TW201638262A - 防靜電表面保護膜以及貼合有該膜之光學元件 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種防靜電表面保護膜及貼合有該保護膜的光學元件，所述保護膜即使在裁切時也難以出現因黏結劑而導致的異物(膠團)，即使對於作為被黏附體之表面具有凹凸的光學用膜仍具有良好的親和性(濕潤性)，且對被黏附體的污染少，對被黏附體的低污染性即使經過時間流逝也不變，不會經時劣化而具有優異的剝離防靜電性能。所述防靜電表面保護膜(10)，其在由具有透明性的樹脂構成的基材膜(1)的一個面上，依次層積不含防靜電劑的聚氨酯類黏結劑層(2)、防靜電劑層(3)、經剝離處理的剝離膜(4)。

Description

防靜電表面保護膜以及貼合有該膜之光學元件
本發明係關於一種貼合於偏光板、相位差板、顯示器用的透鏡膜等光學元件(以下，有時也稱作光學用膜)表面的表面保護膜。更詳細而言，本發明提供一種防靜電表面保護膜及貼合有該保護膜的光學元件，所述防靜電保護膜即使在裁切時也難以產生因黏結劑而導致的異物(膠團)，對於表面凹凸的光學用膜具有良好的親和性(濕潤性)，且對被黏附體的污染少，對被黏附體的低污染性即使經過時間流逝也不變，不會經時劣化而具有優異的剝離防靜電性能。
在製造、搬運偏光板、相位差板、顯示器用的透鏡膜、抗反射膜、硬塗膜、觸控板用透明導電性膜等光學用膜及使用了它們的顯示器等光學產品時，在該光學用膜的表面貼合表面保護膜，能夠防止在後步驟中表面的污染或損傷。產品的光學用膜的外觀檢查，為了節省剝下表面保護膜並再次貼合的時間，提高作業效率，有時也以將表面保護膜貼合於光學用膜的狀態進行作業。
在以往，在光學產品的製造步驟中，為了防止傷 痕或污染物的附著，通常使用在基材膜的一個面上設有黏結劑層的表面保護膜。表面保護膜經由具有弱黏結力的黏結劑層貼合於光學用膜上。使黏結劑層為弱黏結力，是為了將使用過的表面保護膜從光學用膜的表面上剝離去除時，能夠容易剝離，且黏結劑不附著殘留在作為被黏附體的產品的光學用膜上(所謂的防止產生殘膠)。
作為具有弱黏結力的黏結劑，多使用丙烯酸類黏結劑，但在將光學用膜裁切成符合顯示器大小的規定尺寸時，黏結劑被裁切刀撕開，存在容易產生小片狀的異物(也稱為膠團)的問題。若上述異物產生，則有步驟污染或在光學用膜上產生押痕等問題。因此，要求一種在對貼合有表面保護膜的光學用膜進行切割、裁切時，產生異物少的表面保護膜。此外，要求一種表面保護膜，其即使對稜鏡片或經過防眩處理的偏光板等表面具有凹凸形狀的光學用膜，仍具有良好的親和性(濕潤性)，在將表面保護膜貼合於光學用膜時，氣泡難以進入。
因此，對於在切割或裁切時難以產生膠團、對各種光學用膜的具有良好親和性之表面保護膜的期望，使用了使用聚氨酯類黏結劑的表面保護膜。
近年來，在液晶顯示面板的生產步驟中，雖然發生件數少，但還是存在如下現象：由於將貼合於光學用膜上的表面保護膜剝離去除時產生的剝離靜電壓，而產生的用於控制液晶顯示面板的顯示畫面的驅動IC等電路元件被破壞的現象、或液晶分子的取向損壞的現象。
此外，為了降低液晶顯示面板的耗電，液晶材料的驅動電 壓變低，驅動IC的破壞電壓也隨之變低。最近開始要求使剝離靜電壓在+0.7kV~-0.7kV的範圍內。
在將表面保護膜從作為被黏附體的光學用膜上進行剝離時，為了防止因剝離靜電壓高而導致的不良狀況，人們提出了一種用於將剝離靜電壓抑制為較低的、使用了含有防靜電劑的黏結劑層的表面保護膜。
