TW201604453A - 具有密封表面延伸的密封環 - Google Patents

Abstract

一種用於密封界定一流體流動通道之相對的流動構件密封表面的密封環，其係適合用於例如一半導體製造模組氣體運送系統的應用。該密封環包括有從該密封環之一或二密封表面延伸出之為一修改式〝三角形〞(delta)的形狀之一環狀的延伸。該修改式〝三角形〞延伸至該密封環的密封表面上方的一頂點或一點。第一及第二延伸表面以相反的方向從該頂點往後朝向該密封環的密封表面延伸。在一觀點中，該第一延伸表面界定有一脊部，該第一延伸表面的斜度於該脊部處變成更快傾斜至該密封環的密封表面。在另一觀點中，該頂點係位在比環狀的密封本體的外徑向直徑更靠近軸向的孔洞之該環狀的延伸中。

Description

具有密封表面延伸的密封環

本案發明係有關用於製造介於相對的平行表面之間的一流體密的密封接頭之常被稱為是密封墊片的一種密封。

密封環典型地為環狀構形，其界定有一用於流體(液體或氣體)通道之軸向對齊的孔洞、二軸向相對的端部表面、一徑向的內表面、以及一徑向的外表面。一簡單化的密封環具有平的端部表面以及界定該密封環的內徑(ID)及外徑(OD)之平滑圓形的徑向內及外表面。然而，應用具有不同之徑向的橫斷面來獲取用於不同之流體流動環境之變化的密封能力，在工業界係普遍的作法。

一種常用的密封環為圓形的，且具有一為〝C〞形之徑向的橫斷面。此些〝C形密封〞如在美國第5,354,072號專利(〝‘072專利〞)中所說明的，被構形成該C構形的開放側係面向該密封環的中心，或是面離二配合表面的中心之該C形密封的開放側被帶成在一起，使該C形密封位在中間，該C形密封於該處被壓擠，該C形橫斷面的該開放側於壓擠期間閉合，該密封的延展特性允許發生塑性變形而不會損壞掉配合表面。為增加該密封的彈性恢復能力，某些C形密封被提供有被同心地設置在該密封之中心內的一圓形彈性的螺旋彈簧，該螺旋彈簧亦將抗壓性及彈性等特性 改變成用於特別之密封組合所想要的特性。不幸的是，要製造具有會造成典型上是無法重製之可接受的密封結構之一內螺旋彈簧的一種C形密封是相當複雜的。

某些C形密封被提供有一圓形的脊部，在相關技術中亦被稱為一〝三角形(delta)〞，該脊部被形成在和打算被密封之相對平行的表面接觸的該等表面上。此些脊部減少了介於該密封及該等平行相對的表面之間的初始接觸面積，藉此便需要較低的負載來將該密封塑性地變形，而於該處的變形則允許該密封調適及密封掉在平行表面之間的小變形。不幸地是，具有此些脊部的C形密封，常會在該密封被壓擠時，形成一介於該圓形脊部及該C形密封之外表面之間的一腔室。雖然此密封可能是防漏的，或可能是具有落在容許誤差值內之足夠低量的洩漏，但是如果在此圓筒形腔室及該密封之內部通道之間有一洩漏的話，便會產生一〝虛擬洩漏〞，藉而允許氣體或液體在該等之間緩慢地流動。雖然一防漏的密封是有效果的，但是該密封的測試可能會錯誤地及不合意地反應出有一洩漏存在，而此情況因而被稱為是一〝虛擬洩漏〞。

改良式的C形密封已知是包括有延伸在該密封的密封表面上方的一延伸，例如像是在美國第6,688,608號專利中所說明的，該專利如同其整體被重寫入本文中而併入本案作為參考。在該密封被壓擠在該等流動路徑的密封表面之間時，此類的延伸允許一減低的負載或壓擠作用力來被用於起始該密封的塑性變形。此種已知的密封的一範例被圖示說明在圖1及2中。如同在該等圖式中所顯示出的，該先前的密封環1包括有一環狀的本體元件3，該本體元件3具有一用於允許氣體或流體流通過之軸向對齊 的中心孔洞4。由於該密封環1的環狀結構，該密封環1包括有一徑向的內表面5、一徑向的外表面6、一第一軸向的端部表面11、及一第二軸向的端部表面17。各此些表面可採用任何數量的構形。其等可大致是平的及平面式的，或大致為曲弧狀的。例如，該徑向的內表面5包括有一平的區域7及彎曲的區域9。同樣地，該徑向的外表面6被顯示成包括有一平面式的表面及一斜角支座。此些表面可採用其他的形式。

