹脂膜3及/或第2樹膜4，可為擔負保護偏光片2功用之保護膜，亦可為兼具後述的相位差膜類之光學機能之保護膜。相位差膜，係表現光學異向性之光學膜。例如，可藉由將包含上述熱塑性樹脂之膜延伸(一軸延伸或二軸延伸等)，在該熱塑性樹脂膜上形成液晶層等，即可作成經賦予任意相位差值之相位差膜。
第1樹脂膜3及第2樹膜4，可為以相同之熱塑性樹脂所構成之膜，亦可為以互相不同之熱塑性樹脂所構成之膜。第1樹脂膜3及第2樹膜4，在厚度、添加劑之有無及種類、相位差特性等可相同，亦可不同。
第1樹脂膜3及/或第2樹膜4，在其外面(即與偏光片2相對側之表面)亦可具有硬膜層、防眩層、抗反射層、光擴散層、抗靜電層、防污層、導電層等表面處理層(塗布層)。
第1樹脂膜3及第2樹膜4的厚度，分別通常為1至150μm，較佳為5至100μm，更佳為5至60μm。該厚度，可為50μm以下，進一步可為30μm以下。減少第1、第2樹脂膜3、4之厚度，有利於附黏著劑層之光學膜1及含其之光學積層體的薄膜化，甚至有利於含附黏著劑層之光學膜1或光學積層體的液晶顯示裝置之薄膜化。
特別在智慧型手機及平板電腦型終端機之中小型導向之偏光板，由於薄膜化之要求，第1樹脂膜3 及/或第2樹膜4方面多使用厚度為30μm以下之薄者，此類偏光板，抗拒偏光片2之收縮力的力量弱，因此耐久性易於不足。根據本發明，即使在使用此類偏光板為光學膜10時亦可提供具有優良之耐久性的附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體。附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性，係指例如高溫環境下、高溫高濕環境下、重複高溫及低溫之環境下等之中，可抑制黏著劑層20與其鄰接的光學構件之界面的凸起及剝離、黏著劑層20之起泡等缺點的性質。
又，由偏光板之薄膜化的觀點言之，又以如第2圖所示偏光板10a的方式，僅在偏光片2之單面配置樹脂膜的構造為有利的。該情形時，通常係在偏光片2的另一側之面直接貼合黏著劑層20成附黏著劑層之光學膜1(參考第4圖)。在此種構造之偏光板之情形時，由於黏著劑層20中所含之離子性化合物而使高溫高濕環境下偏光板的光學性能降低的問題特別顯著。根據本發明，即使使用該等偏光板為光學膜10之情形亦可提供具有優良光學耐久性(可抑制光學特性降低之性質)的附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體。
第1、第2樹脂膜3、4，可藉由接著劑層或黏著劑層貼合在偏光片2。作為形成接著劑層之接著劑，可使用水系接著劑或活性能量線硬化性接著劑。
作為水系接著劑，可舉如包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之接著劑、水系二液型胺脂系乳劑接著劑等。 其中以使用包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之水系接著劑為適合。作為聚乙烯醇系樹脂，除了以乙酸乙烯酯之單獨聚合物之聚乙酸乙烯酯經過皂化處理所得之乙烯醇均聚物之外，亦可使用乙酸乙烯酯與可與其共聚合之其他單體的共聚物經過皂化處理所得之聚乙烯醇系共聚物、或其部分羥基經過改質之改質聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑，可包含醛化合物、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑。
在使用水系接著劑之情形時，將偏光片2與第1、第2樹脂膜3、4貼合後，為去除水系接著劑中所含之水較佳進行乾燥步驟。在乾燥步驟之後，例如亦可設有以20至45℃左右之溫度固化的固化步驟。
上述活性能量線硬化性接著劑，係指可以紫外線及電子束等活性能量線照射而硬化之接著劑，例如，可舉如以含聚合性化合物及光聚合起始劑的硬化性組成物、含光反應性樹脂之硬化性組成物、含黏結劑樹脂及光反應性交聯劑之硬化性組成物等。較佳為紫外線硬化性接著劑。作為聚合性化合物，可舉如光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性聚胺脂系單體等光聚合性單體、及來自於光聚合性單體之寡聚物。作為光聚起始劑，可舉如為含經活性能量線照射而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性物種的物質者。作為含聚合性化合物及光聚合起始劑的活性能量線硬化性 接著劑，較佳可使用含光硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑的硬化性組成物、及含光硬化性(甲基)丙烯酸系單體及光自由基聚合起始劑的硬化性組成物、或者該等硬化性組成物之混合物。
在使用活性能量線硬化性接著劑之情形時，將偏光片2與第1、第2樹脂膜3、4貼合後，視須要進行乾燥步驟，其次進行藉由照射活性能量線使活性能量線硬化性接著劑硬化的硬化步驟。活性能量線之光源並無特別之限定，較佳為具有波長400nm以下發光分佈之紫外線，具體地，可使用低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、化學燈、黑光燈、微波激發汞燈、金屬鹵素燈等。
將偏光片2與第1、第2樹脂膜3、4貼合時，可在其至少任意一側之貼合面進行皂化處理、電暈處理、電漿處理等表面活性處理。在偏光片2之兩面貼合樹脂膜時用以貼合此等樹脂膜之接著劑，可為同種之接著劑亦可為不同種之接著劑。
偏光板10a、10b，可再含有其他之膜或層。其具體之例，除後述之相位差膜之外，可為增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、聚光膜、黏著劑層20以外之黏著劑層、塗布層、保護膜等。保護膜，係用以保護偏光板等光學膜10之表面免於損傷或污損之目的之膜，一般係將附黏著劑層之光學膜1貼合在例如金屬層30上之後，再剝離去除。
保護膜，通常係基材膜、及積層在其上方之黏著劑層所構成。基材膜，可為熱塑性樹脂，例如可為以聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等聚烯烴系樹脂；聚乙烯對苯二甲酸酯及聚乙烯萘二甲酸酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂等所構成。
〔1-2〕相位差板
相位差板中所含之相位差膜，係如上所述，為顯示光學異向性之光學膜，除可使用在第1、第2樹脂膜3、4之上述例舉之熱塑性樹脂之外，例如，可為將包含聚乙烯醇系樹脂、聚丙烯酸酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚二氟亞乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、液晶聚酯系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚二氯乙烯系樹脂等之樹脂膜經由延伸1.01至6倍左右所得之延伸膜。其中，較佳為聚碳酸酯系樹脂膜及環烯烴系樹脂膜、(甲基)丙烯酸系樹脂膜或纖維素系樹脂膜經一軸延伸或二軸延伸之延伸膜。又本說明書中，零相位差膜亦包含於相位差膜(惟，亦可使用為保護膜。)中。此外，亦可使用稱為一軸性相位差膜、廣視角相位差膜、低光彈性率相位差膜等膜為相位差膜。
零相位差膜，係指面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth同時為-15至15nm之膜。該相位差膜，適於使用為IPS模式液晶顯示裝置。面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth，較佳同時為-10至10nm，更佳同時為-5至5nm。其中之面內相位差值Re及厚度方向相位差值 Rth，係指在波長590nm之值。
面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth，各為下述式：Re=(nx-ny)×d
Rth=〔(nx+ny)/2-nz〕×d所定義。式中，nx為膜面內的慢軸方向(x軸方向)之折射率，ny為膜面內的快軸方向(與面內x軸垂直之y軸方向)之折射率，nz為膜厚方向(垂直膜面之z軸方向)之折射率，d為膜之厚度。
零相位差膜中，例如，可使用包含纖維素系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂等聚烯烴系樹脂、聚乙烯對苯二甲酸酯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂之樹脂膜。特別地，由於相位差值之調控容易，取得亦容易，較佳使用纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂。
再者，經由液晶性化合物的塗布、配向而表現光學異向性之膜、及經由無機層狀化合物的塗布而表現光學異向性之膜，亦可使用作為相位差膜。該等相位差膜，已有稱為溫度補償型相位差膜者，以及，JX日鑛日石能源公司以「NH膜」之商品名販售之棒狀液晶經傾角配向之膜、富士軟片公司以「WV膜」之商品名販售之圓盤狀液晶經傾角配向之膜、住友化學公司以「VAC膜」之商品名販售之完全二軸配向型之膜、同樣之住友化學公司以「new VAC膜」之商品名販售之二軸配向型之膜等。
在相位差膜之至少一側之面積層的樹脂膜，例如可為上述之保護膜。
〔2〕黏著劑層
積層在光學膜10的至少一側之面的黏著劑層20，可由含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)、及離子性化合物(C)之黏著劑組成物構成，較佳進一步含有異氰酸酯系交聯劑(D)。該黏著劑組成物中之矽烷化合物(B)，可為下述式(I)：
所示之矽烷化合物。式中，A表示碳數1至20的烷二基或碳數3至20的2價脂環烴基，且構成該烷二基及該脂環烴基的-CH2-，亦可為-O-或-C(=O)-所置換；R1，表示碳數1至5的烷基；R2、R3、R4、R5及R6，各自獨立地表示碳數1至5的烷基或碳數1至5的烷氧基。
又，上述黏著劑組成物中之離子性化合物(C)，係陽離子及陰離子所構成之化合物，其陰離子，為選自下述群組：
之陰離子。
在以上述黏著劑組成物構成黏著劑層20時，即使在黏著劑層20配置在含有金屬層之構造的基板，亦可抑制該金屬層腐蝕，而且，可提高附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐久性。進一步地，在以上述黏著劑組成物構成黏著劑層20時，即使在附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體，係在偏光片2直接貼合黏著劑層20所成之構成亦可顯示優良之光學耐久性。以下，抑制金屬層腐蝕之性質亦可稱為「耐金屬腐蝕性」。
黏著劑層的厚度，通常為2至40μm，由附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐久性及附黏著劑層之光學膜1之重工性等觀點言之，較佳為5至30μm，更佳為10至25μm。又，在黏著劑層20之厚度在10μm以上時，可使黏著劑層20對於光學膜10之尺寸變化的順應性優良，在25μm以下時可使重工性佳。
