TW201637824A - 具有釋放機構的積層製造裝置 - Google Patents

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Abstract

一種積層製造裝置，其包括一容器、一搭建平台及一硬化單元，該容器用於容置一材料，該材料在一或多個硬化波長下是可聚合的，該容器具有一撓性壁部，該撓性壁部對在所述一或多個硬化波長下的輻射是至少部分透明的，該搭建平台具有一搭建表面，該搭建平台相對該容器是可移動的，以定位該搭建表面來使得該搭建表面面向該撓性壁部，該硬化單元包括一具有一平坦的接觸表面之剛性構件，該剛性構件對在所述一或多個硬化波長下的輻射為至少部分透明的，且一輻射模組相對該剛性構件被定位或可定位以發射輻射穿過該剛性構件，其中該剛性構件及該容器是相對彼此可移動的，使得在一第一位置，該剛性構件之該平坦的接觸表面係與該撓性壁部接觸，且在一第二位置，該剛性構件係自該撓性壁部分隔開。

Description

具有釋放機構的積層製造裝置
積層製造係藉由增加材料、有效地積聚成一物件來形成三維物件的製程，其和習知例如是雕刻或CNC加工是相反的，於雕刻或CNC加工中，一三維物件係藉由從一較大的物件移除材料而被形成的。在用於積層製造之絕大部分的設備及方法中，該三維物件係藉由在一直立的方向逐層地被積聚成的。該所想要的三維物件係由一疊非常薄的材料層被形塑出的，各此等材料層為在該物件中之該層於該直立位置中之該物件的橫斷面的代表。
在一已知類型之積層製造中，一種光敏樹脂被用於形成該三維物件。該樹脂為一種液態單體，當被暴露在例如是紫外線之特定波長的輻射之下，其係可被聚合或硬化。例如，在選擇式沉積機器中，該樹脂可以液態的形式以所想要的圖案被沉積，然後被硬化來形成該三維物件的一橫斷面層。或是，在選擇式硬化機器中，一大量的樹脂被選擇式地暴露在適當波長的輻射中，以使其僅有想要的地方硬化。使用此種選擇式硬化方法之機器的範例為立體微影技術(SLA)及數位光處理(DLP)機器。
在一使用光敏樹脂的積層製造機器中，維持整個三維物件有 一均勻的層厚度是有困難的。此是因為該液態樹脂的流變特性主宰了其流開到或展佈及一整個表面上的能力。例如，具有一比黏度的一種液態樹脂會對其會如何薄地展佈及其本身有一實際上的限制。具有一非常高黏度的樹脂會傾向無法比較低黏性的液體(例如水)般薄地展佈及一搭建平台的該固態金屬或塑膠表面上。此外，像是密度及黏度的特性相對溫度並非是固定值的，使得在非標準或可變條件下操作一積層製造機器亦可能會犧牲掉該被印製物件的保真性。
某些例如是Formlabs公司Form 1型列印機的積層製造裝置具有一帶有一透明下壁部的樹脂槽，被列印之物件的該等層經由該樹脂槽被硬化。一搭建平台可被做成直立地在該樹脂槽內及上方朝上及朝下地移動。為了列印出該第一層，該搭建平台移動至一位置，使得其下搭建表面係遠離開該透明下壁部一相當一層厚度的距離。被夾合在(該搭建平台的)該搭建表面及(該透明下壁部的)該硬化表面之間的一薄層的樹脂，被暴露至來自下面通過該透明下壁部的輻射。在硬化該第一層之後，該搭建平台向上移動(遠離該樹脂槽的底部)。相較於黏附至該透明下壁部的該硬化表面，該被硬化的第一層被更牢固地黏附至該搭建平台的該搭建表面，以致在該搭建平台被向上移動時，該被硬化的第一層隨著其移動，且一用於樹脂流入的空間被產生，使得下一層可被形成。因為該搭建平台向上移動及移出該樹脂槽，因此重複此程序，以一種上下顛倒的方式逐層地積聚出一三維的物件。該透明下壁部基本上是實體的，使得接續的層可被一致地形成，及具有個別想要的層厚度。藉由提供該搭建平台及該硬化面板之該等位置之精密的電腦控制，該層厚度可被控制(例如保持固定或調整成提供較低或 較高的解析度)。
上述之列印機構的主要缺點為，需要克服該被硬化的樹脂黏附至該透明下壁部。為了確保平順的列印，相較於被黏附至該透明下壁部的材料，被硬化的聚合樹脂明顯更牢固地黏附至該搭建表面的材料及預先被硬化之樹脂層是至關重要的。
為了解決黏附的問題，大多數消費等級的3D列印機使用一種例如是PDMS的硬化抑制塗層於該硬化表面、一種傾斜分離機構(其提高該被硬化材料自該硬化表面的逐漸分離)、或是二者之上。然而，此等各個有其本身的缺點。例如，含氧之例如是PDMS的硬化抑制塗層僅具有一有限量之被溶解的氧在一給定的施用中，因此必須被定期地更換，以便能持續有效。此外，此些塗層典型的是撓性及彈性的。此可能會造成被列印之三維物件降低的保真度，且該塗層亦可能易於撕裂。
上述之列印機構由於黏附問題的另一缺點為，擴展至工業量級列印有很高的問題性。用於從該硬化表面分開一硬化的樹脂層所需要的作用力和大小尺寸不成比例。此使得傾斜分開機構在一工業級3D列印機中的施用不切實際。換言之，在工業量級上，一硬化抑制塗層或一傾斜分開機構對該黏附問題而言皆非是可行的解決方法。