該已知的密封環1進一步包括多個從該密封環之徑向的外表面6朝向該密封環1之中心孔洞4朝內地突出的穿孔25。該等穿孔25的構造產生了多個側壁27，該等側壁27亦從該密封環之徑向的外表面6徑向地延伸，且徑向地介於該密封環之該等軸向的端部表面11及17之間。

被圖示說明之該已知的密封環1亦包括有一圓形的脊部或延伸23，該脊部或延伸23從該等軸向的端部表面11及17軸向地突出。該延伸23將該第一軸向的端部表面11分割成一第一內軸向的端部表面13及一第一外軸向的端部表面15。同樣地，從該第二軸向的端部表面17突出的該延伸23，將該軸向的端部表面分割成一第二內軸向的端部表面19及一第二外軸向的端部表面21。該等內軸向的端部表面13及19相對該等外軸向的端部表面15及21朝內地凹陷，以產生一偏移。在該等內軸向的端部表面13及19處所測量到之該密封環1的厚度，較在該等外軸向的端部表面15及21處所測量到之該密封環1的厚度薄。隨同此種密封環1的一個問題為，該脊部或延伸23會在處理或裝設期間損壞。例如，該延伸可能會有裂口或凹痕。此種損壞會造成一不適用的密封。

在工業界中已知的密封環的另一種類型為〝W〞形密封。此 種密封系統係揭示在例如是美國第7,140,647號專利(〝‘647專利〞)中，該專利整體亦特別地被併入本案作為參考。在該‘647專利中的該〝W〞形密封使用一位在一扣持環之內部的卡環，該扣持環在該專利中被視同為一引導件，以將該〝W〞形密封扣持在該扣持件中，並將該等密封表面保持在被防止刮傷的該〝W〞形密封或墊片上。該‘647專利的扣持件或引導件亦具有一位在其外部直徑上的卡環，以保持該扣持件被嚙結在界定出待被密封之相對的平行表面的沉孔中。

一種額外之已知的密封為一〝V形密封〞，其亦為圓形的，但是該V形密封具有一〝V〞形的橫斷面，而不是具有一〝C〞形的橫斷面，該V形的低點構造成朝向該密封的中心點朝內地或朝外地尖化。雖然此種結構典型地是提供用於充分地變形，但該V形密封典型地並不提供特別好的恢復彈性或重複性，因為該V形密封的尖點形成一應力提高處，其會集中壓力負載，並使該密封易於在該密封的反覆壓擠及解壓時破損。

相關技術中之額外的密封包括〝Z形密封〞及簡單的〝O形密封〞。此些類型的密封亦各有不同的缺點。

依據各種不同的方法說明一種範例式密封環，該密封環係用於密封界定一流體流動路徑之相對的流動構件密封表面，且適合例如是一半導體製造模組化氣體運送系統之應用。該範例式密封環包括有從該密封環之一或二密封表面延伸出之為一修改式〝三角形〞(delta)的形狀之一環狀的延伸。該修改式〝三角形〞延伸至該修改式〝三角形〞自其延伸出之該密封環的密封表面上方的一頂點或一點。第一及第二延伸表面以相反的 方向從該頂點往後朝向該密封環的密封表面延伸。在一觀點中，該第一延伸表面界定有一脊部，該第一延伸表面的斜度於該脊部處變成更快傾斜至該密封環的密封表面。

如此地被構形，在介於流動構件密封表面之間的該密封環的壓擠期間，一第一負載或壓擠作用力將在該頂點上之該環狀的延伸或修改式〝三角形〞塑性地變形，並繼續地下到該環狀的延伸的脊部。此變形工作硬化了因而被變形之該密封環材料。需要有一大於該第一負載的第二負載或壓擠作用力來繼續該密封環通過該脊部的變形。在作用力中的轉移防止一使用者過度負載該密封環，過度負載該密封環會損壞該流動構件密封表面。