黏著劑層20，較佳為在23至80℃的溫度範圍中顯示0.1至5MPa之儲存模數者。如此，可更有效率地提高附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐久性。「在23至80℃的溫度範圍中顯示0.1至5MPa之儲存模數」，係指在該範圍之任意之溫度，儲存模數均為上述範圍內之值。儲存模數，通常係伴隨溫度上昇而遞減，因此在23℃及80℃之任何儲存模數均在上述範圍時，可視為在該溫度範圍中，均可顯示上述範圍內的儲存模數。黏著劑層20之儲存模數，可以商品之黏彈性測定儀，例如 REOMETRIC公司製造之黏彈性測定儀「DYNAMIC ANALYZER RDA II」測定。
〔2-1〕(甲基)丙烯酸系樹脂(A)
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，係以來自(甲基)丙烯酸系單體的構成單位作為主成分(較佳含50重量%以上)之聚合物或共聚物。(甲基)丙烯酸系單體之例，例如：包含具有(甲基)丙烯醯基之單體，較佳包含(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯所具有之烷基，較佳為碳數1至14，更佳為1至12，再佳為1至8，可為直鏈狀、分支狀或環狀。作為(甲基)丙烯酸烷基酯，亦可使用後述在烷基中導入取代基的含取代基之丙烯酸烷基酯類之含取代基的(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯，可單獨使用1種亦可以2種以上併用。
(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例，包含(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正-及異-丙酯、(甲基)丙烯酸正-、異-及第三-丁酯、(甲基)丙烯酸正-及異-戊酯、(甲基)丙烯酸正-及異-己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸正-及異-庚酯、(甲基)丙烯酸正-及異-辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正-及異-壬酯、(甲基)丙烯酸正-及異-癸酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸正-及異-十二碳烷酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，較佳含有來自於均聚物的玻璃轉移溫度Tg未達0℃之丙烯酸烷基酯(a1)的構成單位、及含有來自於均聚物的Tg為0℃以上之丙烯酸 烷基酯(a2)的構成單位。該情形下，可有利於提高附黏著劑層之光學膜1、及含此之光學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性。丙烯酸烷基酯之均聚物的Tg，可採用如POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience公司)等文獻之值。
丙烯酸烷基酯(a1)之具體例，包含：丙烯酸乙酯、丙烯酸正-及異-丙酯、丙烯酸正-及異-丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正-及異-己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正-及異-辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正-及異-壬酯、丙烯酸正-及異-癸酯、丙烯酸正十二碳烷酯等烷基之碳數為2至12左右之丙烯酸烷基酯。作為丙烯酸烷基酯(a1)之其他具體例，可舉如烷基之碳數為2至12左右之丙烯酸烷基酯中在烷基中導入取代基的含取代基之丙烯酸烷基酯。含取代基之丙烯酸烷基酯的取代基，係取代烷基之氫原子之基，其具體例包含苯基、烷氧基、苯甲氧基。作為含取代基之丙烯酸烷基酯，具體而言，可舉如丙烯酸-2-甲氧基乙酯、丙烯酸乙氧基甲酯、丙烯酸苯甲氧基乙酯、丙烯酸苯甲氧基二乙二醇酯等。丙烯酸烷基酯(a1)之烷基，亦可含有脂環構造，較佳為直鏈狀或分支狀烷基。
丙烯酸烷基酯(a1)，可單獨使用1種亦可以2種以上併用。其中，丙烯酸烷基酯(a1)，較佳含有選自丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯之1種或2種以上。由附黏著劑層之光學膜1所具有之黏著劑層20對光學膜10之順應性、重工性之觀點言之，丙烯酸烷基酯(a1)較佳含有丙烯酸正丁酯。
丙烯酸烷基酯(a2)，係丙烯酸烷基酯(a1)以外之丙烯酸烷基酯。丙烯酸烷基酯(a2)之具體例，包含丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸第三丁酯等。
丙烯酸烷基酯(a2)，可單獨使用1種亦可以2種以上併用。其中，由耐金屬腐蝕性及耐久性之觀點言之，丙烯酸烷基酯(a2)，較佳含有丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯等，更佳含有丙烯酸甲酯。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)中來自於丙烯酸烷基酯(a2)之構成單位的含量，由附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性之觀點言之，構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全部構成單位100重量份中，較佳為10重量份以上，更佳為15重量份以上，再佳為20重量份以上，特佳為25重量份以上。又從黏著劑層20對光學膜10之順應性及重工性之觀點言之，來自於丙烯酸烷基酯(a2)之構成單位的含量，較佳為70重量份以下，更佳為60重量份以下更佳，再佳為50重量份以下。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，可含有來自於丙烯酸烷基酯(a1)及(a2)以外之其他單體的構成單位。(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，可含有單獨1種之來自於其他單體的構成單位亦可含有2種以上。其他單體之具體例如以下所示。
1)含極性官能基之單體。
作為含極性官能基之單體，可舉如含有羥基、羧基、取代或無取代之胺基、環氧基等之雜環基等取代基之(甲基) 丙烯酸酯。具體地，可舉如(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-(2-羥基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-3-氯-2-羥基丙酯、單(甲基)丙烯酸二乙二醇酯等含羥基之單體；丙烯醯基嗎福林、乙烯基己內酯、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫呋喃酯、己內酯改質丙烯酸四氫呋喃酯、(甲基)丙烯酸-3,4-環氧環己基甲酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、2,5-二氫呋喃等含雜環基之單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸-N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等含取代或無取代之胺基之單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯等含羧基之單體。其中，較佳為含有羥基之單體，由(甲基)丙烯酸系樹脂(A)與交聯劑之反應性之點言之，更佳為含有羥基之(甲基)丙烯酸酯。
雖然亦可含有連同含有羥基之(甲基)丙烯酸酯的上述之其他含極性官能基的單體，惟由可防止積層在黏著劑層20外側面的分離膜之剝離力亢進之觀點言之，較佳為實質上不含有含胺基之單體。又，由提高對ITO的耐腐蝕性之觀點言之，較佳為實質上不含有含羧基之單體。其中實質上不含有，係指構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的構成單位100重量份中，為0.1重量份以下。
2)丙烯醯胺系單體。
例如，N-羥甲基丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丙基)丙烯醯胺、N-(4-羥基丁基)丙烯醯胺、N-(5- 羥基戊基)丙烯醯胺、N-(6-羥基己基)丙烯醯胺、N,N-二甲基丙烯醯胺、N,N-二乙基丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-酮基丁基)丙烯醯胺、N-〔2-(2-側氧基-1-咪唑啉基)乙基〕丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺〔別名：N-(異丁氧基甲基)丙烯醯胺〕、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)丙烯醯胺、N-〔2-(1-甲基乙氧基)乙基〕丙烯醯胺、N-〔2-(1-甲基丙氧基)乙基〕丙烯醯胺、N-〔2-(2-甲基丙氧基)乙基〕丙烯醯胺〔別名：N-(2-異丁氧基乙基)丙烯醯胺〕、N-(2-丁氧基乙基)丙烯醯胺、N-〔2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基〕丙烯醯胺等。其中，較佳使用N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺。
3)甲基丙烯酸酯，即甲基丙烯酸之酯。
例如，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸月桂酯等甲基丙烯酸之直鏈狀烷基酯；甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異辛酯等甲基丙烯酸之分支狀烷基酯；甲基丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸 環己酯、甲基丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸環十二碳烷基酯、甲基丙烯酸甲基環己酯、甲基丙烯酸三甲基環己酯、甲基丙烯酸-第三丁基環己酯、甲基丙烯酸環己基苯酯等甲基丙烯酸之脂環烷基酯；甲基丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯等甲基丙烯酸之烷氧基烷基酯；甲基丙烯酸苯甲酯等甲基丙烯酸芳烷酯；甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸-3-羥基丙酯、甲基丙烯酸-4-羥基丁酯、甲基丙烯酸-2-(2-羥基乙氧基)乙酯、甲基丙烯酸-2-氯-2-羥基丙酯、甲基丙烯酸-3-氯-2-羥基丙酯、單甲基丙烯酸二乙二醇酯等含羥基之甲基丙烯酸之烷酯；甲基丙烯酸胺基乙酯、甲基丙烯酸-N,N-二甲基胺基乙酯、甲基丙烯酸二甲基胺基丙酯等含取代或無取代胺基之甲基丙烯酸之烷酯；甲基丙烯酸2-苯甲氧基乙酯、甲基丙烯酸2-(2-苯甲氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸之環氧乙烷改質壬基酚酯、甲基丙烯酸-2-(隣苯基苯甲氧基)乙酯等含苯甲氧基乙基之甲基丙烯酸之酯等。