例如，專利文獻1中，公開了一種由具有氧化烯(alkylene oxide)鏈的聚氨酯、離子化合物及3官能異氰酸酯化合物構成的防靜電黏結劑。此外，專利文獻2中公開了一種表面保護膜用聚氨酯黏結劑組合物，其特徵在於含有超強酸的鹼金屬鹽類及鹼土類金屬鹽類的至少一種鹽。更進一步，在專利文獻3中公開了一種黏結劑組合物及使用了該黏結劑組合物的表面保護膜，所述黏結劑組合物由含有氟代有機陰離子的離子性液體及數平均分子量5,000以上的聚氨酯構成。
現有技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2005-154491號公報
專利文獻2：日本特開2006-182794號公報
專利文獻3：日本特開2007-277484號公報
在所述的專利文獻1~3中，在黏結劑層的內部添加了防靜電劑。但是，黏結劑層的厚度越厚，或者在貼合於被黏 附體後隨時間經過，對於貼合了表面保護膜的被黏附體，防靜電劑從黏結劑層向被黏附體轉移的量有可能變多。若向被黏附體轉移的防靜電劑的量變多，則作為被黏附體之光學用膜的外觀品質有可能下降、或是表面保護膜的黏結特性有可能經時變化。
為了減少所述從黏結劑層向被黏附體轉移的防靜電劑的經時變化，若使黏結劑的厚度變薄，則會產生別的問題。例如，存在如下問題：在使用防眩光用的經過防眩處理的偏光板等表面具有凹凸的光學用膜的情況下，黏結劑無法追隨光學用膜表面的凹凸而混入氣泡；由於光學用膜與黏結劑的接合面積減少而使黏結力降低，在使用中表面保護膜翹起、脫落。
本發明是鑒於上述情況而完成的，其技術問題在於提供一種表面保護膜及貼合有該保護膜的光學元件，所述保護膜即使在裁切時也難以產生因黏結劑而導致的異物(膠團)，對於作為被黏附體的表面具有凹凸的光學用膜具有良好的親和性(濕潤性)，且對被黏附體的污染少，對被黏附體的低污染性即使經過時間流逝也不變，不會經時劣化而具有優異的剝離防靜電性能。
為了解決所述技術問題，本申請發明人等進行了認真的研究。
首先，為了實現對被黏附體的污染少、且防靜電性能的經時變化少，需要減少被推測為污染被黏附體的原因的防靜電劑的添加量。但是，在減少防靜電劑的添加量的情況下，將表面 保護膜從被黏附體剝離時的剝離靜電壓會增高。於是，本申請發明人等對於在不增加防靜電劑添加量的絕對量的情況下，將表面保護膜從被黏附體剝離時的剝離靜電壓抑制為較低的方法進行了研究。結果發現了：不是在黏結劑組合物中添加混合防靜電劑形成黏結劑層，而是在塗佈、乾燥黏結劑組合物並層積黏結劑層後，透過在黏結劑層的表面上施予適量的防靜電劑成分，能夠將表面保護膜從作為被黏附體的光學用膜上剝離時的剝離靜電壓，從而完成了本發明。
即，為了解決上述技術問題，本發明提供一種防靜電表面保護膜，其特徵在於，其在由具有透明性的樹脂形成的基材膜的一個面上，依次層積不含防靜電劑的聚氨酯類黏結劑層、防靜電劑層、經剝離處理的剝離膜。
此外，所述防靜電劑層優選含有離子化合物。
此外，所述防靜電劑層優選含有以鹼金屬為陽離子的離子化合物。
此外，所述防靜電劑層的厚度優選為0.01~0.3μm。
此外，本發明提供一種貼合所述的防靜電表面保護膜而形成的光學元件。
本發明能夠提供一種表面保護膜及貼合有該保護膜的光學元件，本發明的表面保護膜即使在裁切時也難以產生因黏結劑而導致的異物(膠團)，其對於作為被黏附體之表面具有凹凸的光學用膜具有良好的親和性(濕潤性)，且對被黏附體的污染少，對被黏附體的低污染性即使經過時間流逝也不 變，不會經時劣化而具有優異的剝離防靜電性能。
此外，根據本發明的表面保護膜，由於能夠確實保護光學用膜的表面，因此能夠抑制在光學元件生產步驟中不良品的產生，從而要求生產率的提高及成品率的提高。
1‧‧‧基材膜
2‧‧‧黏結劑層
3‧‧‧防靜電劑層
4‧‧‧剝離膜
5‧‧‧光學元件
10‧‧‧防靜電表面保護膜