在另一觀點中，該頂點係位在比該環狀的密封本體的外徑向直徑更靠近該軸向的孔洞之該環狀的延伸中，該外徑向直徑係由和界定該軸向孔洞的一內表面徑向相對的一外表面所界定出的。以此種構形，介於該頂點及該脊部之間的變形提供了一較大的密封面積，以在處理期間即使可能有一部分之環狀的延伸會損壞之處，通常是在該延伸的頂點處，提供一種密封。

在進行對該等圖式及隨後的詳細說明之一徹底的探討及研讀後，此些及其他的好處會變得更為清楚。在此些隨附的圖式中，所有圖式中類似的元件符號標示類似的部件。

圖1為一習知密封的一俯視圖； 圖2為圖1中所顯示之該習知密封沿著線2的一橫斷面視圖；圖3為依據本案發明之不同的原理所構形之一範例式密封環的一俯視圖；圖4為圖3中所顯示之該密封環沿著線A-A的一橫斷面視圖；圖5為圖3中以線B所標示出之該密封環之部分的一立體視圖；圖6為一流程圖，其圖示說明依據本案發明之不同的原理密封一流動路徑的一範例式方法；圖7為一橫斷面視圖，其圖示說明被設定在流體流動構件之間在依據本案發明之不同的原理壓擠之前之依據圖3至5的一範例式密封環；圖8為一橫斷面視圖，其圖示說明在依據本案發明之不同的原理壓擠之後之圖7的該範例式密封環及流體流動構件；圖9為一橫斷面視圖，其圖示說明被設定在流體流動構件之間在壓擠之前之具有一習知標準的〝三角形〞或延伸的一範例式密封環；圖10為一橫斷面視圖，其圖示說明在壓擠之後之圖9的該範例式密封環及流體流動構件；圖11為一曲線圖表，其圖示說明壓擠依據圖3至5所製成之二密封及依據圖9所製成之二密封所需要之作用力的量之真實的測試結果；圖12為一橫斷面視圖，其圖示說明被設定在流體流動構件之間在壓擠之前之具有一習知大型的〝三角形〞或延伸的一範例式密封環；圖13為一橫斷面視圖，其圖示說明在壓擠之後之圖12的該範例式密封環及流體流動構件；圖14為一曲線圖表，其圖示說明壓擠依據圖3至5所製成之一密封所 需要之作用力的量之模擬結果；圖15為一曲線圖表，其圖示說明壓擠依據圖12所製成之一密封所需要之作用力的量之模擬結果。

熟習相關技術者會了解到在該等圖式中的元件係為了簡明易懂及清楚而被圖示說明的，且不需依比例被繪製。例如，在該等圖式中之某些元件的尺寸及/或相對定位相對其他的元件被擴大，以助於增進對本案發明之不同實施例的了解。此外，在商用可行之實施例中有用及必需之常見而廣為人知的元件，通常是不會被圖示出，以便能對此等不同之實施例有一較不遮阻的視圖。其將進一步了解到，雖然某些作用及/或步驟可以一特別的發生順序被說明或圖示出，然而熟習相關技術者會了解到相對順序之此種特定性並不真的需要。其亦應了解到，除非是文中有說明到不同的特定意義，否則本文中所使用到的用詞及表達是具有一般的技術意義，如同是依據先前所說明過為熟習相關技術領域者所用之用詞及表達。

現在更特別地參考圖3至5，用於密封界定一流體流動路徑之相對的流動構件密封表面的一範例式密封環300將被說明。該用詞〝上〞及〝下〞僅係相對該等圖式而言，並不須是在一真實裝設中之該密封組合的定向。該被圖示說明之密封環300包括有一環狀的密封本體305，該密封本體305界定一用於在以箭頭315所圖示說明之一軸向中的流體通道之軸向孔洞310。該密封材料應具有彈性特質，以在界定該流動路徑的元件之間被壓擠時，能有為了沿著該軸向的流動路徑之好的密封之壓縮及彈回。在被使用於高純度的氣體通過該流動路徑被要求之一晶圓製造環境下的一密封 中，例如是316雙熔不銹鋼、鎳、赫史特合金(HASTELLOY)(可從中央國家工業設備及服務公司取得)、及AL-6XN(可從中央國家工業設備及服務公司取得)的材料是範例式之適當的材料。