4)甲基丙烯醯胺系單體。
例如，對應上述1)項中所舉之丙烯醯胺系單體的甲基丙烯醯胺系單體。
5)苯乙烯系單體。
例如，苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、 二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯；硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙烯；二乙烯基苯乙烯等。
6)乙烯系單體。
例如，乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯；氯化乙烯、溴化乙烯等鹵化乙烯；二氯偏乙烯等鹵化偏乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基咔唑等含氮芳族乙烯；丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等共軛二烯單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈等。
7)分子內含複數(甲基)丙烯醯基之單體。
例如，雙(甲基)丙烯酸-1,4-丁二醇酯、雙(甲基)丙烯酸-1,6-己二醇酯、雙(甲基)丙烯酸-1,9-壬二醇酯、雙(甲基)丙烯酸乙二醇酯、雙(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、雙(甲基)丙烯酸四乙二醇酯、雙(甲基)丙烯酸三丙二醇酯等分子內含2個(甲基)丙烯醯基之單體；三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯等分內含3個(甲基)丙烯醯基之單體等。
如上所述，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，由附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐久性及耐金屬腐蝕性之觀點言之，除了來自於(甲基)丙烯酸烷酯的構成單位之外，較佳為含有來自於含極性官能基之單體的構成單位。含極性官能基之單體，較佳為含有極性官能基之(甲基)丙烯酸酯系單體，更佳為含有羥基之單體。來自於含極性官能基之單體的構成單位之含量，在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的全構成單位100重量份中，較佳為0.1 至10重量份，更佳為0.25至5重量份，再佳為0.5至5重量份。
又，由附黏著劑層之光學膜1之重工性的觀點言之，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，較佳為來自於甲基丙烯酸酯(甲基丙烯酸之酯)、甲基丙烯醯胺系單體等甲基丙烯系單體之構成單位的含量少，具體言之，該構成單位的含量，在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的全構成單位100重量份中，較佳為10重量份以下，更佳為5重量份以下，再佳為實質上不含有(0.1重量份以下)該構成單位。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，較佳在膠體過濾層析(GPC)中之排出曲線上在重量平均分子量Mw1000至250萬的範圍中含有單一峰，更佳為在Mw1000至250萬的範圍中含有單一峰，而且含有來自於丙烯酸烷基酯(a1)及(a2)的構成單位。以該(甲基)丙烯酸系樹脂(A)為原料聚合物(base polymer)的黏著劑層20，有利於提高附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐久性。在上述Mw範圍中波峰數為2個以上時，會有無法獲得充分之耐久性的傾向。
在求出Mw1000至250萬範圍中之GPC排出曲線之峰數，可依照實施例之項中記載之GPC測定條件求得排出曲線。在求得之排出曲線中在上述範圍「含有單一峰」，意指在Mw1000至250萬的範圍中只具有1個極大值。本說明書中，在GPC排出曲線中，係以S/N比為30以上者定義為峰。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，較佳在GPC換算標準苯乙烯之Mw為50萬至250萬之範圍，更佳在60萬至200萬之範圍。在Mw為50萬以上時，有利於提昇附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性，且有提昇附黏著劑層之光學膜1的重工性之傾向。再者，在Mw為250萬以下時，可使黏著劑層20對應光學膜10之尺寸改變的順應性優良。以重量平均分子量Mw與數量平均分子量Mn之比的Mw/Mn表示之分子量分布，通常為2至10。(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的Mw及Mn，可依照實施例之項中記載之GPC測定條件求出。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)在以乙酸乙酯溶解為濃度20重量%之溶液時，在25℃的黏度較佳為20Pa‧s以下，更佳為0.1至7Pa‧s。該範圍之黏度，有利於提昇附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐久性、及附黏著劑層之光學膜1之重工性。上述黏度，可以布氏黏度計(Brookfield viscometer)測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，以示差掃描熱量計(DSC)所測定之玻璃轉移溫度Tg較佳為-60至-10℃，更佳為-55至-15℃。該範圍之Tg，有利於提昇附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性。
黏著劑組成物，亦可含有2種以上屬於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的(甲基)丙烯酸系樹脂。且黏著劑組成物，亦可含有與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)不同的其他之(甲基)丙烯酸系樹脂。惟由附黏著劑層之光學膜1、及含其之光 學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性之觀點言之，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的含量，在所有(甲基)丙烯酸系樹脂之合計中，較佳為70重量%以上，更佳為80重量%以上，再佳為90重量%以上，而黏著劑組成物，特佳為只含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)作為原料聚合物。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)及可視須要併用之其他(甲基)丙烯酸系樹脂，例如，可藉由溶液聚合法、嵌段聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法等一般已知之方法製造。(甲基)丙烯酸系樹脂之製造中，通常使用聚合起始劑。聚合起始劑，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂之製造中所使用之全部單體之合計100重量份，可使用0.001至5重量份左右。又，(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可經由以例如紫外線等活性能量線進行聚合之方法製造。
聚合起始劑方面，可使用熱聚合起始劑及及光聚合起始劑等。作為光聚合起始劑，例如，可舉4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。作為熱聚合起始劑，例如，可舉2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)類之偶氮系化合物；過氧化月桂基、氫過氧化第三丁基、過氧化苯甲醯基、苯甲酸過氧化第三丁酯、氫過氧化異丙苯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二丙酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化三甲基乙酸第三丁酯、過氧化(3,5,5- 三甲基己醯基)類之有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫類之無機過氧化物等。再者，併用過氧化物及還原劑之氧化還原系起始劑等，亦可使用為聚合起始劑。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂之製造方法，上述所示之方法中較佳為溶液聚合法。溶液聚合法之一例，可將所使用之單體及有機溶劑混合，於氮氣氛圍下，添加熱聚合起始劑，於40至90℃左右，較佳於50至80℃左右攪拌3至15小時左右。為了調控反應，亦可為單體及熱聚合起始劑在聚合中連續或分次添加，以溶解在有機溶劑中之狀態添加。作為有機溶劑，例如，可使用甲苯、二甲苯類之芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；丙醇、異丙醇等脂族醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等。
〔2-2〕矽烷化合物(B)
黏著劑組成物，係含有矽烷化合物(B)。矽烷化合物(B)，係下述式(I)所示之矽烷化合物：
式中，A表示碳數1至20的烷二基或碳數3至20的2價脂環烴基，且構成該烷二基及該脂環烴基的-CH2-，亦可為-O-或-C(=O)-所置換；R1，表示碳數1至5的烷基；R2、R3、R4、R5及R6，各自獨立地表示碳數1至 5的烷基或碳數1至5的烷氧基。
在含有上述式(I)所示之矽烷化合物(B)的黏著劑層20之情形時，比較使用其他矽烷化合物之情形可提昇附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性，再者，亦可以其提高黏著劑層20與金屬層30及玻璃基板等之密接性。矽烷化合物(B)亦可使用2種以上。
可構成上述式(I)中之A的碳數1至20之烷二基之具體例，包含亞甲基、1,2-乙烷二基、1,3-丙烷二基、1,4-丁烷二基、1,5-戊烷二基、1,6-己烷二基、1,7-庚烷二基、1,8-辛烷二基、1,9-壬烷二基、1,10-癸烷二基、1,12-十二碳烷二基、1,14-十四碳烷二基、1,16-十六碳烷二基、1,18-十八碳烷二基、1,20-二十碳烷二基。碳數3至20之2價脂環烴基之具體例，包含1,3-環戊烷二基、1,4-環己烷二基。構成該烷二基及該脂環烴基之-CH2-經-O-或-C(=O)-置換之基的具體例，包含-CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2-C(=O)-O-CH2CH2-、-CH2CH2-O-CH2CH2-C(=O)-O-CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2CH2CH2-。
