TW201631079A - 多層光黏著劑及其製作方法 - Google Patents

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TW201631079A
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viscoelastic
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馬克 督得利 瑞德可利夫
麥克 里維茲 史丁尼爾
丹尼爾 威爾佛瑞德 漢恩
湯瑪士 瑞查德 二世 荷芬德
布萊特 強納森 席特
奧黛莉 安妮 雪曼
約翰 詹姆士 史崔丁葛
歐雷斯特 二世 賓森
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３Ｍ新設資產公司
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Abstract

一種多層光黏著劑，其包括一第一黏彈性或彈性黏著層、及一第二黏彈性或彈性黏著層。一交聯或可溶樹脂層可設置在該第一黏彈性或彈性黏著層與該第二黏彈性或彈性黏著層之間，或者該第一黏彈性或彈性黏著層可緊鄰於該第二黏彈性或彈性黏著層。緊鄰的層間之一介面係經結構化，且跨該介面存在折射率的差。

Description

多層光黏著劑及其製作方法
用於在光學應用中使用的結構化薄膜典型係製作在例如聚苯二甲酸乙二酯(PET)之一載體薄膜上，其具有足夠大的厚度，以致該載體薄膜為自體支撐(self-supporting)。此類載體薄膜增加非所要的厚度至結構化薄膜，並可能會產生非所要的光學假影(optical artifact)。一結構化薄膜可包括一黏著層，使得該結構化薄膜可黏附至一顯示器。對不產生非所要的光學假影、並可黏附至一顯示器之較薄的結構化物品存在需求。
在一些態樣中，本發明係關於一光黏著劑，其包括一第一黏彈性或彈性黏著層；一第一交聯或可溶樹脂層，其緊鄰於該第一黏彈性或彈性黏著層；及一第二黏彈性或彈性黏著層，其相對於該第一黏彈性或彈性黏著層而緊鄰於該第一交聯或可溶樹脂層。該第一黏彈性或彈性黏著層具有一第一折射率，且該第一交聯或可溶樹脂層具有不同於該第一折射率之一第二折射率。該第一黏彈性或彈性黏著層與該第一交聯或可溶樹脂層間之一第一介面係經結構化，且 該第一黏彈性或彈性黏著層、該第一交聯或可溶樹脂層、及該第二黏彈性或彈性黏著層之各者實質上係透光的。
在一些態樣中，本發明係關於一光黏著劑，其包括一第一黏彈性或彈性黏著層，其具有一第一主表面、及一未經結構化之第二主表面；以及一第二黏彈性或彈性黏著層，其緊鄰於該第一黏彈性或彈性黏著層之該第一主表面。該第一黏彈性或彈性黏著層具有一第一折射率n1，且該第二黏彈性或彈性黏著劑具有一第二折射率n2。該第一黏彈性或彈性黏著層與該第二黏彈性或彈性黏著層間之一第一介面包括一實質上連續的光柵，其具有一峰至谷高度h及一間距，且h乘以|n1-n2|在約150nm至約350nm的範圍內，且該間距在約2微米至約50微米的範圍內。
在一些態樣中，本說明係關於一光黏著劑，其包括一黏彈性或彈性黏著層，該黏彈性或彈性黏著層具有一第一主表面；一不連續層，其緊鄰於該黏彈性或彈性黏著層之該第一主表面；及一額外層，其係設置為相對於該黏彈性或彈性黏著層而緊鄰於該不連續層。該額外層係與該黏彈性或彈性黏著層接觸。該黏彈性或彈性黏著層具有一第一折射率n1；該不連續層具有不同於n1之一第二折射率n2；且該額外層具有一第三折射率n3。該黏彈性或彈性黏著層與該不連續層間之一第一介面、該額外層與該不連續層間之一第二介面、及該黏彈性或彈性黏著層與該額外層間之一第三介面包括一光柵，其具有一峰至谷高度h及一間距，且其中h乘以|n1-n2|在約150nm至約350nm的範圍內，且該間距在約2微米至約50微米的範圍內。
在一些態樣中，本說明係關於一光黏著劑，其包括一第一離型薄膜，該第一離型薄膜具有一第一離型表面；一黏彈性或彈性黏著層，其緊鄰於該第一離型表面；一硬塗層，其相對於該第一離型薄膜而緊鄰於該黏彈性或彈性黏著層；及一第二離型薄膜，其具有一第二離型表面，該第二離型表面緊鄰於該硬塗層。該第二離型薄膜具有相對於該第二離型表面之一未經結構化的表面。該第二離型薄膜與該硬塗層間之一第一介面係經結構化，且該黏彈性或彈性黏著層及該硬塗層之各者係實質上透光的。
在一些態樣中，本說明係關於製作一種光黏著劑的一方法，該方法包括以下步驟：提供一第一離型工具，其具有一結構化第一離型表面；塗布一第一材料至該結構化第一離型表面上，從而形成具有一第一折射率之一第一層；施加一第二材料及具有一第二離型表面之一第二離型工具至該第一材料上，其中該第二材料相對於該第一離型工具而緊鄰於該第一材料，該第二離型工具相對於該第一材料而緊鄰於該第二材料，且該第二離型表面面對該第二材料；移除該第一離型工具，從而曝露出該第一層之一結構化主表面；以及施加一第三材料至該結構化主表面上。該第二材料形成一第二層，其具有一第二折射率，且該第三材料形成一第三層，其具有不同於該第一折射率之一第三折射率。該第一材料為一第一可塗布樹脂且該第二材料為一第一黏彈性或彈性黏著劑。
在一些態樣中，本說明係關於製作一種光黏著劑的一方法，該方法包括以下步驟：提供一第一離型工具，其具有一結構化第 一離型表面；塗布一第一材料至該結構化第一離型表面上，從而形成具有一第一折射率之一第一層；施加具有一第二離型表面之一第二離型工具至該第一層上，其中該第二離型表面相對於該第一離型工具而緊鄰於該第一層；移除該第一離型工具，從而曝露出該第一層之一第一結構化表面；以及施加一第一黏彈性或彈性黏著劑至該第一結構化表面上，該第一黏彈性或彈性黏著劑形成一第二層，該第二層具有不同於該第一折射率之一第二折射率。
h‧‧‧峰至谷高度
P‧‧‧間距
t‧‧‧接合面厚度
100‧‧‧光黏著劑
110‧‧‧第一層
120‧‧‧第二層
130‧‧‧第三層
135‧‧‧介面
137‧‧‧介面
140‧‧‧外部主表面
145‧‧‧外部主表面
200‧‧‧光黏著劑
210‧‧‧第一層
212‧‧‧元件
213‧‧‧第一方向
214‧‧‧元件
215‧‧‧第二方向
220‧‧‧第二層
226‧‧‧角度
230‧‧‧第三層
232‧‧‧第一間距
234‧‧‧第二間距
235‧‧‧結構化第一介面
237‧‧‧結構化第二介面
240‧‧‧外部主表面
245‧‧‧外部主表面
300‧‧‧光黏著劑
310‧‧‧第一層
320‧‧‧第二層
322‧‧‧第一子層
324‧‧‧第二子層
330‧‧‧第三層
335‧‧‧第一介面
336‧‧‧第二介面
337‧‧‧第三介面
340‧‧‧外部主表面
345‧‧‧外部主表面
400‧‧‧光黏著劑
410‧‧‧第一層
420‧‧‧第二層
430‧‧‧第三層
435‧‧‧第一介面
437‧‧‧第二介面
438‧‧‧第三介面
440‧‧‧第一主表面
445‧‧‧第二主表面
521‧‧‧點
522‧‧‧凸條
523‧‧‧交叉線
524‧‧‧長方體
600‧‧‧光黏著劑
610‧‧‧第一層
620‧‧‧第二層
630‧‧‧第三層
635‧‧‧第一介面
637‧‧‧第二介面
638‧‧‧第三介面
639‧‧‧第四介面
640‧‧‧外部主表面
645‧‧‧外部主表面
650‧‧‧第四層
660‧‧‧第五層
700‧‧‧光黏著劑
710‧‧‧第一層
730‧‧‧第二層
735‧‧‧介面
740‧‧‧外部主表面
745‧‧‧外部主表面
801‧‧‧物品
802‧‧‧物品
803‧‧‧物品
804‧‧‧物品
805‧‧‧第一離型工具
806‧‧‧經塗布的離型工具
810‧‧‧第一層
820‧‧‧第二層
830‧‧‧第三層
837‧‧‧介面
840‧‧‧結構化第一離型表面
841‧‧‧結構化主面
842‧‧‧介面
845‧‧‧第二離型表面
848‧‧‧第三離型表面
855‧‧‧第二離型工具
859‧‧‧第三離型工具
901‧‧‧物品
902‧‧‧物品
903‧‧‧物品
904‧‧‧物品
905‧‧‧第一離型工具
906‧‧‧經塗布的離型工具
910‧‧‧第一層
920‧‧‧第二層
940‧‧‧結構化第一離型表面
941‧‧‧結構化主表面
942‧‧‧介面
945‧‧‧第二離型表面
948‧‧‧第三離型表面
955‧‧‧第二離型工具
959‧‧‧第三離型工具
1001‧‧‧物品
1002‧‧‧物品
1005‧‧‧第一離型工具
1006‧‧‧經塗布的離型工具
1007‧‧‧物品
1008‧‧‧物品
1010‧‧‧第一層
1020‧‧‧第二層
1030‧‧‧第三層
1037‧‧‧介面
1040‧‧‧結構化第一離型表面
1041‧‧‧結構化第一表面
1042‧‧‧介面
1045‧‧‧第二離型表面
1048‧‧‧第三離型表面
1049‧‧‧結構化第二表面
1055‧‧‧第二離型工具
1059‧‧‧第三離型工具
1062‧‧‧第四離型工具
1066‧‧‧第三離型表面
1101‧‧‧物品
1102‧‧‧多層化物品；物品
1105‧‧‧結構化離型薄膜
1106‧‧‧經塗布的離型薄膜
1161‧‧‧退繞輥
