TW201522577A - 具有負光分散性之化合物、包含該化合物之負光分散性組成物、及包含該組成物之光學各向異性體 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種負光分散性化合物、一種包含該化合物之負光分散性組成物及一種包含該組成物之光學各向異性體。根據本發明之負光分散性組成物可提供更強且更穩定之逆向波長色散特性，且使得可能提供一種具有優良光學特性之光學各向異性體。

Description

具有負光分散性之化合物、包含該化合物之負光分散性組成物、 及包含該組成物之光學各向異性體
本發明係關於一種負光分散性化合物、一種包含該化合物之負光分散性組成物及一種包含該組成物之光學各向異性體。
隨著液晶顯示器(liquid crystal display；LCD)在顯示器領域中所佔份額日益增大，針對下一代顯示器所提及之有機發光二極體(organic light emitting diode；OLED)日漸引起人們的關注。
OLED型顯示器作為未來之顯示器而備受關注，乃因其在諸如厚度、功耗、反應速度、視角等各個方面優於LCD，並可應用於各種透明商品及撓性商品。
然而，OLED因其壽命短及發射效率低，且尤其因受到外部光線干擾而難以實現完美黑色之缺點而具有放大侷限。
為實現更完美之黑色，建議一種藉由對OLED型顯示器使用兩片偏光膜以使外部光線之干擾最小化之方法。使用兩片偏光膜之方 法相對簡單，但仍存在一些顯示器清晰度可能受到影響且生產成本增加之問題。
據此，建議各種用於使外部光線之干擾最小化之方法，諸如使用一逆向波長色散膜代替該偏光膜之方法等，但效果尚不足夠。
[本發明之目標]
本發明之一態樣係提供一種可提供更強且更穩定之逆向波長色散特性之負光分散性化合物。
本發明之另一態樣係提供一種包含該化合物之負光分散性組成物及光學各向異性體。
[實現目標之方式]
根據本發明，提供一種由以下化學式1表示之負光分散性化合物：
在化學式1中，A係為一C5至C8非芳族碳環或雜環基團或一C6至C20芳族或雜芳族基團；E1、E2、D1及D2分別獨立地係為一單鍵或一二價連接基團；L1與L2分別獨立地係為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-O-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一經取代或未 經取代之矽基、一C1至C40經取代或未經取代之二價碳基(carbyl)或烴基、或-Sp-P，其中該L1與L2至少其中之一係為-Sp-P，該P係為一可聚合基團，該Sp係為一間隔基團或一單鍵，且各該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基；m與n獨立地係為一1至5之整數，其中若該m或n為2或以上，則重複兩次或更多次之各重複單元-(D1-G1)-或-(G2-D2)-可彼此相同或不同；G1與G2獨立地係為一C5至C8非芳族碳環或雜環基團或一C6至C20芳族或雜芳族基團，其中該G1與G2至少其中之一係為該碳環或雜環基團，且該碳環或雜環基團中所包含之複數個氫其中之任一者皆可由以下化學式2表示之基團取代：
在化學式2中，p係為一1至10之整數，其中若該p為2或以上，則重複兩次或更多次之各重複單元-(Q1)-可彼此相同或不同，Q1獨立地係選自由-C≡C-、-CY1=CY2-及一C6至C20經取代或未經取代之芳族或雜芳族基團組成之群之二價基團，且該Y1與Y2獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN或-R1，且B1係為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一可聚合基團(化學式1中所定義之該P)、一C2至C6烯基、一C2至C6炔基、一C2至C4醯基、一末端與一C2至C4醯基連 接之C2至C6伸炔基、一C1至C5醇基或一C1至C12烷氧基，其中該R1與R2獨立地係為-H或C1至C12烷基。
此外，根據本發明，提供一種由包含該負光分散性化合物之組成物獲得且滿足以下等式I及II之光學各向異性體：(等式I)△n(450nm)/△n(550nm)<1.0
(等式II)△n(650nm)/△n(550nm)>1.0
在等式I及II中，△n(λ)意指在波長λ下之特定雙折射率。
以下，闡釋根據本發明實施例之負光分散性化合物及由包含該化合物之組成物獲得之光學各向異性體。
在此之前，本說明書中之技術術語係僅用於提及特定實施例且並非旨在限制本發明，除非未針對該等特定實施例進行特別提及。另外，除非在上下文中進行區別表述，否則本文所用之單數表述可包含複數表述。
另外，本說明書中所用術語「包含(include)」之含義具體化為特定特徵、區域、整數、步驟、行為、元件或組件，且不排除其他特定特徵、區域、整數、步驟、行為、元件或組件。
同時，「負光分散性化合物(negative optical dispersion compound)」意指如下化合物：該化合物本身或藉由與任意液晶化合物聚合或交聯，而展示液晶特性及逆向波長色散度，且儘管其本身不展示液晶特性，但使得液晶化合物展示逆向波長色散度。具體而言，可能獲得一聚合化合物，其中液晶分子之定向結構係固定的，可藉由使負光分散性化合物或包含該負光分散性化合物之組成物及液晶化合物(例 如，具有液晶特性之反應性介晶化合物)與液晶狀態對準且使其暴露於諸如UV射線之活化能射線而獲得。如此獲得之聚合化合物在諸如雙折射率、電容率(permittivity)、磁化率(magnetic susceptibility)、模數(modulus)、熱膨脹係數(coefficient of thermal expansion)等物理特性方面顯示出各向異性，並因此其例如可應用於諸如延遲板、偏光板、偏光稜鏡、增亮膜、光維之覆蓋材料等光學各向異性體。
另外，「特定雙折射率(specific birefringent index)」意指在穿過光學膜之透射光之波長(λ)下之相位差值且其可由△n(λ)來表示。
另外，「介晶基團(mesogenic group)」意指具有誘發液晶行為之能力之基團。
另外，「間隔基團(spacer group)」已為熟習本發明所屬領域之技術者所習知，例如其揭露於文獻[C.Tschierske,G.Pelzl,S.Diele,Angew.Chem.2004,116,6340-6368]中。該間隔基團被指定為連接介晶基團與可聚合基團之撓性有機基團。
另外，「二價碳基基團(carbyl group)」意指一包含一或多個碳原子(例如，-C≡C-)而無任意非碳原子或包含與一或多個非碳原子(例如，N、O、S、P、Si)選擇性地組合之一或多個碳原子(例如，羰基)的任意單價或多價有機自由基殘基(organic radical residue)。「烴基基團(Hydrocarbyl group)」意指一包含一或多個H原子且另外包含一或多個選擇性雜原子(例如，N、O、S、P、Si)之二價碳基基團。
I. 負光分散性化合物
根據本發明之一實施例，提供由以下化學式1表示之負光分散性化合物：
在化學式1中，A係為一C5至C8非芳族碳環或雜環基團或一C6至C20芳族或雜芳族基團；E1、E2、D1及D2獨立地係為一單鍵或一二價連接基團；L1與L2獨立地係為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-O-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一經取代或未經取代之矽基、一C1至C40經取代或未經取代之二價碳基或烴基、或-Sp-P，其中該L1與L2至少其中之一係為-Sp-P，該P係為一可聚合基團，該Sp係為一間隔基團或一單鍵，且R1與R2其中之每一者皆獨立地係為-H或一C1至C12烷基；m與n獨立地係為一1至5之整數，其中若該m或n為2或以上，則重複兩次或更多次之各重複單元-(D1-G1)-或-(G2-D2)-可彼此相同或不同；G1與G2獨立地係為一C5至C8非芳族碳環或雜環基團或一C6至C20芳族或雜芳族基團，其中該G1與G2至少其中之一係為該碳環或雜環基團，且該碳環或雜環基團中所包含之複數個氫其中之任一者係由以下化學式2表示之基團來取代：[化學式2]
在化學式2中，p係為一1至10之整數，其中若該p為2或以上，則重複兩次或更多次之各重複單元-(Q1)-可彼此相同或不同，Q1獨立地係選自-C≡C-、-CY1=CY2-及一C6至C20經取代或未經取代之芳族或雜芳族基團組成之群組之二價基團，且該Y1與Y2獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN或-R1，且B1係為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一可聚合基團(化學式1中所定義之該P)、一C2至C6烯基、一C2至C6炔基、一C2至C4醯基、一末端與一C2至C4醯基連接之C2至C6伸炔基、一C1至C5醇基或一C1至C12烷氧基，其中該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
由於本發明人之繼續實驗，確認具有如化學式1之結構之化合物本身或藉由與一任意液晶化合物聚合或交聯可令人驚訝地顯示液晶特性與逆向波長色散度，且儘管其本身不展示液晶特性，但使得液晶化合物展示逆向波長色散度，並因此可能提供一薄且光學特性優越之光學各向異性體。
具體而言，由化學式1表示之化合物具有T形式之結構，即一具有高極化度之共軛結構之橋接基團連接於介晶基團(具體而言，L1-(D1-G1)m-基團及-(G2-D2)n-L2基團)之任一部分處。亦即，根據本發明實施例之負光分散性化合物具有T形式之非對稱結構，不同於H形式之一對稱化合物，其中由一橋接基團對稱連接兩個桿型介晶化合物。因 此，化學式1之化合物由於具有高極化度之垂直橋接基團，而展現出穩定之逆向波長色散度，且同時由於T形式之非對稱介晶基團而展現出優良之定向特性。
化學式1中之A係為一C5至C8非芳族碳環或雜環基團或一 C6至C20芳族或雜芳族基團。
該A中之碳環或雜環基團可為一5員環(例如，環戊烷、 四氫呋喃、四氫硫呋喃、吡咯啶)；一6員環(例如，環己烷、矽烷、環己烯、四氫哌喃、四氫噻喃、1,3-二噁烷、1,3-二噻烷、哌啶)；一7員環(例如，環庚烷)或一稠合基團(例如，四氫萘、十氫萘、二氫茚、雙環[1.1.1]戊烷-1,3-二基、雙環[2.2.2]辛烷-1,4-二基、螺[3.3]庚烷-2,6-二基、八氫-4,7-甲橋-二氫茚-2,5-二基)。
該A中之芳族基團可為苯、伸二苯、聯伸三苯、萘、蒽、 聯萘、菲、芘、二氫芘、、苝、稠四苯、稠五苯、苯並芘、茀、茚、茚並茀、螺雙茀等。此外，該A、G1及G2中之雜芳族基團可為一5員環(例如，吡咯、吡唑、咪唑、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、四唑、呋喃、噻吩、硒吩、噁唑、異噁唑、1,2-噻唑、1,3-噻唑、1,2,3-噁二唑、1,2,4-噁二唑、1,2,5-噁二唑、1,3,4-噁二唑、1,2,3-噻二唑、1,2,4-噻二唑、1,2,5-噻二唑、1,3,4-噻二唑)；一6員環(例如，吡啶、嗒嗪、嘧啶、吡嗪、1,3,5-三嗪、1,2,4-三嗪、1,2,3-三嗪、1,2,4,5-四嗪、1,2,3,4-四嗪、1,2,3,5-四嗪)；或一稠合基團(例如，哢唑、吲哚、異吲哚、吲哚嗪、吲唑、苯並咪唑、苯並三唑、嘌呤、萘並咪唑、菲並咪唑、吡啶咪唑、吡嗪咪唑、喹喔啉咪唑、苯並噁唑、萘並噁唑、蒽並噁唑、菲並噁唑、異噁唑、苯並噻唑、苯並呋喃、異苯並呋喃、二苯並呋喃、喹啉、異喹啉、喋啶、苯並-5,6-喹啉、苯並-6,7-喹啉、苯並-7,8-喹啉、苯並 異喹啉、吖啶、啡噻嗪、啡噁嗪、苯並嗒嗪、苯並嘧啶、喹喔啉、啡嗪、萘啶、氮雜哢唑、苯並哢啉、啡啶、啡啉、噻吩並[2,3-b]噻吩、噻吩並[3,2-b]噻吩、二噻吩並噻吩、二噻吩並吡啶、異苯並噻吩、二苯並噻吩、苯並噻二唑並噻吩)。
較佳地，該A可係為環己烷環、環己烯環、苯環、萘環或 菲環。更佳地，該A可選自由反-1,4-伸環己基、1,4-伸苯基、1,5-伸萘基及2,6-伸萘基組成之群組。
此外，根據本發明之實施例，該A中所包含之該等氫至少 其中之一可選擇性地由必要時使各分子之間發生相互作用之其他官能基取代。使各分子之間發生相互作用之官能基，使得可藉由與其他分子相互作用而展現出更為改良之定向穩定性。使分子之間發生相互作用之官能基種類不受特別限制，但其較佳可為-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一C2至C6烯基、一C2至C6炔基、一C2至C4醯基、一末端與一C2至C4醯基連接之C2至C6伸炔基、一C1至C5醇基或一C1至C12烷氧基。本文中，該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
另外，化學式1中之E1、E2、D1及D2獨立地係為一單鍵或 一二價連接基團。
具體而言，E1、E2、D1及D2可獨立地為一單鍵、-O-、-S-、 -CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-、-NR1-CO-NR1-、-OCH2-、-CH2O-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH2CH2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-CF2CH2-、-CF2CH2-、-CH=CH-、-CY1=CY2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR1-、-C≡C-、 -CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-或-CR1R2-。本文中，該Y1與Y2獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN或-R1，且該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