由於上述的理由，目前已知的高端工業級3D列印機應用了更複雜的系統，來用於在暴露至輻射之前及直到暴露至輻射時，展佈一薄的樹脂層及控制其厚度。例如，在一已知的機器中，該搭建平台在一容器中向下移動，以讓樹脂能流過一預先硬化層。接著，該搭建平台被再次向上移動，以使其在適合於所想要的層厚度的高度處。由於該樹脂的表面張 力，在該搭建表面之頂部上的樹脂量係較所想要的厚些，使得一例如是剛性桿或板片的一刷行元件必須刷過該液體的上表面，以在硬化之前平化該液體。此機構對列印程序增加了成本、時間及複雜度。特別是，需要該流體特性的詳細運算，以便能預測在刷行之後，該流體的表面張力會多快地再次造成其形成一不想要的厚度層。該刷行機構亦僅可在例如是標準溫度下之一控制良好的環境下產生一致的結果。
本案發明致力於克服上述諸缺點中的一個或多個缺點，或是至少提供一有用的替代品。
在一觀點中，本案發明提供一種積層製造裝置，其包括：一容器，其用於容置一材料，該材料在一或多個硬化波長下是可聚合的，該容器具有一撓性壁部，該撓性壁部對在該一或多個硬化波長下的輻射是至少部分透明的；一搭建平台，其具有一搭建表面，該搭建平台相對該容器是可移動的，以定位該搭建表面，使得該搭建表面面向該撓性壁部；及一硬化單元，其包括一具有一平坦的接觸表面之剛性構件，該剛性構件對在該一或多個硬化波長下的輻射為至少部分透明的，及一相對該剛性構件被定位或是可定位的輻射模組，以發射輻射穿過該剛性構件；其中，該剛性構件及該容器是相對彼此可移動的，使得在一第一位置，該剛性構件之該平坦的接觸表面係和該撓性壁部接觸，及在一第二位置，該剛性構件係自該撓性壁部分隔開。
有利地，藉由允許該剛性構件相對該撓性壁部移動，其有可 能使該剛性構件之該平坦的接觸表面能提供一暫時的支撐，同時接觸該撓性壁部之該可聚合的材料被該輻射模組硬化。此確保被硬化材料之諸平坦層的一致形成。接著該硬化程序之後，介於該剛性構件及該容器之間的相對移動，使得在該剛性構件及該撓性壁部之間可有一空氣間隙形成，因而能有該被硬化之材料自該撓性壁部更為容易的分離。
較佳地，該撓性壁部為彈性的。
在某些實施例中，該剛性構件係相對該輻射模組被固定的。
在某些實施例中，該輻射模組包括輻射發射或傳送元件之一電子式可編址化陣列，該陣列可被建構以藉由該陣列之諸元件的選擇性致動而產生具有一預定圖樣的輻射。該輻射模組可包括一動態遮蔽構件，例如是一容置有該電子式可編址化陣列的LCD(且較佳是一單色LCD)，以及一用於照射通過該動態遮蔽構件的輻射源。該剛性構件可為或可包括該動態遮蔽構件。
在其他的實施例中，該輻射模組可包括一投影器，該投影器可被建構成用於產生具有一預定圖樣的輻射，選擇式地伴隨有適當的光學元件，用於引導該輻射通過該剛性元件。
在另外的實施例中，該輻射模組包括一LED陣列或OLED陣列。該剛性構件可為或可包括該LED陣列或OLED陣列。
在某些實施例中，該撓性壁部為一薄膜。其可包括一含氟聚合物及/或一彈性體。
在某些實施例中，該剛性構件為該硬化單元的一外層，例如是一透明或半透明面板。
在某些實施例中，該硬化單元包括一具有一圓弧邊緣的外殼。此使該硬化單元能按壓該撓性壁部來拉張該撓性壁部，而不會刺破或是損壞該撓性壁部。
在本案發明的另一觀點中，提供一種積層製造的方法，其包括：提供一具有一撓性壁部的容器，該撓性壁部對在一或多個硬化輻射波長下的輻射是至少部分透明的；以一材料至少部分地填充該容器，該材料在該一或多個硬化波長下是可聚合的；定位一搭建平台的一搭建表面於該容器中，使得該搭建表面面向該撓性壁部；及相對該撓性壁部定位一硬化單元，該硬化單元包括一輻射模組，使得該硬化單元的一剛性構件之一平坦的接觸表面接觸該撓性壁部，該剛性構件對在該一或多個硬化波長下的輻射是至少部分透明的。
該方法可進一步包括藉由通過該剛性構件及該撓性壁部照射該材料來硬化一層鄰接該搭建表面的材料。接著硬化該層之後，該硬化單元可被移動，使得該剛性構件從該撓性壁部被分隔開。該搭建平台可被移動，使得該搭建表面自該撓性壁部移開，藉此將該被硬化的層從該撓性壁部分隔開。
僅藉由參考隨附圖式之非限制形範例，本案發明的諸實施例現在將被說明，其中： 圖1以高概略形式顯示一積層製造裝置的一第一實施例；圖2至8顯示圖1的該積層製造裝置在一積層製造程序期間於不同的狀態；圖9顯示圖1的該積層製造裝置的一硬化單元；圖10顯示可和圖1的該積層製造裝置一起使用的一替代式硬化單元；圖11顯示一積層製造裝置的一第二實施例；圖12至16顯示圖11的該積層製造裝置在一積層製造程序期間於不同的狀態；圖17為用於圖1及11的該等積層製造裝置的一範例控制系統的一方塊圖式；及圖18為圖17的該控制系統的軟體構件的一方塊圖式。