1162‧‧‧退繞輥
1166‧‧‧UV固化站
1171‧‧‧捲繞輥
1172‧‧‧捲繞輥
1173‧‧‧捲繞輥
1181‧‧‧第一離型襯墊
1182‧‧‧黏著劑塗布離型襯墊
1185‧‧‧模具塗布機
1189‧‧‧滾筒
1190‧‧‧夾持滾筒
1192‧‧‧支撐輥
圖1為一多層光黏著劑之一剖面圖；圖2A為一多層光黏著劑之一剖面圖；圖2B為一多層光黏著劑之一示意性頂部透視圖；圖3為一多層光黏著劑之一剖面圖；圖4為一多層光黏著劑之一剖面圖；圖5為一不連續層之一示意性頂部透視圖；圖6為一多層光黏著劑之一剖面圖；圖7為一多層光黏著劑之一剖面圖；圖8A至圖8G繪示製作一多層光黏著劑之一程序；圖9A至圖9F繪示製作一多層光黏著劑之一程序；圖10A至圖10F繪示製作一多層光黏著劑之一程序；以及圖11繪示製作一多層光黏著劑之一程序。
以下之敘述參考隨附之圖式，該些圖式形成本說明之敘述的一部分並在其中以圖解說明方式呈現數個特定實施例。圖式非必然按比例繪製。除非另有指明，否則一項實施例的相似特徵與其他實施例之相似特徵可包括相同的材料、具有相同的屬性、以及用於相同或相似的功能。即使未明確陳述，對於一個實施例所描述的額外或可選用的特徵在適當時也可為其他實施例的額外或可選用的特徵。應理解的是，其他實施例係經設想並可加以實現而不偏離本揭露的範疇或精神。因此，下文詳細說明不應視其為限制之意義。
如在本文中所使用的，層、組件、或元件可被描述為彼此相鄰。層、組件、或元件可藉由直接接觸、藉由經由一個或多個其他組件來連接、或藉由彼此並排經固持或彼此經附接而彼此相鄰。直接接觸之層、組件或元件可經描述為緊鄰。
除非另有指明，否則說明書及申請專利範圍中用以表達特徵之尺寸、數量以及物理特性的所有數字，皆應理解為在所有情況下以「約(about)」一詞修飾之。因此，除非另有相反指示，否則在前述說明書以及隨附申請專利範圍中所提出的數值參數係近似值，其可依據所屬技術領域中具有通常知識者運用本文所揭示之教導所欲獲得的所要特性而有所不同。使用端點來敘述之數字範圍包括所有歸於該範圍內的數字(例如，1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.80、4及5)以及該範圍內的任何範圍。
具有一結構化表面或結構化介面之多層化物品可提供有用的光學效應。例如，結構化表面或結構化介面可提供透過物品透射 之一光的折射或繞射。此類多層化物品可被製作在例如聚苯二甲酸乙二酯(PET)之一載體薄膜上。不過，時常需要在顯示器或其他光學應用中使用一多層化物品，其中物品為薄型係為所欲。使用一載體薄膜可能會增加非所要的厚度至多層化物品。使用一載體薄膜亦可能會增添有害的光學效應。例如，典型為高分子量熱塑性聚合物薄膜之載體薄膜(例如，PET)具有某種程度的雙折射性，其可導致非所要的光學假影。此外，使用載體薄膜可由於提供使入射在物品上之一些部分的光反射的額外介面而降低多層物品的透光率。時常需要將多層物品黏附至一顯示器表面。例如，一多層物品可黏附至一顯示器的一外部玻璃表面，或者一多層化物品可黏附至一玻璃層之一內部表面與一顯示器面板之一外部表面兩者。此可藉由將黏著層(一或多個)與多層化物品併用來完成。如本文所述，已發現具有一結構化介面或結構化表面之光學上有用的多層光黏著劑可在不使用非犧牲性(non-sacrificial)載體薄膜的情況下製成。多層光黏著劑典型包括至少一作為一外部層的黏彈性或彈性黏著層。此類多層光黏著劑可包括與一或多個作用如犧牲層之相鄰於外部黏著層(一或多個)的離型襯墊(一或多個)，其等係在用於一顯示器應用前被移除。
根據本說明之一多層光黏著劑係示於圖1中。光黏著劑100包括一第一層110；一第二層120，其緊鄰於第一層110；及一第三層130，其相對於第一層110而緊鄰於第二層120。在一些實施例中，第一層110為一第一黏彈性或彈性黏著層，第二層120為一交聯或可溶樹脂層，且第三層130為一第二黏彈性或彈性黏著層。
黏彈性或彈性黏著劑可為壓敏黏著劑(PSA)、橡膠基黏著劑(例如，橡膠、胺甲酸酯)、及聚矽氧基黏著劑。黏彈性或彈性黏著劑亦包括熱活化黏著劑，其在室溫下無膠黏性，但是在升高之溫度下變成暫時具膠黏性且能夠接合至一基材。熱活化黏著劑係在一活化溫度下被活化，且高於此溫度具有與PSA類似的黏彈性特性。黏彈性或彈性黏著劑可為實質上透明及光學清透。本說明之黏彈性或彈性黏著劑的任一者可為黏彈性光學清透黏著劑。彈性材料可具有大於約20%、或大於約50%、或大於約100%的一斷裂伸長度。黏彈性或彈性黏著層可作為一實質上100%的固態黏著劑直接施加、或可藉由塗布一溶劑型黏著劑並使溶劑蒸發來形成。黏彈性或彈性黏著劑可為熱熔黏著劑，其可被熔化、以經熔化的形式被施加、接著再經冷卻以形成一黏彈性或彈性黏著層。
適當的黏彈性或彈性黏著劑包括彈性聚氨基甲酸乙酯或聚矽氧黏著劑、及黏彈性光學清透黏著劑CEF22,817x與818x，全部皆可購自3M Company,St.Paul,MN。其他有用的黏彈性或彈性黏著劑包括基於苯乙烯嵌段共聚物、(甲基)丙烯酸嵌段共聚物、聚乙烯醚、聚烯烴、及聚甲基丙烯酸酯的PSA。
交聯或可溶樹脂可用在本說明的多層光黏著劑中。可將可交聯或可固化樹脂以液體形式沉積或塗布至一表面上，接著例如藉由施加光化輻射或熱使塗層固化，以形成一交聯樹脂層。用來固化可固化樹脂之塗層的光化輻射可為電子束(e-beam)或紫外線(UV)輻射。 以此方式交聯一經塗布的樹脂可導致具有低雙折射性、或實質上無雙折射性的一層。
用於在本揭露之光黏著劑中使用之適當的可固化樹脂包括UV可固化丙烯酸酯，例如，如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、脂肪族氨基甲酸乙酯二丙烯酸酯(例如，可購自Sartomer Americas,Exton,PA之Photomer 6210)、環氧丙烯酸酯(例如，亦可購自Sartomer Americas之CN-120)、及丙烯酸苯氧基乙酯(可購自Sigma-Aldrich Chemical Company,Milwaukee,WI)。其他適當的可固化樹脂包括濕氣固化樹脂，例如，可購自MAPEI Americas(Deerfield Beach,FL)之Primer M。其他適當的黏彈性或彈性黏著劑、以及其他適當的可交聯樹脂係在美國專利申請公開案第2013/0011608號(Wolk等人)中敘述。
如本文所用，一「可溶樹脂」係具有可溶於適於在一網版塗布(web coating)程序中使用之一溶劑中的材料性質之一樹脂。在一些實施例中，可溶樹脂在25℃下於甲乙酮(MEK)、甲苯、乙酸乙酯、丙酮、甲醇、乙醇、異丙醇、1,3二氧戊環、四氫呋喃(THF)、水、及其組合之至少一者中可溶達至少3重量%、或至少5重量%、或至少10重量%、或至少20重量%、或至少50重量%。一可溶樹脂層可藉由塗布一溶劑型可溶樹脂並使該溶劑蒸發來形成。可溶樹脂層可具有低雙折射性、或實質上無雙折射性。適當的可溶樹脂包括可購自Bostik,Inc.(Wauwatosa,WI)之VITEL 1200B、可購自Croda USA (New Castle,DE)之PRIPOL 1006、以及例如在美國專利公開案第5,534,391號(Wang)中所述之可溶氮丙啶樹脂。
第一層110及第二層120之間的一介面135係經結構化。介面135經組態為提供一所欲的光學效應。例如，介面之幾何與跨介面135之折射率對比(亦即，在介面135之任一側上的材料之折射率差的絕對值)可經選擇，使得入射在介面135上之至少一部分的光係經由介面135折射或繞射。第一層110可具有一第一折射率n1，第二層120可具有可不同於第一折射率n1之一第二折射率n2，且第三層130可具有一第三折射率n3。
在本說明之任一實施例中之跨一結構化介面的折射率對比可經選擇以達成一所需的光學效應。在本說明之任一實施例中，任一結構化介面之任一側上的材料之折射率間之差的量值(亦即，絕對值)(亦即，跨該介面的折射率對比)可為至少0.001、或至少0.003、或至少0.005、或至少0.008、或至少0.01。在一些實施例中，折射率對比可小於約0.5、或小於約0.4、或小於約0.2。在一些實施例中，跨一介面之折射率對比為至少0.001並小於約0.5。在圖1所示之實施例中，介面135之任一側上的材料之折射率間之差的量值(亦即，介面135的折射率對比)係由|n1-n2|來給定。在一些實施例中，介面135包括一光柵，光柵具有峰至谷高度h及間距P。如本文所用，若兩透明或半透明材料間之一介面具有一週期性或準週期性結構(其提供入射在介面上之一可見光的至少一些繞射)，可假定介面為一光柵、或包括一光柵。
本說明之多層黏著劑之任一層可含有例如無機奈米粒子之填料，以調整該層的折射率。例如，第一層110及/或第三層130可為黏彈性或彈性黏著層，其具有分布在黏著劑中的奈米粒子。類似地，第二層120可為一交聯或可塗布的樹脂層，其含有無機奈米粒子。適當的奈米粒子包括氧化鋯奈米粒子。奈米粒子可具有在約1nm至約50nm之範圍內、或在約2nm至約25nm之範圍內的體積平均粒徑。額外適當的奈米粒子係在美國專利申請公開案第2013/0338251號(Joly等人)中敘述。此類層的折射率可例如大於約1.55、或大於約1.6、或大於約1.65。第二層120可為一超低折射率(ULI)層；例如，一奈米空隙ULI層，如美國專利申請公開案第2012/0038990號(Hao等人)中所述者。此類ULI層可具有小於約1.35、或小於約1.3、或小於約1.25、或小於約1.2、或小於約1.15的折射率。