11‧‧‧剝離了剝離膜的防靜電表面保護膜
20‧‧‧貼合了防靜電表面保護膜的光學元件
第1圖為本發明防靜電表面保護膜的示意剖面圖；第2圖為表示從本發明防靜電表面保護膜上剝下剝離膜的狀態的剖面圖；第3圖為表示將本發明的防靜電表面保護膜貼合於光學元件上的一個實施例的剖面圖。
以下，根據實施的方式對本發明進行詳細說明。
第1圖為本發明的防靜電表面保護膜的示意剖面圖。該防靜電表面保護膜10在透明的基材膜1的一個面的表面，形成有不含防靜電劑的黏結劑層2。在該黏結劑層2的表面，形成有存在含防靜電劑材料的防靜電劑層3，更進一步，在防靜電劑層3的表面，貼合有經剝離處理的剝離膜4。
作為用於本發明的防靜電表面保護膜10的基材膜1，使用由具有透明性及可撓性的樹脂構成的基材膜。如此，在將防靜電表面保護膜貼合于作為被黏附體的光學元件上的狀態下，能夠進行光學元件的外觀檢查。用作基材膜1的具有透明性的樹脂膜，適宜使用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚間苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯 等聚酯膜。除了聚酯膜之外，只要是具有需要的強度，且具有光學特性的膜，還可以使用由其他樹脂構成的膜。基材膜1可以是無拉伸膜，也可以是經單軸或雙軸拉伸的膜。此外，也可以將拉伸膜的拉伸倍率或隨拉伸膜的結晶化而形成的軸方向的配向角度控制為特定的值。
用於本發明的防靜電表面保護膜10的基材膜1的厚度沒有特別的限定，例如，優選為12~100μm左右的厚度。更進一步，基材膜1更優選為20~50μm左右的厚度，此時則便於操作。
此外，可以根據需要，在基材膜1的形成有黏結劑層2的面的相反側面上，設置防止表面污染的防汙層、防靜電層、防損傷的硬塗層等。此外，在基材膜1的表面，可以施加通過電暈放電的表面改質、塗佈增黏塗劑等易黏接處理。
此外，用於本發明的防靜電表面保護膜10的黏結劑層2，只要是在黏合於被黏附體的表面保護被黏附體後，能夠從被黏附體上簡單剝下，且難以污染被黏附體的黏結劑即可。此外，從裁切時產生的膠團少、對光學用膜等被黏附體的濕潤性良好方面考慮，優選使用聚氨酯類黏結劑組合物來形成黏結劑層。
作為聚氨酯類黏結劑，考慮黏結性或濕潤性、被黏附體污染性等，在由多元醇成分與聚異氰酸酯成分構成的聚氨酯類樹脂中進行選擇即可，多元醇成分、聚異氰酸酯成分沒有特別的限定。聚氨酯類樹脂可以單獨使用，或者也可2種以上混合使用。
作為多元醇成分，例如可列舉出聚酯多元醇、聚醚多元醇、聚己內酯多元醇、聚碳酸酯多元醇、蓖麻油類多元醇等。這些多元醇成分可以單獨使用，或者也可2種以上混合使用。
作為上述聚異氰酸酯成分，可使用脂肪族聚異氰酸酯、脂環族聚異氰酸酯、芳香族聚異氰酸酯、二異氰酸酯的多聚體等。這些異氰酸酯成分可以單獨使用，或者也可2種以上混合使用。
作為聚氨酯類黏結劑的市售品，可列舉出Cyabine(註冊商標)SH-101、SH-101M、SP-205、SP-220(toyo-chem(株)製)、ARACOAT(註冊商標)FT100、FT200(荒川化學工業(株)製)、UN1175、UN1176(大同化成工業(株)製)等。黏結劑層只要是使聚氨酯類黏結劑交聯或固化而成即可。
用於本發明的防靜電表面保護膜10的黏結劑層2的厚度沒有特別的限定，例如，優選為5~40μm左右的厚度，更優選為10~30μm左右的厚度。
作為在基材膜1的表面上形成黏結劑層2的方法，以公知的方法進行即可，具體而言，可使用反向塗佈法、逗號塗佈法(Comma Coating)、凹版塗佈法(gravure coating)、狹縫式塗佈法(slot die coating)、線棒式塗佈法(Meyer bar coating)、氣刀塗佈法等公知的塗佈方法。