首先參考圖1，其以高概略形式顯示一積層製造裝置10的一第一實施例，該積層製造裝置10包括一容器20，該容器20用於容置一可在一或多個硬化波長的輻射下可聚合的材料。該材料可例如是一可聚合樹脂、黏膠、單體、多聚體、預聚合物、一膠態懸浮液等等。該裝置10亦包括一搭建平台40，該搭建平台40被耦合至一驅動機構(未被顯示出)，該驅動機構用於移動該搭建平台40朝向及遠離該容器20之一壁部11。在被圖示說明於圖1中的該實施例中，該壁部11為該容器20的一下壁部，且該搭建平台40相對該下壁部11被降低(亦即移向)或被抬升(亦即移離)。
該搭建平台40具有一搭建表面41，一3D物件的諸層在該搭建表面41上逐漸地被加上，如同以下被更詳細地說明的。
該積層製造裝置10亦包括一硬化單元30，其被建構用於發射在一或多個硬化波長的輻射，通過該下壁部11及進入該容器的容積，以便能選擇性地硬化在該容器20中之該可聚合材料50的諸部分(圖2)。為此，該下壁部11對由該硬化單元30所發射出的輻射為至少部分透明的(例如是完全透明的或是半透明的)。例如，如果該硬化單元30的輻射源為一UV輻射源，則該下壁部11對UV輻射，或至少對符合該輻射源的該發射光譜的一或多個峰值，為至少部分透明的，及較佳是完全透明的。
特別的是，該下壁部11係由一撓性的及較佳為彈性的材料所形成的，且可為由一含氟聚合物及/或具有適當光學特性之彈性體所形成的一撓性薄膜，例如是一氟化乙烯丙烯(FEP)薄膜。有利地，除了光學透明外，FEP亦為高強度及耐化學腐蝕的。
該撓性薄膜11被附加在該容器20的諸上部分21及諸下部分22之間，該等部分係藉由螺絲或其他適合的固緊件23被保持在一起。該等上部分可包含一或多個凹窩，用於容置例如是一墊片12的密封組件，該墊片12被夾抵住該撓性薄膜11的表面。該密封組件12可為一種抗化學腐蝕的材料，以便能防止其在和該聚合物樹脂50接觸時分解，該聚合物樹脂50可被容置在該槽20中。該等上部分21、下部分22、螺絲23、墊片12及撓性薄膜11提供一液密密封來防止液態樹脂50從該容器20流出。該撓性薄膜11可被但非必要被拉伸跨越過該容器20，使得其被張緊及大致是平的。
該硬化單元30包括一外殼38，於其中被罩護有一輻射源31、為一液晶顯示器(LCD)32形式的一動態遮罩、及為一硬化面板33形式之一大致為剛性的構件，該硬化面板33具有一面離該外殼38的外表面34。 該硬化面板33對由該輻射源31所發射出的輻射為至少部分透明的，使得該輻射可被傳遞通過該硬化面板33，且亦通過該撓性薄膜11，以硬化該可聚合物材料50。
該硬化單元30包括一驅動機構(未被顯示出)，其可被致動來移動該硬化單元30朝向或遠離該撓性壁部11。該硬化單元30可被移動至一位置，使得該硬化面板33的該外表面34能接觸到該撓性薄膜11，或是壓抵住該撓性薄膜11，以便能施加張力，使得該薄膜11橫跨該硬化面板33的該外表面34為平滑的及張緊的(該外殼38可具有圓弧邊緣35，以便能確保該硬化單元30不會刺穿該薄膜11)。在此位置，該剛性的硬化面板33支撐住在該容器20中之樹脂的重量，以便防止該薄膜11下垂，並提供用於樹脂的一被硬化層51之形成的一平坦的平台，如在圖4中所顯示出的。因為該薄膜11為撓性的，因此其便有可能藉由將該搭建平台40從該薄膜11移開，來將樹脂的該被硬化層51從該薄膜11分隔開，如在圖5及圖6中所顯示出的。
有利地，藉由使該硬化面板33能相對該撓性薄膜11移動，其便有可能使該硬化面板33的該外表面34在硬化處理期間提供一暫時的支撐，以確保被硬化材料之平坦層的形成一致，同時接續地在該硬化面板33在硬化後從該撓性薄膜11被移開時，能有一空氣間隙60的形成(圖5)。比如果該硬化面板33係保持和該薄膜11接觸，此空氣間隙使該被硬化層51能更容易地從該薄膜11分隔開。
如於此被使用的，有關一薄膜之該用詞〝彈性的〞意指該薄膜係能從一初始形狀變形至一容納該硬化單元30之該表面所需的程度，使 得一大致平坦的接觸係和該硬化單元的該表面(或其部分)達成，但是一旦該變形作用力不再被施加時便返回該初始形狀。
除了FEP外，適當之撓性的及彈性的薄膜之另二個範例為PTFE鐵氟龍及透明乳膠。
在本案發明之一實施例的測試中，一具有一100微米之厚度的PTFE鐵氟龍薄膜被使用。雖然PTFE鐵氟龍並不是非常透明的，但是其對傳送來自一標準UV LED光源的輻射以能硬化在該容器20中之樹脂是足夠半透明的。PTFE鐵氟龍具有高耐化學腐蝕性，使得其能耐用成千上萬次列印週期。
在另一實施例的測試中，一具有一250微米之厚度的透明乳膠薄膜被使用。透明乳膠具有極佳的撓性及彈性耐用度(其可被拉伸及返回其初始構形成千上萬次而不會有永久變形)，以致其可輕易地被張緊橫跨一表面。該高彈性亦意指其能隨著該搭建平台40一起進一步拉伸，亦即更深入該容器20，同時以一徑向朝內的剝離運動逐漸地釋放開該被硬化層51。此更逐漸的釋放指出在任一點的分離作用力係比當使用一較低彈性的薄膜(例如是PTFE或FEP)時低，因而可使更精細的特徵件被列印出。適合在本案發明之諸實施例中使用的乳膠係由加利福尼亞州富勒頓的專業塑料公司所製造的，且係以商標HYTONE被銷售。