針對本文所討論之任何實施例，用於任何光柵的間距可大於約1微米、或大於約2微米、或大於約4微米、或大於約6微米，並可小於約60微米、或小於約50微米、或小於約40微米、或小於約30微米。例如，在一些實施例中，間距係介於約2微米及約50微米之間、或介於約4微米及約40微米之間。
間距及高度可經選擇，以產生入射在光柵上之至少一部分的光之繞射及/或折射。在一些實施例中，結構化介面(一或多個)為一隨機、偽隨機、或其他不規則結構。
在一些實施例中，本說明之多層光黏著劑可用在一顯示器中，以降低顯示器中的閃光。一顯示器中的閃光可因來自一像素的 光與該光之光學路徑中的不均勻性交互作用而導致(典型位於顯示器的表面上)。由於來自一像素的光與不均勻性的交互作用，其在觀看者移動時看起來為移動的或閃爍的。此類不均勻性可包括來自一薄膜的結構或表面紋理或可被加至顯示器之其他層。例如，防眩光薄膜中的表面紋理時常被包括在內，以減少來自表面的鏡面反射，從而減少眩光。可產生閃光的不均勻性亦包括顯示器表面上之指紋、劃痕、或其他殘留物。閃光可藉由使用週期性結構(亦即，光柵)來減少，週期性結構係如美國專利申請案公開案第2012/0300307號(Borrelli等人)中所述者。產生受控程度的繞射之光柵結構係在發明名稱為OPTICAL STACKS FOR SPARKLE REDUCTION之於2014年6月13日提出申請之美國臨時申請案序號第62/011972號中敘述，該案之全文在此以引用方式併入本文。典型地，所欲者為繞射光柵產生低位繞射峰，其在不犧牲所感知之影像解析度的情況下減少閃光。本說明之多層光黏著劑的結構化介面可包括光柵，其等光柵有效地使從一顯示器入射至光黏著劑之一主表面上的光產生繞射。多層光黏著劑可施加至顯示器之一蓋玻璃的外側，或者可施加在一蓋玻璃與一顯示器面板之間。
由繞射光柵所產生之繞射峰的強度分布係依據跨光柵之折射率對比與光柵之峰至谷高度的乘積而變化。如本文所用，折射率及折射率對比係指在25℃及大氣壓力下使用具有532nm波長之光所測量的折射率，除非另有指示。可調整折射率對比乘以峰至谷高度，使得減低閃光的繞射峰以相對高的強度出現，另一方面會降低有效解 析度的繞射峰則以低強度出現、或根本未可測量地出現。用於折射率對比與峰至谷高度之乘積的有用值之範圍可取決於光柵的形狀。光柵可具有任何週期性重複的形狀，例如，一正弦波形狀、一方波形狀、一立方角(cube-corner)形狀，或者光柵可具有其他週期性重複的規則或不規則形狀。光柵可為單向(亦即，在一方向上為週期性的，並往實質上正交的方向延伸)；或者可為雙向，其具有往兩個方向重複的形狀。
針對本文所討論的任何實施例，用於任何光柵之折射率對比乘以光柵之峰至谷高度可大於約100nm、或大於約150nm、或大於約200nm，且小於約400nm、或小於約350nm、或小於約300nm。例如，在一些實施例中，|n1-n2|乘以h係介於約100nm及約400nm之間、或介於約150nm及約350nm之間、或介於約200nm及約300nm之間。在一些實施例中，h乘以|n1-n2|在約150nm至約350nm之範圍內，且間距在約2微米至約50微米之範圍內。已發現此類光柵幾何有效地在不顯著降低所感知的影像解析度的情況下減低閃光。
第二層120及第三層130之間的介面137可為未經結構化的(亦即，實質上平坦的)，如圖1所繪示；或者可為結構化，以提供如進一步在他處討論之一光學效應。
光黏著劑100可例如用於附接一蓋玻璃至一顯示器面板。在一些實施例中，當光黏著劑100被附接至一蓋玻璃及/或一顯示 器面板時，介面135及/或介面137經組態為提供減少閃光之一繞射效應。
第一層110包括外部主表面140，且第三層130包括外部主表面145。在一些實施例中，光黏著劑100具有一第一離型薄膜，其緊鄰於外部主表面140；及/或一第二離型薄膜，其緊鄰於外部主表面145。第一及第二離型薄膜為犧牲薄膜，其等係意欲在顯示器中使用一光黏著劑100之前被移除。具有一離型表面之一離型薄膜可與本說明之任一多層光黏著劑包括在一起，其中離型表面緊鄰於一黏彈性或彈性黏著層之一外部主表面。離型薄膜可提供一結構，使得在移除離型薄膜時，黏彈性或彈性黏著層之結構化外部表面係經結構化，以提供用於空氣洩放的通道。在一些實施例中，黏彈性或彈性黏著層可浸透(wet out)一表面，以在該層被附接至該表面後除去通道。適當的黏著劑與空氣洩放結構係在例如美國專利申請案公開案第2007/0212535號(Sherman等人)中敘述。
在本文所述之任一實施例中，一設置在兩黏彈性或彈性黏著層之間的層可具有小於25微米、或小於20微米、或小於15微米、或小於10微米的接合面厚度(land thickness)(亦即，排除結構之高度的厚度)。在一些實施例中，接合面厚度係大於約1微米、或大於約3微米、或大於約5微米。當層為一載體薄膜時，無法以習知技術達成使用具有小於25微米之接合面厚度的一層，因為一載體薄膜典型具有50微米或更大的厚度，使得載體薄膜為自體支撐(self-supporting)。因此，本說明之多層光黏著劑提供一結構化物品，其具 有一小的厚度且無與載體薄膜相關聯的光學假影，此係使用使用習知技術所無法達成的。
在本文所述之任一實施例中，多層光黏著劑之各層可為實質上透光的。例如，光黏著劑100之第一層110可為一第一黏彈性或彈性黏著層，第二層120可為一第一交聯或可溶樹脂層，且第三層130可為第二黏彈性或彈性黏著層，而第一黏彈性或彈性黏著層、第一交聯或可溶樹脂層、及第二黏彈性或彈性黏著層之各者可為實質上透光的。
如本文所用，「實質上透光的」層為一層，其所具有的材料性質為實質上所有傳播通過該層的可見光係透射通過該層、或在位於該層邊界之一介面處被反射。在一些實施例中，超過95%、或超過97%之具有550nm波長且入射在該層上的光係透射通過該層、或從位於該層之一邊界之一介面處被反射。
圖2A繪示一實施例，其中本說明之一多層光黏著劑中存在兩結構化介面。光黏著劑200包括一第一層210；一第二層220，其緊鄰於第一層210；及一第三層230，其相對於第一層210而緊鄰於第二層220。在一些實施例中，第一層210為一第一黏彈性或彈性黏著層，第二層220為一交聯或可溶樹脂層，且第三層230為一第二黏彈性或彈性黏著層。
第一層210包括外部主表面240，且第三層230包括外部主表面245。在一些實施例中，光黏著劑200具有一第一離型薄 膜，其緊鄰於外部主表面240；及/或一第二離型薄膜，其緊鄰於外部主表面245。
光黏著劑200包括第一層210與第二層220之間的一結構化第一介面235、以及第二層220與第三層230之間的一結構化第二介面237。在一些實施例中，第一介面235包括一第一光柵，且第二介面237包括一第二光柵。在一些實施例中，第一光柵沿著一第一方向延伸，且第二光柵沿著不同於第一方向之一第二方向延伸。
第二層220具有一接合面厚度(亦即，排除結構高度的一厚度)t。在一些實施例中，接合面厚度t係小於25微米(或小於20微米、或小於15微米、或小於10微米)。在一些實施例中，接合面厚度(land thickness)t係大於約1微米、或大於約3微米、或大於約5微米。
圖2B顯示一光黏著劑之一示意頂部視圖，光黏著劑具有由元件212表示之一第一光柵，其沿著第一方向213延伸；以及由元件214表示之一第二光柵，其沿著一第二方向215延伸，第一方向213與第二方向215之間具有角度226。由元件212表示之第一光柵具有第一間距232，且由元件214表示之第二光柵具有一第二間距234。在許多實施例中，第二方向215不同於第一方向213。在一些實施例中，角度226係大於0度、或大於約5度、或大於約10度、或大於約20度，並小於或等於90度。將了解的是比一大於90度的角度係等效於小於90度的餘角。在一些實施例中，第一方向213與第二方向 215係實質上正交。在一些實施例中，第一間距232與第二間距234約相等。在其他實施例中，第一間距232與第二間距234不同。
圖3中繪示另一實施例，其中本說明之多層光黏著劑中存在兩結構化介面。光黏著劑300包括一第一層310；一第二層320，其緊鄰於第一層310；及一第三層330，其相對於第一層310而緊鄰於第二層320。第一層310為一第一黏彈性或彈性黏著層，第二層320為一交聯或可溶樹脂層，且第三層330為一第二黏彈性或彈性黏著層。如本文所用，一交聯或可溶樹脂層可由一或多個子層構成，其中各子層為一交聯或可溶樹脂層，且不包括任何非一交聯或可溶樹脂層之子層。第二層320包括第一子層322，其緊鄰於第一層310；及第二子層324，其緊鄰於第一子層322並緊鄰於第三層330。光黏著劑300包括第一介面335，其位於第一層310與第一子層322之間；第二介面336，其位於第一子層322與第二子層324之間；以及第三介面337，其位於第二子層324與第三層330之間。在所繪示的實施例中，第一介面335及第二介面336係經結構化，且第三介面337係未經結構化。在其他實施例中，第一、第二、及第三介面335、336、及337之任一者、兩者、或全部係經結構化。