此外，本發明的防靜電表面保護膜10所使用之用於構成防靜電劑層3的含防靜電劑材料，可列舉出防靜電劑單體或防靜電劑與各種樹脂的混合物等。作為防靜電劑，適用離 子化合物。此外，作為用於防靜電劑與各種樹脂的混合物的樹脂，可列舉出聚酯類樹脂、聚醯胺類樹脂、聚氨酯類樹脂、聚烯烴樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚醋酸乙烯酯樹脂、纖維素樹脂、矽氧樹脂、含氟樹脂等。
作為離子化合物，其為具有陽離子及陰離子的離子化合物，作為陽離子，可列舉出有機陽離子或無機陽離子，例如鹼金屬陽離子、吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、嘧啶鎓陽離子(pyrimidinium cation)、吡唑鎓陽離子(pyrazolium cation)、吡咯烷鎓陽離子、銨陽離子等含氮鎓陽離子或鏻陽離子、鋶陽離子等。含氮鎓陽離子可具有烷基等有機基或取代基。優選為四級含氮鎓陽離子，可列舉出1-烷基吡啶鎓(第2~6個碳原子可以具有取代基，也可未經取代)等四級吡啶鎓陽離子、或1,3-二烷基咪唑鎓(第2、4、5個碳原子可以具有取代基，也可未經取代)等四級咪唑鎓陽離子、N-烷基嘧啶鎓(第2個及第4~6個碳原子可以具有取代基，也可未經取代)等四級嘧啶鎓陽離子、1,2-二烷基噻唑鎓(第3~5個碳原子可以具有取代基，也可未經取代)等四級噻唑鎓陽離子、1,1-二烷基吡咯烷鎓(第2~5個碳原子可以具有取代基，也可未經取代)等四級吡咯烷鎓陽離子、四烷基銨等四級銨陽離子等。作為鏻陽離子，可列舉出四烷基鏻等具有有機基的鏻陽離子。作為鋶陽離子可列舉出三烷基鋶等具有有機基的鋶陽離子。
此外，作為陰離子，可列舉出有機陰離子或無機陰離子，例如CnH2n+1COO-、CnF2n+1COO-、NO3 -、CnF2n+1SO3 -、(CnF2n+1SO2)2N-、(CnF2n+1SO2)3C-、RC6H4SO3 -、PO4 3-、AlCl4 -、 Al2Cl7 -、ClO4 -、BF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、SCN-等。這些離子化合物可以單獨使用，或者也可2種以上混合使用。為了離子性物質的穩定化，可以添加含有聚氧化烯基結構的化合物。上述式中，下標n為0以上的整數。n=0時，相當於HCOO-、(FSO2)2N-等。
在這之中，具有作為陽離子的鹼金屬陽離子的離子化合物(鹼金屬鹽)是適宜的。作為鹼金屬鹽，可列舉出鋰、鈉、鉀構成的金屬鹽。具體而言，例如，可適宜地使用Li+、Na+、K+組成的陽離子與Cl-、Br-、I-、BF4 -、PF6 -、SCN-、ClO4 -、CF3SO3 -、(FSO2)2N-、(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-、(CF3SO2)3C-組成的陰離子所構成的金屬鹽。其中，特別優選使用LiBr、LiI、LiBF4、LiPF6、LiSCN、LiClO4、LiCF3SO3、Li(FSO2)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等鋰鹽。這些鹼金屬鹽可以單獨使用，或者可以2種以上混合使用。為了離子性物質的穩定化，可以添加含有聚氧化烯基結構的化合物。