該LCD32及輻射源31形成一可程式化輻射模組的部分，該可程式化輻射模組可被建構用於產生一輻射的圖樣化光束，以硬化在該容器20中之帶有一想要之圖樣的一層樹脂。該LCD32的諸光點個別地構成可編址化的元件，其等可藉由該裝置10的一控制系統200被打開或關閉， 該控制系統200被耦合至該LCD32(如在圖17中所顯示出的)。當一光點被致動(被打開)時，其使光線能被傳遞通過，而當其不作用(被關閉)時，其阻擋住光線。因此，LCD32的該等光點為個別可編址化的光線傳遞器，其等可被該控制系統200程式化，以便以作用為遮蔽元件的不作用光點，產生想要的輻射圖樣。
該LCD32較佳地為一單色LCD。在一彩色的LCD中，各光點係由三或四個個別可編址化的次光點所組成的，各個次光點具有一顏色過濾器，其使光線以一窄波長帶穿過。在一彩色LCD中之全白背光發射出介於400至700nm的全波長，且顏色係藉由選擇式地讓此白光通過該等紅、綠及藍(R、G、B)被過濾過的次光點。為了列印應用，在紫外線(UV)或正紫(TV)範圍的光線是最有效的，因為各光子係帶有一相當大量的能量。此些光子的波長範圍從約300至450。在一彩色的LCD中的所有該等次光點過濾器(R、G、B)防止此些波長的光線通過它，亦即被傳送穿過一正常LCD之有效光子的強度是最小的。為了此項理由，一不具有任何色彩過濾器之單色LCD的使用，以被發現用於給予更短的硬化時間(多光子被傳送)。
在某些實施例中，該輻射模組可包括一面板之成一陣列的個別可編址化光發射器，例如是一LED或OLCD顯示器。以類似LCD32的方式，該面板可由該控制器被程式化，使得被選定的光線發射器在任何給定的時間被致動，以便產生所想要的輻射圖樣。在此些實施例中，該輻射模組之個別的可編址化元件本身以所想要的硬化圖樣發射輻射，而非作用為一用於分開之輻射源的遮罩。LEDs及有機LEDs主要地可被設計用於發射出任何特別的光波長(可見的、UV、IR)，以匹配該可聚合流體50之特定 的硬化需求。在此些實施例中，該加入的製造裝置可被做成更加的精巧，因為當面板本身便是該光線(輻射)源時，沒有如此之〝背光〞需求，且對介於該分別的光源及LCD之間的一光組合之需求亦被排除了。
在某些實施例中，該硬化面板33可自該LCD32及該輻射源31分隔開。例如，該硬化面板33可獨立於該硬化單元30的其餘部分移動，以便接觸該薄膜11，以該輻射源31及該LCD32隨後被致動，來發射出該所想要的層圖樣通過該硬化面板33於其就定位時。該輻射源31及該LCD32可在固定的位置，或是亦可為獨立式移動的。在其他的實施例中，該硬化面板33及該LCD32可相對彼此被固定，且可獨立於該輻射源31移動。
在另一些實施例中，該硬化面板33可完全地被省略掉，使得該LCD(或其他的遮蔽構件)32本身作用為接觸該薄膜11的剛性構件。此是可能的，如果該遮蔽構件32本身是足夠剛硬來同時做為一遮蔽構件以及一剛性的硬化面板。此實施例的優點為該遮蔽構件32係僅由可能是非常薄的薄膜11來自該光敏樹脂50分隔開。如果該薄膜11是非常薄的，例如是小於50微米的厚度，則撞擊該層光敏樹脂50的輻射非常接近地展現穿過該遮蔽構件32之輻射的圖樣，因為輻射在通過該遮蔽構件會散射所通過其的距離非常的小，等於該薄膜11的厚度。
輻射源31可為一點發射器，例如是一燈泡或LED光或是一具有一陣列之此些點發射器的面板。其亦可為一雷射發射器。在某些實施例中，如在圖10中被顯示出的，該輻射源可為一影像投影器36，例如一數位光處理(DLP)投影器，其除了是該輻射源外，亦可具有一內部光組合。一數位光處理投影器例如是具有不同之嵌入光學鏡片以及一數位微鏡裝置 (DMD)。如同將為熟習相關技術者所了解的，如果該輻射源31是一種雷射發射器或是包括有一DLP或其他類型的投影器，則例如是LCD32的一遮蔽構件便不需要，因為該所想要之層圖樣的影像可被直接地投影在該樹脂上，而不需遮蔽。
在被顯示在圖10中之該硬化單元30的該實施例中，除了該輻射源31及該剛性的硬化面板34，該硬化單元30亦可包括一光學組合32，該光學組合32亦可具有一或多個鏡片及鏡子或是任何此些的組合，經由其等，來自該輻射源31之圖樣化的輻射可在一光束路徑37中行進及通過該硬化面板33離開。
在建造一3D物件期間之該附加之製造裝置10的操作，現將參考圖3至8被說明。
在圖3中，具有搭建表面41之該搭建平台40被顯示成被定位在例如是一可聚合之樹脂之可聚合液體50的一儲槽上方，該可聚合液體50被容置在該容器20中，且被設置在該薄膜11上，該薄膜11在此結構中為該容器的下壁部。該成硬化單元30被定位，使得該薄膜11係由該剛性的硬化面板33被支撐在該薄膜的側邊，該薄膜並未和被容置在容器20中的樹脂接觸。