第一層310包括外部主表面340，且第三層330包括外部主表面345。在一些實施例中，光黏著劑300具有一第一離型薄膜，其緊鄰於外部主表面340；及/或一第二離型薄膜，其緊鄰於外部主表面345。
在一些實施例中，一多層光黏著劑之一或多層係如圖4所繪示般地為不連續的。光黏著劑400包括一第一層410；一第二層420，其緊鄰於第一層410；及一第三層430，其相對於第一層410而緊鄰於第二層420。第三層430係與第一層410接觸。在一些實施例中，第一層410為一第一黏彈性或彈性黏著層，第二層420為一交聯或可溶樹脂層，且第三層430為一第二黏彈性或彈性黏著層。第二層420為不連續的。光黏著劑400包括一第一主表面440；一第二主表面445；一第一介面435，其位於第一層410與第二層420之間；一第二介面437，其位於第二層420與第三層430之間；以及一第三介面438，其位於第一層410與第三層430之間。
在一些實施例中，第一、第二、及第三介面435、437、及438包含一光柵，其使入射在光黏著劑之一主表面(440或445)上之一光的至少一部分繞射。光柵具有間距P、及峰至谷高度h。在一些實施例中，第一層410具有第一折射率n1，第二層420具有不同於n1之一第二折射率n2。在一些實施例中，h乘以第一層410與第二層420間之折射率的絕對值(亦即，h×|n1-n2|)在約150nm至約350nm之範圍內，且間距P在約2微米至約50微米之範圍內。
在一些實施例中，第三層430為一額外層，其可為一黏彈性或彈性黏著層；或者可為某一其他層。在一些實施例中，第一層410為一第一黏彈性或彈性黏著層，第二層420為一不連續層，且第一層410係黏附至一顯示器中之一層之一表面，其中第二層420面向該表面。第三層430則係該顯示器中的該層，其可例如為一玻璃層。 在一些實施例中，第三層430為一離型襯墊，其具有面向第一層410之離型表面。
例如，第二層420可藉由噴墨印刷(ink jet printing)施加至第一層410。在一些實施例中，光黏著劑400係藉由提供具有一結構化表面的第一層410而製成。一溶劑型樹脂接著可被塗布至結構化表面上，且溶劑接著可被蒸發，在結構化表面中產生部分填充，其導致一不連續的第二層420。第三層430接著可被塗布在不連續的第二層420上方、以及塗布在第一層410中之結構化表面未受到不連續的第二層420覆蓋之部分的上方。在一些實施例中，第二層420係藉由將一材料印刷至第一層410之一未經結構化的表面上而形成。該材料可為一樹脂，其擴散進入第一層410的表面，形成不連續且位置接近第一層410之主表面且相對於第一主表面440的第二層420。
第二層420在一圖案中可包括複數個離散物體。離散物體可為點、交叉線、凸條(rib)、枕形物體(變形的長方體物體，其具有向外彎成弓形的頂部)、或其組合。圖5顯示一不連續的第二層之一截面圖，其顯示點521、凸條522、交叉線523、及長方體524，其等在一些實施例中可具有圓頂形外部表面。
根據本說明之多層光黏著劑可包括超過三層，如圖6所繪示。光黏著劑600包括一第一層610；一第二層620，其緊鄰於第一層610；一第三層630，其相對於第一層610而緊鄰於第二層620；一第四層650，其相對於第二層620而緊鄰於第三層630；及一第五層660，其相對於第三層630而緊鄰於第四層650。在一些實施例 中，第一層610為一第一黏彈性或彈性黏著層，第二層620為一第一交聯或可溶樹脂層，第三層630為一第二黏彈性或彈性黏著層，第四層650為一第二交聯或可溶樹脂層，且第五層660為一第三黏彈性或彈性黏著層。光黏著劑600包括第一介面635，其位於第一層610與第二層620之間；第二介面637，其位於第二層620與第三層630之間；第三介面638，其位於第三層630與第四層650之間；及第四介面639，其位於第四層650與第五層660之間。光黏著劑600可藉由將圖2之一第一光黏著劑200的一外部主表面245黏附至一第二光黏著劑200的一外部主表面240而製成。光黏著劑600亦可使用他處所述之程序一層一層地製成。
在一些實施例中，第一、第二、第三、及第四介面635、637、638、及639之至少兩個係經結構化。在一些實施例中，第一、第二、第三、及第四介面635、637、638、及639的任一者、兩者、三者、或全部係經結構化。在一些實施例中，第一、第二、第三、及第四介面635、637、638、及639包括一沿著一第一方向延伸的一第一光柵、及一沿著不同於第一方向之一第二方向延伸的一第二光柵。
第一層610包括外部主表面640，且第三層630包括外部主表面645。在一些實施例中，光黏著劑600具有一第一離型薄膜，其緊鄰於外部主表面640；及/或一第二離型薄膜，其緊鄰於外部主表面645。
根據本說明，已發現多層光黏著劑可由一第一黏彈性或彈性黏著層、及一第二黏彈性或彈性黏著層構成，其中兩黏著劑間之一介面係經結構化，且介面係跨時間穩定耐熱與耐機械變形。
根據本說明之一多層光黏著劑係示於圖7中。光黏著劑700包括一第一層710、及緊鄰於第一層710之一第二層730。第一層710為一第一黏彈性或彈性黏著層，其具有一第一折射率n1，且第二層730為一第二黏彈性或彈性黏著層，其具有不同於n1之一第二折射率n2。光黏著劑700包括介面735，其可包括一實質上連續的光柵。光柵可具有一峰至谷高度h及一間距P。峰至谷高度h乘以跨光柵之折射率對比|n1-n2|可在約150nm至約350nm之範圍內，且間距可在約2微米至約50微米之範圍內。如他處所討論的，已發現此範圍得到良好的抗閃光性質。
第一層710包括外部主表面740，且第三層730包括外部主表面745。在一些實施例中，光黏著劑700具有一第一離型薄膜，其具有一第一離型表面，第一離型表面緊鄰於外部主表面740；及/或一第二離型薄膜，其具有一第二離型表面，第二離型表面緊鄰於外部主表面745。
在本說明之多層光黏著劑的一些實施例中，可將提供受控的漫射之複數個粒子或珠加至彼等層之一或多者。在多層光黏著劑係用於減少閃光的實施例中，當透過光黏著劑觀看時，此類珠可造成一像素影像展開之面積超過像素的大小尺寸，且如此一來可幫助減少閃光。除了減少閃光之外，合併複數個粒子或珠可減少可能發生的虹 光。當一顯示器中包括具有一光柵之一多層光黏著劑時，有時候可觀察到緣於來自光黏著劑之環境光的反射之頻率相依性的虹光。一防眩光層可顯著減少此類虹光，但在未合併一防眩光層的顯示器中，虹光可被視為不良。將粒子併入多層光黏著劑允許減少或實質上消除虹光。粒子可被併入本文所述之任何一層光黏著劑的任一層。粒子可被併入一緊鄰於一光柵的一層，或者粒子可被併入設置為近接光柵層之一分開的額外層。分開的額外層可為一薄膜，其具有一實質上未經結構化的表面。
已發現在約0.5微米至約30微米的範圍內之粒度(亦即，平均粒徑)可有效地產生所欲之程度的像素影像展開、及/或產生所欲的虹光減低。如本文所用，平均粒徑係指經平均化、或未經加權之平均，除非另有指示。在一些實施例中，粒子的平均粒徑大於約0.5微米、或大於約1微米、或大於約2微米，且粒子的平均粒徑小於約30微米、或小於約20微米、或小於約10微米。
粒子與粒子所在之介質間之折射率差的絕對值在本文係表示為|△n|。已發現在約0.001至約0.1的範圍內之|△n|可有效地產生所欲之程度的一像素影像之展開、及/或產生所欲的虹光減低。在一些實施例中，|△n|大於約0.001、或大於約0.003，並小於約0.1、或小於約0.05、或小於約0.01。在一些實施例中，|△n|在約0.003至約0.007之範圍內。例如，CEF22光學清透黏著劑(可購自3M Company,St.Paul)中的PMMA珠在532nm下得到約0.005的|△n|(且在405nm下約0.004、以及在632nm下約0.003)。粒子可為任何具有在所需 範圍內之一尺寸與折射率的粒子。粒子可具有球狀、橢圓狀、不規則狀、或其他形狀。可使用玻璃珠或聚合珠。
在一些實施例中，粒子為實質上單分散性。實質上單分散性粒子可具有一粒徑分布，使得90%或更多、或者95%或更多的粒子具有在平均粒徑的5%內、或10%內的粒徑。實質上單一分散的粒子可具有一粒徑分布，其具有小於約10%、小於約5%、或小於約4%之一變異係數(標準偏差除以平均乘以100%)。適當的實質上單一分散的粒子包括來自Microbeads AS(Skedsmokorset,Norway)之單一分散PMMA微球e、或者來自EPRUI Nanoparticles & Microspheres Co.Ltd.(Nanjing China)之單一分散PMMA微球，其具有低於約3.5%之一變異係數。