另外，化學式1中之L1與L2係為介晶基團之末端且其獨立 地係為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-O-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一經取代或未經取代之矽基、一C1至C40經取代或未經取代之二價碳基或烴基或-Sp-P，其中該L1與L2至少其中之一係-Sp-P。本文中，該P係為一可聚合基團，該Sp係為一間隔基團或一單鍵，且R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
對於非限制性實例而言，該L1與L2可為一未經取代、經F、 Cl、Br、I或CN單取代或多取代之C1至C25直鏈、分支鏈或環狀烷基；此時，一或多個非相鄰CH2基團可獨立地經O-、-S-、-NH-、-NR1-、SiR1R2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-SO2-、-CO-NR1-、-NR1-CO-、-NR1-CO-NR1-、-CY1=CY2-或-C≡C-取代-。本文中，該Y1與Y2獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN或-R1，且該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
此外，該L1與L2可選自一C1至C20烷基、一C1至C20氧雜烷 基、一C1至C20烷氧基、一C2至C20烯基、一C2至C20炔基、一C1至C20矽基、一C1至C20酯、一C1至C20胺基及一C1至C20氟烷基。
另外，在作為該L1與L2之實例之-Sp-P中，該P係為一可聚 合基團，且其可為CH2=CZ1-COO-、CH2=CZ1-CO-、CH2=CZ2-(O)a-、CH3-CH=CH-O-、(CH2=CH)2CH-OCO-、(CH2=CH-CH2)2CH-OCO-、(CH2=CH)2CH-O-、(CH2=CH-CH2)2N-、(CH2=CH-CH2)2N-CO-、 HO-CZ1Z2-、HS-CZ1Z2-、HZ1N-、HO-CZ1Z2-NH-、CH2=CZ1-CO-NH-、CH2=CH-(COO)a-Phe-(O)b-、CH2=CH-(CO)a-Phe-(O)b-、Phe-CH=CH-、 HOOC-、OCN-、Z1Z2Z3Si-、或 本文中，該Z1至Z3獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN、-CF3、苯基或一C1至C5烷基，該Phe係未經取代或經-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3或-SF3取代之1,4-伸苯基，且該a與b獨立地係為0或1。
另外，在作為該L1與L2之實例之-Sp-P中，該Sp係選自將 -Sp-P加入-X'-Sp'-P中之化學式-X'-Sp'。該Sp'係為一經-F、-Cl、-Br、-I或-CN單取代或多取代之C1至C20伸烷基，且該伸烷基中之一或多個-CH2-基團可由-O-、-S-、-NH-、-NR1-、-SiR1R2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-NR1-CO-O-、-O-CO-NR1-、-NR1-CO-NR1-、-CH=CH-或-C≡C-置換。而且，該X'係為-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-、-NR1-CO-NR1-、-OCH2-、-CH2O-、-SCH2-、-CH2S-、-OCF2-、-CF2O-、-SCF2-、-SF2O-、-CF2CH2-、-CF2CF2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR1-、-CY1=CY2-、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-或一單鍵。本文中，該Y1與Y2獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN或-R1，且該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
另外，化學式1中之m與n可彼此相同或不同且可獨立地係 為一1至5之整數。本文中，若該m或n為2或以上，則重複兩次或更多次之各重複單元-(D1-G1)-或-(G2-D2)-可彼此相同或不同。舉例而言，當m 為2時，各重複單元-(D1-G1)-(D1-G1)-中所包含之D1或G1在上文所揭露之範圍內可彼此相同或不同。
另外，化學式1中之G1與G2獨立地係為一C5至C8非芳族碳 環或雜環基團或一C6至C20芳族或雜芳族基團，其中該G1與G2至少其中之一係為碳環或雜環基團。
該G1與G2中之碳環基團、雜環基團、芳族基團及雜芳族基 團與該A中所定義相同。
具體而言，根據本發明之實施例，該G1與G2至少其中之一 係為碳環或雜環基團，且該碳環或雜環基團中所包含之複數個氫其中之任一者係由以下化學式2表示之基團取代：
在化學式2中，p係為一1至10之整數，其中若該p為2或以上，則重複兩次或更多次之各重複單元-(Q1)-可彼此相同或不同，Q1獨立地係為一選自由-C≡C-、-CY1=CY2-及一C6至C20經取代或未經取代之芳族或雜芳族基團組成之群組之二價基團，且該Y1與Y2獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN或-R1，且B1係為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一可聚合基團(化學式1中所定義之該P)、一C2至C6烯基、一C2至C6炔基、一C2至C4醯基、一末端與一C2至C4醯基連 接之C2至C6伸炔基、一C1至C5醇基或一C1至C12烷氧基，其中該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
在化學式2中，-[Q1]p-可由一或多個選自由一π-共軛直鏈 基團、一芳族基團及一雜芳族基團組成之群組之次基團Q1。舉例而言，該-[Q1]p-可由一或多個選自所具有之鍵角為120°或以上、較佳為180°或以上之基團的次基團Q1構成。本文中，p係為一1至10之整數，其中若該p為2或以上，則重複兩次或更多次之各重複單元-(Q1)-可彼此相同或不同。
對於非限制性實例而言，該次基團Q1可為一與對位之相鄰 官能基連接之二價芳族基團(例如，1,4-伸苯基、萘-2,6-二基、二氫茚-2,6-二基、噻吩並[3,2-b]噻吩-2,5-二基)或一包含sp-雜化碳之基團(例如，-C≡C-)。此外，該次基團Q1可包含-CH=CH-、-CY1=CY2-及-CH=CR1-。本文中，該Y1與Y2獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN或-R1，且該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
此外，該-[Q1]p-可包含一或多個選自由-C≡C-、經取代或 未經取代之1,4-伸苯基及經取代或未經取代之9H-茀-2,7-二基組成之群組之基團。此時，茀基團中9位之H原子可由二價碳基或烴基置換。
較佳地，該-[Q1]p-可選自由下列組成之群組：
本文中，該r係為0、1、2、3或4，且該D可為-F、-Cl、-Br、 -I、-CN、-NO2、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)X、-C(=O)OR1、-NR1R2、-OH、-SF5、經取代或未經取代之矽基、一C6至C12芳基、一C1至C12直鏈或分支鏈烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基。
另外，化學式2中之B1係為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、 -NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一可聚合基團(化學式1中所定義之該P)、一C2至C6烯基、一C2至C6炔基、一C2至C4醯基、一末端與一C2至C4醯基連接之C2至C6伸炔基、一C1至C5醇基或一C1至C12烷氧基，其中該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
具體而言，根據本發明之實施例，在該等例示基團中，該 B1較佳可為一或多個選自由一π-共軛直鏈基團、一芳族基團及一雜芳族基團組成之群組之基團，其使得化學式2之橋接基團具有一共軛結構(例如，對應於該Q之基團)。
對於非限制性實例而言，化學式1之負光分散性化合物可 為由根據下文提及實例之RD-01至RD-42表示之化合物。然而，該負光 分散性化合物不限於RD-01至RD-42之化合物且其可藉由上文提及範圍內之各種組合來實現。
另外，由化學式1表示之負光分散性化合物可藉由應用已知反應來合成，且將透過實例來闡釋更詳細之合成方法。
II. 負光分散性組成物
根據本發明之另一實施例，提供包含化學式1所表示之化合物之負光分散性組成物。
該負光分散性組成物可係為將由化學式1表示之化合物溶解於一溶劑中之一組成物。此外，由化學式1表示之化合物可單獨或以兩種或更多種組合包含於該組成物中。
本文中，可使用本發明所屬領域中習知之自由基聚合引發劑作為聚合引發劑。另外，聚合引發劑之含量可在可有效地引發負光分散性化合物之聚合反應之習知範圍內確定。根據本發明之實施例，基於組成物之總重量，可包含10重量%或以下，較佳為0.5至8重量%之含量的該聚合引發劑。
另外，該溶劑可為苯、甲苯、二甲苯、三甲苯、正丁基苯、二乙基苯、四氫萘、甲氧基苯、1,2-二甲氧基苯、乙二醇二甲基醚、二乙二醇二甲基醚、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯、γ-丁內酯、2-吡咯啶酮、N-甲基-2-吡咯啶酮、二甲基甲醯胺、氯仿、二氯甲烷、四氯化碳、二氯乙烷、三氯乙烯、四氯乙烯、氯苯、第三丁基醇、二丙酮醇、甘油、單乙酸甘油酯、乙二醇、三乙二醇、己二醇、乙二醇單甲基醚、乙賽路蘇、丁賽路蘇或其一混合物。另外，在該等溶劑中，沸點為60至250℃之溶 劑有利於形成一層均勻之厚度且使溶劑殘餘最少化或在塗佈組成物時定向下降。
另外，負光分散性組成物可更視需要選擇性地包含敏化劑，諸如呫噸酮、噻噸酮、氯噻噸酮、啡噻嗪、蒽、二苯基蒽等。
此外，負光分散性組成物可更視需要選擇性地包含：一表面活性劑，諸如一四級銨鹽、一烷基胺氧化物、一聚胺衍生物、一聚氧乙烯-聚氧丙烯縮合物、月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、一經烷基取代之芳族磺酸酯、一烷基磷酸酯、一全氟烷基磺酸酯等；一儲存壽命穩定劑，諸如氫醌、一基於氫醌單烷基醚之化合物、一基於五倍子酚之化合物、一基於噻吩之化合物、一基於2-萘基胺之化合物、一基於2-羥基萘之化合物等；一抗氧化劑，諸如2,6-二-第三丁基-對甲酚、三苯基亞磷酸酯等；或一UV吸收劑，諸如一基於水楊酸鹽之化合物、一基於苯並苯基之化合物、一基於苯並三唑之化合物、一基於氰基丙烯酸酯之化合物、一基於鎳錯合物鹽之化合物等。
另外，該負光分散性組成物可更視需要選擇性地包含霧化材料，以用於控制聚合層之光學各向異性或改良其強度。該霧化材料可係為：霧化無機材料，諸如水輝石、蒙脫石、高嶺石、ZnO、TiO2、CeO2、Al2O3、Fe2O3、ZrO2、MgF2、SiO2、SrCO3、Ba(OH)2、Ca(OH)2、Ga(OH)3、Al(OH)3、Mg(OH)2、Zr(OH)4等；或霧化有機材料，諸如碳奈米管、富勒烯、樹枝狀聚合物、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸酯、聚醯亞胺等。
另外，該負光分散性組成物除化學式1之化合物以外可更包含一任意液晶化合物。該任意液晶化合物可具有或不具有可聚合特性。本文中，舉例而言，該任意液晶化合物可為一具有乙烯系不飽和鍵之液晶化合物、一具有光學活性基團之化合物、桿型液晶化合物等。另 外，該任意液晶化合物可根據其結構而計入一適當量，且其可有利於達成上文所揭露之包含任意液晶之目標，以便基於總化合物之重量計，化學式1之化合物之含量為20重量%或以上，或50重量%或以上。
III. 光學各向異性體
此外，根據本發明之又一實施例，提供一種藉由使用負光分散性組成物形成之光學各向異性體。
具體而言，該光學各向異性體因其藉由使用該負光分散性組成物來形成，而可顯示出滿足以下等式I及II之逆向波長色散度：(等式I)△n(450nm)/△n(550nm)<1.0
(等式II)△n(650nm)/△n(550nm)>1.0
(等式I及II中之△n(λ)意指在波長λ下之特定雙折射率)
該光學各向異性體可藉由以下方式來獲得：在一支撐基板上塗佈負光分散性組成物，使該負光分散性組成物中之液晶化合物對準並隨後自其消除溶劑並且使其暴露於一能量射線以供聚合。
本文中，支撐基板不受特別限制，但較佳例如，可使用一玻璃板、一聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、一聚醯亞胺膜、一聚醯胺膜、一聚甲基丙烯酸甲酯膜、一聚苯乙烯膜、一聚氯乙烯膜、一聚四氟乙烯膜、一基於纖維素之膜、一聚矽氧膜等。另外，較佳可使用於其上形成有一聚醯亞胺對準層或一聚乙烯醇對準層之支撐基板。
可使用任何已知之方法作為在支撐基板上塗佈組成物之方法，且例如可應用一輥塗方法、一旋塗方法、一棒塗方法、一浸塗方 法、一噴塗方法等。組成物所形成之層厚度可根據用途而變化，且較佳地其可在0.01μm至100μm範圍內加以選擇。