作為可構成上述式(I)中之R1、R2、R3、R4、R5及R6之碳數1至5的烷基，可舉如甲基、乙基、正-及異-丙基、正-、異-及第三-丁基、正-、異-及第三-戊基等各種戊基，作為可構成上述式(I)中之R2、R3、R4、R5及R6 之碳數1至5的烷氧基，可舉如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、第三丁氧基、正-、異-及第三-戊氧基等各種戊氧基。該烷基及烷氧基之碳數，各為獨立，較佳為1至4，更佳為1至3，再佳為1或2。
上述式(I)所示之矽烷化合物之具體例如以下所示。
雙(三甲氧基矽基)甲烷、雙(三乙氧基矽基)甲烷、雙(三丙氧基矽基)甲烷、雙(三丁氧基矽基)甲烷、雙(三戊氧基矽基)甲烷、雙(二甲氧基甲基矽基)甲烷、雙(二甲氧基乙基矽基)甲烷、雙(二甲氧基丙基矽基)甲烷、雙(二乙氧基甲基矽基)甲烷、雙(二丙氧基甲基矽基)甲烷、雙(甲氧基二甲基矽基)甲烷、1-(三甲基矽基)-1-(甲氧基二甲基矽基)甲烷、1-(三甲基矽基)-1-(二甲氧基甲基矽基)甲烷、1-(三甲基矽基)-1-(三乙氧基矽基)甲烷、雙(二甲氧基乙氧基矽基)甲烷、1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三乙氧基矽基)乙烷、 1,2-雙(三丙氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三丁氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三戊氧基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基丙基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基丙基矽基)乙烷、1,2-雙(二乙氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二丙氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(甲氧基二甲基矽基)乙烷、1-(三甲基矽基)-2-(甲氧基二甲基矽基)乙烷、1-(三甲基矽基)-2-(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1-(三甲氧基矽基)-2-(三乙氧基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三丙氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三乙氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三丙氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三丁氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三戊氧基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基甲基矽基)丁烷、 1,4-雙(二甲氧基乙基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基丙基矽基)丁烷、1,4-雙(二乙氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二丙氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(甲氧基二甲基矽基)丁烷、1-(三甲基矽基)-4-(甲氧基二甲基矽基)丁烷、1-(三甲基矽基)-4-(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1-(三甲氧基矽基)-4-(三乙氧基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三乙氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三丙氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丁氧基矽基)己烷、1,6-雙(三戊氧基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基丙基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基丙基矽基)己烷、1,6-雙(二乙氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二丙氧基甲基矽基)己烷、 1,6-雙(甲氧基二甲基矽基)己烷、1-(三甲基矽基)-6-(甲氧基二甲基矽基)己烷、1-(三甲基矽基)-6-(二甲氧基甲基矽基)己烷、1-(三甲氧基矽基)-6-(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丁氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三戊氧基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基丙基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基丙基矽基)辛烷、1,8-雙(二乙氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二丙氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(甲氧基二甲基矽基)辛烷、1-(三甲基矽基)-8-(甲氧基二甲基矽基)辛烷、1-(三甲基矽基)-8-(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1-(三甲氧基矽基)-8-(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙氧基矽基)辛烷、1,10-雙(三甲氧基矽基)癸烷、1,12-雙(三甲氧基矽基)十二碳烷、 1,14-雙(三甲氧基矽基)十四碳烷、1,16-雙(三甲氧基矽基)十六碳烷、1,18-雙(三甲氧基矽基)十八碳烷、1,20-雙(三甲氧基矽基)二十碳烷等。
其中，附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性，由黏著劑層20與金屬層30及玻璃基板等之密接性的觀點言之，矽烷化合物(B)，較佳為下述式(II)所示之矽烷化合物：
(式中，R1、R3、R4、R5及R6各表示與上述相同之意；R7表示碳數1至5的烷基；m表示1至20的整數。)。可構成R7之碳數1至5的烷基之具體例，與上述相同。由與上述相同之觀點言之，矽烷化合物(B)，更佳為m為4至20之整數的上述式(II)所示之矽烷化合物，再佳為m為6至8之整數的上述式(II)所示之矽烷化合物，特佳為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷等，m為6至8之整數，OR1、R2、R3、R4、R5、R6及OR7各獨立地表示碳數1至3(例如碳數1或2)之上述式(II)所示之矽烷化合物。較佳m之例，為6或8。
黏著劑組成物，亦可與上述式(I)所示之矽 烷化合物(B)，同時含有1種或2種以上之其以外之其他矽烷化合物。作為其他之矽烷化合物，例如，可舉如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷等。
其他之矽烷化合物，可包含矽氧烷寡聚物型者。矽氧烷寡聚物之具體例，以單體之間組合之形式表示時為如下之情形。
3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-氫硫基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-氫硫基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含氫硫基丙基之寡聚物；氫硫基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、氫硫基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、氫硫基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、氫硫基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含氫硫基甲基之寡聚物；3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚 物、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含3-環氧丙氧基丙基之寡聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基 矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含甲基丙烯醯氧基丙基之寡聚物；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含丙烯醯氧基丙基之寡聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、 乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含乙烯基之寡聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含胺基之寡聚物等。
惟，由附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性、黏著劑層20與金屬層30及玻璃基板等之密接性之觀點言之，上述式(I)所示之矽烷化合物(B)的含量，在全部矽烷化合物之合計中，較佳為70重量%以上，更佳為80重量%以上，再佳為90重量%以上，而黏著劑組成物，特佳為只含有矽烷化合物(B)作為矽烷化合物。
黏著劑組成物中之矽烷化合物(B)的含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，通常為0.01至10重量份，較佳為0.03至5重量份，更佳為0.05至2重量份，再佳為0.1至1重量份。在矽烷化合物(B)之含量為0.01重量份以上時，可容易地獲得附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性提昇效果、及黏著劑層20與金屬層30及玻璃基板等的密接性提昇效果。又在含量為10重量份以下時，可抑制由黏著劑層20滲出矽烷化合物(B)。
〔2-3〕離子性化合物(C)
黏著劑組成物，含有離子性化合物(C)。離子性化合物(C)，係陽離子及陰離子所構成之化合物，其陰離子，可為選自下述群組之陰離子：