已發現使用處於約104mm-3與約108mm-3之間的數量密度之粒子可有效地產生所欲之程度的一像素影像展開、及/或產生所欲的虹光減低。典型地，當使用大粒度時，一較低的數量密度係可用的，而當使用較小粒度時，一較大的數量密度係可用的。在一些實施例中，數量密度大於104mm-3或105mm-3，並小於108mm-3或107mm-3。
根據本說明之製作多層光黏著劑的一方法係繪示於圖8A至圖8G。圖8A顯示一第一離型工具805，其具有一結構化第一離型表面840。如本文所用，一離型工具可為一離型薄膜。例如，如在他處更詳細敘述者，一結構可製作於一薄膜上，且結構的表面可經離型處理以形成一結構化離型薄膜。第一離型工具805係經一第一材料 塗布於結構化第一離型表面840上，在第一離型工具805上形成第一層810，從而導致如圖8B所繪示之經塗布的離型工具806。在一些實施例中，第一層810係實質上連續的。在一些實施例中，第一層810可為不連續的。如在他處所述者，一不連續層可藉由噴墨印刷、或藉由使用溶劑塗層技術來施加。在下一程序步驟中，將一第二材料施加至第一材料上，如圖8C所繪示。此形成一第二層820，其相對於第一離型工具805而緊鄰於第一層810。第一層810及第二層820之間形成一介面837。一第二離型工具855係施加至第二層820以形成如圖8D所繪示之物品801。第二離型工具855係相對於第一材料而緊鄰於第二材料，其中第二離型表面845面向第二材料。圖8C及圖8D所繪示的步驟之一替代係將第二材料設置在第二離型工具855之第二離型表面845上。接著將經塗布的離型工具施加至第一材料，得到物品801。在一些實施例中，第一層810及第二層820之至少一者為一黏彈性或彈性黏著劑，使得物品801為一光黏著劑，其可在移除離型工具805或855之後被黏附至一表面。
在一些實施例中，第一材料為一第一可塗布樹脂，其可為一可固化樹脂、或一溶劑型樹脂。在一些實施例中，第一材料為一可固化樹脂，在此情況下，可施加一固化步驟來固化樹脂，導致一交聯樹脂層。固化步驟可在施加第二層820與第二離型工具855之前或之後施加。在一些實施例中，第一材料為一溶劑型可溶樹脂，在此情況下，可施加一溶劑蒸發步驟來形成一經硬化的可溶樹脂層。溶劑蒸發步驟可在施加第二層820之前施加。
在一些實施例中，第二材料為一黏彈性或彈性黏著劑，且第一材料為一硬塗層樹脂。亦即，一種樹脂，其在固化時硬度足以在該材料可為一外部層的應用中提供適當的鉛筆硬度(pencil hardness)或耐磨性。例如，經固化的硬塗層樹脂可提供大於HB、或大於H的鉛筆硬度。在此情況下，物品801可例如藉由移除第二離型工具855而曝露出接著可被附接至一顯示器表面之黏彈性或彈性黏著層(第二層820)來用作為一抗閃光光黏著劑。可移除第一離型工具805，曝露出硬塗層(第一層810)之一結構化表面。在物品801被用於顯示器應用中的一些實施例中，離型工具805與855為犧牲層，其等在物品801用於顯示器中之前被移除。
物品801亦可經進一步的處理以增加額外的層，如圖8E至圖8G所繪示。將第一離型工具805移除，從而曝露出第一層810之結構化主表面841，導致圖8E所示之物品802。接著將一第三材料施加至結構化主表面841上，形成如圖8F所示之具有第三層830的物品803。在第一層810及第三層830之間形成介面842。在一些實施例中，接著將一第三離型工具859施加至第三層830，其中第三離型工具859之第三離型表面848面向第三層830，形成如圖8G所示之物品804。圖8F至圖8G所示的步驟之一替代係將第三材料塗布至第三離型工具859之一第三離型表面上，從而形成一經塗布的離型工具，並接著將經塗布的離型工具施加至結構化主表面841上，其中第三材料面向結構化主表面841。在許多實施例中，第二層820及第三層830之至少一者為一黏彈性或彈性黏著層，使得物品804為一光黏 著劑，其可在移除離型工具859或855之後被黏附至一表面。在一些實施例中，第一材料為一第一黏彈性光學清透黏著劑，且第三材料為一第二黏彈性光學清透黏著劑，其可與第一材料相同或不同。在一些實施例中，第三材料為一第二可塗布樹脂，其可為一可固化樹脂、或一溶劑型樹脂。
離型工具855及859可為犧牲層(例如，離型薄膜)，其等在物品804於顯示器或其他應用中用作為一光黏著劑之前被移除。在一些實施例中，第二及第三材料為相同或不同的黏彈性或彈性黏著劑。
在一些實施例中，離型工具855及859之一或兩者係經結構化，使得表面845及/或848為結構化表面，且使得程序導致一光黏著劑具有二或三個結構化表面。在此情況下，程序可藉由下列步驗來重複：移除一結構化離型襯墊從而曝露出一結構化表面，接著再施加一第四材料經曝露的結構化表面。此一程序可用於製作一多層化的物品，例如圖6所示之光黏著劑600。
在一些實施例中，第一、第二、及第三離型工具之任一者或全部可為離型薄膜。在一些實施例中，圖8A至圖8G所繪示之步驟係以連續的卷對卷(roll-to-rol)程序實行。
在一些實施例中，第一層810、第二層820、及第三層830之各者為連續層。在一些實施例中，第二層820、或第三層830、或兩者為不連續的。在一些實施例中，第一層810為不連續的。層之各者可藉由使用噴墨印刷技術、或藉由使用標準溶劑型塗層技術施加 層而將其製作為不連續的，在標準溶劑型塗布技術中，一結構係經塗布，並使溶劑蒸發產生結構之一部分填充，其導致一不連續層。任何不連續層可如他處所述般地包括複數個離散物體。在一些實施例中，第一材料為一第一黏彈性或彈性黏著劑，且第二材料為一第二黏彈性或彈性材料，其可與第一材料相同或不同。
根據本說明之製作光黏著劑的一方法係繪示於圖9A至圖9F。圖9A顯示一第一離型工具905，其具有一結構化第一離型表面940。第一離型工具905係經一第一材料塗布在結構化第一離型表面940上，以形成第一層910並導致如圖9B所繪示之經塗布的離型工具906。在一些實施例中，第一層910係實質上連續的。在一些實施例中，第一層910可為如在他處所述之一不連續層。在一些實施例中，第一材料為一可塗布樹脂，其可為一可固化樹脂、或一溶劑型樹脂。接下來，一第二離型工具955係施加至第一層910，以形成如圖9C所繪示之物品901。第二離型工具955係相對於第一離型工具905而緊鄰於第一材料，其中第二離型表面945面向第一材料。或者，可將第一材料塗布至第二離型工具955上，接著再將經塗布的離型工具施加至第一離型工具905。
接下來，將第一離型工具905移除，從而曝露出圖9D所示之物品902中之第一層910的結構化主表面941。接著將一第二材料施加至結構化主表面941上，形成如圖9E所示之具有第二層920的物品903。在第一層910及第二層920之間形成介面942。在一些實施例中，接著將一第三離型工具959施加至第二層920，其中第三 離型工具959之第三離型表面948面向第二層920，形成如圖9F所示之物品904。圖9E至圖9F所示的步驟之一替代係將第二材料塗布至第三離型工具959之第三離型表面948上，從而形成一經塗布的離型工具，並接著將經塗布的離型工具施加至結構化主表面941上，其中第二材料面向結構化主表面941。
在許多實施例中，第一材料及/或第二材料為黏著劑，且物品904為一光黏著劑。在一些實施例中，第一材料為一第一黏彈性或彈性黏著劑，且第二材料為不同於第一材料之一第二黏彈性或彈性材料。在一些實施例中，第一材料為一第一黏彈性光學清透黏著劑，且第二材料為不同於第一材料之一第二黏彈性光學清透黏著劑。
根據本說明之製作光黏著劑的一方法係繪示於圖10A至圖10F。圖10A顯示一第一離型工具1005，其具有一結構化第一離型表面1040。第一離型工具1005係經一第一材料塗布在結構化第一離型表面1040上，以形成第一層1010並導致如圖10B所繪示之經塗布的離型工具1006。在一些實施例中，第一層1010係實質上連續的。在一些實施例中，第一層1010可為如在他處所述之一不連續層。在一些實施例中，第一材料為一可塗布樹脂，其可為一可固化樹脂、或一溶劑型樹脂。在一些實施例中，第一材料為如他處所述之一硬塗層樹脂。接下來，具有一第二離型表面1045之一第二離型工具1055係施加至第一層1010，形成如圖10C所繪示之物品1007。第一材料流動或變形，以填滿塗布第二離型表面1045，其在圖10A至10F所繪示之實施例中為一結構化表面。接著將第一離型工具1005移除，曝 露出第一層1010中之一結構化第一表面1041。將經一第二材料塗布之一第三離型工具施加在結構化第一表面1041上，形成第二層1020，其與第一層1010形成介面1042，並導致如圖10D所繪示之物品1008。在一些實施例中，第二層1020為一黏彈性或彈性黏著層，且物品1008為一光黏著劑。或者，可將一第二材料塗布至結構化第一表面1041上，形成第二層1020及介面1042，接著可將第三離型工具1059施加至第二層1020上，其中第三離型表面1048面向第二層1020。