同時，對於非限制性實例而言，可使用一種在支撐基板上 執行預對準處理之方法作為對準液晶化合物之方法。該對準處理可藉由在支撐基板上形成一包含各種聚醯亞胺對準層或基於聚乙烯醇之對準層之液晶對準層並進行諸如摩擦之處理來執行。此外，可使用一種對支撐基板上之組成物應用一磁場或一電場之方法。
另外，使負光分散性組成物聚合之方法可係為一種使用 光、熱或電磁波之已知之方法。
另外，光學各向異性體可用於液晶顯示器或OLED型顯示 器之延遲膜、偏光裝置、抗反射層、選擇性輻射層、視角補償層等。具體而言，在對OLED型顯示器應用藉由使用該組成物所形成之光學各向異性體時，可使外部光線之干擾最小化且可能實現更完美之黑色。
根據本發明之負光分散性化合物可提供更強且更穩定之逆向波長色散特性，並使得可能提供一具有優良光學特性之光學各向異性體。
第1a圖至第10圖分別例示根據本發明實施例之負光分散性化合物之合成方案。
以下，透過具體實例更詳細地闡釋本發明之功能及效果。然而，該等實例僅用於理解本發明，且本發明之範疇並非僅限於該等實例或不受該等實例之限制。
實例1：合成化合物RD-01
化合物RD-01係根據第1a圖至第1c圖所示方案來合成。
(合成化合物2)
在將約100g化合物1((1's,4'r)-4'-戊基-[1,1'-雙(環己烷)]-4-酮)約60g四亞甲二胺溶解於四氫呋喃中之後，在約-78℃下向其中緩慢逐滴地添加約300ml正丁基鋰。將混合物攪拌約2小時之後，向其中添加乙炔基三甲基矽烷且將混合物再攪拌約1小時。隨後，藉由以二氯甲烷及水萃取反應產物、化學乾燥所獲得之有機層並以一管柱層析法將其提純，來獲得約120g化合物2。
(合成化合物3)
在將約120化合物2與約100g K2CO3(碳酸鉀)溶解於甲醇中之後，將混合物在室溫下攪拌約24小時。在藉由將其過濾自其排除多餘K2CO3之後，以二氯甲烷及水萃取所獲得之產物。隨後，藉由化學乾燥經萃取之有機層以自其排除溶劑並以一管柱層析將其提純，來獲得約110g化合物3。
(合成化合物5)
在將約100g化合物4(1,4-二乙炔基苯)溶解於四氫呋喃中 之後，將混合物在約-78℃下攪拌約20分鐘。向其中逐滴地添加約500ml於2.5M己烷中之正丁基鋰歷時約2小時。在將其攪拌約4小時之後，向其中添加約100ml氯三甲基矽烷且將混合物攪拌約24小時。隨後，藉由以乙酸乙酯及水萃取反應產物、化學乾燥所獲得之有機層且以一管柱層析將其提純，來獲得約60g化合物5。
(合成化合物6)
在將約200g 1,4-二碘苯、約3g Pd(PPh3)2Cl2(雙(三苯基膜)二氯化鈀(II))、約5g CuI(碘化亞銅)及約200ml N,N-二異丙基乙胺溶解於四氫呋喃中之後，向其中緩慢逐滴地添加約50g溶解於四氫呋喃中之化合物5。在使混合物回流且攪拌約24小時之後，過濾且自其排除所產生之鹽並以二氯甲烷及水來萃取獲得之產物。藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純，來獲得約70g化合物6。
(合成化合物8)
在將100g化合物7(4-羥基-3-碘苯甲酸)與約400g N,N-二異丙基乙胺溶解於二氯甲烷中之後，在約0℃下向其中緩慢逐滴地添加約200g甲基氯甲基醚。在將混合物攪拌約24小時之後，將產物以約500ml氯化銨來洗滌並以二氯甲烷及水來萃取。另外，將經萃取之有機層化學乾燥並自其排除溶劑。將如此獲得之產物與氫氧化鉀水溶液置於甲醇中且使溶液回流並攪拌約3小時。藉由向其中添加6N鹽酸來萃取產物且隨後藉由將其過濾而自其排除溶劑。隨後，藉由使用己烷自其排除額外之外來物質且將其乾燥約48小時而獲得約110g化合物8。
(合成化合物9)
在將約100g化合物8、約100g化合物3及約70g 4-(二甲胺 基)吡啶溶解於二氯甲烷中之後，將混合物攪拌約30分鐘。在向其中添加約80g 1-乙基-3-(3-二甲胺基丙基)碳化二亞胺且將其攪拌約24小時之後，以二氯甲烷及水來萃取獲得之產物。隨後，藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約150g化合物9。
(合成化合物10)
在將約100g化合物9與約300ml 6N鹽酸溶解於四氫呋喃中之後，將混合物在約40℃下攪拌約24小時。以二氯甲烷及水來萃取反應產物。隨後，藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約80g化合物10。
(合成化合物12-1)
在將約80g化合物10、約50g化合物11-1((1r,4r)-4-((4-(丙烯醯氧基)丁氧基)羰基)環己烷甲酸)、約5g 4-(二甲胺基)吡啶及約50gN,N-二異丙基乙胺溶解於二氯甲烷中之後，將混合物攪拌約30分鐘。在向其中添加約80g 1-乙基-3-(3-二甲胺基丙基)碳化二亞胺與約50g乙炔基三甲基矽烷，且將其攪拌約24小時之後，以二氯甲烷及水萃取獲得之產物。隨後，藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約100g化合物12-1。
(合成化合物13-1)
在將約80g化合物12-1、約20g乙炔基三甲基矽烷、約3g Pd(PPh3)2Cl2(雙(三苯基膦)二氯化鈀(II))及約5g CuI(碘化亞銅)溶解於四氫呋喃中之後，使溶液回流且攪拌約24小時。自其過濾且排除所產生之鹽且以二氯甲烷及水萃取獲得之產物。藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約70g化合物13-1。
(合成化合物14-1)
在將約70g化合物13-1與約6g AgNO3(硝酸銀)溶解於溶劑混合物(水：二氯甲烷：乙醇=1：6：3)中且將其攪拌約24小時之後。藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約50g化合物14-1。
(合成化合物15-1)
在將約50g化合物14-1、約20g化合物6、約3g Pd(PPh3)2Cl2(雙(三苯基膦)二氯化鈀(II))及約5g CuI(碘化亞銅)溶解於四氫呋喃中之後，使溶液回流且攪拌約24小時。自其過濾且排除所產生之鹽且以二氯甲烷及水來萃取獲得之產物。藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約30g化合物15-1。
(合成化合物RD-01)
在將約30g化合物15-1與約6g AgNO3(硝酸銀)溶解於溶劑混合物(水：二氯甲烷：乙醇=1：6：3)中且將其攪拌約24小時之後。藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約20g化合物RD-01。
所獲得化合物RD-01之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.40(2H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、1.60-1.12(48H,m)
實例2：合成化合物RD-02
化合物RD-02係根據第1a圖至第1c圖所示之方案來合成。
(合成化合物12-2)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法，獲得約100g化合物12-2，除了使用約55g化合物11-2((1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷甲酸)來代替化合物11-1以外。
(合成化合物13-2)
藉由與實例1之合成化合物13-1相同之方法獲得約70g化合物13-2，除了使用化合物12-2來代替化合物12-1以外。
(合成化合物14-2)
藉由與實例1之合成化合物14-1相同之方法獲得約70g化合物14-2，除了使用化合物13-2來代替化合物13-1以外。
(合成化合物15-2)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物15-2，除了使用化合物14-2來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-02)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-02，除了使用化合物15-2來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-02之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.40(2H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、1.60-1.12(52H,m)
實例3：合成化合物RD-03
化合物RD-03係根據第1a圖至第1c圖所示之方案來合成。
(合成化合物12-3)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物12-3，除了使用約60g化合物11-3((1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷甲酸)來代替化合物11-1以外。
(合成化合物13-3)
藉由與實例1之合成化合物13-1相同之方法獲得約70g化合物13-3，除了使用化合物12-3來代替化合物12-1以外。
(合成化合物14-3)
藉由與實例1之合成化合物14-1相同之方法獲得約70g化合物14-3，除了使用化合物13-3來代替化合物13-1以外。
(合成化合物15-3)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物15-3，除了使用化合物14-3來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-03)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-03，除了使用化合物15-3來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-03之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.40(2H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s),1.60-1.12(56H,m)
實例4：合成化合物RD-04
化合物RD-04係根據第2a圖與第2b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物17)
在將約100g化合物16(4-(4-羥基苯基)環己酮)與約120g N,N-二異丙基乙胺溶解於二氯甲烷中之後，向其中緩慢逐滴添加約50g甲基氯甲基醚。將混合物攪拌約2小時之後，以二氯甲烷及水萃取產物。 隨後，藉由化學乾燥經萃取之有機層以自其排除溶劑並以一管柱層析法將其提純而獲得約120g化合物17。
(合成化合物18)
在將約120g化合物17與約100g N,N,N',N'-四甲基乙二胺溶解於四氫呋喃中之後，將混合物在約-78℃下攪拌約20分鐘。向其中逐滴添加約500ml之2.5M己烷中之正丁基鋰歷時約2小時。在將其攪拌約4小時之後，向其中添加乙炔基三甲基矽烷且將混合物再攪拌約24小時。隨後，以乙酸乙酯及水萃取反應產物，且藉由化學乾燥所獲得之有機層，並以一管柱層析法將其提純而獲得約100g化合物18。
(合成化合物19)
在將約100g化合物18與約10g四丁基氟化銨水合物溶解於四氫呋喃中之後，將混合物攪拌約2小時。以二氯甲烷及水萃取反應產物且藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約80g化合物19。
(合成化合物21)
在將約70g化合物19、約70g化合物20[4-(甲氧基甲氧基)苯甲酸]及約50g 4-(二甲胺基)吡啶溶解於二氯甲烷中之後，將混合物攪拌約30分鐘。在向其中添加約80g 1-乙基-3-(3-二甲胺基丙基)碳化二亞胺且將其攪拌約24小時之後，以二氯甲烷及水萃取獲得之產物。隨後，藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約80g化合物21。
(合成化合物22)
在將約80g化合物21與約300ml 6N鹽酸溶解於四氫呋喃中之後，將混合物在約40℃下攪拌約24小時。隨後，以二氯甲烷及水萃 取反應產物且藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約60g化合物22。
(合成化合物23-1)
在將約60g化合物22、約50g化合物11-1((1r,4r)-4-((4-(丙烯醯氧基)丁氧基)羰基)環己烷甲酸)、約5g 4-(二甲胺基)吡啶及約50g N,N-二異丙基乙胺溶解於二氯甲烷中之後，將混合物攪拌約30分鐘。在向其中添加約80g 1-乙基-3-(3-二甲胺基丙基)碳化二亞胺與約50g乙炔基三甲基矽烷且將其攪拌約24小時之後，以二氯甲烷及水萃取獲得之產物。隨後，藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約80g化合物23-1。
(合成化合物24-1)
在將約80g化合物23-1、約30g實例1之化合物6、約3g Pd(PPh3)2Cl2(雙(三苯基膦)二氯化鈀(II))及約5g CuI(碘化亞銅)溶解於四氫呋喃中之後，使溶液回流且攪拌約24小時。自其過濾且排除所產生之鹽且以二氯甲烷及水萃取獲得之產物。藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約70g化合物24-1。
(合成化合物RD-04)
在將約50g化合物24-1與約10g AgNO3(硝酸銀)溶解於溶劑混合物(水：二氯甲烷：乙醇=1：6：3)中且將其攪拌約24小時之後。藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約30g化合物RD-04。
所獲得化合物RD-04之NMR光譜如下：