相對的密封表面320及325被配置在該環狀的密封本體305之相對的軸向端部330及335上。一環狀的延伸340及342在一軸向上從該等相對的密封表面320及325中的至少一個表面延伸出(於此圖示說明成從二個表面延伸出)。該等環狀的延伸340及342可具有不同的構形或相同的構形，使得該密封環繞著垂直於該軸向315的一中心線360是對稱的。為了簡明易懂，有關該等環狀的延伸340及342的細節將以該第一環狀的延伸340做說明，附帶瞭解到此等觀點的說明可被應用在介於該二個延伸340及342之間的任何組合。

更特別的是，該環狀的延伸340包括一頂點344。一第一延伸表面346及一第二延伸表面348分別以相對的方向從該頂點344往後朝向該密封表面320延伸，該環狀的延伸340係自該密封表面320延伸出。該第一延伸表面346具有一相對該軸向315的第一通用角度，且藉由過渡至相對該軸向315的一第二通用角度界定一脊部350，該第二通用角度是以較陡峭的角度往後朝向該密封表面320延伸，亦即朝向該密封表面320的傾斜大於該第一延伸表面346。該第一通用角度典型地係在約91至約125度的範圍，且更佳地係在約95至約110度的範圍，及最佳地係約99度，而該第二通用角度典型地係在約110至約175度的範圍，且更佳地係在約125至約145度的範圍，及最佳地係約135度。選擇式地，該第二延伸表面348以較該整個第一延伸表面346陡峭的一通用角度往後朝向該密封表面320延伸，該通用 角度較佳地係在約110及約175度之間，更佳地係在約125及約145度之間，且最佳地係約135度。在另一可選擇式的觀點中，該頂點344係位在比該環狀的密封本體305的一外徑向直徑(〝OD〞)更靠近該軸向孔洞310，該外徑向直徑係由和界定該軸向孔洞310的一內表面364徑向相對的一外表面362所界定出的。較佳地，該頂點係位在該內半部內，且更佳地是位在該延伸之寬度的內1/3處，以使該頂點係位在該內半部內，而更佳地是位在該最終被壓擠之密封表面的內1/3處。以此種配置，任何對該頂點的損壞不會干擾到該密封表面的大部分，且更佳地係不會干擾到該密封表面的外2/3部分。在先前的設計中，該頂點係在該三角形的中間，具有在該頂點兩側相等的密封表面，留下較不連續的密封表面來防止由對該頂點之損壞所引起的洩漏。

雖然此些延伸表面被圖示說明成在橫斷面為直線的表面，此些直線的表面可是稍微彎曲的，在該情況下，前述的角度可被應用至用於相對該軸向之個別表面部分的一平均的角度。例如，用在介於該頂點344及該脊部350之間之該第一延伸表面346的部分347的平均角度，及介於該脊部350及該密封表面320之間之該第一延伸表面346的部分349的平均角度，在此等部分347及349中的一個或二個是彎曲的時候，該部分347的平均角度會比該部分349的平均角度較不陡峭。

最終，該第一延伸表面346及一第二延伸表面348分別地過渡至該等密封表面部分322及324，該等部分典型地是大致地垂直於該軸向315，雖然此些部分322及324並不須被如此配置。例如，該密封表面部分322至該密封環300的外側邊緣垂直式地開始，然後彎向該中心線360，如 同該部分322從該軸向孔洞310延伸離開。在一觀點中，該第二延伸表面348過渡至其個別的密封表面部分324，比該第一延伸表面346過渡至其個別的密封表面部分322，更靠近用於垂直該軸向315之該環狀的密封本體305的該中心線360。換言之，相對如由在該密封環300兩側之該等密封表面部分322所界定之軸向的外端部表面，如由在該密封環300兩側之該等密封表面部分324所界定之軸向的內端部表面被凹陷化，使得在該等軸向的內端部表面處所測量到之該密封環300的厚度，比在該等軸向的外端部表面處所測量到之該密封環的厚度薄。如此構形成該密封環300彎向其外徑(遠離該軸向孔洞310)的程度，該密封表面部分324不大可能會嚙結該流動構件密封表面，因為其是更遠離該流動構件密封表面。據此，由該密封表面部分324和該流動構件密封表面之嚙結所造成之一虛擬洩漏的風險被降低。