接下來，將第二離型工具1055移除，曝露出第一層1010中之結構化第二表面1049，並產生如圖10E所繪示之物品1001。在一些實施例中，第二層1020為一黏彈性或彈性黏著層，且物品1001為一光黏著劑。將經一第三材料塗布之一第四離型工具施加至結構化第二表面1049，形成一第三層1030，其如圖10F所繪示般地與第一層1010形成介面1037，圖10F提供物品1002之一橫剖面圖。或者，可將一第三材料塗布至結構化第二表面1049上，形成第三層1030及介面1037，接著可將第四離型工具1062施加至第三層1030上，其中第三離型表面1066面向第三層1030。在一些實施例中，第二層1020及第三層1030之至少一者為黏彈性或彈性黏著層，使得物品1002為一光黏著劑。
圖8A至圖10F所繪示之方法的任一者可以連續的卷對卷程序實行。圖11繪示例如用於製作圖8E之物品802的一連續程序。例如，可包括額外的連續處理步驟，以製作圖8G之物品804。
在圖11的程序中所用的結構化離型工具為一結構化離型薄膜1105，其係設置在退繞輥(unwind roll)1161上。結構化離型薄膜係從退繞輥1161連續地退繞，並於他處所述的不同階段進行塗布，以產生物品1101。結構化離型薄膜1105係從物品1101移除，以產生物品1102，其係連續地捲繞至捲繞輥1171上。圖11所繪示的系統包括各種滾筒1189，以幫助各種薄膜移動通過系統。
一結構化離型薄膜可例如藉由使用一連續澆鑄及固化程序以在例如PET薄膜之一薄膜上形成一結構化表面而製備。在一連續澆鑄及固化程序中，可使用一鑽石刀具將一反向圖案切削至一銅輥中來製作一微複製輥，其可用於利用一可聚合樹脂並使用一連續澆鑄及固化程序將該圖案製作至一基材上。適當的鑽石刀具在此項技術中係已知，並包括美國專利案第7,140,812號(Bryan等人)中所述的鑽石工具。連續澆鑄及固化程序在此項技術中係為已知，並在下列專利中敘述：美國專利案第4,374,077號(Kerfeld)；第4,576,850號(Martens)；第5,175,030號(Lu等人)；第5,271,968號(Coyle等人)；第5,558,740號(Bernard等人)；及第5,995,690號(Kotz等人)。所得之結構接著可使用習知的表面處理技術處理，以產生結構化離型薄膜1105。例如，表面處理可包括氧電漿處理、及隨後的四甲基矽烷(TMS)電漿處理。
結構化離型薄膜1105係從退繞輥1161退繞，並塗布以一第一材料，以產生經塗布的離型薄膜1106，第一材料可為一輻射 (例如，紫外線(UV))可固化樹脂。第一材料可使用模具塗布機1185模具塗布至結構化離型薄膜1105之結構化側。
一第一離型襯墊與一第二離型襯墊間之一黏著劑(例如，一黏彈性或彈性黏著劑)係提供於退繞輥1162上。將第一離型襯墊1181移除，並捲繞至捲繞輥1172上。接著將所得之黏著劑塗布離型襯墊1182中之黏著劑的經曝露表面施加至經塗布的離型薄膜1106上，並使其通過夾持滾筒1190與支撐輥1192之間。在一些實施例中，第一材料為一UV可固化樹脂，並提供一UV固化站1166，以在樹脂藉由支撐輥1192通過時固化樹脂。黏著劑與第二離型襯墊位於適當位置之經塗布的離型薄膜1106為多層化物品1101。結構化離型薄膜1105係從多層化物品1101移除，產生多層化物品1102，其係捲繞至捲繞輥1171上。經移除的結構化離型薄膜1105係捲繞至捲繞輥1173上。物品1102可具有如圖8E之物品802的大致結構。一替代程序增加將一額外的黏著劑塗布離型襯墊施加至物品1102之經曝露的結構化表面的步驟。此可導致具有圖8G的物品804之大致結構的一物品。
在另一實施例中，第一材料並未以模具塗布機1185施加，且黏著劑塗布離型襯墊1182係直接施加至結構化離型薄膜1105。在此實施例中可省略UV固化站1166。物品1101之後可具有圖9C之物品901的大致結構，且物品1102之後可具有圖9D之物品902的大致結構。物品1102之經曝露的結構化表面之後可以一黏著劑 塗布，並施加一離型襯墊，導致具有圖9F的物品904之大致結構的一物品。
在一些實施例中，圖10D之物品1008係使用類似於圖11所繪示的一程序製作，惟退繞輥1162係以含有一第二結構化離型薄膜之退繞輥取代。在移除結構化離型薄膜1105(對應於第一離型工具1005)之後，例如，可使用一模具塗布機施加一塗層至經曝露的結構化表面，並將一第二離型薄膜施加至塗層，導致物品1008。類似地，可將第二結構化離型薄膜移除，並可施加一額外的塗層及離型薄膜，以產生圖10F的物品1102。
實例
所有部分、百分比(%)、比例等等皆以重量表示，除非另有指示。所使用的溶劑和其他試劑均可購自Sigma-Aldrich Chemical Company；Milwaukee,Wisconsin，除非另有不同指示。
材料
離型工具
一經離型處理的薄膜複製係由一如下之精密圓柱狀工具製成。圓柱狀工具為一經修改的鑽石磨削金屬工具。使用一精密鑽石車床將圖案切削至工具的銅表面中。具有精密切削特徵之所得的銅圓柱體係以鎳電鍍，並經離型處理，以促進微複製程序期間之已固化樹脂的離型。切削至銅工具中之結構係一正弦波，其具有12微米間距與2.5微米峰至谷高度的大小。接著從精密圓柱狀工具製作一薄膜複製。將包含丙烯酸酯單體之一丙烯酸酯樹脂、及一光起始劑澆鑄至一PET薄膜中，接著利用紫外光使其緊靠精密圓柱狀工具固化。所得之結構化薄膜的表面係使用一電漿增強化學氣相沉積(PECVD)程序以一矽烷 離型劑(四甲基矽烷)塗布，以產生一經離型處理的薄膜複製，其適於用作製作多層光黏著劑中之一離型工具。
實例1
「離型工具」所述之經離型處理的薄膜複製係用作為下列塗層的一基底層。R1被滴注至薄膜複製的結構化側上。ADH1為一光學清透輥黏著劑，其在相對側上具有2離型襯墊。一個離型襯墊被移除，且所曝露之黏著劑係放置為與塗層的頂部側上之未固化樹脂相接觸。整個建構物(construction)係以速度設定3通過一夾持式貼合機(Professional Laminator system，型號PL1200HP)。整個建構物係以30ft/min(9.1m/min)在高強度燈泡(含H燈泡(H bulb)之Fusion UV-Light hammer 6，RPC industries型號I6P1/LH)下進行固化。
將餘留的離型襯墊及經離型處理的薄膜複製移除，且所得之黏著劑係在一光學顯微鏡下進行檢驗。觀察到結構化介面已經以高保真度被複製，且未觀察到視覺假影(例如，高霧度或低清晰度)。一綠色的雷射指示器(laser pointer)係用於發出通過黏著劑之具有532nm波長的一雷射光。觀察到一線性繞射圖案。
實例2
實例1中所製作的建構物進一步地進行如下處理。從已固化的樹脂移除經離型處理的結構。結構化表面現對空氣開放，且其係以一光學清透黏著劑ADH2塗覆。黏著劑係使用一檯面型刀式塗布 機(benchtop knife coater)塗布，間隙設定為5密耳(127微米)。在其以手拉方式通過刀式塗布機之後，將其放置在70℃的烘箱中持續5分鐘。在建構物從烘箱移除之後，使用輕壓以一手動滾筒(hand roller)將一RF離型襯墊(RF Release Liner)層壓至最終建構物。
將離型襯墊移除，且所得之黏著劑係在一光學顯微鏡下進行檢驗。觀察到結構化介面已經以高保真度被複製，且未觀察到視覺假影(例如，高霧度或低清晰度)。一綠色的雷射指示器(laser pointer)係用於發出通過黏著劑之具有532nm波長的一雷射光。觀察到一線性繞射圖案，並觀察到三個相對高強度的峰。亦觀察到其他強度低上許多的峰。
實例3
如在「離型工具」中所述般地製作一離型工具，惟以一轉向薄膜(線性稜鏡)結構取代正弦圖案。一多層光黏著劑係利用如實例1及實例2中所述的程序使用此工具製作。所得之光黏著劑具有線性稜鏡的一結構化介面，線性稜鏡有70度的頂角及35微米的峰至谷高度。所得之黏著劑係在一光學顯微鏡下進行檢驗。觀察到結構化介面已經以高保真度被複製，且未觀察到視覺假影(例如，高霧度或低清晰度)。
實例4
如實例2般地製作一試樣，惟光學清透黏著劑ADH2含有35重量%的微珠。在移除離型襯墊之後，所得之黏著劑係在一光學顯微鏡下進行檢驗。觀察到結構化介面已經以高保真度被複製，且未觀察到視覺假影(例如，高霧度或低清晰度)。一綠色的雷射指示器(laser pointer)係用於發出通過黏著劑之具有532nm波長的一雷射光。觀察到一線性繞射圖案，並觀察到三個相對高強度的峰。亦觀察到其他強度低上許多的峰。
實例5
將ADH2塗布至在「離型工具」下所述之經離型處理的薄膜複製上，並將其放入70℃的烘箱持續5分鐘，以使溶劑蒸發。使用一手動滾筒層壓PET薄膜至黏著劑，並用於自經離型處理的薄膜複製移除黏著劑。較高折射率的黏著劑ADH3係以一檯面型刀式塗布機塗布在經曝露之結構的頂部上方。以手拉動材料通過刀式塗布機，且間隙已設定為4密耳(102微米)。將材料放置在70℃的一烘箱中持續5分鐘。在建構物已從烘箱移除之後，使用輕壓以一手動滾筒將一RF離型襯墊層壓至最終建構物。
在移除離型襯墊之後，所得之黏著劑係在一光學顯微鏡下進行檢驗。觀察到結構化介面已經以高保真度被複製，且未觀察到視覺假影(例如，高霧度或低清晰度)。一綠色的雷射指示器(laser pointer)係用於發出通過黏著劑之具有532nm波長的一雷射光。觀察 到一線性繞射圖案，並觀察到三個相對高強度的峰。亦觀察到其他強度低上許多的峰。