陽離子可為有機陽離子、無機陽離子之任意者。藉由使用離子性化合物(C)，不只可賦予黏著劑層20優良的抗靜電性能，亦可賦予良好的耐金屬腐蝕性及光學耐久性。黏著劑組成物，可含有1種或2種以上之離子性化合物(C)。在黏著劑組成物含有2種以上之離子性化合物(C)時，該陰離子，並不限定選自上述群組，而且可互相相同，亦可不同。
有機陽離子之具體例，包含吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、四氫吡啶鎓陽離子、二氫吡啶鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。有機陽離子，亦可含有取代基。無機陽離子之具體例，包含鋰陽離子〔Li+〕、鈉陽離子〔Na+〕、鉀陽離子〔K+〕、銫陽離子〔Cs+〕等鹼金屬離子；鈹陽離子〔Be2+〕、鎂陽離子〔Mg2+〕、鈣陽離子〔Ca2+〕等鹼土金屬離子等。
其中陽離子，由與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之互溶性的觀點言之較佳為有機陽離子，由抗靜電性的觀點言之，更佳為吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、四氫吡啶鎓陽離子、二氫吡啶鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、銨陽離子等含氮原子有機陽離子(亦可含有取代基。)，更佳為具有含有不飽和鍵之含氮原子雜環構造的陽離子。
具有含有不飽和鍵之含氮原子雜環構造的陽離子之1種，可具有取代基之吡啶鎓陽離子之較佳具體例，可舉下述式(III)所示之吡啶鎓陽離子：
上述式(III)中，R8至R13，各獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之雜環基、羥基、醚基、羧基、羰基、或鹵素原子，且相鄰取代基彼此可形成環。
作為可具有取代基之烷基，較佳為碳數1至30之烷基，其具體例，例如，包含甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、癸基、十二碳烷基、十八碳烷基、異丙基、異丁基、第二-丁基、第三-丁基、1-乙基戊基、環戊基、環己基、三氟甲基、2-乙基己基、苯甲醯甲基、1-萘甲醯基甲基、2-萘甲醯基甲基、4-甲基硫基苯甲醯甲基、4-苯基硫基苯甲醯甲基、4-二甲基胺基苯甲醯甲基、4-氰基苯甲醯甲基、4-甲基苯甲醯甲基、2-甲基苯甲醯甲基、3-氟苯甲醯甲基、3-三氟甲基苯甲醯甲基、3-硝基苯甲醯甲基。
作為可具有取代基之烯基，較佳為碳數2至10之烯基，其具體例，例如，包含乙烯基、烯丙基、苯乙烯基。作為可具有取代基之炔基，較佳為碳數2至10之炔基，其具體例，例如，包含乙炔基、丙炔基、炔丙基。
作為可具有取代基之芳基，較佳為碳數6 至30之芳基，其具體例，例如，包含苯基、聯苯基、1-萘基、2-萘基、9-蔥基、9-菲基、1-芘基、5-稠四苯基、1-茚基、2-薁基、9-茀基、聯三苯基、聯四苯基、鄰-、間-、及對-甲苯基、二甲苯基、鄰-、間-、及對-異丙苯基、三甲苯基、并環戊二烯基、聯萘基、聯伸三萘基、對聯四萘基、并環庚三烯基、聯伸苯基、二環戊二烯聯苯基、苯并二氫苊基、苊基、乙次蒽基、萉基、茀基、蔥基、聯蒽基、聯三蒽基、聯四蒽基、蒽喹啉基、菲基、聯伸三苯基、芘基、蒯基、稠四苯基、七曜烯基(pleiadenyl)、苉基、苝基、五聯苯基、并五苯基、四亞苯基、稠六苯基、并六苯基、茹基、蔻基、聯伸三萘基、稠七苯基、并七苯基、芘蔥基、卵苯基。
作為可具有取代基之雜環基，較佳為含氮原子、氧原子、硫原子、磷原子之芳族或脂族之雜環基，其具體例，例如，包含噻吩基、苯并〔b〕噻吩基、萘并〔2,3-b〕噻吩基、噻蒽基、呋喃基、哌喃基、異苯并側呋喃基、苯并哌喃基、二苯并哌喃基、啡噁噻基、2H-吡咯基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、嗒嗪基、吲哚嗪基、異吲哚基、3H-吲哚基、吲哚基、1H-吲唑基、嘌呤基、4H-喹嗪基、異喹啉基、喹啉基、呔嗪基、二氮萘基、喹噁啉基、喹唑啉基、噌啉基、喋啶基、4aH-咔唑基、咔唑基、β-咔啉基、菲啶基、吖啶基、呸啶基、菲啉基、啡嗪基、啡呻嗪基、異噻唑基、啡噻嗪基、異噁唑基、呋呫基、啡嗪基、異二氫苯并哌喃基、二氫苯并哌喃基、吡咯 啶基、吡咯啉基、咪唑啶基、咪唑啉基、吡唑啶基、吡唑啉基、哌啶基、哌嗪基、吲哚啉基、異吲哚啉基醌啶基、嗎啉基、硫基。
可取代上述之可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、及可具有取代基之雜環基的氫原子之取代基之具體例，例如，包含氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵素原子；甲氧基、乙氧基、第三丁氧基等烷氧基；苯甲氧基、對苯甲氧基等芳氧基；甲氧基羰基、丁氧基羰基、苯甲氧基羰基、乙烯氧基羰基、芳氧基羰基等烷氧基羰基；乙醯氧基、丙醯氧基、苯甲醯氧基等醯氧基；乙醯基、苯甲醯基、異丁醯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、甲氧草醯基等醯基；甲基硫基、第三丁基硫基等烷基硫基；苯基硫基、對甲苯基硫基等芳基硫基；甲基胺基、環己基胺基等烷基胺基；二甲基胺基、二乙基胺基、N-嗎啉基、哌啶基等二烷基胺基；苯基胺基、對甲苯基胺基等芳基胺基；甲基、乙基、第三丁基、十二碳烷基等烷基；苯基、對甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、萘基、蔥基、菲基等芳基；羥基、羧基、磺醯胺基、甲醯基、氫硫基、磺酸基、甲磺醯基、對甲苯磺醯基、胺基、硝基、亞硝基、氰基、三氟甲基、三氯甲基、三甲基矽基、膦酸亞基、膦醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、三烷基銨基、二甲基鋶基、三苯基苯甲醯甲基鏻基。
上述式(III)所示之吡啶鎓陽離子，以N-取 代吡啶鎓陽離子為佳。該情形時，R8較佳為可具有取代基之烷基，更佳為碳數1至20的直鏈狀、分支狀或環狀烷基。碳數，較佳為1至16。R9至R13，各為獨立，較佳為氫原子、碳數1至20之直鏈狀、分支狀或環狀烷基、羥基、或鹵素原子，更佳為氫原子或碳數1至20之直鏈狀烷基。
由抗靜電性、耐金屬腐蝕性及光學耐久性之觀點言之，離子性化合物(C)之較佳之例可例舉如下。
1)陽離子為如下述式(III)：
所示之吡啶鎓陽離子(式中，較佳地，R8為碳數1至16之直鏈狀、分支狀或環狀之烷基，R9至R13，各為獨立，為氫原子或碳數1至20之直鏈狀烷基。)，而陰離子為選自上述群組之任意之陰離子的離子性化合物。
2)陽離子為鋰陽離子〔Li+〕、鈉陽離子〔Na+〕、鉀陽離子〔K+〕等無機陽離子，陰離子為選自上述群組之任意之陰離子的離子性化合物。
黏著劑組成物中離子性化合物(C)之含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，較佳為0.1至10重量份為佳，更佳為0.2至8重量份，再佳為0.3至5重量份，特佳為0.5至3重量份。在離子性化合物(C)之含量為0.1重量份以上時，有利於抗靜電性能之提昇，在10 重量份以下時有利於附黏著劑層之光學膜1及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性。
黏著劑組成物，上述規定之含陰離子之離子性化合物(C)，可同時與其以外之抗靜電劑併用，惟由附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性等之觀點言之，黏著劑組成物，較佳只含有具上述規定之陰離子之離子性化合物(C)作為抗靜電劑。
〔2-4〕異氰酸酯系交聯劑(D)
黏著劑組成物，較佳含有異氰酸酯系交聯劑(D)。藉由使用異氰酸酯系交聯劑(D)作為交聯劑，可提昇附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性。異氰酸酯系交聯劑(D)，可單獨使用1種亦可以2種以上併用。
異氰酸酯系交聯劑(D)，係分子內至少含2個異氰酸酯基(-NCO)的化合物，具體地，可舉如二異氰酸甲苯酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、亞苯二甲基二異氰酸酯、氫化亞苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等。又異氰酸酯系交聯劑(D)，亦可為此類異氰酸酯化合物之多元醇化合物的加成物(例如：甘油及三羥甲基丙烷之加成物)、三聚異氰酸酯化物、縮二脲型化合物，以及與聚醚多元醇及聚酯多元醇、丙烯基多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等經過加成反應之胺甲酸酯聚合物型的異氰酸酯化合物等之衍 生物。上述之中，特別以二異氰酸甲苯酯、六亞甲基二異氰酸酯、亞苯二甲基二異氰酸酯或此類異氰酸酯化合物之多元醇化合物的加成物較佳，而由附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐久性之觀點言之，以亞苯二甲基二異氰酸酯或其多元醇化合物的加成物更佳。
異氰酸酯系交聯劑(D)之含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，較佳為0.08至2.5重量份，更佳為0.1至2重量份(例如1重量份以下)。在異氰酸酯系交聯劑(D)之含量在該範圍時，可利於附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體兼有耐金屬腐蝕性及耐久性。
黏著劑組成物，可與異氰酸酯系交聯劑(D)，同時併用其以外之交聯劑，例如，環氧化合物、吖丙啶化合物、金屬螯合劑化合物、過氧化物等，而由附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性之觀點言之，黏著劑組成物，較佳為只含有異氰酸酯系交聯劑(D)作為交聯劑，特別是實質上不含過氧化物。其中實質上不含，係指相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份之含量為0.01重量份以下。
〔2-5〕其他成分
黏著劑組成物，亦可含有溶劑、交聯催化劑、紫外線吸收劑、耐候安定劑、增黏劑、可塑劑、軟化劑、染料、顏料、無機填充劑、光散射性微粒子等添加劑之1種或2種以上。其他，亦有用於在黏著劑組成物中調配紫外線硬化性化合物，在形成黏著劑層之後照射紫外線硬化，成為 更硬之黏著劑層。作為交聯催化劑，例如，可舉如六亞甲基二胺、伸乙二胺、聚乙烯亞胺、六亞甲基四胺、二伸乙三胺、三伸乙四胺、異佛酮二胺、三亞甲基二胺、聚胺樹脂及三聚氰胺樹脂等胺系化合物。
黏著劑組成物，可含有可提高附黏著劑層之光學膜1、及含其之光學積層體的耐金屬腐蝕性之防鏽劑。作為防鏽劑，可舉如苯并三唑系化合物、其他之三唑系化合物等三唑系化合物；苯并噻唑系化合物、其他之噻唑系化合物等噻唑系化合物；苯甲基咪唑系化合物、其他之咪唑系化合物等咪唑系化合物；咪唑啉系化合物；喹啉系化合物；吡啶系化合物；嘧啶系化合物；吲哚系化合物；胺系化合物；脲系化合物；苯甲酸鈉；苯甲基硫醇系化合物；二-第二丁基硫化物；及二苯基亞碸。
惟，根據本發明，即使不含防鏽劑亦可有充分之耐金屬腐蝕性，因此防鏽劑之含量以盡可能少為佳。特別地，黏著劑組成物，較佳為實質上不含三唑系化合物作為防鏽劑，更佳為實質上不含選自上述化合物之群組的防鏽劑。其中之實質上不含，係指相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份之含量為0.01重量份以下。