為了列印一三維物件的第一層，該搭建平台40移至一位置，使得一薄層的聚合物樹脂被夾合在其搭建表面41及該薄膜11的該硬化表面(亦即面入該容器20內的表面)之間。樹脂的該被夾合層是均勻的，且具有受控的厚度，因為該剛性的硬化面板33支撐該薄膜11，且亦施加一輕的張力至其，以致該薄膜11不會下垂。此意指當該樹脂的第一層被暴露至 適當波長的輻射及因而被硬化時，該被硬化的形式不會展現出跨越其整個表面之一凸面的或圓頂的形狀，而是均勻平的，及依照該撓性薄膜11之平坦表面的高度。
如在圖4中被顯示出的，在該光敏樹脂50已被暴露至來自該硬化單元30的該輻射源31之適當波長的輻射之後，該被暴露的區域將會固化以形成一固態區域51。此被硬化樹脂的薄層51被黏附至該搭建表面41及該薄膜11的該硬化表面。
在該第一層的樹脂50被硬化之後，該硬化單元30以遠離該薄膜11的一方向被移動(在此例子中，該硬化單元30被降低)，以便產生一介於其及該薄膜之間的空氣間隙60，如同在圖5中被顯示的。
在該空氣間隙60已被形成之後，該搭建平台40被做成以一遠離該薄膜11的方向移動(在被圖示說明的範例中，為一向上的方向)，且係以一和該硬化面板33於產生該空氣間隙60之運動方向相反的方向。如在圖6中被顯示的，該搭建平台40的運動傾向將樹脂之該目前被硬化層51自該薄膜11拉離。介於該被硬化層及該薄膜的硬化表面之間的黏結容易被克服，因為該薄膜伸張及/或變形，藉由徑向朝內傳遞的一剝離運動，逐漸地及輕微地釋放其黏附，直到該被硬化層51的最中央部分已從該薄膜11的該硬化表面被釋放開。因為該薄膜11為彈性的，一旦由該硬化單元30所提供之張力被移除，其會傾向返回其初始、大致為平坦的狀態，如同在圖7中被顯示的。
在該被硬化層51已完全地從該薄膜11的該硬化表面被分離開之後，該硬化面板33被做成移回到其原始位置，以該接觸表面34和該薄 膜11接觸(圖3)。不是與此移動同時，便是接著此移動，該搭建平台40被移動至一用於該接續層(未被圖示出)之硬化的位置，亦即該搭建平台40被做成朝向該薄膜11移動，使得新的薄層樹脂被夾合在該薄膜11的該硬化表面及最近被硬化層51的面部之間，該最近被硬化層51的面部先前係和該薄膜11之的該硬化表面直接接觸。諸層藉由先前所述之步驟順續反覆地被增加，直到該整個想要的物件已被建構出，如同在圖8中被顯示出的。
一積層製造裝置10’的一替代性實施例，及其在一建構操作步驟期間的架構被概略地顯示在圖11至16中。在此替代性實施例中，該搭建平台40的該搭建表面41係面朝上的，亦即面離該容器20，且該物件係以頂部向下的方式被建構(亦即是以該搭建平台起始在該容器的頂部，即逐漸地向下移動)，而非是以底部向上的方式。當擴展至工業量級時，此類型的建構可能是較佳的，因為在使用一底部向上架構的工業3D列印中(例如在圖1中被顯示出的)，最大可被列印物件的尺寸可為使得其本身的重量會克服將其保持至該搭建表面的黏附作用力，造成其在完成之前掉落該搭建平台40。即使是該被列印物件的部分釋放亦可能會造成缺陷，而使得一列印物件被浪費。
在圖11的該裝置10’中，一容器20具有下21及上部分22，一撓性薄膜11被固緊於其等之間。在此實施例中，該撓性薄膜11為該容器20的上壁部。該撓性薄膜11可大致是和被顯示在圖1至8中之該實施例中的該薄膜11相同。雖然該裝置10’包括有一被設置在該等上部分22中的墊片12，以便將該薄膜11密封抵靠住該容器20，但是此在某些實施例中是可被省略的，因為在該容器20中之樹脂50的位準可被保持低於該薄膜11 的位準，使得樹脂的洩漏不會發生。
該積層製造裝置10的該硬化單元30可大致是如同在圖9或圖10中被顯示的，但相較於圖1至8的該實施例是在一相反的定向，使得該硬化面板33的該接觸表面34面向該薄膜11，該薄膜11在此例中為該容器20的上壁部。近似的，該搭建平台40可大致是和在圖1至8中被顯示之該裝置的該搭建平台40相同，使得其可被移向(亦即朝上地)或遠離(亦即朝下地)該薄膜11。
在由該裝置10’所施行的一列印程序中，該硬化單元30被移動至一位置，於該位置其和該撓性及彈性壁部11接觸，及按壓該壁部，以便提供張力同時移動該壁部11的該內表面(亦即該壁部面入該容器20的表面)來和該樹脂50接觸，如同在圖12中被顯示的。該搭建平台40亦被移動至一位置，使得其搭建表面41係離開該薄膜11一小段距離。介於該搭建表面41及該薄膜11之間的距離係等於待被列印之該第一層之所想要的厚度。
為確保該撓性壁部11接觸該樹脂，該容器20具有一液體位準感測器(未被顯示出)，該感測器可被用來確保該液體位準總是在一給定之所想要的高度。該感測器可提供資料給一隨後被說明的控制系統200，該控制系統200可致動一能將樹脂50充入該容器20中至該所想要之高度的泵。該硬化單元30可被建構成用於在各層的硬化期間移動至相同的位置，使得其充分地按壓該薄膜11成低於該所想要之高度。以此方式，該樹脂位準總是被保持稍微地高於該位準，於該位準該硬化表面會是當該硬化單元30已將其按壓進入其用於硬化的固定位置。