實例6
起始建構物與實例1中所製作的建構物為相同構造。從建構物移除經離型處理的薄膜複製，曝露出已固化的結構。R1被滴注至經曝露的結構上。如「離型工具」中所述之一經離型處理的薄膜複製係安放為與先前的結構定向成30度，其中結構側與未固化樹脂相接觸。整個建構物(construction)係以速度設定3通過一夾持式貼合機(Professional Laminator system，型號PL1200HP)。整個建構物係以30ft/min(9.1m/min)在高強度燈泡(含H燈泡(H bulb)之Fusion UV-Light hammer 6，RPC industries型號I6P1/LH)下進行固化。
在移除離型襯墊之後，所得之黏著劑係在一光學顯微鏡下進行檢驗。觀察到結構化介面已經以高保真度被複製，且未觀察到視覺假影(例如，高霧度或低清晰度)。一綠色的雷射指示器(laser pointer)係用於發出通過黏著劑之具有532nm波長的一雷射光。觀察到一雙向繞射圖案。
實例7
實例6中所製作的材料係用作起始材料。移除經離型處理的薄膜複製，曝露出已固化的結構。ADH3係以一檯面型刀式塗布機塗布在經曝露之結構的頂部上方。以手拉動材料通過刀式塗布機， 且間隙已設定為4密耳(102微米)。將材料放置在70℃的一烘箱中持續5分鐘。在建構物已從烘箱移除之後，使用輕壓以一手動滾筒將一RF離型襯墊層壓至最終建構物。
在移除離型襯墊之後，所得之黏著劑係在一光學顯微鏡下進行檢驗。觀察到結構化介面已經以高保真度被複製，且未觀察到視覺假影(例如，高霧度或低清晰度)。一綠色的雷射指示器(laser pointer)係用於發出通過黏著劑之具有532nm波長的一雷射光。觀察到一繞射圖案，並在一方波圖案中觀察到之九個相對高強度的峰。亦觀察到其他較低強度的峰。
實例8
將PRIPOL塗布至在「離型工具」下所述之經離型處理的薄膜複製上，並將其放入70℃的烘箱持續5分鐘，以使溶劑蒸發。使用一手動滾筒層壓ADH1至底漆層(primer layer)，並用於自經離型處理的薄膜複製移除底漆。ADH3係以一檯面型刀式塗布機塗布在經曝露之結構的頂部上方。以手拉動材料通過刀式塗布機，且間隙已設定為4密耳(102微米)。將材料放置在70℃的一烘箱中持續5分鐘。在建構物已從烘箱移除之後，使用輕壓以一手動滾筒將一RF離型襯墊層壓至最終建構物。
在移除離型襯墊之後，所得之黏著劑係在一光學顯微鏡下進行檢驗。觀察到結構化介面已經以高保真度被複製，且未觀察到視覺假影(例如，高霧度或低清晰度)。一綠色的雷射指示器(laser pointer)係用於發出通過黏著劑之具有532nm波長的一雷射光。觀察到一線性繞射圖案，並觀察到三個相對高強度的峰。亦觀察到其他強度低上許多的峰。
以下為本說明之例示性實施例的清單。
實施例1為一光黏著劑，其包含：一第一黏彈性或彈性黏著層，其具有一第一折射率；一第一交聯或可溶樹脂層，其緊鄰於該第一黏彈性或彈性黏著層，該第一交聯或可溶樹脂層具有不同於該第一折射率之一第二折射率；一第二黏彈性或彈性黏著層，其相對於該第一黏彈性或彈性黏著層而緊鄰於該第一交聯或可溶樹脂層；其中該第一黏彈性或彈性黏著層與該第一交聯或可溶樹脂層間之一第一介面係經結構化，且其中該第一黏彈性或彈性黏著層、該第一交聯或可溶樹脂層、及該第二黏彈性或彈性黏著層之各者係實質上透光的。
實施例2為實施例1之光黏著劑，其中該第一交聯或可溶樹脂層與該第二黏彈性或彈性黏著層間之一第二介面係經結構化。
實施例3為實施例1之光黏著劑，其中該第一黏彈性或彈性黏著層為一第一黏彈性光學清透黏著劑，且該第二黏彈性或彈性黏著層為一第二黏彈性光學清透黏著劑。
實施例4為實施例1之光黏著劑，其中跨該第一介面之一折射率對比為至少0.001，並小於約0.5。
實施例5為實施例1之光黏著劑，其中該第一介面包括一光柵，該光柵具有一峰至谷高度h及一間距，且其中h乘以|n1-n2|在約150nm至約350nm的範圍內，且該間距在約2微米至約50微米的範圍內。
實施例6為實施例1之光黏著劑，其中該第一交聯或可溶樹脂層係實質上連續的。
實施例7為實施例1之光黏著劑，其中該第一交聯或可溶樹脂層係不連續的。
實施例8為實施例7之光黏著劑，其中該第一交聯或可溶樹脂層在一圖案中包含複數個離散物體。
實施例9為實施例1之光黏著劑，其中該第一交聯或可溶樹脂層包含一第一子層，其緊鄰於該第一黏彈性或彈性樹脂層；及一第二子層，其緊鄰於該第一子層，並緊鄰於該第二黏彈性或彈性黏著層，其中該第一子層具有一第一折射率，且該第二子層具有不同於該第一折射率之一第二折射率，且該第一子層與該第二子層間之一第二介面係經結構化。
實施例10為實施例1之光黏著劑，其進一步包含一第二交聯或可溶樹脂層，其相對於該第一交聯或可溶樹脂層而緊鄰於該第二黏彈性或彈性黏著層。
實施例11為實施例10之光黏著劑，其進一步包含一第三黏彈性或彈性黏著層，其相對於該第二黏彈性或彈性黏著層而緊鄰於該第二交聯或可溶樹脂層。
實施例12為實施例11之光黏著劑，其中該第一介面、該第二介面、該第二交聯或可溶樹脂層與該第二黏彈性或彈性黏著層間之一第三介面、及該第三黏彈性或彈性黏著層與該第二交聯或可溶樹脂間之一第四介面之至少兩者係經結構化。其中該第一介面、該第二介面、該第二交聯或可溶樹脂層與該第二黏彈性或彈性黏著層間之一第三介面、及該第三黏彈性或彈性黏著層與該第二交聯或可溶樹脂間之一第四介面的至少兩個係經結構化。
實施例13為實施例12之光黏著劑，其中該第一、第二、第三、及第四介面包括沿著一第一方向延伸的一第一光柵、及沿著不同於該第一方向之一第二方向延伸的一第二光柵。
實施例14為實施例1之光黏著劑，其中該第一黏彈性或彈性黏著層、該第一交聯或可溶樹脂層、及該第二黏彈性或彈性黏著層之至少一者包括複數個粒子，該等粒子具有範圍在約0.5微米至約30微米的平均粒徑，且其中該複數個粒子中之粒子與該等粒子所在之一介質之間的一折射率差的絕對值在約0.001至約0.1的範圍內。
實施例15為一光黏著劑，其包含：一第一黏彈性或彈性黏著層，其具有一第一主表面、一未經結構化的第二主表面，並具有一第一折射率n1；一第二黏彈性或彈性黏著層，其緊鄰於該第一黏彈性或彈性黏著層之該第一主表面，該第二黏彈性或彈性黏著劑具有一第二折射率n2； 其中該第一黏彈性或彈性黏著層與該第二黏彈性或彈性黏著層間之一第一介面包括一實質上連續的光柵，該光柵具有一峰至谷高度h及一間距，且其中h乘以|n1-n2|在約150nm至約350nm的範圍內，且該間距在約2微米至約50微米的範圍內。
實施例16為實施例15之光黏著劑，其中該第一黏彈性或彈性黏著層為一第一黏彈性光學清透黏著劑，且該第二黏彈性或彈性黏著層為一第二黏彈性光學清透黏著劑。
實施例17為實施例15之光黏著劑，其進一步包含一第一離型襯墊，該第一離型襯墊具有緊鄰於該未經結構化之第二主表面之一第一離型表面；及一第二離型襯墊，該第二離型襯墊具有相對於該第一黏彈性或彈性黏著層而緊鄰於該第二黏彈性或彈性黏著層之一第二離型表面。
實施例18為實施例15之光黏著劑，其中該第一黏彈性或彈性黏著層、及該第二黏彈性或彈性黏著層之至少一者包括複數個粒子，該等粒子具有範圍約0.5微米至約30微米的平均粒徑，且其中該複數個粒子中之粒子與該等粒子所在之一介質之間的折射率差的絕對值在約0.001至約0.1的範圍內。
實施例19為一光黏著劑，其包含：一黏彈性或彈性黏著層，其具有一第一主表面，並具有一第一折射率n1； 一不連續層，其緊鄰於該黏彈性或彈性黏著層之該第一主表面，該不連續層具有不同於n1的一第二折射率n2；一額外層，其係設置為相對於該黏彈性或彈性黏著層而緊鄰於該不連續層，該額外層具有一第三折射率n3，該額外層與該黏彈性或彈性黏著層相接觸，其中該黏彈性或彈性黏著層與該不連續層間之一第一介面、該額外層與該不連續層間之一第二介面、及該黏彈性或彈性黏著層與該額外層間之一第三介面包含一光柵，該光柵具有一峰至谷高度h及一間距，且其中h乘以|n1-n2|在約150nm至約350nm的範圍內，且該間距在約2微米至約50微米的範圍內。
實施例20為一光黏著劑，其包含：一第一離型薄膜，其具有一第一離型表面；一黏彈性或彈性黏著層，其緊鄰於該第一離型表面；一硬塗層，其相對於該第一離型薄膜而緊鄰於該黏彈性或彈性黏著層；一第二離型薄膜，其具有一第二離型表面，該第二離型表面緊鄰於該硬塗層，該第二離型薄膜具有相對於該第二離型表面之一未經結構化的表面；其中該第二離型薄膜與該硬塗層間之一第一介面係經結構化，且其中該黏彈性或彈性黏著層及該硬塗層之各者係實質上透光的。
實施例21為實施例20之光黏著劑，其中該第一離型表面係未經結構化。
實施例22為實施例20之光黏著劑，其中該黏彈性或彈性層與該硬塗層間之一第二介面係經結構化。
實施例23為實施例22之光黏著劑，其中跨該第二介面之一折射率對比為至少0.001，並小於0.5。