〔3〕附黏著劑層之光學膜之構造及製造方法
附黏著劑層之光學膜1，係含有光學膜10及積層在其至少一側之面的黏著劑層20(第1圖)。惟亦可在光學膜10之兩面積層黏著劑層20。通常，黏著劑層20係直接積層 在光學膜10之表面。在將黏著劑層20設置在光學膜10之表面時，較佳於光學膜10之貼合面及/或黏著劑層20的貼合面進行前驅物層的形成、及表面活化處理，例如，電漿處理、電暈處理等，更佳為進行電暈處理。
在光學膜10為如第2圖所示之單側保護偏光板時，黏著劑層20，通常可在偏光片面，亦即，偏光片2之第1樹脂膜3的相對側之面，更好是直接積層。在光學膜10為如第3圖所示之雙面保護偏光板時，黏著劑層20，可積層在第1、第2樹脂膜3、4之任意之外側，亦可積層在雙側之外部面。
光學膜10與黏著劑層20之間可另外再設置抗靜電層，惟本發明之黏著劑層20以黏著劑層單獨即可賦予優良的抗靜電性，因此在光學積層體之薄膜化及積層體製作步驟之簡化之點上，光學膜10與黏著劑層20之間較佳為不含抗靜電層。
附黏著劑層之光學膜1，亦可含有積層在黏著劑層20之外部面的分離膜(剝離膜)。該分離膜，通常可在黏著劑層20使用時(例如積層在金屬層30上時)剝離去除。分離膜可為，例如，在包含聚乙烯對苯二甲酸酯、聚丁烯對苯二甲酸酯、聚碳酸酯、聚芳酯等各種樹脂之膜形成黏著劑層20之面，進行聚矽氧處理等離模處理者。
附黏著劑層之光學膜1，可將構成上述黏著劑組成物之各成分溶解或分散於溶劑中成為含溶劑之黏著劑組成物，其次，再以其塗布/乾燥在光學膜10之表面而 形成黏著劑層20而獲得。再者，附黏著劑層之光學膜1，亦可以在分離膜的離模處理面上如上同樣形成黏著劑層20，再將該黏著劑層20積層(轉塗)在光學膜10之表面而獲得。
<光學積層體>
第4圖及第5圖，為顯示本發明中之光學積層體的層構成之例的概略截面圖。在實施形態中本發明中之光學積層體，如第4圖及第5圖所示，含有附黏著劑層之光學膜1、及積層在其黏著劑層20側之金屬層30。第4圖所示之光學積層體5，係使用第2圖所示之偏光板10a作為光學膜10之例，第5圖所示之光學積層體6，係使用第3圖所示之偏光板10b作為光學膜10之例。第4圖及第5圖所示之光學積層體5、6中，附黏著劑層之光學膜1，係以其黏著劑層20直接黏接在金屬層30之方式積層在金屬層30上。根據本發明，在此方式之黏著劑層20直接黏接在金屬層30所構成之光學積層體中，可有效地抑制金屬層30之腐蝕。
第6圖，係表示本發明中之光學積層體的層構造之另外一例的概略截面圖。在另外之實施形態中本發明之光學積層體，如第6圖所示之光學積層體7，以附黏著劑層之光學膜1之黏著劑層20係經由樹脂層50積層在金屬層30。黏著劑層20，係直接黏接在樹脂層50。在該光學積層體7中，可有效地抑制金屬層30之腐蝕。配置在黏著劑層20與金屬層30之間的樹脂層50，例如，亦可為 硬化性樹脂之硬化物層。作為可形成樹脂層50之硬化性樹脂可使用一般所已知者，舉例如日本專利特開2009-217037號公報中所載者。
第7圖，係表示本發明中之光學積層體的層構造之又另外一例的概略截面圖。進一步的其他實施形態中本發明之光學積層體，如第7圖所示之光學積層體8，不含有金屬層30。該情形下，附黏著劑層之光學膜1之黏著劑層20，例如，積層在基板40。基板40，如後文所述，例如可為玻璃基板。
金屬層30，例如，可為自鋁、銅、銀、金、鐵、錫、鋅、鎳、鉬、鉻、鎢、鉛、及含選自其2種以上之金屬的合金所成之群組選擇的1種以上之層，而由導電性之觀點言之，較佳為含有自鋁、銅、銀、及金所成之群組選擇的金屬元素之層，由導電性及成本之觀點言之，更佳為含有鋁元素之層，再佳為含有鋁元素作為主成分之層。作為所含之主成分，係指構成金屬層30的金屬成分為全金屬成分之30重量%以上，進一步為50重量%以上。
金屬層30，例如亦可為ITO等金屬氧化物層，而由於可使本發明中之附黏著劑層之光學膜1，特別對金屬單體及合金為優良之耐腐蝕性，金屬層30，較佳含有包含上述金屬元素之金屬單體及/或含上述金屬元素之2種以上的合金。惟，光學積層體，亦可含有包含此方式之金屬層30、ITO等金屬氧化物之透明電極層。
金屬層30之形態(例如厚度等)及調製方法 並無特別之限定，除可為金屬箔之外，亦可為經由真空蒸塗法、旋塗法、離子塗覆法、噴墨印刷法、凹版塗布印刷法所形成者，較佳為經由旋塗法、噴墨印刷法、凹版塗布印刷法所形成之金屬層，更佳為經由旋塗法所形成之金屬層。以旋塗法所形成之金屬層及金屬箔，前者有耐腐蝕性不佳之傾向，但根據本發明中之光學積層體，對經以旋塗法形成之金屬層具有優良之耐金屬腐蝕性。金屬層30之厚度，通常為3μm以下，較佳為1μm以下，更佳為0.8μm以下。又金屬層30之厚度，通常為0.01μm以上。而且，在金屬層30為金屬配線層時，含該金屬配線層之金屬配線的線寬通常為10μm以下，較佳為5μm以下，再佳為3μm以下。又金屬配線的線寬，通常為0.01μm以上，較佳為0.1μm以上，再佳為0.5μm以上。而對於該薄膜之金屬層30及包含細線之金屬配線之金屬層30，本發明中之光學積層體均可表現優良之耐金屬腐蝕性。特別地，在金屬配線，例如厚度為3μm以下且線寬為10μm以下時，以及厚度為3μm以下且線寬為10μm以下，即使經以旋塗法形成時，可抑制其腐蝕，特別是穿孔腐蝕。
金屬層30，例如，可為具有觸控輸入式液晶顯示裝置之觸控輸入元件之金屬配線層(即電極層)。該情形中，金屬層30，一般之情形係以規定之形狀形成圖案。第8圖所示為金屬層30為金屬配線層之情形之一例。第8圖所示之光學積層體中係可省略樹脂層50。在形成圖案之金屬層30上積層黏著劑層20時，黏著劑20亦可有不 接觸金屬層30的部分。金屬層30，亦可為含上述金屬或合金之連續膜。
又，金屬膜30可為單層構造，亦可為2層或3層以上之多層構造。作為多層構造之金屬層，可例舉如鉬/鋁/鉬所示之3層構造的含金屬層(金屬網目等)。
如第4圖及第5圖所示，例如亦可在基板40上形成金屬配線層之金屬層30，在該情形時，本發明中之光學積層體，亦可含該基板40。在基板40上之金屬層30的形成，例如可經由旋塗操作而進行。基板40，可為含觸控輸入元件之液晶晶胞所構成之透明基板。基板40，較佳為玻璃基板。作為玻璃基板之材料，例如，可舉如鈉鈣玻璃、低鹼玻璃、無鹼玻璃等。金屬層30，可在基板40之全面形成，亦可在其部分形成。在基板40上形成形成圖案之金屬層30的情形等，即使在基板40表面的部分形成金屬層30之情形，由於黏著劑層20之部分，雖與例如包含玻璃之基板40成為直接接觸，但因本發明中的光學積層體中之黏著劑層20，與玻璃有優良之密接性，因此光學積層體、及含此之液晶顯示裝置，在該情形下亦可有優良之耐久性。
使附黏著劑層之光學膜1在金屬層30(或上述樹脂層)上經由其黏著劑層20貼合即可獲得光學積層體5、6。在製作附黏著劑層之光學膜1與金屬層30貼著之光學積層體之後，在有任何不良時，亦有將附黏著劑層之光學膜1由金屬層30剝離，在金屬層30重新貼著其他之附 黏著劑層之光學膜1，即有重工操作之須要。本發明中之附黏著劑層之光學膜1，在由金屬層30剝離後金屬層30之表面不易產生混濁及糊渣等，因此重工性優良。本發明中之附黏著劑層之光學膜1，在貼合黏著劑層20之表面並非金屬層30之玻璃基板及ITO層時可顯示優良之重工性。
<液晶顯示裝置>
本發明中之液晶顯示裝置，係含有上述之本發明之附黏著劑層之光學膜1者，更典型者係含有上述之光學積層體。本發明中之液晶顯示裝置，可抑制金屬層30之腐蝕，而且，顯示優良之耐久性。
本發明中之液晶顯示裝置，較佳為具有觸控面板機能之觸控輸入式液晶顯示裝置為佳。觸控輸入式液晶顯示裝置，具有含有液晶晶胞之觸控輸入元件、及背光。觸控面板之構成，可為外掛型(out-cell type)、嵌入型(on-cell type)、內嵌型(in-cell type)等，已往以來已知之任何方式，又觸控面板之運轉方式可為電阻膜方式、靜電容方式(表面型靜電容方式、投射型靜電容方式)等，已往以來已知之任何方式。本發明中之附黏著劑層之光學膜1，可配置在觸控輸入元件(液晶晶胞)之視屏側，亦可配置在背光側，亦可配置在該二者。液晶晶胞之驅動方式，可以TN方式、VA方式、IPS方式、多象限(multi-domain)方式、OCB方式等，已往以來已知之任何方式。本發明中之液晶顯示裝置中，含光學積層體5、6的基板40，可為含於上述液晶晶胞中之基板(典型者為玻璃基板)。
[實施例]
以下，再舉實施例及比較例更具體說明本發明，惟本發明並不限定於此些例。以下，表示使用量、含量之份及%，除非特別限定皆以重量基準。
<製造例1：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之製造>
在包含冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，加入以表1所示之組成(表1之值為重量份。)的單體與乙酸乙酯81.8份混合所得之溶液。將反應容器內之空氣以氮氣氣體置換之後，調整內溫為60℃。然後，再添加以偶氮二異丁腈0.12份經溶於乙酸乙酯10份中之溶液。於相同溫度保持1小時之後，於保持內溫保持在54至56℃，以添加速度17.3份/Hr，將乙酸乙酯以聚合物濃度約為35%之方式連續加入反應容器內。在開始添加乙酸乙酯至經過12小時並保持內溫為54至56℃之後，再加入乙酸乙酯以調整聚合物之濃度為20%之方式，可製得(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之乙酸乙酯溶液。該(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之重量平均分子量Mw為139萬，重量平均分子量Mw與數平均分子量Mn之比Mw/Mn為5.32。在膠體過濾層析(GPC)之排出曲線中，顯示有Mw為139萬之成分的單一峰，並在Mw為1000至250萬之範圍中可確定無其他之峰。
<製造例2：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2)之製造>
除單體之組成，如表1所示以外，如製造例1同樣操作，可製得(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2)之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)。該(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2)之重量平均分子量Mw為141萬，Mw/Mn為4.71。在GPC之排出曲線中，顯示有Mw為141萬之成分的單一峰，在Mw為1000至250萬之範圍中可確定無其他之峰。
在上面之製造例中，重量平均分子量Mw及數平均分子量Mn，係以GPC裝置，管柱方面為東曹公司製造之「TSKgel XL」4支、及昭和電工公司製造之「Shodex GPC KF-802」1支共計5支串聯配置，使用四氫呋喃作為沖提液，以試樣濃度5mg/mL、試樣導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘之條件，換算為標準苯乙烯而測定。求得GPC之排出曲線時的條件亦與此相同。
玻璃轉移溫度Tg，係使用SII奈米科技公司製造之示差式掃描型熱量計(DSC)「EXSTAR DSC6000」，在氮氣氛圍下，以測定溫度範圍-80至50℃、昇溫速度10℃/分鐘之條件測定。