1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、 6.27(2H,dd)、6.05(2H,dd)、5.59(2H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(4H,t)、2.50(1H,s)、1.60-1.12(23H,m)
實例5：合成化合物RD-05
化合物RD-05係根據第2a圖與第2b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物23-2)
藉由與實例4之合成化合物23-1相同之方法獲得約100g化合物23-2，除了使用化合物11-2((1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷甲酸)來代替化合物11-1以外。
(合成化合物24-2)
藉由與實例4之合成化合物24-1相同之方法獲得約70g化合物24-2，除了使用化合物23-2來代替化合物23-1以外。
(合成化合物RD-05)
藉由與實例4之合成化合物RD-04相同之方法獲得約50g化合物RD-05，除了使用化合物24-2來代替化合物24-1以外。
所獲得化合物RD-05之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、 6.27(2H,dd)、6.05(2H,dd)、5.59(2H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(4H,t)、2.50(1H,s)、1.60-1.12(31H,m)
實例6：合成化合物RD-06
化合物RD-06係根據第2a圖與第2b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物23-3)
藉由與實例4之合成化合物23-1相同之方法獲得約100g化合物23-3，除了使用化合物11-3((1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷甲酸)來代替化合物11-1以外。
(合成化合物24-3)
藉由與實例4之合成化合物24-1相同之方法獲得約70g化合物24-3，除了使用化合物23-3來代替化合物23-1以外。
(合成化合物RD-06)
藉由與實例4之合成化合物RD-04相同之方法獲得約50g化合物RD-06，除了使用化合物24-3來代替化合物24-1以外。
所獲得化合物RD-06之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、 6.27(2H,dd)、6.05(2H,dd)、5.59(2H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(4H,t)、2.50(1H,s)、1.60-1.12(39H,m)
實例7：合成化合物RD-07
化合物RD-07係根據第3a圖與第3b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物26)
在將約100g化合物25(4-羥基苯甲酸)、約100g N,N'-二環己基碳化二亞胺、約10g 4-(二甲胺基)吡啶及約20g第三丁醇溶解於四氫呋喃中之後，將混合物攪拌約24小時。隨後，以二氯甲烷及水萃取反應產物且藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約80g化合物26。
(合成化合物28-1)
在將約60g化合物26、約50g化合物27-1[(1r,4r)-4-(丁氧基羰基)環己烷甲酸]、約5g 4-(二甲胺基)吡啶及約50g N,N-二異丙基乙胺溶解於二氯甲烷中之後，將混合物攪拌約30分鐘。在向其中添加約80g 1-乙基-3-(3-二甲胺基丙基)碳化二亞胺與約50g乙炔基三甲基矽烷且將其攪拌約24小時之後，以二氯甲烷及水萃取獲得之產物。隨後，藉由化 學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約80g化合物28-1。
(合成化合物29-1)
在將約80g化合物28-1與約50g四氟乙酸溶解於二氯甲烷中之後，將混合物攪拌約24小時。隨後，以二氯甲烷及水萃取反應產物且藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約60g化合物29-1。
(合成化合物30-1)
在將約60g化合物29-1、約50g實例4之化合物19及約50g 4-(二甲胺基)吡啶溶解於二氯甲烷中之後，將混合物攪拌約30分鐘。在向其中添加約80g 1-乙基-3-(3-二甲胺基丙基)碳化二亞胺且將其攪拌約24小時之後，以二氯甲烷及水萃取獲得之產物。隨後，藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約80g化合物30-1。
(合成化合物31-1)
在將約80g化合物30-1與約300ml 6N鹽酸溶解於四氫呋喃中之後，將混合物在約40℃下攪拌約24小時。隨後，以二氯甲烷及水萃取反應產物，且藉由化學乾燥經萃取之有機層，並以一管柱層析法將其提純而獲得約60g化合物31-1(m=3)。
(合成化合物32-1)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約80g化合物32-1，除了使用化合物31-1(m=3)來代替化合物10以外。
(合成化合物33-1)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物33-1，除了使用化合物32-1來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-07)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約30g化合物RD-07，除了使用化合物33-1來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-07之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(25H,m)
實例8：合成化合物RD-08
化合物RD-08係根據第3a圖與第3b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物28-2)
藉由與實例7之合成化合物28-1相同之方法獲得約100g化合物28-2，除了使用化合物27-2[(1r,4r)-4-((己氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物27-1以外。
(合成化合物29-2)
藉由與實例7之合成化合物29-1相同之方法獲得約70g化合物29-2，除了使用化合物28-2來代替化合物28-1以外。
(合成化合物30-2)
藉由與實例7之合成化合物30-1相同之方法獲得約90g化合物30-2，除了使用化合物29-2來代替化合物29-1以外。
(合成化合物31-2)
藉由與實例7之合成化合物31-1相同之方法獲得約70g化合物31-2(m=5)，除了使用化合物30-2來代替化合物30-1以外。
(合成化合物32-2)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約80g化合物32-2，除了使用化合物31-2(m=5)來代替化合物10以外。
(合成化合物33-2)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物33-2，除了使用化合物32-2代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-08)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約30g化合物RD-08，除了使用化合物33-2來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-08之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(29H,m)
實例9：合成化合物RD-09
化合物RD-09係根據第3a圖與第3b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物28-3)
藉由與實例7之合成化合物28-1相同之方法獲得約100g化合物28-3，除了使用化合物27-3[(1r,4r)-4-((辛氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物27-1以外。
(合成化合物29-3)
藉由與實例7之合成化合物29-1相同之方法獲得約70g化合物29-3，除了使用化合物28-3來代替化合物28-1以外。
(合成化合物30-3)
藉由與實例7之合成化合物30-1相同之方法獲得約90g化合物30-3，除了使用化合物29-3來代替化合物29-1以外。
(合成化合物31-3)
藉由與實例7之合成化合物31-1相同之方法獲得約70g化合物31-3(m=7)，除了使用化合物30-3來代替化合物30-1以外。
(合成化合物32-3)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約80g化合物32-3，除了使用化合物31-3(m=7)來代替化合物10以外。
(合成化合物33-3)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物33-3，除了使用化合物32-3來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-09)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約30g化合物RD-09，除了使用化合物33-3來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-09之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(33H,m)
實例10：合成化合物RD-10
化合物RD-10係根據第3a圖與第3b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物32-4)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約80g化合物32-4，除了使用化合物31-1(m=3)來代替化合物10且使用化合物 11-2(n=6)[(1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物33-4)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物33-4，除了使用化合物32-4來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-10)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-10，除了使用化合物33-4來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-10之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(29H,m)
實例11：合成化合物RD-11
化合物RD-11係根據第3a圖與第3b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物32-5)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約80g化合物32-5，除了使用化合物31-2(m=5)來代替化合物10且使用化合物11-2(n=6)[(1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物33-5)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物33-5，除了使用化合物32-5來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-11)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-11，除了使用化合物33-5來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-11之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(33H,m)
實例12：合成化合物RD-12
化合物RD-12係根據第3a圖與第3b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物32-6)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約80g化合物32-6，除了使用化合物31-3(m=7)來代替化合物10且使用化合物11-2(n=6)[(1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物33-6)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物33-6，除了使用化合物32-6來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-12)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-12，除了使用化合物33-6來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-12之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d),、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(37H,m)