當該硬化單元30被啟動時，該輻射源31發射該適當之硬化波長的輻射(亦即適於在該容器20中之特別的樹脂50)。該輻射由LCD32被引導朝向和該薄膜11接觸之該薄層樹脂之所想要的區域，及通過剛性的透明層33。該輻射撞擊被夾合在該薄膜11及該搭建表面41之間的該薄層樹脂，造成該所想要的區域之硬化，形成如圖13中所顯示之一被硬化的樹脂層51。
在該硬化程序被完成之後，該硬化單元30可被移至一位置，使得其不會和該薄膜11接觸，產生一介於剛性透明層33之外表面及該薄膜11之間的一間隙60，如圖14中所顯示的。
在該間隙60已被產生之後，該搭建平台40以一遠離該硬化單元30的方向被移動(在此例子中，向下進入該容器20)，及遠離該薄膜11，使得該撓性及彈性壁部或薄膜11和該搭建平台40一起被拉伸，造成介於其及該被列印物件51之間的黏附之一傳遞式的剝離，如在圖15中被顯示的，其中一多層物件51被圖示成在多層已被列印之後。
當該被列印物件51的該最外表面已自該薄膜11被完全的釋放開時，該薄膜11的彈性造成其返回到其初始位置，如在圖16中被顯示的。當該搭建平台40移回至一位置，使得一薄層樹脂將該最近被硬化層的最外表面從該薄膜11的該表面分離開，該程序可再次開始(如在圖12中被顯示的)，以列印接續的層。
各該等積層製造裝置10、10’可依據由一控制系統所發出的指令被操作，該控制系統以一預定的順序致動諸構件，例如是該等裝置之該等移動部件的諸驅動機構、輻射源31、動態遮罩32等，以便完成一3D 列印操作。該控制系統可接收來自不同感測器的輸入，該等感測器包括位置感測器、液體位準感測器等等。
在某些實施例中，該等積層製造裝置10、10’可包括一機構，用於減少介於該薄膜11及該剛性構件33的該接觸表面34之間的氣泡的存在。此些氣泡會造成該撓性薄膜11具有一不均勻的表面，因而產生在該被硬化層樹脂51中的缺陷。
例如，該積層製造裝置10或10’可包括一導電筒、板或其他導電組件，其可攜帶一靜電荷，且其可和該撓性薄膜11接觸，以在該薄膜的表面感應一靜電荷。該異號的一靜電荷可隨後在該接觸表面34上被感應出(例如，使用適合被重建來感應相反電荷之相同的導電組件，或是使用被建構用於如此做之另一導電組件)，使得該二表面會彼此吸引及黏附。
在另一範例中，該等積層製造裝置10、10’可包括一氣密的包覆件及一泵，該硬化單元30及薄膜11被容置在該包覆件中，該泵可被致動以排空該包覆件。當在該包覆件內部的空氣壓力被減低，或是一真空被產生在該包覆件內部時，該撓性薄膜11會歪斜，以緊緊地包裹住該整個接觸表面34，同時亦抽出任何氣泡，該等氣泡係可能會被容置在該薄膜及該接觸表面之間。
先前被說明之該等積層製造裝置10、10’的一控制系統200的一範例被顯示在圖17中。該控制系統200可包括一電腦系統201，該電腦系統201包括標準的電腦構件，包括非揮發性儲存體(例如是一硬碟或固態硬碟)204、隨機存取記憶體(RAM)206、至少一處理器208、及諸外部介面210、212、214、218，全部藉由一匯流排216被互相連在一起。該等外部介 面包括通用串列匯流排(USB)介面210、及一網路介面連接器(NIC)212，該網路介面連接器(NIC)212將該系統201連接至一通訊網路220，例如是網際網路，經由該網際網路，一使用者電腦系統240可和該控制系統200通訊，及讓使用者能和該置100互動。該使用者電腦系統240可為一標準桌上型或膝上型電腦系統，例如是一種基於英特爾IA-32的電腦系統，或是一種行動式運算裝置，例如是一智慧型手機或平板電腦。該控制系統200可經由NIC212，或是從被連接到該等USB介面210或例如是一保全數位(SD)介面(未被顯示出)的一替代式介面之一的一儲存裝置，接收輸入資料。
在某些實施例中，藉由經該等介面210之一被連接的一顯示器、鍵盤及滑鼠或其他的輸入/輸出裝置，及一額外的顯示器轉接器(未被顯示出)，該使用者可和該電腦系統201直接地互相作用。在該電腦系統的替代式實施例中，可包括一例如藉由一顯示器轉接器(未被顯示出)被連接至匯流排216的觸控螢幕輸入/輸出裝置。在此些實施例中，該使用者電腦系統240可能是不需要的。一3D模式檔案可藉由經該(等)外部介面210被連接之網路連接器220或SD卡或USB儲存器被加載至該電腦系統201上，且該使用者隨後可經由例如是該電腦系統201的該觸控螢幕介面直接在該積層製造裝置控制該片層化程序。
該電腦系統201亦包括一顯示器轉接器214，其被用於和該LCD32通訊。該顯示器轉接器214可例如視一高解析度多媒體介面(HDMI)、視頻圖形陣列(VGA)或數位視訊介面(DVI)。在某些實施例中，該顯示器轉接器214可被用於和一投影器36(圖10)通訊。