各製造例中之單體的組成(表1之值為重量份。)、及GPC排出曲線上Mw為1000至250萬的範圍中之峰數(表1中以「GPC峰數」表示)整理為表1。
表1之「單體組成」欄中之簡稱，係表示如下之單體。
BA：丙烯酸丁酯(均聚物之玻璃轉移溫度：-54℃)。
MA：丙烯酸甲酯(均聚物之玻璃轉移溫度：10℃)。
HEA：丙烯酸-2-羥基乙酯。
<實施例1至8、比較例1至9>
(1)黏著劑組成物之調製
在上述製造例製得之(甲基)丙烯酸系樹脂之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)中，以對該溶液之固形成分100份，將表2中所示之矽烷化合物(B)、離子性化合物(C)、及異氰酸酯系交聯劑(D)各以表2所示之量(重量份)混合，並以固形成分濃度為14%之方式添加乙酸乙酯可製得黏著劑組成物。表2所示之各調配成分之調配量，在所使用之商品含溶劑等之時，係其中所含之有效成分之重量份數。
表2中所示之簡稱的各配合成分之詳細情形如下。
(矽烷化合物)
B-1：為下述式：
所示之矽烷化合物，B-2：為下述式：
所示之矽烷化合物，B-3：為3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，自信越化學工業公司所購得商品名為「KBM403」。
(離子性化合物)
C-1：為下述式：
所示之離子性化合物，C-2：為下述式：
所示之離子性化合物，C-3：雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺鋰，C-4：雙(氟磺醯基)亞胺鉀，C-5：雙(氟磺醯基)亞胺-N-癸基吡啶，C-6：四(五氟苯基)硼酸-N-甲基吡啶，C-7：四(五氟苯基)硼酸-N-癸基吡啶，C-8：六氟磷酸-N-辛基-4-甲基吡啶。
(異氰酸酯系交聯劑)
D-1：二異氰酸二甲苯酯之三羥甲基丙烷加成物之乙酸乙酯溶液(固形成分濃度75%)，自三井化學公司所購得商品名為「Takenate D-110N」。
(2)黏著劑層之製作
將上述(1)中所調製之各黏著劑組成物，在包含經施用離模處理之聚乙烯對苯二甲酸酯膜之分離膜〔自LINTEC公司所購得商品名為「PLR-382051」〕之離模處理面，使用塗布機以乾燥後之厚度為20μm之方式塗布，於100℃乾燥1分鐘製作黏著劑層(黏著劑片)。
(3)附黏著劑層之光學膜(P-1)之製作
先將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度60μm之聚乙烯醇膜〔為Kuraray公司製造商品名為「KURARAY VINYLON VF-PE#6000〕，浸漬於37℃之純水後，再於30℃浸漬於含碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)中。然後，於56.5℃浸漬於含碘化鉀及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100) 中。該膜以10℃之純水清洗後，於85℃乾燥，可製得在聚乙烯醇以碘吸附配向之厚度約23μm的偏光片。延伸，主要，係在碘染色及硼酸處理之步驟中進行，總延伸倍率為5.3倍。
於所得之偏光片之單側，以厚度25μm之包含三乙醯基纖維素膜之透明保護膜〔Konica Minolta光學公司製造商品名為「KC2UA」〕，經由包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之接著劑貼合。其次再於與上述偏光片之三乙醯基纖維素膜為相對側的面，以厚度23μm之包含環狀聚烯烴系樹脂之零相位差膜〔日本ZEON公司製造商品名為「ZEONOR」〕，經由包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之接著劑貼合而製作偏光板。之後，於零相位差膜之與偏光片黏接之面的相對側之面，施用密接性提昇用之電暈放電處理之後，以上述(2)所製作之黏著劑層的分離膜為相對側之面(黏著劑層面)再以貼合機貼合後，於溫度23℃、相對濕度65%之條件下固化7日，製得附黏著劑層之光學膜(P-1)。
(4)附黏著劑層之光學膜(P-2)之製作
先將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度30μm之聚乙烯醇膜〔為Kuraray公司製造商品名為「KURARAY VINYLON VF-PE#3000〕，浸漬於37℃之純水後，再於30℃浸漬於含碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)中。然後，於56.5℃浸漬於含碘化鉀及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)中。該膜以10℃之純水清洗後，於85℃乾燥，製得在聚乙 烯醇以碘吸附配向的厚度約12μm之偏光片。延伸，主要，係在碘染色及硼酸處理之步驟中進行，總延伸倍率為5.3倍。
於所得之偏光片之單側，以厚度25μm之包含三乙醯基纖維素膜之透明保護膜〔Konica Minolta光學公司製造商品名為「KC2UA」〕，經由包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之接著劑貼合。其次，於與該偏光片經貼合保護膜之面為相對側之面，以上述(2)所製作之黏著劑層上的分離膜為相對側之面(黏著劑層表面)再以貼合機貼合後，於溫度23℃、相對濕度65%之條件下固化7日，製得附黏著劑層之光學膜(P-2)。
(5)附黏著劑層之光學膜之耐金屬腐蝕性評量
上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)，裁切成20mm×50mm大小之試驗片，並經由黏著劑層貼合於附金屬層之玻璃基板之金屬層側。附金屬層之玻璃基板，係使用無鹼玻璃表面藉由濺鍍而積層厚度約500nm之金屬鋁層的玻璃基板(Geomatec公司製造)。所獲得之光學積層體，於溫度60℃、相對濕度90%之烘箱中保持500小時之後，再由玻璃基板之背面照射光並由偏光板表面藉由放大鏡(Lupe放大鏡)觀察部分貼合附黏著劑層之光學膜之金屬層的狀態，對孔腐蝕(直徑0.1mm以上，光可透過之孔的產生)，以以下之基準評量。結果如表3所示。
5：金屬層表面完全不見孔腐蝕及混濁，4：金屬層表面產生孔腐蝕之數目為2個以下，3：金屬層表面產生孔腐蝕之數目為3個至5個以下，2：金屬層表面產生孔腐蝕之數目為6個以上，1：金屬層表面之全部表面發生多個孔腐蝕，且發生混濁。
(6)附黏著劑層之光學膜之耐久性評量
將上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)，以偏光板之延伸軸方向為長邊之方式裁切成200mm×150mm大小並自分離膜剝離，再以露出之黏著劑層面貼合於玻璃基板。然後將所得之黏貼在玻璃基板的試驗片(玻璃基板經黏貼附黏著劑層之光學膜)，在烘箱中，以溫度50℃、壓力5kg/cm2(490.3kPa)，加壓20分鐘。玻璃基板，係使用Corning公司製造之無鹼玻璃板商品名為「Eagle XG」。對所得之光學積層體，進行以下之3種耐久性試驗。
[耐久性試驗]
‧在溫度85℃之乾燥條件下保持750小時之耐熱試驗、‧在溫度60℃、相對濕度90%之環境下保持750小時之耐濕熱試驗、‧以溫度85℃之乾燥條件下保持30分鐘，其次於溫度-40℃之乾燥條件下保持30分鐘之操作為1循環，以其重複400循環之耐熱衝擊(HS)試驗。
各試驗後之光學積層體以肉眼觀察，以肉 眼觀察黏著劑層有無突起、剝離、起泡等外觀變化，並依照下述之評量基準評量耐久性。結果如表3所示。
4：完全未觀察到突起、剝離、起泡等外觀變化，3：幾乎未觀察到突起、剝離、起泡等外觀變化，2：稍有明顯之突起、剝離、起泡等外觀變化，1：確定有明顯之突起、剝離、起泡等外觀變化。
(7)附黏著劑層之光學膜之重工性評量
將上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)，裁切成25mm×150mm大小之試驗片。再由試驗片剝離分離膜，以其黏著劑面黏貼於玻璃基板。然後將所得之經黏貼在玻璃基板的試驗片(玻璃基板經黏貼附黏著劑層之光學膜)，在烘箱中，以溫度50℃、壓力5kg/cm2(490.3kPa)，加壓20分鐘。其次，再於50℃之烘箱中保持48小時，之後，於溫度23℃、相對濕度50%之情況下，由試驗片以300mm/分鐘之速度向180°之方向同時剝離光學膜之黏著劑層。再觀察剝離後玻璃基板表面之狀態，並以以下之基準評量。結果如表3所示。
4：可確定玻璃基板之表面完全無混濁等，3：玻璃基板之表面幾乎無混濁等，2：可確定玻璃基板之表面有混濁等，1：可確定玻璃基板之表面殘留黏著劑層。
(8)附黏著劑層之光學膜之褪色性評量
將上述(4)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-2)裁切成30mm×30mm之大小並剝離分離膜，再以露出之黏著劑層表面貼合於玻璃基板。玻璃基板，係使用Corning公司製造之無鹼玻璃板商品名為「Eagle XG」。然後對所得之光學積層體，使用附積分球之分光光度計〔日本分光公司製造商品名「V7100」〕測定波長380至780nm範圍之MD透光率及TD透光率，並計算各波長下之單體透光率、偏光度，再以JIS Z 8701：1999「色彩表示方法-XYZ表色系及X10Y10Z10表色系」之能見角2°(C光源)以校正光度，求出耐久試驗前之光度校正單體透光率(Ty)及光度校正偏光度(Py)。又，光學積層體，係以偏光板之三乙醯基纖維素膜側為偵測側，以由玻璃基板射入光源設置於附積分球之分光光度計中。
單體透光率及偏光度，各定義為下述式：單體透光率(λ)=0.5×(Tp(λ)+Tc(λ))
偏光度(λ)=100×(Tp(λ)-Tc(λ))/(Tp(λ)+Tc(λ))。Tp(λ)，為以入射波長λ(nm)測定直線偏光與平行偏光關係之光學積層體透光率(%)，Tc(λ)為以入射波長λ(nm)測定直線偏光與垂直偏光關係之光學積層體的透光率(%)。
其次，將該光學積層體於溫度80℃、相對濕度90%之濕熱環境下置放24小時，然後再於溫度23℃、相對濕度60%之環境下置放24小時之後，以與耐久試驗前相同之方法求出耐久試驗後之Ty及Py。之後，由試驗後之Py及Ty，各減去試驗前之Py及Ty以計算耐久試驗前 後之變化量，求出偏光度變化量(△Py)及單體透光率變化量(△Ty)。△Py如表3所示。
<製造例3：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之製造>
在包含冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，加入以表4所示之組成(表4之值為重量份。)的單體與乙酸乙酯81.8份混合所得之溶液。將反應容器內之空氣以氮氣氣體置換之後，調整內溫為60℃。然後，添加以偶氮二異丁腈0.12份溶於乙酸乙酯10份中之溶液。於相同溫度保持1小時之後，於內溫保持在54至56℃，同時以添加速度17.3份/Hr，將乙酸乙酯以聚合物濃度約為35%之方式連續加入反應容器內。在開始添加乙酸乙酯至經過12小時並保持內溫為54至56℃之後，加入乙酸乙酯以調整聚合物之濃度為20%之方式，製得(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之乙酸乙酯溶液。該(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之重量平均分子量Mw為139萬，重量平均分子量Mw與數平均分子量Mn之比Mw/Mn為5.32。在膠體過濾層析(GPC)之排出曲線中，顯示有Mw為139萬之成分的單一峰，並在Mw為1000至250萬之範圍中可確定無其他之峰。