防靜電劑層3乾燥後的塗佈膜的厚度可以考慮防靜電劑的種類及其防靜電性、被黏附體污染性而決定，優選為0.3μm以下。防靜電劑層3的厚度若超過0.3μm，在表面保護膜貼合於被黏附體時，黏結劑組合物的成分難以從形成防靜電劑層的樹脂之間出現於表面保護膜與被黏附體的介面上，黏結劑層2的黏結力達不到規定值，因此不優選。防靜電劑層3的厚度例如為0.01~0.3μm。
從將防靜電表面保護膜10(詳細而言，剝下第2圖所示的剝離膜的防靜電表面保護膜11)由被黏附體上剝下時的 操作性優異的方面考慮，將防靜電表面保護膜10從被黏附體的表面剝離時的剝離強度(黏結力)優選為0.03~0.3N/25mm左右的弱黏結力。
此外，從防靜電表面保護膜10上剝下剝離膜4時的操作性優異方面考慮，從防靜電劑層3上剝離剝離膜4時的剝離力優選在以剝離速度0.3m/分鐘、剝離角度180°的條件下進行測定時為0.005~0.3N/50mm。
此外，在本發明的防靜電表面保護膜10中，在黏結劑層2的表面形成防靜電劑層3的方法沒有特別的限定。例如，可列舉出以下方法：(1)使剝離膜4的剝離劑層中含有所述的含防靜電劑材料，在使剝離膜4貼著於黏結劑層2時，轉印至黏結劑層2的方法；(2)在黏結劑層2的表面上印刷所述的含防靜電劑材料的方法；(3)在黏結劑層2的表面，塗佈所述的含防靜電劑材料的方法等。對於所述含防靜電劑材料的印刷或塗佈，可以進行均勻的印刷、塗佈，或者也可以特定的圖案進行印刷、塗佈。只要考慮黏結劑層對於防靜電表面保護膜的被黏附體的黏結力等而決定即可。對於含防靜電劑材料的印刷或塗佈的方法，可使用公知的方法進行。
第1圖所示的用於使用在本發明的防靜電表面保護膜10的剝離膜4中的樹脂沒有特別的限定。作為剝離膜4，例如，可例示出在聚酯膜、聚醯胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚醯亞胺膜等樹脂膜的一個面上，實施矽氧樹脂類剝離劑、含長鏈烷基的樹脂、含氟樹脂等剝離劑處理的剝離膜，或使聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚甲基戊烯樹脂、含氟樹脂等具有離型性 的樹脂膜化的剝離膜。
剝離膜的厚度沒有特別的限定，例如，優選為12~100μm左右的厚度，若為20~50μm左右的厚度則容易操作，故而更優選。
第2圖為表示從本發明的防靜電表面保護膜上剝下剝離膜的狀態的剖面圖。在第2圖所示的剝下了剝離膜的防靜電表面保護膜11中，在黏結劑層2的表面上設置有防靜電劑層3。
第3圖為表示將本發明的防靜電表面保護膜貼合於光學元件上的實施例的剖面圖。
本發明的防靜電表面保護膜10剝下經剝離處理的剝離膜4，以外露出防靜電劑層3的狀態(第2圖的防靜電表面保護膜11)，經由該防靜電劑層3貼合于作為被黏附體的光學元件5上。
即，第3圖表示了貼合有從本發明的防靜電表面保護膜10上剝下剝離膜4的狀態的防靜電表面保護膜11的光學元件20。作為光學元件，可列舉出偏光板、相位差板、透鏡膜、相位差板兼用的偏光板、透鏡膜兼用的偏光板等光學用膜。這些光學元件可用作液晶顯示面板等液晶顯示裝置、各種計量儀器類、光學類裝置等的構成元件。此外，作為光學元件，可列舉出抗反射膜、硬塗膜、觸控板用透明導電性膜等光學用膜。特別是能夠適於用作表面透過矽氧樹脂化合物或氟化合物等進行防污染處理的低反射處理偏光板(LR偏光板)或防眩低反射處理偏光板(AG-LR偏光板)等光學用膜的、貼合於經防污染處理的面上的防靜電表面保護膜來使用。
在將由本發明的防靜電表面保護膜10剝下剝離膜4狀態的防靜電表面保護膜11從作為被黏附體的光學元件(光學用膜)上剝離去除時，能夠充分地較低地抑制剝離靜電壓。因此，無需擔心破壞驅動IC、TFT元件、柵線驅動電路等電路元件，能夠提高在製造液晶顯示面板等步驟中的生產效率，確保生產步驟的可靠性。