實例13：合成化合物RD-13
化合物RD-13係根據第3a圖與第3b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物32-7)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約80g化合物32-7，除了使用化合物31-1(m=3)來代替化合物10且使用化合物11-3(n=8)[(1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物33-7)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物33-7，除了使用化合物32-7來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-13)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-13，除了使用化合物33-7來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-13之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(33H,m)
實例14：合成化合物RD-14
化合物RD-14係根據第3a圖與第3b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物32-8)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約80g化合物32-8，除了使用化合物31-2(m=5)來代替化合物10且使用化合物11-3(n=8)[(1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物33-8)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物33-8，除了使用化合物32-8來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-14)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-14，除了使用化合物33-8來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-14之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(37H,m)
實例15：合成化合物RD-15
化合物RD-15係根據第3a圖與第3b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物32-9)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約80g化合物32-9，除了使用化合物31-3(m=7)來代替化合物10且使用化合物11-3(n=8)[(1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物33-9)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物33-9，除了使用化合物32-9來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-15)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-15，除了使用化合物33-9來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-15之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、 6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(41H,m)
實例16：合成化合物RD-16
化合物RD-16係根據第4a圖與第4b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物34)
在將約200g 1,4-二碘苯、約3g Pd(PPh3)2Cl2(雙(三苯基膦)二氯化鈀(II))、約5g CuI(碘化亞銅)及約200ml N,N-二異丙基乙胺溶解於四氫呋喃中之後，向其中緩慢逐滴地添加約50g溶解於四氫呋喃中之化合物4(1,4-二乙炔基苯)。在使混合物回流且攪拌約24小時之後，自其過濾且排除所產生之鹽且以二氯甲烷及水萃取獲得之產物。藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約100g化合物34。
(合成化合物35)
在將約100g化合物34溶解於中四氫呋喃中之後，將混合物在約-78℃下攪拌約20分鐘。向其中逐滴添加約500ml之2.5M己烷中 之正丁基鋰歷時約2小時。在將其攪拌約4小時之後，向其中添加約100ml氯三甲基矽烷且將混合物攪拌約24小時。隨後，以乙酸乙酯及水萃取反應產物且藉由化學乾燥所獲得之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約60g化合物35。
(合成化合物36)
在將100g化合物25(4-羥基苯甲酸)與約400g N,N-二異丙基乙胺溶解於二氯甲烷中之後，在約0℃下向其中緩慢逐滴地添加約200g甲基氯甲基醚。將混合物攪拌約24小時之後，將產物以約500ml氯化銨洗滌且以二氯甲烷及水萃取。而且，化學乾燥經萃取之有機層且自其排除溶劑。將如此獲得之產物與氫氧化鉀水溶液置於甲醇中且使溶液回流並攪拌約3小時。藉由向其中添加6N鹽酸來萃取產物且隨後藉由將其過濾而自其排除溶劑。隨後，藉由使用己烷自其排除額外之外來物質且將其乾燥約48小時而獲得約110g化合物36。
(合成化合物37)
在將約100g化合物36、約100g實例1之化合物3及約70g 4-(二甲胺基)吡啶溶解於二氯甲烷中之後，將混合物攪拌約30分鐘。在向其中添加約80g 1-乙基-3-(3-二甲胺基丙基)碳化二亞胺且將其攪拌約24小時之後，以二氯甲烷及水萃取獲得之產物。隨後，藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約150g化合物37。
(合成化合物38)
在將約100g化合物37與約300ml 6N鹽酸溶解於四氫呋喃中之後，將混合物在約40℃下攪拌約24小時。隨後，以二氯甲烷及水萃取反應產物且藉由化學乾燥經萃取之有機層並以一管柱層析法將其提純而獲得約80g化合物38。
(合成化合物39-1)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物39-1，除了使用化合物38來代替化合物10以外。
(合成化合物40-1)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約30g化合物40-1，除了使用化合物39-1來代替化合物14-1且使用化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-16)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約20g化合物RD-16，除了使用化合物40-1來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-16之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.40(2H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、1.60-1.12(48H,m)
實例17：合成化合物RD-17
化合物RD-17係根據第4a圖與第4b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物39-2)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物39-2，除了使用化合物38來代替化合物10且使用化合物11-2(n=6)[(1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物40-2)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物40-2，除了使用化合物39-2來代替化合物14-1且使用化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-17)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-17，除了使用化合物40-2來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-17之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.40(2H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、1.60-1.12(52H,m)
實例18：合成化合物RD-18
化合物RD-18係根據第4a圖與第4b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物39-3)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物39-3，除了使用化合物38來代替化合物10且使用化合物11-3(n=8)[(1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物40-3)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物40-3，除了使用化合物39-3來代替化合物14-1且使用化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-18)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-18，除了使用化合物40-3來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-18之NMR光譜如下：
1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、 7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.40(2H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、1.60-1.12(56H,m)
實例19：合成化合物RD-19
化合物RD-19係根據第5a圖與第5b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物41-1)
藉由與實例4之合成化合物24-1相同之方法獲得約70g化合物41-1，除了使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-19)
藉由與實例4之合成化合物RD-04相同之方法獲得約30g化合物RD-19，除了使用化合物41-1來代替化合物24-1以外。
所獲得化合物RD-19之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、 7.21(2H,d)、6.27(2H,dd)、6.05(2H,dd)、5.59(2H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(4H,t)、2.50(1H,t)、1.60-1.12(23H,m)
實例20：合成化合物RD-20
化合物RD-20係根據第5a圖與第5b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物41-2)
藉由與實例4之合成化合物24-1相同之方法獲得約70g化合物41-2，除了使用實例5之化合物23-2來代替化合物23-1且使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-20)
藉由與實例4之合成化合物RD-04相同之方法獲得約50g化合物RD-20，除了使用化合物41-2來代替化合物24-1以外。
所獲得化合物RD-20之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(2H,dd)、6.05(2H,dd)、5.59(2H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(4H,t)、2.50(1H,t)、1.60-1.12(31H,m)
實例21：合成化合物RD-21
化合物RD-21係根據第5a圖與第5b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物41-3)
藉由與實例4之合成化合物24-1相同之方法獲得約70g化合物41-3，除了使用實例6之化合物23-3來代替化合物23-1且使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-21)