在上面之製造例中，重量平均分子量Mw及數平均分子量Mn，係以GPC裝置，管柱方面為東曹公司製造之「TSKgel XL」4支、及昭和電工公司製造之「Shodex GPC KF-802」1支共計5支串聯配置，並使用四氫呋喃作為沖提液，以試樣濃度5mg/mL、試樣導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘之條件，換算為苯乙烯而測定。求得GPC之過濾曲線時的條件亦與此相同。
玻璃轉移溫度Tg，係使用SII奈米科技公司製造之示差式掃描型熱量計(DSC)「EXSTAR DSC6000」， 在氮氣氛圍下，以測定溫度範圍-80至50℃、昇溫速度10℃/分鐘之條件測定。
各製造例中之單體的組成(表4之值為重量份。)、及GPC排出曲線上Mw為1000至250萬範圍中之峰數(表4中以「GPC峰數」表示)整理為表4。
表4之「單體組成」欄中之簡稱，係表示如下之單體。
BA：丙烯酸丁酯(均聚物之玻璃轉移溫度：-54℃)。
MA：丙烯酸甲酯(均聚物之玻璃轉移溫度：10℃)。
HEA：丙烯酸-2-羥基乙酯。
<實施例9、比較例10至11>
(1)黏著劑組成物之調製
在上述製造例製得之(甲基)丙烯酸系樹脂之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)中，以對該溶液之固形成分100份，將表5中所示之矽烷化合物(B)、離子性化合物(C)、及異氰酸酯系交聯劑(D)各以表5所示之量(重量份)混合，並以固形成分濃度為14%之方式添加乙酸乙酯而製得黏著劑組 成物。表5所示之各調配成分之調配量，在所使用之商品含溶劑等之時，係其中所含之有效成分之重量份數。
表5中所示之簡稱的各調配成分之詳細情形如下。
(矽烷化合物)
B-1：下述式：
所示之矽烷化合物，B-3：為3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，自信越化學工業公司所購得商品名為「KBM403」。
(離子性化合物)
C-5：雙(氟磺醯基)亞胺-N-癸基吡啶，C-8：六氟磷酸-N-辛基-4-甲基吡啶。
(異氰酸酯系交聯劑)
D-1：二異氰酸二甲苯酯之三羥甲基丙烷加成物之乙酸乙酯溶液(固形成分濃度75%)，自三井化學公司所購得商品名為「Takenate D-110N」。
(2)黏著劑層之製作
將上述(1)中所調製之各黏著劑組成物，在包含經施用離模處理之聚乙烯對苯二甲酸酯膜之分離膜〔自LINTEC公司所購得商品名為「PLR-382051」〕之離模處理面，使用塗布機以乾燥後之厚度為20μm之方式塗布，並於100℃乾燥1分鐘製作黏著劑層(黏著劑片)。
(3)附黏著劑層之光學膜(P-1)之製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度60μm之聚乙烯醇膜〔為Kuraray公司製造商品名為「KURARAY VINYLON VF-PE#6000〕，浸漬於37℃之純水後，再於30℃浸漬於含碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)中。然後，於56.5℃浸漬於含碘化鉀及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)中。該膜以10℃之純水清洗後，於85℃乾燥，即可製得在聚乙烯醇以碘吸附配向而厚度約23μm之偏光片。延伸，主要，係在碘染色及硼酸處理之步驟中進行，總延伸倍率為5.3倍。
於所得之偏光片之單側，以厚度25μm之包含三乙醯基纖維素膜之透明保護膜〔Konica Minolta光學公司製造商品名為「KC2UA」〕，經由聚乙烯醇系樹脂水溶液之接著劑貼合。其次於上述偏光片與三乙醯基纖維素膜之相對側之面，以厚度23μm之包含環狀聚烯烴系樹脂之 零相位差膜〔日本ZEON公司製造商品名為「ZEONOR」〕，經由聚乙烯醇系樹脂水溶液之接著劑貼合而製作成偏光板。之後，零相位差膜中與偏光片黏接之面的相對側之面，經施用密接性提昇用之電暈放電處理之後，上述(2)所製作之黏著劑層的分離膜之相對側之面(黏著劑層表面)再以貼合機貼合後，於溫度23℃、相對濕度65%之條件下固化7日，製得附黏著劑層之光學膜(P-1)。
(4)附黏著劑層之光學膜之耐金屬腐蝕性評量
上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)，裁切成20mm×50mm大小之試驗片，並經由黏著劑層貼合於附金屬層玻璃基板之金屬層側。附金屬層之玻璃基板，係使用於無鹼玻璃表面以濺鍍積層厚度約500nm之銀合金(主成分為銀，並含鈀及銅之合金，APC)層的玻璃基板(Geomatec公司製造)。所獲得之光學積層體，於溫度60℃、相對濕度90%之烘箱中保持500小時之後，再由玻璃基板之背面照射光並由偏光板表面藉由放大鏡觀察部分貼合附黏著劑層之光學膜之金屬層的狀態，對孔腐蝕(直徑0.1mm以上，光可透過之孔的產生)，以以下之基準評量。結果如表6所示。
5：金屬層表面完全不見孔腐蝕及混濁。
4：金屬層表面產生孔腐蝕之數目為2個以下。
3：金屬層表面產生孔腐蝕之數目為3個至5個以下。
2：金屬層表面產生孔腐蝕之數目為6個以上。
1：金屬層表面之全部表面產生多個孔腐蝕，且發生混濁。
1‧‧‧附黏著劑層之光學膜
10‧‧‧光學膜
20‧‧‧黏著劑層

Claims (18)

  1. 一種附黏著劑層之光學膜，其係包含光學膜、及積層在其至少一側之面上的黏著劑層，前述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)、及離子性化合物(C)之黏著劑組成物所構成，前述矽烷化合物(B)為下述式(I)所示之矽烷化合物： 式中，A表示碳數1至20的烷二基或碳數3至20的2價脂環烴基，且構成該烷二基及該脂環烴基的-CH2-，亦可置換為-O-或-C(=O)-；R1表示碳數1至5的烷基；R2、R3、R4、R5及R6各自獨立地表示碳數1至5的烷基或碳數1至5的烷氧基；前述離子性化合物(C)之陰離子，為選自下述群組之陰離子；
  2. 如申請專利範圍第1項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述式(I)所示之矽烷化合物(B)，為下述式(II)所示之矽烷化合物： 式中，R1、R3、R4、R5及R6各表示與上述相同之意；R7表示碳數1至5的烷基；m表示1至20的整數。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述式(II)中之m為4至20之整數。
  4. 如申請專利範圍第2項中所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述式(II)中之m為6至8之整數。
  5. 如申請專利範圍第2項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述式(II)中之m為6。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述矽烷化合物(B)為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述離子性化合物(C)的陽離子，為具有含不飽和鍵之含氮原子雜環構造的陽離子。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述離子性化合物(C)的陽離子，為下述式(III)所示之吡啶鎓陽離子： 式中，R8至R13各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、 可具有取代基之芳基、可具有取代基之雜環基、羥基、醚基、羧基、羰基、或鹵素原子，且相鄰取代基彼此亦可形成環。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述黏著劑組成物中前述矽烷化合物(B)的含量，相對於前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份為0.01至10重量份。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)含有來自於含羥基單體的構成單位。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)含有來自於均聚物之玻璃轉移溫度未達0℃的丙烯酸烷酯(a1)的構成單位、及來自於均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上的丙烯酸烷酯(a2)的構成單位。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之重量平均分子量為50萬至250萬。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述黏著劑組成物更含有異氰酸酯系交聯劑(D)。
  14. 如申請專利範圍第1項所述之附黏著劑層之光學膜，其中前述黏著劑組成物實質上不含三唑系化合物。
  15. 一種液晶顯示裝置，其係含有如申請專利範圍第1項至第14項中任一項所述之附黏著劑層之光學膜。
  16. 一種黏著劑組成物，其係含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)、及離子性化合物(C)，前述矽烷化合物(B)為下述式(I)所示之矽烷化合物： 式中，A表示碳數1至20的烷二基或碳數3至20的2價脂環烴基，且構成該烷二基及該脂環烴基的-CH2-，亦可置換為-O-或-C(=O)-；R1表示碳數1至5的烷基；R2、R3、R4、R5及R6各自獨立地表示碳數1至5的烷基或碳數1至5的烷氧基)；前述離子性化合物(C)之陰離子，為選自下述群組之陰離子： 前述黏著劑組成物係使用於要被積層在金屬層上的黏著劑層的形成。
  17. 一種附黏著劑層之光學膜，其係包含光學膜、及積層在該光學膜的至少一側之面上的黏著劑層，而為用以經由前述黏著劑層貼合在金屬層上之附黏著劑層之光學膜，前述黏著劑層為由含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)、及離子性化合物(C)之黏著劑組 成物所形成，前述矽烷化合物(B)為下述式(I)所示之矽烷化合物： 式中，A表示碳數1至20的烷二基或碳數3至20的2價脂環烴基，且構成該烷二基及該脂環烴基的-CH2-，亦可置換為-O-或-C(=O)-；R1表示碳數1至5的烷基；R2、R3、R4、R5及R6各自獨立地表示碳數1至5的烷基或碳數1至5的烷氧基；前述離子性化合物(C)之陰離子，為選自下述群組之陰離子：
  18. 一種光學積層體，其係包含如申請專利範圍第1項至第14項中任一項所述之附黏著劑層之光學膜、及積層在該附黏著劑層之光學膜的黏著劑層側之金屬層。
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