此外，在該頂點344被設置在該環狀的延伸內部，比由和界定該軸向孔洞310的一內表面364徑向相對的一外表面362所界定之該環狀的密封本體305的一外徑向直徑(〝OD〞)更靠近該軸向孔洞310的情況下，造成一洩漏之在該頂點344中之裂口的可能性被進一步地減低，因為該裂口會位在該密封表面朝向該軸向孔洞310的一內部分上。此內部分應被完全地密封，因為該第一延伸表面346之較厚或較長的第一部分347的剩餘部分會變形，並嚙結該流動構件密封表面，藉此提供介於在該頂點之密封缺陷及該密封之外部之間的一較大的密封表面。

在又一觀點中，該密封環300進一步包括複數個從該密封環之徑向的外表面朝向該密封環之中心朝內地突出的穿孔380。該等穿孔的構造產生了多個側壁，該等側壁徑向地延伸於該穿孔的長度，且徑向地延伸 介於該密封環之該等軸向的端部表面之間。該等複數個穿孔可採用任何數量的構形。例如，較佳地，該等穿孔係可藉由從該密封環之徑向的外表面朝向該密封環的中心徑向地鑽孔而被構成，以將成本降到最低，及減少任何在製造上的困難度。以此種方式被構成的穿孔具有一圓形的橫斷面。該等穿孔在構形上亦可為大致是方形的，形成軸向地延伸介於該密封環之軸向的端部表面之間，及徑向地延伸介於該密封環之內及外徑向表面之間之大致為平面式的側壁。在另一觀點中，此些平面式的側壁以相對該密封環的軸線一角度的方式被建構出，因此形成在該密封環之徑向外表面上為一平行四邊形的開口。

為了簡明易懂，該等穿孔被圖示說明成具有一圓形的橫斷面，雖然該等穿孔是可具有其他的形狀而不會脫離本案發明的精神及範疇。該等穿孔的數目及其等的直徑依據所想要之密封組合的機械特性可被改變。例如，在穿孔之數目上的增加或是在該等穿孔之直徑上的加大，會造成在該密封環之內部側壁的厚度上一相對應的縮減，其會該改變該密封的機械特性，包括增加該密封之變形的能力。然而，在穿孔之數目上的增加或是在該等穿孔之直徑上的加大，可能會降低該密封在壓擠及解壓之後的彈性恢復(回彈)能力。在一較佳實施例中，該等穿孔為圓筒狀的，且具有介於該密封環之厚度的25%及75%之間的直徑。小於25%的直徑會明顯地減低該密封環彈性變形的能力。同時，該等穿孔之直徑加大超過該密封環之厚度的75%，會弱化該密封之結構上的完整性，並使該密封易於在壓擠期間損壞。在一較佳的方法中，該等穿孔具有約為該密封環之厚度之50%的直徑。

一種使用如上述之一密封環密封延伸介於二流體流動構件710及720之間的一流體流動路徑的方法，將參考圖6至8被討論說明。該環狀的密封本體305被放置610在一流動構件密封表面715上，使得該環狀的密封本體305(更特別的是該頂點340)接觸到用於該二個流體流動構件之一第一流體流動構件710的流動構件密封表面715。該二個流體流動構件710及720被固緊620於彼此(典型地係使用螺絲於流動路徑的各側)，以沿著流體流動路徑對齊該二個流體流動構件710及720的該等流動構件密封表面715及725，及以該等流動構件密封表面715及725將相對的密封表面320及325壓擠在該環狀的密封本體305之相對的軸向端部330及335上。此壓擠造成該環狀的密封305變形。

該壓擠程序包括於該環狀的延伸340之一第一部分的壓擠期間，在一第一壓擠作用力下之該環狀的延伸340的一第一壓擠630。該環狀的延伸340之該第一部分，係由介於該頂點344及該脊部350之間的該第一延伸表面347所界定出的，於該處該第一延伸表面347具有相對該軸向315的一第一通用角度，並藉由過渡至朝向該密封表面322向後延伸之相對該軸向315的一第二通用角度界定該脊部350，該第二通用角度係為較該第一延伸表面347陡峭的一通用角度。此第一壓擠將該環狀的延伸340之該第一部分變形，藉此產生介於該環狀的延伸340之該第一部分及該流動構件密封表面725之間的一密封嚙結。在該環狀的延伸340之一第二部分的壓擠期間，該環狀的延伸340之一第二壓擠640產生有一高於的該第一壓擠作用力的第二壓擠作用力。於此，該環狀的延伸340的該第二部分，係由具有朝向該密封表面322向後延伸之相對該軸向315的該第二通用角度的該第一 延伸表面部分349所界定出的。在壓擠及變形程序中的此點上，該壓擠程序必須將該環狀的延伸340的該第二部分的額外材料變形，藉此增加將該密封向上壓擠直到該等流體流動構件(該等部分的外部嚙結該密封)被壓擠在一起時所需的作用力。