藉由與實例4之合成化合物RD-04相同之方法獲得約50g化合物RD-21，除了使用化合物41-3來代替化合物24-1以外。
所獲得化合物RD-21之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(2H,dd)、6.05(2H,dd)、5.59(2H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(4H,t)、2.50(1H,t)、1.60-1.12(39H,m)
實例22：合成化合物RD-22
化合物RD-22係根據第6a圖與第6b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物42-1)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物42-1，除了使用實例7之化合物32-1(n=4,m=3)來代替化合物14-1且使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-22)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約30g化合物RD-22，除了使用化合物42-1來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-22之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(25H,m)
實例23：合成化合物RD-23
化合物RD-23係根據第6a圖與第6b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物42-2)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物42-2，除了使用實例8之化合物32-2(n=4,m=5)來代替化合物14-1且使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-23)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-23，除了使用化合物42-2來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-23之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(29H,m)
實例24：合成化合物RD-24
化合物RD-24係根據第6a圖與第6b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物42-3)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物42-3，除了使用實例9之化合物32-3(n=4,m=7)來代替化合物14-1且使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-24)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-24，除了使用化合物42-3來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-24之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(33H,m)
實例25：合成化合物RD-25
化合物RD-25係根據第6a圖與第6b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物42-4)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物42-4，除了使用實例10之化合物32-4(n=6,m=3)來代替化合物14-1且使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-25)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-25，除了使用化合物42-4來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-25之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(29H,m)
實例26：合成化合物RD-26
化合物RD-26係根據第6a圖與第6b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物42-5)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物42-5，除了使用實例11之化合物32-5(n=6,m=5)來代替化合物14-1且使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-26)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-26，除了使用化合物42-5來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-26之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(33H,m)
實例27：合成化合物RD-27
化合物RD-27係根據第6a圖與第6b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物42-6)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物42-6，除了使用實例12之化合物32-6(n=6,m=7)來代替化合物14-1且使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-27)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-27，除了使用化合物42-6來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-27之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(37H,m)
實例28：合成化合物RD-28
化合物RD-28係根據第6a圖與第6b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物42-7)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物42-7，除了使用實例13之化合物32-7(n=8,m=3)來代替化合物14-1且使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-28)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-28，除了使用化合物42-7來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-28之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(33H,m)
實例29：合成化合物RD-29
化合物RD-29係根據第6a圖與第6b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物42-8)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物42-8，除了使用實例14之化合物32-8(n=8,m=5)來代替化合物14-1且使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-29)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-29，除了使用化合物42-8來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-29之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(37H,m)
實例30：合成化合物RD-30
化合物RD-30係根據第6a圖與第6b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物42-9)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約60g化合物42-9，除了使用實例15之化合物32-9(n=8,m=7)來代替化合物14-1且使用實例16之化合物35來代替化合物6以外。
(合成化合物RD-30)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-30，除了使用化合物42-9來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-30之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.55(4H,d)、7.51(4H,d)、7.47(2H,d)、7.40(2H,d)、7.21(2H,d)、6.27(1H,dd)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,dd)、4.13(4H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、2.50(1H,t)、1.60-0.90(41H,m)
實例31：合成化合物RD-31
化合物RD-31係根據第7a圖與第7b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物44-1)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物44-1，除了使用實例16之化合物38來代替化合物10且使用化合物43-1[(1r,4r)-4-((4-(甲基丙烯醯氧基)丁氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物45-1)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約30g化合物45-1，除了使用化合物44-1來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-31)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約20g化合物RD-31，除了使用化合物45-1來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-31之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.40(2H,d)、6.48(1H,d)、6.40(1H,d)、 5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、2.01(3H,s)、1.60-1.12(48H,m)
實例32：合成化合物RD-32
化合物RD-32係根據第7a圖與第7b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物44-2)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物44-2，除了使用實例16之化合物38來代替化合物10且使用化合物43-2[(1r,4r)-4-(((6-(甲基丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物45-2)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物45-2，除了使用化合物44-2來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-32)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-32，除了使用化合物45-2來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-32之NMR光譜如下： 1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.40(2H,d)、6.48(1H,d)、6.40(1H,d)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、2.01(3H,s)、1.60-1.12(52H,m)
實例33：合成化合物RD-33
化合物RD-33係根據第7a圖與第7b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物44-3)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物44-3，除了使用實例16之化合物38來代替化合物10且使用化合物43-3[(1r,4r)-4-(((8-(甲基丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物45-3)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物45-3，除了使用化合物44-3來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-33)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-33，除了使用化合物45-3來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-33之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.40(2H,d)、6.48(1H,d)、6.40(1H,d)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、2.01(3H,s)、1.60-1.12(56H,m)