該儲存媒體204可能已在其上面儲存有大量之標準軟體模 組，包括一例如是Linux作業系統或是微軟視窗作業系統的作業系統224、及一或多個模組202，該(等)模組202包括用於造成該至少一處理器208執行不同的操作的指令，該等操作包括經由USB介面210及/或網路介面212接收相關一3D模型(代表該待被建構之物件)的輸入資料；處理該輸入資料以產生一序列的層圖樣；及經由顯示器轉接器214陸續地傳送該等層圖樣至LCD32(或替代式地，另一種類型的動態遮罩產生器或一LED或OLED顯示器)，及指示一微控制器270來致動該積層製造裝置的機械式、電動式及/或光學式構件。在某些實施例中，該3D模組資料可以STL、STEP或另一種3D向量檔案格式被提供，且被儲存在儲存媒體204，用於被該(等)模組202處理。在其他的實施例中，該輸入的3D模組資料可從使用者電腦系統240或是經由通訊網路220逐層地被接收，及被儲存在RAM206中或在儲存媒體204上用於被該(等)模組202處理。
由該系統201被執行的程序以一或多個軟體模組或構件202之程式化指令的形式被實施，該等程式化指令被儲存在和該電腦系統201相連結之該儲存媒體204上，如在圖17中被顯示的。然而，顯然地是該程序可以替代式地被實施，無論是部分地或是完全地，例如是以如為特定應用積體電路(ASICs)之一或多個專用的硬體構件形式、及/或是以用於例如為場效可程式化閘陣列(FPGAs)之可組態化硬體構件的組態資料形式。
在一範例中，如在圖18中被顯示的，該軟體構件202包括一主要控制構件280，其協調一積層製造程序的整個流程，該積層製造程序係在控制系統200的控制下。該主要控制構件280係和一機械式致動構件286通訊，該機械式致動構件286經由微控制器270產生控制信號來驅動該 積層製造裝置的機械式構件，例如泵及馬達。該主要控制構件280亦和光學控制構件288通訊，該光學控制構件288產生控制信號(經由微控制器270)以啟動或關閉該硬化單元30的該輻射源31，並控制照射期間與長度。
該主要控制構件280可接受例如是該3D模組資料的使用者輸入資料，並建立諸參數，該等參數例如是該物件相對該搭建表面之定位及定向、在相同批量列印中之多個物件的配置、及所想要之列印層的厚度(其決定需要多少片層被產生等等)。該輸入資料可隨後被傳至模組處理構件282，其依據該等被建立的參數〝片層〞該3D模組資料，以產生一系列二維的影像檔，該等影像檔可例如被儲存在儲存媒體204上。該模組處理構件可包括任何已知的片層化軟體模組，例如基奈克士實驗室(Gnexlab)、展望實驗室工作室(EnvisionLabs Creation Workshop)、Slic3r或FreeSteel。一旦該片層化操作已藉由該模組處理構件282被執行，該輸出的片層由該主要控制構件280被傳至顯示器控制構件284，該顯示器控制構件284被建構用於將控制信號傳送至LCD32，以依據對應由該顯示器控制構件284所傳送之一影像片層的圖樣，開啟或關閉像素陣列256的個別像素。
在一列印期間，該等片層(影像檔)由該顯示器控制構件284(經由該顯示器轉接器214)被傳送至該LCD32的一標量電路板(scalar board)252。一標量電路板是和顯示器界接之一種標準及廣為使用的方法。典型地，標量電路板被嵌入作為在商用可取得之LCD監視器或電視內部的該墊子組合的部分。該標量電路板252將一影像或視頻檔從數位信號(HDMI或DVI)或類比信號(VGA)轉換成低電壓的差動信號(LVDS)，其是可由該LCD32的一內部控制板254解讀的。該內部控制板254依據接收自該顯示器 控制構件284之輸入影像來啟動或關閉該像素陣列256的像素。
在列印期間，該電腦系統201亦經由一USB或串列介面(例如一RS-232介面)和一微控制器270界接，該微控制器270係能驅動該積層製造裝置之所有其他的致動器。例如，該微控制器270可驅動諸步進馬達21、該硬化單元30的該光源31、用於將額外的可聚合媒體50抽汲進入該容器20的一或多個泵(未被顯示出)、用於驅動容器20及/或搭建平台40及/或硬化單元30之運動的線性或轉動式運動致動器等等。微控制器270亦可從不同的感測器讀取輸入值，該等感測器例如是一用於在該容器中之可聚合材料的一位準感測器、一搭建平台高度感測器、用於容器20及/或搭建平台40及/或硬化單元30之側向滑動行程終端止擋感測器、直立式終端止擋感測器、溫度感測器等等。
在各層(片層影像檔)從該顯示器控制構件284被傳送至該標量電路板252之後，且因而被投影在該顯示器32上該主要控制構件280可能指示之所需求的硬化時間(其可被提供成該等被建立的參數之一及/或依據該光源之強度及發射光譜及該可聚合媒體的特性被決定)，具有適當的定時及定順序，機械式致動構件286及光學控制構件288來將信號送至該微控制器270，該微控制器270可轉譯該等信號，及以所想要的順序驅動該等不同的馬達、泵及光源。