圖7及8分別地圖示說明在該壓擠程序之前及之後，該環狀的密封本體305及該二個流體流動構件710及720沿著流體流動路徑的狀態。當該環狀的密封本體305被放置610在一流動構件密封表面715上時，如圖7中所圖示說明的，該底部之環狀的延伸之該頂點嚙結該密封表面715。在壓擠之前，另一密封表面725同樣地嚙結該頂部之環狀的延伸之該頂點。當該第一及第二壓擠程序如圖8中所圖示說明地被完成之後，該密封以多種方式被變形。首先，該等環狀的延伸係沿著該等流動構件密封表面715及725被變形，以在該密封及該流動構件密封表面的交接處產生一流體密的密封770。由該第一延伸表面347所界定出之該環狀的延伸340的該第一部分被完全地變形，並被該流體密的密封770歸入該環狀的密封本體及該個別的流動構件密封表面715及725之間，該變形發生在該第一壓擠程序630期間。由該第一延伸表面部分349所界定出之該環狀的延伸340的該第二部分的一部分被變形，並被歸入該流體密的密封770，該變形發生在該第二壓擠程序630期間。當該頂點344係位在比該環狀的密封本體305的一外徑向直徑更靠近該軸向孔洞310時，該環狀的延伸之該頂點部分係位在靠近或鄰接一介於該密封的密封表面部分324及該個別的流動構件密封表面715及725之間的間隙處(較佳地係在該流體密的密封770之內1/3處)，以使該流體密的密封770的大部分(較佳為其之至少2/3)係被配置在該頂點 部分及外部間隙之間，該外部間隙係介於該密封的密封表面部分322及該個別的流動構件密封表面715及725之間。如此被構形，則可能會在該流體密的密封770之一內部分上造成不佳的密封之對該頂點的裂損或損壞，極有可能會被該流體密的密封770的其餘部分從外部完全地密封開。超出該等延伸的變形之該密封的其他變形包括在該密封之整體高度被壓擠時該密封之該內部分的一變厚。

被揭示之構形的某些優點，可以隨附圖9、10、12及13之前述說明的比較被了解，該等圖式圖示說明二種其他類型之密封構形的壓擠之前及之後的狀態。更特別的是，圖9及10分別地圖示說明具有一標準的〝三角形〞或延伸的一習知密封環在壓擠之前及之後的一橫剖面視圖。藉由此範例，該〝三角形〞的頂端或頂點大概是在該延伸的中間，以致在壓擠之後，該被壓擠的頂點係在該變形之三角形的中間。此降低了在任意側上的材料之用於環繞在該〝三角形〞或延伸中之一潛在裂口或凹痕的一完整密封的能力。此外，當相較於圖8中所圖示說明之該流體密的密封770時，在一標準三角形之情況中的該流體密封表面970具有一約2.5倍之較小的橫斷面，意指此流體密封表面970提供一介於該內部真空及外部區域之間一較小的密封表面。此增加了會造成在密封中的一洩露之對該三角形之損壞的機會。

圖11圖示說明被設計成如本文中所說明之一三角形的使用之進一步及意外的結果。圖11圖示說明相較於圖9及10之該標準的〝三角形〞下，壓擠具有圖3至5之設計的一密封之測試結果。該曲線圖表以英寸顯示施加被圖示說明在Y軸上之作用力所造成之沿著X軸之該等密封的 壓縮量。如在該圖表中所顯示的，圖3至5中之被修改過或傾斜化的〝三角形〞以通過該整個壓擠範圍僅稍微多些之被施加的作用力持續地壓擠。因此，令人驚訝的是，以相較用於產生該標準的〝三角形〞之較小的流體密的密封表面970所需之作用力稍微多的作用力，便能完成在圖8中所圖示說明之該被修改過的三角形之兩個半大的該流體密的密封表面770(如相較於圖9及10之該標準的〝三角形〞的該流體密的密封表面)。因此，一更大的密封表面770被提供有僅稍微大些的施加作用力，該密封表面770提供一較高的可能停止任何的洩漏，包括由對該密封之損壞、被污染的密封表面、被損壞的密封表面、未對齊的密封表面、或未完全被壓擠的密封所造成的洩漏。