實例34：合成化合物RD-34
化合物RD-34係根據第8a圖與第8b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物47-1)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物47-1，除了使用實例16之化合物38來代替化合物10且使用化合物46-1[(1r,4r)-4-((4-(桂皮醯氧基)丁氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物48-1)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約30g化合物48-1，除了化使用合物47-1代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-34)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約20g化合物RD-34，除了使用化合物48-1來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-34之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.60(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.48(1H,d)、7.40(4H,d)、7.33(1H,t)、6.31(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、1.60-1.12(48H,m)
實例35：合成化合物RD-35
化合物RD-35係根據第8a圖與第8b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物47-2)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物47-2，除了使用實例16之化合物38來代替化合物10，且使用化合物46-2[(1r,4r)-4-(((6-(桂皮醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物48-2)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物48-2，除了使用化合物47-2來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-35)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-35，除了使用化合物48-2來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-35之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.60(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.48(1H,d)、7.40(4H,d)、7.33(1H,t)、6.31(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、1.60-1.12(52H,m)
實例36：合成化合物RD-36
化合物RD-36係根據第8a圖與第8b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物47-3)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物47-3，除了使用實例16之化合物38來代替化合物10，且使用化合物46-3[(1r,4r)-4-(((8-(桂皮醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物48-3)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物48-3，除了使用化合物47-3來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-36)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-36，除了使用化合物48-3來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-36之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.60(2H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.48(1H,d)、7.40(4H,d)、7.33(1H,t)、6.31(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、1.60-1.12(56H,m)
實例37：合成化合物RD-37
化合物RD-37係根據第9a圖與第9b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物50)
藉由與實例1之合成化合物8相同之方法獲得約110g化合物50，除了使用化合物49(6-羥基-2-萘甲酸)來代替化合物7以外。
(合成化合物51)
藉由與實例1之合成化合物9相同之方法獲得約150g化合物51，除了使用化合物50來代替化合物8以外。
(合成化合物52)
藉由與實例1之合成化合物10相同之方法獲得約80g化合物52，除了使用化合物51來代替化合物9以外。
(合成化合物53-1)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物53-1，除了使用化合物52來代替化合物10以外。
(合成化合物54-1)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約30g化合物54-1，除了使用化合物53-1來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-37)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約20g化合物RD-37，除了使用化合物54-1來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-37之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.68(1H,s)、8.21(1H,d)、8.18(1H,d)、7.98(1H,s)、7.97(1H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.48(1H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、1.60-1.12(48H,m)
實例38：合成化合物RD-38
化合物RD-38係根據第9a圖與第9b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物53-2)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物53-2，除了使用化合物52來代替化合物10，且使用化合物11-2[(1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物54-2)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物54-2，除了使用化合物53-2來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-38)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-38，除了使用化合物54-2來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-38之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.68(1H,s)、8.21(1H,d)、8.18(1H,d)、7.98(1H,s)、7.97(1H,d)、7.56(4H,d)、 7.51(4H,d)、7.48(1H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、1.60-1.12(52H,m)
實例39：合成化合物RD-39
化合物RD-39係根據第9a圖與第9b圖中所示之方案來合成。
(合成化合物53-3)
藉由與實例1之合成化合物12-1相同之方法獲得約100g化合物53-3，除了使用化合物52來代替化合物10，且使用化合物11-3[(1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷甲酸]來代替化合物11-1以外。
(合成化合物54-3)
藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約70g化合物54-3，除了使用化合物53-3來代替化合物14-1以外。
(合成化合物RD-39)
藉由與實例1之合成化合物RD-01相同之方法獲得約50g化合物RD-39，除了使用化合物54-3來代替化合物15-1以外。
所獲得化合物RD-39之NMR光譜如下： 1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.68(1H,s)、 8.21(1H,d)、8.18(1H,d)、7.98(1H,s)、7.97(1H,d)、7.56(4H,d)、7.51(4H,d)、7.48(1H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、4.05(1H,s)、3.97(2H,t)、3.52(1H,s)、1.60-1.12(56H,m)
實例40：合成化合物RD-40
化合物RD-40係根據第10圖中所示之方案來合成。
即，藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約30g 化合物RD-40，除了使用實例16之化合物39-1來代替化合物14-1，且使用約10g碘苯來代替化合物6以外。
所獲得化合物RD-40之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.55(2H,d)、7.43(2H,d)、7.43(2H,d)、7.40(2H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、3.97(2H,t)、1.60-1.12(48H,m)
實例41：合成化合物RD-41
化合物RD-41係根據第10圖中所示之方案來合成。
即，藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約50g 化合物RD-41，除了使用實例17之化合物39-2來代替化合物14-1，且使用約10g碘苯來代替化合物6以外。
所獲得化合物RD-41之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.55(2H,d)、7.43(2H,d)、7.43(2H,d)、7.40(2H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、3.97(2H,t)、1.60-1.12(52H,m)
實例42：合成化合物RD-42
化合物RD-42係根據第10圖中所示之方案來合成。
即，藉由與實例1之合成化合物15-1相同之方法獲得約50g化合物RD-42，除了使用實例18之化合物39-3來代替化合物14-1，且使用約10g碘苯來代替化合物6以外。
所獲得化合物RD-42之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d)、7.55(2H,d)、7.43(2H,d)、7.43(2H,d)、7.40(2H,d)、6.27(1H,d)、6.05(1H,dd)、5.59(1H,d)、4.13(2H,t)、3.97(2H,t)、1.60-1.12(56H,m)
製備實例1
(製備用於光學元件之組成物)
將約112.5重量份之由以下化學式a表示之介晶化合物、約 37.5重量份之由以下化學式b表示之介晶化合物、約12.5重量份之引發劑(Irgacure 907，Ciba-Geigy公司)、約0.27重量份之抗氧化劑(Irganox 1076，Ciba-Geigy公司)、約3.33重量份之基於氟之表面活性劑(FC-171，3M公司)及約1000重量份之甲苯與100重量份之實例18之化合物RD-18混合，以供製備用於光學元件之組成物(固體含量：約21wt%)：
(製備延遲膜)