雖然特別的實施例已被說明及圖示解說，但具有一般技術者將會了解到，在不脫離如隨附之申請專利範圍中所界定之本案發明的範圍下，前述諸實施例之特徵的各種不同的修改及組合是可能的。

Claims (23)

  1. 一種積層製造裝置，其包括：一容器，其用於容置一材料，該材料在一或多個硬化波長下是可聚合的，該容器具有一撓性壁部，該撓性壁部對在所述一或多個硬化波長下的輻射是至少部分透明的；一搭建平台，其具有一搭建表面，該搭建平台相對該容器是可移動的，以定位該搭建表面來使得該搭建表面面向該撓性壁部；及一硬化單元，其包括一具有一平坦的接觸表面之剛性構件，該剛性構件對在所述一或多個硬化波長下的輻射為至少部分透明的，且一輻射模組相對該剛性構件被定位或可定位以發射輻射穿過該剛性構件；其中該剛性構件及該容器是相對彼此可移動的，使得在一第一位置，該剛性構件之該平坦的接觸表面係與該撓性壁部接觸，且在一第二位置，該剛性構件係自該撓性壁部分隔開。
  2. 根據申請專利範圍第1項之積層製造裝置，其中該撓性壁部為彈性的。
  3. 根據申請專利範圍第1或2項之積層製造裝置，其中該剛性構件相對於該輻射模組是固定的。
  4. 根據申請專利範圍第1至3項中任一項之積層製造裝置，其中該輻射模組包括輻射發射或傳送元件之一電子式可編址化陣列，所述陣列可被建構以藉由所述陣列之元件的選擇性致動而產生具有一預定圖樣的輻射。
  5. 根據申請專利範圍第4項之積層製造裝置，其中該輻射模組包括一容置有所述電子式可編址化陣列的動態遮蔽構件，以及一用於照射通過該動 態遮蔽構件的輻射源。
  6. 根據申請專利範圍第5項之積層製造裝置，其中該動態遮蔽構件包括一液晶顯示器(LCD)。
  7. 根據申請專利範圍第6項之積層製造裝置，其中該LCD為一單色LCD。
  8. 根據申請專利範圍第5至7項中任一項之積層製造裝置，其中該剛性構件為該動態遮蔽構件，或包括該動態遮蔽構件。
  9. 根據申請專利範圍第4項之積層製造裝置，其中該輻射模組包括一LED陣列或OLED陣列。
  10. 根據申請專利範圍第9項之積層製造裝置，其中該剛性構件為該LED陣列或OLED陣列，或包括該LED陣列或OLED陣列。
  11. 根據申請專利範圍第1至10項中任一項之積層製造裝置，其中該撓性壁部為一薄膜。
  12. 根據申請專利範圍第11項之積層製造裝置，其中該薄膜包括一含氟聚合物及/或一彈性體。
  13. 根據申請專利範圍第1至12項中任一項之積層製造裝置，其中該剛性構件為該硬化單元的一外層。
  14. 根據申請專利範圍第13項之積層製造裝置，其中該剛性構件為一透明或半透明的面板。
  15. 根據申請專利範圍第1至14項中任一項之積層製造裝置，其中該硬化單元包括一具有一圓弧邊緣的外殼。
  16. 根據申請專利範圍第1至15項中任一項之積層製造裝置，其包括用 於在該撓性壁部上感應一第一靜電荷且在該平坦的接觸表面上感應一第二靜電荷的機構，該第一靜電荷在正負號上係與該第二靜電荷相反。
  17. 根據申請專利範圍第1至16項中任一項之積層製造裝置，其中該容器及該硬化單元被罩護在一氣密罩殼中，且其中該裝置進一步包括一用於排空該氣密罩殼的泵。
  18. 一種積層製造方法，其包括：提供一具有一撓性壁部的容器，該撓性壁部對在一或多個硬化輻射波長下的輻射是至少部分透明的；以一材料至少部分地填充該容器，該材料在所述一或多個硬化波長下是可聚合的；於該容器中定位一搭建平台的一搭建表面，以使得該搭建表面面向該撓性壁部；及相對該撓性壁部定位一硬化單元，該硬化單元包括一輻射模組，以使得該硬化單元的一剛性構件之一平坦的接觸表面接觸該撓性壁部，該剛性構件對在所述一或多個硬化波長下的輻射是至少部分透明的。
  19. 根據申請專利範圍第18項之積層製造方法，其進一步包括藉由通過該剛性構件及該撓性壁部照射該材料來硬化鄰接該搭建表面的一層材料。
  20. 根據申請專利範圍第19項之積層製造方法，其進一步包括在硬化該層材料之後移動該硬化單元，以使得該剛性構件從該撓性壁部被分隔開。
  21. 根據申請專利範圍第20項之積層製造方法，其進一步包括移動該搭建平台，使得該搭建表面自該撓性壁部移開，藉此將已硬化的該層材料從該撓性壁部分隔開。
  22. 根據申請專利範圍第18至21項中任一項之積層製造方法，其進一步包括在該撓性壁部上感應一第一靜電荷，及在該平坦的接觸表面上感應一第二靜電荷，該第一靜電荷在正負號上係與該第二靜電荷相反。
  23. 根據申請專利範圍第18至22項中任一項之積層製造方法，其進一步包括將該容器及該硬化單元罩護在一氣密罩殼中，及減低在該氣密罩殼中的空氣壓力，以將氣泡從該撓性壁部及該平坦的接觸表面之間移除。
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