圖12及13分別地圖示說明具有一大於平均的〝三角形〞或延伸1240的一習知密封環在壓擠之前及之後的一橫剖面視圖。藉由此範例，類似圖9及10的範例，該〝三角形〞的頂端或頂點大概是在該延伸124的中間，以致在壓擠之後，該被壓擠的頂點係在該變形之三角形及該流體密封表面1270的中間。以該較大尺寸的延伸或〝三角形〞，在壓擠該流體密封表面1270之後，具有一約和圖8中所圖示說明之該流體密的密封表面770相同的橫剖面。然而，不像圖8中的密封，圖12及13的密封仍具有在該頂點各側上等量的材料，以產生環繞在該〝三角形〞或延伸中之一潛在裂口或凹痕的一完整的密封。相較於圖8的版本，此方法減低了環繞缺陷之密封的可能，其包括一較大之連續的密封表面於該缺陷及該流體密的密封邊緣之間。此外，如在圖14及15中所圖示說明的，相較於達成具有所說明之密封330之一近似尺寸的密封表面770所需要的壓擠作用力(顯示在圖14 中)，具有一大的〝三角形〞之該密封的擠壓需要明顯更大的作用力(顯示在圖15中)。此些圖表圖示說明在使用一已知的Solid Works電腦程式模型被計算下，用於實現所標示之壓擠距離(X軸)所需的作用力(Y軸)。

雖然本案發明已就不同的特定範例被說明，但應了解到，各種不同的修改可在不脫離本案發明的範疇下被進行。因此，上述的說明不應被解說成限制本案發明，而僅應被解說成本案發明之較佳實施例的一範例，以及本案發明是可在以下之申請專利範圍的範疇內進行各種實施。

Claims (17)