實施例24為製作光黏著劑的一方法，其包含以下步驟：提供一第一離型工具，其具有一結構化第一離型表面；將一第一材料塗布至該結構化第一離型表面上，從而形成具有一第一折射率之一第一層；及施加一第二材料及具有一第二離型表面之一第二離型工具至該第一材料上，該第二材料相對於該第一離型工具而緊鄰於該第一材料，該第二離型工具相對於該第一材料而緊鄰於該第二材料，該第二離型表面面向該第二材料，該第二材料形成具有一第二折射率之一第二層；移除該第一離型工具，從而曝露出該第一層之一結構化主表面；及施加一第三材料至該結構化主表面上，該第三材料形成具有不同於該第一折射率之一第三折射率的一第三層，其中該第一材料為一第一可塗布樹脂，且該第二材料為一第一黏彈性或彈性黏著劑。
實施例25為實施例24之方法，其中該第三材料為一第二黏彈性或彈性黏著劑。
實施例26為實施例24之方法，其中該第三材料為一第二可塗布樹脂。
實施例27為實施例24之方法，其中該施加該第三材料的步驟包括以下步驟：塗布該第三材料至一第三離型工具之一第三離型表面上，從而形成一經塗布的離型工具；及施加該經塗布的離型工具至該結構化主表面上，該第三材料面向該結構化主表面。
實施例28為實施例24之方法，其中該第三離型表面係經結構化。
實施例29為實施例24之方法，其中該離型工具為一離型薄膜。
實施例30為實施例24之方法，其中該第一層、該第二層及該第三層之各者係實質上連續的。
實施例31為實施例24之方法，其中該第二層、或該第三層或兩者係不連續的。
實施例32為實施例24之方法，其中該第一層係不連續的。
實施例33為製作光黏著劑的一方法，其包含以下步驟： 提供一第一離型工具，其具有一結構化第一離型表面；將一第一材料塗布至該結構化第一離型表面上，從而形成具有一第一折射率之一第一層；施加具有一第二離型表面之一第二離型工具至該第一層上，該第二離型表面相對於該第一離型工具而緊鄰於該第一層；移除該第一離型工具，從而曝露出該第一層之一第一結構化表面；及施加一第一黏彈性或彈性黏著劑至該第一結構化表面上，該第一黏彈性或彈性黏著劑形成具有不同於該第一折射率之一第二折射率的一第二層。
實施例34為實施例33之方法，其中該第一材料為一第二黏彈性或彈性黏著劑。
實施例35為實施例33之方法，其進一步包含以下步驟：施加具有一第三離型表面之一第三離型工具至該第一黏彈性或彈性黏著劑，該第三離型表面緊鄰於該第一黏彈性或彈性黏著劑。
實施例36為實施例33之方法，其中該施加該第一黏彈性或彈性樹脂的步驟包含以下步驟：塗布該第一黏彈性或彈性樹脂至一第三離型工具之一第三離型表面上，從而形成一經塗布的離型工具；及施加該經塗布的離型工具至該第一結構化表面上，該第一黏彈性或彈性樹脂面向該第一結構化表面。
實施例37為實施例33之方法，其中該第二離型表面為一結構化表面。
實施例38為實施例37之方法，其進一步包含以下步驟：移除該第二離型工具，從而曝露出該第一層之一第二結構化表面；及施加一第二黏彈性或彈性黏著劑至該第二結構化表面上，從而形成一第三層，其具有一第三折射率。
實施例39為實施例33之方法，其中該第一折射率與該第二折射率間之差的量值為至少0.001，並小於約0.5。
雖在本文中已繪示及描述特定具體實施例，但所屬技術領域中具有通常知識者將瞭解，可以各種替代及/或均等實施來替換所示及所描述的特定具體實施例，而不偏離本揭露的範疇。本申請案意欲涵括本文所討論之具體實施例的任何調適形式或變化形式。因此，本揭露意圖僅受限於申請專利範圍及與其均等者。
h‧‧‧峰至谷高度
P‧‧‧間距
100‧‧‧光黏著劑
110‧‧‧第一層
120‧‧‧第二層
130‧‧‧第三層
135‧‧‧介面
137‧‧‧介面
140‧‧‧外部主表面
145‧‧‧外部主表面

Claims (16)

  1. 一種光黏著劑，其包含：一第一黏彈性或彈性黏著層，其具有一第一折射率；一第一交聯或可溶樹脂層，其緊鄰於該第一黏彈性或彈性黏著層，該第一交聯或可溶樹脂層具有不同於該第一折射率之一第二折射率；一第二黏彈性或彈性黏著層，其相對於該第一黏彈性或彈性黏著層而緊鄰於該第一交聯或可溶樹脂層；其中該第一黏彈性或彈性黏著層與該第一交聯或可溶樹脂層間之一第一介面係經結構化，且其中該第一黏彈性或彈性黏著層、該第一交聯或可溶樹脂層、及該第二黏彈性或彈性黏著層之各者係實質上透光的。
  2. 如請求項1之光黏著劑，其中該第一交聯或可溶樹脂層與該第二黏彈性或彈性黏著層間之一第二介面係經結構化。
  3. 如請求項1之光黏著劑，其中該第一介面包括一光柵，該光柵具有一峰至谷高度h及一間距，且其中h乘以|n1-n2|在約150nm至約350nm的範圍內，且該間距在約2微米至約50微米的範圍內。
  4. 如請求項1之光黏著劑，其中該第一交聯或可溶樹脂層係實質上連續的。
  5. 如請求項1之光黏著劑，其中該第一交聯或可溶樹脂層係不連續的。
  6. 如請求項1之光黏著劑，其進一步包含一第二交聯或可溶樹脂層，其相對於該第一交聯或可溶樹脂層而緊鄰於該第二黏彈性或彈性黏著層。
  7. 如請求項6之光黏著劑，其進一步包含一第三黏彈性或彈性黏著層，其相對於該第二黏彈性或彈性黏著層而緊鄰於該第二交聯或可溶樹脂層。
  8. 如請求項7之光黏著劑，其中該第一介面、該第二介面、該第二交聯或可溶樹脂層與該第二黏彈性或彈性黏著層間之一第三介面、及該第三黏彈性或彈性黏著層與該第二交聯或可溶樹脂間之一第四介面之至少兩者係經結構化。
  9. 如請求項8之光黏著劑，其中該第一、第二、第三、及第四介面包括沿著一第一方向延伸的一第一光柵、及沿著不同於該第一方向之一第二方向延伸的一第二光柵。
  10. 一種光黏著劑，其包含：一第一黏彈性或彈性黏著層，其具有一第一主表面、一未經結構化的第二主表面，並具有一第一折射率n1；一第二黏彈性或彈性黏著層，其緊鄰於該第一黏彈性或彈性黏著層之該第一主表面，該第二黏彈性或彈性黏著劑具有一第二折射率n2；其中該第一黏彈性或彈性黏著層與該第二黏彈性或彈性黏著層間之一第一介面包括一實質上連續的光柵，該光柵具有一峰至谷高度h及一間距，且其中h乘以|n1-n2|在約150nm至約350nm的範圍內，且該間距在約2微米至約50微米的範圍內。
  11. 一種光黏著劑，其包含：一黏彈性或彈性黏著層，其具有一第一主表面，並具有一第一折射率n1；一不連續層，其緊鄰於該黏彈性或彈性黏著層之該第一主表面，該不連續層具有不同於n1的一第二折射率n2；一額外層，其係設置為相對於該黏彈性或彈性黏著層而緊鄰於該不連續層，該額外層具有一第三折射率n3，該額外層與該黏彈性或彈性黏著層相接觸，其中該黏彈性或彈性黏著層與該不連續層間之一第一介面、該額外層與該不連續層間之一第二介面、及該黏彈性或彈性黏著層與該額外 層間之一第三介面包含一光柵，該光柵具有一峰至谷高度h及一間距，且其中h乘以|n1-n2|在約150nm至約350nm的範圍內，且該間距在約2微米至約50微米的範圍內。
  12. 一種光黏著劑，其包含：一第一離型薄膜，其具有一第一離型表面；一黏彈性或彈性黏著層，其緊鄰於該第一離型表面；一硬塗層，其相對於該第一離型薄膜而緊鄰於該黏彈性或彈性黏著層；一第二離型薄膜，其具有一第二離型表面，該第二離型表面緊鄰於該硬塗層，該第二離型薄膜具有相對於該第二離型表面之一未經結構化的表面；其中該第二離型薄膜與該硬塗層間之一第一介面係經結構化，且其中該黏彈性或彈性黏著層及該硬塗層之各者係實質上透光的。
  13. 一種製作光黏著劑的方法，其包含以下步驟：提供一第一離型工具，其具有一結構化第一離型表面；將一第一材料塗布至該結構化第一離型表面上，從而形成具有一第一折射率之一第一層；及施加一第二材料及具有一第二離型表面之一第二離型工具至該第一材料上，該第二材料相對於該第一離型工具而緊鄰於該第一材料，該第二離型工具相對於該第一材料而緊鄰於該第二材料，該第二離型表面面向該第二材料，該第二材料形成具有一第二折射率之一第二層；移除該第一離型工具，從而曝露出該第一層之一結構化主表面；及施加一第三材料至該結構化主表面上，該第三材料形成具有不同於該第一折射率之一第三折射率的一第三層，其中該第一材料為一第一可塗布樹脂，且該第二材料為一第一黏彈性或彈性黏著劑。
  14. 如請求項13之方法，其中該施加該第三材料的步驟包括以下步驟：塗布該第三材料至一第三離型工具之一第三離型表面上，從而形成一經塗布的離型工具；及施加該經塗布的離型工具至該結構化主表面上，該第三材料面向該結構化主表面。
  15. 一種製作光黏著劑的方法，其包含以下步驟：提供一第一離型工具，其具有一結構化第一離型表面；將一第一材料塗布至該結構化第一離型表面上，從而形成具有一第一折射率之一第一層；施加具有一第二離型表面之一第二離型工具至該第一層上，該第二離型表面相對於該第一離型工具而緊鄰於該第一層；移除該第一離型工具，從而曝露出該第一層之一第一結構化表面；及施加一第一黏彈性或彈性黏著劑至該第一結構化表面上，該第一黏彈性或彈性黏著劑形成具有不同於該第一折射率之一第二折射率的一第二層。
  16. 如請求項15之方法，其進一步包含以下步驟：施加具有一第三離型表面之一第三離型工具至該第一黏彈性或彈性黏著劑，該第三離型表面緊鄰於該第一黏彈性或彈性黏著劑。
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