將該組成物藉由一輥塗方法塗佈於已塗佈有基於一降冰片烯之光對準材料之一TAC膜上，且在約80℃下乾燥2分鐘以使液晶分子對準。接著，藉由使膜暴露於一源自200mW/cm2之高壓汞燈之一非偏振UV以使液晶之對準狀態固定之方法來製備延遲膜。
藉由使用Axoscan(Axomatrix公司之產品)來量測所製備延遲膜之定量延遲值。此時，獨立量測膜之厚度且由所獲得之值獲得延遲值(△n．d)。因此，量測到△n．d(450nm)、△n．d(550nm)及△n．d(650nm)分別為103、110及114。因此，△n(450nm)/△n(550nm) 之值為0.94且△n(650nm)/△n(550nm)之值為1.04，且因此確認該膜滿足根據上文所揭露之等式I及II之條件。
製備實例2
(製備用於光學元件之組成物)
將約112.5重量份之由化學式a表示之介晶化合物、約62.5重量份之由化學式b表示之介晶化合物、約12.5重量份之引發劑(Irgacure 907，Ciba-Geigy公司)、約0.27重量份之抗氧化劑(Irganox 1076，Ciba-Geigy公司)、約3.33重量份之基於氟之表面活性劑(FC-171，3M公司)及約1000重量份之甲苯與75重量份之實例18之化合物RD-18混合，以供製備用於光學元件之組成物(固體含量：約21wt%)。
(製備延遲膜)
將該組成物藉由一輥塗方法塗佈於已塗佈有基於一降冰片烯之光對準材料之一TAC膜上，且在約80℃下乾燥2分鐘以使液晶分子對準。接著，藉由使膜暴露於一源自200mW/cm2之高壓汞燈之一非偏振UV以使液晶之對準狀態固定之方法來製備延遲膜。
藉由使用Axoscan(Axomatrix公司之產品)來量測所製備延遲膜之定量延遲值。此時，獨立量測膜之厚度且由所獲得之值獲得延遲值(△n．d)。因此，量測到△n．d(450nm)、△n．d(550nm)及△n．d(650nm)分別為115、120及124。因此，△n(450nm)/△n(550nm)之值為0.96且△n(650nm)/△n(550nm)之值為1.03，且因此確認該膜滿足根據上文所揭露之等式I及II之條件。
製備實例3
(製備用於光學元件之組成物)
將約112.5重量份之由化學式a表示之介晶化合物、約37.5 重量份之由化學式b表示之介晶化合物、約12.5重量份之引發劑(Irgacure 907，Ciba-Geigy公司)、約0.27重量份之抗氧化劑(Irganox 1076，Ciba-Geigy公司)、約3.33重量份之基於氟之表面活性劑(FC-171，3M公司)及約1000重量份之甲苯與100重量份之實例40之化合物RD-40混合，以供製備用於光學元件之組成物(固體含量：約21wt%)。
(製備延遲膜)
將該組成物藉由一輥塗方法塗佈於已塗佈有基於一降冰片烯之光對準材料之一TAC膜上，且在約80℃下乾燥2分鐘以使液晶分子對準。接著，藉由使膜暴露於一源自200mW/cm2之高壓汞燈之一非偏振UV以使液晶之對準狀態固定之方法來製備延遲膜。
藉由使用Axoscan(Axomatrix公司之產品)來量測所製備延遲膜之定量延遲值。此時，獨立量測膜之厚度且由所獲得之值獲得延遲值(△n．d)。因此，量測到△n．d(450nm)、△n．d(550nm)及△n．d(650nm)分別為110、113及115。因此，△n(450nm)/△n(550nm)之值為0.97且△n(650nm)/△n(550nm)之值為1.02，且因此確認該膜滿足根據上文所揭露之等式I及II之條件。
製備實例4
(製備用於光學元件之組成物)
將約112.5重量份之由化學式a表示之介晶化合物、約62.5重量份之由化學式b表示之介晶化合物、約12.5重量份之引發劑(Irgacure 907，Ciba-Geigy公司)、約0.27重量份之抗氧化劑(Irganox 1076，Ciba-Geigy公司)、約3.33重量份之基於氟之表面活性劑 (FC-171，3M公司)及約1000重量份之甲苯與75重量份之實例40之化合物RD-40混合，以供製備用於光學元件之組成物(固體含量：約21wt%)。
(製備延遲膜)
將該組成物藉由一輥塗方法塗佈於已塗佈有一基於降冰片烯之光對準材料之一TAC膜上，且在約80℃下乾燥2分鐘以使液晶分子對準。接著，藉由使膜暴露於一源自200mW/cm2之高壓汞燈之一非偏振UV以使液晶之對準狀態固定之方法來製備延遲膜。
藉由使用Axoscan(Axomatrix公司之產品)來量測所製備延遲膜之定量延遲值。此時，獨立量測膜之厚度且由所獲得之值獲得延遲值(△n．d)。因此，量測到△n．d(450nm)、△n．d(550nm)及△n．d(650nm)分別為125、126及127。因此，△n(450nm)/△n(550nm)之值為0.99且△n(650nm)/△n(550nm)之值為1.01，且因此確認該膜滿足根據上文所揭露之等式I及II之條件。
比較性製備實例1
(製備用於光學元件之組成物)
將約56.25重量份之由化學式b表示之介晶化合物、約7.8重量份之引發劑(Irgacure 907，Ciba-Geigy公司)、約0.17重量份之抗氧化劑(Irganox 1076，Ciba-Geigy公司)、約2.08重量份之基於氟之表面活性劑(FC-171，3M公司)及約625重量份之甲苯與約100重量份之由化學式a表示之介晶化合物混合，以供製備用於光學元件之組成物(固體含量：約21wt%)。
(製備延遲膜)
將該組成物藉由一輥塗方法塗佈於已塗佈有一基於降冰片烯之光對準材料之一TAC膜上，且在約80℃下乾燥2分鐘以使液晶分子對準。接著，藉由使膜暴露於一源自200mW/cm2之高壓汞燈之一非偏振UV以使液晶之對準狀態固定之方法來製備延遲膜。
藉由使用Axoscan(Axomatrix公司之產品)來量測所製備延遲膜之定量延遲值。此時，獨立量測膜之厚度且由所獲得之值獲得延遲值(△n．d)。因此，量測到△n．d(450nm)、△n．d(550nm)及△n．d(650nm)分別為225、210及203。因此，△n(450nm)/△n(550nm)之值為1.07且△n(650nm)/△n(550nm)之值為0.96，且因此確認該膜不滿足根據上文所揭露之等式I及II之條件。

Claims (8)

  1. 一種由以下化學式1表示之負光分散性化合物： 在化學式1中，A係為一C5至C8非芳族碳環或雜環基團或一C6至C20芳族或雜芳族基團；E1、E2、D1及D2獨立地係為一單鍵或一二價連接基團；L1與L2獨立地係為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-O-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一經取代或未經取代之矽基、一C1至C40經取代或未經取代之二價碳基或烴基、或-Sp-P，其中該L1與L2至少其中之一係為-Sp-P，該P係為一可聚合基團，該Sp係一間隔基團或一單鍵，且各該R1與R2各自獨立地係為-H或一C1至C12烷基；m與n獨立地係為一1至5之整數，其中若該m或n為2或以上，則重複兩次或更多次之各重複單元-(D1-G1)-或-(G2-D2)-可彼此相同或不同；G1與G2獨立地係為一C5至C8非芳族碳環或雜環基團或一C6至C20芳族或雜芳族基團，其中該G1與G2至少其中之一係為該碳環或雜環基團，且該碳環或雜環基團中所包括之複數個氫其中之任一者皆由以下化學式2表示之基團取代：[化學式2] 在化學式2中，p係為一1至10之整數，其中若該p為2或以上，則重複兩次或更多次之各重複單元-(Q1)-可彼此相同或不同，Q1獨立地係為一選自由-C≡C-、-CY1=CY2-及一C6至C20經取代或未經取代之芳族或雜芳族基團組成之群之二價基團，且該Y1與Y2獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN或-R1，且B1係為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一可聚合基團、一C2至C6烯基、一C2至C6炔基、一C2至C4醯基、一末端與一C2至C4醯基連接之C2至C6伸炔基、一C1至C5醇基或一C1至C12烷氧基，其中該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
  2. 如請求項1所述之負光分散性化合物，其中化學式1之A、G1及G2獨立地係為環己烷環、環己烯環、苯環、萘環或菲環；且該G1與G2至少其中之一係為環己烷環或環己烯環。
  3. 如請求項1所述之負光分散性化合物，其中該A中所包含之該等氫至少其中之一由-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一C2至C6烯基、一C2至C6炔基、一C2至C4醯基、一末端與一C2至C4醯基連接之C2至C6伸 炔基、一C1至C5醇基或一C1至C12烷氧基取代，且該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
  4. 如請求項1所述之負光分散性化合物，其中化學式1中之E1、E2、D1及D2獨立地係為一單鍵、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-、-NR1-CO-NR1-、-OCH2-、-CH2O-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH2CH2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-CF2CH2-、-CF2CH2-、-CH=CH-、-CY1=CY2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR1-、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-或-CR1R2-，且該Y1與Y2獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN或-R1，且該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
  5. 如請求項1所述之負光分散性化合物，其中化學式1之P係CH2=CZ1-COO-、CH2=CZ1-CO-、CH2=CZ2-(O)a-、CH3-CH=CH-O-、(CH2=CH)2CH-OCO-、(CH2=CH-CH2)2CH-OCO-、(CH2=CH)2CH-O-、(CH2=CH-CH2)2N-、(CH2=CH-CH2)2N-CO-、HO-CZ1Z2-、HS-CZ1Z2-、HZ1N-、HO-CZ1Z2-NH-、CH2=CZ1-CO-NH-、CH2=CH-(COO)a-Phe-(O)b-、CH2=CH-(CO)a-Phe-(O)b-、Phe-CH=CH-、HOOC-、OCN-、Z1Z2Z3Si-、 該Z1至Z3獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN、-CF3、苯基或一C1至C5烷基， 該Phe係未經取代或經-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3或-SF3取代之1,4-伸苯基，且該a與b獨立地係為0或1。
  6. 如請求項1所述之負光分散性化合物，其中化學式1之該Sp係選自將-Sp-P加入-X'-Sp'-P中之化學式-X'-Sp'，該Sp'係一經-F、-Cl、-Br、-I或-CN單取代或多取代之C1至C20伸烷基，且該伸烷基中之一或多個-CH2-基團可由-O-、-S-、-NH-、-NR1-、SiR1R2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-NR1-CO-O-、-O-CO-NR1-、-NR1-CO-NR1-、-CH=CH-或-C≡C-置換，該X'係為-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-、-NR1-CO-NR1-、-OCH2-、-CH2O-、-SCH2-、-CH2S-、-OCF2-、-CF2O-、-SCF2-、-SF2O-、-CF2CH2-、-CF2CF2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR1-、-CY1=CY2-、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-或一單鍵，該Y1與Y2獨立地係為-H、-F、-Cl、-CN或-R1，且該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
  7. 如請求項1所述之負光分散性化合物，其中 該-[Q1]p-係選自由下列組成之群組： 該r係為0、1、2、3或4，且該D係為-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NO2、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)X、-C(=O)OR1、-NR1R2、-OH、-SF5、經取代或未經取代之矽基、一C6至C12芳基、一C1至C12直鏈或分支鏈烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧羰基、烷基羰氧基或烷氧羰基氧基，且該R1與R2獨立地係為-H或一C1至C12烷基。
  8. 一種由包含如請求項1所述之負光分散性化合物之組成物獲得且滿足以下等式I及II之光學各向異性體：(等式I)△n(450nm)/△n(550nm)<1.0(等式II) △n(650nm)/△n(550nm)>1.0在等式I及II中，△n(λ)意指在波長λ下之特定雙折射率。
TW103133860A 2013-09-30 2014-09-30 具有負光分散性之化合物、包含該化合物之負光分散性組成物、及包含該組成物之光學各向異性體 TWI534249B (zh)

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