1. 一種密封環，其係用於密封界定一流體流動路徑之相對的流動構件密封表面，該密封環包括：一環狀的密封本體，其界定有一用於在一軸向中之流體通道的軸向孔洞；相對的密封表面，其在該環狀的密封本體之相對的軸向端部上；一環狀的延伸，其從在一軸向中之所述相對的密封表面中的至少一個延伸出，該延伸具有一頂點；其中，該環狀的延伸包括分別以相對的方向從該頂點往後朝向該密封表面延伸的一第一延伸表面及一第二延伸表面，該環狀的延伸係自該密封表面延伸出；其中，該第一延伸表面具有一相對於該軸向的第一通用角度，並藉由過渡至朝向該密封表面向後延伸之相對於該軸向的一第二通用角度界定出一脊部，該第二通用角度係較該第一延伸表面陡峭的一通用角度。
2. 根據申請專利範圍第1項之密封環，其中，該第一延伸表面及該第二延伸表面分別地過渡至大致垂直於該軸向的密封表面部分。
3. 根據申請專利範圍第2項之密封環，其中，該第二延伸表面過渡至其個別的密封表面部分，相較於該第一延伸表面過渡至其個別的密封表面部分，更靠近一用於該環狀的密封本體之垂直於該軸向的中心線。
4. 根據申請專利範圍第1項之密封環，其中，該頂點係位在比至該環狀的密封本體的一外徑向直徑更靠近該軸向孔洞的該環狀的延伸內，該外徑向直徑係由和界定該軸向孔洞的一內表面徑向相對的一外表面所界定。
5. 根據申請專利範圍第4項之密封環，其中，該頂點係位在比至該環狀的密封本體的該外徑向直徑更靠近該軸向孔洞的該環狀的延伸之一內部1/2內。
6. 根據申請專利範圍第5項之密封環，其中，該頂點係位在比至該環狀的密封本體的該外徑向直徑更靠近該軸向孔洞的該環狀的延伸之一內部1/3內。
7. 根據申請專利範圍第4項之密封環，其中，該第二延伸表面是以一比該第一延伸表面更陡峭的通用角度往後朝向該密封表面延伸。
8. 根據申請專利範圍第7項之密封環，其中，該第一延伸表面及該第二延伸表面分別地過渡至大致垂直於該軸向的密封表面部分。
9. 根據申請專利範圍第8項之密封環，其中，該第二延伸表面過渡至其個別的密封表面部分，相較於該第一延伸表面過渡至其個別的密封表面部分，更靠近一用於該環狀的密封本體之垂直於該軸向的中心線。
10. 一種密封一流體流動路徑的方法，該流體流動路徑係延伸於二個流體流動構件之間，所述流體流動構件各具有一環繞該流體流動路徑的流動構件密封表面，該方法係使用一環狀的密封本體及一環狀的延伸，該環狀的密封本體具有在該環狀的密封本體之相對的軸向端部上之相對的密封表面，且該環狀的延伸係在一軸向中從所述相對的密封表面中的至少一個延伸出，該延伸具有一頂點，該方法包括：以一環狀的密封本體接觸用於所述二個流體流動構件之一第一流體流動構件的一流動構件密封表面，其中該環狀的密封本體界定有一用於在一軸向中之流體通道的軸向孔洞； 將所述二個流體流動構件固緊於彼此，以沿著流體流動路徑對齊所述二個流體流動構件的所述流動構件密封表面，並以所述流動構件密封表面將相對的密封表面壓擠在該環狀的密封本體之相對的軸向端部上；其中，壓擠所述相對的密封表面包括：於該環狀的延伸之一第一部分的壓擠期間，在一第一壓擠作用力下之該環狀的延伸的一第一壓擠，其中，該環狀的延伸的該第一部分係由介於該頂點及一脊部之間的一第一延伸表面所界定，於該處該第一延伸表面具有相對於該軸向的一第一通用角度，並藉由過渡至朝向該密封表面向後延伸之相對於該軸向的一第二通用角度來界定出該脊部，該第二通用角度係較該第一延伸表面陡峭的一通用角度；於該環狀的延伸之一第二部分的壓擠期間，在一高於該第一壓擠作用力的第二壓擠作用力下之該環狀的延伸的一第二壓擠，其中，該環狀的延伸的該第二部分係由第一延伸表面部分所界定，該第一延伸表面部分具有朝向該密封表面向後延伸之相對於該軸向的該第二通用角度。
11. 根據申請專利範圍第10項之方法，其中，該頂點係定位成比該環狀的密封本體的一外徑向直徑更靠近該軸向孔洞，該外徑向直徑係由和界定該軸向孔洞的一內表面徑向相對的一外表面所界定，且其中，壓擠所述相對的密封表面進一步包括變形該環狀的延伸的該第一部分，以使該頂點定位成比該環狀的密封本體的該外徑向直徑更靠近該軸向孔洞。
12. 根據申請專利範圍第11項之方法，其進一步包括變形該環狀的延伸的該第一部分，以使該頂點至少位在介於該環狀密封及該個別的相對密封表面之間的一交接處之一內部1/2內。
13. 根據申請專利範圍第12項之方法，其中，變形該環狀的延伸的該第一部分包括變形該環狀的延伸的該第一部分，以使該頂點至少位在介於該環狀密封及該個別的相對密封表面之間的一交接處之一內部1/3內。
14. 一種密封環，其係用於密封界定一流體流動路徑之相對的流動構件密封表面，該密封環包括：一環狀的密封本體，其界定有一用於在一軸向中之流體通道的軸向孔洞；相對的密封表面，其在該環狀的密封本體之相對的軸向端部上；一環狀的延伸，其在一軸向中從所述相對的密封表面中的至少一個延伸出，該延伸具有一頂點；其中，該頂點係位在比至該環狀的密封本體的一外徑向直徑更靠近該軸向孔洞的該環狀的延伸內，該外徑向直徑係由和界定該軸向孔洞的一內表面徑向相對的一外表面所界定。
15. 根據申請專利範圍第14項之密封環，其中，該頂點係位在比至該環狀的密封本體的該外徑向直徑更靠近該軸向孔洞的該環狀的延伸之一內部1/2內。
16. 根據申請專利範圍第15項之密封環，其中，該頂點係位在比至該環狀的密封本體的該外徑向直徑更靠近該軸向孔洞的該環狀的延伸之一內部1/3內。
17. 根據申請專利範圍第14項之密封環，其中，該第二延伸表面是以一比該第一延伸表面更陡峭的通用角度往後朝向該密封表面延伸。