實施例
接著，通過實施例對本發明進行進一步說明。
(實施例1) (防靜電表面保護膜的製造)
在厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上，將添加、混合有100重量份聚氨酯類黏結劑(荒川化學工業(株)製、品名：ARACOAT(註冊商標)FT200、黏結劑不揮發成分的含有率為40重量%)、5.7重量份固化劑(荒川化學工業(株)製、品名：ARACOAT(註冊商標)CL2503、固化劑不揮發成分的含有率為40重量%)的黏結劑組合物的塗佈液進行塗佈，使乾燥後的厚度為20μm，然後，使用100℃的熱風循環式烤箱進行2分鐘乾燥，形成黏結劑層。然後，在黏結劑層的表面上，將作為防靜電劑的雙三氟甲烷磺醯亞胺鋰的醋酸乙酯溶液用4號線棒(Meyer bar)塗佈使乾燥後的防靜電劑層的厚度變為0.1μm，然後使用100℃的熱風循環式烤箱進行2分鐘乾燥，在黏結劑層的表面設置防靜電劑層，製成樣品。在該樣品的黏結劑層的表面上貼合剝離膜(三菱樹脂(株)製Diafoil MRF38，在厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上經矽氧樹脂剝 離劑處理而成)，得到實施例1的防靜電表面保護膜。
(實施例2)
除了使實施例1的防靜電劑為雙氟磺醯亞胺鋰、使乾燥後的防靜電劑層的厚度為0.05μm以外，以與實施例1相同的方式，得到實施例2的防靜電表面保護膜。
(實施例3)
除了使實施例1的防靜電劑層的乾燥後的厚度為0.3μm以外，以與實施例1相同的方式，得到實施例3的防靜電表面保護膜。
(實施例4)
除了使實施例1的防靜電劑變更為雙三氟甲磺醯亞胺三正丁基甲銨(3M日本公司製，型號：FC-4400)以外，以與實施例1相同的方式，得到實施例4的防靜電表面保護膜。
(比較例1)
將在實施例1的黏結劑組合物中，以固體成分比例為100：1.5的方式混合實施例1的防靜電劑的黏結劑組合物，以乾燥後的黏結劑層的厚度為20μm的方式進行塗佈，代替在黏結劑層上層積防靜電劑層以外，以與實施例1相同的方式，得到比較例1的防靜電表面保護膜。
(比較例2)
除了不設置防靜電劑層以外，以與實施例1相同的方式，得到比較例2的表面保護膜。
(比較例3)
除了使防靜電劑層的乾燥後的厚度為0.5μm以 外，以與實施例1相同的方式，得到比較例3的防靜電表面保護膜。
以下，顯示出評價試驗的方法及結果。
〈剝離膜的剝離力的測定方法〉
將防靜電表面保護膜的樣品剪裁成寬度50mm、長度150mm。在23℃×50%RH的試驗環境下，用拉伸試驗機以300mm/分的剝離速度在180°的方向上，測定將剝離膜從防靜電劑層上剝離時的強度，將其作為剝離膜的剝離力(N/50mm)。
(防靜電劑的表面的表面電阻率的測定方法)
將剝離膜從防靜電表面保護膜的樣品剝離後，使用高電阻電阻率計(三菱化學Analytech公司製Hiresta(註冊商標)-UP)，在施加電壓100V、測定時間30秒的條件下測定防靜電劑層的表面的表面電阻率。
〈防靜電表面保護膜的黏結力的測定方法〉
使用貼合機，在玻璃板的表面貼合防眩低反射處理偏光板(AG-LR偏光板)。然後，在偏光板的表面上貼合剪裁成寬度25mm的防靜電表面保護膜後，在23℃×50%RH的試驗環境下保存1天。然後，使用拉伸試驗機以300mm/分鐘的剝離速度在180。的方向上，測定剝離防靜電表面保護膜時的強度，將其作為黏結力(N/25mm)。
〈防靜電表面保護膜的剝離靜電壓的測定方法〉
使用貼合機，在玻璃板的表面貼合防眩低反射處理偏光板(AG-LR偏光板)。然後，在偏光板的表面上經由防靜電劑層貼合剪裁成寬度25mm的防靜電表面保護膜後，在23 ℃×50%RH的試驗環境下保存1天。然後，使用高速剝離試驗機(Tester產業製)以每分鐘40m的剝離速度剝離防靜電表面保護膜，同時使用表面電位計(Keyence(株)製)每10ms測定上述偏光板表面的表面電位，將此時的表面電位的絕對值的最大值作為剝離靜電壓(kV)。
〈防靜電表面保護膜的表面污染性的確認方法〉
使用貼合機，在玻璃板的表面貼合防眩低反射處理偏光板(AG-LR偏光板)。然後，在偏光板的表面上經由防靜電劑層貼合剪裁成寬度25mm的防靜電表面保護膜後，在23℃×50%RH的試驗環境下保存3天及30天。然後，剝下防靜電表面保護膜，以目視觀察偏光板的表面的污染性。作為表面污染性的判定基準，以偏光板上無污染轉移的情況評為(○)，確認到偏光板上有污染轉移的情況評為(×)。
對於得到的實施例1~4及比較例1~3的防靜電表面保護膜，所測定的測定結果如表1及表2所示。“LiTFSI”意謂雙三氟甲烷磺醯亞胺鋰，“LiFSI”意謂雙氟磺醯亞胺鋰，“FC-4400”意謂雙三氟甲烷磺醯亞胺三正丁基甲銨。此外，防靜電劑層的表面的表面電阻率一欄中的“5.9E9”意為5.9×109，“超範圍(Over-range)”意謂表面電阻率(Ω/□)超過測定上限值(1.0×1013以上)，無法測定。
[表1]
根據表1及表2所示的測定結果可知如下情況： 本發明的實施例1~4的防靜電表面保護膜即使經由防靜電劑層貼合，仍具有適度的黏結力，對被黏附體的表面沒有污染，且將防靜電表面保護膜從被黏附體上剝離時的剝離靜電壓低。
另一方面，在黏結劑層中均勻混合有防靜電劑的比較例1的表面保護膜，從被黏附體上剝離表面保護膜時的剝離靜電壓 低，為良好，但在保存30天後，經時的對被黏附體的污染性惡化。此外，在黏結劑層的表面未設有防靜電劑層的比較例2的表面保護膜，從被黏附體上剝離表面保護膜時的剝離靜電壓變高。更進一步，增加了防靜電劑層的厚度的比較例3，從被黏附體上剝離表面保護膜時的剝離靜電壓低，為良好，但剝離之後，對被黏附體的污染增加。
工業實用性
本發明的防靜電表面保護膜能夠用於例如偏光板、相位差板、透鏡膜等光學用膜、以及其他各種的光學元件等的生產步驟等中，貼合於該光學元件等保護其表面。此外，本發明的表面保護膜能降低在從被黏附體剝離時產生的靜電量，且剝離防靜電性能的經時變化及對被黏附體的污染少，能夠提高各種的光學元件等生產步驟的成品率，在工業上的利用價值大。
1‧‧‧基材膜
2‧‧‧黏結劑層
3‧‧‧防靜電劑層
4‧‧‧剝離膜
10‧‧‧防靜電表面保護膜

Claims (5)

  1. 一種防靜電表面保護膜，其特徵在於，其在由具有透明性的樹脂構成的基材膜的一個面上，依次層積一不含防靜電劑的聚氨酯類黏結劑層、一防靜電劑層、一經剝離處理的剝離膜。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之防靜電表面保護膜，其特徵在於，該防靜電劑層含有離子化合物。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之防靜電表面保護膜，其特徵在於，該防靜電劑層含有以鹼金屬作為陽離子的離子化合物。
  4. 如申請專利範圍第1~3項中任一項所述之防靜電表面保護膜，其特徵在於，該防靜電劑層的厚度為0.01~0.3μm。
  5. 一種光學元件，其由貼合如申請專利範圍第1~4項中任一項所述之防靜電表面保護膜而形成。
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